JP2002113327A

JP2002113327A - 排ガス処理脱塩剤の供給量制御方法

Info

Publication number: JP2002113327A
Application number: JP2000310024A
Authority: JP
Inventors: Mitsuru Miyagawa; 満宮川; Tomio Sugimoto; 富男杉本; Takeshi Miyaji; 健宮地
Original assignee: Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
Current assignee: Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
Priority date: 2000-10-11
Filing date: 2000-10-11
Publication date: 2002-04-16
Anticipated expiration: 2020-10-11
Also published as: JP4667577B2

Abstract

(57)【要約】【課題】廃棄物焼却排ガスの脱塩処理において、脱塩
剤供給量の制御応答を速くし、処理後排ガス中のＨＣｌ
濃度を低レベルに安定化させる。【解決手段】本発明の脱塩剤供給制御方式は〔Ｐ＋Ｐ
ＩＤ〕制御による。即ち、バグフィルタ30、ＨＣｌ分析
計31、調節計32、33、加算器34、脱塩剤制御装置35等か
ら構成する。処理後排ガス37のＨＣｌ濃度ＰＶと、任意
の設定値ＳＶ1とからＰＩＤ操作で演算した操作信号Ｍ
Ｖ1、及び任意の設定値ＳＶ2とからＰ操作で演算した操
作信号ＭＶ2を加算し、この制御出力(ＭＶ1＋ＭＶ2)に
基づき脱塩剤供給装置35から所定量の脱塩剤を処理前排
ガス36に供給する。脱塩剤は微粉重曹等の高反応脱塩剤
が好ましい。本発明によれば、高反応脱塩剤の適正供
給、特に増方向の制御応答を速くし処理後排ガス中のＨ
Ｃｌ濃度も低位に安定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は廃棄物焼却排ガスの
脱塩処理方法に係り、特に、ごみなどの廃棄物を焼却炉
等で焼却したときに生成する排ガスの脱塩装置に好適
な、脱塩剤の供給量の制御に関する。

【０００２】ここで、上記排ガスは、塩化水素を含む排
ガス、特に廃棄物を処理する際に発生する塩化水素ガス
を多量に含む排ガスを対象とする。また、廃棄物は、家
庭やオフィスなどから出される都市ごみなどの一般廃棄
物、廃プラスチック、カーシュレッダー・ダスト、廃オ
フィス機器、電子機器、化成品等の産業廃棄物など、可
燃物を含むものである。

【０００３】

【従来の技術】従来、塩化水素ガスを含む排ガスの乾式
脱塩装置では、脱塩剤を吹き込み濾布表面に粉体層を形
成させ、塩化水素、硫黄酸化物等の有害ガスと中和反応
させることにより、酸性有害ガスを除去していた。脱塩
剤としては、反応性の低い消石灰が用いられ、保証値を
満足させるためには、常に過剰に脱塩剤を投入する必要
があった。

【０００４】脱塩剤の投入量の制御としては、常に過剰
に投入しているため、ＰＩＤ制御、すなわち、単純な比
例操作（Ｐ操作）に積分操作（Ｉ操作）とさらに微分操
作（Ｄ操作）を加えた制御方式により、安定した出口Ｈ
Ｃｌ濃度が得られた。また、発生する残渣は埋立処分が
必要であり、最終処分場の逼迫が社会問題になってい
る。

【０００５】このような塩化水素を含む排ガスを処理す
る例としては、廃棄物処理装置の燃焼炉から排出される
排ガスを処理するものが知られている（たとえば、特開
平１−４９８１６号公報（特公平６−５６２５３号）参
照）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】最終処分場の逼迫とい
う大きな社会問題を背景に埋立処分する残渣の発生量抑
制が緊急の課題となっており、最近の動向としては、脱
塩剤として、高反応で反応速度の速い微粉重曹や高反応
消石灰などの高反応脱塩剤を用いるケースが多くなって
きた。

【０００７】この場合、１当量近くで運転を行なってい
るため、当量比の変動によって出口ＨＣｌ濃度の変動が
大きく現われる。通常のＰＩＤ制御による投入量制御で
は、この出口ＨＣｌ濃度の変動、特にＨＣｌ濃度が急上
昇する変動を抑え、常時、低濃度レベルで安定した制御
は困難である。

【０００８】また、廃棄物焼却炉における排ガス中の酸
性ガスの濃度は、その処理する廃棄物の性質や、焼却炉
の運転状況により変化しており、その変化に対応するた
め、脱塩装置（以下、バグフィルタともいう）に吹き込
む脱塩剤を常に過剰に供給して運転を行っているのが実
情であり、不経済であった。

【０００９】本発明の課題は、ごみなどの廃棄物を焼却
したときに生成する塩化水素ガスを含む焼却排ガスの脱
塩装置において、前記の高反応脱塩剤を用いて脱塩処理
する場合、脱塩剤供給量の制御応答を速くし、脱塩装置
出口の排ガス中の塩化水素濃度を低レベルに安定化さ
せ、また、脱塩剤の過剰供給量を適正化してランニング
コストを低減させることである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明者らは、塩化水素ガスを多量に含む廃棄物な
どの焼却排ガスの脱塩剤の供給処理に、ＰＩＤ制御（単
純な比例操作（Ｐ操作）を基本とし、その欠点であるオ
フセットを消すために、積分操作（Ｉ操作）を加え、さ
らにＰＩ操作に共通な調整遅れを修正するために微分操
作（Ｄ操作）を加えた制御方式。）に、さらにＰ制御を
組み合わせる方式を創案した。

【００１１】すなわち、微粉重曹（炭酸水素ナトリウ
ム）や高反応消石灰などの高反応脱塩剤を使用し、バグ
フィルタ出口のＨＣｌ濃度に基づいて、ＰＩＤ制御によ
り脱塩剤供給量を増減させて、バグフィルタ出口ＨＣｌ
濃度を任意の設定値に制御するとともに、別の任意の設
定値を設定し、その設定値を超えたときにＰ制御を採用
して脱塩剤供給量を急増させることにより、バグフィル
タ出口ＨＣｌ濃度の上昇を速やかに抑制し、安定したフ
ィードバック制御が実施できることを知見した。

【００１２】また、別の制御方式として、バグフィルタ
入口塩化水素濃度と排ガス流量とを用いたＦＦ制御（フ
ィードフォワード制御）により、脱塩剤の供給量を増減
させ、任意の設定値に制御するようにした。バグフィル
タ入口塩化水素濃度と排ガス流量の変化に合わせて脱塩
剤供給量を増減させることにより、制御の応答性を向上
させることができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照して説明する。図１は、ごみ焼却炉や廃棄物燃
焼溶融炉から排出される、塩化水素ガスを多量に含む廃
棄物焼却排ガスの乾式脱塩処理に、〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御
によって脱塩剤を供給する方式の一例を示す構成図であ
る。

【００１４】本実施形態は、排ガス処理システムにおい
て、バグフィルタ３０、ＨＣｌ分析計３１、調節計３
２、３３、加算器３４、脱塩剤制御装置３５などから構
成される。

【００１５】バグフィルタ３０は処理前排ガス３６を脱
塩処理する乾式脱塩装置である。ＨＣｌ分析計３１は、
バグフィルタ３０で脱塩処理した処理後排ガス３７をサ
ンプリングして塩化水素（ＨＣｌ）濃度を分析する。

【００１６】調節計３２は、分析したＨＣｌ濃度ＰＶと
任意の設定値ＳＶ1に基づいて、ＰＩＤ制御による操作
信号ＭＶ1を演算して出力する。調節計３３は、同様に
ＨＣｌ濃度ＰＶと任意の設定値ＳＶ2に基づいて、Ｐ制
御による操作信号ＭＶ2を演算して出力する。なお、Ｐ
制御の設定値ＳＶ2は、ＰＩＤ制御の設定値ＳＶ1より高
く設定するものとする。

【００１７】これら二つの操作信号ＭＶ1、ＭＶ2は、加
算器３４で加算され、制御出力（ＭＶ1＋ＭＶ2）として
脱塩剤供給装置３５に出力される。このとき、操作信号
ＭＶ2が負の場合はＭＶ2をゼロとする。

【００１８】脱塩剤供給装置３５は、制御出力（ＭＶ1
＋ＭＶ2）に基づいて、所定量の脱塩剤をバグフィルタ
入口側の処理前排ガス３６に供給する。脱塩剤として
は、微粉重曹、高反応消石灰などの高反応脱塩剤が好ま
しい。

【００１９】ここで、本発明に好適な高反応脱塩剤につ
いて説明する。Ｎａ系脱塩剤としては、微粉重曹（Ｎａ
ＨＣＯ₃）が好ましい。また、Ｃａ系脱塩剤としては、
粉体表面に細孔を形成した高反応な消石灰（Ｃａ(ＯＨ)
₂）がある。本発明は乾式の脱塩処理であるため、脱塩
剤粉末の粒径は２０μｍ以下が好ましい。

【００２０】つぎに、図２を参照して、本発明における
脱塩剤供給量の別の制御方式であるフィードフォワード
（ＦＦ）制御方式を採用した例について説明する。本例
は、バグフィルタ入口ＨＣｌ濃度と排ガス流量とに基づ
いて、ＦＦ制御方式により、供給脱塩剤流量を増減させ
て、バグフィルタ出口ＨＣｌ濃度を任意の設定値に制御
するものである。

【００２１】図２に示すように、バグフィルタ４０
入口側の処理前排ガスのＨＣｌ濃度をＨＣｌ分析計４１
で分析し、バグフィルタ４０出口側の処理後排ガスの流
量を流量計４２で検出する。バグフィルタ入口側ＨＣｌ濃度と、バグフィルタ出
口側排ガス流量とをＦＦ調節計４３に入力し、脱塩剤供
給量の適正値を演算する。この演算した指令値（ＭＶ値）に基づいて、脱塩剤
供給装置４４から脱塩剤をバグフィルタ入口側の処理前
排ガスに供給する。

【００２２】本例によれば、バグフィルタ入口側ＨＣｌ
濃度と排ガス流量の変化に合わせて脱塩剤の供給量を増
減させるので、応答性が向上し、脱塩剤の効率的な供給
制御ができる。本例においても、脱塩剤は、微粉重曹等
の高反応脱塩剤を用いることが好ましい。

【００２３】また、図１で説明した〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御
方式と、図２で説明したＦＦ制御方式とを組み合わせて
実施すると、さらにきめの細かい、安定した制御が可能
になる。

【００２４】次に、廃棄物処理システムにおける廃棄物
焼却排ガスの処理系について説明する。図３は、本発明
に係る廃棄物処理システムの一実施形態を説明する系統
図である。

【００２５】この廃棄物処理システムにおいて、たとえ
ば１５０ｍｍ角以下に破砕された都市ごみなどの廃棄物
Ａは、スクリューフィーダなどの供給手段により熱分解
反応器２に供給される。

【００２６】この熱分解反応器２は、たとえば横型回転
ドラムが用いられ、図示しないシール機構によりその内
部は低酸素雰囲気に保持されると共に、下流の燃焼溶融
炉６の後流側に配置される熱交換器８により加熱される
加熱空気がラインＬ１から供給される。

【００２７】この加熱空気により熱分解反応器２に供給
される廃棄物Ａは、３００〜６００℃に、通常は４５０
℃程度に加熱される。これによって、この廃棄物Ａは熱
分解され、熱分解ガスＧ１と、主として不揮発性の熱分
解残留物Ｂとを生成する。

【００２８】そして、この熱分解反応器２で生成される
熱分解ガスＧ１と熱分解残留物Ｂとは図示していない排
出装置により分離され、熱分解ガスＧ１は、熱分解ガス
配管であるラインＬ２を経て燃焼溶融炉６のバーナに供
給される。

【００２９】熱分解残留物Ｂは、廃棄物Ａの種類によっ
て種々異なるが、日本国内の都市ごみの場合、本発明者
等の知見によれば、大部分が比較的細粒の可燃分１０〜６０％比較的細粒の灰分５〜４０％粗粒金属成分７〜５０％粗粒瓦礫、陶器、コンクリート等１０〜６０％より構成されていることが判明した。

【００３０】このような成分を有する熱分解残留物Ｂ
は、４５０℃程度の比較的高温で排出されるため、図示
していない冷却装置により８０℃程度に冷却され、分離
手段としての分別装置４に導かれ、ここで燃焼性成分で
ある熱分解カーボンＣと不燃焼性成分である有価物Ｄ1
とガレキＤ2に分離される。分別装置４は、例えば、振
動篩い、磁選機、アルミ選別機などの公知の分別機器が
使用される。

【００３１】このように不燃焼性成分が分離、除去され
た熱分解カーボンＣは、ロール式、チューブミル式、ロ
ッドミル式、ボールミル式などの粉砕機５で粉砕され、
燃焼溶融炉６に供給される。粉砕機５は、廃棄物の種
類、性状により適宜選択されるが、この粉砕機５におい
て熱分解カーボンＣとガレキＤ2は、好ましくは全て１
ｍｍ以下に粉砕され、ラインＬ３を経て燃焼溶融炉６の
バーナに供給される。

【００３２】一方、図示していない送風機により供給さ
れる燃焼用空気および熱分解ガスＧ１と熱分解カーボン
Ｃとは、燃焼溶融炉６で１３００℃程度の高温域で燃焼
され、この燃焼により熱分解カーボンＣとガレキＤ2の
比較的細粒の灰分より発生する燃焼灰は溶融され溶融ス
ラグＥを生成する。

【００３３】溶融スラグＥは、燃焼溶融炉４のスラグ排
出口から図示していない水槽に落下させ水砕スラグとさ
れる。水砕スラグは図示していない装置により所定の形
状にブロック化されるかまたは粒状に形成され、建材ま
たは舗装材などとして再利用される。

【００３４】廃棄物処理システムの燃焼溶融炉６で発生
した焼却排ガスＧ２は、熱交換器８で熱回収されて排ガ
スＧ３となり廃熱ボイラ１０に供給され熱回収されて排
ガスＧ４となり、さらに減温塔１２に送られ温度が下げ
られる。減温塔１２で温度が下げられた排ガスＧ５は、
第１バグフィルタ１４に送られて、ダストＦ１を濾過す
る。

【００３５】なお、第１バグフィルタ１４の入口温度
は、１５０〜２００℃が好ましい。１５０℃未満だと結
露等による装置腐食の問題が生じ、２００℃を超えると
排ガス中のダイオキシン類の除去率が悪くなるという問
題がある。

【００３６】廃熱ボイラ１０、減温塔１２および第１バ
グフィルタ１４では、それぞれダストＦ２、Ｆ３、Ｆ１
が回収され、分別設備４で分離される熱分解カーボンＣ
およびガレキＤ2の粉砕物とともに、ラインＬ４、Ｌ３
を介して燃焼溶融炉６のバーナに戻され、燃焼溶融炉６
内で燃焼・溶融してスラグ化される。

【００３７】次に、第１バグフィルタ１４でダストを除
去された排ガスに、脱塩剤Ｈを加えて、第２バグフィル
タ１６によって排ガス中の塩化水素を脱塩残渣Ｊとして
除去する。

【００３８】本発明の廃棄物処理システムでは、第２バ
グフィルタ１６の入口側に投入する脱塩剤に高反応脱塩
剤を使用し、その供給量を、図１で説明した〔Ｐ＋ＰＩ
Ｄ〕制御方式で実施するようにした。

【００３９】すなわち、第２バグフィルタ１６出口の排
ガス中のＨＣｌ濃度を分析計３１で分析し、調節計３
２、３３で〔Ｐ＋ＰＩＤ〕操作した制御出力により、脱
塩剤供給装置３５から微粉重曹などの高反応脱塩剤を第
２バグフィルタ入口側の焼却排ガスに供給するようにし
た。

【００４０】そのため、脱塩剤の過剰投入が是正され、
適正で効率的な供給が可能となり、ランニングコストが
低減した。また、高反応脱塩剤を使用しても、脱塩剤供
給量の制御応答、特に、増方向の制御応答が速いため、
第２バグフィルタ出口のＨＣｌ濃度を、常に低いレベル
で安定して維持できた。

【００４１】図４は、本発明における〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制
御の動作例を示す図である。通常はバグフィルタの出口
ＨＣｌ濃度（ＰＶ）とＰＩＤ制御の設定値ＳＶ1とを比
較して、ＰＩＤ制御のみで脱塩剤供給量を調整し、前記
出口ＨＣｌ濃度が設定値ＳＶ1になるように制御が行な
われているが、前記出口ＨＣｌ濃度がＰ制御の設定値Ｓ
Ｖ2を超えると、Ｐ制御の制御出力を急増し、脱塩剤供
給量を急激に増やして出口ＨＣｌ濃度を速やかに下げる
様子を示している。

【００４２】図５は、図１の制御装置における〔Ｐ＋Ｐ
ＩＤ〕制御の一実施例を示す図である。上図（ａ）にバ
グフィルタ入口ＨＣｌ濃度と脱塩剤当量比、下図（ｂ）
にバグフィルタ出口ＨＣｌ濃度と制御出力を示す。

【００４３】本例では、高反応脱塩剤には微粉重曹を使
用し、二つの調節計のそれぞれの設定値を、ＳＶ1＝５p
pm（ＰＩＤ制御）、ＳＶ2＝１５ppm（Ｐ制御）に設定し
て、〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御を実施している。

【００４４】本図から、通常は、出口ＨＣｌ濃度はＰＩ
Ｄ制御の設定値ＳＶ1＝５ppmになるように、ＰＩＤ制御
のみによって脱塩剤供給量が制御されているが、出口Ｈ
Ｃｌ濃度がＰ制御の設定値ＳＶ2＝１５ppmを超えたとき
にＰ制御が作動し、制御出力を急増して出口ＨＣｌ濃度
を速やかに５ppmまで下げていることがわかる。その結
果、脱塩剤供給量はほぼ１当量で確実に制御されてい
る。

【００４５】図６は、図１の制御装置における〔Ｐ＋Ｐ
ＩＤ〕制御の他の実施例を示す図である。上図（ａ）に
バグフィルタ入口ＨＣｌ濃度と脱塩剤当量比、下図
（ｂ）にバグフィルタ出口ＨＣｌ濃度と制御出力を示
す。

【００４６】高反応脱塩剤には微粉重曹を使用してい
る。二つの調節計のそれぞれの設定値は、ＳＶ1＝２ppm
（ＰＩＤ制御）、ＳＶ2＝３ppm（Ｐ制御）に設定して、
〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御を実施している。本例は、二つの調
節計のそれぞれの設定値を２ppmと３ppmの非常に低い値
に設定し、かつ、二つの調節計のそれぞれの設定値の差
を１ppmと極端に小さくした場合であるが、出口ＨＣｌ
濃度（ＰＶ値）が、ＰＩＤの設定値ＳＶ1＝２ppm以下に
なると、ＰＩＤ制御のみによって制御出力ＭＶ1を下
げ、脱塩剤供給量を減らして余剰な脱塩剤をなくすよう
に制御が行なわれている。

【００４７】一方、脱塩剤供給量が不足し、出口ＨＣｌ
濃度がＰ制御の設定値ＳＶ2＝３ppmを超えると、Ｐ制御
の制御出力ＭＶ2を急増して脱塩剤供給量を瞬時に増加
し、出口ＨＣｌ濃度を速やかに低下させている。このよ
うなＰ制御の作動による制御出力の急増が頻繁に行なわ
れており、その結果、出口ＨＣｌ濃度は瞬時にも１０pp
mを超えることなく、非常に低い濃度に制御が行なわれ
ている。

【００４８】図７に参考例を示す。本例は、焼却排ガス
の脱塩剤に消石灰を使用し、ＰＩＤ制御のみにより投入
量制御を行った場合の例である。上図（ａ）にバグフィ
ルタ入口ＨＣｌ濃度と脱塩剤当量比、下図（ｂ）にバグ
フィルタ出口ＨＣｌ濃度と制御出力を示す。

【００４９】通常の消石灰では反応性が低く、反応速度
も遅いため、ＰＩＤ制御のみで出口ＨＣｌ濃度の安定制
御は可能であるが、当量比が２当量付近での運転であ
り、脱塩剤を過剰投入していることがわかる。

【００５０】図８は、各種脱塩剤の当量比によるＨＣｌ
除去率を示している。高反応で反応速度の速い微粉重曹
は、１当量で約９０％と非常に高い除去率であるが、少
しの当量比の変化で、ＨＣｌ除去率は大きく変化する。
高反応消石灰もほぼ同様で、ほぼ１当量で７０％の除去
率を示している。一方、通常のＪＩＳ特号消石灰は、７
０〜８０％を除去するのに、１.５〜２当量を必要とし
ており、当量比の変化によるＨＣｌ除去率の変化もゆる
やかである。

【００５１】

【発明の効果】上述のとおり、本発明によれば、廃棄物
を燃焼して生じる焼却排ガスに、高反応な脱塩剤を用い
て脱塩処理する場合において、〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御方式
を採用することにより、過剰な脱塩剤供給量を低減して
供給量を適切化し、ランニングコストを下げるととも
に、脱塩剤供給量を瞬時に急増して脱塩装置出口の塩化
水素ガス濃度を速やかに下げ、脱塩装置出口の塩化水素
ガス濃度を常時１０ppm以下の低い濃度まで下げて安定
して維持することができる。

【００５２】また、バグフィルタ入口塩化水素濃度と排
ガス流量とを用いたＦＦ制御により、バグフィルタ入口
塩化水素濃度と排ガス流量の変化に合わせて脱塩剤供給
量を増減させ、制御の応答性を向上させることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の排ガス処理脱塩剤の供給量制
御方式において、〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御方式の一実施形態
を示す構成図である。

【図２】本発明の別の実施形態を示し、ＦＦ制御方式に
よる供給量制御方式を示す構成図である。

【図３】本発明に係る脱塩剤供給制御方式を採用した廃
棄物処理システムの一実施形態を示す系統図である。

【図４】本発明における〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御の動作例を
示す図である。

【図５】本発明における〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御の一実施形
態を示す図である。

【図６】本発明における〔Ｐ＋ＰＩＤ〕制御の他の実施
形態を示す図である。

【図７】ＰＩＤ制御による一参考例を示す図である。

【図８】各種脱塩剤のＨＣｌ除去率を示す図である。

【符号の説明】

２熱分解反応器６燃焼溶融炉１４第１バグフィルタ１６第２バグフィルタ３０バグフィルタ３１ＨＣｌ分析計３２、３３調節計３４加算器３５脱塩剤供給装置３６処理前排ガス３７処理後排ガス４０バグフィルタ４１ＨＣｌ分析計４２排ガス流量計４３ＦＦ調節計４４脱塩剤供給装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｂ０９Ｂ 3/00 ３０３ＺＧ０５Ｄ 21/00 Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｚ (72)発明者宮地健千葉県市原市八幡海岸通１番地三井造船株式会社千葉事業所内Ｆターム(参考） 3K070 DA05 DA11 DA32 4D002 AA19 AC04 BA03 BA14 DA02 DA05 DA12 DA16 GA02 GA03 GA05 GB02 GB06 4D004 AA07 AA22 AA28 AA46 AA50 BA02 CA04 CA08 CA09 CA24 CA28 CA29 CB09 CB13 CB36 CB42 5H309 AA11 BB05 BB12 CC06 DD12 EE10 GG06 HH01 HH02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】廃棄物焼却排ガス脱塩装置の出口側排ガ
ス中の塩化水素濃度を検出し、前記塩化水素濃度が任意
の設定値になるように、Ｐ操作とＰＩＤ操作とを組み合
わせたＰ＋ＰＩＤ操作により、前記脱塩装置の入口側排
ガスに供給する脱塩剤供給量を演算し、前記演算値に基
づいて脱塩剤供給量を制御する排ガス処理脱塩剤の供給
量制御方法。
【請求項２】廃棄物焼却排ガス脱塩手段の、出口側排
ガス中の塩化水素濃度を分析する分析手段と、入口側排
ガス中に脱塩剤を供給する脱塩剤供給手段とを備え、前
記出口側排ガス中の塩化水素濃度が任意の設定値になる
ように、Ｐ操作とＰＩＤ操作とを組み合わせたＰ＋ＰＩ
Ｄ操作により、脱塩剤供給量を演算して出力する調節手
段を有してなる排ガス処理脱塩剤の供給量制御装置。
【請求項３】前記脱塩剤に、反応速度の速い微粉重曹
や高反応消石灰からなる高反応脱塩剤を用いてなる請求
項２に記載の排ガス処理脱塩剤の供給量制御装置。
【請求項４】廃棄物を熱分解して熱分解ガスと主とし
て不揮発性成分からなる熱分解残留物とを生成する熱分
解反応器と、前記熱分解残留物のうちの燃焼性成分と前
記熱分解ガスとを燃焼して溶融スラグおよび排ガスを排
出する燃焼溶融炉と、前記排ガスに脱塩剤を供給して脱
塩処理する排ガス処理手段とを備え、前記排ガス処理手
段は、請求項２または３に記載の排ガス処理脱塩剤の供
給量制御装置を備えてなる廃棄物処理システム。