JPS63319027A - 半乾式塩化水素除去装置の制御方法 - Google Patents
半乾式塩化水素除去装置の制御方法Info
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- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 66
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- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 33
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/30—Controlling by gas-analysis apparatus
-
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- G—PHYSICS
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- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半乾式塩化水素除去装置の制御方法に関す
るものである。
るものである。
ごみ焼却炉などの排ガス中の塩化水素（Ｈｃｆ）を除去
する装置として、半乾式塩化水素除去装置が知られてい
る。この除去装置は、反応塔内に排ガスと消石灰スラリ
ーとを通して、反応塔内で排ガス中の塩化水素を消石灰
スラリーと接触させ、脱塩反応させて、塩化水素を除去
するようになっている。
する装置として、半乾式塩化水素除去装置が知られてい
る。この除去装置は、反応塔内に排ガスと消石灰スラリ
ーとを通して、反応塔内で排ガス中の塩化水素を消石灰
スラリーと接触させ、脱塩反応させて、塩化水素を除去
するようになっている。
半乾式塩化水素除去装置の制御は、従来、第３図に制御
系のブロック線図を示すように、ＰＩＤ市Ｉ］御によっ
て行なわれている。このＰＩＤ制御は、良く知られてい
るように、制御対象を特定しない汎用技術で、ＰＩＤ制
御による除去装置の制御は、次のように行なわれる。即
ち、反応塔２から出た排ガスの反応波塩化水素濃度を検
出して、その検出値ｙをフィードバック信号として、予
め設定された反応波塩化水素濃度の目標値（ｙ＊）の基
準入力信号との間の偏差Δｙ ” ｙ＊−ｙを求め、そ
の偏差Δγ を動作信号として除去装置の消石灰スラＩ
Ｊ−流量制御器１に加える。制御器１は偏差Δｙに基づ
き、ＰＩＤ動作（比例（Ｐ）十積分（Ｉ）十微分（Ｄ）
動作）により消石灰スラリー流量Ｕを決定して、調節し
、これによって、反応塔２から出る排ガスの反応波塩化
水素濃度を目標値ｙ＊に一致させるように制御する。
系のブロック線図を示すように、ＰＩＤ市Ｉ］御によっ
て行なわれている。このＰＩＤ制御は、良く知られてい
るように、制御対象を特定しない汎用技術で、ＰＩＤ制
御による除去装置の制御は、次のように行なわれる。即
ち、反応塔２から出た排ガスの反応波塩化水素濃度を検
出して、その検出値ｙをフィードバック信号として、予
め設定された反応波塩化水素濃度の目標値（ｙ＊）の基
準入力信号との間の偏差Δｙ ” ｙ＊−ｙを求め、そ
の偏差Δγ を動作信号として除去装置の消石灰スラＩ
Ｊ−流量制御器１に加える。制御器１は偏差Δｙに基づ
き、ＰＩＤ動作（比例（Ｐ）十積分（Ｉ）十微分（Ｄ）
動作）により消石灰スラリー流量Ｕを決定して、調節し
、これによって、反応塔２から出る排ガスの反応波塩化
水素濃度を目標値ｙ＊に一致させるように制御する。
上記のような制御では、反応塔内での消石灰スラリーに
よる塩化水素の脱塩という脱塩反応プロセスが制御上重
要な特性を有している。第４図は、反応塔から出る排ガ
スの、消石灰スラリー流量に対する反応波塩化水素濃度
のステップ応答の一例を示したグラフである。第４図に
よれば、脱塩反応プロセスの動特性は、”むだ時間＋１
次遅れ系”として近似できることを示している。第５図
は、このステップ応答を何度も行ない、むだ時間と時定
数の大きさを調べて図示したグラフである。第５図から
、むだ時間中３分、時定数′＝１分と求まる。これらの
数値は除去装置の大きさに依存して変るが、一般にむだ
時間は時定数に比べてかなり大きい。
よる塩化水素の脱塩という脱塩反応プロセスが制御上重
要な特性を有している。第４図は、反応塔から出る排ガ
スの、消石灰スラリー流量に対する反応波塩化水素濃度
のステップ応答の一例を示したグラフである。第４図に
よれば、脱塩反応プロセスの動特性は、”むだ時間＋１
次遅れ系”として近似できることを示している。第５図
は、このステップ応答を何度も行ない、むだ時間と時定
数の大きさを調べて図示したグラフである。第５図から
、むだ時間中３分、時定数′＝１分と求まる。これらの
数値は除去装置の大きさに依存して変るが、一般にむだ
時間は時定数に比べてかなり大きい。
このような動特性を有する制御対象をＰＩＤ制御で制御
することが難しいのは、制御理論では周知の事実であり
、ＰＩＤ制御で除去装置を安定に運転しようとすれば、
制御系のゲインを下げざるを得す、そのため偏差Δｙが
大きくなってもその解消に時間がかかり、結果として反
応波塩化水素濃度の制御精度が悪くなる。第６図に、従
来の制御方法により制御しながら除去装置を運転したと
きの運転結果の一例を示すグラフを掲げる。反応波塩化
水素濃度とその目標塩化水素濃度（目標値）との偏差の
解消に時間がかかつていることが判る。
することが難しいのは、制御理論では周知の事実であり
、ＰＩＤ制御で除去装置を安定に運転しようとすれば、
制御系のゲインを下げざるを得す、そのため偏差Δｙが
大きくなってもその解消に時間がかかり、結果として反
応波塩化水素濃度の制御精度が悪くなる。第６図に、従
来の制御方法により制御しながら除去装置を運転したと
きの運転結果の一例を示すグラフを掲げる。反応波塩化
水素濃度とその目標塩化水素濃度（目標値）との偏差の
解消に時間がかかつていることが判る。
以上のように、従来は、除去装置に対する制御不良のた
めに、反応波塩化水素濃度は目標値のまわりで大きく変
動する。従って、排ガスの塩化水素を規制値をクリアす
るように除去するには、変動分を見込んで目標値を規制
値より光分下げておかざるを得す、そのために消石灰ス
ラリーは一般に過剰投入するようになる。その結果、反
応塔の後に設置された電気集塵機の負荷が犬きくなり、
トラブルが生じやすくなる。また、過剰投入は除去装置
の運転コストの増大も招く。
めに、反応波塩化水素濃度は目標値のまわりで大きく変
動する。従って、排ガスの塩化水素を規制値をクリアす
るように除去するには、変動分を見込んで目標値を規制
値より光分下げておかざるを得す、そのために消石灰ス
ラリーは一般に過剰投入するようになる。その結果、反
応塔の後に設置された電気集塵機の負荷が犬きくなり、
トラブルが生じやすくなる。また、過剰投入は除去装置
の運転コストの増大も招く。
従って、この発明の目的は、上述の現状に鑑み、反応塔
内での消石灰スラリーによる塩化水素の脱塩反応プロセ
スのむだ時間に対する対蛍を講じることによって、排ガ
スの反応波塩化水素濃度を大きく変動させることなく目
標値に精度良く制御することができるようにした、半乾
式塩化水素除去装置の制御方法を提供することにある。
内での消石灰スラリーによる塩化水素の脱塩反応プロセ
スのむだ時間に対する対蛍を講じることによって、排ガ
スの反応波塩化水素濃度を大きく変動させることなく目
標値に精度良く制御することができるようにした、半乾
式塩化水素除去装置の制御方法を提供することにある。
この発明は、
反応塔内に排ガスと消石灰スラリーとを通して、前記反
応塔内で前記排ガス中の塩化水素を前記消石灰スラリー
と脱塩反応させ、除去するようにした半乾式塩化水素除
去装置の、消石灰スラリー流量制御器に動作信号を加え
て、前記制御器に前記動作信号に基づき前記消石灰スラ
リーの流量（ｕ）を決定して、調節させ、かくして、前
記反応塔から出る前記排ガスの反応波塩化水素濃度を予
め設定された目標値（ｙ＊）に一致させるように制御す
る、半乾式塩化水素除去装置の制御方法において、前記
反応塔内での前記塩化水素の脱塩反応のプロセスにおけ
る伝達関数（Ｇｐ（ｓ） ｅ−Ｌ５）のむだ時間を含ま
ない項（Ｇｐ（ｓ））と、前記決定した消石灰スラリー
の流量（ｕ）から、むだ時間を含まない反応波塩化水素
濃度の予測値（Ｚ、 ＝ ｏｐ（ｓ） ｕ ）を求める
一方、更に、前記伝達関数（Ｃ）ｐ（ｓ） ｅ−” ）
のむだ時間の項（ｅ−Ｌｓ）と、前記むだ時間を含まな
い反応波塩化水素濃度の予測値（２，）とから、むだ時
間を含んだ反応波塩化水素濃度の予測値（Ｚ２＝＝ Ｚ
、 ｅ−Ｌｓ）を求め、次いで、前記むだ時間を含んだ
反応波塩化水素濃度の予測値（Ｚ２）と、前記反応塔内
から出た前記排ガスの反応波塩化水素濃度の検出値（ｙ
）との間の差（Ｚ３＝Ｚ２ ｙ）を求めて、前記差（
Ｚ３）と前記むだ時間を含まない反応波塩化水素濃度の
予測値（Ｚ、）との間の差（Ｚ４＝Ｚｌ−Ｚｓ）を求め
、そして、前記差（Ｚ４）をフィードバック信号として
前記差（Ｚ４）と前記目標値（ｙ＊）との間の偏差（Δ
ｙ＝ｙ−２４）をを求めて、このようにして求められた
偏差（Δｙ）を前記動作信号として前記制御器に加える
ことに特徴を有する。
応塔内で前記排ガス中の塩化水素を前記消石灰スラリー
と脱塩反応させ、除去するようにした半乾式塩化水素除
去装置の、消石灰スラリー流量制御器に動作信号を加え
て、前記制御器に前記動作信号に基づき前記消石灰スラ
リーの流量（ｕ）を決定して、調節させ、かくして、前
記反応塔から出る前記排ガスの反応波塩化水素濃度を予
め設定された目標値（ｙ＊）に一致させるように制御す
る、半乾式塩化水素除去装置の制御方法において、前記
反応塔内での前記塩化水素の脱塩反応のプロセスにおけ
る伝達関数（Ｇｐ（ｓ） ｅ−Ｌ５）のむだ時間を含ま
ない項（Ｇｐ（ｓ））と、前記決定した消石灰スラリー
の流量（ｕ）から、むだ時間を含まない反応波塩化水素
濃度の予測値（Ｚ、 ＝ ｏｐ（ｓ） ｕ ）を求める
一方、更に、前記伝達関数（Ｃ）ｐ（ｓ） ｅ−” ）
のむだ時間の項（ｅ−Ｌｓ）と、前記むだ時間を含まな
い反応波塩化水素濃度の予測値（２，）とから、むだ時
間を含んだ反応波塩化水素濃度の予測値（Ｚ２＝＝ Ｚ
、 ｅ−Ｌｓ）を求め、次いで、前記むだ時間を含んだ
反応波塩化水素濃度の予測値（Ｚ２）と、前記反応塔内
から出た前記排ガスの反応波塩化水素濃度の検出値（ｙ
）との間の差（Ｚ３＝Ｚ２ ｙ）を求めて、前記差（
Ｚ３）と前記むだ時間を含まない反応波塩化水素濃度の
予測値（Ｚ、）との間の差（Ｚ４＝Ｚｌ−Ｚｓ）を求め
、そして、前記差（Ｚ４）をフィードバック信号として
前記差（Ｚ４）と前記目標値（ｙ＊）との間の偏差（Δ
ｙ＝ｙ−２４）をを求めて、このようにして求められた
偏差（Δｙ）を前記動作信号として前記制御器に加える
ことに特徴を有する。
以下、この発明の制御方法について詳述する。
上述したＰＩＤ制御による従来の制御方法で生じる問題
点は、脱塩反応プロセスの動特性が大きなむだ時間を有
する半乾式塩化水素除去装置を制御対象としているのに
、むだ時間に対する対策がとられていないことが原因と
なっている。
点は、脱塩反応プロセスの動特性が大きなむだ時間を有
する半乾式塩化水素除去装置を制御対象としているのに
、むだ時間に対する対策がとられていないことが原因と
なっている。
そこで、これを解決するために、この発明では、除去装
置の制御系に、反応塔への消石灰スラリー流量に基づき
、排ガスのむだ時間を含んだ反応波塩化水素濃度の予測
値を求め、そして、予測値を使ってむだ時間を制御系の
閉ループから除去する予測−除去機構を組込むものであ
る。
置の制御系に、反応塔への消石灰スラリー流量に基づき
、排ガスのむだ時間を含んだ反応波塩化水素濃度の予測
値を求め、そして、予測値を使ってむだ時間を制御系の
閉ループから除去する予測−除去機構を組込むものであ
る。
このような予測−除去機構によって、むだ時間を制御系
の閉ループから除去することが行なわれると、消石灰ス
ラリー流量を調節して、排ガスの反応波塩化水素濃度を
制御する制御系としては、大きなむだ時間が除去されて
いることになるので、ＰＩＤ制御等によって精度良く制
御することが可能になる。
の閉ループから除去することが行なわれると、消石灰ス
ラリー流量を調節して、排ガスの反応波塩化水素濃度を
制御する制御系としては、大きなむだ時間が除去されて
いることになるので、ＰＩＤ制御等によって精度良く制
御することが可能になる。
第１図は、この発明の制御方法の一実施態様における制
御系を示すブロック線図である。
御系を示すブロック線図である。
第１図において、４は半乾式塩化水素除去装置の消石灰
スラリー流量制御器、５は除去装置の反応塔、６は制御
系３に組込まれた予測−除去機構である。制御器４はＰ
ＩＤ等の制御器からなっており、その伝達関数をＧｃ（
ｓ）で表わす。制御器４は動作信号として加えられた偏
差Δｙに基づき、ＰＩＤ動作等により消石灰スラリー流
量Ｕをｕ ” Ｇｃ（ｓ）ΔＹと決定して、反応塔５へ
の消石灰スラリー流量Ｕを調節する。反応塔５内での消
石灰スラリーによる塩化水素の脱塩反応プロセスの伝達
関数は、Ｇｐ（ｓ） ｅ−Ｌｓで表わされる。
スラリー流量制御器、５は除去装置の反応塔、６は制御
系３に組込まれた予測−除去機構である。制御器４はＰ
ＩＤ等の制御器からなっており、その伝達関数をＧｃ（
ｓ）で表わす。制御器４は動作信号として加えられた偏
差Δｙに基づき、ＰＩＤ動作等により消石灰スラリー流
量Ｕをｕ ” Ｇｃ（ｓ）ΔＹと決定して、反応塔５へ
の消石灰スラリー流量Ｕを調節する。反応塔５内での消
石灰スラリーによる塩化水素の脱塩反応プロセスの伝達
関数は、Ｇｐ（ｓ） ｅ−Ｌｓで表わされる。
この発明では、制御器４によって決定した消石圧スラリ
ー流量Ｕから出発して、予測−除去機構６で次のような
処理を行なう。予測−除去機構６は、脱塩反応プロセス
の伝達関数Ｃｐ（ｓ）ｓ−Ｌ５ のむだ時間を含まな
い項０ｐ（Ｓ） を乗する第１の掛算要素７と、前記
伝達関数Ｇｐ（ｓ）ｅ−Ｌ５ のむだ時間の項ｅ−Ｌ
ａを乗する第２の掛算要素８とを含んでなっている。
ー流量Ｕから出発して、予測−除去機構６で次のような
処理を行なう。予測−除去機構６は、脱塩反応プロセス
の伝達関数Ｃｐ（ｓ）ｓ−Ｌ５ のむだ時間を含まな
い項０ｐ（Ｓ） を乗する第１の掛算要素７と、前記
伝達関数Ｇｐ（ｓ）ｅ−Ｌ５ のむだ時間の項ｅ−Ｌ
ａを乗する第２の掛算要素８とを含んでなっている。
（１）先ず、決定した消石灰スラリー流量りを第１の掛
算要素７を通して、消石灰スラリー流量Ｕに伝達関数Ｇ
ｐ （ｓ） ｅ −” のむだ時間を含まない項Ｇｐ
ｆｓ）を乗じ、むだ時間を含まない反応波塩化水素濃度
の予測値Ｚ、＝Ｇｐ（Ｓ）ｕを求める。
算要素７を通して、消石灰スラリー流量Ｕに伝達関数Ｇ
ｐ （ｓ） ｅ −” のむだ時間を含まない項Ｇｐ
ｆｓ）を乗じ、むだ時間を含まない反応波塩化水素濃度
の予測値Ｚ、＝Ｇｐ（Ｓ）ｕを求める。
（２）次いで、前記むだ時間を含まない反応後塩化水素
嬢度の予測値Ｚ１を第２の掛算要素８を通しで、前記予
測値２．に伝達関数（）ｐ（Ｓ）ｅ−” のむだ時間
の項ｅ−ＩＪを乗じ、むだ時間を含んだ反応波塩化水素
濃度の予測値Ｚ２ ＝ Ｚ１ｅ−” ＝−Ｇｐ（ｓ）
ｅ−”ｕを求める。
嬢度の予測値Ｚ１を第２の掛算要素８を通しで、前記予
測値２．に伝達関数（）ｐ（Ｓ）ｅ−” のむだ時間
の項ｅ−ＩＪを乗じ、むだ時間を含んだ反応波塩化水素
濃度の予測値Ｚ２ ＝ Ｚ１ｅ−” ＝−Ｇｐ（ｓ）
ｅ−”ｕを求める。
（３）次いで、反応塔５から出た排ガスの反応波塩化水
素濃度の検出値ｙと前記むだ時間を含んだ反応波塩化水
素濃度の予測値Ｚ２との間の差ｚ３＝ｚ２−ｙを求める
。前記予測値Ｚ２は反応後垣化水素濃度の予測値の意味
をもっているから、前記差Ｚ３は２゜＝ｚ２−ｙ＝Ｑと
なる。
素濃度の検出値ｙと前記むだ時間を含んだ反応波塩化水
素濃度の予測値Ｚ２との間の差ｚ３＝ｚ２−ｙを求める
。前記予測値Ｚ２は反応後垣化水素濃度の予測値の意味
をもっているから、前記差Ｚ３は２゜＝ｚ２−ｙ＝Ｑと
なる。
（４）次いで、前記差２．と先のむだ時間を含まない反
応波塩化水素濃度の予測値Ｚ１との間の差２４＝２゜−
２３を求めて、前記差Ｚ４をフィードバック信号とする
。この結果、前記差Ｚ３はＺ３＝０であるから、第１図
の制御系において、閉ループを構成している信号のうち
、検出値ｙとむだ時間の項ｅ−Ｌｓを乗じる第２の掛算
要素８を通って来た予測値Ｚ２とは打ち消され、むだ時
間が閉ループから除去されたことになる。
応波塩化水素濃度の予測値Ｚ１との間の差２４＝２゜−
２３を求めて、前記差Ｚ４をフィードバック信号とする
。この結果、前記差Ｚ３はＺ３＝０であるから、第１図
の制御系において、閉ループを構成している信号のうち
、検出値ｙとむだ時間の項ｅ−Ｌｓを乗じる第２の掛算
要素８を通って来た予測値Ｚ２とは打ち消され、むだ時
間が閉ループから除去されたことになる。
このとき実際、
ｕ ＝ Ｇｃ（ｓ）Δｙ ＝ Ｇｃ（ｓ） （ｙ＊−Ｇ
ｐ（ｓ）ｕ）となるので、制御器４は制御対液にむだ時
間がないものとして設計できる。
ｐ（ｓ）ｕ）となるので、制御器４は制御対液にむだ時
間がないものとして設計できる。
以上の（１）〜（４）の処理によって、消石灰スラリー
流量ｕから出発して前記差Ｚ４を求めてフィードバック
信号としたならば、排ガスの反応波塩化水素濃度ｙ＊と
の間の偏差ΔＹ”Ｙ＊ ”４を求めて、偏差Δｙを動作
信号として制御器４に加えればよい。制御器４は、偏差
Δｙに基づきＰＩＤ動作等により、脱塩反応プロセスに
おけるむだ時間に拘らず、反応波塩化水素濃度を目標値
ｙとするような消石灰スラリー流量Ｕを決定して、調節
する。従って、反応波塩化水素濃度を大きく変動させる
ことなく、目標値ｙ＊に精度良く制御することができる
。
流量ｕから出発して前記差Ｚ４を求めてフィードバック
信号としたならば、排ガスの反応波塩化水素濃度ｙ＊と
の間の偏差ΔＹ”Ｙ＊ ”４を求めて、偏差Δｙを動作
信号として制御器４に加えればよい。制御器４は、偏差
Δｙに基づきＰＩＤ動作等により、脱塩反応プロセスに
おけるむだ時間に拘らず、反応波塩化水素濃度を目標値
ｙとするような消石灰スラリー流量Ｕを決定して、調節
する。従って、反応波塩化水素濃度を大きく変動させる
ことなく、目標値ｙ＊に精度良く制御することができる
。
第２図に、この発明の制御方法により制御しながら除去
装置を運転したときの運転結果を示すグラフを掲げる。
装置を運転したときの運転結果を示すグラフを掲げる。
第２図から明らかなように、この発明の制御方法によれ
ば、前述の第６図に示しだ従来の制御方法のときの運転
結果に比べ、入口塩化水素濃度の大きな変動下でも、反
応波塩化水素濃度を目標塩化水素濃度（目標値）近辺に
精度良く制御できていることがわかる。
ば、前述の第６図に示しだ従来の制御方法のときの運転
結果に比べ、入口塩化水素濃度の大きな変動下でも、反
応波塩化水素濃度を目標塩化水素濃度（目標値）近辺に
精度良く制御できていることがわかる。
以上説明したように、この発明の制御方法によれば、半
乾式塩化水素除去装置の反応塔から出る排ガスの反応後
塩化水素濃反を、大きく変動させることなく目標値に精
度良く制御することができる。従って、消石灰スラリー
を過剰投入せずに済み、そのために反応塔の後に設置さ
れた電気集塵機の負荷が軽減され、また除去装置の運転
コストが低減される。
乾式塩化水素除去装置の反応塔から出る排ガスの反応後
塩化水素濃反を、大きく変動させることなく目標値に精
度良く制御することができる。従って、消石灰スラリー
を過剰投入せずに済み、そのために反応塔の後に設置さ
れた電気集塵機の負荷が軽減され、また除去装置の運転
コストが低減される。
第１図は、この発明の制御方法の一実施態様における制
御系を示すブロック線図、第２図は、この発明の制御方
法により制御しながら除去装置を運転したときの運転結
果を示すグラフ、第３図は、従来の制御方法における制
御系を示すブロック線図、第４図は、消石灰スラリー流
量に対する反応波塩化水素濃度のステップ応答の一例を
示したグラフ、第５図は、第４図に示したステップ応答
でのむだ時間と時定数の大きさを図示したグラフ、第６
図は、従来の制御方法により制御しながら除去装置を運
転したときの運転結果の一例を示すグラフである。図面
において、 ４・・・消石灰スラリー流量制御器、 ５・・・反応塔、 ６・・・予測−除去機構
、７・・・第１の掛算要素、 ８・・・第２の掛算要素
。 乍４図 ０１６．７１０分 第５図 ４［ 鰐り田疾 晩ン
御系を示すブロック線図、第２図は、この発明の制御方
法により制御しながら除去装置を運転したときの運転結
果を示すグラフ、第３図は、従来の制御方法における制
御系を示すブロック線図、第４図は、消石灰スラリー流
量に対する反応波塩化水素濃度のステップ応答の一例を
示したグラフ、第５図は、第４図に示したステップ応答
でのむだ時間と時定数の大きさを図示したグラフ、第６
図は、従来の制御方法により制御しながら除去装置を運
転したときの運転結果の一例を示すグラフである。図面
において、 ４・・・消石灰スラリー流量制御器、 ５・・・反応塔、 ６・・・予測−除去機構
、７・・・第１の掛算要素、 ８・・・第２の掛算要素
。 乍４図 ０１６．７１０分 第５図 ４［ 鰐り田疾 晩ン
Claims (1)
- 反応塔内に排ガスと消石灰スラリーとを通して、前記反
応塔内で前記排ガス中の塩化水素を前記消石灰スラリー
と脱塩反応させ、除去するようにした半乾式塩化水素除
去装置の、消石灰スラリー流量制御器に動作信号を加え
て、前記制御器に前記動作信号に基づき前記消石灰スラ
リーの流量（ｕ）を決定して、調節させ、かくして、前
記反応塔から出る前記排ガスの反応後塩化水素濃度を予
め設定された目標値（ｙ＾＊）に一致させるように制御
する、半乾式塩化水素除去装置の制御方法において、前
記反応塔内での前記塩化水素の脱塩反応のプロセスにお
ける伝達関数（Ｇｐ（ｓ）ｅ＾−＾Ｌ＾ｓ）のむだ時間
を含まない項（Ｇｐ（ｓ））と、前記決定した消石灰ス
ラリーの流量（ｕ）とから、むだ時間を含まない反応後
塩化水素濃度の予測値（Ｚ＿１＝Ｇｐ（ｓ）ｕ）を求め
る一方、更に、前記伝達関数（Ｇｐ（ｓ）ｅ＾−＾Ｌ＾
ｓ）のむだ時間の項（ｅ＾−＾Ｌ＾ｓ）と、前記むだ時
間を含まない反応後塩化水素濃度の予測値（Ｚ＿１）と
から、むだ時間を含んだ反応後塩化水素濃度の予測値（
Ｚ＿２＝Ｚ＿１ｅ＾−＾Ｌ＾ｓ）を求め、次いで、前記
むだ時間を含んだ反応後塩化水素濃度の予測値（Ｚ＿２
）と、前記反応塔内から出た前記排ガスの反応後塩化水
素濃度の検出値（ｙ）との間の差（Ｚ＿３＝Ｚ＿２−ｙ
）を求めて、前記差（Ｚ＿３）と前記むだ時間を含まな
い反応後塩化水素濃度の予測値（Ｚ＿１）との間の差（
Ｚ＿４＝Ｚ＿１−Ｚ＿３）を求め、そして、前記差（Ｚ
＿４）をフイードバック信号として前記差（Ｚ＿４）と
前記目標値（ｙ＿＊）との間の偏差（Δｙ＝ｙ＾＊−Ｚ
＿４）を求めて、このようにして求められた偏差（Δｙ
）を前記動作信号として前記制御器に加えることを特徴
とする、半乾式塩化水素除去装置の制御方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62154415A JPS63319027A (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 半乾式塩化水素除去装置の制御方法 |
| US07/201,483 US4847056A (en) | 1987-06-23 | 1988-06-01 | Method for removing hydrogen chloride from exhaust gas discharged from incinerator |
| DK305088A DK170608B1 (da) | 1987-06-23 | 1988-06-03 | Fremgangsmåde til fjernelse af hydrogenchlorid fra afgangsgas fra et forbrændingsanlæg |
| CA000568753A CA1298960C (en) | 1987-06-23 | 1988-06-06 | Method for removing hydrogen chloride from exhaust gas discharged fromincinerator |
| DE8888109681T DE3864602D1 (de) | 1987-06-23 | 1988-06-16 | Verfahren zum entfernen von chlorwasserstoff aus abgasen eines verbrennungsofens. |
| EP88109681A EP0296500B1 (en) | 1987-06-23 | 1988-06-16 | Method for removing hydrogen chloride from exhaust gas discharged from incinerator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62154415A JPS63319027A (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 半乾式塩化水素除去装置の制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63319027A true JPS63319027A (ja) | 1988-12-27 |
| JPH0420646B2 JPH0420646B2 (ja) | 1992-04-06 |
Family
ID=15583659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62154415A Granted JPS63319027A (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 半乾式塩化水素除去装置の制御方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4847056A (ja) |
| EP (1) | EP0296500B1 (ja) |
| JP (1) | JPS63319027A (ja) |
| CA (1) | CA1298960C (ja) |
| DE (1) | DE3864602D1 (ja) |
| DK (1) | DK170608B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002113327A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-16 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 排ガス処理脱塩剤の供給量制御方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4233223C2 (de) * | 1992-10-02 | 1997-06-19 | Flaekt Ab | Verfahren zur Reinigung von Rauchgasen aus Abfallverbrennungsanlagen |
| DE4333481C1 (de) * | 1993-10-01 | 1995-02-23 | Abb Patent Gmbh | Verfahren zur trockenen oder quasitrockenen Reinigung von Rauchgasen aus der Abfallverbrennung |
| DE4344112C2 (de) * | 1993-12-23 | 1998-10-22 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Steuerung der Sorptionsleistung eines Filtrationsabscheiders |
| JP3555609B2 (ja) | 2001-11-30 | 2004-08-18 | オムロン株式会社 | 制御装置、温度調節器および熱処理装置 |
| US7522963B2 (en) * | 2004-08-27 | 2009-04-21 | Alstom Technology Ltd | Optimized air pollution control |
| US7323036B2 (en) | 2004-08-27 | 2008-01-29 | Alstom Technology Ltd | Maximizing regulatory credits in controlling air pollution |
| US7634417B2 (en) | 2004-08-27 | 2009-12-15 | Alstom Technology Ltd. | Cost based control of air pollution control |
| US7117046B2 (en) * | 2004-08-27 | 2006-10-03 | Alstom Technology Ltd. | Cascaded control of an average value of a process parameter to a desired value |
| US7536232B2 (en) * | 2004-08-27 | 2009-05-19 | Alstom Technology Ltd | Model predictive control of air pollution control processes |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5394258A (en) * | 1977-01-31 | 1978-08-18 | Kurabo Ind Ltd | Control method and apparatus for nitrogen oxides removing apparatus |
| US4246242A (en) * | 1978-11-20 | 1981-01-20 | Corning Glass Works | Method of removing gaseous pollutants from flue gas |
| DE3234796C2 (de) * | 1982-09-20 | 1986-11-13 | Dr. Goldberg & Partner Umwelttechnik GmbH, 8000 München | Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von gasförmigen Schadstoffen aus Rauchgasen mittels staubförmiger Additive |
| DE3337793A1 (de) * | 1983-10-18 | 1985-05-02 | L. & C. Steinmüller GmbH, 5270 Gummersbach | Verfahren zur regelung der zugabemenge an reduktionsmittel bei der katalytischen reduktion von in rauchgasen enthaltenem no(pfeil abwaerts)x(pfeil abwaerts) |
| DE3431662A1 (de) * | 1984-08-29 | 1986-03-13 | Metallgesellschaft Ag, 6000 Frankfurt | Regelverfahren fuer sorptionsmittel |
| JPH0638024A (ja) * | 1992-07-15 | 1994-02-10 | Canon Inc | 画像処理装置 |
-
1987
- 1987-06-23 JP JP62154415A patent/JPS63319027A/ja active Granted
-
1988
- 1988-06-01 US US07/201,483 patent/US4847056A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-03 DK DK305088A patent/DK170608B1/da not_active IP Right Cessation
- 1988-06-06 CA CA000568753A patent/CA1298960C/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-16 EP EP88109681A patent/EP0296500B1/en not_active Expired
- 1988-06-16 DE DE8888109681T patent/DE3864602D1/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002113327A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-16 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 排ガス処理脱塩剤の供給量制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4847056A (en) | 1989-07-11 |
| CA1298960C (en) | 1992-04-21 |
| EP0296500B1 (en) | 1991-09-04 |
| DK305088D0 (da) | 1988-06-03 |
| DK305088A (da) | 1988-12-24 |
| DE3864602D1 (de) | 1991-10-10 |
| EP0296500A1 (en) | 1988-12-28 |
| JPH0420646B2 (ja) | 1992-04-06 |
| DK170608B1 (da) | 1995-11-13 |
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