JP2002093153A5 - - Google Patents

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Claims (5)

  1. セルトランジスタのソース、ドレイン間に強誘電体キャパシタを接続してユニットセルが構成され、第1の端子と第2の端子の間に複数個のユニットセルが直列接続されてセルブロックが構成され、各セルブロックの第1の端子がブロック選択トランジスタを介してビット線に接続され、各セルブロックの第2の端子がプレート線に接続され、前記各セルトランジスタのゲートがワード線に接続されたメモリセルアレイと、
    前記ユニットセルの強誘電体キャパシタから前記ビット線に読み出される信号を検知増幅するセンスアンプ回路と、
    前記プレート線を駆動するプレート線駆動回路と、
    データ読み出し時、前記センスアンプ回路の活性化前に、前記ビット線に対して前記セルブロック内の選択されたユニットセルの位置に応じて異なるオフセット電圧を印加するオフセット電圧印加回路とを備え、
    前記オフセット電圧印加回路は、選択されたユニットセルが接続されるビット線に対して、選択されたユニットセルのセルブロック内の位置がビット線から遠いほど高くなるオフセット電圧を与える
    ことを特徴とする強誘電体メモリ。
  2. セルトランジスタのソース、ドレイン間に強誘電体キャパシタを接続してユニットセルが構成され、第1の端子と第2の端子の間に複数個のユニットセルが直列接続されてセルブロックが構成され、各セルブロックの第1の端子がブロック選択トランジスタを介してビット線に接続され、各セルブロックの第2の端子がプレート線に接続され、前記各セルトランジスタのゲートがワード線に接続されたメモリセルアレイと、
    前記ユニットセルの強誘電体キャパシタから前記ビット線に読み出される信号を検知増幅するセンスアンプ回路と、
    前記プレート線を駆動するプレート線駆動回路と、
    データ読み出し時、前記センスアンプ回路の活性化前に、前記ビット線に対して前記セルブロック内の選択されたユニットセルの位置に応じて異なるオフセット電圧を印加するオフセット電圧印加回路とを備え、
    前記オフセット電圧印加回路は、選択されたユニットセルが接続されるビット線と対をなす参照側のビット線に対して、選択されたユニットセルのセルブロック内の位置がビット線から遠いほど低くなるオフセット電圧を与える
    ことを特徴とする強誘電体メモリ。
  3. 前記オフセット電圧発生回路は、一端がビット線に接続された少なくとも一つのキャパシタの他端に駆動電圧を与えて、容量カップリングによりビット線にオフセット電圧を印加する
    ことを特徴とする請求項1記載の強誘電体メモリ。
  4. セルトランジスタのソース、ドレイン間に強誘電体キャパシタを接続してユニットセルが構成され、第1の端子と第2の端子の間に複数個のユニットセルを直列接続してセルブロックが構成され、各セルブロックの第1の端子がブロック選択トランジスタを介してビット線に接続され、各セルブロックの第2の端子がプレート線に接続され、前記各セルトランジスタのゲートがワード線に接続されたメモリセルアレイと、
    前記ユニットセルの強誘電体キャパシタから前記ビット線に読み出される信号を検知増幅するセンスアンプ回路と、
    前記プレート線を駆動するプレート線駆動回路と、
    スタンバイ時に前記セルブロックの内部ノードを、前記ビット線に読み出される二値データの信号電位の間にある第1の電位に設定するプリチャージ回路とを備え、
    前記プリチャージ回路は、前記プレート線を介して各セルブロックの内部ノードを前記第1の電位にプリチャージするものであり、且つ前記プレート線駆動回路とプリチャージ回路とは、スタンバイ時に前記第1の電位を発生し、アクティブ時に選択されたユニットセルの強誘電体キャパシタに順次印加される、前記第1の電位より高い第2の電位及び前記第1の電位より低い第3の電位を発生する電圧発生回路として一体構成されている
    ことを特徴とする強誘電体メモリ。
  5. セルトランジスタのソース、ドレイン間に強誘電体キャパシタを接続してユニットセルが構成され、第1の端子と第2の端子の間に複数個のユニットセルを直列接続してセルブロックが構成され、各セルブロックの第1の端子がブロック選択トランジスタを介してビット線に接続され、各セルブロックの第2の端子がプレート線に接続され、前記各セルトランジスタのゲートがワード線に接続されたメモリセルアレイと、
    前記ユニットセルの強誘電体キャパシタから前記ビット線に読み出される信号を検知増幅するセンスアンプ回路と、
    前記プレート線を駆動するプレート線駆動回路と、
    データ読み出し時、選択されたセルブロックが接続されるビット線と対をなす参照ビット線に、選択されるユニットセルの位置に応じて異なる寄生容量を付加するように配置されたダミーセルブロックとを備えた
    ことを特徴とする強誘電体メモリ。
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Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6972983B2 (en) 2002-03-21 2005-12-06 Infineon Technologies Aktiengesellschaft Increasing the read signal in ferroelectric memories
US6584009B1 (en) * 2002-03-21 2003-06-24 Infineon Technologies Aktiengesellschaft Memory integrated circuit with improved reliability
US6867997B2 (en) * 2002-03-27 2005-03-15 Texas Instruments Incorporated Series feram cell array
JP3984090B2 (ja) * 2002-04-01 2007-09-26 株式会社東芝 強誘電体メモリ装置
US6856560B2 (en) * 2002-04-26 2005-02-15 Infineon Technologies Aktiengesellschaft Redundancy in series grouped memory architecture
KR100449953B1 (ko) * 2002-05-16 2004-09-30 주식회사 하이닉스반도체 강유전체 메모리 장치의 셀어레이
US6885597B2 (en) * 2002-09-10 2005-04-26 Infineon Technologies Aktiengesellschaft Sensing test circuit
US6898104B2 (en) * 2002-11-12 2005-05-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device having semiconductor memory with sense amplifier
US6920059B2 (en) * 2002-11-29 2005-07-19 Infineon Technologies Aktiengesellschaft Reducing effects of noise coupling in integrated circuits with memory arrays
JP3806084B2 (ja) 2002-12-25 2006-08-09 株式会社東芝 強誘電体メモリ及びそのデータ読み出し方法
KR100510510B1 (ko) * 2002-12-28 2005-08-26 삼성전자주식회사 센싱속도 저하를 방지할 수 있는 비트라인 커플링 스킴을갖는 반도체 메모리장치
JP4250143B2 (ja) * 2003-02-27 2009-04-08 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
US6822891B1 (en) * 2003-06-16 2004-11-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Ferroelectric memory device
US7193880B2 (en) * 2004-06-14 2007-03-20 Texas Instruments Incorporated Plateline voltage pulsing to reduce storage node disturbance in ferroelectric memory
KR100506457B1 (ko) * 2003-07-30 2005-08-05 주식회사 하이닉스반도체 불휘발성 강유전체 메모리 셀 어레이 블럭 및 그 메모리셀 어레이 블럭을 이용하는 불휘발성 강유전체 메모리 장치
JP3990334B2 (ja) * 2003-09-12 2007-10-10 株式会社東芝 半導体集積回路装置およびその動作方法
JP4041054B2 (ja) * 2003-11-06 2008-01-30 株式会社東芝 半導体集積回路装置
US7009864B2 (en) * 2003-12-29 2006-03-07 Texas Instruments Incorporated Zero cancellation scheme to reduce plateline voltage in ferroelectric memory
JP4061651B2 (ja) * 2004-03-15 2008-03-19 セイコーエプソン株式会社 強誘電体メモリ装置及び電子機器
US7133304B2 (en) * 2004-03-22 2006-11-07 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus to reduce storage node disturbance in ferroelectric memory
US6970371B1 (en) * 2004-05-17 2005-11-29 Texas Instruments Incorporated Reference generator system and methods for reading ferroelectric memory cells using reduced bitline voltages
JP2007018600A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2008102982A (ja) * 2006-10-17 2008-05-01 Toshiba Corp 強誘電体メモリ
US7561458B2 (en) * 2006-12-26 2009-07-14 Texas Instruments Incorporated Ferroelectric memory array for implementing a zero cancellation scheme to reduce plateline voltage in ferroelectric memory
US7920404B2 (en) * 2007-12-31 2011-04-05 Texas Instruments Incorporated Ferroelectric memory devices with partitioned platelines
KR101004514B1 (ko) * 2008-06-09 2010-12-31 주식회사 하이닉스반도체 Rfid 장치
JP2010009687A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP5060413B2 (ja) * 2008-07-15 2012-10-31 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP2010102793A (ja) * 2008-10-24 2010-05-06 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US8441853B2 (en) 2010-09-30 2013-05-14 Sandisk Technologies Inc. Sensing for NAND memory based on word line position
US9111622B2 (en) * 2012-05-09 2015-08-18 Everspin Technologies, Inc. Self referencing sense amplifier for spin torque MRAM
US9082502B2 (en) 2013-10-10 2015-07-14 Sandisk Technologies Inc. Bit line and compare voltage modulation for sensing nonvolatile storage elements
KR20170076093A (ko) * 2015-12-24 2017-07-04 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치
JP6860411B2 (ja) * 2017-04-27 2021-04-14 ラピスセミコンダクタ株式会社 不揮発性半導体記憶装置
CN112908387B (zh) * 2021-03-04 2021-12-17 长江存储科技有限责任公司 三维非易失性存储器及其控制方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3196829B2 (ja) * 1997-12-26 2001-08-06 日本電気株式会社 強誘電体メモリ装置
US6198652B1 (en) * 1998-04-13 2001-03-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Non-volatile semiconductor integrated memory device
JP3875416B2 (ja) * 1998-11-11 2007-01-31 富士通株式会社 強誘電体記憶装置
KR100339415B1 (ko) * 1999-09-08 2002-05-31 박종섭 불휘발성 강유전체 메모리 장치

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