JP2002082050A - 分光分析装置 - Google Patents
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
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- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 信頼性の向上を図ることができ、低コストで
製作可能な分光分析装置を提供する。 【解決手段】 光源１と、この光源１からの光を集束す
るための集束手段２と、多チャンネル検出器４を含み前
記光源１からの光を分光分析する分光分析部３と、前記
集束手段２と分光分析部３との間に配置される試料セル
５とを備えた分光分析装置Ａであって、前記試料セル５
が、試料光測定を行うための試料光測定位置と、参照光
測定を行うための参照光測定位置とに移動自在であり、
また、前記光を遮断する遮断部材６を前記光の光路中に
進退自在に設けてある。
製作可能な分光分析装置を提供する。 【解決手段】 光源１と、この光源１からの光を集束す
るための集束手段２と、多チャンネル検出器４を含み前
記光源１からの光を分光分析する分光分析部３と、前記
集束手段２と分光分析部３との間に配置される試料セル
５とを備えた分光分析装置Ａであって、前記試料セル５
が、試料光測定を行うための試料光測定位置と、参照光
測定を行うための参照光測定位置とに移動自在であり、
また、前記光を遮断する遮断部材６を前記光の光路中に
進退自在に設けてある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、分光分析装置に関
する。
する。
【０００２】
【従来の技術】従来の分光分析装置として、図４に示す
ように、光源１と分析部１３との間に、二つの集束レン
ズ１４，１５が前記光源１からの光放射方向に並列的に
設けられており、後方に試料セル１６が設けられた一方
の集光レンズ１４を通る光路は、測定光を分析部１３へ
入射させるための測定系光路として構成されており、他
方の集光レンズ１５を通る光路は、参照光を分析部１３
へ入射させるための比較系光路として構成されているも
のがある。
ように、光源１と分析部１３との間に、二つの集束レン
ズ１４，１５が前記光源１からの光放射方向に並列的に
設けられており、後方に試料セル１６が設けられた一方
の集光レンズ１４を通る光路は、測定光を分析部１３へ
入射させるための測定系光路として構成されており、他
方の集光レンズ１５を通る光路は、参照光を分析部１３
へ入射させるための比較系光路として構成されているも
のがある。
【０００３】上記の構成からなる分光分析装置では、前
記測定系光路および比較系光路にそれぞれ、光源１から
の光を共通のクロスミラー１７に向けて反射させるため
の凹面鏡１８，１８と、光路を遮断するためのシャッタ
１９，１９とが設けられている。そして、測定系光路お
よび比較系光路に設けられたシャッタ１９，１９は、一
方が開いているときには他方が閉じるように制御され、
これにより、測定光と参照光とは、択一的に分析部１３
へと入射するように構成されていた。
記測定系光路および比較系光路にそれぞれ、光源１から
の光を共通のクロスミラー１７に向けて反射させるため
の凹面鏡１８，１８と、光路を遮断するためのシャッタ
１９，１９とが設けられている。そして、測定系光路お
よび比較系光路に設けられたシャッタ１９，１９は、一
方が開いているときには他方が閉じるように制御され、
これにより、測定光と参照光とは、択一的に分析部１３
へと入射するように構成されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の構成か
らなる従来の分光分析装置では、分析部１３への光路が
二つ（測定系光路と比較系光路）あったことから、光源
１の位置ずれ、凹面鏡１８，１８の曇り度合い、汚れ度
合いの違いやクロスミラー１７を構成する二枚のミラー
の曇り度合い、汚れ度合いの違いなどが、試料光量と参
照光量との比や吸光度などに悪影響を与え、信頼性を低
下させるという問題があった。
らなる従来の分光分析装置では、分析部１３への光路が
二つ（測定系光路と比較系光路）あったことから、光源
１の位置ずれ、凹面鏡１８，１８の曇り度合い、汚れ度
合いの違いやクロスミラー１７を構成する二枚のミラー
の曇り度合い、汚れ度合いの違いなどが、試料光量と参
照光量との比や吸光度などに悪影響を与え、信頼性を低
下させるという問題があった。
【０００５】また、凹面鏡１８，１８、集光レンズ１
４，１５やシャッタ１９，１９がそれぞれ二つずつ必要
であったことから、その分だけ製作コストが上昇するこ
ととなっていた。
４，１５やシャッタ１９，１９がそれぞれ二つずつ必要
であったことから、その分だけ製作コストが上昇するこ
ととなっていた。
【０００６】この発明は上述の事柄に留意してなされた
もので、その目的は、信頼性の向上を図ることができ、
低コストで製作可能な分光分析装置を提供することにあ
る。
もので、その目的は、信頼性の向上を図ることができ、
低コストで製作可能な分光分析装置を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の分光分析装置は、光源と、この光源からの
光を集束するための集束手段と、多チャンネル検出器を
含み前記光源からの光を分光分析する分光分析部と、前
記集束手段と分光分析部との間に配置される試料セルと
を備えた分光分析装置であって、前記試料セルが、試料
光測定を行うための試料光測定位置と、参照光測定を行
うための参照光測定位置とに移動自在であり、また、前
記光を遮断する遮断部材を前記光の光路中に進退自在に
設けてある（請求項１）。
に、本発明の分光分析装置は、光源と、この光源からの
光を集束するための集束手段と、多チャンネル検出器を
含み前記光源からの光を分光分析する分光分析部と、前
記集束手段と分光分析部との間に配置される試料セルと
を備えた分光分析装置であって、前記試料セルが、試料
光測定を行うための試料光測定位置と、参照光測定を行
うための参照光測定位置とに移動自在であり、また、前
記光を遮断する遮断部材を前記光の光路中に進退自在に
設けてある（請求項１）。
【０００８】上記の構成により、信頼性の向上を図るこ
とができ、低コストで製作可能な分光分析装置を提供す
ることができる。
とができ、低コストで製作可能な分光分析装置を提供す
ることができる。
【０００９】また、前記遮断部材が、試料セルに固定さ
れているか、あるいは試料セルと一体的に形成されてい
るとしてもよい（請求項２）。この場合には、遮断部材
と試料セルとを同一の駆動手段で移動させることがで
き、構成が簡易になるとともに、より低コストで製作す
ることができる。
れているか、あるいは試料セルと一体的に形成されてい
るとしてもよい（請求項２）。この場合には、遮断部材
と試料セルとを同一の駆動手段で移動させることがで
き、構成が簡易になるとともに、より低コストで製作す
ることができる。
【００１０】さらに、前記試料セルが参照光測定位置に
あるときには、前記光の光路中に屈折率補正部材が配置
されるとしてもよい（請求項３）。この場合には、試料
セルの有無による屈折率の違いに基づく誤差を打ち消す
ことができ、信頼性のさらなる向上を図ることが可能と
なる。
あるときには、前記光の光路中に屈折率補正部材が配置
されるとしてもよい（請求項３）。この場合には、試料
セルの有無による屈折率の違いに基づく誤差を打ち消す
ことができ、信頼性のさらなる向上を図ることが可能と
なる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例を、図を
参照しながら説明する。図１は、本発明の第一実施例に
係る分光分析装置Ａの構成を概略的に示す説明図であ
る。分光分析装置Ａは、光源１と、この光源１からの光
を集束するための集束手段（例えば集光レンズ）２と、
多チャンネル検出器４を含み前記光源１からの光を分光
分析する分光分析部３と、前記集束手段２と分光分析部
３との間に配置される試料セル５とを備えており、前記
試料セル５が、試料光測定を行うための試料光測定位置
と、参照光測定を行うための参照光測定位置とに移動自
在であり、また、前記光を遮断する遮断部材６が前記光
の光路中に進退自在に設けられている。
参照しながら説明する。図１は、本発明の第一実施例に
係る分光分析装置Ａの構成を概略的に示す説明図であ
る。分光分析装置Ａは、光源１と、この光源１からの光
を集束するための集束手段（例えば集光レンズ）２と、
多チャンネル検出器４を含み前記光源１からの光を分光
分析する分光分析部３と、前記集束手段２と分光分析部
３との間に配置される試料セル５とを備えており、前記
試料セル５が、試料光測定を行うための試料光測定位置
と、参照光測定を行うための参照光測定位置とに移動自
在であり、また、前記光を遮断する遮断部材６が前記光
の光路中に進退自在に設けられている。
【００１２】前記光源１は、例えばハロゲンランプなど
よりなる連続スペクトル光源である。
よりなる連続スペクトル光源である。
【００１３】前記分光分析部３は、入射スリット７と、
凹面鏡からなるコリメート鏡８と、回折格子９と、凹面
鏡よりなるカメラ鏡１０と、前記多チャンネル検出器４
とを備えている。
凹面鏡からなるコリメート鏡８と、回折格子９と、凹面
鏡よりなるカメラ鏡１０と、前記多チャンネル検出器４
とを備えている。
【００１４】前記多チャンネル検出器４は、分光された
各波長の光を検出するためのものである。
各波長の光を検出するためのものである。
【００１５】前記試料セル５は、試料液が収容される収
容部５ａを有しており、この収容部５ａの前後には、前
記光源１からの光が透過可能な窓５ｂ，５ｃが設けられ
ている。
容部５ａを有しており、この収容部５ａの前後には、前
記光源１からの光が透過可能な窓５ｂ，５ｃが設けられ
ている。
【００１６】また、前記試料セル５の一部は、前記遮断
部材６に兼用されており、さらに、試料セル５には、動
力伝達手段５ｄが設けられている。
部材６に兼用されており、さらに、試料セル５には、動
力伝達手段５ｄが設けられている。
【００１７】そして、前記遮断部材６を有する試料セル
５は、駆動手段１１の駆動が前記動力伝達手段５ｄを介
して伝達されることによって、光源１からの光の光路に
対して進退する方向に移動するように構成されており、
試料セル５は、試料光測定を行うための試料光測定位置
と、参照光測定を行うための参照光測定位置と、遮断部
材６によって光を遮断してダーク光測定を行うためのダ
ーク位置とに移動する。
５は、駆動手段１１の駆動が前記動力伝達手段５ｄを介
して伝達されることによって、光源１からの光の光路に
対して進退する方向に移動するように構成されており、
試料セル５は、試料光測定を行うための試料光測定位置
と、参照光測定を行うための参照光測定位置と、遮断部
材６によって光を遮断してダーク光測定を行うためのダ
ーク位置とに移動する。
【００１８】なお、上記分光分析装置Ａには、装置全体
を制御したり、多チャンネル検出器４からの出力に基づ
いて濃度計算などを行う演算制御部としてのコンピュー
タ（図示せず）が設けられている。
を制御したり、多チャンネル検出器４からの出力に基づ
いて濃度計算などを行う演算制御部としてのコンピュー
タ（図示せず）が設けられている。
【００１９】図２（Ａ），（Ｂ）および（Ｃ）はそれぞ
れ、前記試料セル５が試料光測定位置，ダーク位置およ
び参照光測定位置にあるときの状態を概略的に示す説明
図である。図２（Ａ）に示すように、試料セル５が試料
光測定位置にあるとき、光源１からの光は、集束手段２
を経て、試料セル５の窓５ｂ，収容部５ａおよび窓５ｃ
を透過して測定光Ｓとなった後、入射スリット７上に結
像する。
れ、前記試料セル５が試料光測定位置，ダーク位置およ
び参照光測定位置にあるときの状態を概略的に示す説明
図である。図２（Ａ）に示すように、試料セル５が試料
光測定位置にあるとき、光源１からの光は、集束手段２
を経て、試料セル５の窓５ｂ，収容部５ａおよび窓５ｃ
を透過して測定光Ｓとなった後、入射スリット７上に結
像する。
【００２０】そして、入射スリット７上で結像した測定
光Ｓは、コリメート鏡８で平行光束となり、回折格子９
にある角度で入射し、波長λと回折次数に応じた回折角
で回折され、カメラ鏡１０に向かう。このカメラ鏡１０
で反射された光は、多チャンネル検出器４において結像
し、これにより、測定光Ｓに基づく試料スペクトルＩ
（λ）が得られ、コンピュータに入力される。ここで、
試料スペクトルＩ（λ）は、試料セル５内の試料の光吸
収に基づくものである。
光Ｓは、コリメート鏡８で平行光束となり、回折格子９
にある角度で入射し、波長λと回折次数に応じた回折角
で回折され、カメラ鏡１０に向かう。このカメラ鏡１０
で反射された光は、多チャンネル検出器４において結像
し、これにより、測定光Ｓに基づく試料スペクトルＩ
（λ）が得られ、コンピュータに入力される。ここで、
試料スペクトルＩ（λ）は、試料セル５内の試料の光吸
収に基づくものである。
【００２１】図２（Ｂ）に示すように、試料セル５がダ
ーク光測定位置にあるとき、光源１からの光は、集束手
段２を経た後、遮断部材６によって遮断され、分光分析
部３側に送られることはないが、多チャンネル検出器４
およびアンプから出るノイズにより、光学系とは無関係
なダークスペクトルＩD （λ）が得られ、コンピュータ
に入力される。
ーク光測定位置にあるとき、光源１からの光は、集束手
段２を経た後、遮断部材６によって遮断され、分光分析
部３側に送られることはないが、多チャンネル検出器４
およびアンプから出るノイズにより、光学系とは無関係
なダークスペクトルＩD （λ）が得られ、コンピュータ
に入力される。
【００２２】図２（Ｃ）に示すように、試料セル５が参
照光測定位置にあるとき、光源１からの光は、集束手段
２を経て、そのまま参照光Ｒとなって、入射スリット７
上に結像する。
照光測定位置にあるとき、光源１からの光は、集束手段
２を経て、そのまま参照光Ｒとなって、入射スリット７
上に結像する。
【００２３】そして、入射スリット７上で結像した参照
光Ｒは、コリメート鏡８で平行光束となり、回折格子９
にある角度で入射し、波長λと回折次数に応じた回折角
で回折され、カメラ鏡１０に向かう。このカメラ鏡１０
で反射された光は、多チャンネル検出器４において結像
し、これにより、参照光Ｒに基づく参照スペクトルＩ R
（λ）が得られ、コンピュータに入力される。
光Ｒは、コリメート鏡８で平行光束となり、回折格子９
にある角度で入射し、波長λと回折次数に応じた回折角
で回折され、カメラ鏡１０に向かう。このカメラ鏡１０
で反射された光は、多チャンネル検出器４において結像
し、これにより、参照光Ｒに基づく参照スペクトルＩ R
（λ）が得られ、コンピュータに入力される。
【００２４】なお、上記のようにして行われる試料光測
定は、例えば数秒に１回の頻度で定期的に行われ、ダー
ク光測定（ダーク光量のモニタ）は、例えば１時間に１
回の頻度で定期的に行われ、参照光測定は、例えば１０
分に１回の頻度で定期的に行われる。
定は、例えば数秒に１回の頻度で定期的に行われ、ダー
ク光測定（ダーク光量のモニタ）は、例えば１時間に１
回の頻度で定期的に行われ、参照光測定は、例えば１０
分に１回の頻度で定期的に行われる。
【００２５】以下に、本発明の分光分析装置Ａを用いて
試料による吸光度を求める方法について述べる。試料の
吸光度Ａｂｓ（λ）は、一般に下記式で表される。 Ａｂｓ（λ）＝ｌｏｇ10〔ＩO （λ）／ＩS （λ）〕 ……（１） ここで、ＩO （λ）は、試料への入射光量（スペクト
ル）、ＩS （λ）は、試料からの透過光量（スペクト
ル）を示している。
試料による吸光度を求める方法について述べる。試料の
吸光度Ａｂｓ（λ）は、一般に下記式で表される。 Ａｂｓ（λ）＝ｌｏｇ10〔ＩO （λ）／ＩS （λ）〕 ……（１） ここで、ＩO （λ）は、試料への入射光量（スペクト
ル）、ＩS （λ）は、試料からの透過光量（スペクト
ル）を示している。
【００２６】そして、本発明の場合、参照スペクトルＩ
R （λ）は、図２（Ｃ）に示すように、光路から試料セ
ル５を完全に除去して測定されるため、 ＩR （λ）＝ＩO （λ） ……（２） となり、上記の式（１）および（２）から、 Ａｂｓ（λ）＝ｌｏｇ10〔ＩR （λ）／ＩS （λ）〕 ……（３） という式が得られる。
R （λ）は、図２（Ｃ）に示すように、光路から試料セ
ル５を完全に除去して測定されるため、 ＩR （λ）＝ＩO （λ） ……（２） となり、上記の式（１）および（２）から、 Ａｂｓ（λ）＝ｌｏｇ10〔ＩR （λ）／ＩS （λ）〕 ……（３） という式が得られる。
【００２７】また、本発明のように多チャンネル検出器
４を用いる場合、一般に暗電流値はチャンネルごとに異
なる。また、チャンネルごとに別のアンプを接続する場
合、アンプごとにオフセット電圧が異なる。従って、こ
れらを補正することと、前記ダーク光量による誤差を打
ち消すことを考慮した吸光度の式は、 Ａｂｓ（ｉ）＝ｌｏｇ10〔｛ＩR （ｉ）−ＩD （ｉ）｝／｛ＩS （ｉ）− ＩD （ｉ）｝〕 ……（４） となる。ここで、ｉは、前記多チャンネル検出器４のチ
ャンネルであって、波長に対応するものである。また、
ＩD （ｉ）は、ダーク光量（スペクトル）である。
４を用いる場合、一般に暗電流値はチャンネルごとに異
なる。また、チャンネルごとに別のアンプを接続する場
合、アンプごとにオフセット電圧が異なる。従って、こ
れらを補正することと、前記ダーク光量による誤差を打
ち消すことを考慮した吸光度の式は、 Ａｂｓ（ｉ）＝ｌｏｇ10〔｛ＩR （ｉ）−ＩD （ｉ）｝／｛ＩS （ｉ）− ＩD （ｉ）｝〕 ……（４） となる。ここで、ｉは、前記多チャンネル検出器４のチ
ャンネルであって、波長に対応するものである。また、
ＩD （ｉ）は、ダーク光量（スペクトル）である。
【００２８】上記の式（４）で示される吸光度は、試料
セル５による吸光も含んだものなので、試料のみによる
吸光度を求める式は、 Ａｂｓ（ｉ，ｔ）＝ｌｏｇ10〔｛ＩR （ｉ，ｔ）−ＩD （ｉ，ｔ）｝／｛ ＩS （ｉ，ｔ）−ＩD （ｉ，ｔ）｝〕−ｌｏｇ10〔｛ＩR （ｉ）−ＩD （ｉ）｝ ／｛ＩAir （ｉ）−ＩD （ｉ）｝〕 ……（５） となる。ここで、右辺第１項は、試料濃度変化に伴い経
時変化するものなので、時間ｔのパラメータとしてあ
る。また、右辺第２項は、試料セル５による吸光を補正
するための項であり、固定値である。ＩAir （ｉ）は、
試料セル５の収容部５ａ内に空気を導入したときのサン
プル光量である。
セル５による吸光も含んだものなので、試料のみによる
吸光度を求める式は、 Ａｂｓ（ｉ，ｔ）＝ｌｏｇ10〔｛ＩR （ｉ，ｔ）−ＩD （ｉ，ｔ）｝／｛ ＩS （ｉ，ｔ）−ＩD （ｉ，ｔ）｝〕−ｌｏｇ10〔｛ＩR （ｉ）−ＩD （ｉ）｝ ／｛ＩAir （ｉ）−ＩD （ｉ）｝〕 ……（５） となる。ここで、右辺第１項は、試料濃度変化に伴い経
時変化するものなので、時間ｔのパラメータとしてあ
る。また、右辺第２項は、試料セル５による吸光を補正
するための項であり、固定値である。ＩAir （ｉ）は、
試料セル５の収容部５ａ内に空気を導入したときのサン
プル光量である。
【００２９】上記のようにして得られる吸光度Ａｂｓ
（ｉ，ｔ）を適宜のデータ処理手法によって処理するこ
とにより、試料の濃度を得ることができる。
（ｉ，ｔ）を適宜のデータ処理手法によって処理するこ
とにより、試料の濃度を得ることができる。
【００３０】上記の構成からなる分光分析装置Ａでは、
光源１から放射された光が分光分析部３へと向かう光路
は一つのみであることから、複数の光路を設ける場合に
比して、光源の位置ずれや集光レンズの曇りが及ぼす影
響は格段に少なくなる。すなわち、これらの影響は、上
記の式（１）〜（５）における試料への入射光量（スペ
クトル）ＩO （λ）、試料からの透過光量（スペクト
ル）ＩS （λ）、参照スペクトルＩR （λ）、ダーク光
量（スペクトル）ＩD （ｉ）およびサンプル光量ＩAir
（ｉ）に均等に及ぶため、結果としてほとんど打ち消さ
れることになり、分光分析装置Ａは、信頼性に優れたも
のとなる。
光源１から放射された光が分光分析部３へと向かう光路
は一つのみであることから、複数の光路を設ける場合に
比して、光源の位置ずれや集光レンズの曇りが及ぼす影
響は格段に少なくなる。すなわち、これらの影響は、上
記の式（１）〜（５）における試料への入射光量（スペ
クトル）ＩO （λ）、試料からの透過光量（スペクト
ル）ＩS （λ）、参照スペクトルＩR （λ）、ダーク光
量（スペクトル）ＩD （ｉ）およびサンプル光量ＩAir
（ｉ）に均等に及ぶため、結果としてほとんど打ち消さ
れることになり、分光分析装置Ａは、信頼性に優れたも
のとなる。
【００３１】また、分光分析装置Ａは、前記集束手段２
を一つのみ用意すればよいことや、光源１からの光を分
光分析部３にまで導くための構造が比較的シンプルであ
ることから、低コストで製作することが可能である。
を一つのみ用意すればよいことや、光源１からの光を分
光分析部３にまで導くための構造が比較的シンプルであ
ることから、低コストで製作することが可能である。
【００３２】さらに、分光分析装置Ａには、光源１から
の光を分光分析部３に導くための入射光学系に、一般的
に曇りやすいミラーを用いていないことから、ミラー反
射率低下による吸光度ずれが問題にならない。
の光を分光分析部３に導くための入射光学系に、一般的
に曇りやすいミラーを用いていないことから、ミラー反
射率低下による吸光度ずれが問題にならない。
【００３３】また、上記分光分析装置Ａでは、ダーク光
量を定期的にモニタしているので、ダーク光量の検出器
チャンネル間誤差、ダーク光量の経時変化、アンプ系の
検出器チャンネル間誤差（検出器チャンネル個別にアン
プが付く場合）、アンプ系の経時変化を打ち消すことが
できる。
量を定期的にモニタしているので、ダーク光量の検出器
チャンネル間誤差、ダーク光量の経時変化、アンプ系の
検出器チャンネル間誤差（検出器チャンネル個別にアン
プが付く場合）、アンプ系の経時変化を打ち消すことが
できる。
【００３４】また、試料光測定を行う場合には、光源１
からの光が試料セル５の窓５ｂ，５ｃを通るように試料
セル５を配置すればよく、参照光測定を行う場合には、
試料セル５および遮断部材６を前記光路から退避させれ
ばよく、ダーク光測定を行う場合には、遮断部材６を前
記光路中に配置すればよいことから、前記試料セル５お
よび遮断部材６を停止させる位置に適宜の幅を持たせる
ことができ、その制御に高い精度が必要でない。上記の
ことから、分光分析装置Ａは、より安価なものとなり、
また、より信頼性に優れたものとなる。
からの光が試料セル５の窓５ｂ，５ｃを通るように試料
セル５を配置すればよく、参照光測定を行う場合には、
試料セル５および遮断部材６を前記光路から退避させれ
ばよく、ダーク光測定を行う場合には、遮断部材６を前
記光路中に配置すればよいことから、前記試料セル５お
よび遮断部材６を停止させる位置に適宜の幅を持たせる
ことができ、その制御に高い精度が必要でない。上記の
ことから、分光分析装置Ａは、より安価なものとなり、
また、より信頼性に優れたものとなる。
【００３５】なお、上記の構成からなる分光分析装置Ａ
では、試料セル５の一部を遮断部材６として兼用するな
どして、遮断部材６が試料セル５と一体的に形成されて
いる例を示したが、例えば、前記試料セル５と別体に設
けられた遮断部材６が試料セル５に固定されているとし
てもよい。この場合、遮断部材６は、例えば鉄等の金属
製の板などとすることができる。
では、試料セル５の一部を遮断部材６として兼用するな
どして、遮断部材６が試料セル５と一体的に形成されて
いる例を示したが、例えば、前記試料セル５と別体に設
けられた遮断部材６が試料セル５に固定されているとし
てもよい。この場合、遮断部材６は、例えば鉄等の金属
製の板などとすることができる。
【００３６】図３は、本発明の第二実施例に係る分光分
析装置Ａ2 の構成を概略的に示す説明図である。なお、
上記第一実施例に示したものと同一構造の部材について
は、同じ符号を付し、その説明を省略する。分光分析装
置Ａ2 は、第一実施例の分光分析装置Ａに比して、前記
試料セル５に屈折率補正部材１２が固定されている点で
異なる。
析装置Ａ2 の構成を概略的に示す説明図である。なお、
上記第一実施例に示したものと同一構造の部材について
は、同じ符号を付し、その説明を省略する。分光分析装
置Ａ2 は、第一実施例の分光分析装置Ａに比して、前記
試料セル５に屈折率補正部材１２が固定されている点で
異なる。
【００３７】すなわち、前記屈折率補正部材１２は、例
えば、ガラス板であり、図３に示すように、前記試料セ
ル５の側方に固定される。そして、試料セル５を参照光
測定位置に移動させると、光源１からの光の光路中に、
前記屈折率補正部材１２が配置されるように構成されて
いる。なお、前記屈折率補正部材１２の試料セル５に対
する固定位置は、例えば、遮断部材６が試料セル５の側
方に固定されている場合には、遮断部材６が固定されて
いる側と反対側とすればよい。もちろん、上記試料セル
５，遮断部材６および屈折率補正部材１２の並び方には
制限がなく、どのような並び方をしていてもよい。
えば、ガラス板であり、図３に示すように、前記試料セ
ル５の側方に固定される。そして、試料セル５を参照光
測定位置に移動させると、光源１からの光の光路中に、
前記屈折率補正部材１２が配置されるように構成されて
いる。なお、前記屈折率補正部材１２の試料セル５に対
する固定位置は、例えば、遮断部材６が試料セル５の側
方に固定されている場合には、遮断部材６が固定されて
いる側と反対側とすればよい。もちろん、上記試料セル
５，遮断部材６および屈折率補正部材１２の並び方には
制限がなく、どのような並び方をしていてもよい。
【００３８】図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、試
料セル５が試料光測定位置およびダーク光測定位置にあ
る場合には、前記屈折率補正部材１２は前記光路中から
退避した位置にあり、試料光測定およびダーク光測定に
影響を与えない。
料セル５が試料光測定位置およびダーク光測定位置にあ
る場合には、前記屈折率補正部材１２は前記光路中から
退避した位置にあり、試料光測定およびダーク光測定に
影響を与えない。
【００３９】そして、図３（Ｃ）に示すように、試料セ
ル５が参照光測定位置にあるとき、光源１からの光は、
集束手段２を経た後、屈折率補正部材１２を透過して参
照光Ｒとなって、入射スリット７上に結像し、その後、
分光分析部３において分光分析される。なお、前記分光
分析部３に至った後の処理の詳細については、第一実施
例と同じであることから、その説明を省略する。
ル５が参照光測定位置にあるとき、光源１からの光は、
集束手段２を経た後、屈折率補正部材１２を透過して参
照光Ｒとなって、入射スリット７上に結像し、その後、
分光分析部３において分光分析される。なお、前記分光
分析部３に至った後の処理の詳細については、第一実施
例と同じであることから、その説明を省略する。
【００４０】上記第一実施例の分光分析装置Ａでは、試
料セル５が参照光測定位置にあるときに得られる参照ス
ペクトルに、試料セル５の有無による屈折率の違いに基
づく若干の誤差が生じるおそれがあるが、上記第二実施
例の分光分析装置Ａ2 では、前記試料セル５が参照光測
定位置にあるときには、光源１からの光の光路中に屈折
率補正部材１２が配置されるように構成されており、こ
れにより、試料セル５の有無による屈折率の違いに基づ
く誤差が打ち消されることから、信頼性のさらなる向上
を図ることが可能となっている。
料セル５が参照光測定位置にあるときに得られる参照ス
ペクトルに、試料セル５の有無による屈折率の違いに基
づく若干の誤差が生じるおそれがあるが、上記第二実施
例の分光分析装置Ａ2 では、前記試料セル５が参照光測
定位置にあるときには、光源１からの光の光路中に屈折
率補正部材１２が配置されるように構成されており、こ
れにより、試料セル５の有無による屈折率の違いに基づ
く誤差が打ち消されることから、信頼性のさらなる向上
を図ることが可能となっている。
【００４１】上記第一および第二実施例の分光分析装置
では、試料セル５が、試料光測定位置と、参照光測定位
置と、ダーク光測定位置との三つの位置に移動するよう
に構成されているが、このような構成に代えて、前記遮
断部材６を試料セル５とは別に設けて、かつ、試料セル
５を試料光測定位置および参照光測定位置の二つの位置
のみに移動するようにして、試料光測定および参照光測
定を行う場合には、前記遮断部材６を前記光路から退避
させた状態に保ちつつ、試料セル５を試料光測定位置お
よび参照光測定位置に移動させ、ダーク光測定を行う場
合には、前記遮断部材６を前記光路中に配置するように
してもよい。
では、試料セル５が、試料光測定位置と、参照光測定位
置と、ダーク光測定位置との三つの位置に移動するよう
に構成されているが、このような構成に代えて、前記遮
断部材６を試料セル５とは別に設けて、かつ、試料セル
５を試料光測定位置および参照光測定位置の二つの位置
のみに移動するようにして、試料光測定および参照光測
定を行う場合には、前記遮断部材６を前記光路から退避
させた状態に保ちつつ、試料セル５を試料光測定位置お
よび参照光測定位置に移動させ、ダーク光測定を行う場
合には、前記遮断部材６を前記光路中に配置するように
してもよい。
【００４２】また、上記したように、前記遮断部材６を
試料セル５と別に設けてもよいのはもちろんのこと、前
記屈折率補正部材１２を試料セル５と別に設けてもよ
い。
試料セル５と別に設けてもよいのはもちろんのこと、前
記屈折率補正部材１２を試料セル５と別に設けてもよ
い。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、上記の構成からな
る本発明によれば、信頼性の向上を図ることができ、低
コストで製作可能な分光分析装置を提供することができ
る。
る本発明によれば、信頼性の向上を図ることができ、低
コストで製作可能な分光分析装置を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一実施例に係る分光分析装置の構成
を概略的に示す説明図である。
を概略的に示す説明図である。
【図２】（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）はそれぞれ、試料
セルが、試料光測定位置にあるとき、ダーク光測定位置
にあるときおよび参照光測定位置にあるときの状態を概
略的に示す説明図である。
セルが、試料光測定位置にあるとき、ダーク光測定位置
にあるときおよび参照光測定位置にあるときの状態を概
略的に示す説明図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）はそれぞれ、本発
明の第二実施例に係る分光分析装置における試料セル
が、試料光測定位置にあるとき、ダーク光測定位置にあ
るときおよび参照光測定位置にあるときの状態を概略的
に示す説明図である。
明の第二実施例に係る分光分析装置における試料セル
が、試料光測定位置にあるとき、ダーク光測定位置にあ
るときおよび参照光測定位置にあるときの状態を概略的
に示す説明図である。
【図４】従来の分光分析装置の構成を概略的に示す説明
図である。
図である。
１…光源、２…集束手段、３…分光分析部、４…多チャ
ンネル検出器、５…試料セル、６…遮断部材、Ａ…分光
分析装置。
ンネル検出器、５…試料セル、６…遮断部材、Ａ…分光
分析装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０１Ｎ 21/13 Ｇ０１Ｎ 21/13 (72)発明者 湯原 義公 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 Ｆターム(参考） 2G020 CA02 CB04 CB07 CB26 CC02 CC42 CC63 CD06 CD13 CD32 2G057 AA01 BA01 HA01 2G059 AA01 DD12 DD13 EE01 EE12 JJ05 JJ11 JJ14 JJ21 JJ23 JJ30 KK01 LL03 LL04 MM01 NN01 NN05 NN06 NN07 NN09
Claims (3)
- 【請求項１】 光源と、この光源からの光を集束するた
めの集束手段と、多チャンネル検出器を含み前記光源か
らの光を分光分析する分光分析部と、前記集束手段と分
光分析部との間に配置される試料セルとを備えた分光分
析装置であって、前記試料セルが、試料光測定を行うた
めの試料光測定位置と、参照光測定を行うための参照光
測定位置とに移動自在であり、また、前記光を遮断する
遮断部材を前記光の光路中に進退自在に設けてあること
を特徴とする分光分析装置。 - 【請求項２】 前記遮断部材が、試料セルに固定されて
いるか、あるいは試料セルと一体的に形成されている請
求項１に記載の分光分析装置。 - 【請求項３】 前記試料セルが参照光測定位置にあると
きには、前記光の光路中に屈折率補正部材が配置される
請求項１または２に記載の分光分析装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000272632A JP2002082050A (ja) | 2000-09-08 | 2000-09-08 | 分光分析装置 |
| KR10-2001-0025187A KR100403440B1 (ko) | 2000-09-08 | 2001-05-09 | 분광분석장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000272632A JP2002082050A (ja) | 2000-09-08 | 2000-09-08 | 分光分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002082050A true JP2002082050A (ja) | 2002-03-22 |
Family
ID=18758716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000272632A Pending JP2002082050A (ja) | 2000-09-08 | 2000-09-08 | 分光分析装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002082050A (ja) |
| KR (1) | KR100403440B1 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005114539A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Horiba Ltd | 分光分析光度計 |
| JP2007040708A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Horiba Ltd | 分析装置 |
| JP2012137303A (ja) * | 2010-12-24 | 2012-07-19 | Horiba Ltd | 光学分析装置 |
| CN102928077A (zh) * | 2012-11-26 | 2013-02-13 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 双通道共光路小型化宽波段成像光谱仪光学系统 |
| KR20140085348A (ko) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 | 분광 분석 방법 및 분광 분석 장치 |
| CN107036981A (zh) * | 2015-12-14 | 2017-08-11 | 株式会社堀场制作所 | 吸收光谱仪 |
| KR20180048724A (ko) * | 2015-08-31 | 2018-05-10 | 메틀러 토레도 게엠베하 | 테스트 샘플에 대한 광 흡수 측정과 레퍼런스 샘플에 대한 컴플라이언스 측정을 수행하기 위한 장치 및 방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100662798B1 (ko) * | 2006-02-01 | 2006-12-28 | 김성우 | 분광분석장치 |
-
2000
- 2000-09-08 JP JP2000272632A patent/JP2002082050A/ja active Pending
-
2001
- 2001-05-09 KR KR10-2001-0025187A patent/KR100403440B1/ko active IP Right Grant
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2005114539A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Horiba Ltd | 分光分析光度計 |
| JP2007040708A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Horiba Ltd | 分析装置 |
| JP4699128B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2011-06-08 | 株式会社堀場製作所 | 分析装置 |
| CN102608029B (zh) * | 2010-12-24 | 2016-08-24 | 株式会社堀场制作所 | 光学分析装置 |
| JP2012137303A (ja) * | 2010-12-24 | 2012-07-19 | Horiba Ltd | 光学分析装置 |
| KR101814823B1 (ko) * | 2010-12-24 | 2018-01-03 | 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 | 광학 분석 장치 |
| TWI576573B (zh) * | 2010-12-24 | 2017-04-01 | Horiba Ltd | Optical analysis device |
| CN102608029A (zh) * | 2010-12-24 | 2012-07-25 | 株式会社堀场制作所 | 光学分析装置 |
| CN102928077B (zh) * | 2012-11-26 | 2015-10-28 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 双通道共光路小型化宽波段成像光谱仪光学系统 |
| CN102928077A (zh) * | 2012-11-26 | 2013-02-13 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 双通道共光路小型化宽波段成像光谱仪光学系统 |
| US9557261B2 (en) | 2012-12-27 | 2017-01-31 | Horiba, Ltd. | Spectroscopic analysis method and spectroscopic analyzer |
| KR20140085348A (ko) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 | 분광 분석 방법 및 분광 분석 장치 |
| TWI629462B (zh) * | 2012-12-27 | 2018-07-11 | 堀場製作所股份有限公司 | 分光分析方法以及分光分析裝置 |
| KR102122840B1 (ko) * | 2012-12-27 | 2020-06-15 | 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 | 분광 분석 방법 및 분광 분석 장치 |
| KR20180048724A (ko) * | 2015-08-31 | 2018-05-10 | 메틀러 토레도 게엠베하 | 테스트 샘플에 대한 광 흡수 측정과 레퍼런스 샘플에 대한 컴플라이언스 측정을 수행하기 위한 장치 및 방법 |
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| CN107036981A (zh) * | 2015-12-14 | 2017-08-11 | 株式会社堀场制作所 | 吸收光谱仪 |
| CN107036981B (zh) * | 2015-12-14 | 2020-12-04 | 株式会社堀场制作所 | 吸收光谱仪 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20020020622A (ko) | 2002-03-15 |
| KR100403440B1 (ko) | 2003-10-30 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060207 |