KR101814823B1 - 광학 분석 장치 - Google Patents

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KR101814823B1
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기미히코 아리모토
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가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼
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Abstract

[과제] 초점 위치 보정용의 레퍼런스 보정 부재에 주는 부식성 가스의 영향을 저감하는 것에 의해서, 광학 분석 장치의 측정 오차를 저감하는 동시에, 레퍼런스 보정 부재의 교환에 수반하는 여러 가지의 문제점을 해결한다.
[해결수단] 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4)의 사이에서의 광로 L상에 위치하는 레퍼런스 위치 R, 및 이 레퍼런스 위치 R로부터 퇴피한 퇴피 위치 S와 사이에서 이동 가능하고, 레퍼런스 위치 R에서 통과한 빛의 초점 위치가 측정 위치 P에 있는 측정 셀(5)을 통과한 빛의 초점 위치와 대략 동일하게 되도록 구성된 레퍼런스 보정 부재(6)를 구비하고, 레퍼런스 보정 부재(6)에 있어서, 레퍼런스 위치 R에서 광로 L과 교차하는 외면 부분(6A)이, 부식성 가스에 대한 내부식성을 가지는 재료로 이루어진다.

Description

광학 분석 장치{OPTICAL INSTRUMENT}
본 발명은, 분광 분석 장치 등의 광학 분석 장치에 관한 것이다.
종래의 분광 분석 장치로서는, 특허문헌 1에 나타내는 바와 같이, 광원과, 이 광원에서의 빛을 집광하는 집광렌즈와, 다채널 검출기를 가지고 상기 광원에서 빛을 분광 분석하는 분광 분석부와, 집광렌즈 및 분광 분석부 사이에 배치되는 측정 셀을 구비한 것이 있다.
이 분광 분석 장치의 농도 측정에는 흡수 분광법을 이용하고 있다. 이 흡수 분광법으로는, 일반적으로, 교정에 의해 미리 산출한 검량선Mi에 흡광도 스펙트럼 Abs(λi)를 곱하는 것으로 농도 c를 산출한다(하기의 식 참조).
Figure 112011101190895-pat00001
여기서 흡광도 스펙트럼 Abs(λi)는, 측정 셀에의 입사광의 강도 Io (λi)와 측정 셀로부터의 투과광의 강도 Is(λi)로 다음 식으로 표시된다.
Figure 112011101190895-pat00002
여기서, 입사광의 강도 Io (λi)를 직접 측정하는 것은 어렵고, 종래의 분광 분석 장치에서는, 집광렌즈 및 분광 분석부 사이에서 측정 셀을 제거한 상태(레퍼런스 광측정)에서, 분광 분석부가 측정하는 빛의 강도, 즉 레퍼런스 광의 강도 Ir(λi)를 대용하고 있다.
Figure 112011101190895-pat00003
그런데, 광로상에 측정 셀이 있는 경우와 측정 셀이 없는 경우는 굴절률에 차이가 있어서, 도 6(A) 및 (B)에 도시하는 바와 같이, 분광 분석부에 입사하는 빛의 광속, 구체적으로는 초점 위치가 변해 버린다. 그 결과, 분광 분석부에 의해 얻을 수 있는 레퍼런스 광의 광량에 오차가 생기고, 흡광도 스펙트럼 Abs(λi)가 변해서 산출 농도에 오차가 나오게 된다는 문제가 있다.
그래서, 특허문헌 1의 분광 분석 장치에서는, 측정 셀의 유무에 따른 초점 위치의 변화를 보정하기 위해서, 레퍼런스 광 측정에 있어서, 상기 집광렌즈 및 분광 분석부 사이에 굴절률 보정 부재를 배치하고 있다(도 6(C) 참조). 이 굴절률 보정 부재는, 석영 등의 광학유리를 이용하여 구성되어 있다.
그런데, 예를 들면 상기의 분광 분석 장치로 불산을 포함한 약액의 농도 측정을 실시하는 경우, 측정 셀에의 약액의 도입 및 도출은, 불산에 대해 내부식성을 가진 불소 수지 배관이 이용되고 있다.
그러나, 불소 수지 배관을 흐르는 약액 중의 불산의 일부가, 배관의 관벽을 투과해서 불화수소 가스로서 외부에 방출해 버린다. 또한, 약액을 저장하고 있는 약액 탱크로부터도 불화수소 가스가 방출해 버린다. 그렇다면, 굴절률 보정 부재가 배치되는 분위기하에 부식성 가스인 불화수소 가스가 존재하게 되고, 광학유리로 이루어지는 굴절률 보정 부재의 표면이 부식되어 백탁한다고 하는 문제가 있다. 이에 의해 레퍼런스 광 측정으로 얻을 수 있는 레퍼런스 광량이 저하해 버리고, 흡광도가 변화해서 산출 농도에 오차가 생겨 버린다는 문제가 있다.
또한, 굴절률 보정 부재가 부식해서 백탁했을 경우, 상기 부재를 교환할 필요가 있고, 그 교환 시기를 관리할 필요가 있다는 문제가 있다. 게다가 별도로 새로운 굴절률 교환 부재를 준비할 필요가 있거나, 그 교환 작업이 번잡하고 작업공수가 걸린다거나 하기 때문에, 운전비용의 증대를 초래한다는 문제가 있다.
특허문헌 1 : 일본 공개특허 2002－82050호 공보
따라서 본 발명은, 초점 위치 보정용의 레퍼런스 보정 부재에 주는 부식성 가스의 영향을 저감하는 것으로, 광학 분석 장치의 측정 오차를 저감하는 동시에, 레퍼런스 보정 부재의 교환에 따른 여러 가지의 문제점을 해결하는 것, 그 주된 소기 과제로 하는 것이다.
즉 본 발명에 관한 광학 분석 장치는, 광원에서 나오는 빛을 집광하는 집광 광학계와, 상기 집광 광학계에 의해 집광된 빛의 광로상에 설치되고, 그 빛을 검출하는 검출 광학계와, 상기 집광 광학계 및 상기 검출 광학계 사이에서의 광로상에 위치하는 측정 위치, 및 이 측정 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동 가능한 측정 셀과, 상기 집광 광학계 및 상기 검출 광학계 사이에서의 광로상에 위치하는 레퍼런스 위치, 및 이 레퍼런스 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하고, 상기 레퍼런스 위치에서 통과한 빛의 초점 위치가 상기 측정 위치에 있는 측정 셀을 통과한 빛의 초점 위치와 대략 동일하게 되도록 구성된 레퍼런스 보정 부재와, 상기 측정 셀 및 상기 레퍼런스 보정 부재를 이동시켜서, 선택적으로 상기 측정 셀을 상기 측정 위치 또는 상기 레퍼런스 보정 부재를 상기 레퍼런스 위치로 하는 이동 기구를 구비하고, 상기 레퍼런스 보정 부재의 적어도 상기 레퍼런스 위치에서 광로와 교차하는 외면 부분이, 부식성 가스에 대해서 내부식성을 가진 내부식성 재료로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
이러한 것이면, 레퍼런스 광 측정에 있어서 레퍼런스 보정 부재가 광로상에 설치될 수 있기 때문에, 측정 셀의 유무에 의한 초점 위치의 변화를 보정하고, 측정 결과의 오차를 저감 할 수 있다. 특히, 레퍼런스 위치에서 광로와 교차하는 외면 부분이, 내부식성 재료로 형성되어 있기 때문에, 레퍼런스 광 측정에 있어서 레퍼런스 보정 부재가 부식성 가스로부터 받는 영향을 저감할 수 있다. 이에 의해, 부식성 가스의 존재에 상관없이, 레퍼런스 광 측정의 오차를 저감 할 수 있고, 상기 레퍼런스 광 측정의 결과를 이용한 광학 분석 장치의 측정 결과의 오차를 저감할 수 있다. 또한, 레퍼런스 광 측정에 있어서의 레퍼런스 보정 부재의 부식을 무시할 수 있으므로, 레퍼런스 보정 부재의 교환을 반드시 실시할 필요는 없고, 레퍼런스 보정 부재의 교환에 따른 종래의 여러 가지의 문제점을 해결할 수 있다. 게다가 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재를 집광 광학계 및 검출 광학계에 대해서 진퇴 이동시키는 것으로, 집광 광학계 및 검출 광학계를 공통화하고 있으므로, 복수의 광로를 설치하는 경우에 비해, 광원의 위치가 어긋나거나 집광렌즈의 흐림이 미치는 영향을 줄일 수 있다. 게다가, 집광 광학계를 1개만 준비하면 되고, 광원으로부터의 빛을 검출 광학계로 유도하는 구조가 비교적 단순하고, 싼 비용으로 제작할 수 있다.
레퍼런스 보정 부재 전체를 내부식성 재료로 형성하면, 내부식성 재료의 종류(예를 들면 사파이어)에 따라 아주 고가가 되어 버릴 우려가 있다. 이러한 경우에는, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 광학유리와 상기 광학유리의 광입사면 및 광사출면 각각에 대향해서 설치된 상기 내부식성 재료로 이루어지는 내부식성 판재와 상기 광학유리 및 상기 내부식성 판재의 사이를 봉하여 막는 시일부재를 갖는 것이 바람직하다.
레퍼런스 보정 부재의 구성부품의 부품 점수를 가급적으로 줄이면서도 부식성 가스에 대해 내부식성을 갖게 하기 위해서는, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 광학유리를 적어도 광입사면 및 광사출면에 내부식성 재료를 코팅하는 것으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
레퍼런스 보정 부재의 구성부품의 종류를 줄이는 동시에, 여러 가지의 측정 셀의 초점 위치에 대응 가능하게 하기 위해서는, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 복수 매의 내부식성 재료로 이루어지는 내부식성 판재를 스페이서를 통하여 겹쳐맞추는 것으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성한 본 발명에 의하면, 레퍼런스 보정 부재에 주는 부식성 가스의 영향을 저감하는 것에 의해서, 광학 분석 장치의 측정 오차를 저감하는 동시에, 레퍼런스 보정 부재의 교환에 따른 운전비용 증대를 방지할 수 있다.
도 1은　본 실시형태의 분광 분석 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 전체 개략도.
도 2는　상기 실시형태의 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재를 나타내는 사시도.
도 3은　상기 실시형태의 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재를 나타내는 단면도.
도 4는　상기 실시형태의 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재의 초점 위치를 나타내는 모식도.
도 5는　레퍼런스 보정 부재의 변형예를 나타내는 모식도.
도 6은　종래의 굴절률 보정 부재의 유무에 의한 집광렌즈의 초점 위치를 나타내는 모식도.
이하에, 본 발명에 관한 광학 분석 장치의 일례로서 분광 분석 장치에 적용했을 경우의 하나의 실시 형태에 대해 도면을 참조해서 설명한다.
본 실시형태에 관한 분광 분석 장치(100)는, 예를 들면 반도체 제조 장치에 설치된 불산 등의 약액을 공급하는 약액 배관에 개재해서 설치되고, 그 불산 등의 약액(시료액)의 농도 등을 흡광도 측정법을 이용하여 측정하는 것이다. 한편, 이렇게 해서 얻은 농도를 이용하여, 약액의 농도 등이 제어된다.
구체적으로, 이것은 도 1에 도시하는 바와 같이, 광원(2)과 이 광원(2)에서 나오는 빛을 집광하는 집광 광학계(3)와, 이 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛의 광로 L상에 설치되어, 그 빛을 검출하는 검출 광학계(4)와, 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4) 사이에서 광로 L상에 이동 가능한 측정 셀(5)과, 마찬가지로 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4) 사이에서 광로 L상에 이동 가능한 레퍼런스 보정 부재(6)와, 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)를 이동시키는 이동 기구(7)를 구비하고 있다. 한편, 이 분광 분석 장치(100)에는, 장치 전체를 제어하거나 후술한 다채널 검출기(45)로부터의 출력에 기초하여 농도계산 등을 실시하는 연산 제어부로서의 컴퓨터(도시하지 않음)가 설치되어 있다.
광원(2)은, 예를 들면 할로겐 램프 등으로 이루어지는 연속 스펙트럼 광원이다.
집광 광학계(3)는, 상기 광원(2)의 광사출 방향에 설치되고, 상기 광원(2)으로부터 사출된 빛을 집광시키는 것이며, 본 실시형태에서는 집광렌즈를 이용하여 구성되어 있다.
검출 광학계(4)는, 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛을 각 파장으로 분광하여, 그들 각 파장 성분마다 검출하는 것이다. 구체적으로 검출 광학계(4)는, 상기 집광 광학계(3)의 빛의 초점 위치 근방에 설치된 입사 슬릿(41)과, 상기 입사 슬릿 (41)으로부터 입사한 빛을 평행 광속으로 하는 오목면경으로 이루어지는 콜리메이트 렌즈(42)와, 이 콜리메이트 렌즈(42)로부터의 평행 광속을 받아 파장마다 분광하는 회절격자(43)와, 상기 회절격자(43)에 의해 분광된 각 파장의 빛을 집광하는 오목면경으로 이루어지는 카메라 렌즈(44)와, 상기 카메라 렌즈(44)에 의해 집광된 각 파장의 빛을 검출하는 다채널 검출기(45)를 구비하고 있다. 이 다채널 검출기 (45)에 의해 얻어진 광강도 신호에 기초하여 흡광도 스펙트럼 Abs(λi)를 얻을 수 있다.
측정 셀(5)은, 플로셀 타입이며, 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 내부에 약액을 수용하는 수용 공간(5S)이 형성되는 셀 본체(51)와, 상기 셀 본체(51)에 설치되어 상기 수용 공간(5S)에 약액을 도입하기 위한 액도입부(52)와, 상기 수용 공간(5S)으로부터 약액을 도출하기 위한 액도출부(53)를 구비하고 있다. 한편, 액도입부(52) 및 액도출부(53)에는, 불소 수지 배관(H)이 접속되어 있다.
셀 본체(51)는, 특히 도 3에 도시하는 바와 같이, 수용 오목부(511a)가 형성된 본체부(511)와, 상기 수용 오목부(511a) 내에 수용되는 한 쌍의 투광부재(512)와, 이 한 쌍의 투광부재(512)의 사이에 개재하는 스페이서(513)와, 상기 한 쌍의 투광부재(512) 및 스페이서(513)를 수용 오목부(511a) 내에 고정하기 위한 고정 부재(514)를 구비하고 있다. 이와 같이 구성된 셀 본체(51)에 있어서, 한 쌍의 투광부재(512) 및 스페이서(513) 등에 의해 수용 공간(5S)이 형성된다. 또한 수용 공간(5S)은 O링 등의 시일부재에 의해 액밀성(液密性)이 확보되어 있다.
한 쌍의 투광부재(512)는, 불산 등의 약액에 대해서 내부식성을 가지는 내부식성 재료로 형성되어 있다. 본 실시형태의 투광부재(512)는, 불산에 대해 내부식성을 가지는 동시에 자외 영역에 대해 고투광율을 나타내는 사파이어를 이용하여 형성된 사파이어 판재이다. 그리고, 측정 셀(5)이 후술의 측정 위치 P에 있는 경우에, 이 투광부재(512)가 상기 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛의 광로 L과 교차한다. 한편, 자외 영역에서의 분광 분석 이외의 용도에 있어서는, 불소수지 등의 내부식성 재료를 이용할 수도 있다.
이와 같이 구성된 측정 셀(5)은, 후술하는 이동 기구(7)에 의해, 상기 집광 광학계(3) 및 상기 검출 광학계(4) 사이에서의 광로 L상에 위치하는 측정 위치 P, 및 이 측정 위치 P로부터 퇴피한 퇴피 위치 Q 사이에서 이동 가능하다(도 4 참조).
레퍼런스 보정 부재(6)는, 레퍼런스 광 측정에 있어서, 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛의 초점 위치의 변화를 보정하는 것이다. 이 레퍼런스 보정 부재(6)는, 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 상기 측정 셀(5)로 일체로 설치되어 있고, 상기 셀 본체(51)의 본체부(511)에 설치된 제2의 수용 오목부(511b)에 수용되어 있다. 그리고 이 레퍼런스 보정 부재(6)는, 후술의 레퍼런스 위치 R에서 통과한 빛의 초점 위치가 상기 측정 위치 P에 있는 측정 셀(5)을 통과한 빛의 초점 위치와 대략 동일하게 되도록 구성되어 있다. 한편, 레퍼런스 보정 부재(6)의 자세한 것은 후술한다.
또한, 레퍼런스 보정 부재는, 후술하는 이동 기구(7)에 의해, 상기 집광 광학계(3) 및 상기 검출 광학계(4) 사이에서의 광로 L상에 위치하는 레퍼런스 위치 R, 및 이 레퍼런스 위치 R로부터 퇴피한 퇴피 위치 S와 사이로 이동 가능하다(도 4 참조).
이동 기구(7)는, 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)를 이동시키고, 선택적으로 측정 셀(5)을 측정 위치 P 또는 레퍼런스 보정 부재(6)를 레퍼런스 위치 R로 하는 것이다. 본 실시형태의 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)는 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛의 광로 L에 대해서 병렬적으로 일체로 되어 있고, 이동 기구(7)는, 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)를 광로 L에 대해 직교하는 방향으로 일체로 진퇴 이동시킨다. 한편, 이동 기구(7)의 구성으로서는, 도시하지 않지만, 예를 들면, 구동 모터와, 이 모터의 구동축의 회전운동을 직진 운동으로 변환하는 랙 앤드 피니언 기구를 구비한 것이다.
여기서, 측정 셀(5)의 측정 위치 P 및 퇴피 위치 Q와, 레퍼런스 보정 부재 (6)의 레퍼런스 위치 R 및 퇴피 위치 S와의 위치 관계에 대해 도 4를 참조해 설명한다. 측정 셀(5)의 측정 위치 P와 레퍼런스 보정 부재(6)의 레퍼런스 위치 R은 집광렌즈(3)에 대해 대략 같은 위치이다. 또한 측정 셀(5)이 측정 위치 P에 있는 경우, 레퍼런스 보정 부재(6)는 퇴피 위치 S에 있고(도 4의 상단 참조), 레퍼런스 보정 부재(6)가 레퍼런스 위치 R에 있는 경우, 측정 셀(5)은 퇴피 위치 Q에 있다(도 4의 하단 참조). 한편, 측정 셀(5)의 측정 위치 P는 샘플광측정을 하기 위한 위치이며, 레퍼런스 보정 부재의 레퍼런스 위치 R은 레퍼런스 광측정을 하기 위한 위치이다.
그리고 본 실시형태의 레퍼런스 보정 부재(6)는, 적어도 레퍼런스 위치 R에서 광로 L과 교차하는 외면 부분(6A)이, 부식성 가스인 불화수소 가스에 대해 내부식성을 가지는 내부식성 재료로 형성되어 있다.
구체적으로 레퍼런스 보정 부재(6)는, 특히 도 3에 도시하는 바와 같이, 광학유리(61)와, 상기 광학유리(61)의 광입사면(61a) 및 광사출면(61b) 각각에 대향해서 설치된 내부식성 재료로 이루어지는 내부식성 판재(62)와, 광학유리(61) 및 내부식성 판재(62)의 사이를 기밀하게 봉하여 막는 O링 등의 시일부재(63)를 가진다. 이들 구성요소(61∼63)는, 제2의 수용 오목부(511b)에 수용된 상태로 고정 부재(8)에 의해 고정된다. 본 실시형태의 내부식성 판재(62)는, 불산에 대해서 내부식성을 가지는 동시에 자외 영역에 대해서 고투광율을 나타내는 사파이어를 이용하여 형성된 사파이어 판재이다.
본 실시형태에서는, 광학유리(61)의 광입사면(61a) 및 광사출면(61b)의 대략 전체를 사파이어 판재(62)로 덮는 것에 의해, 레퍼런스 보정 부재(6)의 광입사면 및 광사출면 전체를 내부식성 재료에 의해 형성하고 있다. 이에 의해, 레퍼런스 보정 부재(6)의 외면 부분(6A)에 내부식성을 갖게 할 수 있는 동시에, 광학유리(61)가 불화수소 가스에 의해 부식되어 백탁하는 것을 방지할 수 있다. 한편, 사파이어 판재(62) 및 시일부재(63)는, 광학유리(61)에 있어서의 광로와 교차하는 부분을 둘러싸도록 광학유리(61)로 기밀하게 설치되어 있으면 된다. 즉, 레퍼런스 위치 R에서 광학유리(61)가 광로 L과 교차하는 외면 부분을 기밀적으로 덮도록 사파이어 판재(62) 및 시일부재(63)가 설치되어 있으면 된다.
이와 같이 구성한 레퍼런스 보정 부재(6)에 의해서 초점 위치를 보정하기 위해서는, 사파이어 판재(62)의 두께를 고려하면서, 광학유리(61)의 두께를 조정하는 것에 의해서 실시한다. 두께 수㎜의 사파이어 판재는 수요가 적고 일반적으로 고가이기 때문에, 수요가 많고 염가인, 두께가 얇은 사파이어 판재를 이용하는 것이 바람직하다. 여기서, 측정 셀(5)의 구성에 따라 다르지만, 예를 들면 1매의 사파이어 판재(62)의 두께를 0.5㎜로 했을 경우, 광학유리(61)의 두께는 예를 들면 6㎜∼15㎜ 정도이다. 즉 초점 위치의 보정에 있어서의 대부분을 광학유리(61)로 보정하는 것이 된다.
＜본 실시형태의 효과＞
이와 같이 구성한 본 실시형태에 관한 분광 분석 장치(100)에 의하면, 레퍼런스 측정에 있어서 레퍼런스 보정 부재(6)가 광로 L상에 설치되기 때문에, 측정 셀(5)의 유무에 의한 초점 위치의 변화를 보정하고, 측정 결과의 오차를 저감할 수 있다.
특히, 레퍼런스 위치 R에서 광로와 교차하는 외면 부분(6A)이, 사파이어 판재로 형성되어 있기 때문에, 레퍼런스 측정에 있어서 레퍼런스 보정 부재(6)가 불화수소 가스로부터 받는 영향을 저감할 수 있다. 이에 의해, 불화수소 가스의 존재에 관계없이, 레퍼런스 측정의 오차를 저감할 수 있고, 상기 레퍼런스 측정의 결과를 이용한 분광 분석 장치(100)의 측정 결과의 오차를 저감할 수 있다. 또한, 레퍼런스 광측정에 있어서의 레퍼런스 보정 부재(6)의 부식을 무시할 수 있으므로, 레퍼런스 보정 부재(6)의 교환을 반드시 실시할 필요가 없고, 레퍼런스 보정 부재(6)의 교환에 수반하는 종래의 여러 가지의 문제점을 해결할 수 있다.
또한, 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)를 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4)에 대해 진퇴 이동시키는 것으로, 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4)를 공통화하고 있으므로, 복수의 광로를 마련하는 경우에 비해, 광원(2)의 위치 차이나 집광렌즈(3)의 흐림이 미치는 영향을 줄일 수 있다. 게다가 집광 광학계(3)를 1개만 준비하면 된다거나, 광원(2)로부터의 빛을 검출 광학계(4)로 유도할 때까지의 구조가 비교적 간단한 것이, 저비용으로 제작하는 것이 가능하다.
＜기타 변형 실시형태＞
한편, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
예를 들면, 레퍼런스 보정 부재(6)로서는, 도 5(A)에 도시하는 바와 같이, 광학 렌즈(61)의 적어도 광입사면(61a) 및 광사출면(61b)에 내식성 재료에 의해 코팅해도 좋다. 한편, 도 5(A)는 광학유리(61)의 외면 전체를 코팅했을 경우를 나타내고 있다. 이것이라면, 레퍼런스 보정 부재의 구성부품의 부품 점수를 삭감할 수 있고, 조립 작업을 간단화할 수 있다.
또한, 레퍼런스 보정 부재(6)로서는, 광학유리 이외의 광학 소자를 이용하여도 되고, 또한, 도 5(B) 에 도시하는 바와 같이, 복수 매의 내부식성 재료로 되는 내부식성 판재(예를 들면 사파이어 판재)(62)를 스페이서(64)를 통하여 겹쳐맞춰서 구성해도 좋다. 이것이라면, 겹쳐맞춘 사파이어 판재의 매수를 조정하는 것에 의해서 여러 가지의 측정 셀의 초점 위치에 대응시킬 수 있다.
게다가 상기 실시형태에서는 자외 영역에서의 흡광도 스펙트럼을 얻기 위해서 내부식성 재료로서 사파이어를 이용한 것이었지만, 그 외, 자외 영역 이외의 용도로 이용하는 경우에는, 사파이어 이외에, 불소 수지를 이용해도 좋다.
더불어, 상기 실시형태에서는 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재를 일체로 설치하고 있지만, 그 외, 별도의 부재로서 구성하는 동시에, 이동 기구에 의해 선택적으로 측정 위치 또는 레퍼런스 위치에 이동시키도록 해도 좋다.
게다가, 불화수소 가스 이외에, 예를 들면 염소 가스 등의 부식성 가스에 대해서 내부식성을 가지도록 구성해도 좋다.
또한, 상기 실시형태에서는 흡광도 측정법을 이용한 분광 분석 장치에 대해 설명했지만, 그 외의 레퍼런스 광측정을 실시하는 광학 분석 장치에도 적용 가능하다.
그 외, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않고, 그 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지의 변형이 가능하다는 것은 말할 나위도 없다.
100 ... 분광 분석 장치(광학 분석 장치)
2 ... 광원
3 ... 집광렌즈(집광 광학계)
4 ... 검출 광학계
P ... 측정 위치
Q ... 퇴피 위치
5 ... 측정 셀
R ... 레퍼런스 위치
S ... 퇴피 위치
6 ... 레퍼런스 보정 부재
6A ... 광로와 교차하는 외면 부분
61 ... 광학유리
62 ... 사파이어 판재(내부식성 판재)
63 : 시일부재
7 : 이동 기구

Claims (4)

  1. 광원에서 나오는 빛을 집광하는 집광 광학계와,
    상기 집광 광학계에 의해 집광된 빛의 광로상에 설치되어, 그 빛을 검출하는 검출 광학계와,
    상기 집광 광학계 및 상기 검출 광학계 사이에서의 광로상에 위치하는 측정 위치, 및 이 측정 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하게 구성되어, 시료액이 통과하는 배관이 접속되는 측정 셀과,
    상기 집광 광학계 및 상기 검출 광학계 사이에서의 광로상에 위치하는 레퍼런스 위치, 및 이 레퍼런스 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하고, 상기 레퍼런스 위치에서 통과한 빛의 초점 위치가 상기 측정 위치에 있는 측정 셀을 통과한 빛의 초점 위치와 동일하게 되도록 구성된 레퍼런스 보정 부재와,
    상기 측정 셀 및 상기 레퍼런스 보정 부재를 이동시켜서, 선택적으로 상기 측정 셀을 상기 측정 위치 또는 상기 레퍼런스 보정 부재를 상기 레퍼런스 위치로 하는 이동 기구를 구비하고,
    상기 레퍼런스 보정 부재의 적어도 상기 레퍼런스 위치에서 광로와 교차하는 외면 부분이, 부식성 가스에 대해 내부식성을 가지는 내부식성 재료로 형성되어 있고,
    상기 레퍼런스 보정 부재가, 광학유리와, 상기 광학유리의 광입사면 및 광사출면 각각에 대향하여 설치된 상기 내부식성 재료로 이루어지는 내부식성 판재와, 상기 광학유리 및 상기 내부식성 판재의 사이를 봉하여 막는 시일부재를 가지는 광학 분석 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 광학유리를 적어도 광입사면 및 광사출면에 상기 내부식성 재료를 코팅하는 것에 의해서 구성되어 있는 광학 분석 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 상기 내부식성 재료로 이루어지는 복수 매의 내부식성 판재를 스페이서를 통하여 겹쳐맞춤으로써 구성되어 있는 광학 분석 장치.
  4. 삭제
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