JP2002071926A - ガラス基板上の格子パターン形成方法 - Google Patents

ガラス基板上の格子パターン形成方法

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JP2002071926A
JP2002071926A JP2000312623A JP2000312623A JP2002071926A JP 2002071926 A JP2002071926 A JP 2002071926A JP 2000312623 A JP2000312623 A JP 2000312623A JP 2000312623 A JP2000312623 A JP 2000312623A JP 2002071926 A JP2002071926 A JP 2002071926A
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glass substrate
solution
forming
stabilizing
lattice pattern
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JP2000312623A
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Byung-Sun Park
パーク ビュン−スン
Kwang-Ho Kwon
クウォン クワン−ホー
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Havit Co Ltd
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Havit Co Ltd
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】ガラス基板の表面を安定化させることによっ
て、表面が変形されたり接着剤の成分が表面に付着さ
れ、光部品の製作の際に不良率が大きく増加することを
防止する。 【解決手段】ガラス基板上の格子パターン形成方法は次
のようである。まず、ガラス基板上にリソグラフィー技
術を用いて感光膜パターンを形成する。その後、HF溶液
を用いてガラス基板を湿式エッチングして格子パターン
を形成する。それから、感光膜除去溶液を用いて感光膜
パターンを除去する。最後に、エッチングされたガラス
基板の表面を安定化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板上の格
子パターン形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、透明なガラス基板上に形成さ
れた格子パターンは光ピックアップ等に用いられる回折
格子等に広く用いられている。回折格子はガラス基板上
に一定間隔を持つ凸凹で構成されている。かかる回折格
子はレーザービームを一定した光量比に分ける機能を行
う光部品である。従来の格子パターン形成技術はガラス
基板上に酸化膜あるいはSOG（Spin On Glass）薄膜等の
透明薄膜をガラス基板上に形成し、これら膜を用いて格
子パターンを形成する。ガラス基板上に格子パターンを
形成するために一般的に適用される工程は次のようであ
る。
【０００３】図1Aは、従来技術において格子パターンを
形成するためのガラス基板を示す断面図であり、図1B
は、従来技術において薄膜が形成されたガラス基板を示
す断面図である。図1Aのガラス基板11上に透明薄膜をス
パッタリングあるいはSOGコーティングにより薄膜12を
形成すれば図1Bのようになる。図1Cは、従来技術におい
て感光膜パターンを形成する工程を示す断面図であり、
図1Dは、従来技術において格子パターンを形成する工程
を示す断面図である。図1Cのように、リソグラフィー技
術を用いて薄膜12上に感光膜パターン13を形成する。か
かる感光膜パターン13が形成された試料をHF等の溶液に
浸して格子パターンを形成すれば図1Dのようになる。図
1Eは、従来技術において感光膜パターンを除去する工程
を示す断面図である。図1Eのように、感光膜除去溶液に
浸して感光膜パターン13を除去して格子パターンを完成
する。
【０００４】かかる工程は、薄膜形成のために特定薄膜
形成装備および薄膜形成のための材料が要求され、薄膜
の形成時に薄膜の厚さ形成の均一度等により完成された
格子の歩留まりが低下される短所がある。かかる薄膜の
付着は薄膜とガラス基板の接着力の悪い場合、ガラス基
板から薄膜が取れることもある短所がある。また、蒸着
およびコーティングにより形成された薄膜の表面はガラ
ス基板の表面より滑らかではない。従って、かかる薄膜
表面の粗い程度によって回折格子の光特性が悪化される
こともある問題点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述のような問題点を
解決するための本発明は、感光膜を用いてガラス基板を
エッチングし、ガラス基板の表面を安定化させることに
よって、表面が変形されたり接着剤の成分がガラス基板
の表面に付着され、光部品の製作の際に不良率が大きく
増加することを防止するのに目的がある。
【０００６】なお、上述のような問題点を解決するため
の本発明は、酸溶液、酸溶液の混合溶液、H2O2およびア
ルコールの中一つの溶液あるいは二つ以上の混合溶液を
用いてガラス基板の表面を安定化することによって、接
着剤の使用によるガラス基板の表面の変形を最小化する
ことを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に従う第1側面に
おけるガラス基板上の格子パターン形成方法は、ガラス
基板上にリソグラフィー技術を用いて感光膜パターンを
形成する第1段階と、HF溶液を用いて前記ガラス基板を
湿式エッチングして格子パターンを形成する第2段階
と、感光膜除去溶液を用いて前記感光膜パターンを除去
する第3段階と、前記ガラス基板の表面を安定化させる
第4段階とを含む。
【０００８】本発明に従う第2側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階は、前記ガラ
ス基板を所定の温度の安定化溶液に所定の時間の間浸す
第1過程と、前記ガラス基板をDLwaterにすすぐ第2過程
と、前記ガラス基板をN2 gunで乾かす第3過程とを含
む。
【０００９】本発明に従う第3側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階は、前記ガラ
ス基板を安定化ガス雰囲気で所定の温度に熱処理する第
4過程をさらに含める。
【００１０】本発明に従う第4側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階は、前記ガラ
ス基板上に薄い透明薄膜を形成する第5過程をさらに含
める。
【００１１】本発明に従う第5側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階は、前記ガラ
ス基板上に薄い透明薄膜を形成する第4過程をさらに含
める。
【００１２】本発明に従う第６側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階は、前記ガラ
ス基板を安定化ガス雰囲気で所定の温度に熱処理する第
1過程を含む。
【００１３】本発明に従う第7側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階は、前記ガラ
ス基板上に薄い透明薄膜を形成する第2過程をさらに含
める。
【００１４】本発明に従う第8側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階は、前記ガラ
ス基板上に薄い透明薄膜を形成する第1過程を含む。
【００１５】本発明に従う第9側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第１過程で、前記安定
化溶液は、酸溶液、酸溶液の混合溶液、H2O2およびアル
コールの中一つの溶液あるいは二つ以上の混合溶液であ
り、前記安定化溶液の温度は25℃〜600℃である。
【００１６】本発明に従う第10側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階で、前記安定
化ガス雰囲気の安定化ガスは、N2、O2およびArの中一つ
のガスあるいは二つ以上の混合ガスであり、前記安定化
ガス雰囲気の温度は25℃〜600℃である。
【００１７】本発明に従う第11側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第1過程で、前記安定
化溶液は、酸溶液、酸溶液の混合溶液、H2O2およびアル
コールの中一つの溶液あるいは二つ以上の混合溶液であ
り、前記安定化溶液の温度は25℃〜600℃であり、かつ
前記第4段階の前記安定化ガス雰囲気の安定化ガスは、N
2、O2およびArの中一つのガスあるいは二つ以上の混合
ガスであり、前記安定化ガス雰囲気の温度は25℃〜600
℃である。
【００１８】本発明に従う第12側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法は、ガラス基板上にリソグラ
フィー技術を用いて感光膜パターンを形成する第１段階
と、安定化HF溶液を用いて前記ガラス基板を湿式エッチ
ングし、格子パターンを形成しつつ前記ガラス基板の表
面を安定化させる第2段階と、感光膜除去溶液を用いて
前記感光膜パターンを除去する第3段階とを含む。
【００１９】本発明に従う第13側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法は、前記ガラス基板を安定化
ガス雰囲気で所定の温度に熱処理する第4段階をさらに
含める。
【００２０】本発明に従う第14側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法は、前記ガラス基板上に薄い
透明薄膜を形成する第4段階をさらに含める。
【００２１】本発明に従う第15側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法は、前記ガラス基板上に薄い
透明薄膜を形成する第5段階をさらに含める。
【００２２】本発明に従う第16側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第2段階で、前記安定
化HF溶液はHF溶液に安定化溶液を混合した溶液であり、
前記安定化溶液は、酸溶液、酸溶液の混合溶液、H2O2お
よびアルコールの中一つの溶液あるいは二つ以上の混合
溶液であり、前記安定化溶液の温度は25℃〜600℃であ
る。
【００２３】本発明に従う第17側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の前記第4段階で、前記安定
化ガス雰囲気のガスは、N2、O2およびArの中一つのガス
あるいは二つ以上の混合ガスであり、前記安定化ガス雰
囲気の温度は25℃〜600℃である。
【００２４】本発明に従う第18側面におけるガラス基板
上の格子パターン形成方法の第2段階で、前記安定化HF
溶液はHF溶液に安定化溶液を混合した溶液であり、前記
安定化溶液は、酸溶液、酸溶液の混合溶液、H2O2および
アルコールの中一つの溶液あるいは二つ以上の混合溶液
であり、前記安定化溶液の温度は25℃〜600℃であり、
かつ前記第4段階の前記安定化ガス雰囲気のガスは、
N2、O2およびArの中一つのガスあるいは二つ以上の混合
ガスであり、前記安定化ガス雰囲気の温度は25℃〜600
℃である。
【００２５】
【発明の実施の形態】次に、図を用いて本発明の実施の
形態について詳細に説明する。
【００２６】(実施の形態1)図2Aは、本発明における格
子パターンを形成するためのガラス基板を示す断面図で
あり、図2Bは、本願発明における感光膜パターンが形成
されたガラス基板を示す断面図である。図2Aのガラス基
板21上に薄膜を形成することなく、リソグラフィー技術
を用いてガラス基板上に直接感光膜パターン23を形成す
れば、図2Bのようになる。図2Cは、本発明における格子
パターンを形成する工程を示す断面図であり、図2Dは、
本発明における感光膜パターンを除去する工程を示す断
面図である。図2Bのような状態でHF溶液を用いてガラス
基板21を湿式エッチングすれば、図2Cのような格子パタ
ーンが形成される。その後、感光膜除去溶液を用いて感
光膜パターン23を除去して図2Dのような格子パターンを
完成する。かかる工程により製作された格子パターンを
光部品に付着するために接着剤を用いる場合、光特性が
変化され格子パターンの性能が悪化される。従って、か
かる現象を抑制するために、図2Eに示すように、酸溶
液、酸溶液の混合溶液、H2O2およびアルコールの中一つ
の溶液あるいは二つ以上の混合溶液（以下、総称して安
定化溶液と略称する）を用いてガラス基板を安定化させ
る。図2Eは、本発明における安定化溶液を用いてガラス
基板を安定化させる工程を示す断面図である。エッチン
グされたガラス基板21を一定温度25℃〜600℃の安定化
溶液に一定時間の間浸す。安定化溶液を用いてエッチン
グ表面を安定化させる後、DLwaterにすすいで、N2 gun
で乾かす。(図では省略) （実施の形態2）図2Aから図2Dまでの工程は、前記実施
の形態1と同一である。図2Dまでの工程にては前記実施
の形態1と同様に、かかる工程により製作された格子パ
ターンを光部品に付着するために接着剤を用いれば、光
特性が変化され格子パターンの性能が悪化される。図2F
は、本発明における気体を用いてガラス基板を安定化さ
せる工程を示す断面図である。ガラス基板の表面を安定
化させるために、図2Fに示すように、エッチングされた
ガラス基板21を、N2、O2およびArの中一つのガスあるい
は二つ以上の混合ガス雰囲気（以下、安定化ガス雰囲気
と略称する）で25℃〜600℃の温度に熱処理して表面を
安定化させる。
【００２７】（実施の形態3）図2Aから図2Dまでの工程
は前記実施の形態1と同一である。図2Dまでの工程にて
は前記実施の形態1と同様に、かかる工程により製作さ
れた格子パターンを光部品に付着するために接着剤を用
いれば、光特性が変化され格子パターンの性能が悪化さ
れる。図2Gは、本発明における透明薄膜を形成する工程
を示す断面図である。前記実施の形態1における図2Dの
ような格子パターンを完成した状態において、エッチン
グされたガラス基板の表面で接着剤が反応することを防
ぐために、図2Gのような薄い透明薄膜を形成することで
ある。そうすれば、接着剤の付着の時、その透明薄膜に
よってガラス基板の表面と接着剤とが隔離される。
【００２８】（実施の形態4）実施の形態4は、前記実施
の形態１と前記実施の形態2との工程を結合したことで
ある。すなわち、前記実施の形態1の安定化処理を行う
後、前記実施の形態2の安定化処理を再び行うことであ
る。言い替えれば、図2Aから図2Dまでの工程は前記実施
の形態1と同一である。図2Dまで工程にては前記実施の
形態1と同様に、かかる工程により製作された格子パタ
ーンを光部品に付着するために接着剤を用いれば、光特
性が変化され格子パターンの性能が悪化される。従っ
て、かかる現象を抑制するために、図2Eのように、エッ
チングされたガラス基板21を一定温度25℃〜600℃の安
定化溶液に一定時間の間浸す。安定化溶液を用いてエッ
チング表面を安定化させた後、DL waterにすすいで、N
2 gunで乾かす(図では省略)。その後、図2Fのように、
エッチングされたガラス基板21を安定化ガス雰囲気で25
℃〜600℃の温度に熱処理して再度表面を安定化させ
る。
【００２９】（実施の形態5）実施の形態5は、前記実施
の形態1と前記実施の形態3との工程を結合したことであ
る。すなわち、前記実施の形態1の安定化処理を1次に行
う後、前記実施の形態3の安定化処理を再び2次に行うこ
とである。言い替えれば、図2Aから図2Dまでの工程は、
前記実施の形態1と同一である。図2Dまでの工程にては
前記実施の形態1と同様に、かかる工程によって製作さ
れた格子パターンを光部品に付着するために接着剤を用
いれば、光特性が変化され格子パターンの性能が悪化さ
れる。従って、かかる現象を抑制するために、図2Eのよ
うに、エッチングされたガラス基板21を一定温度25℃〜
600℃の安定化溶液に一定時間の間浸す。安定化溶液を
用いてガラス基板の表面を安定化させた後、DLwaterに
すすいで、N2 gunで乾かす(図で省略)。その後、安定化
したガラス基板の表面で接着剤が反応することを防ぐた
めに、図2Gのような薄い透明膜を形成することである。
そうすれば、接着剤の付着の時、その透明薄膜によって
ガラス基板の表面と接着剤とが隔離される。
【００３０】（実施の形態6）実施の形態6は、前記実施
の形態2と前記実施の形態3との工程を結合したことであ
る。すなわち、前記実施の形態2の安定化処理をまず行
う後、前記実施の形態3の安定化処理を再び行うことで
ある。言い替えれば、図2Aから図2Dまでの工程は、前記
実施の形態1と同一である。図2Dまでの工程にては前記
実施の形態1と同様に、かかる工程により製作された格
子パターンを光部品に付着するために接着剤を用いれ
ば、光特性が変化され格子パターンの性能が悪化され
る。従って、かかる現象を抑制するために、図2Fに示す
ように、エッチングされたガラス基板21を安定化ガス雰
囲気で25℃〜600℃の温度に熱処理して表面を安定化さ
せる。その後、安定化したガラス基板の表面で接着剤が
反応することを防ぐために図2Gのような薄い透明薄膜を
形成することである。そうすれば、接着剤の付着の時、
その透明薄膜によってガラス基板の表面と接着剤とが隔
離される。
【００３１】（実施の形態7）実施の形態7は、前記実施
の形態1と前記実施の形態2と前記実施の形態3との工程
を結合したことである。すなわち、前記実施の形態1の
安定化処理を1次に行う後、前記実施の形態２の安定化
処理を再び2次に行い、前記実施の形態3の安定化処理を
またもや3次に行うことである。言い替えれば、図2Aか
ら図2Dまでの工程は前記実施の形態1と同一である。図2
Dまでの工程にては前記実施の形態1と同様に、かかる工
程により製作された格子パターンを光部品に付着するた
めに接着剤を用いれば、光特性が変化され格子パターン
の性能が悪化される。従って、かかる現象を抑制するた
めに、図2Eのように、エッチングされたガラス基板21を
一定温度25℃〜600℃の安定化溶液に一定時間の間浸
す。安定化溶液を用いてエッチング表面を安定化させた
後、DLwaterにすすいで、N2 gunで乾かす(図で省略)。
その後、図2Fのように、エッチングされたガラス基板21
を安定化ガス雰囲気で25℃〜600℃の温度に熱処理して
再度表面を安定化させる。最後に、安定化したガラス基
板の方面で接着剤が反応することを防ぐために図2Gのよ
うな薄い透明薄膜を形成することである。そうすれば、
接着剤の付着の時、その透明薄膜によってガラス基板の
表面と接着剤とが隔離される。
【００３２】（実施の形態8）図3Aは、本発明における
格子パターンを形成するためのガラス基板を示す断面図
であり、図3Bは、本発明における感光膜パターンが形成
されたガラス基板を示す断面図である。図3Aのガラス基
板31上に薄膜を形成することなく、リソグラフィー技術
を用いてガラス基板上に直接感光膜パターン33を形成す
れば、図3Bのようになる。ここまでは、前記実施の形態
1と同様である。図3Cは、本発明における安定化HF溶液
を用いて格子パターンを形成すると同時に、ガラス基板
を安定化させる工程を示す断面図であり、図3Dは、本発
明における感光膜パターンを除去する工程を示す断面図
である。図3Bのような状態でHF溶液のみを用いることで
はなく、HF溶液に安定化溶液を混合した溶液(以下、安
定化HF溶液と略称する)を用いて、一定温度25℃〜600℃
で一定時間の間ガラス基板31を湿式エッチングしつつエ
ッチング表面を安定化させれば、図3Cのような格子パタ
ーンが形成される。その後、感光膜除去溶液を用いて感
光膜パターン33を除去して図3Dのような格子パターンを
完成する。
【００３３】すなわち、前記実施の形態8は、前記実施
の形態1における図2Cの工程で図2Eの安定化工程を一緒
に行うことである。言い替えれば、図3Aから図3Bまでの
工程は前記実施の形態1の図2Aから図2Bまでの工程と同
一である。但し、実施の形態1と異なるのは、図3Cの工
程でHF溶液の代わりに安定化HF溶液を用いることによっ
て、格子パターンの形成とエッチング表面の安定化を同
時になすということである。
【００３４】（実施の形態9）実施の形態9は、前記実施
の形態8と前記実施の形態2との工程を結合したことであ
る。図3Aから図3Dまでの工程は前記実施の形態8と同一
である。すなわち、前記実施の形態8の過程を終える
後、前記実施の形態2の安定化処理を再び行うことであ
る。言い替えれば、図3Dの工程の後、図3Eに示すよう
に、ガラス基板31を安定化ガス雰囲気で25℃〜600℃の
温度に熱処理して表面を再度安定化させる。これによっ
て、ガラス基板をさらに徹底に安定化させることであ
る。図3Eは、本発明における気体を用いてガラス基板を
安定化させる工程を示す断面図である。
【００３５】（実施の形態10）実施の形態10は、実施の
形態8と前記実施の形態3との工程を結合したことであ
る。図3Aから図3Dまでの工程は前記実施の形態8と同一
である。すなわち、実施の形態8の過程を終える後、前
記実施の形態3の安定化処理を再び行うことである。言
い替えれば、図3Dの工程の後に、図3Fに示すように薄い
透明薄膜を形成することである。これによって、ガラス
基板をさらに徹底に安定化させることである。そうすれ
ば、接着剤の付着の時、その透明薄膜によってガラス基
板の表面と接着剤とが隔離される。図3Fは、本発明にお
ける透明薄膜を形成する工程を示す断面図である。
【００３６】（実施の形態11）実施に形態11は、前記実
施の形態8と前記実施の形態2と前記実施の形態3との工
程を結合したことである。図3Aから図3Dまでの工程は前
記実施の形態8と同一である。すなわち、前記実施の形
態8の過程を終える後、前記実施の形態2の安定化処理を
2次に行い、前記実施の形態3の安定化処理を3次に行う
ことである。言い換えれば、図3Dの工程の後、図3Eに示
すように、ガラス基板31とガス雰囲気で25℃〜600℃の
温度に熱処理して表面を再度安定化させる。その後、図
3Fに示すように薄い透明薄膜を形成することである。こ
れによって、ガラス基板をさらに徹底に安定化させるこ
とである。そうすれば、接着剤の付着の時、その透明薄
膜によってガラス基板の表面と接着剤とが隔離される。
【００３７】
【発明の効果】本発明は、上述のようなガラスエッチン
グの後処理工程を介して光部品の製作の際、接着剤によ
る光特性の変化に従う格子パターンの性能悪化を抑制す
ることができる。また、本発明は、ガラス基板上に格子
パターンの形成に必要な薄膜の形成工程が必要なく、そ
の結果、薄膜形成に要求される薄膜形成装備および薄膜
材料を用いる必要がないので、歩留まりを大きく低くす
ることができる。さらに、薄膜形成による工程が除去さ
れ工程時間および工程段階が改善される利点があり、形
成された薄膜によって発生する格子の性能悪化を根本的
に排除することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】A． 従来技術における格子パターンを形成する
ためのガラス基板を示す断面図。 B．従来技術における薄膜が形成されたガラス基板を示
す断面図。 C．従来技術における感光膜パターンを形成する工程を
示す断面図。 D．従来技術における格子パターンを形成する工程を示
す断面図。 E．従来技術における感光膜パターンを除去する工程を
示す断面図。
【図2】A．本発明における格子パターンを形成するため
のガラス基板を示す 断面図。 B．本発明における感光膜パターンが形成されたガラス
基板を示す断面図。 C．本発明における格子パターンを形成する工程を示す
断面図。 D．本発明における感光膜パターンを除去する工程を示
す断面図。 E．本発明における安定化溶液を用いてガラス基板を安
定化させる工程を示す断面図。 F．本発明における気体を用いてガラス基板を安定化さ
せる工程を示す断面図。 G．本発明における透明薄膜を形成する工程を示す断面
図。
【図3】A．本発明における格子パターンを形成するため
のガラス基板を示す断面図。 B．本発明における感光膜パターンが形成されたガラス
基板を示す断面図。 C．本発明における安定化HF溶液を用いて格子パターン
を形成すると共にガラス基板を安定化させる工程を示す
断面図。 D．本発明における感光膜パターンを除去する工程を示
す断面図。 E．本発明における気体を用いてガラス基板を安定化さ
せる工程を示す断面図。 F．本発明における透明薄膜を形成する工程を示す断面
図。
【符号の説明】
11，21，31 ガラス基板、 12，22，32 透明基板 13，23，33 感光膜パターン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クワン−ホー クウォン 大韓民国、ダエジェオン、セオ−ク、クァ ンジェオ−ドン 990、ダエジェイエオン アパートメント 103−210 Ｆターム(参考） 2H049 AA33 AA37 AA48 AA57 AA70 2H096 AA00 AA28 CA20 HA17 HA18 HA30 JA04 LA02

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラス基板上にリソグラフィー技術を用
    いて感光膜パターンを形成する第1段階と、 HF溶液を用いて前記ガラス基板を湿式エッチングして格
    子パターンを形成する第2段階と、 感光膜除去溶液を用いて前記感光膜パターンを除去する
    第3段階と、前記ガラス基板の表面を安定化させる第4段
    階と、を含むことを特徴とするガラス基板上の格子パタ
    ーン形成方法。
  2. 【請求項2】 前記第4段階は、 前記ガラス基板を所定の温度の安定化溶液に所定の時間
    の間浸す第1過程と、 前記ガラス基板をDL waterにすすぐ第2過程と、 前記ガラス基板をN2gunで乾かす第3過程と、を含むこと
    を特徴とする請求項1に記載のガラス基板上の格子パタ
    ーン形成方法。
  3. 【請求項3】 前記第4段階は、 前記ガラス基板を安定化ガス雰囲気で所定の温度に熱処
    理する第1過程を含むことを特徴とする請求項1に記載の
    ガラス基板上の格子パターン形成方法。
  4. 【請求項4】 前記第4段階は、 前記ガラス基板上に薄い透明薄膜を形成する第1過程を
    含むことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板上の
    格子パターン形成方法。
  5. 【請求項5】 前記第4段階は、 前記ガラス基板を安定化ガス雰囲気で所定の温度に熱処
    理する第4過程をさらに含むことを特徴とする請求項2に
    記載のガラス基板上の格子パターン形成方法。
  6. 【請求項6】 前記第4段階は、 前記ガラス基板上に薄い透明薄膜を形成する第4過程を
    さらに含むことを特徴とする請求項2に記載のガラス基
    板上の格子パターン形成方法。
  7. 【請求項7】 前記第4段階は、 前記ガラス基板上に薄い透明薄膜を形成する第2過程を
    さらに含むことを特徴とする請求項3に記載のガラス基
    板上の格子パターン形成方法。
  8. 【請求項8】 前記第4段階は、 前記ガラス基板上に薄い透明薄膜を形成する第5過程を
    さらに含むことを特徴とする請求項５に記載のガラス基
    板上の格子パターン形成方法。
  9. 【請求項9】 前記第1過程の前記安定化溶液は、酸溶
    液、酸溶液の混合溶液、H 2O2およびアルコールの中一つ
    の溶液あるいは二つ以上の混合溶液であり、前記安定化
    溶液の温度は、25℃〜600℃であることを特徴とする請
    求項2、5、6、8のいずれか1項に記載のガラス基板上の
    格子パターン形成方法。
  10. 【請求項10】 前記第４段階の前記安定化ガス雰囲気の
    安定化ガスは、N2、O2およびArの中一つのガスあるいは
    二つ以上の混合ガスであり、前記安定化ガス雰囲気の温
    度は、25℃〜600℃であることを特徴とする請求項3、
    5、7、8のいずれか１項に記載のガラス基板上の格子パ
    ターン形成方法。
  11. 【請求項11】 前記第１過程の前記安定化溶液は、酸溶
    液、酸溶液の混合溶液、H2O2およびアルコールの中一つ
    の溶液あるいは二つ以上の混合溶液であり、前記安定化
    溶液の温度は25℃〜600℃であり、 前記第4段階の前記安定化ガス雰囲気の安定化ガスは、N
    2、O2およびArの中一つのガスあるいは二つ以上の混合
    ガスであり、前記安定化ガス雰囲気の温度は、25℃〜60
    0℃であることを特徴とする請求項5または8に記載のガ
    ラス基板上の格子パターン形成方法。
  12. 【請求項12】 ガラス基板上にリソグラフィー技術を用
    いて感光膜パターンを形成する第1段階と、 安定化HF溶液を用いて前記ガラス基板を湿式エッチング
    し、格子パターンを形成しつつ前記ガラス基板の表面を
    安定化させる第2段階と、 感光膜除去溶液を用いて前記感光膜パターンを除去する
    第3段階と、を含むことを特徴とするガラス基板の格子
    パターン形成方法。
  13. 【請求項13】 前記ガラス基板を安定化ガス雰囲気で所
    定の温度に熱処理する第4段階をさらに含むことを特徴
    とする請求項12に記載のガラス基板上の格子パターン形
    成方法。
  14. 【請求項14】 前記ガラス基板上に薄い透明薄膜を形成
    する第4段階をさらに含むことを特徴とする請求項12に
    記載のガラス基板上の格子パターン形成方法。
  15. 【請求項15】 前記ガラス基板上に薄い透明薄膜を形成
    する第5段階をさらに含むことを特徴とする請求項13に
    記載のガラス基板上の格子パターン形成方法。
  16. 【請求項16】 前記第2段階の前記安定化HF溶液はHF溶
    液に安定化溶液を混合した溶液であり、前記安定化溶液
    は、酸溶液、酸溶液の混合溶液、H2O2およびアルコール
    の中一つの溶液あるいは二つ以上の混合溶液であり、前
    記安定化HF溶液の温度は、25℃〜600℃であることを特
    徴とする請求項12、13、14、15のいずれか１項に記載の
    ガラス基板上の格子パターン形成方法。
  17. 【請求項17】 前記第4段階の前記安定化ガス雰囲気の
    安定化ガスは、N2、O2およびArの中一つのガスあるいは
    二つ以上の混合ガスであり、前記安定化ガス雰囲気の温
    度は、25℃〜600℃であることを特徴とする請求項13ま
    たは15に記載のガラス基板上の格子パターン形成方法。
  18. 【請求項18】 前記第2段階の前記安定化HF溶液はHF溶
    液に安定化溶液を混合した溶液であり、前記安定化溶液
    は、酸溶液、酸溶液の混合溶液、H2O2およびアルコール
    の中一つの溶液あるいは二つ以上の混合溶液であり、前
    記安定化HF溶液の温度は25℃〜600℃であり、 前記第4段階の前記安定化ガス雰囲気のガスは、N2、O2
    およびArの中一つのガスあるいは二つ以上の混合ガスで
    あり、前記安定化ガス雰囲気の温度は、25℃〜600℃で
    あることを特徴とする請求項13または15に記載のガラス
    基板上の格子パターン形成方法。
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