KR20020022119A - 유리기판상의 격자패턴 형성방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유리기판 상의 격자패턴 형성방법에 관한 것이다. 본 발명은 유리기판의 표면을 안정화함으로써, 표면이 변형되거나 접착제 성분이 표면에 부착되어 광학부품의 제작시 불량률이 크게 증가하는 것을 방지하는 데에 그 목적이 있다. 본 발명에 의한 유리기판상의 격자패턴 형성방법은 다음과 같다. 우선, 유리기판 위에 리소그래피 기술을 이용하여 감광막 패턴을 형성한다. 그 후, HF 용액을 이용하여 유리기판을 습식에칭하여 격자패턴을 형성한다. 그 다음, 감광막 제거용액을 이용하여 감광막 패턴을 제거한다. 마지막으로, 유리기판의 표면을 안정화시킨다.

Description

유리기판상의 격자패턴 형성방법{Method for grating-pattern formation on glass substrate}
본 발명은 유리기판 상의 격자패턴 형성방법에 관한 것이다.
일반적으로, 투명한 유리기판 위에 형성된 격자패턴은 광 픽업 등에 사용되는 회절격자 등에 널리 이용되고 있다. 회절격자는 유리기판 위에 일정 간격을 가진 요철로 구성되어 있다. 이러한 회절격자는 레이저빔을 일정한 광량비로 나누는 기능을 수행하는 광학부품이다. 종래의 격자패턴 형성기술은 유리기판 위에 산화막혹은 SOG(Spin On Glass) 박막 등의 투명박막을 유리기판 위에 형성하고, 이들 막을 이용하여 격자패턴을 형성한다. 유리기판 위에 격자패턴을 형성하기 위하여 일반적으로 적용되는 공정은 다음과 같다.
도 1a는 종래기술에서 격자패턴을 형성하기 위한 유리기판을 나타낸 단면도이고, 도 1b는 종래기술에서 박막이 형성된 유리기판을 나타낸 단면도이다. 도 1a의 유리기판(11) 위에 투명박막을 스퍼터링 혹은 SOG 코팅에 의해 박막(12)을 형성하면 도 1b와 같이 된다. 도 1c는 종래기술에서 감광막 패턴을 형성하는 공정을 나타낸 단면도이고, 도 1d는 종래기술에서 격자패턴을 형성하는 공정을 나타낸 단면도이다. 도 1c와 같이, 리소그래피 기술을 이용하여 박막(12) 위에 감광막 패턴(13)을 형성한다. 이러한 감광막 패턴(13)이 형성된 시료를 HF 등이 용액에 담가 격자패턴을 형성하면 도 1d와 같이 된다. 도 1e는 종래기술에서 감광막 패턴을 제거하는 공정을 나타낸 단면도이다. 도 1e와 같이, 감광막 제거용액에 담가 감광막 패턴(13)을 제거하여 격자패턴을 완성한다.
이러한 공정은 박막형성을 위하여 특정박막 형성 장비 및 박막의 형성을 위한 재료가 요구되고, 박막의 형성시 박막 두께의 균일도 등에 의해 완성된 격자의 생산성이 저하되는 단점도 있다. 이러한 박막의 부착은 박막과 유리기판의 접착력이 나쁜 경우, 유리기판에서 박막이 떨어지기도 하는 단점이 있다. 또한, 증착 및 코팅에 의해 형성된 박막의 표면은 유리기판의 표면보다 매끄럽지 못하다. 따라서, 이러한 박막 표면의 거칠기에 의해 회절격자의 광학특성이 악화되기도 하는 문제점이 있다.
상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 감광막을 이용하여 유리 기판을 에칭하고, 유리기판의 표면을 안정화함으로써, 표면이 변형되거나 접착제 성분이 유리기판의 표면에 부착되어 광학부품의 제작시 불량률이 크게 증가하는 것을 방지하는 데에 그 목적이 있다.
상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액을 이용하여 유리기판의 표면을 안정화으로써, 접착제 사용에 따른 유리기판의 표면의 변형을 최소화하는 데에 그 목적이 있다.
도 1a는 종래기술에서 격자패턴을 형성하기 위한 유리기판을 나타낸 단면도.
도 1b는 종래기술에서 박막이 형성된 유리기판을 나타낸 단면도.
도 1c는 종래기술에서 감광막 패턴을 형성하는 공정을 나타낸 단면도.
도 1d는 종래기술에서 격자패턴을 형성하는 공정을 나타낸 단면도.
도 1e는 종래기술에서 감광막 패턴을 제거하는 공정을 나타낸 단면도.
도 2a는 본 발명에서 격자패턴을 형성하기 위한 유리기판을 나타낸 단면도.
도 2b는 본 발명에서 감광막 패턴이 형성된 유리기판을 나타낸 단면도.
도 2c는 본 발명에서 격자패턴을 형성하는 공정을 나타낸 단면도.
도 2d는 본 발명에서 감광막 패턴을 제거하는 공정을 나타낸 단면도.
도 2e는 본 발명에서 안정화용액을 이용하여 유리기판을 안정화시키는 공정을 나타낸 단면도.
도 2f는 본 발명에서 기체를 이용하여 유리기판을 안정화시키는 공정을 나타낸 단면도.
도 2g는 본 발명에서 투명박막을 형성하는 공정을 나타낸 단면도.
도 3a는 본 발명에서 격자패턴을 형성하기 위한 유리기판을 나타낸 단면도.
도 3b는 본 발명에서 감광막 패턴이 형성된 유리기판을 나타낸 단면도.
도 3c는 본 발명에서 안정화 HF 용액을 이용하여 격자패턴을 형성함과 동시에 유리기판을 안정화시키는 공정을 나타낸 단면도.
도 3d는 본 발명에서 감광막 패턴을 제거하는 공정을 나타낸 단면도.
도 3e는 본 발명에서 기체를 이용하여 유리기판을 안정화시키는 공정을 나타낸 단면도.
도 3f는 본 발명에서 투명박막을 형성하는 공정을 나타낸 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
11, 21, 31 : 유리기판, 12, 22, 32 : 투명박막,
13, 23, 33 : 감광막 패턴
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제1측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법은, 유리기판 위에 리소그래피 기술을 이용하여 감광막 패턴을 형성하는 제1단계와, HF 용액을 이용하여 상기 유리기판을 습식에칭하여 격자패턴을 형성하는 제2단계와, 감광막 제거용액을 이용하여 상기 감광막 패턴을 제거하는 제3단계와, 상기 유리기판의 표면을 안정화시키는 제4단계를 포함한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제2측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제4단계는, 상기 유리기판을 소정의 온도의 안정화용액에 소정의 시간 동안 담그는 제1과정과, 상기 유리기판을 DI water에 헹구는 제2과정과,상기 유리기판을 N2gun으로 말리는 제3과정을 포함한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제3측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제4단계는 상기 유리기판을 안정화가스 분위기 하에서 소정의 온도로 열처리하는 제4과정을 더 포함할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제4측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제4단계는 상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제5과정을 더 포함할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제5측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제4단계는 상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제4과정을 더 포함할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제6측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제4단계는 상기 유리기판을 안정화가스 분위기 하에서 소정의 온도로 열처리하는 제1과정을 포함한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제7측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제4단계는 상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제2과정을 더 포함할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제8측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법은, 상기 제4단계는 상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제1과정을 포함한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제9측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제1과정에서, 상기 안정화용액은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액이며, 상기 안정화용액의 온도는 25℃∼600℃이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제10측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제4단계에서, 상기 안정화가스 분위기의 안정화가스는 N2, O2및 Ar 중의 하나의 가스 또는 둘 이상의 혼합가스이며, 상기 안정화가스 분위기의 온도는 25℃∼600℃이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제11측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제1과정에서, 상기 안정화용액은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액이며, 상기 안정화용액의 온도는 25℃∼600℃이고, 상기 제4단계의 상기 안정화가스 분위기의 안정화가스는 N2, O2및 Ar 중의 하나의 가스 또는 둘 이상의 혼합가스이며, 상기 안정화가스 분위기의 온도는 25℃∼600℃이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제12측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법은, 유리기판 위에 리소그래피 기술을 이용하여 감광막 패턴을 형성하는 제1단계와, 안정화 HF 용액을 이용하여 상기 유리기판을 습식에칭하여 격자패턴을 형성하면서 상기 유리기판의 표면을 안정화시키는 제2단계와, 감광막 제거용액을 이용하여 상기 감광막 패턴을 제거하는 제3단계를 포함한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제13측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법은, 상기 유리기판을 안정화가스 분위기 하에서 소정의 온도로 열처리하는 제4단계를 더 포함할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제14측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법은, 상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제4단계를 더 포함할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제15측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법은, 상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제5단계를 더 포함할 수 없다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제16측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제2단계에서, 상기 안정화 HF 용액은 HF 용액에 안정화용액을 혼합한 용액이며, 상기 안정화용액은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액이며, 상기 안정화용액의 온도는 25℃∼600℃이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제17측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제4단계에서, 상기 안정화가스 분위기의 가스는 N2, O2및 Ar 중의 하나의 가스 또는 둘 이상의 혼합가스이며, 상기 안정화가스 분위기의 온도는 25℃∼600℃이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 제18측면의 유리기판상의 격자패턴 형성방법의 상기 제2단계에서, 상기 안정화 HF 용액은 HF 용액에 안정화용액을혼합한 용액이며, 상기 안정화용액은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액이며, 상기 안정화용액의 온도는 25℃∼600℃이고, 상기 제4단계의 상기 안정화가스 분위기의 가스는 N2, O2및 Ar 중의 하나의 가스 또는 둘 이상의 혼합가스이며, 상기 안정화가스 분위기의 온도는 25℃∼600℃이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예를 상세히 설명한다.
도 2a는 본 발명에서 격자패턴을 형성하기 위한 유리기판을 나타낸 단면도이고, 도 2b는 본 발명에서 감광막 패턴이 형성된 유리기판을 나타낸 단면도이다. 도 2a의 유리기판(21) 위에 박막을 형성하지 않고, 리소그래피 기술을 이용하여 유리기판 위에 직접 감광막 패턴(23)을 형성하면 도 2b와 같이 된다. 도 2c는 본 발명에서 격자패턴을 형성하는 공정을 나타낸 단면도이고, 도 2d는 본 발명에서 감광막 패턴을 제거하는 공정을 나타낸 단면도이다. 도 2b와 같은 상태에서 HF 용액을 이용하여 유리기판(21)을 습식에칭하면, 도 2c와 같은 격자패턴이 형성된다. 그 후, 감광막 제거용액을 이용하여 감광막 패턴(23)을 제거하여 도 2d와 같은 격자패턴을 완성한다. 이러한 공정에 의해 제작된 격자패턴을 광학부품에 부착하기 위하여 접착제를 사용하는 경우, 광학특성이 변화되어 격자패턴의 성능이 악화된다. 따라서, 이러한 현상을 억제하기 위하여, 도 2e에 나타난 바와 같이, 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액(이하, 통칭하여 안정화용액이라고 약칭함)을 이용하여 유리기판의 표면을 안정화시킨다. 도 2e는 본 발명에서 안정화용액을 이용하여 유리기판을 안정화시키는 공정을 나타낸 단면도이다. 에칭된 유리기판(21)을 일정온도(25℃∼600℃)의 안정화용액에 일정시간 동안 담근다. 안정화용액을 이용하여 유리기판의 표면을 안정화시킨 후, DI water에 헹구고, N2gun으로 말린다(도면에서는 생략).
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제2실시예를 상세히 설명한다.
도 2a부터 도 2d까지의 공정은 상기 제1실시예와 동일하다. 도 2d까지의 공정으로는 상기 제1실시예와 마찬가지로, 이러한 공정에 의해 제작된 격자패턴을 광학부품에 부착하기 위하여 접착제를 사용하면, 광학특성이 변화되어 격자패턴의 성능이 악화된다. 도 2f는 본 발명에서 기체를 이용하여 유리기판을 안정화시키는 공정을 나타낸 단면도이다. 유리기판의 표면을 안정화시키기 위하여, 도 2f에 나타난 바와 같이, 에칭된 유리기판(21)을 N2, O2및 Ar 중의 하나의 가스 또는 둘 이상의 혼합가스 분위기(이하, 안정화가스 분위기라고 약칭함) 하에서 25℃∼600℃의 온도로 열처리하여 표면을 안정화시킨다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제3실시예를 상세히 설명한다.
도 2a부터 도 2d까지의 공정은 상기 제1실시예와 동일하다. 도 2d까지의 공정으로는 상기 제1실시예와 마찬가지로, 이러한 공정에 의해 제작된 격자패턴을 광학부품에 부착하기 위하여 접착제를 사용하면, 광학특성이 변화되어 격자패턴의 성능이 악화된다. 도 2g는 본 발명에서 투명박막을 형성하는 공정을 나타낸 단면도이다. 상기 제1실시예의 도 2d와 같은 격자패턴을 완성한 상태에서, 에칭된 유리기판의 표면에서 접착제가 반응하는 것을 막기 위하여 도 2g와 같은 얇은 투명박막을 형성하는 것이다. 그러면, 접착제 부착시 그 투명박막에 의해 유리기판의 표면과 접착제가 격리된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제4실시예를 상세히 설명한다.
제4실시예는 상기 제1실시예와 상기 제2실시예의 공정을 결합한 것이다. 즉, 상기 제1실시예의 안정화처리를 행한 후, 상기 제2실시예의 안정화처리를 다시 행하는 것이다. 다시 말해서, 도 2a부터 도 2d까지의 공정은 상기 제1실시예와 동일하다. 도 2d까지의 공정으로는 상기 제1실시예와 마찬가지로, 이러한 공정에 의해 제작된 격자패턴을 광학부품에 부착하기 위하여 접착제를 사용하면, 광학특성이 변화되어 격자패턴의 성능이 악화된다. 따라서, 이러한 현상을 억제하기 위하여, 도 2e와 같이, 에칭된 유리기판(21)을 일정온도(25℃∼600℃)의 안정화용액에 일정시간 동안 담근다. 안정화용액을 이용하여 유리기판의 표면을 안정화시킨 후, DI water에 헹구고, N2gun으로 말린다(도면에서는 생략). 그 후, 도 2f와 같이, 에칭된 유리기판(21)을 안정화가스 분위기 하에서 25℃∼600℃의 온도로 열처리하여 또 다시 표면을 안정화시킨다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제5실시예를 상세히 설명한다.
제5실시예는 상기 제1실시예와 상기 제3실시예의 공정을 결합한 것이다. 즉, 상기 제1실시예의 안정화처리를 1차로 행한 후, 상기 제3실시예의 안정화처리를 다시 2차로 행하는 것이다. 다시 말해서, 도 2a부터 도 2d까지의 공정은 상기 제1실시예와 동일하다. 도 2d까지의 공정으로는 상기 제1실시예와 마찬가지로, 이러한공정에 의해 제작된 격자패턴을 광학부품에 부착하기 위하여 접착제를 사용하면, 광학특성이 변화되어 격자패턴의 성능이 악화된다. 따라서, 이러한 현상을 억제하기 위하여, 도 2e와 같이, 에칭된 유리기판(21)을 일정온도(25℃∼600℃)의 안정화용액에 일정시간 동안 담근다. 안정화용액을 이용하여 유리기판의 표면을 안정화시킨 후, DI water에 헹구고, N2gun으로 말린다(도면에서는 생략). 그 후, 안정화된 유리기판의 표면에서 접착제가 반응하는 것을 막기 위하여 도 2g와 같은 얇은 투명박막을 형성하는 것이다. 그러면, 접착제 부착시 그 투명박막에 의해 유리기판의 표면과 접착제가 격리된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제6실시예를 상세히 설명한다.
제6실시예는 상기 제2실시예와 상기 제3실시예의 공정을 결합한 것이다. 즉, 상기 제2실시예의 안정화처리를 우선 행한 후, 상기 제3실시예의 안정화처리를 재차 행하는 것이다. 다시 말해서, 도 2a부터 도 2d까지의 공정은 상기 제1실시예와 동일하다. 도 2d까지의 공정으로는 상기 제1실시예와 마찬가지로, 이러한 공정에 의해 제작된 격자패턴을 광학부품에 부착하기 위하여 접착제를 사용하면, 광학특성이 변화되어 격자패턴의 성능이 악화된다. 따라서, 이러한 현상을 억제하기 위하여, 도 2f에 나타난 바와 같이, 에칭된 유리기판(21)을 안정화가스 분위기 하에서 25℃∼600℃의 온도로 열처리하여 표면을 안정화시킨다. 그 후, 안정화된 유리기판의 표면에서 접착제가 반응하는 것을 막기 위하여 도 2g와 같은 얇은 투명박막을 형성하는 것이다. 그러면, 접착제 부착시 그 투명박막에 의해 유리기판의 표면과 접착제가 격리된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제7실시예를 상세히 설명한다.
제7실시예는 상기 제1실시예와 상기 제2실시예와 상기 제3실시예의 공정을 결합한 것이다. 즉, 상기 제1실시예의 안정화처리를 1차로 행한 후, 상기 제2실시예의 안정화처리를 다시 2차로 행하고, 상기 제3실시예의 안정화처리를 또 다시 2차로 행하는 것이다. 다시 말해서, 도 2a부터 도 2d까지의 공정은 상기 제1실시예와 동일하다. 도 2d까지의 공정으로는 상기 제1실시예와 마찬가지로, 이러한 공정에 의해 제작된 격자패턴을 광학부품에 부착하기 위하여 접착제를 사용하면, 광학특성이 변화되어 격자패턴의 성능이 악화된다. 따라서, 이러한 현상을 억제하기 위하여, 도 2e와 같이, 에칭된 유리기판(21)을 일정온도(25℃∼600℃)의 안정화용액에 일정시간 동안 담근다. 안정화용액을 이용하여 유리기판의 표면을 안정화시킨 후, DI water에 헹구고, N2gun으로 말린다(도면에서는 생략). 그 후, 도 2f와 같이, 에칭된 유리기판(21)을 안정화가스 분위기 하에서 25℃∼600℃의 온도로 열처리하여 또 다시 표면을 안정화시킨다. 마지막으로, 안정화된 유리기판의 표면에서 접착제가 반응하는 것을 막기 위하여 도 2g와 같은 얇은 투명박막을 형성하는 것이다. 그러면, 접착제 부착시 그 투명박막에 의해 유리기판의 표면과 접착제가 격리된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제8실시예를 상세히 설명한다.
도 3a는 본 발명에서 격자패턴을 형성하기 위한 유리기판을 나타낸 단면도이고, 도 3b는 본 발명에서 감광막 패턴이 형성된 유리기판을 나타낸 단면도이다. 도 3a의 유리기판(31) 위에 박막을 형성하지 않고, 리소그래피 기술을 이용하여 유리기판 위에 직접 감광막 패턴(33)을 형성하면 도 3b와 같이 된다. 여기까지는 상기 제1실시예와 동일하다. 도 3c는 본 발명에서 안정화 HF 용액을 이용하여 격자패턴을 형성함과 동시에 유리기판을 안정화시키는 공정을 나타낸 단면도이고, 도 3d는 본 발명에서 감광막 패턴을 제거하는 공정을 나타낸 단면도이다. 도 3b와 같은 상태에서 HF 용액만을 사용하는 것이 아니라 HF 용액에 안정화용액을 혼합한 용액(이하, 안정화 HF 용액이라고 약칭함)을 이용하여 일정온도(25℃∼600℃)에서 일정시간 동안 유리기판(31)을 습식에칭하면서 유리기판의 표면을 안정화시키면, 도 3c와 같은 격자패턴이 형성된다. 그 후, 감광막 제거용액을 이용하여 감광막 패턴(33)을 제거하여 도 3d와 같은 격자패턴을 완성한다.
즉, 제8실시예는 상기 제1실시예의 도 2c의 공정에서 도 2e의 안정화공정을 함께 수행하는 것이다. 다시 말해서, 도 3a부터 도 3b까지의 공정은 상기 제1실시예의 도 2a부터 도 2b까지의 공정과 동일하다. 단지 제1실시예와 다른 것은, 도 3c의 공정에서 HF 용액 대신에 안정화 HF 용액을 이용함으로써 격자패턴의 형성과 유리기판의 표면의 안정화를 동시에 이룬다는 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제9실시예를 상세히 설명한다.
제9실시예는 상기 제8실시예와 상기 제2실시예의 공정을 결합한 것이다. 도 3a부터 도 3d까지의 공정은 상기 제8실시예와 동일하다. 즉, 상기 제8실시예의 과정을 마친 후, 상기 제2실시예의 안정화처리를 다시 행하는 것이다. 다시 말해서, 도 3d의 공정 후에, 도 3e에 나타난 바와 같이, 유리기판(31)을 안정화가스 분위기 하에서 25℃∼600℃의 온도로 열처리하여 표면을 다시 안정화시킨다. 이로써, 유리기판을 보다 철저히 안정화시키는 것이다. 도 3e는 본 발명에서 기체를 이용하여 유리기판을 안정화시키는 공정을 나타낸 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제10실시예를 상세히 설명한다.
제10실시예는 상기 제8실시예와 상기 제3실시예의 공정을 결합한 것이다. 도 3a부터 도 3d까지의 공정은 상기 제8실시예와 동일하다. 즉, 상기 제8실시예의 과정을 마친 후, 상기 제3실시예의 안정화처리를 다시 행하는 것이다. 다시 말해서, 도 3d의 공정 후에, 도 3f에 나타난 바와 같이 얇은 투명박막을 형성하는 것이다. 이로써, 유리기판을 보다 철저히 안정화시키는 것이다. 그러면, 접착제 부착시 그 투명박막에 의해 유리기판의 표면과 접착제가 격리된다. 도 3f는 본 발명에서 투명박막을 형성하는 공정을 나타낸 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제11실시예를 상세히 설명한다.
제11실시예는 상기 제8실시예와 상기 제2실시예와 상기 제3실시예의 공정을 결합한 것이다. 도 3a부터 도 3d까지의 공정은 상기 제8실시예와 동일하다. 즉, 상기 제8실시예의 과정을 마친 후, 상기 제2실시예의 안정화처리를 2차로 행하고, 상기 제3실시예의 안정화처리를 3차로 행하는 것이다. 다시 말해서, 도 3d의 공정 후에, 도 3e에 나타난 바와 같이, 유리기판(31)을 안정화가스 분위기 하에서 25℃∼600℃의 온도로 열처리하여 표면을 다시 안정화시킨다. 그런 다음, 도 3f에 나타난 바와 같이 얇은 투명박막을 형성하는 것이다. 이로써, 유리기판을 더욱 철저히 안정화시키는 것이다. 그러면, 접착제 부착시 그 투명박막에 의해 유리기판의 표면과 접착제가 격리된다.
본 발명은 상술 한 바와 같은 유리 에칭 후처리 공정을 통하여 광학 부품의 제작시 접착제에 의한 광학특성의 변화에 따른 격자패턴의 성능악화를 억제할 수 있다. 또한, 본 발명은 유리기판 위에 격자패턴의 형성에 필요한 박막의 형성 공정이 필요 없고, 그 결과 박막 형성에 요구되는 박막 형성 장비 및 박막 재료를 사용할 필요가 없어, 생산단가를 크게 낮출 수 있다. 또한, 박막 형성에 따른 공정이 제거되어 공정 시간 및 공정 단계가 개선되는 이점이 있으며, 형성된 박막으로 인해 발생하는 격자의 성능악화를 근본적으로 배제할 수 있다.

Claims (18)

  1. 유리기판 위에 리소그래피 기술을 이용하여 감광막 패턴을 형성하는 제1단계와,
    HF 용액을 이용하여 상기 유리기판을 습식에칭하여 격자패턴을 형성하는 제2단계와,
    감광막 제거용액을 이용하여 상기 감광막 패턴을 제거하는 제3단계와,
    상기 유리기판의 표면을 안정화시키는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제4단계는,
    상기 유리기판을 소정의 온도의 안정화용액에 소정의 시간 동안 담그는 제1과정과,
    상기 유리기판을 DI water에 헹구는 제2과정과,
    상기 유리기판을 N2gun으로 말리는 제3과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제4단계는,
    상기 유리기판을 안정화가스 분위기 하에서 소정의 온도로 열처리하는 제1과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제4단계는,
    상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제1과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제4단계는,
    상기 유리기판을 안정화가스 분위기 하에서 소정의 온도로 열처리하는 제4과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 제4단계는,
    상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제4과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 제4단계는,
    상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제2과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 제4단계는,
    상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제5과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  9. 제2,5,6,8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1과정의 상기 안정화용액은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액이며, 상기 안정화용액의 온도는 25℃∼600℃인 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  10. 제3,5,7,8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제4단계의 상기 안정화가스 분위기의 안정화가스는 N2, O2및 Ar 중의 하나의 가스 또는 둘 이상의 혼합가스이며, 상기 안정화가스 분위기의 온도는 25℃∼600℃인 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  11. 제5항 또는 제8항에 있어서,
    상기 제1과정의 상기 안정화용액은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액이며, 상기 안정화용액의 온도는 25℃∼600℃이고,
    상기 제4단계의 상기 안정화가스 분위기의 안정화가스는 N2, O2및 Ar 중의 하나의 가스 또는 둘 이상의 혼합가스이며, 상기 안정화가스 분위기의 온도는 25℃∼600℃인 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  12. 유리기판 위에 리소그래피 기술을 이용하여 감광막 패턴을 형성하는 제1단계와,
    안정화 HF 용액을 이용하여 상기 유리기판을 습식에칭하여 격자패턴을 형성하면서 상기 유리기판의 표면을 안정화시키는 제2단계와,
    감광막 제거용액을 이용하여 상기 감광막 패턴을 제거하는 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 유리기판을 안정화가스 분위기 하에서 소정의 온도로 열처리하는 제4단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제4단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 유리기판 위에 얇은 투명박막을 형성하는 제5단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  16. 제12,13,14,15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2단계의 상기 안정화 HF 용액은 HF 용액에 안정화용액을 혼합한 용액이며, 상기 안정화용액은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액이며, 상기 안정화용액의 온도는 25℃∼600℃인 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  17. 제13항 또는 제15항에 있어서,
    제4단계의 상기 안정화가스 분위기의 가스는 N2, O2및 Ar 중의 하나의 가스 또는 둘 이상의 혼합가스이며, 상기 안정화가스 분위기의 온도는 25℃∼600℃인 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
  18. 제13항 또는 제15항에 있어서,
    상기 제2단계의 상기 안정화 HF 용액은 HF 용액에 안정화용액을 혼합한 용액이며, 상기 안정화용액은 산 용액, 산 용액의 혼합용액, H2O2및 알코올 중의 하나의 용액 또는 둘 이상의 혼합용액이며, 상기 안정화용액의 온도는 25℃∼600℃이고,
    상기 제4단계의 상기 안정화가스 분위기의 가스는 N2, O2및 Ar 중의 하나의가스 또는 둘 이상의 혼합가스이며, 상기 안정화가스 분위기의 온도는 25℃∼600℃인 것을 특징으로 하는 유리기판상의 격자패턴 형성방법.
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