JP2002053550A - アミノピロリジン誘導体の製造法 - Google Patents
アミノピロリジン誘導体の製造法Info
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
る。 【解決手段】アジドピロリジン化合物のアジド基のみ
を、金属触媒存在下、水素添加系で出発原料濃度10〜
70重量%の条件にて選択的に還元し、アミノピロリジ
ン誘導体を得ることを特徴とするピロリジン誘導体の製
造法。
Description
導体を製造する方法に関するものである。また本発明の
目的は、穏和な条件でかつ選択性良くアミノピロリジン
誘導体を得る工業的な手法を提供することにある。アミ
ノピロリジン誘導体は、医薬合成中間体として有用な化
合物である。
元し、アミノピロリジン化合物に変換する手法として
は、Pd/Cなどの金属触媒存在下、水素添加系で行う手法
が一般的に知られている(例えば、ジャーナル・オブ・
メディシナル・ケミストリー 31、1598(198
8)、ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー
33、1344(1990)、ジャーナル・オブ・メデ
ィシナル・ケミストリー35、4205(1992)な
ど)。しかしこの手法は、ピロリジン化合物の窒素上の
置換基がBoc(t−ブトキシカルボニル)基、Ts
(p−トルエンスルホニル)基など、水素添加系で還元
反応に関与しないアミノ保護基を有する化合物に制限さ
れ、ベンジル基を有するアジドピロリジン化合物を用い
た場合は、脱ベンジル化反応が副反応として進行し、選
択性よく目的とする1−ベンジルアミノピロリジン誘導
体が得られない。
目的とする1−ベンジルアミノピロリジン誘導体を得る
には、通常、リチウムアルミニウムハイドライド(LA
H)が用いられている(例えば、独国特許第39063
65号、国際公開96/01262、ジャーナル・オブ
・メディシナル・ケミストリー 31、1598(19
88)など)。しかし、LAHは高価でかつ禁水性試薬の
ため、工業的には採用困難である。
物のアジド基のみを、金属触媒存在下、水素還元条件で
選択的に還元し、目的とするアミノピロリジン誘導体を
得る例は、Pt/C触媒存在下、メタノール溶媒中、水素加
圧下、室温条件下にて反応を行うもの(ジャーナル・オ
ブ・メディシナル・ケミストリー 31、1586(1
988))がある。これは、穏和な条件でかつ選択性良
く、また工業的に採用可能な手法ではあるが、出発原料
のアジドピロリジン化合物濃度が約5.7重量%と非常に
薄く、生産性の悪いことが不都合な点として挙げられ
る。
題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、穏和な条件でか
つ選択性よく、また効率よくピロリジン誘導体を製造で
きることを見出し、本発明に到達した。すなわち本発明
は、「一般式(1)
いてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェ
ニル基、ヒドロキシル基、アリール基で置換されていて
もよいアルコキシル基、置換されていてもよいフェニル
オキシル基、アリール基で置換されていてもよいアルキ
ルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、アミ
ノ基のいずれかを表し、Arは置換されていてもよいフェ
ニル基を表し、nは0〜3の整数を表す。)で示される
アジドピロリジン化合物を10〜70重量%含む反応溶
液を、金属触媒存在下、水素添加系で還元することを特
徴とする一般式(2)
いてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェ
ニル基、ヒドロキシル基、アリール基で置換されていて
もよいアルコキシル基、置換されていてもよいフェニル
オキシル基、アリール基で置換されていてもよいアルキ
ルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、アミ
ノ基のいずれかを表し、Arは置換されていてもよいフェ
ニル基を表し、nは0〜3の整数を表す。)で示される
アミノピロリジン誘導体の製造法。」である。
であることは周知の通りである。このアミノピロリジン
化合物を合成中間体として経由し、さらに有用なピロリ
ジン誘導体に変換することは医農薬分野における意義は
大きいものと言える。よって、複雑な処理工程を介さ
ず、穏和な条件で、選択性よくかつ効率よく目的とする
アミノピロリジン誘導体を得ることは非常に有用であ
る。
ピロリジン化合物は、一般式(1)
いてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェ
ニル基、ヒドロキシル基、アリール基で置換されていて
もよいアルコキシル基、置換されていてもよいフェニル
オキシル基、アリール基で置換されていてもよいアルキ
ルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、アミ
ノ基のいずれかを表し、Arは置換されていてもよいフェ
ニル基を表し、nは0〜3の整数を表す。)で示される
ものであり、ピロリジン環を形成する炭素上に置換基が
存在していてもしていなくても良い。また、その置換基
の種類および位置は還元反応に影響しないものであれば
任意に選ぶことができ、7−アジド−9−アザビシクロ
[4.2.1]ノナン化合物や
1]オクタン化合物
化合物であってもよい。
ドピロリジン、1−パラニトロベンジル−3−アジドピ
ロリジン、1−ベンジル−2−アジドメチルピロリジ
ン、1−パラニトロベンジル−2−アジドメチルピロリ
ジン、1−ベンジル−3−アジドメチルピロリジン、1
−パラニトロベンジル−3−アジドメチルピロリジン、
1−ベンジル−3−アジド−4−ヒドロキシピロリジ
ン、1−ベンジル−3−アジド−4−メタンスルホニル
オキシピロリジン、1−ベンジル−3−アジド−4−メ
トキシピロリジン、1−ベンジル−2−アジドメチル−
4−ヒドロキシピロリジン、1−ベンジル−2−ヒドロ
キシメチル−4−アジドピロリジン、1−ベンジル−3
−メチル−4−アジドピロリジン、7−アジド−9−ベ
ンジル−9−アザビシクロ[4.2.1]ノナン、6−
アジド−8−ベンジル−8−アザビシクロ[3.2.
1]オクタンなどが挙げられるが、中でも好ましいのは
1−ベンジル−3−アジドピロリジン、1−ベンジル−
2−アジドメチルピロリジン、1−ベンジル−3−アジ
ドメチルピロリジン、1−ベンジル−3−アジド−4−
ヒドロキシピロリジン、1−ベンジル−3−アジド−4
−メタンスルホニルオキシピロリジン、1−ベンジル−
3−アジド−4−メトキシピロリジンであり、さらに好
ましいのは、1−ベンジル−3−アジドピロリジン、1
−ベンジル−2−アジドメチルピロリジン、1−ベンジ
ル−3−アジド−4−ヒドロキシピロリジン、1−ベン
ジル−3−アジド−4−メタンスルホニルオキシピロリ
ジンである。
素に担持されたパラジウム(Pd/C)、ロジウム(Rh/
C)、白金(Pt/C)、ルテニウム(Ru/C)のいずれでも
よく、中でもPd/C、Pt/Cが好ましく用いられる。また、
使用量については、 アジドピロリジン化合物1重量部
に対し、100%乾燥重量換算で0.5〜10重量%用いるのが
好ましい。この範囲において反応を選択性よくかつ効率
良く行うことができる。
応に対し不活性なものであれば任意に選ぶことができ
る。具体例としては、水、またはメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコールなどのアルコール類、ヘキサン、
シクロヘキサン、トルエンなどの炭化水素系溶媒類、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフランなどのエーテル類などが挙げられる。中でも
水、メタノール、テトラヒドロフランが好ましく用いら
れる。これら溶媒は単一で用いてもあるいは混合して用
いても構わない。
ン化合物の濃度が10〜70重量%になるよう用いる必
要がある。さらに20〜50重量%になるよう用いるの
が好ましい。この範囲より濃い条件では、反応基質と触
媒および水素との接触効率が悪くなり、反応速度が遅く
なる。またこの範囲より薄い条件では、経済面で好まし
くない。
う。水素圧は、常圧〜1.013MPa(10atm)が好ましく、
さらには常圧〜506.5kPa(5atm)が好ましい。この範囲
において反応を効率良くかつ経済的に行うことができ
る。
00℃が好ましく、さらに0℃〜50℃が好ましい。中
でも特に経済的な面から室温条件が好ましい。
なうことにより、前記一般式(1)で表されるアジドピ
ロリジン化合物のアジド基のみを選択的に還元し、前記
一般式(2)で表されるアミノピロリジン誘導体を収率
よく得ることができる。
明するが、本発明はこれに限定するものではない。な
お、ここで用いている試薬類のメーカーグレードは、い
ずれも1級レベルに相当するものである。
メタノール(片山化学社製)50mLに溶解させ(基質濃度:
33.5重量%)、5%Pd/C(50%含水)0.5gを反応液に加え
て、水素圧506.5kPa、室温条件下、5時間反応させた。
反応終了後、水素を脱気して常圧に戻し、触媒をろ別し
た。そのろ液を濃縮することにより1−ベンジル−3−
アミノピロリジンを17.4g(収率98.7%)得た。
行ったところ、得られた1−ベンジル−3−アミノピロ
リジンは15.6g(収率88.7%)であった。
化学社製)を用いて実施例1と同様に反応を行ったとこ
ろ、得られた1−ベンジル−3−ピロリジノールは1−
ベンジル−3−アミノピロリジンは14.7g(収率83.2%)
であった。
ドロキシピロリジン21.8g(0.1mol)に変えて実施例1と
同様に反応を行ったところ、trans−1−ベンジル−4
―アミノ―3−ヒドロキシピロリジンを16.0g(収率83.
7 %)得た。
21.6g(0.1mol)に変えて実施例1と同様に反応を行った
ところ、1−ベンジル−2−アミノメチルピロリジンを
16.6g(収率87.3 %)得た。
ル メタンスルホニレート29.6 g(0.1mol)、トリエチル
アミン20.2g(0.2mol;片山化学社製)をテトラヒドロフ
ラン50mLに溶解させ、5%Pd/C(50%含水)0.5gを反応液
に加えて、506.5kPa、室温条件下、5時間反応させた。
反応終了後、水素を脱気して常圧に戻し、触媒をろ別し
た。そのろ液を濃縮することにより1−ベンジル−3,
4−エピミノピロリジンを14.0g(収率80.0%)得た。
ロ[4.2.1]ノナン25.6g(0.1mol)に変えて実施例
1と同様に反応を行ったところ、得られた7−アミノ−
9−ベンジル−9−アザビシクロ[4.2.1]ノナン
は18.1g(収率78.9%)であった。
ず、穏和な条件で、かつ選択性良くピロリジン誘導体が
得られる製造法である。また、得られるアミノピロリジ
ン誘導体は種々の合成中間体として利用でき、医農薬分
野において有用である。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (Rは水素原子、アリール基で置換されていてもよい低
級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、ヒド
ロキシル基、アリール基で置換されていてもよいアルコ
キシル基、置換されていてもよいフェニルオキシル基、
アリール基で置換されていてもよいアルキルチオ基、置
換されていてもよいフェニルチオ基、アミノ基のいずれ
かを表し、Arは置換されていてもよいフェニル基を表
し、nは0〜3の整数を表す。)で示されるアジドピロ
リジン化合物を10〜70重量%含む反応溶液を、金属
触媒存在下、水素添加系で還元することを特徴とする一
般式(2) 【化2】 (Rは水素原子、アリール基で置換されていてもよい低
級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、ヒド
ロキシル基、アリール基で置換されていてもよいアルコ
キシル基、置換されていてもよいフェニルオキシル基、
アリール基で置換されていてもよいアルキルチオ基、置
換されていてもよいフェニルチオ基、アミノ基のいずれ
かを表し、Arは置換されていてもよいフェニル基を表
し、nは0〜3の整数を表す。)で示されるアミノピロ
リジン誘導体の製造法。 - 【請求項2】 金属触媒が、炭素に担持されたパラジウ
ム(Pd/C)、ロジウム(Rh/C)、白金(Pt/C)、ルテニ
ウム(Ru/C)のいずれかであることを特徴とする請求項
1記載のアミノピロリジン誘導体の製造法。 - 【請求項3】 還元反応が、−20℃〜100℃の温度
条件下で行われることを特徴とする請求項1あるいは請
求項2記載のアミノピロリジン誘導体の製造法。
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---|---|---|---|
JP2000243299A JP4788027B2 (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | アミノピロリジン誘導体の製造法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2002053550A true JP2002053550A (ja) | 2002-02-19 |
JP4788027B2 JP4788027B2 (ja) | 2011-10-05 |
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JP (1) | JP4788027B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005206527A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 光学活性trans−4−アミノ−1−ベンジル−3−ピロリジノール誘導体の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62148484A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-07-02 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | キノリンカルボン酸誘導体 |
JPH01316349A (ja) * | 1988-03-11 | 1989-12-21 | Abbott Lab | 鏡像体的に均質なアミノピロリジンとそれを側鎖に有するナフチリジンおよびキノロンカルボン酸の製造方法 |
JPH0672999A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-15 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | アミノアルキルピロリジン化合物の製造法 |
-
2000
- 2000-08-10 JP JP2000243299A patent/JP4788027B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
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JP2005206527A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 光学活性trans−4−アミノ−1−ベンジル−3−ピロリジノール誘導体の製造方法 |
JP4573223B2 (ja) * | 2004-01-23 | 2010-11-04 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | 光学活性trans−4−アミノ−1−ベンジル−3−ピロリジノールの製造方法 |
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