JPH0672999A - アミノアルキルピロリジン化合物の製造法 - Google Patents
アミノアルキルピロリジン化合物の製造法Info
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- JPH0672999A JPH0672999A JP4253711A JP25371192A JPH0672999A JP H0672999 A JPH0672999 A JP H0672999A JP 4253711 A JP4253711 A JP 4253711A JP 25371192 A JP25371192 A JP 25371192A JP H0672999 A JPH0672999 A JP H0672999A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Abstract
(57)【要約】
【構成】下記の方法によるピロリジン化合物（Ｉ）の製
造法 （式中、Ｒ1はイミノ保護基、Ｒ2は低級アルキル基、Ｘ
は、アルカリ金属を意味する。） 【効果】臨床上優れた合成抗菌剤を製造するための中間
体として有用なピロリジン化合物（Ｉ）の収率、純度な
どの点で優れ、また操作的にも簡便化された新規な工業
的製造法である。
造法 （式中、Ｒ1はイミノ保護基、Ｒ2は低級アルキル基、Ｘ
は、アルカリ金属を意味する。） 【効果】臨床上優れた合成抗菌剤を製造するための中間
体として有用なピロリジン化合物（Ｉ）の収率、純度な
どの点で優れ、また操作的にも簡便化された新規な工業
的製造法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、臨床上優れた合成抗
菌剤を製造するための中間体として有用なピロリジン化
合物またはその塩の収率、純度などの点で優れ、また操
作的にも簡便化された新規な工業的製造法に関するもの
である。
菌剤を製造するための中間体として有用なピロリジン化
合物またはその塩の収率、純度などの点で優れ、また操
作的にも簡便化された新規な工業的製造法に関するもの
である。
【０００２】
【発明の構成】この発明の目的化合物であるピロリジン
化合物（Ｉ）は、下記の式で表すことができる。 （式中、Ｒ1はイミノ保護基、Ｒ2は低級アルキル基を意
味する）以下に述べる目的化合物（Ｉ）および中間化合
物においては、不斉炭素原子に基づく光学異性体のよう
な立体異性体対１個以上が存在することがあり、そのよ
うな異性体もこの発明の範囲内に包含されるものとす
る。
化合物（Ｉ）は、下記の式で表すことができる。 （式中、Ｒ1はイミノ保護基、Ｒ2は低級アルキル基を意
味する）以下に述べる目的化合物（Ｉ）および中間化合
物においては、不斉炭素原子に基づく光学異性体のよう
な立体異性体対１個以上が存在することがあり、そのよ
うな異性体もこの発明の範囲内に包含されるものとす
る。
【０００３】この発明によれば、ピロリジン化合物
（Ｉ）は製造法（１）および（２）に示される方法によ
って製造される。 製造法（１） 製造法２ （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前と同じ意味、Ｘはア
ルカリ金属を意味する）
（Ｉ）は製造法（１）および（２）に示される方法によ
って製造される。 製造法（１） 製造法２ （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前と同じ意味、Ｘはア
ルカリ金属を意味する）
【０００４】化合物（Ｉ）の適当な塩としては酸付加塩
又は塩基付加塩の両方を挙げることができる。酸付加塩
としては、例えば（イ）塩酸、硫酸などの鉱酸との塩、
（ロ）ギ酸、クエン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ
酢酸などの有機カルボン酸との塩、（ハ）メタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などのス
ルホン酸との塩を、また塩基付加塩としては、例えば、
（イ）ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との
塩、（ロ）カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土
類金属との塩、（ハ）アンモニウム塩、（ニ）トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリ
ジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミン、シクロヘ
キシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、１−エ
フェナミン、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミンな
どの含窒素有機塩基との塩を挙げることができる。
又は塩基付加塩の両方を挙げることができる。酸付加塩
としては、例えば（イ）塩酸、硫酸などの鉱酸との塩、
（ロ）ギ酸、クエン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ
酢酸などの有機カルボン酸との塩、（ハ）メタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などのス
ルホン酸との塩を、また塩基付加塩としては、例えば、
（イ）ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との
塩、（ロ）カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土
類金属との塩、（ハ）アンモニウム塩、（ニ）トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリ
ジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミン、シクロヘ
キシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、１−エ
フェナミン、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミンな
どの含窒素有機塩基との塩を挙げることができる。
【０００５】この明細書の以上および以下の記載におい
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に説明する。「低級」とは、該
置換基が直鎖又は分岐状の基である時には、炭素数 １
〜６、好ましくは １〜４の基を意味し、環状の基であ
るときは、炭素数３〜７の基を意味する。「低級アルキ
ル基」としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、第三級ブチル基、第三級ペンチル基などが挙げ
られる。
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に説明する。「低級」とは、該
置換基が直鎖又は分岐状の基である時には、炭素数 １
〜６、好ましくは １〜４の基を意味し、環状の基であ
るときは、炭素数３〜７の基を意味する。「低級アルキ
ル基」としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、第三級ブチル基、第三級ペンチル基などが挙げ
られる。
【０００６】「イミノ保護基」としては、例えばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ヘキサノイ
ル等の低級アルカノイル基、例えばクロロアセチル、ブ
ロモアセチル、ジクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ル等のモノ（もしくはジもしくはトリ）ハロ（低級）ア
ルカノイル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、第三級ブトキシカル
ボニル、第三級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオ
キシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、例えばベンゾイル、トルオイル、ナフトイ
ル等のアロイル基、例えばフェニルアセチル、フェニル
プロピオニル等のアル（低級）アルカノイル基、例えば
フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等の
アリールオキシカルボニル基、例えばフェノキシアセチ
ル、フェノキシプロピオニル等のアリールオキシ（低
級）アルカノイル基、例えばフェニルグリオキシロイ
ル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオキシ
ロイル基、例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル等の、適当な置換基を有してもよいアル（低級）ア
ルコキシカルボニル基、等のアシル基、例えばベンジリ
デン、ヒドロキシベンジリデン等の置換されたまたは非
置換アル（低級）アルキリデン基、例えばベンジル、フ
ェネチル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ（または
ジまたはトリ）フェニル（低級）アルキル基のようなア
ル（低級）アルキル基等が挙げられる。「アルカリ金
属」としては、例えばナトリウム、カリウム等が挙げら
れる。
ル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ヘキサノイ
ル等の低級アルカノイル基、例えばクロロアセチル、ブ
ロモアセチル、ジクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ル等のモノ（もしくはジもしくはトリ）ハロ（低級）ア
ルカノイル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、第三級ブトキシカル
ボニル、第三級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオ
キシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、例えばベンゾイル、トルオイル、ナフトイ
ル等のアロイル基、例えばフェニルアセチル、フェニル
プロピオニル等のアル（低級）アルカノイル基、例えば
フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等の
アリールオキシカルボニル基、例えばフェノキシアセチ
ル、フェノキシプロピオニル等のアリールオキシ（低
級）アルカノイル基、例えばフェニルグリオキシロイ
ル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオキシ
ロイル基、例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル等の、適当な置換基を有してもよいアル（低級）ア
ルコキシカルボニル基、等のアシル基、例えばベンジリ
デン、ヒドロキシベンジリデン等の置換されたまたは非
置換アル（低級）アルキリデン基、例えばベンジル、フ
ェネチル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ（または
ジまたはトリ）フェニル（低級）アルキル基のようなア
ル（低級）アルキル基等が挙げられる。「アルカリ金
属」としては、例えばナトリウム、カリウム等が挙げら
れる。
【０００７】この発明の化合物（Ｉ）の製造法を以下詳
細に説明する。 製造法１ 化合物（ＩＶ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）または
ヒドロキシ基におけるその反応性誘導体もしくはそれら
の塩に化合物（ＩＩＩ）を反応させることにより製造す
ることができる。ヒドロキシ基の反応性誘導体として
は、例えばクロリド、ブロミド、ヨージド等のハロゲン
化物、例えばメタンスルホン酸メチルエステル、メタン
スルホン酸エチルエステル等のメタンスルホン酸エステ
ル、ベンゼンスルホン酸エステル、トルエンスルホン酸
エステル等のスルホン酸エステル等が挙げられる。反応
は通常、水、例えばメタノ−ル、エタノ−ル等のアルコ
−ル、酢酸エチル、塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドのような溶媒中またはそれらの混合物中で行われる
が、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他いか
なる溶媒でも反応を行うことができる。反応温度は特に
限定されないが、通常は冷却下ないし加熱下に反応が行
われる。この反応において、目的化合物（ＩＶ）におけ
る立体が出発化合物（ＩＩ）の立体と反転することがあ
るが、それもこの反応中に含まれるものとする。
細に説明する。 製造法１ 化合物（ＩＶ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）または
ヒドロキシ基におけるその反応性誘導体もしくはそれら
の塩に化合物（ＩＩＩ）を反応させることにより製造す
ることができる。ヒドロキシ基の反応性誘導体として
は、例えばクロリド、ブロミド、ヨージド等のハロゲン
化物、例えばメタンスルホン酸メチルエステル、メタン
スルホン酸エチルエステル等のメタンスルホン酸エステ
ル、ベンゼンスルホン酸エステル、トルエンスルホン酸
エステル等のスルホン酸エステル等が挙げられる。反応
は通常、水、例えばメタノ−ル、エタノ−ル等のアルコ
−ル、酢酸エチル、塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドのような溶媒中またはそれらの混合物中で行われる
が、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他いか
なる溶媒でも反応を行うことができる。反応温度は特に
限定されないが、通常は冷却下ないし加熱下に反応が行
われる。この反応において、目的化合物（ＩＶ）におけ
る立体が出発化合物（ＩＩ）の立体と反転することがあ
るが、それもこの反応中に含まれるものとする。
【０００８】製造法２ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＶ）またはそ
の塩を還元反応に付することにより製造することができ
る。この反応はアジドをアミドに還元する際に用いられ
る常法により行うことができ、化学的還元および接触還
元が挙げられる。還元に使用される還元剤は、化学的還
元剤としては例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または例え
ば塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無
機酸との組合せ、パラジウムとギ酸アンモニウムとの組
み合わせ、水素化リチウムアルミニウム、トリフェニル
ホスフィンとアンモニアとの組み合わせ、水素化ホウ素
ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムとトリフルオロ酢
酸またはピリジンとの組合わせ、ボラン−メチルスルフ
ィド錯体、接触還元の触媒としては例えば白金板、白金
海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の白
金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パ
ラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、パ
ラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等
のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネ−ニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネ−コバルト等のコバルト触媒、例えば還元
鉄、ラネ−鉄等の鉄触媒、例えば環元銅、ラネ−銅、ウ
ルマン銅等の銅触媒等のような常用のものが挙げられ
る。反応は通常、水、例えばメタノ−ル、エタノ−ル等
のアルコ−ル、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
のような溶媒中またはそれらの混合物中で行われるが、
反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他いかなる
溶媒でも反応を行うことができる。反応温度は特に限定
されないが、通常は冷却下ないし加熱下に反応が行われ
る。製造法１および２によって得られる化合物は、抽
出、沈殿、分別結晶、再結晶、クロマトグラフィーとい
った常法により、分離、または精製される。出発物質
（ＩＩ）は特開平４−９５０６７号公報に記載の方法で
製造することができる。
の塩を還元反応に付することにより製造することができ
る。この反応はアジドをアミドに還元する際に用いられ
る常法により行うことができ、化学的還元および接触還
元が挙げられる。還元に使用される還元剤は、化学的還
元剤としては例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または例え
ば塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無
機酸との組合せ、パラジウムとギ酸アンモニウムとの組
み合わせ、水素化リチウムアルミニウム、トリフェニル
ホスフィンとアンモニアとの組み合わせ、水素化ホウ素
ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムとトリフルオロ酢
酸またはピリジンとの組合わせ、ボラン−メチルスルフ
ィド錯体、接触還元の触媒としては例えば白金板、白金
海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の白
金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パ
ラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、パ
ラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等
のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネ−ニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネ−コバルト等のコバルト触媒、例えば還元
鉄、ラネ−鉄等の鉄触媒、例えば環元銅、ラネ−銅、ウ
ルマン銅等の銅触媒等のような常用のものが挙げられ
る。反応は通常、水、例えばメタノ−ル、エタノ−ル等
のアルコ−ル、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
のような溶媒中またはそれらの混合物中で行われるが、
反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他いかなる
溶媒でも反応を行うことができる。反応温度は特に限定
されないが、通常は冷却下ないし加熱下に反応が行われ
る。製造法１および２によって得られる化合物は、抽
出、沈殿、分別結晶、再結晶、クロマトグラフィーとい
った常法により、分離、または精製される。出発物質
（ＩＩ）は特開平４−９５０６７号公報に記載の方法で
製造することができる。
【０００９】以下、この発明を製造例および実施例に従
って説明する。製造例１ （３Ｒ）−１−ベンゾイル−３−［（１Ｒ）−１−ヒド
ロキシエチル］ピロリジン（３．０ｇ）の酢酸エチル
（３０ｍｇ）とトリエチルアミン（３．０５ｍｌ）の混
合物中溶液にメタンスルホニルクロリド（１．４７ｍ
ｌ）を冷却下、攪拌下に滴下する。混合物を同条件下で
１時間攪拌する。溶液を水と飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲル（１００ｇ）を使用するクロマト
グラフィ−に付し、クロロホルムとメタノ−ルの混合物
（１９：１ Ｖ／Ｖ）で溶出する。目的化合物を含む画
分を合わせ、減圧下で溶媒を留去して、（３Ｒ）−１−
ベンジル−３−［（１Ｒ）−１−メタンスルホニルオキ
シエチル］ピロリジン（３．７１ｇ）を得る。 [α]25 D ; -10.40°(C1.0 CHCl3) NMR (CDCl3, δ) :1.39(3H, d, J=6.26Hz), 1.66-1.80
(1H, m), 1.95-2.05 (1H, m), 2.21 (1H, dd, J=7.11H
z, 9.07Hz), 2.38-2.51(2H, m), 2.63-2.77(2H,m), 2.9
9 (3H, s), 3.60 (2H, ABq, 12.9Hz), 4.72 (1H, m),
7.30 (5H, s)
って説明する。製造例１ （３Ｒ）−１−ベンゾイル−３−［（１Ｒ）−１−ヒド
ロキシエチル］ピロリジン（３．０ｇ）の酢酸エチル
（３０ｍｇ）とトリエチルアミン（３．０５ｍｌ）の混
合物中溶液にメタンスルホニルクロリド（１．４７ｍ
ｌ）を冷却下、攪拌下に滴下する。混合物を同条件下で
１時間攪拌する。溶液を水と飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲル（１００ｇ）を使用するクロマト
グラフィ−に付し、クロロホルムとメタノ−ルの混合物
（１９：１ Ｖ／Ｖ）で溶出する。目的化合物を含む画
分を合わせ、減圧下で溶媒を留去して、（３Ｒ）−１−
ベンジル−３−［（１Ｒ）−１−メタンスルホニルオキ
シエチル］ピロリジン（３．７１ｇ）を得る。 [α]25 D ; -10.40°(C1.0 CHCl3) NMR (CDCl3, δ) :1.39(3H, d, J=6.26Hz), 1.66-1.80
(1H, m), 1.95-2.05 (1H, m), 2.21 (1H, dd, J=7.11H
z, 9.07Hz), 2.38-2.51(2H, m), 2.63-2.77(2H,m), 2.9
9 (3H, s), 3.60 (2H, ABq, 12.9Hz), 4.72 (1H, m),
7.30 (5H, s)
【００１０】実施例１ （３Ｒ）−１−ベンジル−３−［（１Ｒ）−１−メタン
スルホニルオキシエチル］ピロリジン（３．７０ｇ）、
アジ化ナトリウム（１．４１ｇ）および塩化アンモニウ
ム（１．６３ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（３
７ｍｌ）中けん濁液を１００℃で２時間攪拌する。冷却
後、混合物を氷水（１００ｍｌ）中に注ぎ、酢酸エチル
（１００ｍｌ）で２回抽出する。有機層を分取し、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下で溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロ
マトグラフィ−に付し、クロロホルムとメタノ−ルの混
合物（１９：１ Ｖ／Ｖ）で溶出する。目的化合物を含
む画分を集め、減圧下で溶媒を留去し、（３Ｒ）−１−
ベンジル−３−［（１Ｓ）−１−アジドエチル］ピロリ
ジン（１．８５ｇ）を得る。 [α]25 D ; +31.0°(C1.0 CHCl3) IR (Neat) : 2080, 1665, 1445, 1375, 1240 cm-1 NMR (CDCl3, δ) : 1.27 (3H, d, J=6.50Hz), 1.43-1.
57 (1H, m), 1.83-1.96 (1H, m), 2.09-2.80 (1H, m),
3.26-3.40 (1H, m), 3.59 (2H, s), 7.27-7.33 (5H,
m)
スルホニルオキシエチル］ピロリジン（３．７０ｇ）、
アジ化ナトリウム（１．４１ｇ）および塩化アンモニウ
ム（１．６３ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（３
７ｍｌ）中けん濁液を１００℃で２時間攪拌する。冷却
後、混合物を氷水（１００ｍｌ）中に注ぎ、酢酸エチル
（１００ｍｌ）で２回抽出する。有機層を分取し、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下で溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロ
マトグラフィ−に付し、クロロホルムとメタノ−ルの混
合物（１９：１ Ｖ／Ｖ）で溶出する。目的化合物を含
む画分を集め、減圧下で溶媒を留去し、（３Ｒ）−１−
ベンジル−３−［（１Ｓ）−１−アジドエチル］ピロリ
ジン（１．８５ｇ）を得る。 [α]25 D ; +31.0°(C1.0 CHCl3) IR (Neat) : 2080, 1665, 1445, 1375, 1240 cm-1 NMR (CDCl3, δ) : 1.27 (3H, d, J=6.50Hz), 1.43-1.
57 (1H, m), 1.83-1.96 (1H, m), 2.09-2.80 (1H, m),
3.26-3.40 (1H, m), 3.59 (2H, s), 7.27-7.33 (5H,
m)
【００１１】実施例２ （３Ｒ）−１−ベンジル−３−［（１Ｓ）−１−アジド
エチル］ピロリジン（１．８３ｇ）とトリフェニルホス
フィン（２．５ｇ）のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）
溶液を５０−６０℃で４時間攪拌する。溶液に濃アンモ
ニア（５．３ｍｌ）を加え、混合物を一夜放置する。反
応混合物の溶媒を減圧下で留去する。残渣をシリカゲル
（８０ｇ）を使用するクロマトグラフィ−に付し、クロ
ロホルム、メタノ−ルおよび濃アンモニアの混合物
（９：１：０．１ Ｖ／Ｖ）で溶出する。目的化合物を
含む画分を集め、溶媒を減圧下で留去して、（３Ｒ）−
１−ベンジル−３−［（１Ｓ）−１−アミノエチル］ピ
ロリジン（１．３２ｇ）を得る。 mp : 45-46 ℃ [α]25 D ; +7.0°(C1.0 CHCl3) NMR (CDCl3, δ) : 1.05 (3H, d, J=6.32Hz), 1.35-1.
58(1H, m), 1.80-2.13(2H, m), 2.27 (1H, dd, J=9.01H
z, J=6.92Hz), 2.42-2.53(1H, m), 2.60-2.84(3H, m),
3.67 (2H, ABq, J=7.98Hz), 7.23-7.35 (5H,m)
エチル］ピロリジン（１．８３ｇ）とトリフェニルホス
フィン（２．５ｇ）のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）
溶液を５０−６０℃で４時間攪拌する。溶液に濃アンモ
ニア（５．３ｍｌ）を加え、混合物を一夜放置する。反
応混合物の溶媒を減圧下で留去する。残渣をシリカゲル
（８０ｇ）を使用するクロマトグラフィ−に付し、クロ
ロホルム、メタノ−ルおよび濃アンモニアの混合物
（９：１：０．１ Ｖ／Ｖ）で溶出する。目的化合物を
含む画分を集め、溶媒を減圧下で留去して、（３Ｒ）−
１−ベンジル−３−［（１Ｓ）−１−アミノエチル］ピ
ロリジン（１．３２ｇ）を得る。 mp : 45-46 ℃ [α]25 D ; +7.0°(C1.0 CHCl3) NMR (CDCl3, δ) : 1.05 (3H, d, J=6.32Hz), 1.35-1.
58(1H, m), 1.80-2.13(2H, m), 2.27 (1H, dd, J=9.01H
z, J=6.92Hz), 2.42-2.53(1H, m), 2.60-2.84(3H, m),
3.67 (2H, ABq, J=7.98Hz), 7.23-7.35 (5H,m)
【００１２】参考例１ （３Ｒ）−１−ベンジル−３−［（１Ｓ）−１−アミノ
エチル］ピロリジン（１．２９ｇ）とジ−ｔ−ブチルジ
カルボ−ト（１．７９ｇ）のテトラヒドロフラン（２０
ｍｌ）溶液を１時間還流する。反応混合物に水（２ｍ
ｌ）を加え、溶液を減圧下で濃縮する。残渣をシリカゲ
ルを使用するクロマトグラフィ−に付し、ジクロロメタ
ンとアセトンの混合物（４：１ Ｖ／Ｖ）で溶出する。
目的化合物を含む画分を集め、減圧下で溶媒を留去し、
（３Ｒ）−１−ベンジル−３−［（１Ｓ）−１−（ｔ−
ブトキシカルボニルアミノ）エチル］ピロリジン（１．
２２ｇ）を得る。 [α]25 D ; -13.3°(C1.0 CHCl3) IR (Neat) : 1700-1680, 1500-1490, 1445, 1360, 124
0, 1160 cm-1 NMR (CDCl3, δ) : 1.12 (3H, d, J=6.52Hz), 1.45(9
H, s), 1.50-1.62 (1H,m), 1.85-2.74 (6H, m), 3.48-
3.63 (1H, m), 3.58 (2H, ABq, J=13.0Hz), 5.45-5.55
(1H, broad), 7.28-7.34 (5H, m)
エチル］ピロリジン（１．２９ｇ）とジ−ｔ−ブチルジ
カルボ−ト（１．７９ｇ）のテトラヒドロフラン（２０
ｍｌ）溶液を１時間還流する。反応混合物に水（２ｍ
ｌ）を加え、溶液を減圧下で濃縮する。残渣をシリカゲ
ルを使用するクロマトグラフィ−に付し、ジクロロメタ
ンとアセトンの混合物（４：１ Ｖ／Ｖ）で溶出する。
目的化合物を含む画分を集め、減圧下で溶媒を留去し、
（３Ｒ）−１−ベンジル−３−［（１Ｓ）−１−（ｔ−
ブトキシカルボニルアミノ）エチル］ピロリジン（１．
２２ｇ）を得る。 [α]25 D ; -13.3°(C1.0 CHCl3) IR (Neat) : 1700-1680, 1500-1490, 1445, 1360, 124
0, 1160 cm-1 NMR (CDCl3, δ) : 1.12 (3H, d, J=6.52Hz), 1.45(9
H, s), 1.50-1.62 (1H,m), 1.85-2.74 (6H, m), 3.48-
3.63 (1H, m), 3.58 (2H, ABq, J=13.0Hz), 5.45-5.55
(1H, broad), 7.28-7.34 (5H, m)
Claims (1)
- 【請求項１】（ａ） 式 ： （式中、Ｒ1はイミノ保護基、Ｒ2は低級アルキル基を意
味する）で示される化合物またはヒドロキシ基における
その反応性誘導体、もしくはそれらの塩に 式 ： Ｘ−Ｎ 3 （式中、Ｘはアルカリ金属を意味する）で示される化合
物を反応させて、式 ： （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前と同じ意味）で示さ
れる化合物またはその塩を得、次いで（ｂ） 式 ： （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前と同じ意味）で示さ
れる化合物またはその塩をアジド基の還元反応に付すこ
とを特徴とする、式 ： （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前と同じ意味）で示さ
れるアミノアルキルピロリジン化合物またはその塩の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4253711A JPH0672999A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | アミノアルキルピロリジン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4253711A JPH0672999A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | アミノアルキルピロリジン化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0672999A true JPH0672999A (ja) | 1994-03-15 |
Family
ID=17255090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4253711A Pending JPH0672999A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | アミノアルキルピロリジン化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0672999A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0855390A1 (en) * | 1997-01-24 | 1998-07-29 | Takasago International Corporation | A process for producing optically active pyrrolidine derivatives |
| JP2002053550A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-19 | Toray Ind Inc | アミノピロリジン誘導体の製造法 |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP4253711A patent/JPH0672999A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0855390A1 (en) * | 1997-01-24 | 1998-07-29 | Takasago International Corporation | A process for producing optically active pyrrolidine derivatives |
| JP2002053550A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-19 | Toray Ind Inc | アミノピロリジン誘導体の製造法 |
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