JP2001510208A - ニトロソ化合物又はニトロン化合物から誘導されたアルコキシアミン化合物を含む重合可能な組成物 - Google Patents

ニトロソ化合物又はニトロン化合物から誘導されたアルコキシアミン化合物を含む重合可能な組成物

Info

Publication number
JP2001510208A
JP2001510208A JP2000503116A JP2000503116A JP2001510208A JP 2001510208 A JP2001510208 A JP 2001510208A JP 2000503116 A JP2000503116 A JP 2000503116A JP 2000503116 A JP2000503116 A JP 2000503116A JP 2001510208 A JP2001510208 A JP 2001510208A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl
cycloalkyl
atom
phenyl
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000503116A
Other languages
English (en)
Inventor
ネスヴァドバ,ペーター
クラーマー,アンドレアス
シュタインマン,アルフレッド
シュタウファー,ヴェルナーー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Schweiz AG
Original Assignee
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG filed Critical Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Publication of JP2001510208A publication Critical patent/JP2001510208A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F293/00Macromolecular compounds obtained by polymerisation on to a macromolecule having groups capable of inducing the formation of new polymer chains bound exclusively at one or both ends of the starting macromolecule
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/63Carboxylic acid nitriles containing cyano groups and nitrogen atoms further bound to other hetero atoms, other than oxygen atoms of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C255/64Carboxylic acid nitriles containing cyano groups and nitrogen atoms further bound to other hetero atoms, other than oxygen atoms of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with the nitrogen atoms further bound to oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/04Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/08Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms, attached to ring carbon atoms
    • C07D207/09Radicals substituted by nitrogen atoms, not forming part of a nitro radical
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/18Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D207/20Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F4/00Polymerisation catalysts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14The ring being saturated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)

Abstract

(57)【要約】 a)の、少なくとも1種エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマー及びb)式(I)(ここで、nは、0又は1である)で示される開始剤化合物を含む、重合可能な組成物。式(I)の化合物は、遊離基(a)及び式R10NO又は(b)で示される化合物から製造される。本発明の更なる特徴は、エチレン性不飽和モノマーの重合方法、新規な開始剤化合物及びこれらの重合への使用、中間体化合物並びにこの方法により製造されたポリマー又はコポリマーである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、a)エチレン性不飽和モノマーの少なくとも1種及びb)ニトロキ
シド開始剤化合物を含む重合可能な組成物に関する。本発明の他の特徴は、エチ
レン性不飽和モノマーを重合する方法、新規な開始剤化合物及びこの重合への使
用、またこの方法により製造されたポリマー又はコポリマーである。
【0002】 更に特に、1つの特徴において、本発明は、低い多分散性を有するポリマー樹
脂を提供する重合可能な組成物及び重合方法に関し、この重合方法は、モノマー
からポリマーへの増大した転化効率で進行する。特に、本発明は、単独ポリマー
、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、マルチブロックコポリマー、グラ
フトコポリマー等を、増大した重合速度及びモノマーからポリマーへの増大した
転化率で提供する、安定な遊離基により媒介される重合方法に関する。
【0003】 遊離基重合方法により製造されたポリマー又はコポリマーは、本来的に、広い
分子量分布又は一般的には約4より高い多分散性を有する。このことの1つの理
由は、遊離基開始剤のほとんどは、数分間から何時間にわたるまでの比較的長い
半減期を有し、したがってポリマー鎖のすべてが同時には開始されず、開始剤は
、重合プロセス中の任意の時点において種々の長さの成長する鎖を提供する、こ
とである。他の理由は、遊離基プロセスにおいて生長する鎖が、共に不可逆的に
鎖を終了させる反応プロセスである結合及び不均化として知られるプロセスにお
いて互いに反応しうる、ことである。このようにすることにおいて、種々の長さ
の鎖が、反応プロセス中の種々の時点において終了し、この結果極めて短い長さ
から極めて長い長さまでの広範囲の長さを有し、したがって広い多分散性を有す
るポリマー鎖からなる樹脂が生成する。遊離基重合プロセスを、狭い分子量分布
を得るために用いるべき場合には、すべてのポリマー鎖をほぼ同時に開始させな
ければならず、結合又は不均化プロセスによる成長ポリマー鎖の終了を回避しな
ければならない。
【0004】 従来のラジカル重合反応プロセスは、種々の重要な問題、例えば得られるポリ
マーの分子量、多分散性及び様式の予測又は制御の困難さを有する。これらの従
来技術の重合方法により、広い多分散性及び若干の例においては低重合速度を有
するポリマーが得られる。更に、従来技術の大半における遊離基重合プロセスは
、重合反応が強度に発熱的であり、高度に粘ちょう性であるポリマーでの効率的
な熱の除去がたいてい不可能であるため、制御するのが困難である。従来技術の
遊離基重合プロセスの発熱の性質により、しばしば反応体の濃度又は大規模化の
際の反応器の大きさが厳しく限定される。
【0005】 前述の制御不能な重合反応のために、従来の遊離基重合プロセスにおけるゲル
形成が、また、可能であり、広い分子量分布及び/又は生成物樹脂の濾過、乾燥
及び処理中の困難をもたらす。
【0006】 1986年4月8日に刊行された、Solomon等の米国特許出願公開第4 58 1 429号明細書には、ポリマー鎖の成長を制御して、短鎖又はオリゴマー性
ホモポリマー並びにブロックコポリマー及びグラフトコポリマーを含むコポリマ
ーを生成する、遊離基重合方法が開示されている。この方法においては、式(部
分的に)R′R″N−O−X(式中のXは、不飽和モノマーを重合することがで
きる遊離基種である)で表される開始剤が用いられている。この反応は、典型的
に低い転化速度を有する。特に述べたラジカルR′R″N−O・基は、1,1,
3,3−テトラエチルイソインドリン、1,1,3,3−テトラプロピルイソイ
ンドリン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2,2,5,5−テトラ
メチルピロリジン又はジ−t−ブチルアミンから誘導されたものである。
【0007】 欧州特許出願公開第735 052号明細書には、遊離基開始重合による狭い
多分散性を有する熱可塑性ポリマーの製造方法が開示されており、この方法には
、遊離基開始剤及び安定な遊離基薬剤をモノマー化合物に加えることが含まれる
【0008】 この方法には、開始剤ラジカルの制御不能な再結合が、この生成直後に発生し
、これにより開始剤ラジカルと安定な遊離基との間に変化可能な比率が生じると
いう欠点がある。したがって、重合プロセスについて十分な制御はない。
【0009】 したがって、経済的な遊離基重合手法を用いて、所定の分子量を有する狭い多
分散性のポリマー樹脂を製造する重合方法に対する必要性がなお存在する。これ
らの重合プロセスは、また、ポリマーの物理的特性、例えば粘度、硬さ、ゲル含
量、加工性、透明度、高い光沢、耐久性等を制御する。
【0010】 本発明の重合方法及び樹脂生成物は、種々の特定の用途、例えばポリマー配合
物用の相溶化剤(compatibilizing agents)、又はコーティングシステム用の分
散剤として有用なブロックコポリマーの製造、あるいはコーティング技術及び熱
可塑性フィルムにおいて用いるための狭い分子量の樹脂又はオリゴマーあるいは
トナー樹脂及び電子写真画像プロセスに用いる液体浸漬現像インク樹脂又はイン
ク添加剤としての使用を含む、多くの用途において有用である。
【0011】 驚異的なことに、ここで、特定の開始剤化合物を含む重合可能な組成物を提供
することにより、従来技術の前述の欠点を克服することができることが見出され
た。これらの化合物の大多数は新規であり、これらの化合物は、また、本発明の
目的である。この組成物の重合の結果、比較的低い温度及び短い反応時間におい
ても、狭い多分散性及び高いモノマーからポリマーへの転化率を有するポリマー
又はコポリマーが得られ、重合プロセスが工業的適用に特に好適になる。得られ
たコポリマーは、高い純度を有し、多くの場合において無色であり、したがって
更に精製することを必要としない。
【0012】 本発明の1つの目的は、a)少なくとも1種の、エチレン性不飽和モノマー又
はオリゴマー、及び b)式(I):
【0013】
【化21】
【0014】 (式中、 nは、0又は1であり、 R1、R2及びR3は、それぞれ互いに独立して、水素、ハロゲン、NO2、シア
ノ、−CONR56、−(R9)COOR4、−C(O)−R7、−OR8、−SR 8 、−NHR8、−N(R8)2、カルバモイル、ジ(C1〜C18アルキル)カルバモ
イル、−C(=NR5)(NHR6); 非置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18アルキニル、 C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つの 窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチルであるか;あるいは
2とR3は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基、( C4〜C12シクロアルカノン)−イル基又は少なくとも1つのO原子及び/又は NR8基を含むC3〜C12シクロアルキル基を形成し;あるいは nが1である場合には、下記式:
【0015】
【化22】
【0016】 の基は、下記式:
【0017】
【化23】
【0018】 の基であり; R4は、水素、C1〜C18アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又はテト
ラアルキルアンモニウム陽イオンであり; R5及びR6は、水素、C1〜C18アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基に より置換されたC2〜C18アルキル、あるいは一緒になってC2〜C12アルキレン
架橋基又は少なくとも1つのO原子又は/及びNR8原子により中断されたC2
12アルキレン架橋基を形成し; R7は、水素、C1〜C18アルキル又はフェニルであり; R8は、水素、C1〜C18アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基により置
換されたC2〜C18アルキルであり; R9は、C1〜C12アルキレン又は直接結合であり; R10は、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、C9
11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素 原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18ア ルキル、C9〜C11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくと
も1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチルであり; nが1である場合には、 R11は、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロア
ルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロ アルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3
12シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC 3 〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
する多環式シクロ脂肪族環系であるか;あるいは R10とR11は、一緒になって、C2〜C12アルキレン架橋基、C3〜C12アルキ
レノン(alkylen-on)架橋基、又は少なくとも1個のO原子若しくはN原子によ
り中断されたC2〜C12アルキレン架橋基であり、これらの架橋基は非置換であ るか又はC1〜C18アルキル、ヒドロキシ(C1〜C4)アルキル、フェニル、C7 〜C9フェニルアルキル、NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カル
ボキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ
若しくはジ(C1〜C4アルキル)アミノで置換されており、 R12は、水素、−(R9)COOR4、シアノ、−OR8、−SR8、−NHR8 、−N(R8)2、−NH−C(O)−R8、非置換の、C1〜C18アルキル、C2
18アルケニル、C2〜C18アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12 シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜 C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは R11及びR12は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基 を形成するが;ただし、 ビス−(2−シアノ−2−プロピル)−N−フェニルヒドロキシルアミンは除
外され、n=0の場合には、R10は、基−CR123とは異なる)で示される 開始剤化合物を含む重合可能な組成物を提供することである。
【0019】 式(I)の開始剤化合物は、用いるモノマー、オリゴマー又はモノマー/オリ
ゴマー混合物を基準として、好ましくは0.01モル%〜30モル%、一層好ま
しくは0.1モル%〜10モル%、最も好ましくは0.1モル%〜5モル%の量
で存在する。
【0020】 好ましくは、式(I)の化合物は、構造要素2,2,6,6−テトラ(C1〜 C4アルキル)ピペリジン、2,2,5,5−テトラ(C1〜C4アルキル)ピロ リジン又は1,1,3,3−テトラ(C1〜C4アルキル)イソインドリンを含ま
ない。
【0021】 ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素である。
【0022】 種々の置換基におけるアルキル基は、直鎖状又は分岐状であることができる。
1〜18個の炭素原子を有するアルキル基の例は、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、2−ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、2−
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキシル、t−オクチル
、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ヘキサ
デシル及びオクタデシルである。
【0023】 種々の置換基におけるアルケニル基は、直鎖状又は分岐状であることができる
。C2〜C18アルケニル基の例は、ビニル、アリル、2−メチルアリル、ブテニ ル、ヘキセニル、ウンデセニル及びオクタデセニルである。好ましいアルケニル
基は、1位における炭素原子が飽和されており、二重結合がO、C=O等のよう
な置換基により活性化されていないものである。C2〜C18アルキニル基の例は 、エチニル、2−ブチニル、3−ヘキシニル、5−ウンデシニル、6−オクタデ
シニルである。アルキニル基は、直鎖状又は分岐状であることができる。
【0024】 C7〜C9フェニルアルキル基は、例えば、ベンジル、フェニルプロピル、α,
α−ジメチルベンジル又はα−メチルベンジルである。
【0025】 C9〜C11フェニルアルキル基は、例えば、α,α−ジメチルベンジル、α, α−メチルエチルベンジル又はα,α−ジエチルベンジルである。
【0026】 非置換又は1、2若しくは3個のC1〜C4アルキル基で置換されているC3〜 C12シクロアルキル基は、代表的には、シクロプロピル、シクロペンチル、メチ
ルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘ
キシルである。
【0027】 −OHにより置換されているアルキル基は、代表的には2−ヒドロキシエチル
、2−ヒドロキシプロピル又は2−ヒドロキシブチルである。
【0028】 C1〜C8アルコキシ基、好ましくはC1〜C4アルコキシ基、特にメトキシ基又
はエトキシ基で置換されたC1〜C18アルキル基は、代表的には2−メトキシエ チル、2−エトキシエチル、3−メトキシプロピル、3−エトキシプロピル、3
−ブトキシプロピル、3−オクトキシプロピル及び4−メトキシブチルである。
【0029】 ジ(C1〜C4アルキル)アミノで置換されたC1〜C18アルキル基は、好まし くは、例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、2−ジメチルアミノエチル、
2−ジエチルアミノエチル、3−ジメチルアミノプロピル、3−ジエチルアミノ
プロピル、3−ジブチルアミノプロピル及び4−ジエチルアミノブチルである。
【0030】 C1〜C4アルキルアミノで置換されたC1〜C18アルキル基は、好ましくは、 例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、2−メチルアミノエチル、2−エチルア
ミノエチル、3−メチルアミノプロピル、3−エチルアミノプロピル、3−ブチ
ルアミノプロピル及び4−エチルアミノブチルである。
【0031】 C1〜C8アルコキシ基及び好ましくはC1〜C4アルコキシ基は、代表的にはメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペ
ントキシ、イソペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ又はオクトキシである。
【0032】 C1〜C4アルキルチオは、代表的には、チオメチル、チオエチル、チオプロピ
ル、チオイソプロピル、チオブチル及びチオイソブチルである。
【0033】 少なくとも1個の窒素原子若しくは酸素原子で中断されたC3〜C12シクロア ルキルは、代表的には、オキシラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン
、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクタム、オキシラン、アジリジン、ジアジ
リジン、ピロール、ピロリジン、チオフェン、フラン、ピラゾール、イミダゾー
ル、オキサゾール、オキサゾリジン、チアゾール、ピラン、チオピラン、ピペリ
ジン又はモルホリンである。
【0034】 C2〜C12アルキレン架橋基、好ましくはC2〜C6アルキレン架橋基の例は、 エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレンである。
【0035】 少なくとも1個のN原子又はO原子で中断されたC2〜C12アルキレン架橋基 は、例えば、−CH2−O−CH2−CH2、−CH2−O−CH2−CH2−CH2 、−CH2−O−CH2−CH2−CH2−CH2−、−CH2−O−CH2−CH2
O−CH2、−CH2−NH−CH2−CH2、−CH2−NH−CH2−CH2−C H2、−CH2−NH−CH2−CH2−CH2−CH2−、−CH2−NH−CH2
CH2−NH−CH2−又は−CH2−NH−CH2−CH2−O−CH2−である。
【0036】 C4〜C12シクロアルカノン−イルの例は、シクロペンタノン−イル、シクロ ヘキサノン−イル又はシクロヘプタノン−イルである。
【0037】 1,2若しくは3個の、C1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシにより置換
されたフェニルは、代表的には、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチ
ルフェニル、t−ブチルフェニル、ジ−t−ブチルフェニル、3,5−ジ−t−
ブチル−4−メチルフェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル及びブトキ
シフェニルである。
【0038】 多環式シクロ脂肪族環系の例は、アダマンタン、クバン、ツイスタン、ノルボ
ルナン、ビシクロ〔2,2,2〕オクタン又はビシクロ〔3,2,1〕オクタン
である。
【0039】 多環式複素環式脂肪族環系の例は、ヘキサメチレンテトラミン(ウロトロピン
)である。
【0040】 置換基R、R2及びR3が結合しているC原子は、好ましくは、第二級又は第三
級C原子であり、一層好ましくはこれは第三級C原子である。
【0041】 第三級C原子を介して窒素原子に結合しているC4〜C18アルキルの例は、以 下の基である:
【0042】
【化24】
【0043】 本発明において用いるのに適するモノマーは、水溶性又は水不溶性であること
ができる。水溶性モノマーは、典型的には、カルボン酸基又はカルボン酸基の塩
を含む。水不溶性モノマーは、典型的には酸及びフェノール性の基を含まない。
【0044】 本発明に適するカルボン酸非含有の代表的なモノエチレン性不飽和モノマーに
は、アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステル、例えばアクリル酸メチル
、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸ブチル及びメタクリル酸イソブチル;アクリル酸又はメタク
リル酸のヒドロキシアルキルエステル、例えばアクリル酸ヒドロキシエチル、ア
クリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ヒドロキシエチル及びメタクリル酸
ヒドロキシプロピル;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−第三ブチルアク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド;ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、アリルアルコール、アクリル酸ジメチル
アミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ホスホエチル
、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルイミダゾール、
酢酸ビニル、共役ジエン、例えばブタジエン又はイソプレン、スチレン、スチレ
ンスルホン酸塩、ビニルスルホン酸又は2−アクリルアミド−2−メチルプロパ
ンスルホン酸塩及び塩化アクリロイルが含まれる。
【0045】 本発明の重合可能な組成物は、更に、水、アルコール、エステル、エーテル、
ケトン、アミド、スルホキシド、炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群か
ら選択された溶媒を含むことができる。
【0046】 好ましいエチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーは、スチレン、置換スチレ
ン、共役ジエン、アクロレイン、酢酸ビニル、(アルキル)アクリル酸無水物、
(アルキル)アクリル酸塩、(アルキル)アクリル酸エステル又は(アルキル)
アクリルアミドからなる群から選択される。
【0047】 特に好ましいエチレン性不飽和モノマーは、スチレン、α−メチルスチレン、
p−メチルスチレン又は式CH2=C(Ra)−(C=Z)−Rb(式中で、Ra
水素原子又はC1〜C4アルキル基であり、RbはNH2、O(Me)、グリシジル
、非置換C1〜C18アルコキシ又はヒドロキシ置換C1〜C18アルコキシ、非置換
1〜C18アルキルアミノ、ジ(C1〜C18アルキル)アミノ、ヒドロキシ置換C 1 〜C18アルキルアミノ又はヒドロキシ置換ジ(C1〜C18アルキル)アミノであ
り;Meは、1価の金属原子であり、Zは、酸素又は硫黄である)で表される化
合物である。
【0048】 代表的な金属原子は、Na、K又はLiである。
【0049】 アルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ及びヒドロキシ置
換アルコキシの例及び好適なものは、前述のとおりである。
【0050】 特に好ましい組成物において、Raは水素原子又はメチル基であり、Rbは、N
2、グリシジル、非置換又はヒドロキシ置換C1〜C4アルコキシ、非置換C1
4アルキルアミノ、ジ(C1〜C4アルキル)アミノ、ヒドロキシ置換C1〜C4 アルキルアミノ又はヒドロキシ置換ジ(C1〜C4アルキル)アミノであり;Zは
、酸素である。
【0051】 最も好ましいのは、エチレン性不飽和モノマーがアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、
アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、アクリル酸ジメ
チルアミノエチル、アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ
)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキ
シエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ジメチ
ルアミノエチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、アクリロニトリル、アクリル
アミド又はメタクリルアミドである重合可能な組成物である。
【0052】 本発明において用いるのに適するコモノマーの例は、C3〜C6エチレン性不飽
和モノカルボン酸並びにそのアルカリ金属塩及びアンモニウム塩である。C3〜 C6エチレン性不飽和モノカルボン酸には、アクリル酸、メタクリル酸、クロト ン酸、ビニル酢酸及びアクリロキシプロピオン酸が含まれる。アクリル酸及びメ
タクリル酸は、好ましいモノエチレン性不飽和モノカルボン酸モノマーである。
【0053】 またコモノマーとして用いることができるC8〜C16エチレン性不飽和フェノ ール樹脂の例には、4−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロキシ−α−メチルスチ
レン及び2,6−ジt−ブチル−4−ビニルフェノールが含まれる。
【0054】 本発明においてコモノマーとして用いるのに適する他の群のカルボン酸モノマ
ーは、C4〜C6エチレン性不飽和ジカルボン酸及びそのアルカリ金属塩及びアン
モニウム塩並びにシス−ジカルボン酸の無水物である。適切な例には、マレイン
酸、無水マレイン酸、イタコン酸、メサコン酸、フマル酸及びシトラコン酸が含
まれる。無水マレイン酸及びイタコン酸は、好ましいモノエチレン性不飽和ジカ
ルボン酸モノマーである。
【0055】 本発明において用いるのに適する酸モノマーは、酸形態又は酸のアルカリ金属
塩又はアンモニウム塩の形態とすることができる。モノマー酸を中和するのに有
用な適切な塩基には、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム
等が含まれる。酸モノマーを、0〜50%、好ましくは0〜約20%のレベルま
で中和することができる。多くの場合において、カルボン酸モノマーを、完全に
中和された形態で用いることができる。モノマーを、重合前又は重合中に中和す
ることができる。
【0056】 好ましいのは、中和されたカルボン酸モノマー又は無水物である。
【0057】 好ましい開始剤化合物は、nが0又は1であり; R1、R2及びR3が、それぞれ互いに独立して、NO2、シアノ、−(R9)C OOR4、−CONR56、−C(O)−R7、−OR8、カルバモイル、ジ(C1 〜C18アルキル)カルバモイル、−C(=NR5)(NHR6); 非置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル又はC3〜C12シクロ
アルキル;あるいは アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アル
キルアミノ若しくはジ(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル 、C7〜C9フェニルアルキル又はC3〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換のフェニルであるか;あるいは R2及びR3が、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基を 形成し; R4が、C1〜C18アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又はテトラアル
キルアンモニウム陽イオンであり; R5とR6が、水素、C1〜C18アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基によ り置換されたC2〜C18アルキルであるか、又は一緒になってC2〜C12アルキレ
ン架橋基を形成し; R7が、水素、C1〜C18アルキル又はフェニルであり; R8が、C1〜C18アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基で置換されたC 2 〜C18アルキルであり; R9が、C1〜C4アルキレン又は直接結合であり; R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、フェ ニル、C9〜C11フェニルアルキル又はC3〜C12シクロアルキルであり; nが1である場合には、 R11が、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル又はC3〜C12シクロ
アルキルであるか、あるいは R10とR11が、一緒になって、C2〜C12アルキレン架橋基又は少なくとも1 個のO原子若しくはN原子により中断されたC2〜C12アルキレン架橋基であり 、この架橋基は非置換であるか又はC1〜C18アルキルで置換されており; R12が、非置換の、C1〜C18アルキル、フェニル、C7〜C9フェニルアルキ ル又はC3〜C12シクロアルキル、あるいは R11とR12が、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基を 形成するものである。
【0058】 一層好ましいのは、nが0又は1であり; R1、R2及びR3が、それぞれ互いに独立して、NO2、シアノ、−(R9)C OOR4、−CONR56、−C(O)−R7、−OR8、カルバモイル、ジ(C1 〜C8アルキル)カルバモイル、−C(=NR5)(NHR6); 非置換C1〜C12アルキル、C7〜C9フェニルアルキル又はC5〜C7シクロアル キル;あるいは アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アル
キルアミノ若しくはジ(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、C1〜C8アルキル、
7〜C9フェニルアルキル又はC5〜C7シクロアルキル;あるいは フェニルであるか;あるいは R2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル基を形成
し; R4が、C1〜C8アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又はテトラアル キルアンモニウム陽イオンであり; R5及びR6が、水素、C1〜C8アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基によ
り置換されたC2〜C8アルキル、又は一緒になってC2〜C6アルキレン架橋基を
形成し; R7が、水素、C1〜C8アルキル又はフェニルであり; R8が、C1〜C8アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基で置換されたC2 〜C8アルキルであり; R9が、C1〜C4アルキレン又は直接結合であり; R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル又はフ ェニルであり; nが1である場合には、 R11が、C1〜C18アルキル、フェニル又はC7〜C9フェニルアルキルあるい は R10とR11が、一緒になって、C2〜C12アルキレン架橋基又は少なくとも1 個のO原子若しくはN原子により中断されたC2〜C12アルキレン架橋基を形成 し、この架橋基は非置換であるか又はC1〜C18アルキルで置換されており; R12が、非置換の、C1〜C18アルキル又はフェニルである開始剤である。
【0059】 特に好ましい開始剤は、nが、0又は1であり; R1、R2及びR3が、それぞれ互いに独立して、NO2、シアノ、−C(O)−
7、−OR8、非置換C1〜C12アルキル、あるいは非置換又はC1〜C4アルキ ル、C1〜C4アルコキシ、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキル
アミノ若しくはジ(C1〜C4アルキル)アミノ置換のフェニル;あるいは R2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル基を形成
し; R7が、C1〜C8アルキル又はフェニルであり; R8が、C1〜C18アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基で置換されたC 2 〜C8アルキルであり; R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、フェ ニル又はC9〜C11フェニルアルキルであり; nが1である場合には、 R11が、C1〜C12アルキルであるか;あるいは R10とR11が、一緒になって、非置換又はC1〜C4アルキル置換のC2〜C6
ルキレン架橋基を形成し; R12が、水素、非置換C1〜C4アルキル又はフェニルである開始剤である。
【0060】 好ましくは、nが、0であり;R1が、シアノであり、R2及びR3が、それぞ れ互いに独立して、非置換の、C1〜C12アルキル又はフェニルであるか;ある いは R2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル基を形成
し; R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C12アルキル、C9
11フェニルアルキル又はフェニルである。
【0061】 他の好ましい群は、nが1でありR1がシアノであり;R2及びR3がそれぞれ 互いに独立して非置換の、C1〜C12アルキル又はフェニルであるか;あるいは R2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル基を形成し
;R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C12アルキル、C9
11フェニルアルキル又はフェニルであるか;あるいはR10とR11が、一緒にな
って、非置換又はC1〜C4アルキル置換のC2〜C6アルキレン架橋基を形成し;
12が、C1〜C4アルキルであるものである。
【0062】 本発明は、また、遊離基重合プロセス及びこれにより得られたポリマーに関し
、このプロセスでは、前述の従来技術のプロセスの問題及び欠点の多くが克服さ
れる。
【0063】 この方法は、オリゴマー、コオリゴマー、ポリマーあるいはブロックコポリマ
ー又はランダムコポリマーを、少なくとも1種の、エチレン性不飽和モノマー又
はオリゴマーの遊離基重合により製造するために用いられ、この方法は、モノマ
ー又はモノマー/オリゴマーを、式(I):
【0064】
【化25】
【0065】 で示される開始剤化合物の存在下で、O−C結合の開裂を実施して2つの遊離基
を形成させ、ラジカル・CR123が重合を開始することができる反応条件下 で(共)重合することを含む。
【0066】 好ましくは、O−C結合の開裂を、加熱、超音波処理又は化学作用のある輻射
線への暴露により実施する。
【0067】 O−C結合の開裂を加熱により実施するためには、温度を50℃より高く、か
つ160℃より低い温度に上昇させるのが特に好ましい。
【0068】 この方法を、有機溶媒の存在下又は水の存在下又は有機溶媒と水との混合物中
で実施することができる。追加の共溶媒又は界面活性剤、例えばグリコール又は
脂肪酸のアンモニウム塩が存在することができる。他の適切な共溶媒を、以下に
記載する。
【0069】 好ましいプロセスでは、可能な限り少量の溶媒を用いる。反応混合物中で、3
0重量%より多量、特に好ましくは50%より多量、最も好ましくは80%より
多量のモノマー及び開始剤を用いるのが好ましい。
【0070】 有機溶媒を用いる場合には、適切な溶媒又は溶媒の混合物は、代表的には、純
粋なアルカン(ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン)、炭化水素(ベ
ンゼン、トルエン、キシレン)、ハロゲン化炭化水素(クロロベンゼン)、アル
カノール(メタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコール
モノメチルエーテル)、エステル(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は
酢酸ヘキシル)及びエーテル(ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル)又はこれらの混合物である。
【0071】 水性重合反応に、水混和性又は親水性共溶媒を補って、反応混合物がモノマー
転化中を通じて均一な単一相を確実に維持するのを助けることができる。水性溶
媒媒体が、すべての重合反応が完了した後まで反応体又はポリマー生成物の沈殿
又は相分離を防止する溶媒システムを提供するのに有効である限りは、すべての
水溶性共溶媒又は水混和性共溶媒を用いることができる。本発明において有用な
例示的な共溶媒を、脂肪族アルコール、グリコール、エーテル、グリコールエー
テル、ピロリジン、N−アルキルピロリジノン、N−アルキルピロリドン、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、アミド、カルボン酸及びこれ
らの塩、エステル、有機硫化物、スルホキシド、スルホン、アルコール誘導体、
ヒドロキシエーテル誘導体、例えばブチルカルビトール又はセロソルブ、アミノ
アルコール、ケトン等、並びにこれらの誘導体及びこれらの混合物からなる群か
ら選択することができる。特定的な例には、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ジオキサン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレング
リコール、グリセロール、ジプロピレングリコール、テトラヒドロフラン及び他
の水溶性又は水混和性物質、及びこれらの混合物が含まれる。水と水溶性有機液
体又は水混和性有機液体との混合物を、水性反応媒体として選択した場合には、
水対共溶媒の重量比は、代表的には約100:0〜約10:90の範囲内である
【0072】 開始剤化合物は、用いるモノマー又はモノマー混合物を基準として、好ましく
は0.01モル%〜30モル%、一層好ましくは0.1モル%〜10モル%、最
も好ましくは0.1モル%〜5モル%の量で存在する。
【0073】 モノマー混合物又はモノマー/オリゴマー混合物を用いる際には、モル%の計
算は、混合物の平均分子量を基準とする。
【0074】 本発明の親水性モノマー、ポリマー及びコポリマーを、互いに、又は重合反応
混合物から、例えば反応媒体のpHを変化させるか又は他の十分知られている従来
の分離手法により、分離することができる。
【0075】 重合温度は、約50℃〜約180℃の範囲内、好ましくは約80℃〜約150
℃の範囲内とすることができる。約180℃より高い温度では、モノマーからポ
リマーへの制御された転化率が低下し、熱的に開始されたポリマーのような不確
定かつ望ましくない副産物が生成するか、又は重合調節剤の崩壊が生じうる。し
ばしば、これらの副産物は、ポリマー混合物を脱色し、これを除去するために精
製工程が必要であるか又はこれが処理しにくいことがありうる。
【0076】 したがって、比較的低い温度においてすでに活性である本発明の開始剤の驚異
的に高い反応性により、反応時間が短くなる。得られたポリマーは、通常無色で
あり、このポリマーをほとんどの場合において、他の精製工程なしに用いること
ができる。このことは、工業的大規模化を考える際に重要な利点である。
【0077】 重合工程が完了した後、形成した得られた(コ)ポリマーを分離する。本発明
の方法の分離工程は、既知の手順、例えば未反応モノマーを蒸留して除去するか
又は適切な非溶剤中で沈殿させ、沈殿したポリマーを濾過し、続いてポリマーを
洗浄し、乾燥することにより、実施する。
【0078】 本発明の更に別の実施態様は、少なくとも2つの工程を含むブロックコポリマ
ーの製造方法であり、この方法は、式(II):
【0079】
【化26】
【0080】 (式中、 n、R1、R2、R3、R10、R11及びR12は前述のとおりである)で示される アルコキシアミン末端基を有するポリマーを生成させ、このポリマーは開始基−
CR123を有し、必須的に末端基として結合しているオキシアミン基を有し 、更なるモノマーを加え、続いて加熱してブロックコポリマーを生成させること
を含む。
【0081】 ホモポリマー又はコポリマーは、また、いわゆる「その場所でのプロセス」に
おいて製造することができ、この意味は、式(I)で表される化合物を、ラジカ
ル・CR123及び式R10NO又は下記式:
【0082】
【化27】
【0083】 で示される化合物から、エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーの存在下で製
造する、ことである。ラジカル・CR123自体は、下記のようにして、好ま しくは加熱することによりこのラジカルを遊離する化合物から製造することがで
きる。このような条件の下で、式(I)で表される化合物の生成、この化合物の
開裂及び重合は、同時に起こる。反応温度を変化させることにより、種々の反応
経路が好ましい。このような反応条件下で、短い反応時間及び低い多分散性にお
いて、なお高い転化率が達成されることを注記するのは、重要である。
【0084】 また、エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーを、ラジカル開始剤及び式R 10 NO又は下記式:
【0085】
【化28】
【0086】 で示される化合物の混合物の後に加えることもできる。この場合には、式(I)
で示される化合物を、100%までとすることができるある量で製造し、その後
モノマーを、式(I)で示される化合物を更に分離せずに加える。
【0087】 したがって、本発明の他の目的は、オリゴマー、コオリゴマー、ポリマー又は
コポリマー(ブロック又はランダム)を、少なくとも1種の、エチレン性不飽和
モノマー又はオリゴマーの遊離基重合により製造する方法であり、この方法は、
遊離基・CR123(V)を、中性分子を除去することができるか、又は熱処 理若しくは光化学処理によりC−C結合開裂を行うことができる化合物からか、
あるいは反応性ラジカルとの反応における化合物R123C−Hからの水素除 去により生成させ、遊離基・CR123(V)を、化合物R10NO又は下記式 :
【0088】
【化29】
【0089】 の化合物と、ラジカル反応を妨害しない溶媒中で、少なくとも1種の、エチレン
性不飽和モノマー又はオリゴマーの存在下で反応させることを含む。
【0090】 適切なモノマーは、前記したものである。式(II)のポリマーを、次の反応工
程の前に分離するか又はこれを分離せずに用いることができ、第2のモノマーを
第1の工程の反応混合物に加える。
【0091】 ブロックコポリマーは、例えば、ポリスチレンとポリアクリレートとのブロッ
クコポリマー(例えば、ポリ(スチレン−コ−アクリレート)又はポリ(スチレ
ン−コ−アクリレート−コ−スチレン)である。これらは、接着剤又はポリマー
配合物用の相溶化剤として、又はポリマー強靭化剤として有用である。ポリ(メ
チルメタクリレート−コ−アクリレート)ジブロックコポリマー又はポリ(メチ
ルアクリレート−コ−アクリレート−コ−メタクリレート)トリブロックコポリ
マーは、コーティング系用の分散剤として、コーティング添加剤(例えば、レオ
ロジー剤(rheological agents)、適合化剤、反応性希釈剤)として、又はコー
ティング中の樹脂成分(例えば高固体ペイント)として有用である。スチレン、
(メタ)アクリレート及び/又はアクリロニトリルのブロックコポリマーは、有
用なプラスチック、エラストマー及び接着剤である。
【0092】 更に、ブロックが極性モノマーと無極性モノマーとの間で変化する本発明のブ
ロックコポリマーは、両親媒性界面活性剤又は高度に均一なポリマー配合物を製
造するための分散体としての多くの用途において有用である。
【0093】 本発明の(コ)ポリマーは、1,000〜40,0000g/モル、好ましく
は2,000〜250,000g/モル、一層好ましくは2,000〜200,
000g/モルの数平均分子量を有することができる。大量に生成した際には、
数平均分子量は、500,000までになりうる(最小の数平均分子量は、前述
のとおりである)。数平均分子量は、サイズ排除クロマトグラフィー(SEC)
、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)、マトリックス補助レーザー脱着/イ
オン化質量分析法(MALDI−MS)又は、開始剤が、モノマーと容易に区別
することができる基を有する場合には、NMR分光法又は他の従来の方法により
、測定することができる。
【0094】 本発明の(コ)ポリマーは、典型的には低い多分散性を有する。好ましくは、
多分散性は、1.1〜2.2であり、一層好ましくは1.1〜1.9であり、最
も好ましくは1.2〜1.8である。
【0095】 したがって、本発明は、また、新規なブロック、マルチブロック、星状、勾配
、ランダム、超分岐状(hyperbranched)及び樹枝状コポリマー並びにグラフト 又はコポリマーの合成を包含する。
【0096】 本発明により製造されたポリマーは、以下の用途に有用である:
【0097】 接着剤、洗浄剤、分散剤、乳化剤、界面活性剤、消泡剤、接着増進剤、腐食防
止剤、粘度改善剤、潤滑剤、レオロジー変性剤、増粘剤、架橋剤、紙処理剤、水
処理剤、電子材料、ペイント、コーティング、写真、インク材料、画像形成剤、
超吸収剤(superabsorbants)、化粧品、ヘア製品、保存剤、殺生物剤物質又は アスファルト、革、織物、セラミックス及び木材の変性剤。
【0098】 本発明の重合が「生長(living)」重合であるため、この重合を、実際に随意
に開始及び停止することができる。更に、ポリマー生成物は、流れ続ける物質中
で重合の継続を可能にする官能アルコキシアミン基を維持する。したがって、本
発明の1つの実施態様において、最初の重合工程において第1のモノマーが消費
された後に第2のモノマーを加えて、第2の重合工程において成長しているポリ
マー鎖上に第2のブロックを形成することができる。したがって、同一の又は異
なるモノマーを用いて追加の重合を実施して、マルチブロックコポリマーを製造
することができる。更に、これはラジカル重合であるので、ブロックを、本質的
に任意の順序で製造することができる。連続的重合工程が、例えばイオン性重合
の場合であるように、最も不安定なポリマー中間体から最も安定なポリマー中間
体へと流れなければならないブロックコポリマーの製造には、必ずしも限定され
ない。したがって、ポリアクリロニトリル又はポリ(メタ)アクリレートブロッ
クをまず製造し、次にスチレン又はブタジンブロックをこれに結合させるマルチ
ブロックコポリマー等を製造することができる。
【0099】 更に、本発明のブロックコポリマーの異なるブロックを接合させるのに必要な
結合基はない。単に連続的モノマーを加えて連続的ブロックを形成することがで
きる。
【0100】 複数の特別に設計されたポリマー及びコポリマー、例えば、特にC. J. Hawker
によりAngew. Chemie, 1995, 107, 第1623-1627頁に記載された星状及びグラフ ト(コ)ポリマー、K. Matyaszewski等によりMacrmolecules 1996, Vol 29, No.
12, 第4167-4171頁に記載されたデンドリマー(dendrimers)、C. J. Hawker等
によりMacromol. Chem. Phys. 198, 155-166 (1997)に記載されたグラフト(共 )ポリマー、C. J. HawkerによりMacromolecules 1996, 29, 2686-2688に記載さ
れたランダムコポリマー又はN. A. ListigoversによりMacromolecules 1996, 29
, 8992-8993に記載されたジブロック及びトリブロックコポリマーが、本発明に より達成可能である。
【0101】 本発明の更に他の目的は、少なくとも1個の開始基−CR123及び少なく とも1種の式(IIa):
【0102】
【化30】
【0103】 (式中、 n、R1、R2、R3、R10、R11及びR12は前述のとおりの意味及び好ましい 意味を有する)で示されるオキシアミン基を有し、前述のプロセスにより得られ
るポリマー又はオリゴマーである。
【0104】 他の特徴において、本発明は、式(I):
【0105】
【化31】
【0106】 (式中、 nは、0又は1であり、 R1、R2及びR3は、それぞれ互いに独立して、水素、ハロゲン、NO2、シア
ノ、−CONR56、−(R9)COOR4、−C(O)−R7、−OR8、−SR 8 、−NHR8、−N(R8)2、カルバモイル、ジ(C1〜C18アルキル)カルバモ
イル、−C(=NR5)(NHR6); 非置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18アルキニル、 C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル又は少なくとも1つの窒 素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル又は少なく とも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるい は 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチルであるか;あるいは
2とR3は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基、( C4〜C12シクロアルカノン)−イル基又は少なくとも1つのO原子及び/又は NR8基を含むC3〜C12シクロアルキル基を形成し;あるいは nが1である場合には、下記式:
【0107】
【化32】
【0108】 の基は、下記式:
【0109】
【化33】
【0110】 の基であり; R4は、水素、C1〜C18アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又はテト
ラアルキルアンモニウム陽イオンであり; R5及びR6は、水素、C1〜C18アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基に より置換されたC2〜C18アルキル、あるいは一緒になってC2〜C12アルキレン
架橋基又はO原子又は/及びNR8原子により中断されたC2〜C12アルキレン架
橋基を形成し; R7は、水素、C1〜C18アルキル又はフェニルであり; R8は、水素、C1〜C18アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基で置換さ
れたC2〜C18アルキルであり; R9は、C1〜C12アルキレン又は直接結合であり; R10は、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、C9
11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素 原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18ア ルキル、C9〜C11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくと
も1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
する多環式シクロ脂肪族環系であり; nが1である場合には、 R11は、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロア
ルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シク ロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3
12シクロアルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3 〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
する多環式シクロ脂肪族環系であり; R10とR11は、一緒になって、C2〜C12アルキレン架橋基、C3〜C12アルキ
レノン(alkylen-on)架橋基、又は少なくとも1個のO原子若しくはN原子によ
り中断されたC2〜C12アルキレン架橋基であり、この架橋基は非置換であるか 又はC1〜C18アルキル、ヒドロキシ(C1〜C4)アルキル、フェニル、C7〜C 9 フェニルアルキル、NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキ
シ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若し
くはジ(C1〜C4アルキル)アミノで置換されており、 R12は、水素、−(R9)COOR4、シアノ、−OR8、−SR8、−NHR8 、−N(R8)2、−NH−C(O)−R8、非置換の、C1〜C18アルキル、C2
18アルケニル、C2〜C18アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12 シクロアルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C1 2 シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ(C1 〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは R11とR12は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基を形 成するが;ただし、 nが0である場合には、Rは、基−CR123とは異なり、R1は、CNであ
り、そしてR2及びR3がメチルである場合には、R10は、フェニル、メチル、又
は2,4,6−トリメチル、クロロ、フルオロ、(3−メチル,4−フルオロ)
、(3−フルオロ,4−メチル)、(4−フルオロ,2−メチル)、(4−フル
オロ,2−メトキシ)、(2−フルオロ,3,5−メチル)、2,5−ジ−t−
ブチル、ニトロ、3,5−ジニトロ若しくは2(−O−C(CH3)2CN)4− ニトロで置換されたフェニルではなく;そして nが1である場合には、R12は、水素であり、R11は、フェニル又はベンジル
であり、R11は、フェニルであり、 R1、R2及びR3は、基−C(CH3)2CN、−C(CH3)2COOCH3、ベンジ
ル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、下記式:
【0111】
【化34】
【0112】 のいずれの基ではなく、式(I)の化合物は、下記式:
【0113】
【化35】
【0114】 の化合物ではない)で示される化合物に関する。
【0115】 好ましい化合物は、nが0又は1であり;R1、R2及びR3が、それぞれ互い に独立して、NO2、シアノ、−C(O)−R7、−OR8、非置換C1〜C12アル
キルあるいは非置換であるか又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、シア
ノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノで置換されたフェニル;あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一
緒になって、C5〜C7シクロアルキル基を形成し;R7が、C1〜C8アルキル又 はフェニルであり;R8が、C1〜C8アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ 基で置換されたC2〜C8アルキルであり;R10が、第三級C原子を介して窒素原
子に結合したC4〜C18アルキル、フェニル又はC9〜C11フェニルアルキルであ
り; nが1である場合には、 R11が、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル又はC3〜C12シクロ
アルキルであるか、あるいはR10とR11が、一緒になって、非置換又はC1〜C4 アルキル置換のC2〜C6アルキレン架橋基を形成し;R12が、非置換の、C1〜 C4アルキル又はフェニルである化合物である。
【0116】 特に好ましいのは、nが、0であり;R1が、シアノであり;R2及びR3が、 それぞれ互いに独立して、非置換の、C1〜C12アルキル又はフェニルであるか ; あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル基
を形成し;R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C12アルキ ル又はC9〜C11フェニルアルキルである化合物である。
【0117】 他の特に好ましい群の化合物は、nが、1であり;R1が、シアノであり;R2 及びR3が、それぞれ互いに独立して、非置換の、C1〜C12アルキル又はフェニ
ルであるか;あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シク
ロアルキル基を形成し;R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4 〜C12アルキル、C9〜C11フェニルアルキル又はフェニルであるか;あるいは R10及びR11が、一緒になって、非置換又はC1〜C4アルキル置換の、C2〜C6 アルキレン架橋基を形成し、そしてR11が、C1〜C4アルキルである化合物であ
る。
【0118】 異なる置換基R1〜R12についての他の意味及び好ましいものは、前述のとお りである。
【0119】 本発明は、また、式(IV):
【0120】
【化36】
【0121】 (式中、 nは、0又は1であり、 R1、R2及びR3は、それぞれ互いに独立して、水素、ハロゲン、NO2、シア
ノ、−CONR56、−(R9)COOR4、−C(O)−R7、−OR8、−SR 8 、−NHR8、−N(R8)2、カルバモイル、ジ(C1〜C18アルキル)カルバモ
イル、−C(=NR5)(NHR6); 非置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18アルキニル、 C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル又は少なくとも1つの窒 素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチルであるか;あるいは
2とR3は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基、( C4〜C12シクロアルカノン)−イル基又は少なくとも1つのO原子及び/又は NR8基を含むC3〜C12シクロアルキル基を形成し;あるいは nが1である場合には、下記式:
【0122】
【化37】
【0123】 の基は、下記式:
【0124】
【化38】
【0125】 の基であり; R4は、水素、C1〜C18アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又はテト
ラアルキルアンモニウム陽イオンであり; R5及びR6は、水素、C1〜C18アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基に より置換されたC2〜C18アルキル、又は一緒になってC2〜C12アルキレン架橋
基あるいは少なくとも1つのO原子又は/及びNR8原子により中断されたC2
12アルキレン架橋基を形成し; R7は、水素、C1〜C18アルキル又はフェニルであり; R8は、水素、C1〜C18アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基により置
換されたC2〜C18アルキルであり; R9は、C1〜C12アルキレン又は直接結合であり; R10は、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、C9
11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素 原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18ア ルキル、C9〜C11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくと
も1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
する多環式シクロ脂肪族環系であり; nが1である場合には、 R11は、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロア
ルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロ アルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3
12シクロアルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3 〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
する多環式シクロ脂肪族環系であり; R10とR11は、一緒になって、C2〜C12アルキレン架橋基、C3〜C12アルキ
レノン(alkylen-on)架橋基又は少なくとも1個のO原子若しくはN原子により
中断されたC2〜C12アルキレン架橋基であり、これらの架橋基は非置換である か又はC1〜C18アルキル、ヒドロキシ(C1〜C4)アルキル、フェニル、C7
9フェニルアルキル、NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボ
キシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若
しくはジ(C1〜C4アルキル)アミノで置換されており、 R12は、水素、−(R9)COOR4、シアノ、−OR8、−SR8、−NHR8 、−N(R8)2、−NH−C(O)−R8、非置換C1〜C18アルキル、C2〜C18 アルケニル、C2〜C18アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シク
ロアルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シ クロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
(C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは R11とR12は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基を 形成するが;ただし、 nが0である場合には、R10は基−CR123とは異なり、R1がCNであり
、R2及びR3がメチルである場合には、R10は、フェニル、メチル、又は2,4
,6−トリメチル、クロロ、フルオロ、(3−メチル,4−フルオロ)、(3−
フルオロ,4−メチル)、(4−フルオロ,2−メチル)、(4−フルオロ,2
−メトキシ)、(2−フルオロ,3,5−メチル)、2,5−ジ−t−ブチル、
ニトロ、3,5−ジニトロ若しくは2(−O−C(CH3)2CN)4−ニトロで 置換されたフェニルではなく;そして nが1である場合には、 R12は、水素であり、R10は、フェニル又はベンジルであり、R11は、フェニ
ルであり、 R1、R2及びR3は、−C(CH3)2CN、−C(CH3)2COOCH3、ベンジル
、メチルベンジル、ジメチルベンジル、下記式:
【0126】
【化39】
【0127】 で示されるいずれの基ではなく、式(IV)の化合物は、下記式:
【0128】
【化40】
【0129】 で示される化合物である)で示される化合物に関する。
【0130】 異なる置換基R1〜R12についての意味及び好ましいものは、すでに述べたと おりである。
【0131】 本発明の他の目的は、式(I):
【0132】
【化41】
【0133】 で示される化合物を、中性分子を除去することができるか、又は熱処理若しくは
光化学処理によりC−C結合開裂を行うことができる化合物からか、あるいは反
応性ラジカルとの反応における化合物R123C−Hからの水素除去により、 遊離基・CR123(V)を生成させ、該遊離基・CR123(V)を、化合
物RNO又は下記式:
【0134】
【化42】
【0135】 と、ラジカル反応を妨害しない溶媒中で反応させることにより製造する方法であ
る。
【0136】 除去されることができる中性分子の例は、N2又はO2である。水素を除去する
ことができる反応性ラジカルは、例えばアルコキシラジカルである。
【0137】 適切な溶媒は、芳香族、脂肪族又はシクロ脂肪族炭化水素、例えばトルエン、
ベンゼン、キシレン、オクタン又はシクロヘキサン、エーテル、例えばジオキサ
ン、テトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、アルコール、グリコール又はエ
ステル及びカルボン酸のアミドである。
【0138】 遊離基・CR123は、式(IIIa)、(IIIb)又は(IIIc):
【0139】
【化43】
【0140】 で示される化合物の加熱又は照射により製造するのが好ましい。
【0141】 好ましくは、ラジカル・CR123を、40℃〜150℃、一層好ましくは 60℃〜150℃、最も好ましくは70℃〜140℃の温度において熱反応させ
ることにより、製造する。R1、R2及びR3は、前記したとおりの意味及び好ま しい意味を有する。
【0142】 式(VI)のニトロンは、既知の方法により製造することができる。
【0143】 5員環ニトロンの例は、例えば、J. B. Bapat及びD. St. C. BlackによりAust
. J. Chem. 21, 2483 (1968)に記載されたものである。代表的な例を、以下に示
した。
【0144】
【化44】
【0145】 他のニトロンは、H. Gnichtel, K.E. SchusterによりChem. Ber. 111, 1171 (
1978)に記載されている。
【0146】
【化45】
【0147】 A. G. Krainev, T.D. Williams, D. J. Bigelowは、J. Magnet. Res., B 111,
272 (1996)に、以下のニトロンの製造を記載している。
【0148】
【化46】
【0149】 6員環ニトロンの例は、例えば、Shun-Ishi Murahashi等により、J. Org. Che
m. 55, 1736 (1990)に記載されている。
【0150】
【化47】
【0151】 これらのニトロンを、適切な反応性ラジカル・CR123と反応させて、式 (I)の化合物を得ることができる。
【0152】 ニトロンと反応性ラジカルとの間の若干の反応生成物が報告されており、これ
らを以下に列挙する。 M. Iwamura, N. Inamoto: Bull. Chem. Soc. Japan 43, 856 (1970):
【0153】
【化48】
【0154】 又はD.A. Becker: J. Am. Chem. Soc. 118, 905 (1996)
【0155】
【化49】
【0156】 M. Iwamura, N. Inamoto: Bull. Chem. Soc. Japan 43, 860 (1970)には、以 下の化合物の製造が報告されている。
【0157】
【化50】
【0158】 これらの化合物のいずれも、エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマ−を重合
するのには用いられていない。
【0159】 C−中心ラジカルの生成は、特に、Houben Weyl, Methoden der Organischen
Chemie, Vol. E 19a, 第60〜147頁に記載されている。これらの方法は、一般的 類似性において用いられる。
【0160】 ラジカルをニトロソ化合物と反応させる反応は、それ自体知られており、B. A
. Gingras等によりJ. Chem. Soc. 第1920頁、1954に記載されている。
【0161】 最も好ましくは、遊離基源は、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,
2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2′−アゾビス(2,4−
ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメ
チルバレロニトリル)、1,1′−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリ
ル)、2,2′−アゾビス(イソブチルアミド)二水和物、2−フェニルアゾ−
2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル、ジメチル−2,2′−アゾビ
スイソブチレート、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2,2′−
アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、2,2′−アゾビス(2−メチ
ルプロパン)、2,2′−アゾビス(N,N′−ジメチレンイソブチルアミジン
)の遊離塩基又は塩酸塩、2,2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)の遊離
塩基又は塩酸塩、2,2′−アゾビス{2−メチル−N−〔1,1−ビス(ヒド
ロキシメチル)エチル〕プロピオンアミド}又は2,2′−アゾビス{2−メチ
ル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピ
オンアミドである。
【0162】 これらの化合物は、市場で入手できる。 1つより多いラジカル源を用いる場合には、異なる置換パターンの混合物が得
られる。本発明は、また、式(I)で表される開始剤化合物を、エチレン性不飽
和モノマーの重合に用いることに関する。
【0163】 式(I)のアルコキシアミドを、前述のようにして製造し、分離することがで
きる。しかし、式(I)の化合物を、その場で、重合中に、前述の方法において
中間体として分離した式(IV)の化合物を、重合可能なモノマーに加え、やはり
その場所で、対応するラジカル開始剤を加えることにより、製造することもでき
る。
【0164】 したがって、本発明の他の特徴は、 a)少なくとも1種の、エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマー; b)式(IV)の化合物及び c)式(V):
【0165】
【化51】
【0166】 (式中、 n、R1、R2、R3、R10、R11及びR12は、好ましいものも含めて前述のと おりである)で示される遊離基を生成させることができる前述のラジカル開始剤
を含む、重合可能な組成物である。
【0167】 本発明の更に他の特徴は、オリゴマー、コオリゴマー、ポリマー又はコポリマ
ー(ブロック又はランダム)を、エチレン性不飽和モノマー/オリゴマーの少な
くとも1種の遊離基重合により製造する方法に関し、この方法は、組成物を前述
のように熱又は化学作用のある輻射線の下に置くことを含む。
【0168】 本発明の更なる別の特徴は、式(I)の化合物を、エチレン性不飽和モノマー
を重合するのに用いることである。
【0169】 適切な開始剤は、好ましいものも含めて、前述のとおりである。
【0170】
【実施例】
以下の実施例は、本発明を更に詳細に例示する。
【0171】A)N,N,O−三置換ヒドロキシルアミン(表1)の製造の実施例 実施例A1 N−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−N,O−ビス−( 1−シアノ−1−メチルエチル)ヒドロキシルアミン化合物(101)の製造 6.6g(0.06モル)の1−ニトロソ−1,1,3,3−テトラメチルブ
タン(Org. Synth. 65, 166 (1986)に従って製造した)及び24.9g(0.1
5モル)のアゾビスイソブチロニトリルを、100mlのベンゼンに溶解した。ア
ルゴンで注意深くパージした後、この溶液を、アルゴン雰囲気の下で2時間還流
した。ベンゼンを回転蒸発器上で留去し、残留物を100mlのヘキサンで希釈し
た。沈殿した2,3−ジメチルコハク酸ジニトリルを、濾過により除去した。濾
液を蒸発させ、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸
エチル 9:1)を適用した。14.8g(88%)の式(101)の化合物を
、粘性油として得た。
【0172】実施例A2 N−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−N,O−ビス−( 1−シアノ−シクロヘキシル)−ヒドロキシルアミン(102)の製造 1.4g(0.01モル)の1−ニトロソ−1,1,3,3−テトラメチルブ
タン及び4.9g(0.02モル)のアゾビス−(1−シアノシクロヘキサン)
を、25mlのクロロベンゼンに溶解した。アルゴンで注意深くパージした後、こ
の溶液を、アルゴン雰囲気の下で3時間にわたり100℃に加熱した。クロロベ
ンゼンを、回転蒸発器上で留去した。残留物を、シリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル 9:1)に付し、ヘキサンから再結晶
した。1.45g(39%)の式(102)の化合物を得た。
【0173】
【表1】
【0174】実施例A3 1−(1−シアノ−1−メチルエトキシ)−2−(1−シアノ−1 −メチルエチル)−2,5,5−テトラメチルピロリジン(105)の製造 16g(0.125モル)の2,5,5−トリメチルピロリン−1−酸〔M.J.
Turner等:Synth. Commun. 16 (11), 1377(1986)に従って製造した〕及び37 g(0.225モル)のアゾビスイソブチロニトリルを、150mlのベンゼンに
溶解した。アルゴンで注意深くパージした後、この溶液を、アルゴン雰囲気の下
で6時間還流させた。ベンゼンを回転蒸発器上で蒸留除去し、残留物を100ml
のヘキサンで希釈した。沈殿した2,3−ジメチルコハク酸ジニトリルを、濾過
により除去した。濾液を蒸発させ、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン/酢酸エチル 9:1)に適用した。9.6g(29%)の式(1
01)の化合物が得られ、融点は65〜69℃であった。
【0175】実施例A4 1−(1−シアノ−シクロヘキシルオキシ)−2−(1−シアノ− シクロヘキシル)−2,4,4−テトラメチルピロリジン(106)の製造 7.65g(0.06モル)の2,4,4−トリメチルピロリン−1−オキシ
ド〔M.J. Turner等:Synth. Commun. 16 (11), 1377 (1986)に従って製造した〕
及び22g(0.09モル)のアゾビス−(1−シアノシクロヘキサン)を、7
5mlのクロロベンゼンに溶解した。アルゴンで注意深くパージした後、この溶液
を、アルゴン雰囲気の下で8.5時間にわたり100℃に加熱した。クロロベン
ゼンを、回転蒸発器上で留去した。残留物を、シリカゲルを用いたカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル 9:1)に付し、ジクロロメタン/ヘキ
サンから再結晶した。10.1g(49%)の式(102)の化合物を得、融点
は124〜127℃であった。
【0176】
【表2】
【0177】 化合物V−65及びV−70(WACO)は、市場で入手できる。
【0178】 B)表1及び表2の化合物を開始剤として用いた重合 一般的注: 溶媒及びモノマーは、ビグルー(Vigreux)カラムの上で、アルゴン雰囲気下 又は真空下で、用いる直前に蒸留した。 酸素を除去するために、すべての重合反応混合物を、重合前にアルゴンを用い
てフラッシュし、真空下で凍結−解凍サイクルを用いて真空脱気した。次に反応
混合物を、アルゴン雰囲気下で重合した。 重合反応の開始時において、すべての出発物質を、均一に溶解した。 転化率を、80℃及び0.002torrで30分にわたり未反応モノマーをポリ
マーから除去し、残留ポリマーを秤量し、開始剤の重量を減ずることにより、測
定した。 ポリマーの特徴づけは、MALDI−MS(マトリックス補助レーザー脱着イ
オン化質量分析法)及び/又はGPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)により実
施した。
【0179】 MALDI−MS:測定を、線型TOF(経過時間)MALDI-MS LDI-1700 Line
ar Scientific Inc., Reno, USAにおいて実施した。マトリックスは、2,5− ジヒドロキシ安息香酸であり、レーサー波長は337nmであった。
【0180】 GPC:FLUX INSTRUMENTSのRHEOS 4000を用いて実施した。テトラヒドロフラ
ン(THF)を、溶媒として用い、1ml/分で圧送した。2つのクロマトグラフ
ィーカラムを連続して配置した:POLYMER INSTRUMENTS, Shropshire, UKのタイ プ ピゲル(Pigel)5μm混合C。測定を、40℃において実施した。カラムを
、200〜2,000,000ダルトンのMnを有する低多分散性ポリスチレン
を用いて校正した。検出を、30℃において、ERCATECH AGのRIデテクターERC-7
515Aを用いて実施した。
【0181】実施例B1 化合物101を用いたn−ブチルアクリレートの重合 温度計、冷却器及びマグネチックスターラーを備えた50mlの3つ口フラスコ
中で、654mg(2.34ミリモル)の化合物101及び20g(156ミリモ
ル)のn−ブチルアクリレートを混合し、脱気した。得られた透明溶液を、アル
ゴンの下で120℃に加熱した。重合は自発的に開始し、温度は143℃に上昇
した。15分後、発熱反応は緩徐に停止し、溶液の粘度は上昇した。反応混合物
を145℃で更に10分間かきまぜ、次に80℃に冷却した。残留モノマーを、
高度真空下で蒸発により除去した。19.1g(95%)の最初のモノマーが反
応した。透明で無色な粘性流体を得た。MALDI−MS: Mn=3400、Mw=6100、PD=1.8。
【0182】実施例B2 キシレン中での化合物102を用いたn−ブチルアクリレートの重 温度計、冷却器及びマグネチックスターラーを備えた100mlの3つ口フラス
コ中で、841mg(2.34ミリモル)の化合物102、20g(156ミリモ
ル)のn−ブチルアクリレート及び10gのキシレンを混合し、脱気した。得ら
れた透明溶液を、アルゴンの下で130℃に加熱した。重合は自発的に開始し、
温度は141℃に上昇した。10分後、発熱反応は緩徐に停止した。次に反応混
合物を室温まで冷却した。残留モノマー及び溶媒を、高度真空下で80℃で蒸発
により除去した。18.1g(87%)の最初のモノマーが反応した。透明で無
色な粘性流体を得た。GPC: Mn=7400、Mw=14800、PD=2。
【0183】実施例B3 オクタン中での化合物101を用いたn−ブチルアクリレートの重 温度計、冷却器及びマグネチックスターラーを備えた50mlの3つ口フラスコ
中で、279mg(1.75ミリモル)の化合物101及び7.5gのオクタンに
溶解した15g(117ミリモル)のn−ブチルアクリレートを混合し、脱気し
た。得られた透明溶液を、アルゴンの下で130℃に加熱した。重合は自発的に
開始した。15分後、発熱反応は緩徐に停止し、溶液の粘度は上昇した。反応混
合物を130℃で更に2.5時間かきまぜ、次に80℃に冷却した。残留モノマ
ーを、高度真空下で蒸発により除去した。14.0g(93%)の最初のモノマ
ーが反応した。透明で無色な粘性流体を得た。 GPC分析:Mn 8500、Mw:15300、多分散性(PD):1.8。
【0184】実施例B4 トルエン中での化合物102を用いたn−ブチルアクリレートの重 631mg(1.8ミリモル)の化合物102、15g(117ミリモル)のn
−ブチルアクリレート及び7.5gのトルエンを110℃で2.5時間反応させ
た。揮発性成分の蒸発後に、14.8g(95%)のポリマーを得た。 GPC:Mn=7100、Mw=13200、PD=1.8。
【0185】実施例B5 ヘプタン中での化合物102を用いたn−ブチルアクリレートの重 1.4g(3.9ミリモル)の化合物102、5g(39ミリモル)のn−ブ
チルアクリレート及び2.5gのヘプタンを100℃で22時間反応させた。揮
発性成分の蒸発後に、5.9g(91%)の粘性液体を得た。 GPC:Mn=1300、Mw=2100、PD=1.6。
【0186】実施例B6 トルエン中での化合物102を用いたメチルメタクリレート(MM A)の重合 808mg(2.25ミリモル)の化合物102、15g(150ミリモル)の
MMA及び7.5gのトルエンを、110℃で2.5時間反応させた。揮発性成
分の蒸発後に、9.2g(61%)の固体白色フォームを得た。 GPC:Mn=3000、Mw=5800、PD=1.9。
【0187】実施例B7 ヘプタン中での化合物102を用いたメタクリル酸−2−ジアミノ エチルエステル(MADMAEE)の重合 686mg(1.91ミリモル)の化合物102、20g(127ミリモル)の
MADMAEE及び10gのヘプタンを、100℃で5時間反応させた。揮発性
成分の蒸発後に、13.1g(66%)の部分的に固体の物質を得た。 GPC:Mn=4300、Mw=7400、PD=1.7。
【0188】実施例B8 ジオキサン中での化合物102を用いたメタクリル酸グリシジルエ ーテル(MAGE)の重合 1.52g(4.22ミリモル)の化合物102、20g(141ミリモル)
のMAGE及び10gのジオキサンを、100℃で1時間反応させた。揮発性成
分の蒸発後に、13.9g(62%)の粘性物質を得た。 GPC:Mn=3800、Mw=6100、PD=1.6。
【0189】実施例B9 ジオキサン中での化合物102を用いたアクリル酸4−ヒドロキシ ブチルエステルの重合 1.66g(4.6ミリモル)の化合物102、22.2g(154ミリモル
)のアクリル酸−4−ヒドロキシブチルエステル及び11.1gのジオキサンを
、105℃で2.5時間反応させた。揮発性成分の蒸発後に、20.1g(83
%)の粘性物質を得た。 GPC:Mn=4000、Mw=7100、PD=1.8。
【0190】実施例B10 化合物102を用いたアクリル酸−(3−スルホプロピルエステ ル)カリウム塩の重合 0.232g(0.65ミリモル)の化合物102、10g(43ミリモル)
のアクリル酸−(3−スルホプロピルエステル)カリウム塩、90gのエチレン
グリコール及び10gの水を混合し、脱気し、90℃に加熱した。混合物を20
時間反応させた。透明ポリマー溶液を、アセトンに注入した。白色固体ポリマー
を濾別し、高度真空下で乾燥した。5.8g(56%)が得られた。D2O中で の 1H−NMRにより、6〜6.5ppmの間にアクリレート二重結合は示されず 、これによりすべてのモノマーが反応したことが示された。
【0191】実施例B11 化合物102を用いたn−ブチルアクリレート及びメタクリル酸 −2−ジアミノエチルエステル(MADMAEE)からのランダムコポリマー 1.37g(3.81ミリモル)の化合物102、16.3g(127ミリモ
ル)のn−ブチルアクリレート、20g(127ミリモル)のMADMAEE及
び18gのオクタンを、130℃で2.5時間反応させた。揮発性成分の蒸発後
に、30.7g(85%)のコポリマーを得た。 GPC:Mn=5300、Mw=9200、PD=1.7。
【0192】実施例B12 化合物102を用いたn−ブチルアクリレート及びメチルメタク リレートからのランダムコポリマー 2.17g(6.03ミリモル)の化合物102、7g(70.3ミリモル)
のメチルメタクリレート及び10g(70.3ミリモル)のn−ブチルアクリレ
ートを8.5gのジオキサンに溶解した溶液を脱気し、105℃で5時間アルゴ
ン下で反応させた。揮発性成分の蒸発後に、15g(75%)のコポリマーを得
た。 GPC:Mn=2200、Mw=3800、PD=1.7。
【0193】実施例B13 n−ブチルアクリレート及びアクリル酸−2−エトキシエチルエ ステルからのブロックコポリマー 3g(8.34ミリモル)の化合物102、17.8g(139ミリモル)の
n−ブチルアクリレート及び9gのトルエンを、115℃で2.5時間反応させ
た。揮発性成分の蒸発後に、13.9g(61%)のポリマーを得た。20g(
139ミリモル)のアクリル酸−2−エトキシエチルエステル及び19gのトル
エンを加えた。この混合物を115℃で2.5時間反応させた。揮発性成分の蒸
発後に、33.4g(98%、第2のモノマーを基準として)のコポリマーを得
た。合計の転化率は、60%であった。 GPC:Mn=3900、Mw=7800、PD=2。
【0194】実施例B14 n−ブチルアクリレート及びアクリル酸−3−ヒドロキシプロピ ルエステルからのブロックコポリマー 3g(8.34ミリモル)の化合物102、17.8g(139ミリモル)の
n−ブチルアクリレート及び9gのジオキサンを、105℃で2.5時間反応さ
せた。揮発性成分の蒸発後に、15.2g(69%)のポリマーを得た。18.
1g(139ミリモル)のアクリル酸−3−ヒドロキシプロピルエステル及び1
8gのジオキサンを加えた。この混合物を105℃で2時間反応させた。揮発性
成分の蒸発後に、33.8g(100%、第2のモノマーを基準として)のコポ
リマーを得た。合計の転化率は、69%であった。 GPC:Mn=3300、Mw=11500、PD=3.5。
【0195】実施例B15 n−ブチルアクリレート及びアクリル酸からのブロックコポリマ 1.85g(5.1ミリモル)の化合物102、20g(156ミリモル)の
n−ブチルアクリレート及び10gのオクタンを、130℃で2.5時間反応さ
せた。揮発性成分の蒸発後に、21.3g(97%)のポリマーを得た。1.1
2g(15.6ミリモル)のアクリル酸及び11gのジオキサンを加えた。この
混合物を、105℃で2.5時間反応させた。揮発性成分の蒸発後に、22.3
g(89%、第2のモノマーを基準として)のコポリマーを得た。 GPC:Mn=4200、Mw=6500、PD=1.6。
【0196】実施例B16 n−ブチルアクリレート及びメチルメタクリレートからのブロッ クコポリマー 3.08g(8.58ミリモル)の化合物102、20g(156ミリモル)
のn−ブチルアクリレート及び10gのオクタンを、130℃で2.5時間反応
させた。揮発性成分の蒸発後に、22.7g(98%)のポリマーを得た。15
.6g(156ミリモル)のメチルメタクリレート及び10gのオクタンを加え
た。この混合物を、130℃で2.5時間反応させた。揮発性成分の蒸発後に、
29.4gのコポリマーを得た。合計の転化率は、43%であった。 GPC:Mn=2600、Mw=3900、PD=1.5。
【0197】実施例B17 n−ブチルアクリレート及びメタクリル酸−2−ジメチルアミノ エチルエステル(MADMAEE)からのブロックコポリマー 1.37g(3.81ミリモル)の化合物102、16.3g(127ミリモ
ル)のn−ブチルアクリレート及び18gのオクタンを、130℃で2.5時間
反応させた。揮発性成分を蒸発させ、20g(127ミリモル)のMADMAE
Eを18gのオクタンに溶解した溶液を加え、130℃で2.5時間反応させた
。揮発性成分の蒸発後に、30.3g(80%)のブロックコポリマーを得た。 GPC:Mn=4800、Mw=9700、PD=2。
【0198】実施例B18 化合物102を用いたスチレンのホモ重合 50mlのフラスコ中で、0.719g(2ミリモル)の化合物102、20.
9g(200ミリモル)のスチレン及び20gのトルエンを混合した。この混合
物を6時間還流し、重合させた。揮発性成分の蒸発後に、9.73g(47%)
のポリマーを得た。 GPC:Mn=3100、Mw=4900、PD=1.6。
【0199】実施例B19 化合物104及びアゾビスイソブチロニトリルからの開始剤のそ の場所での製造及びn−ブチルアクリレートの同時重合 0.447g(3.12ミリモル)の化合物104、0.512(3.12ミ
リモル)のアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、20g(156ミリモル
)のn−ブチルアクリレート及び10gのオクタンを、100mlのフラスコ中で
混合し、脱気した。この混合物を80℃で2時間、かきまぜながら反応させた。
温度は緩徐に130℃に上昇した。重合を130℃で2.5時間実施した。揮発
性成分の蒸発後に、5.1g(21%)のポリマーを得た。 GPC:Mn=1200、Mw=1700、PD=1.4。
【0200】実施例B20 化合物104及びV−65からの開始剤のその場での製造及びn −ブチルアクリレートの同時重合 0.670g(4.7ミリモル)の化合物104、1.162g(4.7ミリ
モル)の化合物V−65、30g(234ミリモル)のn−ブチルアクリレート
及び15gのオクタンを、100mlのフラスコ中で混合し、脱気した。この混合
物を80℃で30分間かきまぜた。温度は緩徐に130℃に上昇した。混合物を
130℃で2.5時間重合させた。揮発性成分の蒸発後に、11.4gのポリマ
ーを得、これは38%の転化率に相当する。 GPC:Mn=2800、Mw=5700、PD=2.0。
【0201】実施例B21 化合物104及びV−65からの開始剤のその場所での製造及び n−ブチルアクリレートのその後の重合 0.670g(4.7ミリモル)の化合物104、2.034g(8.2ミリ
モル)の化合物V−65及び15gのオクタンを、100mlのフラスコ中で混合
し、脱気した。この混合物を80℃で1.25時間かきまぜた。30g(234
ミリモル)のn−ブチルアクリレートを加え、温度は緩徐に130℃に上昇した
。この混合物をこの温度で3時間重合させた。揮発性成分の蒸発後に、80%の
転化率を得た。 GPC:Mn=6200、Mw=12200、PD=1.97。
【0202】実施例B22 化合物105を用いたn−ブチルアクリレートの重合 温度計、冷却器及びマグネチックスターラーを備えた50mlの3つ口フラスコ
中で、1643mg(6.24ミリモル)の化合物101及び20g(156ミリ
モル)のn−ブチルアクリレートを混合し、脱気した。得られた透明溶液を、ア
ルゴン下で115℃に加熱した。重合は自発的に開始し、温度は130℃に上昇
した。15分後、発熱反応は緩徐に停止し、溶液の粘度は上昇した。反応混合物
を145℃で更に15分間かきまぜ、次に80℃に冷却した。残留モノマーを、
高度真空下で蒸発により除去した。19.3g(97%)の最初のモノマーが反
応した。透明で無色な粘性流体を得た。MALDI−MS: Mn=3000、Mw=5300、PD=1.7。GPC: Mn=3100、Mw=5400、PD=1.7。
【0203】実施例B23 化合物106を用いたn−ブチルアクリレートの重合 温度計、冷却器及びマグネチックスターラーを備えた50mlの3つ口フラスコ
中で、804mg(2.34ミリモル)の化合物102及び20g(156ミリモ
ル)のn−ブチルアクリレートを混合し、脱気した。得られた透明溶液を、アル
ゴン下で145℃に加熱した。重合は自発的に開始し、温度は170℃に上昇し
た。15分後、発熱反応は緩徐に停止し、溶液の粘度は上昇した。反応混合物を
145℃で更に15分間かきまぜ、次に80℃に冷却した。残留モノマーを、高
度真空下で蒸発により除去した。19.5g(98%)の最初のモノマーが反応
した。透明で無色な粘性流体を得た。MALDI−MS: Mn=4600、Mw=7300、PD=1.6。
【0204】実施例B24 化合物106を用いたn−ブチルアクリレートの重合 10mlのn−オクタン中の1608mg(4.68ミリモル)の化合物106及
び20g(156ミリモル)のn−ブチルアクリレートを、130℃で2.5時
間反応させた。揮発性成分の蒸発後に、17.1g(79%)のポリマーを得た
。 GPC:Mn=3400、Mw=5700、PD=1.7。
【0205】実施例B25 化合物105を用いたアクリル酸−2−エトキシエチルエステル の重合 1.96g(4.16ミリモル)の化合物105、20g(139ミリモル)
のアクリル酸−2−エトキシエチルエステルを10gのトルエンに溶解した溶液
を、50mlのフラスコ中で115℃で5時間重合させた。揮発性成分の蒸発後に
、17.4g(87%)の粘性ポリマーを得た。 GPC:Mn=3900、Mw=7600、PD=1.9。
【0206】実施例B26 化合物106を用いたメタクリル酸−2−ジメチルアミノエチル エステルの重合 1.309g(3.81ミリモル)の化合物106、20g(127ミリモル
)のメタクリル酸−2−ジメチルアミノエチルエステル及び10gのオクタンを
、130℃で2.5時間反応させた。揮発性成分の蒸発後に、18.4g(92
%)の粘性ないし固体のポリマーを得た。 GPC:Mn=4100、Mw=8300、PD=2。
【0207】実施例B27 化合物106を用いたn−ブチルアクリレート及びメタクリル酸 −2−ジメチルアミノエチルエステルのブロック共重合 10gのn−オクタンに溶解した2.411g(7.02ミリモル)の化合物
106及び20g(156ミリモル)のn−ブチルアクリレートを、130℃で
2.5時間反応させた。揮発性成分を、真空下で80℃で蒸発させ、残留物を分
離した。転化率は93%であった。 第2工程において、12.3g(78ミリモル)のメタクリル酸−2−ジメチ
ルアミノエチルエステル及び16gのn−オクタンを加え、130℃で2.5時
間重合した。揮発性成分の蒸発後に、29.8g(92%)のコポリマーを得た
。 GPC:Mn=4200、Mw=8600、PD=2。
【0208】実施例B28 化合物105を用いたn−ブチルアクリレート及びイソブチルア クリレートのブロック共重合 1.233g(4.68ミリモル)の化合物105及び20g(156ミリモ
ル)のn−ブチルアクリレートを、130℃で40分間反応させた。反応混合物
を100℃に冷却し、20g(156ミリモル)のイソブチルアクリレートを加
えた。反応を130℃で1.5時間継続した。揮発性成分の蒸発後に、34.7
g(87%)のコポリマーを得た。 GPC:Mn=6200、Mw=11600、PD=1.8。
【0209】実施例B29 化合物106を用いたn−ブチルアクリレート及びメタクリル酸 −2−ジメチルアミノエチルエステルのランダムコポリマー 2.617g(7.62ミリモル)の化合物106、16.3g(127ミリ
モル)のn−ブチルアクリレート、20g(127ミリモル)のメタクリル酸−
2−ジメチルアミノエチルエステル及び18gのオクタンを、130℃で2.5
時間反応させた。揮発性成分の蒸発後に、36.4g(93%)の粘性液体を得
た。 GPC:Mn=3800、Mw=5800、PD=1.5。
【0210】実施例B30 化合物106を用いたn−ブチルアクリレート及びメタクリル酸 −2−ジメチルアミノエチルエステル(MADMAEE)のブロックコポリマー 2.617g(7.62ミリモル)の化合物106を8.2gのオクタンに溶
解した溶液及び16.3g(127ミリモル)のn−ブチルアクリレートを、1
30℃で2.5時間重合させた。揮発性成分の蒸発後に、17.8g(93%)
の第1のポリマーブロックが得られた。18gのオクタン及び20g(127ミ
リモル)のMADMAEEをその後、130℃で2.5時間重合させた。揮発性
成分の蒸発後に、36.3g(93%)のブロックコポリマーを得た。 GPC:Mn=3300、Mw=11300、PD=3.4。
【0211】実施例B31 化合物105を用いたn−ブチルアクリレート及びアクリル酸の ランダムコポリマー 1.3g(4.93ミリモル)の化合物105、18.9g(147.8ミリ
モル)のn−ブチルアクリレート、1.18g(16.4ミリモル)のアクリル
酸を10gのオクタンに溶解した溶液を、130℃で2.5時間反応させた。揮
発性成分の蒸発後に、20.7g(97%)の透明粘性液体を得た。 GPC:Mn=3800、Mw=8200、PD=2.2。
【0212】実施例B32 化合物106を用いたn−ブチルアクリレート/メタクリル酸− 2−ジメチルアミノエチルエステル/n−ブチルアクリレートのトリブロックコ ポリマー 3.617g(10.53ミリモル)の化合物106、7.5g(58.5ミ
リモル)のn−ブチルアクリレート、9.2g(58.5ミリモル)のMADM
AEE及び再び7.5g(58.5ミリモル)のn−ブチルアクリレートをオク
タンに溶解した溶液を、各工程について、実施例B30に従って、130℃の温
度で2.5時間連続して重合させた。各工程についての転化率は、91%、95
%及び34%であった。 GPC:Mn=2600、Mw=4400、PD=1.7。
【0213】実施例B33 スチレンの単独重合 0.679g(2ミリモル)の化合物106、20.9g(200ミリモル)
のスチレン及び20gのトルエンを、6時間還流させた。揮発性成分の蒸発後に
、19.6g(94%)のポリマーを得た。 GPC:Mn=9000、Mw=10800、PD=1.2。
【0214】実施例B34 スチレンの単独重合 0.527g(2ミリモル)の化合物105、20.9g(200ミリモル)
のスチレン及び20gのトルエンを、6時間還流させた。揮発性成分の蒸発後に
、19.6g(94%)のポリマーを得た。 GPC:Mn=9400、Mw=11400、PD=1.2。
【0215】実施例B35 スチレンを含む実施例B34のポリスチレンのプソイドブロック 共重合 5gの実施例B34のポリマーを、5gのスチレン及び20gのトルエンと混
合した。この溶液を脱気し、110℃で6時間反応させた。揮発性成分の蒸発後
に、7.7g(54%)のポリマーを得た。 GPC:Mn=13500、Mw=17500、PD=1.3。
【0216】実施例B36 スチレン及びn−ブチルアクリレートのブロックコポリマー 62.5g(0.6モル)のスチレンを、1.68g(6ミリモル)の化合物
105を40gのオクタンに溶解した溶液を用いて110℃で6時間重合させた
。42g(66%)のポリスチレンを得た。 GPC:Mn=9400、Mw=11400、PD=1.2。 30gのポリスチレンに、40g(312ミリモル)のn−ブチルアクリレー
ト及び40gのオクタンを加えた。この混合物を、かきまぜながら6時間にわた
り130℃に加熱した。n−ブチルアクリレートは98%反応し、69gのブロ
ックコポリマーを得た。 GPC:Mn=13500、Mw=19100、PD=1.4。
【0217】実施例B37 化合物107及びアゾビスイソブチロニトリルからの開始剤のそ の場所での製造及びn−ブチルアクリレートの同時重合 100mlのフラスコ中で、0.397g(3.12ミリモル)の化合物107
、0.512g(3.12ミリモル)のAIBN、20g(156ミリモル)の
n−ブチルアクリレート及び10gのオクタンを混合した。この混合物を80℃
で2時間かきまぜた。温度は緩徐に130℃に上昇し、混合物をこの温度で2.
5時間反応させた。揮発性成分の蒸発後に、17.5g(83%)の粘性液体を
得た。 GPC:Mn=6500、Mw=13200、PD=2。
【0218】実施例B38 化合物107及びV−65からの開始剤のその場所での製造及び n−ブチルアクリレートの同時重合 100mlのフラスコ中で、0.397g(3.12ミリモル)の化合物107
、0.775g(3.12ミリモル)の化合物V−65、20g(156ミリモ
ル)のn−ブチルアクリレート及び10gのオクタンを混合した。この混合物を
80℃で30分間かきまぜた。温度は緩徐に130℃に上昇し、混合物を2.5
時間反応させた。揮発性成分の蒸発後に、65%の転化率を得た。 GPC:Mn=5400、Mw=9200、PD=1.7。
【0219】実施例B39 化合物107及びV−65からの開始剤のその場所での製造及び n−ブチルアクリレートのその後の重合 100mlのフラスコ中で、0.595g(4.7ミリモル)の化合物107、
2.034g(8.2ミリモル)の化合物V−65及び15gのオクタンを混合
した。この混合物を80℃で1.25時間かきまぜた。30g(234ミリモル
)のn−ブチルアクリレートを加え、温度は緩徐に130℃に上昇した。この混
合物をこの温度で5時間放置して反応させた。揮発性成分の蒸発後に、20%の
転化率を得た。 GPC:Mn=5800、Mw=9000、PD=1.66。
【0220】実施例B40 化合物107及びV−70からの開始剤のその場所での製造及び n−ブチルアクリレートの同時重合 100mlのフラスコ中で、0.595g(4.7ミリモル)の化合物107、
2.526g(8.2ミリモル)の化合物V−70、30g(234ミリモル)
のn−ブチルアクリレート及び15gのオクタンを混合した。この混合物を60
℃で15分間かきまぜた。温度は緩徐に130℃に上昇し、混合物を5時間反応
させた。揮発性成分の蒸発後に、66%の転化率を得た。 GPC:Mn=4400、Mw=7600、PD=1.73。
【0221】実施例B41 化合物107及びV−70からの開始剤のその場所での製造及び n−ブチルアクリレートのその後の重合 100mlのフラスコ中で、0.595g(4.7ミリモル)の化合物107、
2.526g(8.2ミリモル)の化合物V−70及び15gのオクタンを混合
した。この混合物を60℃で1.25時間かきまぜた。30g(234ミリモル
)のn−ブチルアクリレートを加え、温度は緩徐に130℃に上昇した。この混
合物をこの温度で5時間放置して反応させた。揮発性成分の蒸発後に、20%の
転化率を得た。 GPC:Mn=5500、Mw=9400、PD=1.72。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR, NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,L S,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL ,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR, BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,E E,ES,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HR ,HU,ID,IL,IS,JP,KE,KG,KP, KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,L V,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI, SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,U Z,VN,YU,ZW (72)発明者 シュタインマン,アルフレッド スイス国 ツェーハー−1724 プラロマン レ リュスィレ (72)発明者 シュタウファー,ヴェルナーー スイス国 ツェーハー−1700 フリブール アブニュ ジャン−マリー ミュズィ 6

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 a)少なくとも1種の、エチレン性不飽和モノマー又はオリ
    ゴマー、及び b)式(I): 【化1】 (式中、 nは、0又は1であり、 R1、R2及びR3は、それぞれ互いに独立して、水素、ハロゲン、NO2、シア
    ノ、−CONR56、−(R9)COOR4、−C(O)−R7、−OR8、−SR 8 、−NHR8、−N(R8)2、カルバモイル、ジ(C1〜C18アルキル)カルバモ
    イル、−C(=NR5)(NHR6); 非置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18アルキニル、 C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つの 窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチルであるか;あるいは
    2とR3は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基、( C4〜C12シクロアルカノン)−イル基又は少なくとも1つのO原子及び/又は NR8基を含むC3〜C12シクロアルキル基を形成し;あるいは nが1である場合には、下記式: 【化2】 の基は、下記式: 【化3】 の基であり; R4は、水素、C1〜C18アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又はテト
    ラアルキルアンモニウム陽イオンであり; R5及びR6は、水素、C1〜C18アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基に より置換されたC2〜C18アルキル、あるいは一緒になってC2〜C12アルキレン
    架橋基又は少なくとも1つのO原子又は/及びNR8原子により中断されたC2
    12アルキレン架橋基を形成し; R7は、水素、C1〜C18アルキル又はフェニルであり; R8は、水素、C1〜C18アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基により置
    換されたC2〜C18アルキルであり; R9は、C1〜C12アルキレン又は直接結合であり; R10は、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、C9
    11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素 原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18ア ルキル、C9〜C11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくと
    も1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチルであり; nが1である場合には、 R11は、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロア
    ルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロ アルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3
    12シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC 3 〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
    する多環式シクロ脂肪族環系であるか;あるいは R10とR11は、一緒になって、C2〜C12アルキレン架橋基、C3〜C12アルキ
    レノン架橋基、又は少なくとも1個のO原子若しくはN原子により中断されたC 2 〜C12アルキレン架橋基であり、これらの架橋基は非置換であるか又はC1〜C 18 アルキル、ヒドロキシ(C1〜C4)アルキル、フェニル、C7〜C9フェニルア
    ルキル、NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C 4 アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1 〜C4アルキル)アミノで置換されており、 R12は、水素、−(R9)COOR4、シアノ、−OR8、−SR8、−NHR8 、−N(R8)2、−NH−C(O)−R8、非置換の、C1〜C18アルキル、C2
    18アルケニル、C2〜C18アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12 シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜 C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは R11とR12は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基を 形成するが;ただし、 ビス−(2−シアノ−2−プロピル)−N−フェニルヒドロキシルアミンは除
    外され、n=0の場合には、R10は、基−CR123とは異なる)で示される 開始剤化合物を含むことを特徴とする、重合可能な組成物。
  2. 【請求項2】 水、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、アミド、ス
    ルホキシド、炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群から選択される溶媒を
    更に含む、請求項1記載の組成物。
  3. 【請求項3】 エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーが、スチレン、置
    換スチレン、共役ジエン、アクロレイン、酢酸ビニル、(アルキル)アクリル酸
    無水物、(アルキル)アクリル酸塩、(アルキル)アクリル酸エステル又は(ア
    ルキル)アクリルアミドからなる群から選択される、請求項1記載の組成物。
  4. 【請求項4】 エチレン性不飽和モノマーが、スチレン、α−メチルスチレ
    ン、p−メチルスチレン又は式CH2=C(Ra)−(C=Z)−Rb(ここで、 Raは、水素原子又はC1〜C4アルキル基であり、Rbは、NH2、O(Me)、 グリシジル、非置換C1〜C18アルコキシ若しくはヒドロキシ置換C1〜C18アル
    コキシ、非置換C1〜C18アルキルアミノ、ジ(C1〜C18アルキル)アミノ、ヒ
    ドロキシ置換C1〜C18アルキルアミノ又はヒドロキシ置換ジ(C1〜C18アルキ
    ル)アミノであり;Meが、1価の金属原子であり、そしてZが、酸素又は硫黄
    である)で示される化合物である、請求項3記載の組成物。
  5. 【請求項5】 Raが、水素原子又はメチルであり、Rbが、NH2、グリシ ジル、非置換若しくはヒドロキシ置換C1〜C18アルコキシ、非置換C1〜C4ア ルキルアミノ、ジ(C1〜C4アルキル)アミノ、ヒドロキシ置換C1〜C4アルキ
    ルアミノ又はヒドロキシ置換ジ(C1〜C4アルキル)アミノであり;そしてZが
    、酸素である、請求項4記載の組成物。
  6. 【請求項6】 エチレン性不飽和モノマーが、アクリル酸メチル、アクリル
    酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、
    アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノ
    エチルアクリレート、グリシジルアクリレート、(メタ)アクリル酸メチル、(
    メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヒド
    ロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ジ
    メチルアミノエチル、グリシジル(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、ア
    クリルアミド又はメタクリルアミドである、請求項5記載の重合可能な組成物。
  7. 【請求項7】 nが、0又は1であり;R1、R2、及びR3が、それぞれ互 いに独立して、NO2、シアノ、−(R9)COOR4、−CONR56、−C( O)−R7、−OR8、カルバモイル、ジ(C1〜C18アルキル)カルバモイル、 −C(=NR5)(NHR6);非置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニ ルアルキル又はC3〜C12シクロアルキル;あるいはアミノ、ヒドロキシ、シア ノ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C 1 〜C4アルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキ ル又はC3〜C12シクロアルキル;あるいは非置換又はC1〜C4アルキル、C1
    4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カル ボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4アルキル)アミノ置換の
    フェニルであるか;あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C3〜 C12シクロアルキル基を形成し;R4が、C1〜C18アルキル、フェニル、アルカ
    リ金属陽イオン又はテトラアルキルアンモニウム陽イオンであり;R5及びR6
    、水素、C1〜C18アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基により置換された C2〜C18アルキル、又は一緒になってC2〜C12アルキレン架橋基を形成し;R 7 が、水素、C1〜C18アルキル又はフェニルであり;R8が、C1〜C18アルキル
    又は少なくとも1つのヒドロキシ基により置換されたC2〜C18アルキルであり ;R9が、C1〜C4アルキレン又は直接結合であり;R10が、第三級C原子を介 して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、フェニル、C9〜C11フェニルアル
    キル又はC3〜C12シクロアルキルであり;nが1である場合には、R11が、C1 〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル又はC3〜C12シクロアルキルであ るか、又はR10とR11が、一緒になって、C2〜C12アルキレン架橋基、又は少 なくとも1個のO原子若しくはN原子により中断されたC2〜C12アルキレン架 橋基を形成し、これらの架橋基は、非置換であるか又はC1〜C18アルキルで置 換されており;R12が、非置換の、C1〜C18アルキル、フェニル、C7〜C9フ ェニルアルキル又はC3〜C12シクロアルキルであるか、あるいはR11とR12が 、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基を形成する、請求 項1記載の組成物。
  8. 【請求項8】 nが、0又は1であり;R1、R2及びR3が、それぞれ互い に独立して、NO2、シアノ、−(R9)COOR4、−CONR56、−C(O )−R7、−OR8、カルバモイル、ジ(C1〜C8アルキル)カルバモイル、−C
    (=NR5)(NHR6);非置換の、C1〜C12アルキル、C7〜C9フェニルア ルキル又はC5〜C7シクロアルキル;あるいはC1〜C8アルキル、C7〜C9フェ
    ニルアルキル又はC5〜C7シクロアルキル、すなわちこれらは、アミノ、ヒドロ
    キシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルアミノ若し
    くはジ(C1〜C4アルキル)アミノで置換されており;あるいはフェニルである
    か、あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキ
    ル基を形成し;R4が、C1〜C8アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又 はテトラアルキルアンモニウム陽イオンであり;R5とR6が、水素、C1〜C8
    ルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基により置換されたC2〜C8アルキレン、
    又は一緒になってC2〜C8アルキレン架橋基を形成し;R7が、水素、C1〜C8 アルキル又はフェニルであり;R8が、C1〜C8アルキル又は少なくとも1つの ヒドロキシ基により置換されたC2〜C8アルキルであり;R9が、C1〜C4アル キレン又は直接結合であり;R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合した
    4〜C18アルキル、又はフェニルであり;nが1である場合には、R11が、C1 〜C18アルキル、フェニル又はC7〜C9フェニルアルキルであるか、あるいはR 10 とR11が、一緒になってC2〜C12アルキレン架橋基、又は少なくとも1個の O原子若しくはN原子により中断されたC2〜C12アルキレン架橋基を形成し、 これらの架橋基は非置換であるか又はC1〜C18アルキルで置換されており;そ してR12が、非置換C1〜C18アルキル又はフェニルである、請求項7記載の組 成物。
  9. 【請求項9】 nが、0又は1であり;R1、R2及びR3が、それぞれ互い に独立して、NO2、シアノ、−C(O)−R7、−OR8、非置換C1〜C12アル
    キルあるいは非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、シアノ、ヒド
    ロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4アルキル)
    アミノ置換のフェニルであるか;あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一緒にな
    って、C5〜C7シクロアルキル基を形成し;R7が、C1〜C8アルキル又はフェ ニルであり;R8が、C1〜C8アルキル、又は少なくとも1つのヒドロキシ基に より置換されたC2〜C8アルキルであり;R10が、第三級C原子を介して窒素原
    子に結合したC4〜C18アルキル、フェニル又はC9〜C11フェニルアルキルであ
    り;nが、1である場合には、R11が、C1〜C12アルキルであるか;あるいは R10とR11が、一緒になって、非置換又はC1〜C4アルキル置換のC2〜C6アル
    キレン架橋基を形成し;R12が、水素、非置換C1〜C4アルキル又はフェニルで
    ある、請求項8記載の組成物。
  10. 【請求項10】 nが、0であり;R1が、シアノであり;R2とR3が、そ れぞれ互いに独立して、非置換C1〜C12アルキル又はフェニルであるか;ある いはR2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル基を形
    成し;そしてR10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C12アル キル、C9〜C11フェニルアルキル又はフェニルである、請求項1記載の組成物 。
  11. 【請求項11】 nが、1であり;R1が、シアノであり;R2及びR3が、 それぞれ互いに独立して、非置換の、C1〜C12アルキル又はフェニルであるか ;あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル
    基を形成し;R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C12アル キル、C9〜C11フェニルアルキル又はフェニルであるか;あるいはR10とR11 が、一緒になって、非置換又はC1〜C4アルキル置換のC2〜C6アルキレン架橋
    基を形成し、そしてR12が、C1〜C4アルキルである、請求項1記載の組成物。
  12. 【請求項12】 オリゴマー、コオリゴマー、ポリマー又はコポリマー(ブ
    ロック又はランダム)を、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマー又はオリ
    ゴマーの遊離基重合により製造する方法であって、、 モノマー又はモノマー/オリゴマーを、請求項1記載の式(I)で示される開
    始剤化合物の存在下で、O−C結合を開裂して2つの遊離基(ここで、ラジカル
    ・CR123が重合を開始することができる)を形成する条件下で、(共)重 合させることを特徴とする方法。
  13. 【請求項13】 O−C結合の開裂を、超音波処理、加熱又は化学放射線に
    暴露することより実施する、請求項12記載の方法。
  14. 【請求項14】 O−C結合の開裂を、加熱により実施し、50℃〜160
    ℃の温度で行う、請求項12記載の方法。
  15. 【請求項15】 少なくとも2つの工程を有し、式(II): 【化4】 (式中、 n、R1、R2、R3、R10、R11及びR12は請求項1で定義したとおりである )で示される一般構造のアルコキシアミン末端基を有するポリマーを形成させ、
    このポリマーが開始基−CR123を含み、末端基として必須的に結合したオ キシアミン基を有し、そして更なるモノマーを加え、続いて加熱してブロックコ
    ポリマーを形成させる、請求項12記載のブロックコポリマーの製造方法。
  16. 【請求項16】 オリゴマー、コオリゴマー、ポリマー又はコポリマー(ブ
    ロック又はランダム)を、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマー又はオリ
    ゴマーの遊離基重合により製造する方法であって、 中性分子を除去することができるか、又は熱処理若しくは光化学処理によりC
    −C結合開裂を行うことができる化合物からか、あるいは反応性ラジカルとの反
    応で化合物R123C−Hからの水素除去により、遊離基・CR123(V)
    を生成させ、該遊離基・CR123(V)を、式R10NO又は下記式: 【化5】 で示される化合物と、ラジカル反応を妨害しない溶媒中で、少なくとも1種のエ
    チレン性不飽和モノマー又はオリゴマーの存在下で反応させることを含む方法。
  17. 【請求項17】 少なくとも1つの開始基−CR123及び請求項12記 載の方法により得ることができる式(IIa): 【化6】 (式中、 n、R1、R2、R3、R10、R11及びR12は請求項1で定義したとおりである )で示される少なくとも1つのオキシアミン基を有する、ポリマー又はオリゴマ
    ー。
  18. 【請求項18】 式(I): 【化7】 (式中、 nは、0又は1であり、 R1、R2及びR3は、それぞれ互いに独立して、水素、ハロゲン、NO2、シアノ
    、−CONR56、−(R9)COOR4、−C(O)−R7、−OR8、−SR8 、−NHR8、−N(R8)2、カルバモイル、ジ(C1〜C18アルキル)カルバモ イル、−C(=NR5)(NHR6); 非置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18アルキニル 、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つ の窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アル コキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4 アルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C1 8 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な
    くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチルであるか;あるいは
    2とR3は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基、( C4〜C12シクロアルカノン)−イル基又は少なくとも1つのO原子及び/又は NR8基を含むC3〜C12シクロアルキル基を形成し;あるいは nが1である場合には、下記式: 【化8】 の基は、下記式: 【化9】 の基であり; R4は、水素、C1〜C18アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又はテト
    ラアルキルアンモニウム陽イオンであり; R5及びR6は、水素、C1〜C18アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基に より置換されたC2〜C18アルキル、あるいは一緒になってC2〜C12アルキレン
    架橋基、又は少なくとも1つのO原子又は/及びNR8原子により中断されたC2 〜C12アルキレン架橋基を形成し; R7は、水素、C1〜C18アルキル又はフェニルであり; R8は、水素、C1〜C18アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基により置
    換されたC2〜C18アルキルであり; R9は、C1〜C12アルキレン又は直接結合であり; R10は、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、C9
    11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素 原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アル コキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4 アルキル)アミノ置換の、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18 アルキル、C9〜C11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なく
    とも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるい は 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
    する多環式シクロ脂肪族環系であり; nが1である場合には、 R11は、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロア
    ルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シク ロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3
    12シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC 3 〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
    する多環式シクロ脂肪族環系であるか;あるいは R10とR11は、一緒になってC2〜C12アルキレン架橋基、C3〜C12アルキレ
    ノン架橋基、又は少なくとも1個のO原子若しくはN原子により中断されたC2 〜C12アルキレン架橋基を形成し、これらの架橋基は非置換であるか又はC1〜 C18アルキル、ヒドロキシ(C1〜C4)アルキル、フェニル、C7〜C9フェニル
    アルキル、NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1
    4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ( C1〜C4アルキル)アミノで置換されており、 R12は、水素、−(R9)COOR4、シアノ、−OR8、−SR8、−NHR8 、−N(R8)2、−NH−C(O)−R8、非置換の、C1〜C18アルキル、C2
    18アルケニル、C2〜C18アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12 シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜 C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ(C1 〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは R11とR12は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基を 形成するが;ただし、 nが0である場合には、R10は、基−CR123とは異なり、そしてR1がC
    Nであり、R2及びR3がメチルである場合には、R10は、フェニル、又はメチル
    、2,4,6−トリメチル、クロロ、フルオロ、(3−メチル,4−フルオロ)
    、(3−フルオロ,4−メチル)、(4−フルオロ,2−メチル)、(4−フル
    オロ,2−メトキシ)、(2−フルオロ,3,5−メチル)、2,5−ジ−t−
    ブチル、ニトロ、3,5−ジニトロ若しくは2(−O−C(CH3)2CN)4− ニトロで置換されたフェニルではなく;そして nが1である場合には、R12は、水素であり、R10は、フェニル又はベンジル
    であり、R11は、フェニルであり、 R1、R2及びR3は、基−C(CH3)2CN、−C(CH3)2COOCH3、ベンジ
    ル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、下記式: 【化10】 のいずれの基でもなく、式Iの化合物は、下記式: 【化11】 の化合物ではない)で示されることを特徴とする化合物。
  19. 【請求項19】 nが、0又は1であり;R1、R2及びR3が、それぞれ互 いに独立して、NO2、シアノ、−C(O)−R7、−OR8、非置換C1〜C12
    ルキル、あるいは非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、シアノ、
    ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4アルキ
    ル)アミノ置換のフェニルであるか;あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一緒
    になって、C5〜C7シクロアルキル基を形成し;R7が、C1〜C8アルキル又は フェニルであり;R8が、C1〜C8アルキル、又は少なくとも1つのヒドロキシ 基により置換されたC2〜C8アルキルであり;R10が、第三級C原子を介して窒
    素原子に結合したC4〜C18アルキル、フェニル又はC9〜C11フェニルアルキル
    であり;nが1である場合には、R11が、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニ ルアルキル又はC3〜C12シクロアルキルであるか、あるいはR10とR11が、一 緒になって、非置換又はC1〜C4アルキル置換のC2〜C6アルキレン架橋基を形
    成し;R12が、非置換C1〜C4アルキル又はフェニルである、請求項18記載の
    化合物。
  20. 【請求項20】 nが、0であり;R1が、シアノであり;R2とR3が、そ れぞれ互いに独立して、非置換C1〜C12アルキル又はフェニルであるか;ある いはR2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル基を形
    成し;R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C12アルキル、 C9〜C11フェニルアルキル又はフェニルである、請求項18記載の化合物。
  21. 【請求項21】 nが、1であり;R1が、シアノであり;R2及びR3が、 それぞれ互いに独立して、非置換の、C1〜C12アルキル又はフェニルであるか ;あるいはR2とR3が、結合炭素原子と一緒になって、C5〜C7シクロアルキル
    基を形成し;R10が、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C12アル キル、C9〜C11フェニルアルキル又はフェニルであるか;あるいはR10とR11 が、一緒になって、非置換又はC1〜C4アルキル置換のC2〜C6アルキレン架橋
    基を形成し、R12が、C1〜C4アルキルである、請求項18記載の化合物。
  22. 【請求項22】 式(IV): 【化12】 (式中、 nは、0又は1であり、 R1、R2及びR3は、それぞれ互いに独立して、水素、ハロゲン、NO2、シア
    ノ、−CONR56、−(R9)COOR4、−C(O)−R7、−OR8、−SR 8 、−NHR8、−N(R8)2、カルバモイル、ジ(C1〜C18アルキル)カルバモ
    イル、−C(=NR5)(NHR6); 非置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18アルキニル、 C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少なくとも1つの 窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチルであるか;あるいは
    2とR3は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基、( C4〜C12シクロアルカノン)−イル基又は少なくとも1つのO原子及び/又は NR8基を含むC3〜C12シクロアルキル基を形成し;あるいは nが1である場合には、下記式: 【化13】 の基は、下記式: 【化14】 の基であり; R4は、水素、C1〜C18アルキル、フェニル、アルカリ金属陽イオン又はテト
    ラアルキルアンモニウム陽イオンであり; R5及びR6は、水素、C1〜C18アルキル、少なくとも1つのヒドロキシ基に より置換されたC2〜C18アルキル、又は一緒になってC2〜C12アルキレン架橋
    基あるいはO原子又は/及びNR8原子により中断されたC2〜C12アルキレン架
    橋基を形成し; R7は、水素、C1〜C18アルキル又はフェニルであり; R8は、水素、C1〜C18アルキル又は少なくとも1つのヒドロキシ基により置
    換されたC2〜C18アルキルであり; R9は、C1〜C12アルキレン又は直接結合であり; R10は、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18アルキル、C9
    11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル又は少なくとも1つの窒素原 子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、第三級C原子を介して窒素原子に結合したC4〜C18ア ルキル、C9〜C11フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル又は少なくとも
    1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
    する多環式シクロ脂肪族環系であり; nが1である場合には、 R11は、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロア
    ルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロ アルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、C3
    12シクロアルキル又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3 〜C12シクロアルキル;あるいは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ
    (C1〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは 多環式シクロ脂肪族環系又は少なくとも1つの2価若しくは3価の窒素原子を有
    する多環式シクロ脂肪族環系であるか;あるいは R10とR11は、一緒になって、C2〜C12アルキレン架橋基、C3〜C12アルキ
    レノン架橋基又は少なくとも1個のO原子若しくはN原子により中断されたC2 〜C12アルキレン架橋基を形成し、これらの架橋基は非置換であるか又はC1〜 C18アルキル、ヒドロキシ(C1〜C4)アルキル、フェニル、C7〜C9フェニル
    アルキル、NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1
    4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ( C1〜C4アルキル)アミノで置換されており、 R12は、水素、−(R9)COOR4、シアノ、−OR8、−SR8、−NHR8 、−N(R8)2、−NH−C(O)−R8、非置換の、C1〜C18アルキル、C2
    18アルケニル、C2〜C18アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12 シクロアルキル、又は少なくとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜 C12シクロアルキル;あるいは NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコ キシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ若しくはジ(C1〜C4
    ルキル)アミノ置換の、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18 アルキニル、C7〜C9フェニルアルキル、C3〜C12シクロアルキル、又は少な くとも1つの窒素原子若しくは酸素原子を含むC3〜C12シクロアルキル;ある いは 非置換又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハ
    ロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ(C1 〜C4アルキル)アミノ置換の、フェニル又はナフチル;あるいは R11とR12は、結合炭素原子と一緒になって、C3〜C12シクロアルキル基を 形成するが;ただし、 nが0である場合には、Rは、基−CR123とは異なり、そしてR1がCN
    であり、R2及びR3がメチルである場合には、R10は、フェニル、又はメチル、
    2,4,6−トリメチル、クロロ、フルオロ、(3−メチル,4−フルオロ)、
    (3−フルオロ,4−メチル)、(4−フルオロ,2−メチル)、(4−フルオ
    ロ,2−メトキシ)、(2−フルオロ,3,5−メチル)、2,5−ジ−t−ブ
    チル、ニトロ、3,5−ジニトロ若しくは2(−O−C(CH3)2CN)4−ニ トロで置換されたフェニルではなく;そして nが1である場合には、R12は、水素であり、R10は、フェニル又はベンジル
    であり、R11は、フェニルであり、 R1、R2及びR3は、基−C(CH3)2CN、−C(CH3)2COOCH3、ベン
    ジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、下記式: 【化15】 のいずれの基でもなく、式(IV)の化合物は、下記式: 【化16】 で示される化合物ではない)示されることを特徴とする化合物。
  23. 【請求項23】 請求項1記載の式(I): 【化17】 で示される化合物を製造する方法であって、 遊離基・CR123(V)を、中性分子を除去することができるか、又は熱 処理若しくは光化学処理によりC−C結合開裂を行うことができる化合物からか
    、あるいは反応性ラジカルとの反応で化合物R123C−Hからの水素除去に より、遊離基・CR123(V)を生成させ、該遊離基・CR123(V)を
    、式R10NO又は下記式: 【化18】 で示される化合物と、ラジカル反応を妨害しない溶媒中で反応させることを特徴
    とする方法。
  24. 【請求項24】 遊離基・CR123を、式(IIIa)、(IIIb)又は(I
    IIc): 【化19】 で示される化合物の加熱又は照射により調製する、請求項23記載の方法。
  25. 【請求項25】 ラジカル・CR123を、40〜150℃の温度で加熱 することにより調製する、請求項23記載の方法。
  26. 【請求項26】 遊離基源が、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2
    ,2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2′−アゾビス(2,4
    −ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジ
    メチルバレロニトリル)、1,1′−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニト
    リル)、4,4′−アゾビス(4−シアノペンタン酸)、2,2′−アゾビス(
    イソブチルアミド)二水和物、2−フェニルアゾ−2,4−ジメチル−4−メト
    キシバレロニトリル、ジメチル−2,2′−アゾビスイソブチレート、2−(カ
    ルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2,2′−アゾビス(2,4,4−トリ
    メチルペンタン)、2,2′−アゾビス(2−メチルプロパン)、2,2′−ア
    ゾビス(N,N′−ジメチレンイソブチルアミジン)の遊離塩基若しくは塩酸塩
    、2,2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)の遊離塩基若しくは塩酸塩、2
    ,2′−アゾビス{2−メチル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチ
    ル〕プロピオンアミド}又は2,2′−アゾビス{2−メチル−N−〔1,1−
    ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミドである、
    請求項23記載の方法。
  27. 【請求項27】 請求項1記載の式(I)の化合物の、エチレン性不飽和モ
    ノマーの重合への使用。
  28. 【請求項28】 a)少なくとも1種の、エチレン性不飽和モノマー又はオ
    リゴマー; b)式(IV)の化合物及び c)式(V): 【化20】 (式中、 n、R1、R2、R3、R10、R11及びR12は請求項1で定義したとおりである )で示される、遊離基を生成させることができる請求項23記載のラジカル開始
    剤を含むことを特徴とする、重合可能な組成物。
JP2000503116A 1997-07-15 1998-07-03 ニトロソ化合物又はニトロン化合物から誘導されたアルコキシアミン化合物を含む重合可能な組成物 Pending JP2001510208A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP97810488.3 1997-07-15
EP97810487.5 1997-07-15
EP97810488 1997-07-15
EP97810487 1997-07-15
PCT/EP1998/004102 WO1999003894A1 (en) 1997-07-15 1998-07-03 Polymerizable compositions containing alkoxyamine compounds derived from nitroso- or nitrone compounds

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001510208A true JP2001510208A (ja) 2001-07-31

Family

ID=26148048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000503116A Pending JP2001510208A (ja) 1997-07-15 1998-07-03 ニトロソ化合物又はニトロン化合物から誘導されたアルコキシアミン化合物を含む重合可能な組成物

Country Status (6)

Country Link
US (3) US20010008928A1 (ja)
EP (1) EP0996643B1 (ja)
JP (1) JP2001510208A (ja)
AU (1) AU8440798A (ja)
DE (1) DE69812633T2 (ja)
WO (1) WO1999003894A1 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003507516A (ja) * 1999-08-12 2003-02-25 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 改善された耐衝撃性を有するポリマーブレンド
JP2004002678A (ja) * 2002-02-01 2004-01-08 Atofina Chemicals Inc 制御されたラジカル重合による改良された高固形分塗料樹脂
JP2005519121A (ja) * 2002-03-05 2005-06-30 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 制御された低温ラジカル重合のための開鎖アルコキシアミン及びそれらの相当するニトロキシド。
JP2006500433A (ja) * 2002-07-26 2006-01-05 アルケマ 少なくとも一つの親水性ブロックを含むブロックコポリマーをベースにした湿った媒体用接着剤組成物
JP2007516326A (ja) * 2003-12-11 2007-06-21 アルケマ フランス ブロックコポリマーの製造方法と、その接着剤組成物での使用
JP2011186065A (ja) * 2010-03-05 2011-09-22 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び硬化膜
US8883381B2 (en) 2010-03-17 2014-11-11 Fuji Xerox Co., Ltd. Image forming apparatus, and processing cartridge
JP2017507237A (ja) * 2014-03-07 2017-03-16 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 制御されたラジカル重合
JP2018534414A (ja) * 2015-11-04 2018-11-22 ディスポルテク ベスローテン フェンノートシャップ ビニルモノマーの線状重合および擬環拡大重合を制御するための調節剤

Families Citing this family (80)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG82601A1 (en) 1998-03-09 2001-08-21 Ciba Sc Holding Ag 1-alkoxy-polyalkyl-piperidine derivatives and their use as polymerization regulators
EP1100772B1 (en) * 1998-07-31 2004-04-14 Ciba SC Holding AG Open chain alkoxyamine compounds and their use as polymerization regulators
JP5000038B2 (ja) 1998-10-06 2012-08-15 トタル ペトロケミカルス フランス 開始/制御剤の存在下でエチレンを高圧フリーラジカル重合または共重合する方法
FR2797878B1 (fr) * 1999-08-05 2003-10-17 Atofina Procede de polymerisation ou copolymerisation radicalaire controlee de l'ethylene sous haute pression en presence d'un amorceur-controleur
ES2216610T3 (es) * 1998-12-23 2004-10-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Estabilizadores polimeros que tienen baja polidispersidad.
AU3733800A (en) * 1999-03-09 2000-09-28 Symyx Technologies, Inc. Controlled free radical emulsion and water-based polymerizations and seeded methodologies
US6472486B2 (en) * 1999-03-09 2002-10-29 Symyx Technologies, Inc. Controlled stable free radical emulsion polymerization processes
FR2794459B1 (fr) * 1999-05-19 2004-09-03 Atofina Polyalcoxyamines issues de nitroxydes beta-substitues
US7939601B1 (en) 1999-05-26 2011-05-10 Rhodia Inc. Polymers, compositions and methods of use for foams, laundry detergents, shower rinses, and coagulants
AU2004200189B2 (en) * 1999-05-26 2006-11-02 Rhodia Inc. Polymers, Compositions and Methods of use for Foams, Laundry Detergents, Shower Rinses, and Coagulants
ATE410455T1 (de) * 1999-05-26 2008-10-15 Rhodia Blockpolymere, zusammensetzungen und verfahren zur verwendung in schäumen, waschmitteln, duschreinigern und koagulierungsmitteln
EP1208126B1 (en) 1999-07-02 2006-04-12 Symyx Technologies, Inc. Polymer brushes for immobilizing molecules to a surface or substrate, where the polymers have water-soluble or water-dispersible segments and probes bonded thereto
US6716948B1 (en) 1999-07-31 2004-04-06 Symyx Technologies, Inc. Controlled-architecture polymers and use thereof as separation media
US6713552B1 (en) 1999-08-23 2004-03-30 Rohm And Haas Company Pressure sensitive adhesive with improved peel strength and tack
AU776960B2 (en) * 1999-08-23 2004-09-30 Rohm And Haas Company Pressure sensitive adhesive with improved peel strength and tack
US7279176B1 (en) * 1999-09-02 2007-10-09 Rice University Nitric oxide-producing hydrogel materials
US7052711B2 (en) * 1999-09-02 2006-05-30 Rice University Nitric oxide-producing hydrogel materials
TW541303B (en) * 2000-03-22 2003-07-11 Ciba Sc Holding Ag 2,2,6,6 diethyl-dimethyl-1-alkoxy-piperidine compounds and their corresponding 1-oxides
FR2807439B1 (fr) * 2000-04-07 2003-06-13 Atofina Polymeres multimodaux par polymerisation radicalaire controlee en presence d'alcoxyamines
DE10036801A1 (de) 2000-07-28 2002-02-07 Tesa Ag Acrylathaftklebemassen mit enger Molekulargewichtsverteilung
AU2002246978A1 (en) 2001-01-10 2002-07-24 Symyx Technologies, Inc. Polymer brushes for immobilizing molecules to a surface
US6579947B2 (en) 2001-02-20 2003-06-17 Rhodia Chimie Hydraulic fracturing fluid comprising a block copolymer containing at least one water-soluble block and one hydrophobic block
EP1236742A1 (en) * 2001-02-28 2002-09-04 Bayer Ag Controlled free-radical polymerization products using new control agents
FR2826593B1 (fr) * 2001-06-27 2004-04-16 Rhodia Chimie Sa Dispersion comprenant une emulsion dont la phase aqueuse est de force ionique elevee, preparation et utilisation
FR2829494B1 (fr) 2001-07-13 2005-10-28 Rhodia Chimie Sa Compositions aqueuses comprenant un microgel chimique associe a un polymere pontant, preparation et utilisation
AU2003210236A1 (en) 2002-02-11 2003-09-04 Rhodia Chimie Detergent composition comprising a block copolymer
US7323528B2 (en) * 2002-07-19 2008-01-29 Cid Centro De Investigacion Y Desarrollo Tecnologico, S.A. De C.V. Block copolymers containing functional groups
FR2846973B1 (fr) 2002-11-07 2004-12-17 Rhodia Chimie Sa Composition d'antifroissage comprenant un copolymere a architecture controlee, pour articles en fibres textiles
FR2848557B1 (fr) * 2002-12-13 2006-07-07 Atofina Copolymeres a gradient solubles ou du moins dispersibles dans l'eau comme dans les solvants organiques
EP1428838A1 (en) * 2002-12-13 2004-06-16 Bayer MaterialScience AG In situ-polymerization of monoethylenically unsaturated monomers with secondary amines
EP1428837A1 (en) * 2002-12-13 2004-06-16 Bayer MaterialScience AG The in situ polymerization of monoethylenically unsaturated monomers with oligomeric or polymeric secondary amines
US6992156B2 (en) * 2002-12-31 2006-01-31 The Goodyear Tire & Rubber Company Controlled polymerization
EP1615962A2 (en) * 2003-02-10 2006-01-18 Ciba SC Holding AG Comb copolymers with defined side chains and process for their manufacture
WO2004081538A2 (en) 2003-03-13 2004-09-23 Irm, Llc Compositions and methods of vinyl oxazolone polymerization
FR2852963A1 (fr) * 2003-03-26 2004-10-01 Atofina Nouveau procede de synthese/fabrication de films acryliques
WO2005021630A1 (en) * 2003-08-27 2005-03-10 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Composition and process for the controlled synthesis of block copolymers
FR2859728B1 (fr) * 2003-09-15 2008-07-11 Oreal Copolymeres ethyleniques sequences comprenant une sequence vinyllactame, compositions cosmetiques ou pharmaceutiques les contenant, et utilisation de ces copolymeres en cosmetique
US20050238594A1 (en) * 2003-09-15 2005-10-27 Nathalie Mougin Block ethylenic copolymers comprising a vinyllactam block, cosmetic or pharmaceutical compositions comprising them and cosmetic use of these copolymers
KR100680405B1 (ko) * 2003-11-19 2007-02-08 주식회사 하이닉스반도체 Euv용 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한포토레지스트 패턴 형성 방법
US20050112286A1 (en) * 2003-11-25 2005-05-26 Nguyen Phui Q. Process for multilayer coating of substrates
US7468413B2 (en) 2004-01-30 2008-12-23 Khodia Inc. Rare earth aggregate formulation using di-block copolmers
US7632905B2 (en) 2004-04-09 2009-12-15 L'oreal S.A. Block copolymer, composition comprising it and cosmetic treatment process
US7528204B2 (en) * 2004-05-17 2009-05-05 The Goodyear Tire & Rubber Company Hydrogenation and epoxidation of polymers made by controlled polymerization
FR2872039B1 (fr) * 2004-06-23 2006-08-04 Rhodia Chimie Sa Composition cosmetique comprenant un polyorganosiloxane et ses utilisations
FR2873702B1 (fr) 2004-07-29 2006-12-22 Oreal Copolymere hyperbranche comprenant des monomeres selectionnes, composition le comprenant, et procede cosmetique
US7279446B2 (en) 2004-11-15 2007-10-09 Rhodia Inc. Viscoelastic surfactant fluids having enhanced shear recovery, rheology and stability performance
EP1861429B1 (en) 2005-01-11 2013-03-13 Basf Se Process for the post-modification of homo and copolymers prepared by controlled free radical polymerization processes
US7906468B2 (en) * 2005-02-23 2011-03-15 Arkema Inc. Acrylic block copolymer low temperature flow modifiers in lubricating oils
US20100311920A1 (en) 2005-08-26 2010-12-09 Cid Centro De Investigacion Y Desarrollo Tecnologico Sa De Cv Using Reactive Block Copolymers as Chain Extenders and Surface Modifiers
US8357759B2 (en) * 2005-08-26 2013-01-22 CID Centro de Investigación y Desarrollo Tecnológico S.A. de C.V. Reactive block copolymers
JP2008060540A (ja) * 2006-08-03 2008-03-13 Seiko Epson Corp 電子デバイスの製造方法、電子デバイスおよび電子機器
US20100311849A1 (en) 2006-08-23 2010-12-09 Cid Centro De Investigacion Y Desarrollo Tecnologico Sa De Cv Using Reactive Block Copolymers as Chain Extenders and Surface Modifiers
FR2911609B1 (fr) * 2007-01-19 2009-03-06 Rhodia Recherches & Tech Copolymere dibloc comprenant des unites derivant du styrene et des unites derivant d'acide acrylique
FR2923487B1 (fr) * 2007-11-09 2009-12-04 Rhodia Operations Copolymere ampholyte a architecture controlee
FI122734B (fi) 2007-05-21 2012-06-15 Kemira Oyj Prosessikemikaali käytettäväksi paperin tai kartongin valmistuksessa
FR2921663A1 (fr) 2007-10-02 2009-04-03 Bluestar Silicones France Soc Polyorganosiloxanes a fonction piperidine depourvus de toxicite par contact cutane et utilisation de ces derniers dans des compositions cosmetiques
US7789160B2 (en) 2007-10-31 2010-09-07 Rhodia Inc. Addition of nonionic surfactants to water soluble block copolymers to increase the stability of the copolymer in aqueous solutions containing salt and/or surfactants
WO2009058589A2 (en) 2007-10-31 2009-05-07 Rhodia Inc. Addition of zwitterionic surfactant to water soluble polymer to increase the stability of the polymers in aqueous solutions containing salt and/or surfactants
FR2934154B1 (fr) * 2008-07-23 2010-08-13 Rhodia Operations Emulsions thermosensibles
FR2937336B1 (fr) 2008-10-22 2011-06-10 Rhodia Operations Composition pour les soins menagers comprenant un nanogel cationique
WO2012000992A1 (en) 2010-06-29 2012-01-05 Basf Se Process for improving the flow properties of polymer melts
JP5741017B2 (ja) 2011-01-28 2015-07-01 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
JP5691578B2 (ja) 2011-02-04 2015-04-01 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
KR102004562B1 (ko) 2011-10-25 2019-07-26 헨켈 아게 운트 코 카게아아 세탁 과정에서의 오염 재부착방지제 및 방오제로서의 빗살형 또는 블록 공중합체의 용도
FR2987837B1 (fr) 2012-03-09 2014-03-14 Rhodia Operations Polymerisation radicalaire controlee en dispersion eau-dans-l'eau
EP2978786A1 (en) 2013-03-27 2016-02-03 Basf Se Block copolymers as soil release agents in laundry processes
EP2896637A1 (en) 2014-01-21 2015-07-22 Rhodia Operations Copolymer comprising units of type A deriving from carboxylic acid monomers and units of type B deriving from sulfonic acid monomers
FR3030525B1 (fr) * 2014-12-18 2018-05-11 Arkema France Polymerisation radicalaire d'alcoxyamines a basse temperature
TWI540126B (zh) * 2014-12-25 2016-07-01 財團法人工業技術研究院 化合物、及利用其所製備之聚合物
JP7139246B2 (ja) 2015-12-10 2022-09-20 アダマ・マクテシム・リミテッド 高分子電解質層形成ブロックコポリマーならびにその組成物および使用
WO2017103635A1 (en) 2015-12-16 2017-06-22 Rhodia Poliamida E Especialidades Ltda Emulsifier system for explosive emulsions
EP3478751A4 (en) 2016-07-02 2019-07-17 Rheomod De Mexico, S.A.P.I. De C.V. GRAFT POLYMERS
AR114185A1 (es) 2018-01-23 2020-07-29 Adama Makhteshim Ltd Síntesis de 5-cloro-2-[(3,4,4-trifluoro-3-buten-1-il)tio]-tiazol
US20190254476A1 (en) 2019-02-25 2019-08-22 Sharkninja Operating Llc Cooking device and components thereof
EP3931229A1 (en) 2019-02-28 2022-01-05 Rhodia Operations Compositions for high stabilization of emulsions
WO2020182919A1 (en) 2019-03-12 2020-09-17 Rhodia Operations Stabilized friction reducer emulsions
WO2022097048A1 (en) 2020-11-04 2022-05-12 Alcon Inc. Method for making photochromic contact lenses
US20230383043A1 (en) 2020-11-30 2023-11-30 Basf Se Process of producing polymer dispersions
CN117062872A (zh) 2021-03-26 2023-11-14 巴斯夫欧洲公司 作为分散剂的包含聚丙烯酸系嵌段共聚物和芳族基聚氧化烯的聚合物组合物
US20230339149A1 (en) 2022-04-26 2023-10-26 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3163677A (en) * 1961-08-07 1964-12-29 American Cyanamid Co Process for preparing n, n, o-trisubstituted hydroxyl amines and n, n-disubstituted nitroxides and products
AU571240B2 (en) * 1983-07-11 1988-04-14 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Alkoxy-amines, useful as initiators
KR930000892B1 (ko) * 1983-07-11 1993-02-11 커몬웰스 사이언티픽 앤드 인더스트리얼 리셔치 오가니제이숀 신규의 개시제를 사용하여 중합체 또는 공중합체를 제조하는방법
US5322912A (en) * 1992-11-16 1994-06-21 Xerox Corporation Polymerization processes and toner compositions therefrom
US5608023A (en) * 1995-03-30 1997-03-04 Xerox Corporation Rate enhanced polymerization processes
EP0928296B1 (en) 1996-09-25 2001-12-05 Akzo Nobel N.V. No-compounds for pseudo-living radical polymerization

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003507516A (ja) * 1999-08-12 2003-02-25 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 改善された耐衝撃性を有するポリマーブレンド
JP2004002678A (ja) * 2002-02-01 2004-01-08 Atofina Chemicals Inc 制御されたラジカル重合による改良された高固形分塗料樹脂
JP2005519121A (ja) * 2002-03-05 2005-06-30 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 制御された低温ラジカル重合のための開鎖アルコキシアミン及びそれらの相当するニトロキシド。
JP2006500433A (ja) * 2002-07-26 2006-01-05 アルケマ 少なくとも一つの親水性ブロックを含むブロックコポリマーをベースにした湿った媒体用接着剤組成物
JP2007516326A (ja) * 2003-12-11 2007-06-21 アルケマ フランス ブロックコポリマーの製造方法と、その接着剤組成物での使用
JP2011186065A (ja) * 2010-03-05 2011-09-22 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び硬化膜
US8883381B2 (en) 2010-03-17 2014-11-11 Fuji Xerox Co., Ltd. Image forming apparatus, and processing cartridge
JP2017507237A (ja) * 2014-03-07 2017-03-16 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 制御されたラジカル重合
JP2018534414A (ja) * 2015-11-04 2018-11-22 ディスポルテク ベスローテン フェンノートシャップ ビニルモノマーの線状重合および擬環拡大重合を制御するための調節剤
JP7027320B2 (ja) 2015-11-04 2022-03-01 ディスポルテク ベスローテン フェンノートシャップ ビニルモノマーの線状重合および擬環拡大重合を制御するための調節剤
JP2022078097A (ja) * 2015-11-04 2022-05-24 ディスポルテク ベスローテン フェンノートシャップ ビニルモノマーの線状重合および擬環拡大重合を制御するための調節剤
JP7325560B2 (ja) 2015-11-04 2023-08-14 ディスポルテク ベスローテン フェンノートシャップ ビニルモノマーの線状重合および擬環拡大重合を制御するための調節剤

Also Published As

Publication number Publication date
US20010008928A1 (en) 2001-07-19
WO1999003894A1 (en) 1999-01-28
US6455706B2 (en) 2002-09-24
AU8440798A (en) 1999-02-10
US20010039315A1 (en) 2001-11-08
EP0996643A1 (en) 2000-05-03
US6262206B1 (en) 2001-07-17
EP0996643B1 (en) 2003-03-26
DE69812633D1 (de) 2003-04-30
DE69812633T2 (de) 2003-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001510208A (ja) ニトロソ化合物又はニトロン化合物から誘導されたアルコキシアミン化合物を含む重合可能な組成物
JP4584448B2 (ja) ラジカル重合開始剤としてのグリシジル又はアルキルカルボニル基を有するニトロキシル誘導体
JP3860197B2 (ja) 閉環重合モノマーおよびポリマー
JP2001518947A (ja) 制御された遊離ラジカル重合法
JP2002522415A (ja) 開鎖アルコキシアミンおよび重合調節剤としてのそれらの使用
JP2001508485A (ja) ポリマーの分子量および構造の制御方法
CA1232998A (en) "living" polymers and process for their preparation
AU750851B2 (en) Thermal- and photoinitiated radical polymerization in the presence of an addition fragmentation agent
JP2004515540A (ja) ラジカル重合開始剤としてのn−アルコキシ−4,4−ジオキシ−ポリアルキル−ピペリジン
JP4389247B2 (ja) 4−イミノ−n−アルコキシまたはオキシポリアルキルピペリジン化合物および重合調節剤としてのそれらの使用
TWI246519B (en) Use of 2,2,6,6 tetraalkylpiperidine-N-oxyl radicals having long alkyl chains as polymerization regulators
KR100920465B1 (ko) 폴리알킬피페리딘, 폴리알킬피페라지논 및폴리알킬모르폴리논을 기본으로한 다작용성 알콕시아민 및이들의 중합조절제/개시제로서의 용도
EP0891986A1 (en) Polymerizable compositions containing alkoxyamine compounds derived from nitrogen oxide
JP2001512751A (ja) 改良された放射線硬化特性を有する樹脂組成物
JP2022078097A (ja) ビニルモノマーの線状重合および擬環拡大重合を制御するための調節剤
JP4602671B2 (ja) 制御された低温ラジカル重合のための開鎖アルコキシアミン及びそれらの相当するニトロキシド。
JPH0625318A (ja) アクリル酸等のアニオン重合法
Birnbaum et al. Synthesis of α-biotinyl poly (ethylene glycol-bN-isopropylacrylamide) block copolymers with different fluorescent dyes at the ω-side
JPH0243222A (ja) ポリ(チウラムジスルファイド)と、その製造方法と、そのビニル系モノマー重合への利用
Summers et al. RAFT polymerization of styrene mediated by oxazolyl-functionalized trithiocarbonate RAFT agents
KR20010041072A (ko) N-비닐 화합물로부터 중합체의 제조방법
JP2004067680A (ja) アルコキシアミンの合成方法およびそのラジカル重合における使用
TW404954B (en) Alkoxyamine compounds, a polymerizable composition containing them, a process for preparing an oligomer, a cooligomer, a polymer or a copolymer and a polymer or oligomer obtain by said process
Glaßner Modular Diels-Alder Conjugation-An Efficient Tool for Polymer Architecture and Materials Design
Özgüç Synthesis and characterization of well-defined diblock copolymers of poly (N-isopropylacrylamide) and poly (vinyl acetate)