JP2001341476A - Ｏｖｄ転写箔及び磁気情報媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】装飾性に優れているＯＶＤを磁気情報媒体の製
造において使用される転写箔であって、静電気による磁
気情報の書き込み、読み取りエラーや加工時の不具合を
防止出来る転写箔を提供する。 【解決手段】磁気層２２を有してなる情報記録媒体の基
体２１に転写し、磁気部分を目視できぬよう隠蔽可能と
するＯＶＤ転写箔に関し、支持体に少なくともＯＶＤ層
１３および誘電体からなる薄膜を有した隠蔽層１４を具
備したＯＶＤ転写箔。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、偽造防止効果を必
要とするクレジットカードやキャッシュカード等の磁気
情報を有した磁気情報記録媒体の作製に用いる転写箔媒
体に関する。さらに詳しくは前記情報記録媒体に偽造防
止効果を付与するためＯＶＤ画像を形成したＯＶＤを有
する転写箔媒体に関わる。

【０００２】

【従来の技術】光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾
画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、光学特性の
異なる薄膜を重ねることにより、見る角度により色の変
化（カラーシフト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤ
（Optical Variable Device）の開発が進められてい
る。

【０００３】ホログラムや回折格子のごときＯＶＤは、
微細な凹凸パターンや、屈折率の異なる縞状パターンな
どの回折構造からなっており、これにより光の回折と干
渉により見る角度（すなわち、ホログラムを形成してい
る角度）に応じて、固有の像や色の変化（カラーシフ
ト）を生じる。一方、多層薄膜は光学特性の異なるセラ
ミックスや金属材料を幾重にも積層した構造でなる。こ
の多層薄膜は構成する材料の光学特性と膜厚により得ら
れる光の干渉作用を利用した表示技術であり、特定の波
長域に反射・透過特性を有しいるため、観察する角度に
よりカラーシフトを生じる。本明細書においてはホログ
ラムおよび回折格子や多層薄膜などの光の干渉を利用し
た表示技術を総称してＯＶＤと称することとする。

【０００４】これらＯＶＤは立体画像やカラーシフトと
いった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有し
ており各種包装材や絵本、カタログ等の一般的な印刷物
に利用されている。さらに、このＯＶＤは高度な製造技
術を要することから有効な偽造防止手段としてクレジッ
トカード、有価証券、証明書類等に形成され使用されて
いる。最近では、ＯＶＤの有する装飾効果に着目し媒体
の全面に形成したものも現れてきている。

【０００５】一方、磁気情報記録部を有する情報媒体で
あるキャッシュカードやクレジットカードは黒色あるい
は茶褐色でなる磁気テープの色を隠蔽し、デザイン制限
ないカードを作ることが試みられてきた。その方法とし
ては、カードの色自体を磁気テープの色と合わせる手法
や白色、黒色あるいは銀色等の隠蔽インキを上から塗布
した後に白色層を設け絵柄の印刷を施す手法が取られて
いる。前者のカードを磁気テープの色に合わせる場合色
が制限されるために、デザインが限定されてしまうとい
う問題がある。後者の白色層を設ける方法ではデザイン
の幅が広がるが、その隠蔽および印刷の厚みが厚くなる
ため、磁気出力が低下するという問題があった。

【０００６】特に絵柄印刷上に前述のＯＶＤを形成した
場合に、ＯＶＤ分の厚みが増すためにより出力が低下
し、読みとりエラーを生じやすいという問題を有してい
た。具体例を挙げるならば磁気ストライプを有するクレ
ジットカード等の磁気カードは磁気テープの性能にもよ
るが、一般に約６μｍ程度の印刷が限界であり、それ以
下にしなければならないという問題がある。

【０００７】このような、偽造防止効果の高いＯＶＤを
付与した磁気情報記録媒体は読み取り難い媒体であっ
た。特開平９−２９４４３号によれば隠蔽層をＡｌやＮ
ｉ等の金属薄膜で形成することにより薄膜化し、光回折
画像（ホログラムや回折格子）を形成しても出力が低下
しない構成が提案されている。しかしながら、この構成
はその情報媒体上に導電体である金属と絶縁体であるプ
ラスチック材料を積層した構造であり、電荷のたまりや
すい構造のため、加工時に静電気による様々な不具合を
起こすほか、磁気情報を書き込むあるいは読み出す際に
電荷の放電によりエラーを生じやすい構成であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
に鑑みてなされたもので、装飾性に優れているＯＶＤを
磁気情報媒体の製造において使用される転写箔であっ
て、静電気による磁気情報の書き込み、読み取りエラー
や加工時の不具合を防止出来る転写箔、及びこの転写箔
を使用して作製された磁気情報媒体を提供することを課
題としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を達成
するためになされた発明であり、請求項１に記載の発明
は、磁気層を有してなる情報記録媒体の基体に転写し、
磁気部分を目視できぬよう隠蔽可能とするＯＶＤ転写箔
に関し、支持体に少なくともＯＶＤ層および誘電体から
なる薄膜を有した隠蔽層を具備してなることを特徴とし
たＯＶＤ転写箔である。

【００１０】また、請求項２に記載の発明は、前記隠蔽
層を構成する薄膜が島状構造を有した金属薄膜よりなる
ことを特徴とした請求項１に記載のＯＶＤ転写箔であ
る。

【００１１】また、請求項３に記載の発明は、前記隠蔽
層を構成する薄膜が金属酸化物等の誘電体薄膜よりなる
ことを特徴とした請求項１に記載のＯＶＤ転写箔であ
る。

【００１２】また、請求項４に記載の発明は請求項１〜
３に記載のＯＶＤ転写箔を加熱・加圧により転写して製
造された、少なくとも誘電体からなる薄膜を有した隠蔽
層およびＯＶＤ画像を具備してなることを特徴とした磁
気情報媒体である。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態によっ
て図面を参照して詳細に説明する。

【００１４】図１は、本発明のＯＶＤ転写箔の基本構成
となる転写箔の断面図である。転写箔支持体（１１）に
支持体からＯＶＤ層を含む転写層が転写する際、剥がれ
易くするための剥離性表面保護層（１２）、この剥離性
表面保護層上に図形、文字等を印刷して印刷層（１６）
部、この印刷層部上に、ＯＶＤ層（１３）、隠蔽層（１
４）及び接着層（１５）を順に設けた構成になってい
る。この剥離性表面保護層（１２）は、転写時には転写
層が支持体から剥がれ易くし、更に磁気情報媒体に転写
されると最表面となりＯＶＤ層等を保護する機能を有し
ている。

【００１５】図２は、磁気情報媒体基材（２１）に磁気
層（２２）が設けられている磁気情報媒体（２０）に転
写箔（１０）を使用してＯＶＤ等の転写層を転写する場
合を説明する斜視図である。転写箔（１０）の接着層
（１５）を磁気情報媒体（２０）側に向けて加熱／加圧
させて転写させた後、転写箔支持体（１５）を剥離させ
る。

【００１６】図３は、このように本発明のＯＶＤ転写箔
により製造された磁気情報媒体の一実施例を示すもので
あり、図３（Ａ）は斜視図であり、図３（Ｂ）は（Ａ）
の磁気情報媒体のＸ−Ｘ線における構成断面図ある。ま
た、図４および図５は本発明のＯＶＤ転写箔の一実施例
を示す構成断面図である。

【００１７】図３示した磁気情報記録媒体は、磁気層
（２２）を有する磁気情報媒体基材（２１）に転写箔
（１０）から転写された接着層（１５）、隠蔽層（１
４）、ＯＶＤ層（１３）、印刷層（１６）、表面保護層
（１２）に覆われており、外見では印刷層（１６）部の
絵柄『☆』や文字『ＩＤＣＡＲＤ』およびＯＶＤ層（１
３）である『ＢＡＮＫ』のパターンしか確認できない。

【００１８】この磁気情報媒体は、図１に示したＯＶＤ
転写箔を転写形成することにより得られた媒体である。
上述した様に本発明の転写箔は支持体（１１）に剥離性
表面保護層（１２）、印刷層（１６）、ＯＶＤ層（１
３）、隠蔽層（１４）、接着層（１５）を積層してな
り、図４及び図５に示す転写箔はＯＶＤ層部をホログラ
ムあるいは屈折率の異なる物質を積層させてカラーシフ
ト等を生じさせた一実施例を示す断面図である。

【００１９】以降、これらの材質及び構成をさらに詳し
く説明する。

【００２０】転写箔支持体（１１、３１、４１）として
は、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレ
ンナフタレートフィルム、ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
スチレン等の合成樹脂、天然樹脂、紙、合成紙などを単
独で又は組合わせた複合体が使用可能である。また、支
持体上には剥離性表面保護層（１２、３２、４２）、印
刷層（１６、３６、４６）、ＯＶＤ層（１３、３３、４
３）、隠蔽層（１４、３４、４４）、接着層（１５、３
５、４５）が積層され、更にその後、熱転写がおこなわ
れるため、その加工に耐えうる、強度、耐熱性や使用方
法に応じた耐性が要求される。そのため材料は、加工方
法に応じて選択さる。一方、厚みは、転写シートとして
のハンドリング性を考慮し２〜１００μｍが使用可能で
あり、望ましくは４〜５０μｍである。

【００２１】剥離性保護層（１２、３２、４２）として
は、容易に支持体から剥がれる材料であれば、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂
のいずれであっても良い。例を挙げるならば、ポリアク
リル酸エステル樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合樹脂、セルロース系樹脂、塩素化ポリプ
ロピレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ニトロセルロース系樹脂、スチレンアクリレート系
樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネイト系樹脂等
熱可塑性樹脂やメラミン、エポキシ等の熱硬化性樹やラ
ジカル重合性不飽和基を有する紫外線あるいは電子線硬
化性樹脂等を単独あるい複合して用いることができる。

【００２２】また、箔切れ性や耐摩性を考慮し、石油系
ワックス、植物系ワックス等の各種ワックス、ステアリ
ン酸等の脂肪酸やその金属塩、シリコンオイル等の滑剤
や、テフロンパウダー、ポリエチレンパウダー、シリコ
ーン系微粒子やアクリルニトリル系微粒子等の有機フィ
ラーおよび、シリカ微粒子等の無機フィラーを添加する
こともできる。これらの材料は、例えばグラビア印刷
法、スクリーン印刷法、ノズルコーター法等の既知の塗
布手段により支持体に塗布される。

【００２３】尚、剥離性表面保護層は支持体自体が剥離
性を有している場合、あるいは基材自体に離型処理を施
してある場合は設ける必要はない。しかし、その場合に
は転写後、最表面にあたる層に耐摩擦性付与するか、あ
るいは転写後に剥離性表面保護層を設けることもでき
る。

【００２４】印刷層（１６、３６、４６）は、図３にお
いて『ＩＤＣＡＲＤ』や『☆』で示した部分であり、文
字や記号あるいはキャラクター等絵柄の目視確認可能な
情報や背景が印刷される。この印刷層は公知の材料・印
刷方法にて設けられるが、厚く形成すると磁気ヘッドと
の間隔が大きくなり磁気出力の低下の原因となるため１
〜３μｍ程度で設けることが好ましい。

【００２５】ＯＶＤ層（１３、３３、４３）は、前述し
た光の干渉を利用したＯＶＤ画像を形成する層であり、
立体画像の表現や見る角度により色が変化するカラーシ
フトを生じる表示体を形成する層である。その中でホロ
グラムや回折格子のごときＯＶＤとしては、光の干渉縞
を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型
や体積方向に干渉縞を記録する体積型が挙げられる。一
方、ホログラムや回折格子と手法が異なり、光学特性の
異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層し、見る角
度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層膜方式
もその例である。これらは一例であり、光の干渉を利用
した固有の像や色の変化を生じる

【００２６】これら、ＯＶＤの中でも量産性やコストを
考慮した場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）
や多層薄膜方式のものが好ましい。

【００２７】以降、これらのＯＶＤに関して詳しく説明
する。

【００２８】図４に示したレリーフ型のホログラム（回
折格子）を有する転写箔は、光学的な撮影方式により、
微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を
作製し、電気メッキ法によりパターンを複製したニッケ
ル製のプレス版にて量産を行う。すなわち、このプレス
版を加熱しＯＶＤ形成層（３３ａ）に押し当て、凹凸パ
ターンを複製する。それ故、ＯＶＤ形成層（３３ａ）は
熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明る
い再生像が得られる材料であって、ポリカーボネート樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可
塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラジカル重
合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹脂を単独
あるい複合して用いることができる。また、上記以外も
のでも、ＯＶＤレリーフパターンを形成可能な安定性を
有する材料であれば使用可能である。

【００２９】また、レリーフ型のホログラム（回折格
子）を用いた場合、その回折効率を高めるためレリーフ
面を構成する高分子材料と屈折率の異なる反射層（ＯＶ
Ｄ効果層３３ｂ）を設けることが好ましい。このＯＶＤ
効果層（３３ｂ）を設けることにより、回折効率が向上
し、より鮮明な画像や色の変化をもたらす。用いる材料
としては、屈折率の異なるＴｉＯ₂、ＳｉＯ₂ 、Ｓｉ
Ｏ、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＳ、などの高屈折率材料や反射効
果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属
材料の島状構造を有した薄膜があげられる。これら材料
を単独あるいは積層して使用できる。これらの材料は真
空蒸着法等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜
厚は用途によって異なるが、５０〜１００００Å程度で
形成される。

【００３０】上記以外でも、ＯＶＤ効果層（３３ｂ）を
構成する材料としては、その屈折率が、ＯＶＤ形成層
（３３ａ）で使用される高分子材料（屈折率ｎ＝１．３
〜１．５）よりも高い材料であれば、上記の無機材料以
外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機系フィ
ラーを分散したものであっても使用可能である。これら
の材料はグラビアコート、ダイコート、スクリーン印刷
等の公知のコーティング法、や印刷法にて０．１μｍ〜
１０μｍ程度形成される。さらには、上記以外の材料で
あっても反射性を有した材料であれば、適宜使用するこ
とが可能である。

【００３１】一方、図５に示した多層薄膜方式にて形成
されるＯＶＤ層（４３）は、前述したように、異なる光
学適性を有する多層薄膜層（４３ａ、４３ｂ、４３ｃ）
からなり、島状構造でなる金属薄膜、あるいは誘電体の
セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜
として積層形成される。例えば屈折率の異なる薄膜を積
層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合
わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層する
ようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所望の
多層薄膜を得ることができる。この多層薄膜層は、セラ
ミックスや金属などの材料が用いられ、おおよそ２以上
の高屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を
所定の膜厚で積層したものである。以下に用いられる材
料の一例を挙げる。まず、セラミックスとしては、Ｓｂ
₂ Ｏ₃ （３．０＝屈折率ｎ：以下同じ）、Ｆｅ₂ Ｏ
₃ （２．７）、ＴｉＯ₂ （２．６）、ＣｄＳ（２．
６）、ＣｅＯ₂ （２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣ
ｌ₂ ２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ₂ Ｏ ₃ （２．
０）、ＷＯ₃ （２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ₂ Ｏ
₃ （２．５）、Ｉｎ₂ Ｏ₃ （２．０）、ＰｂＯ（２．
６）、Ｔａ₂ Ｏ₃ （２．４）、ＺｎＯ（２．１）、Ｚｒ
Ｏ₂ （２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ₂ （１．
５）、ＭｇＦ ₂ （１．４）、ＣｅＦ₃ （１．６）、Ｃａ
Ｆ₂ （１．３〜１．４）、ＡｌＦ₃ （１．６）、Ａｌ₂
Ｏ₃ 、ＧａＯ（１．７）等があり、金属単体もしくは合
金の薄膜、例えばＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等がある。

【００３２】また、低屈折率の有機ポリマー、例えばポ
リエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４
９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメ
チルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン
（１．６０）等がある。これらの高屈折率材料もしくは
３０％〜６０％透過の金属薄膜より少なくとも一種、低
屈折率材料より少なくとも一種選択し、所定の厚さで交
互に積層させる事により、特定の波長の可視光に対する
吸収あるいは反射を示すものである。なお、金属から構
成される薄膜は、構成材料の状態や形成条件などによ
り、屈折率などの光学特性が変わってくるため、本発明
の実施例では一定の条件における値を用いている。

【００３３】上記した各材料から屈折率、反射率、透過
率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性などに
基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜を形
成する。形成方法は公知の手法を用いることができ、膜
厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ・ｄ、
ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な、通常の真
空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法や
ＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができ
る。

【００３４】また、低屈折率有機ポリマーの成膜方法と
しては、公知のグラビア印刷方、オフセット印刷方、ス
クリーン印刷方などの印刷方法やバーコート法、グラビ
ア法、ロールコート法等などの塗布方法等を用いること
ができる。なお、本発明ではセラミックス・金属のみを
開示しているが、セラミックス・金属と同等、あるいは
類似する屈折率と反射率を有するものであれば、用いる
ことが可能である。

【００３５】この多層薄膜層の具体例を挙げるならば、
その層厚が５０〜２００００Åの範囲であり、また薄膜
の層構成は上記した高屈折率の材料もしくは金属材料か
らなる薄膜、例えばＺｎＳ、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ｉｎ
₂ Ｏ₃ 、ＳｎＯ、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂ 、ＺｎＯ、Ｔａ₂ Ｏ
₃ 、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ｓｉなどと、上記した低屈折率の材料からな
る薄膜、例えばＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂ 、ＣａＦ₂ 、Ｍｇ
Ｏ、Ａｌ₂ Ｏ₃ などとの組み合わせであり、それらを交
互に積層し、その積層数が２層以上であり、好ましくは
２層〜９層であるものが挙げられる。尚、用いられる材
料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるため、
これに限定されるものではない。

【００３６】尚、これらＯＶＤ層は、転写して作製した
磁気情報媒体において、必ずしも印刷層の下にある必要
はなく、ＯＶＤ層が透明で印刷層の絵柄、文字等が判読
できるならば、ＯＶＤ層（１３、３３、４３）と隠蔽層
（１４、３４、４４）の間に有っても構わない。また、
これらＯＶＤ層が十分に隠蔽性を有する薄膜で成るなら
ば、後述の隠蔽層を兼ねることもできる。

【００３７】隠蔽層（１４、３４、４４）は、磁気層
（２２）を隠蔽する層であり導電性のない薄膜でなる。
例えば島状構造でなる金属薄膜やセラミックス材料から
なる薄膜が挙げられる。

【００３８】以降、この隠蔽層に関してさらに詳しく説
明する。

【００３９】島状構造でなる金属薄膜とは、図６に示す
ようにサイズ２００Å〜１μｍの粒子が間隔１０Å〜５
０００Å程度で各々が孤立した島状に形成された薄膜で
あり、島同士が離れているため、薄膜全体には導電性を
示さない。また、その間隔も非常に小さいため、膜全体
では光を反射する特性を示し、磁気層を隠蔽することが
可能となる。この薄膜は真空蒸着、スパッタリング、イ
オンプレーティング等の薄膜形成法により直接形成する
方法（特公平６−６７８３号）があり、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａ
ｌ合金、Ｓｎ−Ｓｉ合金、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃ
ｏ、Ｓｉ、Ｇｅ等がが挙げられるが、融点の低い金属や
貴金属が加工に適しており、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａｌ合金、Ｓ
ｎ−Ｓｉ合金が好ましい。

【００４０】その他に島状構造の薄膜を形成する方法と
しては、Ａｌのような島状構造の蒸着が難しい材料であ
っても、一旦連続した薄膜を形成した後、島状構造とな
るようにエッチングにより部分的に薄膜を除去し製造す
ることも可能である。これら以外の方法であっても各々
が独立した島構造の薄膜が形成できる公知の手法であれ
ば利用可能であり、限定される物ではない。

【００４１】一方、金属酸化物、硫化物等の誘電体材料
を用いた隠蔽層は例えばＴｉＯ₂ 、Ｓｉ₂ Ｏ₃ 、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂ 、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＳ、ＭｇＯ、Ａｌ₂ Ｏ
₃ 、ＡｌＦ₃ 等のセラミックス材料が挙げられる。これ
ら材料は色調や光透過性の程度から様々ではあるが２０
０Å〜１００００Åの範囲にて公知の真空蒸着、スパッ
タリング、イオンプレーティング等の薄膜形成法で設け
られる。

【００４２】これらの材料は導電性を示さず、静電気に
よる不具合を生じにくい媒体が得られるが、いずれも透
明性が高く隠蔽性に劣る。しかしながらＴｉＯ₂ 、Ｓｉ
₂ Ｏ ₃ 、ＺｎＳ等の材料はプラスチック材料と屈折率が
異なるため、プラスッチック材料と積層した場合その境
界で光を反射する特性を有している。この特性を利用し
薄膜を形成する前にプラスッチック材料を塗布し、その
面を予め細かく荒らすしておく、あるいは粒子を分散し
たプラスッチック材料を塗布し粗い面を作っておく。そ
してその後、薄膜を形成すれば、光の反射面積がより多
くなり、かつ反射光が散乱し易くなるためより白色の隠
蔽層を得ることが可能である。

【００４３】材料に無機フィラ−や着色顔料等の粒子を
混入することにより表面を荒らすとともに着色し隠蔽効
果を向上することも可能である。以上は例であり表面の
荒れた面に薄膜を形成する方法であれば、これらに限定
されるものではない。また、この手法は隠蔽力を向上し
散乱によって白色化あるいは着色する効果があり、前述
の島構造を有する金属薄膜にも適用可能である。さらに
隠蔽性を高めるため、隠蔽用の印刷層を設けたり、磁気
情報媒体基材（２１）の色を磁気層（２２）の色と合わ
せることにより、磁気層を目立ちにくくした上で、本発
明のＯＶＤ転写箔を形成することも考えられる。

【００４４】接着層（１５、３５、４５）としては、隠
蔽層（１４、３４、４４）と磁気情報媒体基材（２１）
とを接着させるという性能が要求される。その材質とし
ては熱可塑性樹脂が好ましくアクリル系樹脂、ウレタン
系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル
系樹脂等の単体あるいは共重合体を、単独もしくは複合
して使用可能である。また、ブロッキングの防止および
箔切れ性を考慮し、石油系ワックス、植物系ワックス等
の各種ワックス、ステアリン酸等の脂肪酸やその金属
塩、シリコンオイル等の滑剤や、テフロンパウダー、ポ
リエチレンパウダー、シリコーン系微粒子やアクリルニ
トリル系微粒子等の有機フィラーおよび、シリカ微粒子
等の無機フィラーを添加することもできる。これら接着
層材料は、例えばグラビア印刷法、スクリーン印刷法、
ノズルコーター法等の既知の塗布手段により塗布され
る。

【００４５】以上に説明した構成は、一例であり、商品
の形態あるいは製造方法により各層の上に接着層や印刷
層を適宜設けることは可能である。また、その積層する
順もこれに示した限りでなく、例えばＯＶＤ層と隠蔽層
上に印刷層を有する構成やＯＶＤ効果層（３３ｂ）が隠
蔽層を兼ねる構成であっても良い。さらには、偽造防止
を向上させるべく蛍光発色インキや赤外線インキおよび
液晶高分子等にて潜像を付与した構成等を付け加えるこ
とも可能である。

【００４６】

【実施例】本発明を、具体的な実施例を挙げて詳細に説
明する。 ［実施例１］図４に示した本発明のＯＶＤ転写箔を用い
た磁気情報記録媒体の一実施例を示す。まず、転写箔支
持体（３１）となる２５μｍの透明ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）フィルムに以下の組成の剥離性表面
保護層（３２）塗料をグラビア法を用いて形成した後、
グラビア印刷を施した上に、ＯＶＤ形成層（３３ａ）塗
料グラビア法を用いて形成した。尚、各々塗布厚１．０
μｍで形成した。

【００４７】次いで、ＯＶＤレリーフパターンを有する
ニッケル製のＯＶＤ画像金型を１００℃に加熱し、公知
のロールエンボス法により、ＯＶＤ形成層（３３ａ）上
に押圧することで、ＯＶＤ形成層上にＯＶＤレリーフパ
ターンを形成した。本実施例では、２ステップ法により
撮影したレインボーホログラムをＯＶＤ画像に用いた。

【００４８】さらに、上記方法でＯＶＤレリーフパター
ンを形成したＯＶＤ形成層（３３ａ）上に、真空蒸着法
を用いて膜厚０．０５μｍのＺｎＳを形成してＯＶＤ効
果層（３３ｂ）を設けた後、隠蔽層（３４）としてＳｎ
の島蒸着を０．０５μｍ、接着層（３５）をグラビア法
にて１．０μｍ設け、ＯＶＤ転写箔（３０）を得た。

【００４９】以下に、潜像を有するＯＶＤ転写箔製造に
使用した塗料について示す。 （剥離性表面保護層塗料） アクリル樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …８０部 トルエン …８０部 （ＯＶＤ形成層塗料） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 …１５部 ウレタン樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …５０部 トルエン …２５部 （接着層塗料） アクリル樹脂 …１５部 ポリエステル樹脂 … ５部 メチルエチルケトン …３０部 トルエン …５０部

【００５０】以上にして得られた転写箔をホットスタン
プにて８０℃、０．５秒、９．８ＭＰａ（１００ｋｇ／
ｃｍ² ）の条件にて転写を行った。尚、被転写体として
は厚さ０．８ｍｍの磁気テープを有する塩化ビニールカ
ードを用いた。

【００５１】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか５００ÅのＳｎ蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上の印刷の厚みが４μｍ程度であるため良好な出力が得
られた。また、積み重ねた状態で電荷をためることもな
く、電気を急激に放電することもないので、作業がしや
すく、磁気情報の数十回書込読出を行ってもエラーは生
じなかった。一方、本実施例ではＯＶＤ層（３３）が形
成されているため、見る角度により色が変化する視認性
の高いカードが得られた。以上のように本発明の転写箔
は転写という容易な工程で磁気テープを隠蔽したカード
が得られた。

【００５２】［実施例２］図５に示した本発明のＯＶＤ
転写箔を用いた磁気情報記録媒体の一実施例を示す。Ｏ
ＶＤ層（４３）として多層薄膜にした以外は実施例１と
同様な方法で転写箔を得た。

【００５３】この多層薄膜として、ＺｎＳ−４００Å、
ＳｉＯ2 −５８００Å、ＺｎＳ−８００Åを順に形成し
てＯＶＤ層（４３）とした。

【００５４】得られた転写箔を実施例１と同様に磁気テ
ープを有した塩ビカードに転写し、カードを得た。

【００５５】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか５００ÅのＳｎ蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上のＯＶＤが形成されているにも関わらず、その厚みが
４．０μｍ程度であるため良好な出力が得られた。ま
た、積み重ねた状態で電荷をためることもなく、電気を
急激に放電することもないので、作業がしやすく、磁気
情報の数十回書込読出を行ってもエラーは生じない磁気
情報媒体であった。

【００５６】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の転写箔は、
磁気情報記録媒体は導電性を示さない薄膜にて磁気層を
隠蔽する隠蔽層を有しており、ＯＶＤが形成されている
にもかかわらず、十分な磁気出力が得られるとともに、
取り扱い時の不具合や、磁気情報の書込読出時にもエラ
ーを生じない意匠性の高い磁気記録媒体を容易に作製可
能とする。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＯＶＤ転写箔の基本構造を示す断面図
である。

【図２】磁気情報媒体に転写する状態を説明する斜視図
である。

【図３】本発明のＯＶＤ転写箔にて作製された磁気情報
媒体を示し、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）はｘーｘ部の構成
断面図である。

【図４】本発明のレリーフ型ＯＶＤ転写箔の一実施例を
示す構成断面図である。

【図５】本発明の多重薄膜型ＯＶＤ転写箔の一実施例を
示す構成断面図である。

【図６】島状金属薄膜の概念平面図である。

【符号の説明】 １０、３０、４０…転写箔 １１、３１、４１…転写箔支持体 １２、３２、４２…剥離性表面保護層 １３、３３、４３…ＯＶＤ層 ３３ａ…ＯＶＤ形成層 ３３ｂ…ＯＶＤ効果層 ４３ａ、４３ｂ、４３ｃ…多層薄膜 １４、３４、４４…隠蔽層 １５、３５、４５…接着層 １６、３６、４６…印刷層 ２０…磁気情報媒体 ２１…磁気情報媒体基材 ２２…磁気層 ５０…島状金属薄膜 ５１…島

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気層を有してなる情報記録媒体の基体に
   転写し、磁気層部分を目視できぬよう隠蔽可能とするＯ
   ＶＤ転写箔に関し、転写箔支持体に少なくともＯＶＤ層
   および誘電体からなる薄膜を有した隠蔽層を具備してな
   ることを特徴としたＯＶＤ転写箔。
2. 【請求項２】前記隠蔽層を構成する薄膜が島状構造を有
   した金属薄膜よりなることを特徴とした請求項１に記載
   のＯＶＤ転写箔。
3. 【請求項３】前記隠蔽層を構成する薄膜が金属酸化物等
   の誘電体薄膜よりなることを特徴とした請求項１に記載
   のＯＶＤ転写箔。
4. 【請求項４】請求項１〜３に記載のＯＶＤ転写箔を加熱
   ・加圧により転写して製造した、少なくとも誘電体から
   なる薄膜を有した隠蔽層およびＯＶＤ画像を具備してな
   ることを特徴とした磁気情報媒体。