JP4722353B2 - 色シフト背景を有する回折面 - Google Patents

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Description

【０００１】
発明の属する技術分野
本発明は、一般的にセキュリティー製品を製造する際に用いる薄膜光学被膜に関する。さらに詳しく述べると、本発明は種々の用途においてセキュリティー製品として使用することができる、色シフト性、即ち光学的に変化する背景を有するホログラフィーあるいは格子等の回折性の面を形成する方法に関する。
【０００２】
従来の技術
色シフト顔料及び色素は、自動車用塗料からセキュリティー書類及び通貨用の偽造防止インクまでに渡って多数の用途で使用されている。このような顔料及び色素は、入射光の角度が変化した際に、あるいは見る者の視角がシフトする際に、色を変化させる性質を有する。このような色シフト色素を実現する主な方法では、特定の光学的特徴を有する多重層の薄膜から典型的には形成される小さい薄片を、分散後対象物の表面に塗布可能な塗料あるいはインクの媒体に中に分散させる。
【０００３】
発明が解決しようとする課題
回折パターン体及びエンボス加工体並びに関連するホログラフィー分野は、それらの美的視覚効果及び実用性視覚効果により、広範囲の実用用途を見出し始めている。回折格子によって生み出される虹色の視覚効果が、一つの非常に望ましい装飾的効果である。周囲の光が回折格子からの反射によって色成分中に回折する際に、上記優れた視覚効果が生ずる。一般に、回折格子は、一つの材料中に複数の線や溝から形成される本質的に繰り返し構造により複数のピーク部や凹部を形成する。回折格子が反射面上にミリメータ当たり数百から数千の規則正しく離間された線を有する場合に、所望の光学的効果が可視スペクロル中に現れる。
【０００４】
回折格子技術は、見る者に三次元的なイメージの錯覚を与える二次元的ホログラフィックパターンを形成する際に用いられる。さらに、ホログラフィック像は、偽造行為を防止するために種々の対象物にホログラフィック像を使用することで、広範な用途を見出している。
【０００５】
ギフト包装等の装飾品から紙幣等のセキュリティー書類及びクレジットカードまでに渡ってホログラフィーパターンでエンボス加工した面に対していくつかの応用例がある。
【０００６】
二次元ホログラムは、典型的にはプラスチック面に形成した回折パターンを利用している。いくつかの場合には、該面にエンボス加工したホログラフィックイメージは、さらに、加工する必要もなく、見ることができる。しかしながら、一般的には最大の光学的効果を実現するためには、反射層、典型的にはアルミニウム等の薄い金属層をエンボス加工した面に配置する。この反射層が、回折パターンのエンボス加工体の視覚性を実質的に上昇させる。
【０００７】
不幸なことに、偽造品製造業者がクレジットカード、紙幣等にしばしば使用されるホモグラムを再現するのに、実質的な誘因が存在する。ホモグラムを再現するのに使用される方法の１つとして、エンボス加工した面に渡ってレーザー光をスキャンし、光重合性ポリマー等の材料層上に反射光を光学的に記録することがある。当初のパターンは、偽造品として後に再現可能となっている。他の方法として、イオンエッチングによりエンボス加工した金属面から保護被覆材を除去する方法があり、その場合エンボス加工した金属表面を露出した場合、銀（あるいはその他の剥離容易性層）を析出することができる。この析出工程後に、ニッケル層を析出させるが、ニッケル層は除去され偽造のためのエンボス加工詰め部を形成する。
【０００８】
偽造方法の複雑化のレベルにより、さらに進んだセキュリティー手段を開発することが必要となってきている。Ｍｉｅｋｋａ ｅｔ. ａｌ.の米国特許公報Ｎｏ.５,６２９,０６８号及び米国特許５,５４９,７７４号に開示されているように、一つの方法は、薄い金属層に替えてエンボス加工した表面に光学的積層体から形成される顔料とともに金属薄片系インク、金属効果付与インク、あるいは光学的積層体から形成される顔料を含むインクを塗布することである。Ｍｉｅｋｋａ ｅｔ. ａｌ.の米国特許公報Ｎｏ.５,６２４、０７６号及び米国特許５，６７２，４１０号に開示されているように、別の方法は、エンボス加工した金属粒子あるいは光学的薄片を用いてホログラフィックイメージパターンを形成することである。
【０００９】
上述したように、ホログラフィー像に関する他の問題点は、視覚化するためにこれらの像は直接スペクトル照明を必要とすることである。このことは、最良の視覚効果を得るためには、照明光を視角と同一の角度で入射させなければならない。従って、ホログラフィー像を照明する場合に通常の室内光等の拡散光源あるいは雲天光による観察を採用すると、ホログラム中に含まれる視覚情報の多くが現われなくなり、典型的に見れるものはエンボス加工した面からの銀色の反射のみとなる。
【００１０】
従って、通常の室内光で視覚の質を高めることが可能で、かつ種々のセキュリティー用途で使用して偽造行為をより困難とすることが可能な改良セキュリティー製品を開発することが実質的に有利であろう。
課題を解決するための手段
【００１１】
本明細書中で具体的に示し広く記載する本発明によれば、第1の面及び対向する第二の面とを備えた光透過性基板を有し、第一の面が回折格子パターンあるいはホログラフィー像パターン等の光学干渉パターンを備えた、セキュリティー製品が提供される。色シフト光学被膜は、基板上に形成され、該光学被膜は入射光角度あるいは視角が変化する際に観察可能な色シフトを示す。一つの実施態様では、色シフト光学被膜が光学干渉パターンとは反対の基板の第二の面に形成されていて、基板に近接して形成された吸収層と、吸収層上に形成された誘電層と、誘電層上に形成された反射層とを含んでいる。あるいは、この多重層の光学被膜を基板の干渉パターンと同一の側に形成することもできる。
【００１２】
他の実施態様では、色シフト光学被膜をポリマー媒体と該ポリマー媒体中に分散した複数の色シフト多重層の光学干渉薄片とを含む塗料あるいはインクの形で基板に対して塗布する。他の実施態様では、色シフト光学被膜を光透過性のエンボス加工した基板とともに押出して隣接層を形成するか、あるいは基板を形成する前に基板材料中に干渉薄膜の形で分散させることもできる。
【００１３】
本発明のセキュリティー製品は、種々の用途で使用して偽造防止等の改善したセキュリティー手段を提供することができる。セキュリティー製品は、ラベル、札、リボン、セキュリティー紐等の形で用いて、セキュリティー文書、通貨貨幣、クレジットカード、商品等の種々の対象物に使用することができる。
【００１４】
本発明の上記及びその他の視点は以下の記載及び請求の範囲からさらに充分に明瞭となるであろうし、また以下に述べるように本発明の実施をすることによって学習することができよう。
【００１５】
上記及び他の利点が得られる態様をより充分に理解するために、貼付する図面に説明する本発明の特定の実施態様に言及して本発明を具体的に説明する。これらの図面は本発明の典型的な実施態様のみを図示するもので、従って本発明の範囲を限定するものと解してはならないということを理解された上で、本発明を貼付する図面を用いてさらに具体的にかつ詳細に記載かつ説明する。
【００１６】
発明の実施の態様
本発明は、向上した視覚効果を発揮できる色シフト背景を備えた回折面を有するセキュリティー製品に関する。セキュリティー製品の形態は、ホログラフィックパターンあるいは回折パターンのいずれかのパターンと色シフト膜あるいは層とを組合せることによって偽造の可能性を低減するよなものとする。さらに、本発明の製品により、直接スペクトル光を必要とせずに使用者はより容易に拡散光で像効果あるいは回折効果を見ることが可能となる。
【００１７】
一般に、本発明のセキュリティー製品の形態は、その表面に干渉パターンを有する光透過性基板と色シフト光学被膜とを組合わせることによって、対象物の偽造を困難にするというセキュリティー特性を与えるようなものとする。
【００１８】
図面に言及すると、同様な構造は同様な参照記号を付してある。図１Ａは本発明の一実施態様によるセキュリティー製品１０を図示する。セキュリティー製品１０は、その外側第一面上に光学干渉パターン１５が形成された光透過性基板１４を有する。色シフト光学被膜１６が基板１４の対向する第二の面に形成されている。該光学被膜については後述する。基板１４と色シフト光学被膜との組合せによりセキュリティー製品１０が形成されるが、この組合せによってその上にセキュリティー製品を有する対象物の複製、模造及び／または偽造の可能性を低減する。セキュリティー特性を提与することができる。
【００１９】
光透過性基板１４の外側面に形成された光干渉パターン１５は、回折格子、屈折パターン、二次元的ホログラフィーイメージ、像や三次元的ホログラフィック像等のホログラフィック像、コーナー立方リフレクターあるいは他の類似の干渉パターン等を含んだ種々の従来の形状をとることが可能である。当業者には、光学干渉パターン１５を形成する具体的な方法及び構造は知られている。例えば、プラスチック膜を加熱下ニッケル製エンボス加工片に接触させて加圧することによりプラスチック膜の表面をエンボス加工する等の周知の方法によって、光透過性基板をエンボス加工して上に干渉パターンを形成することができる。他の方法として、フォトリソグラフィー法、パターン付した面に対してプラスチック膜を成型する方法等がある。
【００２０】
一般に、成形可能な材料を用いて光透過性基板１４を形成するが、該プラスチック材料には、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、特にＰＥＴタイプＧ、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）を含むポリアクリレート等のアクリル系、ポリアクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリナルタレンテレフタレート（ＰＮＴ）およびそれらの混合物あるいは共重合体が含まれる。光透過性基板１４は実質的にポリカーボネート等の透明材料で形成することが好ましい。基板１４は約５μｍから約１００μｍの適当な厚さに形成され、好ましくは約１２μｍから約２５μｍの厚さとする。さらに、基板１４は、基板材料の一層あるいは多重層として形成することもできる。
【００２１】
一実施態様では、熱可塑性フィルムの表面を加熱軟化した後フィルムをエンボス加工ローラに当して軟化した面に回折格子あるいはホログラフィー像を付与することによって予めエンボス加工したフィルムから基板１４を形成することもできる。このように、回折格子あるいはホログラフィー像を上に備え、効果的に長さの限定のないシートを形成することができる。
【００２２】
図１Ａに示すように、色シフト光学被膜１６は、吸収層１８、誘電層２０及び反射層２２とを有する多重層の光学干渉膜である。吸収層は、物理的蒸着（ＰＶＤ）、スパッタリング等のｌ従来の蒸着方法によって光透過性基板１４に析出することができる。吸収層１８は約３０から１５０Åの適当な厚さ、好ましくは約５０から１００Åの厚さで形成する。吸収層１８は、クロム、ニッケル、チタン、バナジウム、コバルトおよびパラジウム等の金属および鉄、タングステン、モリブデン、ニオブ、アルミニウム等の他の金属も含め、灰色金属等の半不透明材料で形成することができる。インコネル（Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ）等の、上記金属の種々の組み合わせおよび合金も使用できる。金属弗化物、金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属炭化物、金属亜燐酸塩、金属セレン化物、金属ケイ化物等の金属化合物およびそれらの組み合わせ、並びに炭素、ゲルマニウム、サーメット、酸化第二鉄、誘電性マトリックスに混入させた金属等を含む他の吸収物質を吸収層１８中に用いても良い。
【００２３】
誘電層２０は、ＰＶＤ，反応性ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング等の通常の蒸着法によって吸収層２０の上に形成する。誘電層２０は、有効な光学的厚さに形成し、セキュリティー製品１０に色シフト性質を付与する。光学的厚さは、積ηｄとして定義される周知の光学的パラメータであり、ηは層の屈折率で、ｄは層の物理的厚さである。典型的には、層の光学的厚さは、４ηｄ／λに等しい4分の１波光学的厚さ（ＱＷＯＴ）に関して表され、ここにλはＱＷＯＴ条件が生じる波長である。誘電層２０の光学的波長は、所望の色シフトに依存するが、約４００ｎｍの設計波長で約２ＱＷＯＴから約７００ｎｍの設計波長で約９ＱＷＯＴ迄の範囲を取り得、好ましくは４００−７００ｎｍで２−６ｎｍである。誘電層２０に好適な材料は、ここでは約１．６５より大きいとして定義される「高」屈折率を有する材料および約１．６５以下として定義される「低」屈折率を有する材料を含む。
【００２４】
誘電層２０に対して好適な高屈折率材料の例としては、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、炭素（Ｃ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム−錫−酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化イットリウムＩＹ２Ｏ３）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ２Ｏ３）、酸化(II)二鉄(III)(Fe３O４)及び酸化第二鉄（Fe２O３）等の酸化鉄、窒化ハーフニウム（HfN）、炭化ハーフニウム（HfC）、酸化ハーフニウム（HfO２）、酸化ランタン（La２O３）、酸化マグネシウム（MgO）、酸化ネオジウム（Nd２O３）、酸化プラセオジム（Pr６O11）、酸化サマリウム（Sm２O３）、三酸化砒素（Sb２O３）、炭化ケイ素（SiC）、窒化ケイ素（Si３N４）、一酸化ケイ素（SiO）、三酸化セレニウム（Se２O３）、酸化錫（SｎO２）、三酸化タングステン（WO３）及びそれらの組合わせ等が含まれる。
【００２５】
誘電層２０に対する好適な低屈折率材料としては、二酸化ケイ素（SiO２）、酸化アルミニウム（Al２O３）、フッ化マグネシウム（MgF２）、フッ化アルミニウム（AlF３）、フッ化セリウム（CeF３）、フッ化ランタン（LaF３）、フッ化ナトリウムアルミニウム（例えば、Na３AlF６あるいはNa５Al３F１４）、フッ化ネオジウム（NdF３）、フッ化サマリウム（SmF３）、フッ化バリウム（BaF２）、フッ化カルシウム（CaF２）及びフッ化リチウム（LiF）等の金属弗化物及びそれらの組合せたもの、あるいは約１．65以下の屈折率を有するその他の低屈折率物質が挙げられる。例えば、アクリレート（例えば、メチルアクリレート）等のジエンあるいはアルケン、パーフルオロアルケン、ポリテトラフルオロエチレン（テフロン（登録商標））、弗化エチレンプロピレン（FEP）、それらの組み合わせ等を含め、有機モノマー及びポリマーが低屈折物質として使用できる。
【００２６】
反射層２２は、PVD、スパッタリング等の従来の蒸着方法によって誘電層２０の上に形成する。反射層２２は、約300−1000Åの好適な厚さ、好ましくは約５００−１０００Åの厚さに形成する。反射層２２は、所望の色効果によるが、好ましくはアルミニウム、銀、銅、金、白金、ニオブ、錫、それらの組み合わせ及び合金等の不透明で高反射性金属から形成するのが好ましい。灰色金属等の不透明金属は、約３５０−４５０Åで不透明になることを理解すべきである。したがって、クロム、ニッケル、チタン、バナジウム、コバルトおよびパラジウム等の金属あるいはコバルトーニッケル合金（磁性を有するであろう）を適当な厚さで反射層２２として使用することもできる。
【００２７】
更に、反射層２２は、セキュリティーを確実にするため機械で読み取ることができるよう、コバルトーニッケル合金等の磁性物質で形成することが可能であり、あるいは半透明物質で形成することができる。例えば、個人同定ナンバー（PINS）,アカウント情報、ソースのビジネス同定、保証情報等の機械で読み取れる情報を光学被膜の下の下地上に置くこともできる。代替えの実施態様では、反射層２２を分割して、視覚的にあるいは種々の光学的、電子的、磁気的あるいはたの方式の検知手段を用いて、下にある情報を部分的に見ることを可能とすることもできる。反射セグメントが位置する場所を除き、上記態様により光学被膜１６の下の情報を検知することができ、それによって偽造品を製造する際の困難性を大きくする。さらに、反射層は正誤した態様で分割されるので、読み取られることを防止した特定の情報を制御し、模倣あるいは変更からより良く保護する。
【００２８】
図1Aに示すように、色シフト光学被膜１６に対し吸収体／誘電体／反射体構成を用いることによって、人の目に顕著な高い色度変化性の色効果が達成される。従って、セキュリティー製品１０を適用した対象物は、観察する目に対して視角あるいは対象物の角度が変化するに従い、色の変化を生ずる。その結果、視角に対する色の変化により、セキュリティー製品１０を模造あるいは偽造することの困難性が増す。例として、本発明に係る色シフト光学被膜１６を使用することによって達成できる色シフトとしては、金−緑、緑−マジェンタ、青−赤、緑−銀、マジェンタ−銀、マジェンタ−金等が挙げられるが、これらのものに限定されない。
【００２９】
光学被膜１６の色シフト性質は、その複数層を適切に設計することによって制御することができる。該層の厚さ及び各層の屈折率等のパラメータを変えることによって所望の効果が得られる。視角あるいは入射角の相違により生ずる認識色の変化は、複数層を構成する材料による選択的吸収と波長依存の干渉効果との組合せに基づくものである。干渉効果は、重層構造内で複数回反射および透過した光波が重なって生ずるが、この干渉効果が異なる角度に対して認識色にシフトを生み出す原因となっている。
【００３０】
図1Bは、本発明の別の実施態様のセキュリティー製品３０を図示する。セキュリティー製品３０は、その表面に光学干渉パターンを形成した光透過性基板１４と、多重層膜である色シフト光学被膜１６とを含めて、セキュリティー製品１０に関して上述した要素と類似の要素を有する。しかしながら、光学被膜１６は、従来の蒸着方法によって基板14条の干渉パターンと同じ側に形成する。光学被膜１６は、干渉パターン上の吸収層１８と、吸収層１８上の誘電層２０と、誘電層２０上の反射層２２とを含む。図１Bに示すように、基板１４上に形成されたこれらの層の各々の層は、ホログラフィックイメージ等の干渉パターンの形状と符合している。
【００３１】
図2Aに本発明の別の実施態様のセキュリティー製品４０を図示する。セキュリティー製品４０は、その外側第一の表面に光学干渉パターン１５を形成した光透過性基板１４と、基板１４の対向する第二の表面に形成した色シフト光学被膜１６とを含めて、セキュリティー製品１０に関して上述した要素と類似の要素を有する。しかしながら、光学被膜１６は、吸収層１８とその上の誘電層２０を含む多重層膜であり、該多重層膜には反射層は含まれていない。この構成により、光学被膜１６はその表面に入射する光に対し透明となり、それによって担体基板（図示せず）上の光学被膜１６の下の情報を視覚的に確認あるいは機械によって読み取ることが可能となる。
【００３２】
図２Bは、本発明の別の実施態様のセキュリティー製品５０を図示する。セキュリティー製品５０は、その表面に光学干渉パターンを形成した光透過性基板１４と、多重層膜である色シフト光学被膜１６とを含めて、セキュリティー製品１０に関して上述した要素と類似の要素を有する。しかしながら、光学被膜１６は、従来の蒸着方法によって形成する。光学被膜１６は、干渉パターン上の吸収層１８と吸収層上の誘電層２０を含む。この構成により、光学被膜１６はその表面に入射する光に対し透明となり、それによって担体基板上の情報を視覚的に確認あるいは機械によって読み取ることが可能となる。
【００３３】
図３は、本発明のさらに別の実施態様のセキュリティー製品６０を図示する。セキュリティー製品６０は、その外側第一の表面に光学干渉パターン１５を形成した光透過性基板１４と、基板１４の対向する第二の表面に適用した色シフト光学被膜２６とを含めて、セキュリティー製品１０に関して上述した要素と類似の要素を有する。色シフト光学被膜２６は、色シフトインクあるいは塗料層から形成され、該層は色シフト性を有する複数の光学干渉薄片が点在するポリマー媒体を含んでいる。
【００３４】
光学被膜２６の色シフト薄片は、セキュリティー製品１０の光学被膜１６に対して上述したと同様な複数の基礎層を含む多層膜から形成される。これらの薄片は、吸収層と、誘電層と任意的に反射層を含み、これら層のすべての層を光学被膜１６の層に関して上述した物質と同様な物質で形成することが可能である。薄片は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体/吸収体、あるいは吸収体／誘電体／吸収体等の対象かつ多層薄膜構造を有するよう形成することができる。あるいは、薄片に吸収体／誘電体／反射体等の非対称構造を持たせることも可能である。薄片のいずれの綿の寸法も約２から約２００μの範囲となるよう薄片を形成する。
【００３５】
典型的には、多層薄膜構造体を、上に剥離層を備えた可撓性ウエブ材料上に形成する。PVD、スパッタリング等の薄被膜構造形成技術で周知の方法で、種々の層をウエブ上に形成する。その後、多層薄膜構造体を薄膜状の薄片としてウエブ材料から剥がす。これらの薄片は、インクあるいは塗料として用いられる種々の顔料ビヒクル等のポリマー媒体に加えることができる。薄片に加えて、添加剤をインクまたは塗料に添加して所望の色シフト成果をえることができる。これらの添加剤には、アルミニウム薄片、グラファイト、マイカ薄片等の薄片顔料及びアルミニウム粉末、カーボンブラック及び有機および無機顔料等の他の色素等の非薄片顔料並びに着色染料が含まれる。
【００３６】
薄片構造の好適な実施態様は、名称が「色シフト薄膜顔料」である1998年11月24日に出願された共に継続中の出願No.09/198,733に開示されている。根出願は参照して本明細書に取り込む。本発明で使用可能である色シフト即ち光学的に変化する薄片の他の好適な例は、米国特許Nos.5,135,812, 5,171,363, 5,278,590, 5,084,351, 4,838,648及び4,168,983に開示されており、これらの開示内容は参照して本明細書に取り組む。
【００３７】
例えば、米国特許No.5,135,812には、透明な全誘電性積層体あるいは透明な誘電性層と半透明な金属層の積層体のいずれかからなる対象光学多層膜が開示されている。全誘電性積層体の場合、光学被膜は高屈折率材と低屈折率材との交互に重なった層から形成する。Phillips et al.に対する米国特許No.5,278,590では、薄片に形成することが可能な対象な三層の光学干渉被膜が開示され、該被膜は実質的に同一の組成でかつ厚さが同一な第一及び第二の部分透過性吸収層と第一及び第二吸収層の間に位置する誘電スペーサ層とを含む。誘電層は、弗化マグネシウム等の低屈折率材料からなる。
【００３８】
セキュリティー製品６０上に光学被膜２６を形成するために用いる色シフトインクあるいは塗料は、当業者に既知の従来のコーティング装置および方法によって適用することができる。これらのものには、例えば、シルクスクリーン法、版印刷法、グラビア法等の種々の印刷方法がある。あるいは、色シフト薄片を含むポリマー材料と干渉パターン１５を有する基板１４を形成するために用いるプラスチック材料をと一緒に押し出すことによって光学被膜２６をセキュリティー製品上に形成することもできる。
【００３９】
図4は、本発明の他の実施態様のセキュリティー製品７０を図示する。セキュリティー製品７０は、光透過性基板１４を含み、基板の外側面には光学干渉パターン１５が形成されている。色シフト顔料が、基板14内に分散され、該顔料はセキュリティー製品４０に関して上述した薄片等の複数の多層光学干渉薄片からなる。該薄片は、基板形成前に、基板形成物質内に分散させる。薄片が基板の外側面と反対の基板の裏側平面に平行となり、最大の色シフト効果を付与するよう、薄片を配向させることが好ましい。上述した種々のセキュリティー製品は、種々の用途で用いられ、偽造防止等のセキュリティー手段を向上することが可能となる。セキュリティー製品は、ラベル、下札、リボン、セキュリティー紐、テープ等の形状で、セキュリティー文書、貨幣通過、クレジットカード、表品包装、免許証、流通約束手形、金融債、紙、プラスチックあるいはガラス製品等の種々のあるいは他の同様の種々の対象物に適用することができる。
【００４０】
本発明のセキュリティー製品は、種々の従来の方法によって、種々の対象物に移送し取り付けることができる。例えば、剥離層を用いて、セキュリティー製品を対象物に適用することができる。図5は、基板１４上に形成した剥離層６２を備えたセキュリティー製品１０を示す。剥離層６２は、適当なタイプのもので、それによって熱スタンピング工程等の適用工程中にセキュリティー製品が剥離層から剥離できるようになっている。剥離層６２は、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、塩化ゴム、アクリロニトリルーブタジエンースチレン共重合体、ニトロセルロース、メチルメタクリレート、アクリル系共重合体等のポリマー物質、脂肪酸、ワックス、ゴム、ゲル及びそれらの混合物とすることができる。剥離層は、担体構造６４に結合することもできる。担体構造は、セキュリティー製品を最終構造要素に移送する助けをする種々の製造ベルトや他の処理構造の一部とすることができる。
【００４１】
図６に示すように、セキュリティー製品１０が熱スタンピング等により対象物に適用された際に取除かれ、セキュリティー製品は接着層６８によって担体基板６６に接合される。担体基板６６は、セキュリティー製品が接着される最終的な構造対象物、例えば上述の対象物の形を取ることができる。担体基板を形成する材料は、プラスチック、セルロース、複合体、ポリエステルフィルム、PETシート、マイラーシート、セロファン、ポリプロピレン、上、ラグ（ｒａｇ）／綿、それらの組合せ等の中から選択することができる。接着層６８の材料は、アクリル系ポリマー、ＵＶ活性化接着剤、エチレンビニルアセテート、ポリアミド等の中から選択できる。
【００４２】
図７−８は、熱スタンピング法によってセキュリティー製品３０等のセキュリティー製品を担体構造６６に取り付ける方法及び最終構造を示す。図７は、光透過性基板２４の片側に剥離層６２を形成したセキュリティー製品を示す。剥離層は、アクリル系被膜からなり、その上に干渉パターンを形成してある。基板２４は、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリビニルクロライド等も含め、基板１４に関して上述した材料以外の材料から形成することができる。剥離層６２は、干渉パターン上の光学被膜１６とは逆側に形成する。剥離層６２は、熱スタンピング工程中に、基板２４、吸収層１９、誘電層２０及び反射層２２を担体構造６４から剥離するのを可能としている。一般に、担体構造６４は、当業者に公知の種々の材料で種々の厚さに形成できる。例えば、担体構造６４をＰＥＴで形成した場合、厚さは約１０μｍから約７５μｍの範囲であることが好ましい。本明細書に含まれる教示内容を参照して他の材料及び厚さ範囲も適用可能である。更に、アクリル系材料の形態をとる場合、光透過性基板２４の厚さは、エンボス表面を備え約３μｍから約２０μｍの厚さとすることができる。一般に、基板は、透明とするが、光学被膜より低い融点あるいはガラス転位温度を有するべきである。
【００４３】
熱スタンピングを行なう前に、接着層６８を厚さが約２μｍから約２０μｍで反射層２０上に形成する。図８に示すように、熱スタンピングによってセキュリティー製品３０を担体基板６６に適用した後、剥離層及び担体構造を取除く。加熱した金属スタンプ（図示せず）が担体構造６４に接触する際に、接着層６８は担体基板６６に接着する。加熱された金属スタンプは、さらに効果的に担体基板６６に接着するため接着層６８を加熱するとともに、同時に接着層６８を担体基板６６に押し付ける。さらに、加熱金属スタンプは、剥離層６２を軟化し、それによって、後で破棄する担体構造６４からセキュリティー製品を剥離するのを助ける。一旦セキュリティー製品３０が担体構造体６６に取り付けられると、セキュリティー製品３０によって作られる像は基板２４から光学被膜１６に向かって見れる。
【００４４】
実施例
以下の実施例は、本発明を説明するために掲げてあるのであり、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。
【００４５】
実施例１
引下げ法によって、ホログラフィック像を含むＰＥＴフィルムからなる光透過性基板上にポリマービヒクル中の色シフト薄片からなる光学被膜を形成した。引下げたビヒクルは、２部のラッカー／触媒と１部の色シフト薄片とを含んでいた。用いた複数の色シフト薄片は、緑−マジェンタ、青−赤及びマジェンタ−金の色シフト性を有していた。
【００４６】
実施例２
三層構成を有する色シフト光学被膜をエンボス加工した透明膜の上に形成し、セキュリティー製品を製造した。光学被膜は、エンボス加工した面とは逆の側の透明膜の平坦面に形成した。クロムからなる吸収層を透明膜の平坦面に析出し、フッ化マグネシウムからなる誘電層を吸収層上に析出し、アルミニウムからなる反射層を誘電膜に析出することによって、光学被膜を形成した。
【００４７】
代替的に、アルミニウム層を透明となるように析出することもできる。この場合には、対象物上に印刷した情報を光学被膜下で読み取ることが可能となる。さらに、反射層を磁性材料で形成することもできる。ホログラフィー成分に加えた場合、色シフト成分中の磁性特性は、セキュリティー製品に三つの独立したセキュリティー特徴を付与するであろう。
【００４８】
セキュリティー製品を形成するエンボス加工した膜及び光学被膜は、担体構造に強固に取り付けることも可能であり、また剥離層に取り付けてセキュリティー製品が対象物に熱スタンプすることが可能とすることもできる。さらに、色シフト薄膜の熱スタンプした象は、例えば、点、線、ロゴあるいは他の像等のパターン形状とすることもできる。光学的に変化する効果を有するパターンは、偽造防止により大きな効果を付与するであろう。
【００４９】
本発明を、本発明の精神あるいは必須特徴から逸脱することなく、他の特定の形態で具現化することができるであろう。記載した実施例は、あらゆる観点で単に例示的であり制限的に考えられるべきではない。従って、本発明の範囲は、以上の記載よりは特許請求の範囲によって示されるものである。請求の範囲の意味及び均等の範囲内にある変更は全て、本発明の範囲内に包含される。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１Ａは本発明の一実施態様による色シフト光学被膜を有するセキュリティー製品を模式的に示し、図１Ｂは本発明の代替的な実施態様による色シフト光学被膜を有するセキュリティー製品を模式的に示す。
【図２】 図２Ａは本発明の別の実施態様による色シフト光学被膜を有するセキュリティー製品を模式的に示し、図２Ｂは本発明の代替的な実施態様による色シフト光学被膜を有するセキュリティー製品を模式的に示す。
【図３】 本発明のさらに別の実施態様による色シフト光学被膜を有するセキュリティー製品を模式的に示す。
【図４】 本発明のさらに別の実施態様による色シフト光学被膜を有するセキュリティー製品を模式的に示す。
【図５】 その上に剥離層を形成した図１Ａのセキュリティー製品を模式的に示す。
【図６】 担体基板に取り付けた図１Ａのセキュリティー製品を模式的に示す。
【図７】 その上に剥離層を形成した図１Ｂのセキュリティー製品を模式的に示す。
【図８】 担体基板に取り付けた図１Ｂのセキュリティー製品を模式的に示す。

Claims (11)

  1. 回折格子パターンあるいはホログラフィックイメージパターンを備えた第１の面及び対向して実質的に平面の第２の面とを有する光透過性基板と、該基板の第２の面に設けた色シフト光学被膜とからなり、該色シフト光学被膜は基材の第２の面上に約３０Åから１５０Åの物理的厚さを有する吸収層と、該吸収層上の誘電層と、該誘電層上の反射層とを含む多重層を含み、該光学被膜は入射光角度あるいは視角が変化する際に観察可能な色シフトを示す、セキュリティー製品。
  2. 前記吸収層はクロム、ニッケル、パラジウム、チタン、バナジウム、コバルト、鉄、タングステン、モリブデン、ニオブ、酸化第二鉄、炭素及びそれらの組合わせあるいは合金とからなる群から選ばれた物質を含む、請求項１のセキュリティー製品。
  3. 前記誘電層が約１．６５以下の屈折率を有する、請求項１のセキュリティー製品。
  4. 前記誘電層が二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、フッ化ナトリウムアルミニウム、フッ化ネオジウム、フッ化サマリウム、フッ化バリウム。フッ化カルシウム、フッ化リチウム及びそれらの組合せからなる群から選択された材料を含む、請求項３のセキュリティー製品。
  5. 前記誘電層が有機物質からなる、請求項１のセキュリティー製品。
  6. 前記誘電層がアクリレート、パーフルオロアルケン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素化エチレンプロピレンおよびそれらの組合せからなる群から選択された材料を含む、請求項１のセキュリティー製品。
  7. 前記誘電層が約１．６５より大きい屈折率を有する、請求項１のセキュリティー製品。
  8. 前記誘電層が、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、二酸化チタン、炭素、酸化インジウム、インジウム−錫−酸化物、五酸化タンタル、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ユーロピウム、酸化鉄、窒化ハーフニウム、炭化ハーフニウム、酸化ハーフニウム、酸化ランタン、酸化マグネシウム、酸化ネオジウム、酸化プラセオジム、酸化サマリウム、三酸化砒素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、一酸化ケイ素、三酸化セレニウム、酸化錫、三酸化タングステン及びそれらの組合せからなる群から選択された材料を含む、請求項７のセキュリティー製品。
  9. 前記誘電層は約４００ｎｍの設計波長で約２ＱＷＯＴから約７００ｎｍの設計波長で約９ＱＷＯＴの範囲の光学的厚さを有する、請求項１のセキュリティー製品。
  10. 前記反射層がアルミニウム、銀、銅、金、白金、パラジウム、ニッケル、コバルト、錫、ニオブ、クロム及びそれらの組合せあるいは合金からなる群から選択された物質からなる、請求項１のセキュリティー製品。
  11. 前記反射層は約３００Åから１０００Åの物理的厚さを有する、請求項１のセキュリティー製品。
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