JP2001071698A - Ｏｖｄ形成媒体の偽造防止方法及び偽造防止を施したｏｖｄ転写箔及びｏｖｄ形成媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】潜像部分をＯＶＤ形成媒体に付加して偽造防止
効果を高める際に、真偽判定が多回数可能であり、耐
性、画像の精細さで制約されず、検出装置を必要としな
い、真偽判定を容易に行うことができるＯＶＤ形成媒体
の偽造防止方法、偽造防止を施したＯＶＤ形成媒体、及
びそのＯＶＤ形成媒体の製造に用いるＯＶＤ転写箔を提
供すること。 【解決手段】支持体１１の表面上に潜像形成層１３、Ｏ
ＶＤ層１２、接着層１５が積層して形成されたＯＶＤ転
写箔１０の該潜像形成層１３に、裸眼による目視では透
明で偏光フィルム１４を用いた目視では可視可能な、配
向された潜像部分２３を設けたＯＶＤ転写箔を製造に用
いたＯＶＤ形成媒体１を用いたこと。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、隠し文字や隠しパ
ターンを表示させることを目的とした潜像を用いた偽造
防止方法及び転写箔及び媒体に関するものであり、特
に、偽造か否かの真偽判定を容易に行うことができるＯ
ＶＤ形成媒体の偽造防止方法及び偽造防止を施したＯＶ
Ｄ転写箔及びそのＯＶＤ転写箔を用いたＯＶＤ形成媒体
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から潜像を偽造防止に用いた方法は
種々ある。例えば、 １）万線のピッチの隙間を利用して隠し文字等を入れ、
万線部分を隠蔽することで隠し文字が現れる万線画、 ２）透明インキメジウム中にフィラーを入れたものを印
刷し、鉛筆でその部分を擦ると鉛筆の粉が印刷部分に付
着して隠し文字が現れる鉛筆出し印刷（デコマット）が
ある。しかし、これらの潜像は、よく見ると解読されて
しまうため、本格的な潜像を利用した偽造防止方法とい
うよりは、遊び用として使用されている。

【０００３】３）熱をかけることによって発色する、白
色もしくは無色透明な不可逆性感熱発色インキを用いて
潜像を形成する方法は、潜像を表示させるためには熱源
装置が必要であり、潜像を一回表示させたものを消色す
ることはできないため用途が限定される。 ４）酸化チタン等の金属よりも硬いフィラーを含有させ
た白色インキを、白色の紙に印刷しコイン等で擦ること
により潜像を表示させる方法は、マット調のニスを設け
ることにより目視で見えなくするものであるが、その潜
像を表示できるのは一回限りであるので用途が限定され
る。 すなわち、上記３）、４）の方法は、一回限りの用途に
限定されるものである。

【０００４】また、繰り返し表示が可能な潜像による偽
造防止方法として、 ５）可逆性感熱発色インキ（サーモクロミックインキ）
を用いた方法がある。サーモクロミックインキは熱をか
けることにより可逆的に発色もしくは消色し、しばらく
放置すると元の状態に戻るものである。このインキは潜
像として、もしくは画像を隠蔽するために使われている
が、耐性とくに耐熱性が弱いため用途が限定される。 ６）フォトクロミックインキは、光、特に紫外線を照射
することにより発色するインキであり、白色もしくは無
色透明のインキとして用いることより、潜像として利用
されているが、耐性とくに耐光性が弱いため用途が限定
されている。 ７）蛍光インキは紫外線を照射することにより発光する
インキであり、白色または無色透明のインキとして用い
ることより、潜像として利用されている。そして、蛍光
インキには有機タイプと無機タイプがある。有機タイプ
は印刷インキ中にごく少量含有するだけで発光が確認さ
れるが、耐光性が弱いため用途が限定される。また、無
機タイプは印刷インキ中に大量に含有させる必要があり
（１０〜２０％程度）、潜像としては目視で可視され易
いため、利用する際にはデザイン等に工夫が必要であ
る。 すなわち、上記５）、６）、７）の方法は、耐性の点で
制約されるものである。

【０００５】また、繰り返し表示が可能な潜像による偽
造防止方法の他の方法として、 ８）網点や万線のモアレ（干渉縞）を利用して潜像を形
成する方法がある。この方法は、網点や万線のピッチも
しくは角度を部分的に変えた潜像を形成し、この潜像に
整然と並んだ網点もしくは万線の透明フィルムを重ねる
ことで画像が出現するものである。この方法は、この透
明フィルムで簡単に繰り返しの表示が可能であり、耐性
の点でも制約されないが、複雑な画像を形成できないと
いう問題がある。

【０００６】また、繰り返し表示が可能な潜像による偽
造防止方法の別な他の方法として、 ９）磁性インキによる潜像を用いた方法がある。これは
磁気記録可能な保持力（約３００Ｏｅ以上）のある磁性
層をパターン状に磁化させることで潜像の形成を行い、
磁性層上に鉄粉をふりかけることで磁化されている部分
を画像として表示する方法である。しかし、この方式
は、潜像の書き換えて偽造することが容易に可能であ
り、また、潜像を表示させる工程が煩雑で特定の検出装
置が必要である。 １０）赤外光を吸収するインキにて潜像を形成し、この
潜像上に可視光を透過させず赤外光を透過させる層を設
ける方法がある。しかし、この潜像を表示させるために
は赤外線カメラ等が必要であり、装置が大がかりとな
る。また、可視領域では白色もしくは無色であるが、赤
外領域に吸収のあるインキ（ＩＶインキ）を用いた方法
もあるが、これも同様に赤外線カメラ等が必要である。

【０００７】すなわち、上記９）、１０）の方法は、繰
り返し表示が可能な方法であり、且つ、耐性、画像の精
細さの点で制約されないが、潜像の表示に特定の検出装
置が必要となるものである。

【０００８】一方、光の干渉を用いて立体画像や特殊な
装飾画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、或い
は、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる
多層薄膜のようなＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａ
ｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）の開発が進められている。これ
らのＯＶＤは立体画像やカラーシフトといった独特な印
象を与えるため、優れた装飾効果を有しており、各種包
装材、絵本、カタログ等の一般的な印刷物に利用されて
いる。さらに、これらのＯＶＤの製造には高度な技術を
要することから偽造防止の有効な手段としてクレジット
カード、有価証券、証明書類等の一部に貼着し、或い
は、全面に形成し偽造防止が施された媒体として使用さ
れている。

【０００９】ホログラムや回折格子のようなＯＶＤは、
微細な凹凸パターンや、屈折率の異なる縞状パターンな
どの回折構造からなっており、光の干渉と回折により見
る角度（すなわち、ホログラムを支持している角度）に
応じて、固有の像や色の変化（カラーシフト）が生じる
ものである。また、多層薄膜のようなＯＶＤは、光学特
性の異なるセラミックスや金属を幾重にも積層した構造
である。この多層薄膜は構成する材料の光学特性と膜厚
により得られる光の干渉作用を利用したものであり、特
定の波長域に反射・透過特性を有しているため、観察す
る角度によりカラーシフトが生じるものである。以下で
は、これらの光の干渉を利用したホログラム、回折格
子、多層薄膜などを総称してＯＶＤと称することとす
る。

【００１０】ホログラムは、一般に、光学的な撮影方法
により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスタ
ーホログラムを作製し、次に、このマスターホログラム
から電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケ
ル製のプレス版を作製し、そして、このプレス版をホロ
グラムを形成する層上に加熱押圧するという方法により
大量複製が行われている。このタイプのホログラムはレ
リーフ型ホログラムと称されている。

【００１１】また、体積型ホログラムと称し、感光性樹
脂などの記録材を用いて感光性樹脂の屈折率を体積方向
に変化させ、体積方向に干渉縞を記録して反射型ホログ
ラムとしたものがある。このタイプのホログラムはリッ
プマンホログラムと呼ばれる。

【００１２】更に、回折格子を用いたものは、このよう
な立体画像を再生し得るホログラムとは異なり、微小な
エリアに複数種類の単純な回折格子を配置して画素と
し、グレーティングイメージ、ピクセルグラムと呼ばれ
る画像を表現するものである。このような回折格子を用
いた画像は、レリーフ型ホログラムと同様な方法で大量
複製が行われている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、これら
のＯＶＤの製造には高度な技術を要することから偽造防
止の有効な手段としてクレジットカード、有価証券、証
明書類等の一部に貼着し、或いは、全面に形成し偽造防
止が施された媒体として使用されているが、本発明は、
これらのＯＶＤ形成媒体の偽造防止効果を更に高めるも
のであり、前記潜像を偽造防止に用いた際の問題点を解
決してＯＶＤ形成媒体に付加したものである。すなわ
ち、本発明は、前記潜像をＯＶＤ形成媒体に付加して偽
造防止効果を更に高める際に、真偽判定が多回数可能で
あり、耐性、画像の精細さの点で制約されず、且つ、そ
の判読に特定の検出装置を必要としない、更に、偽造か
否かの真偽判定を容易に行うことができるＯＶＤ形成媒
体の偽造防止方法を提供することを課題とするものであ
る。また、このような偽造防止を施したＯＶＤ形成媒体
及びそのＯＶＤ形成媒体の製造に用いるＯＶＤ転写箔を
提供することを課題とするものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、偽造防止に潜
像を付加したＯＶＤ形成媒体の偽造防止方法において、
支持体の表面上に潜像形成層、ＯＶＤ層、接着層が積層
して形成されたＯＶＤ転写箔の該潜像形成層に、裸眼に
よる目視では透明で偏光フィルムを用いた目視では可視
可能な、配向された潜像部分を設けた偽造防止を施した
ＯＶＤ転写箔を用いて製造されたＯＶＤ形成媒体を用い
たことを特徴とするＯＶＤ形成媒体の偽造防止方法であ
る。

【００１５】また、本発明は、偽造防止に潜像を付加し
たＯＶＤ転写箔において、支持体の表面上に潜像形成
層、ＯＶＤ層、接着層が積層して形成されたＯＶＤ転写
箔の該潜像形成層に、裸眼による目視では透明で偏光フ
ィルムを用いた目視では可視可能な、配向された潜像部
分を設けたことを特徴とする偽造防止を施したＯＶＤ転
写箔である。

【００１６】また、本発明は、上記発明による偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔において、前記潜像形成層の材料
が、外力によって該配向された潜像部分を設けられるこ
とが可能な高分子材料であることを特徴とする偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔である。

【００１７】また、本発明は、上記発明による偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔において、前記潜像形成層の材料
が、高分子液晶材料であることを特徴とする偽造防止を
施したＯＶＤ転写箔である。

【００１８】また、本発明は、上記発明による偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔において、前記高分子液晶材料
が、サーモトロピック性を示す高分子液晶材料であり、
前記配向された潜像部分を加熱・加圧により配向させて
設けたことを特徴とする偽造防止を施したＯＶＤ転写箔
である。

【００１９】また、本発明は、上記発明による偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔において、前記潜像形成層下に剥
離保護層を設けたことを特徴とする偽造防止を施したＯ
ＶＤ転写箔である。

【００２０】また、本発明は、上記発明による偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔において、前記ＯＶＤ層上に金属
材料からなる光反射層を設けたことを特徴とする偽造防
止を施したＯＶＤ転写箔である。

【００２１】また、本発明は、上記発明による偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔において、前記配向された潜像部
分が、文字・絵柄などの情報を有するパターン形状の潜
像画像であることを特徴とする偽造防止を施したＯＶＤ
転写箔である。

【００２２】また、本発明は、上記発明による偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔において、前記偏光フィルムが円
偏光フィルムであることを特徴とする偽造防止を施した
ＯＶＤ転写箔である。

【００２３】また、本発明は、上記発明による偽造防止
を施したＯＶＤ転写箔を用いて製造されたことを特徴と
するＯＶＤ形成媒体である。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき説
明する。図１は本発明によるＯＶＤ形成媒体の一実施例
を示す平面図である。図２は、図１におけるＸ−Ｘ’断
面で一実施例を示す断面図である。図１及び図２に示す
ように、ＯＶＤ形成媒体（１）は、被転写体（１１）上
に接着層（１５）、ＯＶＤ層（１２）、潜像形成層（１
３）、剥離保護層（１６）が積層して形成されたもので
ある。図２において、（２３）は、潜像形成層（１３）
の一部分であり、裸眼による目視では透明で偏光フィル
ムを用いた目視では可視可能な、配向された潜像部分で
ある。

【００２５】この潜像部分（２３）は、潜像形成層（１
３）の一部が熱、圧、引っ掻き、摩擦、光、電気、磁気
等の外力によって配向された部分である。図１におい
て、ＯＶＤ形成媒体（１）は、裸眼による目視では潜像
部分（２３）が確認できず単なるＯＶＤにしか見えない
ものである。

【００２６】図３は、図１に示すＯＶＤ形成媒体の一実
施例の潜像部分（２３）を判読する際の状態を示す平面
図である。また、図４は、図３におけるＸ−Ｘ’断面で
示す潜像部分（２３）を判読する際の状態を示す断面図
である。図３及び図４に示すように、ＯＶＤ形成媒体
（１）の上方に偏光フィルム（１４）を重ねて目視する
ことにより、潜像部分（２３）が可視可能な画像（２
３’）となるものである。

【００２７】図５は、本発明によるＯＶＤ形成媒体を判
読する際の光路の状態を概念的に説明した図である。図
５に示すように、光源（５８）からの白色光（５６）は
偏光フィルム（１４）を透過して直線偏光となり、潜像
形成層の一部分である配向された潜像部分（２３）部を
透過して楕円偏光に変わり、ＯＶＤ層（１２）により反
射され、再度偏光フィルム（１４）を透過して反射光
（５７）となる。

【００２８】この反射光（５７）は、波長によって光の
強さが異なるため、多彩な色相を有する画像が得られ
る。また、偏光フィルムの配向方向と潜像部分の配向方
向の角度によっても見える色相が異なってくる。潜像形
成層（１３）の他の部分である配向されない部分（図示
せず）を透過した直線偏光は、楕円偏光に変わらずＯＶ
Ｄ層（１２）により反射され、再度偏光フィルム（１
４）を透過してＯＶＤが観察されるものである。

【００２９】図６は、図２に示すＯＶＤ形成媒体を製造
する際に用いる本発明によるＯＶＤ転写箔の一実施例を
示す断面図である。図６に示すように、ＯＶＤ転写箔
（１０）は、支持体（１７）上に剥離保護層（１６）、
潜像形成層（１３）、ＯＶＤ層（１２）、接着層（１
５）が積層して形成されたものである。ＯＶＤ転写箔
（１０）の接着層（１５）面を被転写体（１１）に重
ね、加熱・加圧によってＯＶＤ転写箔（１０）と被転写
体（１１）を接着させ、ＯＶＤ転写箔（１０）の支持体
（１７）を剥離することにより図２に示すＯＶＤ形成媒
体（１）が得られるものである。

【００３０】図７及び図８は、図２に示すＯＶＤ層の構
成及び円偏光フィルムの構成を示す断面図である。図７
に示すＯＶＤ層（７２）は、レリーフ型ホログラム、回
折格子などのＯＶＤ（７７）と、ＯＶＤ（７７）からの
干渉光をより効果的な強度で回折させるために、高屈折
材料薄膜や金属薄膜から成るＯＶＤ効果層（７８）で構
成されている。また、図７において、偏光フィルムとし
て用いた円偏光フィルム（６４）は、偏光フィルム（６
５）に１／４波長フィルム（６６）を重ねたものであ
る。

【００３１】図８に示すＯＶＤ層（８２）は、光学特性
の異なる薄膜（８５）、（８６）、（８７）の多層膜構
成となっている。上記のようにＯＶＤ層は、複数の材料
を積層した構成であり、その構成はＯＶＤにより異なっ
たものになる。

【００３２】支持体としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチ
ル、ポリスチレン等の合成樹脂、天然樹脂、紙、合成紙
などを単独で又は組合わせた複合体が使用可能である。
また、支持体上には剥離保護層、潜像形成層、ＯＶＤ
層、接着層が積層され、更にその後、熱転写がおこなわ
れるため、その加工に耐えうる、強度、耐熱性や使用方
法に応じた耐性が要求される。そのため材料は、加工方
法に応じて選択さるものである。一方、その厚みは、転
写シートとしてのハンドリング性を考慮し２〜１００μ
ｍが使用可能であり、望ましくは４〜５０μｍである。

【００３３】剥離保護層としては、容易に支持体から剥
がれる材料であれば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫
外線或いは電子線硬化性樹脂のいずれであっても良い。
例えば、ポリアクリル酸エステル樹脂、塩化ゴム系樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、セルロース系
樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂、エポキシ系樹脂、
ポリエステル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、スチレ
ンアクリレート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカー
ボネイト系樹脂等熱可塑性樹脂、メラミン、エポキシ等
の熱硬化性樹やラジカル重合性不飽和基を有する紫外線
或いは電子線硬化性樹脂等を単独あるい複合して用いる
ことができる。

【００３４】また、箔切れ性や耐摩性を考慮し、石油系
ワックス、植物系ワックス等の各種ワックス、ステアリ
ン酸等の脂肪酸やその金属塩、シリコンオイル等の滑剤
や、テフロンパウダー、ポリエチレンパウダー、シリコ
ーン系微粒子やアクリルニトリル系微粒子等の有機フィ
ラー、及びシリカ微粒子等の無機フィラーを添加するこ
ともできる。これらの材料は、例えば、グラビア印刷
法、スクリーン印刷法、ノズルコーター法等の既知の塗
布手段により支持体に塗布される。尚、剥離保護層は支
持体自体が剥離性を有している場合、或いは支持体自体
に離型処理を施してある場合は設ける必要はない。しか
し、その場合には転写後、最表面にあたる層に耐摩擦性
付与するか、或いは転写後に剥離保護層を設けることも
できる。

【００３５】潜像形成層としては、全面に同一の配向を
有し全面に同一の偏光性を示す材料、部分的に配向の異
なる材料、或いは、部分的に外力によって配向を変化さ
せ、部分的に異なった偏光性を付与できる材料などが使
用される。例えば、ポリプロプピレン、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリエステル等の高分子材料が使用可能
である。

【００３６】また、潜像形成層として、高分子液晶材料
を用いる際には、ポリエステル共重合体、ポリエーテ
ル、ポリカーボネイト、ポリイソシアネート、ポリグル
タミン酸エステル等の高分子液晶材料が使用可能であ
る。また、この高分子液晶材料は、加熱・加圧で容易に
配向させることが可能なサーモトロピック性を有してい
ることが好ましい。そして、配向させる方法として、ホ
ットスタンプ、サーマルヘッド、レーザーによる加熱等
の簡便な方法が挙げられ、これらの方法によって精細な
潜像部分を容易に形成することが可能となる。

【００３７】さらに、予め配向せしめ偏光性を有した高
分子材料を微小片化し、ポリエステルやアクリルなどの
高分子樹脂に分散させ、塗布することにより潜像形成層
を形成することも可能である。この場合、任意の画像を
潜像として形成することは難しいが、ランダムな模様と
して潜像が観察されるため、検証機能を付与することは
可能である。

【００３８】尚、用いられる材料は上記に限定されるも
のではなく、全面に同一の配向を有し全面に同一の偏光
性を示す材料、部分的に配向の異なる材料、或いは、部
分的に外力によって配向を変化させ、部分的に異なった
偏光性を付与できる材料であれば使用可能である。そし
て、潜像形成層は、これらの材料をグラビア印刷法、ス
クリーン印刷法、ノズルコーター法等の既知の塗布手段
を用いて形成される。或いは、押し出し成型法、二軸延
伸法等のフィル成形技術で得られたフィルムを貼り合わ
せて形成することも可能である。

【００３９】ＯＶＤ層は、光の干渉を利用したホログラ
ム、回折格子、多層薄膜などが形成された層であり、ホ
ログラムや回折格子のようなＯＶＤとしては、光の干渉
縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ
型や体積方向に干渉縞を記録する体積型がある。また、
見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層
薄膜のようなＯＶＤとしては、光学特性の異なるセラミ
ックスや金属の薄膜を積層したものがある。この他に、
光の干渉を利用した固有の像や色の変化を生じるもので
あればこれらに限られるものではない。これらのＯＶＤ
の中では、量産性やコストを考慮した場合には、レリー
フ型ホログラム（回折格子）や多層薄膜が好ましいもの
である。

【００４０】レリーフ型ホログラム（回折格子）は光学
的な撮影方法により、微細な凹凸パターンからなるレリ
ーフ型のマスターホログラムを作製し、次に、このマス
ターホログラムから電気メッキ法により凹凸パターンを
複製したニッケル製のプレス版を作製し量産を行う。す
なわち、このプレス版を加熱し、ＯＶＤ形成層に押し当
て、凹凸パターンを複製する。それゆえ、ＯＶＤ形成層
は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明
るい再生像が得られる材料であることが必要であり、例
えば、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹
脂、或いは、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や
電子線硬化性樹脂を単独あるい複合して用いることがで
きる。また、上記以外ものでも、ＯＶＤ形成層として凹
凸パターンを形成可能な安定な材料であれば使用可能で
ある。

【００４１】また、図７に示すように、ＯＶＤ（７７）
にレリーフ型ホログラム（回折格子）を用いた場合、そ
の回折効率を高めるためレリーフ面を構成する高分子材
料と屈折率の異なるＯＶＤ効果層（反射層）を設けるこ
とが好ましい。このＯＶＤ効果層（７８）を設けること
により、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化
をもたらすものになる。用いる材料としては、屈折率の
異なるＴｉＯ₂ 、Ｓｉ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｚ
ｎＳ、などの高屈折率材料や、より反射効果の高いＡ
ｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げ
られる。これらの材料は単独あるいは積層して使用でき
るものであり、これらの材料は真空蒸着法、スパッタリ
ング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は
用途によって異なるが、５０〜１００００Å程度で形成
される。

【００４２】上記以外でも、ＯＶＤ効果層を構成する材
料としては、その屈折率が、ＯＶＤ形成層で使用される
高分子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも高い材
料であれば、上記の無機材料以外の有機系、有機無機複
合体、有機系材料に無機系フィラーを分散したものなど
が使用可能である。これらの材料はグラビアコート、ダ
イコート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法、
や印刷法にて０．１μｍ〜１０μｍ程度のＯＶＤ効果層
に形成される。また、上記以外の材料であっても反射性
を有した材料であれば、適宜使用することが可能であ
る。

【００４３】一方、図８に示すように、多層薄膜のＯＶ
Ｄが形成されるＯＶＤ層（８２）は、異なる光学適性を
有する多層薄膜層（８５）、（８６）、（８７）からな
り、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設し
てなる複合薄膜として積層形成される。例えば、屈折率
の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折
率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせ
を交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わ
せにより、所望の多層薄膜を得ることができる。

【００４４】この多層薄膜には、セラミックスや金属な
どの材料が用いられ、おおよそ屈折率が２．０以上の高
屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定
の膜厚で積層したものである。以下に用いられる材料の
一例を挙げる。まず、セラミックスとしては、例えば、
Ｓｂ₂ Ｏ₃ （３．０＝屈折率：以下同じ）、Ｆｅ₂ Ｏ₃
（２．７）、ＴｉＯ₂ （２．６）、ＣｄＳ（２．６）、
ＣｅＯ ₂ （２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ
₂ （２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ₂ Ｏ₃ （２．
０）、ＷＯ₃ （２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ₂ Ｏ
₃ （２．５）、Ｉｎ₂ Ｏ₃ （２．０）、ＰｂＯ（２．
６）、Ｔａ₂ Ｏ₃ （２．４）、ＺｎＯ（２．１）、Ｚｒ
Ｏ₂ （２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ₂ （１．
５）、ＭｇＦ₂ （１．４）、ＣｅＦ₃ （１．６）、Ｃａ
Ｆ₂ （１．３〜１．４）、ＡｌＦ₃ （１．６）、Ａｌ₂
９Ｏ₃ （１．６）、ＧａＯ（１．７）等が挙げられる。

【００４５】金属単体もしくは合金の薄膜としては、例
えば、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。また、低屈折率の有機
ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン（１．５
１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロ
エチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート
（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられ
る。これらの高屈折率材料、もしくは透過率３０％〜６
０％の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より
少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる
事により、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反
射を示す多層薄膜となる。

【００４６】上記の各材料の中から、屈折率、反射率、
透過率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性な
どに基づき材料を適宜選択し、薄膜として積層し多層薄
膜を形成する。形成方法は公知の手法を用いることがで
き、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ
・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な、通
常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析
出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることが
できる。また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法とし
ては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スク
リーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア
法、ロールコート法等などの塗布方法を用いることがで
きる。なお、本発明ではセラミックス及び金属のみを示
しているが、セラミックス及び金属と同等、あるいは類
似する屈折率と反射率を有するものであれば、用いるこ
とが可能である。

【００４７】この多層薄膜層の層厚は、具体的には５０
〜２００００Åの範囲であり、また、薄膜の層構成は上
記高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例え
ば、ＺｎＳ、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、Ｓｎ
Ｏ、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂ 、ＺｎＯ、Ｔａ₂ Ｏ₃ 、Ａｌ、Ｆ
ｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ
などと、上記低屈折率の材料からなる薄膜、例えば、Ｍ
ｇＦ₂ 、ＳｉＯ₂ 、ＣａＦ₂ 、ＭｇＯ、Ａｌ₂ Ｏ₃ など
との組み合わせであり、それらを交互に積層し、その積
層数が２層以上、好ましくは２層〜９層である。分光特
性は層数に応じて変化する。尚、用いる材料、組み合わ
せにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定さ
れるものではない。

【００４８】本発明におけるＯＶＤ形成媒体において
は、潜像形成層、またはＯＶＤ層上に位置するように有
色透明のインキなどによる着色層を設けることにより、
観察されるＯＶＤの色変化がより多彩になり、且つ見や
すくなり、その確認が容易となり偽造防止効果を更に向
上させることができる。

【００４９】接着層としては、ＯＶＤ層と被転写体とを
接着させるという性能が要求される。その材質としては
熱可塑性樹脂が好ましくアクリル系樹脂、ウレタン系樹
脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹
脂等の単体あるいは共重合体を、単独もしくは複合して
使用可能であるが、これらに限定されるものではない。
また、ブロッキングの防止および箔切れ性を考慮し、石
油系ワックス、植物系ワックス等の各種ワックス、ステ
アリン酸等の脂肪酸やその金属塩、シリコンオイル等の
滑剤や、テフロンパウダー、ポリエチレンパウダー、シ
リコーン系微粒子やアクリルニトリル系微粒子等の有機
フィラー、及び、シリカ微粒子等の無機フィラーを添加
することもできる。これら接着層材料は、例えば、グラ
ビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルコーター法等の
既知の塗布手段により塗布される。

【００５０】偏光フィルムとしては、ＰＶＡ延伸フィル
ムにヨードを吸収させたＰＶＡ−ヨウ素型、二色性染料
型、金属または金属化合物含有型、ポリエン型などの高
分子多結晶型が挙げられる。特に、ＰＶＡ−ヨウ素型、
二色性染料型フィルムが好ましいものである。さらに、
円偏光フィルムは、偏光フィルムに１／４波長フィルム
を重ねたフィルムであり、円偏光フィルターを用いるこ
とで、潜像を表示する際に、観察角度に対する依存性が
無くなり、容易に表示可能なものとなる。

【００５１】

【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。 ＜実施例１＞

【００５２】まず、厚み２５μｍの透明ポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）フィルムから成る基材に剥離保
護層用塗料、サーモトロピック液晶からなる潜像形成層
用塗料、ＯＶＤ層用塗料をグラビア法を用いて、乾燥温
度８０℃にて各々塗布厚１．０μｍで塗布し、ＯＶＤ転
写箔原反を得た。

【００５３】次いで、ＯＶＤレリーフパターンを有する
ニッケル製のＯＶＤ画像金型を１００℃に加熱し、公知
のロールエンボス法によりＯＶＤ層上に押圧すること
で、ＯＶＤ層上にＯＶＤレリーフパターンを形成した。
本実施例では、２ステップ法により撮影したレインボー
ホログラムをＯＶＤ画像に用いた。

【００５４】次いで、上記方法でＯＶＤレリーフパター
ンを形成したＯＶＤ層上に、真空蒸着法を用いて膜厚
０．０５μｍのＡｌ蒸着薄膜層を形成してＯＶＤ効果層
を設けた後、接着層用塗料をグラビア法にて２．０μｍ
設けＯＶＤ転写箔を得た。

【００５５】以下に、使用した塗料について示す。 （剥離保護層用塗料） アクリル樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …８０部 トルエン …８０部 （ＯＶＤ形成層用塗料） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 …１５部 ウレタン樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …５０部 トルエン …２５部 （潜像形成層用塗料） 高分子液晶（キラコールＰＬＣ７００３：旭電化工業（株）製）…２０部 テトラヒドロフラン …４０部 トルエン …４０部 （接着層用塗料） アクリル樹脂 …１５部 ポリエステル樹脂 … ５部 メチルエチルケトン …３０部 トルエン …５０部

【００５６】以上にして得られたＯＶＤ転写箔をホット
スタンプにて８０℃、０．５秒、１００ｋｇ／ｃｍ² の
条件にて転写を行った。被転写体としては厚さ０．８ｍ
ｍの塩化ビニールカードを用いた。次に、得られたＯＶ
Ｄ形成媒体の潜像形成層に潜像画像の形成を行うため、
「ＴＯＰＰＡＮ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ」の文字が凸状に形
成された刻印版を用い、１２０℃、０．２秒間ホットス
タンプにて熱圧をかけて配向を行い、潜像画像を設け
た。

【００５７】このように得られたＯＶＤ形成媒体は、目
視では潜像画像が全く視認できず、単なるＯＶＤに見え
たが、円偏光フィルムを重ねることで潜像画像が鮮明に
出現し潜像画像を確認することができた。

【００５８】＜実施例２＞厚み２５μｍの透明ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムから成る基材に
剥離保護層用塗料をグラビア法を用いて、乾燥温度８０
℃にて塗布厚１．０μｍで塗布した後、サーモトロピッ
ク液晶からなる潜像形成層用塗料をグラビア印刷法で
「ＴＯＰＰＡＮ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ」の文字に０．５μ
ｍ形成した。次にＯＶＤ層用塗料をグラビア法にて２μ
ｍ塗布した。

【００５９】さらに、ＯＶＤレリーフパターンを有する
ニッケル製のＯＶＤ画像金型を１５０℃に加熱し、公知
のロールエンボス法により、ＯＶＤ層上に押圧すること
で、ＯＶＤ層上にＯＶＤレリーフパターンを形成した。
本実施例はこの熱加工でＯＶＤ形成と同時に潜像形成層
の配向を行った。次いで、上記方法でＯＶＤレリーフパ
ターンを形成したＯＶＤ層上に、真空蒸着法を用いて膜
厚０．０５μｍのＡｌ蒸着薄膜層を形成してＯＶＤ効果
層を設けた後、接着層用塗料をグラビア法にて２．０μ
ｍ設けＯＶＤ転写箔を得た。

【００６０】以下に、使用した塗料について示す。 （剥離保護層用塗料） アクリル樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …８０部 トルエン …８０部 （ＯＶＤ形成層用塗料） アクリルポリオール樹脂 …２０部 ヘキサメチレンジイソシアネート … ３部 メチルエチルケトン …５０部 トルエン …２７部 （潜像形成層用塗料） 高分子液晶（キラコールＰＬＣ７００３：旭電化工業（株）製）…２０部 テトラヒドロフラン …４０部 トルエン …４０部 （接着層用塗料） アクリル樹脂 …１０部 ポリエステル樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …４０部 トルエン …４０部

【００６１】以上にして得られたＯＶＤ転写箔をホット
スタンプにて１２０℃、０．５秒、１００ｋｇ／ｃｍ²
の条件にて転写を行った。被転写体としては厚さ０．８
ｍｍの塩化ビニールカードを用いた。このように得られ
たＯＶＤ形成媒体は、目視では潜像画像が全く視認でき
ず、単なるＯＶＤに見えたが、円偏光フィルムを重ねる
ことで潜像画像である「ＴＯＰＰＡＮ Ｐｒｉｎｔｉｎ
ｇ」の文字が鮮明に出現し潜像画像を確認することがで
きた。

【００６２】＜実施例３＞厚み２５μｍの透明ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムから成る基材に
剥離保護層用塗料をグラビア法を用いて、乾燥温度８０
℃にて塗布厚１．０μｍ塗布し剥離保護層を形成した
後、延伸して作られたポリエチレンフィルムを微細片化
した小片を分散した潜像形成層用塗料を１０μｍ塗布し
潜像形成層を形成した。さらに、ＯＶＤ層として多層薄
膜層をＡｌ−７００Å、ＳｉＯ₂ −５８００Å、Ａｌ−
２００Åの厚みにて真空蒸着法にて設けた後、接着層用
塗料をグラビア法にて２．０μｍ設けＯＶＤ転写箔を得
た。

【００６３】以下に、使用した塗料について示す。 （剥離保護層用塗料） アクリル樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …８０部 トルエン …８０部 （潜像形成層用塗料） 延伸ポリプロピレン小片 …５部 ウレタン樹脂 …２０部 メチルエチルケトン …５０部 トルエン …２５部 （接着層用塗料） アクリル樹脂 …１０部 ポリエステル樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …４０部 トルエン …４０部

【００６４】以上にして得られたＯＶＤ転写箔をホット
スタンプにて１２０℃、０．５秒、１００ｋｇ／ｃｍ²
の条件にて転写を行った。被転写体としては厚さ０．８
ｍｍの塩化ビニールカードを用いた。。このように得ら
れたＯＶＤ形成媒体は、目視では潜像画像が全く視認で
きず、単なるＯＶＤに見えたが、円偏光フィルムを重ね
ることでランダムなポリプロピレン小片の模様が観察さ
れた。

【００６５】

【発明の効果】本発明は、偽造防止に潜像を付加したＯ
ＶＤ形成媒体の偽造防止方法において、支持体の表面上
に潜像形成層、ＯＶＤ層、接着層が積層して形成された
ＯＶＤ転写箔の該潜像形成層に、裸眼による目視では透
明で偏光フィルムを用いた目視では可視可能な、配向さ
れた潜像部分を設けた偽造防止を施したＯＶＤ転写箔を
用いて製造されたＯＶＤ形成媒体を用いたので、真偽判
定が多回数可能であり、耐性、画像の精細さの点で制約
されず、且つ、その判読に特定の検出装置を必要としな
い、更に、偽造か否かの真偽判定を容易に行うことがで
きるＯＶＤ形成媒体の偽造防止方法となる。

【００６６】また、本発明は、偽造防止に潜像を付加し
たＯＶＤ転写箔において、支持体の表面上に潜像形成
層、ＯＶＤ層、接着層が積層して形成されたＯＶＤ転写
箔の該潜像形成層に、裸眼による目視では透明で偏光フ
ィルムを用いた目視では可視可能な、配向された潜像部
分を設けたので、真偽判定が多回数可能であり、耐性、
画像の精細さの点で制約されず、且つ、その判読に特定
の検出装置を必要としない、更に、偽造か否かの真偽判
定を容易に行うことができるＯＶＤ形成媒体を製造する
ＯＶＤ転写箔となる。

【００６７】また、本発明は、上記ＯＶＤ転写箔を用い
て製造されたＯＶＤ形成媒体であるので、真偽判定が多
回数可能であり、耐性、画像の精細さの点で制約され
ず、且つ、その判読に特定の検出装置を必要としない、
更に、偽造か否かの真偽判定を容易に行うことができる
ＯＶＤ形成媒体となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による偽造防止を施したＯＶＤ形成媒体
の一実施例を示す平面図である。

【図２】図１におけるＸ−Ｘ’断面で一実施例を示す断
面図である。

【図３】図１に示す偽造防止を施したＯＶＤ形成媒体の
一実施例の潜像画像を判読する際の状態を示す平面図で
ある。

【図４】図３におけるＸ−Ｘ’断面で示す潜像画像を判
読する際の状態を示す断面図である。

【図５】本発明による偽造防止を施したＯＶＤ形成媒体
を判読する際の光路の状態を概念的に説明した図であ
る。

【図６】図２に示すＯＶＤ形成媒体を製造する際に用い
る本発明によるＯＶＤ転写箔の一実施例を示す断面図で
ある。

【図７】ＯＶＤ層の構成及び円偏光フィルムの構成を示
す断面図である。

【図８】ＯＶＤ層の構成及び円偏光フィルムの構成を示
す断面図である。

【符号の説明】

１、７、８‥‥偽造防止を施したＯＶＤ形成媒体 １０‥‥ＯＶＤ転写箔 １１‥‥被転写体 １２、７２、８２‥‥ＯＶＤ層 １３‥‥潜像形成層 １４、６５‥‥偏光フィルム １５…接着層 １６…剥離保護層 １７‥‥支持体 ２３‥‥配向された潜像部分 ２３’‥‥可視可能な画像 ５６‥‥白色光 ５７‥‥反射光 ５８‥‥光源 ６４‥‥円偏光フィルム ６６‥‥１／４波長フィルム ７７‥‥ＯＶＤ ７８‥‥ＯＶＤ効果層 ８５…光学特性の異なる薄膜 ８６…光学特性の異なる薄膜 ８７…光学特性の異なる薄膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 AA03 AA13 AA25 AA40 AA43 AA55 AA60 AA64 BA02 BA03 BA04 BA07 BA42 BB01 BB03 BB23 BB27 BB28 BB33 BB43 BB44 BB46 BB51 BB54 BC01 BC02 BC21 2K008 AA13 EE01 FF11 GG05

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】偽造防止に潜像を付加したＯＶＤ形成媒体
   の偽造防止方法において、支持体の表面上に潜像形成
   層、ＯＶＤ層、接着層が積層して形成されたＯＶＤ転写
   箔の該潜像形成層に、裸眼による目視では透明で偏光フ
   ィルムを用いた目視では可視可能な、配向された潜像部
   分を設けた偽造防止を施したＯＶＤ転写箔を用いて製造
   されたＯＶＤ形成媒体を用いたことを特徴とするＯＶＤ
   形成媒体の偽造防止方法。
2. 【請求項２】偽造防止に潜像を付加したＯＶＤ転写箔に
   おいて、支持体の表面上に潜像形成層、ＯＶＤ層、接着
   層が積層して形成されたＯＶＤ転写箔の該潜像形成層
   に、裸眼による目視では透明で偏光フィルムを用いた目
   視では可視可能な、配向された潜像部分を設けたことを
   特徴とする偽造防止を施したＯＶＤ転写箔。
3. 【請求項３】前記潜像形成層の材料が、外力によって該
   配向された潜像部分を設けられることが可能な高分子材
   料であることを特徴とする請求項２記載の偽造防止を施
   したＯＶＤ転写箔。
4. 【請求項４】前記潜像形成層の材料が、高分子液晶材料
   であることを特徴とする請求項２記載の偽造防止を施し
   たＯＶＤ転写箔。
5. 【請求項５】前記高分子液晶材料が、サーモトロピック
   性を示す高分子液晶材料であり、前記配向された潜像部
   分を加熱・加圧により配向させて設けたことを特徴とす
   る請求項４記載の偽造防止を施したＯＶＤ転写箔。
6. 【請求項６】前記潜像形成層下に剥離保護層を設けたこ
   とを特徴とする請求項２、請求項３、請求項４、又は請
   求項５記載の偽造防止を施したＯＶＤ転写箔。
7. 【請求項７】前記ＯＶＤ層上に金属材料からなる光反射
   層を設けたことを特徴とする請求項２、請求項３、請求
   項４、請求項５、又は請求項６記載の偽造防止を施した
   ＯＶＤ転写箔。
8. 【請求項８】前記配向された潜像部分が、文字・絵柄な
   どの情報を有するパターン形状の潜像画像であることを
   特徴とする請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、
   請求項６、又は請求項７記載の偽造防止を施したＯＶＤ
   転写箔。
9. 【請求項９】前記偏光フィルムが円偏光フィルムである
   ことを特徴とする請求項２、請求項３、請求項４、請求
   項５、請求項６、請求項７、又は請求項８記載の偽造防
   止を施したＯＶＤ転写箔。
10. 【請求項１０】請求項２乃至請求項９記載の偽造防止を
    施したＯＶＤ転写箔を用いて製造されたことを特徴とす
    るＯＶＤ形成媒体。