JP2001232978A - 潜像を有するパスポートとその製造方法、並びにそのパスポートの検証方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】機械式読み取りが可能なパスポートの真偽判定
において、真偽判定が多回数可能であり、耐性、画像の
精細さの点で制約されず、且つ、その判読に特定の検出
装置を必要としない、更に、偽造か否かの真偽判定を容
易に行うことができる機械式読み取りが可能な、潜像を
有するパスポート、その製造方法、その検証方法を提供
すること。 【解決手段】目視確認情報３５と機械確認情報３６が形
成されている機械式読み取り可能なパスポート１０にお
いて、偏光フィルム３９を介した目視によって視認可能
な且つ偏光フィルムを介さない目視によって視認不能又
は視認困難なように、配向を利用して形成された潜像２
２を有する潜像画像形成層３２を設けたこと。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パスポートの偽
造、改ざん、変造防止技術に関するものであり、特に、
隠し文字や隠しパターン等の潜像をみることにより偽造
か否かの真偽判定を容易に行うことができる機械式読み
取りが可能なパスポート（即ちマシーンリーダブルパス
ポート）に関する。

【０００２】

【従来の技術】パスポートは、空港での国際乗客の通関
業務を円滑にすることのほか、所持人が国境を越えると
き、または外国の法律が適用される地域で本人であるこ
とを証明するため、あるいは必要な政治的保護を受ける
目的で使用されている。

【０００３】現在使用されているパスポートはＩＣＡＯ
（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｉｖｉｌ Ａｖｉａ
ｔｉｏｎ Ｏｒｇａｎｉｚａｔｉｏｎ）の規定によれ
ば、目視及び光学文字識別方式の両方で読めなければな
らない。また、パスポートに使用する材質、セキュリテ
ィに関しては各国の自由裁量であり、セキュリティ機能
として一般に使われているのは、有機溶剤等で反応する
化学反応体、虹彩色のパールチップ、ファイバー（絹も
しくは合成繊維、可視もしくは不可視、蛍光もしくは非
蛍光）、ホログラムやマイクロ文字の印刷されたフィル
ムのセキュリティ糸、透かし模様等を盛り込んだ用紙、
退色性インキ、蛍光インキ、感熱インキ、光学的に変化
するインキ（ＯＶＩ）等の各種インキ、細線印刷、レイ
ンボー印刷、凹版印刷、ピクセル印刷等であり、このよ
うな様々な技法を組み込んでセキュリティと美観の同時
向上を図っている。

【０００４】また、パスポートの目視確認情報としての
顔写真は、従来はパスポート基材に写真を貼り付けラミ
ネート加工したものが主流であったが、近年ではラミネ
ート加工法に加え顔写真をデジタル化し、これをパスポ
ートに再現する傾向にある。パスポートへの画像再現方
法としては、オフセット印刷、グラビア印刷、スクリー
ン印刷等の公知印刷方法が多用されている。また、昇華
性（熱移行性）染料や、顔料を分散させた樹脂型溶融タ
イプや、ワックス溶融タイプを用いた転写リボンによる
感熱転写記録法、或いは電子写真法やインクジェット
法、光重合記録材等を用いた各種記録法も技術的に可能
なものとして挙げることができる。

【０００５】感熱転写記録法をパスポートの製造に用い
た例として、帯状シート上にイエロー、マゼンタ、シア
ン、ブラック等の染料あるいは顔料を含んだ各色熱転写
層、接着層、保護層等が所定の寸法毎に順次形成されて
成る転写リボンを用い、この転写リボンとパスポート基
材をサーマルヘッドとの間に通過させ、画像データに基
づきサーマルヘッドの発熱素子群を適宜発熱させて画像
データに基づく画像パターンをパスポート基材上に形成
する方法がある。この場合、例えば、転写リボンは常に
一定方向へ搬送させる一方、上記パスポート基材は一色
の転写が終了する毎に引き戻し再度搬送させて二色目以
降が順次転写されて顔写真のカラー画像パターンをパス
ポート基材上に形成する装置が用いられる。

【０００６】さらに、画像を付与したい最終記録媒体
（最終製品例えば、パスポート）に上記画像形成方法を
用いて直接に画像を形成することが技術的に困難である
とか、量産性が悪いとか、或いは高コストになってしま
う等の何らかの問題を伴う場合、中間転写シートにひと
まず画像を形成しておき、しかる後に熱ローラや熱圧板
転写によってその画像を最終製品へ再転写する方法が採
用されている（例えば、特開昭６３ー８１０９３号公
報）。

【０００７】ところで、パスポート等の個人認識データ
の入った画像表示体には、改ざんや偽造防止するため
に、種々の偽造防止法を用いている。光の干渉を利用し
たものとして、立体画像や特殊な装飾画像を表現し得る
ホログラムや回折格子、光学特性の異なる薄膜を重ね見
る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層薄
膜のようなＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ
Ｄｅｖｉｃｅ）の開発が進められている。

【０００８】これらのＯＶＤは立体画像やカラーシフト
といった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有
しており、各種包装材、絵本、カタログ等の一般的な印
刷物に利用されている。さらに、これらのＯＶＤの製造
には高度な技術を要することから偽造防止の有効な手段
としてクレジットカード、有価証券、証明書類等の一部
に貼着し、或いは、全面に形成し使用されている。

【０００９】ホログラムや回折格子のようなＯＶＤは、
微細な凹凸パターンや、屈折率の異なる縞状パターンな
どの回折構造からなっており、光の回折と干渉により見
る角度（すなわち、ホログラムを支持している角度）に
応じて、固有の像や色の変化（カラーシフト）が生じ
る。一方、多層薄膜は、光学特性の異なるセラミックス
や金属材料を幾重にも積層した構造でなる。この多層薄
膜は構成する材料の光学特性と膜厚により得られる光の
干渉作用を利用した表示技術あり、特定の波長域に反射
・透過特性を有しているため、観察する角度によりカラ
ーシフトが生じるものである。本願においては、ホログ
ラム、回折格子、多層薄膜など光の干渉を利用した表示
技術を総称してＯＶＤと称することとする。以下に、こ
れらＯＶＤ技術をさらに詳しく述べる。

【００１０】ＯＶＤの一種であるホログラムは、一般
に、光学的な撮影方法により微細な凹凸パターンからな
るレリーフ型のマスターホログラムを作製し、これから
電気メッキ法により凹凸パターンをニッケル製のプレス
版に複製し、このプレス版をホログラムの形成層上に加
熱押圧するという周知の方法により大量複製が行われて
いる。このタイプのホログラムはレリーフ型ホログラム
と称されている。

【００１１】また、レリーフ型ホログラムとは異なり、
感光性樹脂などの記録材を用いて体積方向に干渉縞を記
録する体積型ホログラムと称されるものもある。このタ
イプのホログラムではリップマンホログラムと呼ばれる
ものが一般に使用されており、これは感光性樹脂の屈折
率を体積方向に変化させ、反射型ホログラムとしたもの
である。

【００１２】更に、この立体画像を再生し得るホログラ
ム画像とは異なり、微小なエリアに複数種類の単純な回
折格子を配置して画素とし、画像を表現するグレーティ
ングイメージ、ピクセルグラムといった回折格子画像も
またレリーフ型ホログラムと同様な方法で大量複製が行
われて、偽造防止の有効な手段としてクレジットカー
ド、有価証券、証明書類等の一部に貼着し使用されてい
る。

【００１３】ＯＶＤ形成体としては、従来公知の構成と
してシート形態、転写箔形態、シール形態などがあり、
製法としても従来公知のコーティング法、エンボス法、
押出成形法などが知られている。また、上記反射特性を
有する多層薄膜は、屈折率の異なる透明な物質を真空蒸
着法等の公知の薄膜形成手段により形成することで（以
下透明薄膜層）、透明ホログラムや透明回折格子形成体
となることは公知の技術である。この場合、レリーフ形
成層と透明薄膜層の屈折率差が大きい程（レリーフ形成
層＜透明薄膜層）、反射率も大きくなることは、光学的
見地からも明らかである。

【００１４】一方、従来から潜像は、種々な方法が偽造
防止に用いられてきた。例えば、 １）熱をかけることによって発色する、白色もしくは無
色透明な不可逆性感熱発色インキを用いて潜像を形成す
る方法は、潜像を表示させるためには熱源装置が必要で
あり、潜像を一回表示させたものを消色することはでき
ないため用途が限定される。

【００１５】また、繰り返し表示が可能な潜像による偽
造防止方法として、 ２）可逆性感熱発色インキ（サーモクロミックインキ）
を用いた方法がある。サーモクロミックインキは熱をか
けることにより可逆的に発色もしくは消色し、しばらく
放置すると元の状態に戻るものである。このインキは潜
像として、もしくは画像を隠蔽するために使われている
が、耐性とくに耐熱性が弱いため用途が限定される。 ３）フォトクロミックインキは、光、特に紫外線を照射
することにより発色するインキであり、白色もしくは無
色透明のインキとして用いることより、潜像として利用
されているが、耐性とくに耐光性が弱いため用途が限定
されている。 ４）蛍光インキは紫外線を照射することにより発光する
インキであり、白色または無色透明のインキとして用い
ることより、潜像として利用されている。そして、蛍光
インキには有機タイプと無機タイプがある。有機タイプ
は印刷インキ中にごく少量含有するだけで発光が確認さ
れるが、耐光性が弱いため用途が限定される。また、無
機タイプは印刷インキ中に大量に含有させる必要があり
（１０〜２０％程度）、潜像としては目視で可視され易
いため、利用する際にはデザイン等に工夫が必要であ
る。 すなわち、上記２）、３）、４）の方法は、耐性の点で
制約されるものである。

【００１６】また、繰り返し表示が可能な潜像による偽
造防止方法の他の方法として、 ５）磁性インキによる潜像を用いた方法がある。これは
磁気記録可能な保持力（約３００Ｏｅ以上）のある磁性
層をパターン状に磁化させることで潜像の形成を行い、
磁性層上に鉄粉をふりかけることで磁化されている部分
を画像として表示する方法である。しかし、この方式
は、潜像の書き換えて偽造することが容易に可能であ
り、また、潜像を表示させる工程が煩雑で特定の検出装
置が必要である。 ６）赤外光を吸収するインキにて潜像を形成し、この潜
像上に可視光を透過させず赤外光を透過させる層を設け
る方法がある。しかし、この潜像を表示させるためには
赤外線カメラ等が必要であり、装置が大がかりとなる。
また、可視領域では白色もしくは無色であるが、赤外領
域に吸収のあるインキ（ＩＶインキ）を用いた方法もあ
るが、これも同様に赤外線カメラ等が必要である。

【００１７】すなわち、上記５）、６）の方法は、繰り
返し表示が可能な方法であり、且つ、耐性、画像の精細
さの点で制約されないが、潜像の表示に特定の検出装置
が必要となるものである。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な潜像を偽造防止に用いた際の問題点を解決した、すな
わち、真偽判定が多回数可能であり、耐性、画像の精細
さの点で制約されず、且つ、その判読に特定の検出装置
を必要としない、更に、偽造か否かの真偽判定を容易に
行うことができる機械式読み取りが可能な、潜像を有す
るパスポートを提供することを課題とするものである。
また、その製造方法、並びにそのパスポートの検証方法
を提供することを課題とするものである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明は、基材上の少な
くとも一方の面上の所定の位置に、顔写真等の目視確認
情報とＯＣＲ文字等の機械確認情報が形成されている機
械式読み取り可能なパスポートにおいて、偏光フィルム
を介した目視によって視認可能な且つ偏光フィルムを介
さない目視によって視認不能又は視認困難なように、配
向を利用して形成された潜像を有する潜像画像形成層を
設けたことを特徴とする潜像を有するパスポートであ
る。

【００２０】また、本発明は、上記発明による潜像を有
するパスポートにおいて、前記潜像が顔写真等の目視確
認情報若しくはＯＣＲ文字等の機械確認情報と関連した
画像であることを特徴とする潜像を有するパスポートで
ある。

【００２１】また、本発明は、上記発明による潜像を有
するパスポートにおいて、前記潜像画像形成層の材料
が、外力によって配向されることにより形成可能な潜像
を設ることが可能な高分子材料であることを特徴とする
潜像を有するパスポートである。

【００２２】また、本発明は、上記発明による潜像を有
するパスポートにおいて、前記潜像画像形成層の材料
が、高分子液晶材料であることを特徴とする潜像を有す
るパスポートである。

【００２３】また、本発明は、上記発明による潜像を有
するパスポートにおいて、前記高分子液晶材料が、サー
モトロピック性を示す高分子液晶材料であり、前記潜像
は加熱・加圧により配向させて設けたことを特徴とする
潜像を有するパスポートである。

【００２４】また、本発明は、上記発明による潜像を有
するパスポートの製造において、前記顔写真等の目視確
認情報とＯＣＲ文字等の機械確認情報を形成した後に、
少なくとも前記潜像を形成した潜像画像形成層が積層さ
れてある保護フィルムを貼り合わせることにより製造す
ることを特徴とする潜像を有するパスポートの製造方法
である。

【００２５】また、本発明は、上記発明による潜像を有
するパスポートの製造において、前記保護フィルムが、
ＯＶＤ画像を兼ねた光反射層と前記潜像画像形成層とが
積層されてあることを特徴とする潜像を有するパスポー
トの製造方法である。

【００２６】また、本発明は、パスポートの検証方法に
おいて、前記潜像を有するパスポート上の前記潜像を偏
光フィルムを介した目視によって潜像の確認を試みるこ
とを、パスポートが正規のパスポートであるか否かの検
証に利用することを特徴とするパスポートの検証方法で
ある。

【００２７】また、本発明は、上記発明によるパスポー
トの検証方法において、前記偏光フィルムが円偏光フィ
ルムであることを特徴とするパスポートの検証方法であ
る。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき説
明する。図１は本発明による潜像を有するパスポートの
一実施例を示す平面図である。図２は、図１におけるＸ
−Ｘ’断面で一実施例を示す断面図である。図１及び図
２に示すように、潜像を有するパスポート（１０）は、
パスポート基材（３３）の表面上に目視確認情報（顔写
真等）（３５）、機械確認情報（ＯＣＲ文字等）（３
６）、光反射層（３４）、潜像画像形成層（３２）、保
護フィルム（３１）が積層して形成されたものである。

【００２９】図２において、（２２）は、潜像画像形成
層（３２）の一部分であり、偏光フィルムを介した目視
によって視認可能な且つ偏光フィルムを介さない目視に
よって視認不能又は視認困難なように、配向を利用して
形成された潜像である。この潜像（２２）は、潜像画像
形成層（３２）の一部が熱、圧、引っ掻き、摩擦、光、
電気、磁気等の外力によって配向された部分である。

【００３０】図１において、潜像を有するパスポート
（１０）は、偏光フィルムを介さず目視すると潜像（２
２）が確認できず単なるパスポートにしか見えないもの
である。すなわち、パスポート基材（３３）の表面上の
目視確認情報（顔写真等）（３５）と機械確認情報（Ｏ
ＣＲ文字等）（３６）が視認される。尚、図２における
光反射層（３４）は、高屈折材料からなるものであり、
光反射性を有した透明なものである。

【００３１】図３は、図１に示す潜像を有するパスポー
ト（１０）の一実施例の潜像（２２）を判読する際の状
態を示す平面図である。また、図４は、図３におけるＸ
−Ｘ’断面で示す潜像（２２）を判読する際の状態を示
す断面図である。図３及び図４に示すように、潜像を有
するパスポート（１０）の上方に偏光フィルム（３９）
を重ねて偏光フィルムを介して目視することにより、潜
像（２２）が視認可能な画像（２２’）となる。

【００３２】図９は、本発明による潜像を有するパスポ
ート（１０）の潜像を判読する際の光路の状態を概念的
に説明した図である。図９に示すように、光源（９１）
からの白色光（９２）は偏光フィルム（９９）を透過し
て直線偏光となり、潜像画像形成層の一部分である潜像
（９２）部を透過して楕円偏光に変わり、光反射層（９
４）により反射され、再度偏光フィルム（９９）を透過
して反射光（９７）となる。

【００３３】この反射光（９７）は、波長によって光の
強さが異なるため、多彩な色相を有する画像が得られ
る。また、偏光フィルムの配向方向と潜像部分の配向方
向の角度によっても見える色相が異なってくる。潜像画
像形成層（３２）の他の部分である配向されない部分
（図示せず）を透過した直線偏光は、楕円偏光に変わら
ず光反射層（９４）により反射され、再度偏光フィルム
（９９）を透過して反射光として観察されるものであ
る。

【００３４】図５は、本発明による潜像を有するパスポ
ートの他の例を示す断面図である。図５に示すように、
目視確認情報（顔写真等）（３５）は潜像画像形成層
（３２）上に設けられている。また、図５において、偏
光フィルムとして用いた円偏光フィルム（５９）は、偏
光フィルム（５９１）に１／４波長位相差フィルム（５
９２）を重ねたものである。

【００３５】図６（ａ）、（ｂ）、及び図７（ａ）、
（ｂ）は、本発明による潜像を有するパスポートの別な
他の例を示す断面図である。すなわち、潜像（２２）は
必ずしもパスポートの全面にある必要はなく、パスポー
ト基板上に光反射層（３４）を設けた際に、デザイン
上、或いは光学的読み取りをする際に支障をきたす場合
に光反射層（３４）の不必要な部分を隠蔽、或いは除去
してもよい。

【００３６】図６（ａ）、（ｂ）は、目視確認情報（顔
写真等）（３５）の下方に隠蔽層（３７）を設け、この
部分に潜像（２２）が存在しても潜像部分が視認されな
いようになっている。また、図７（ａ）、（ｂ）は、光
反射層（３４）の一部を除去したものであり、この部分
に潜像（２２）が存在しても潜像が視認されないように
なっている。

【００３７】図８（ａ）、（ｂ）は、図２に示す光反射
層（３４）がＯＶＤ画像を兼ねた光反射層である場合の
構成を示す断面図である。図８（ａ）に示すＯＶＤ画像
を兼ねた光反射層（８４）は、レリーフ型ホログラム、
回折格子などのＯＶＤ画像形成層（８４ａ）と、ＯＶＤ
画像からの干渉光をより効果的な強度で回折させるため
に、高屈折材料薄膜や金属薄膜から成るＯＶＤ効果層
（８４ｂ）で構成されている。図８（ｂ）に示すＯＶＤ
画像を兼ねた光反射層（８４）は、光学特性の異なる薄
膜（８４ｃ）、（８４ｄ）、（８４ｅ）の多層薄膜構成
となっている。

【００３８】パスポート基材に使用する材質は各国の自
由裁量であり、また、その形式は枚葉のカード、または
文書として、或いはビザ及びその他の証明の便をはかる
ため冊子形式として発行できる。パスポートは冊子形式
のものが殆どであり、そのデータページの材質として最
も多用されているのは紙である。紙は、植物繊維を主な
原料とし水中にて叩解し抄いて絡ませた後、脱水・乾燥
させて作られるが、原料であるセルロースの水酸基間の
水素結合で繊維間の強度が得られる。また、植物繊維以
外の例えば合成繊維や磁性金属ファイバーや蛍光糸を混
入した紙の場合は合成繊維間に水素結合などの結合力を
持たないため結着剤を必要とすることが多いので、合成
繊維比率と結着剤量は、紙の強度を落とさない程度に適
宜決めるのが望ましい。

【００３９】また、紙に用いる添料としてはクレイ、タ
ルク、炭酸カルシウム、二酸化チタン等があり、サイズ
剤としてはロジン、アルキル・ケテン・ダイマー、無水
ステアリン酸、アルケニル無水こはく酸、ワックス等が
あり、紙力増強剤には変性デンプン、ポリビニルアルコ
ール、ポリアクリルアミド、尿素−ホルムアルデヒド、
メラミン−ホルムアルデヒド、ポリエチレンイミン等が
あり、これらの材料をそれぞれ抄紙時に加え、主として
長網抄紙機で抄造するが、これに限るものではない。抄
紙方法は通常の植物繊維紙の製造に用いられる方法でよ
く、原料濃度０．１〜５％好ましくは０．３〜０．６％
の水希薄原料で十分に膨張させた繊維をよく混練し、ス
ダレ・編目状のワイヤー等に流して並べ、搾水後加温に
より水分を蒸発させて作られる。

【００４０】また、上述した用紙以外にも、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルイ
ム、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等の合成樹
脂、天然樹脂、合成紙などを単独で又は組合わせた複合
体が使用可能である。また、データページと背表紙の間
にＩＣチップを搭載したものも知られている。

【００４１】次に、図２に示す潜像画像形成層（３２）
は、潜像（２２）が設けられる層であり、潜像画像形成
層（３２）に設けられた潜像（２２）は、偏光フィルム
を介した目視によって視認可能になり偏光フィルムを介
さない目視によって視認不能又は視認困難なものであ
る。

【００４２】潜像画像形成層として用いる材料は、全面
に同一の配向を有し全面に同一の偏光性を示す材料、部
分的に配向の異なる材料、或いは、部分的に外力によっ
て配向を変化させ、部分的に異なった偏光性を付与でき
る材料などが使用される。例えば、ポリプロプピレン、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリエステル等の高分子
材料が使用可能である。

【００４３】また、潜像画像形成層として、高分子液晶
材料を用いる際には、ポリエステル共重合体、ポリエー
テル、ポリカーボネイト、ポリイソシアネート、ポリグ
ルタミン酸エステル等の高分子液晶材料が使用可能であ
る。また、この高分子液晶材料は、加熱・加圧で容易に
配向させることが可能なサーモトロピック性を有してい
ることが好ましい。そして、配向させる方法として、ホ
ットスタンプ、サーマルヘッド、レーザーによる加熱等
の簡便な方法が挙げられ、これらの方法によって精細な
潜像部分を容易に形成することが可能となる。

【００４４】さらに、予め配向せしめ偏光性を有した高
分子材料を微小片化し、ポリエステルやアクリルなどの
高分子樹脂に分散させ、塗布することにより潜像形成層
を形成することも可能である。この場合、任意の画像を
潜像として形成することは難しいが、ランダムな模様と
して潜像が観察されるため、検証機能を付与することは
可能である。尚、使用される材料は上記に限定されるも
のではなく、全面に同一の配向を有し全面に同一の偏光
性を示す材料、部分的に配向の異なる材料、或いは、部
分的に外力によって配向を変化させ、部分的に異なった
偏光性を付与できる材料であれば使用可能である。そし
て、潜像画像形成層は、パスポート基材上にこれらの材
料をグラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルコータ
ー法等の既知の塗布手段を用いて形成される。或いは、
押し出し成型法、二軸延伸法等のフィル成形技術で得ら
れたフィルムを貼り合わせて形成することも可能であ
る。

【００４５】次に、光反射層（３４）、或いはＯＶＤ画
像を兼ねた光反射層（８４）は潜像をより効果的に視認
するために必要であり、潜像画像形成層の下方（観視面
の反対面）に位置する必要がある。光反射層としては、
ＴｉＯ₂ 、Ｓｉ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＳ、
などの高屈折率材料や、より反射効果の高いＡｌ、Ｓ
ｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられ
る。これらの材料は単独あるいは積層して使用できるも
のであり、これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング
等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は用途
によって異なるが、５０〜１００００Å程度で形成され
る。

【００４６】尚、上記反射効果の高い金属材料は金属光
沢を有する不透明なものなので、光反射層（３４）の材
料として、このような反射効果の高い金属材料を用いた
際には、光反射層（３４）は、前記図２における目視確
認情報（顔写真等）（３５）や機械確認情報（ＯＣＲ文
字等）（３６）の下方（パスポート基材（３３）側）に
設けることになる。

【００４７】上記以外でも、ＯＶＤ効果層を構成する材
料としては、その屈折率が、上層の樹脂層（屈折率ｎ＝
１．３〜１．５）よりも高い材料であれば、上記の無機
材料以外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機
系フィラーを分散したものなどが使用可能である。これ
らの材料はグラビアコート、ダイコート、スクリーン印
刷等の公知のコーティング法、や印刷法にて０．１μｍ
〜１０μｍ程度に形成される。また、上記以外の材料で
あっても反射性を有した材料であれば、適宜使用するこ
とが可能である。さらには、上記以外の材料であっても
反射性を有した材料であれば、適宜使用することが可能
である。また、光反射層は潜像画像形成層と隣接してい
る必要は無く、観視面側からみて潜像画像形成層の奥側
に位置すれば良い。但し、光反射層と潜像画像形成層の
間には部分的である場合を除き、遮光するものを配置す
ることはできない。

【００４８】ＯＶＤ画像を兼ねた光反射層（８４）を構
成するＯＶＤ画像形成層（８４ａ）は、前述した光の干
渉を利用したＯＶＤ画像を形成する層であり、立体画像
の表現や見る角度により色が変化するカラーシフトを生
じる表示体を形成する層である。その中でホログラムや
回折格子のごときＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な
凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や体積方
向に干渉縞を記録する体積型が挙げられる。

【００４９】一方、ホログラムや回折格子と手法が異な
り、光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を
積層し、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生
じる多層薄膜構成もその例である。これらは一例であ
り、光の干渉を利用した固有の像や色の変化を生じる公
知の表示技術であればこれに限られるものではない。こ
れらＯＶＤの中でも量産性やコストを考慮した場合に
は、ＯＶＤ画像を兼ねた光反射層（８４）としてはレリ
ーフ型ホログラム（回折格子）とＯＶＤ効果層（８４
ｂ）の構成、或いは多層薄膜構成のものが好ましい。以
下、これらに関して詳しく説明する。

【００５０】図８（ａ）に示すＯＶＤ画像形成層（８４
ａ）に形成されたレリーフ型ホログラム（回折格子）
は、光学的な撮影方式により微細な凹凸パターンからな
るレリーフ型のマスター版を作製し、電気メッキ法によ
りパターンを複製したニッケル製のプレス版にて量産を
行う。すなわち、このプレス版を加熱しＯＶＤ画像形成
層（８４ａ）に押し当て、凹凸パターンを複製する。そ
れゆえ、ＯＶＤ画像形成層としては熱による成形性が良
好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる
材料を用いる。

【００５１】例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂な
どの熱硬化性樹脂、或いは、ラジカル重合性不飽和基を
有する紫外線や電子線硬化性樹脂を単独あるい複合して
用いることができる。また、上記以外ものでも、ＯＶＤ
レリーフパターンを形成可能な安定性を有する材料であ
れば使用可能である。また、レリーフの形状については
ＯＶＤ画像のパターンによって様々な形状を取るため、
特に限定されるものではない。

【００５２】また、レリーフ型ホログラム（回折格子）
を用いた場合、その回折効率を高めるためレリーフ面を
構成する高分子材料と屈折率の異なるＯＶＤ効果層（反
射層（８４ｂ）を設けることが好ましい。このＯＶＤ効
果層を設けることにより、回折効率が向上し、より鮮明
な画像や色の変化をもたらす。用いる材料としては、前
述した光反射層と同じものが使用できる。この場合ＯＶ
Ｄ画像形成層のＯＶＤレリーフパターンとＯＶＤ効果層
は、必ず隣接する必要がある。なお、ＯＶＤレリーフパ
ターンは、ＯＶＤ効果層を設けてから上述したプレス版
を用いて形成することも可能である。よって、ＯＶＤ効
果層の形状は、ＯＶＤレリーフパターンに沿って同形状
に設けても良いし、レリーフパターンを埋める様に平滑
に形成されても何ら問題は無い。

【００５３】一方、図８（ｂ）に示す多層薄膜構成のＯ
ＶＤ画像を兼ねた光反射層（８４）は、前述したように
異なる光学適性を有する多層薄膜層（８４ｃ）、（８４
ｄ）、（８４ｅ）からなり、金属薄膜、セラミックス薄
膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成
される。例えば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、
高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良
く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにして
もよい。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を
得ることができる。

【００５４】この多層薄膜には、セラミックスや金属な
どの材料が用いられ、おおよそ屈折率が２．０以上の高
屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定
の膜厚で積層したものである。以下に用いられる材料の
一例を挙げる。まず、セラミックスとしては、例えば、
Ｓｂ₂ Ｏ₃ （３．０＝屈折率：以下同じ）、Ｆｅ₂ Ｏ₃
（２．７）、ＴｉＯ₂ （２．６）、ＣｄＳ（２．６）、
ＣｅＯ ₂ （２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ
₂ （２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ₂ Ｏ₃ （２．
０）、ＷＯ₃ （２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ₂ Ｏ
₃ （２．５）、Ｉｎ₂ Ｏ₃ （２．０）、ＰｂＯ（２．
６）、Ｔａ₂ Ｏ₃ （２．４）、ＺｎＯ（２．１）、Ｚｒ
Ｏ₂ （２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ₂ （１．
５）、ＭｇＦ₂ （１．４）、ＣｅＦ₃ （１．６）、Ｃａ
Ｆ₂ （１．３〜１．４）、ＡｌＦ₃ （１．６）、Ａｌ₂
Ｏ₃ （１．６）、ＧａＯ（１．７）等が挙げられる。

【００５５】金属単体もしくは合金の薄膜としては、例
えば、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。また、低屈折率の有機
ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン（１．５
１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロ
エチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート
（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられ
る。これらの高屈折率材料、もしくは透過率３０％〜６
０％の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より
少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる
事により、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反
射を示す多層薄膜となる。なお、金属から構成される薄
膜は、構成材料の状態や形成条件などにより、屈折率な
どの光学特性が変わってくるため、本発明の実施例では
一定の条件における値を用いている。

【００５６】上記の各材料の中から、屈折率、反射率、
透過率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性な
どに基づき材料を適宜選択し、薄膜として積層し多層薄
膜を形成する。形成方法は公知の手法を用いることがで
き、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ
・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な、通
常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析
出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることが
できる。また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法とし
ては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スク
リーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア
法、ロールコート法等などの塗布方法を用いることがで
きる。なお、本発明ではセラミックス及び金属のみを示
しているが、セラミックス及び金属と同等、あるいは類
似する屈折率と反射率を有するものであれば、用いるこ
とが可能である。

【００５７】この多層薄膜層の層厚は、具体的には５０
〜２００００Åの範囲であり、また、薄膜の層構成は上
記高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例え
ば、ＺｎＳ、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、Ｓｎ
Ｏ、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂ 、ＺｎＯ、Ｔａ₂ Ｏ₃ 、Ａｌ、Ｆ
ｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ
などと、上記低屈折率の材料からなる薄膜、例えば、Ｍ
ｇＦ₂ 、ＳｉＯ₂ 、ＣａＦ₂ 、ＭｇＯ、Ａｌ₂ Ｏ₃ など
との組み合わせであり、それらを交互に積層し、その積
層数が２層以上、好ましくは２層〜９層である。分光特
性は層数に応じて変化する。尚、用いる材料、組み合わ
せにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定さ
れるものではない。

【００５８】なお、図８（ｂ）において、ＯＶＤ画像を
兼ねた光反射層（８４）上の潜像画像形成層（３２）が
低屈折率の有機ポリマーである場合には、この潜像画像
形成層（３２）に接する薄膜層（８４ｅ）は高屈折率で
あることが望ましい。

【００５９】潜像画像形成層、またはＯＶＤ画像を兼ね
た光反射層上に位置するように有色透明のインキなどに
よる着色層を設けることにより、観察されるＯＶＤの色
変化がより多彩になり、且つ見やすくなり、その確認が
容易となり偽造防止効果を更に向上させることができ
る。

【００６０】前述したように、パスポート基板上に光反
射層（３４）を設けた際に、デザイン上、或いは光学的
読み取りをする際に支障をきたす場合に光反射層（３
４）の不必要な部分を隠蔽、或いは除去してもよい。ま
た、パスポート基材、もしくは隠蔽層上に印刷層（図示
せず）があっても当然のことながらよい。また、セキュ
リティ機能として前述したような、有機溶剤等で反応す
る化学反応体、虹彩色のパールチップ、退色性インキ、
蛍光インキ、感熱インキ、光学的に変化するインキ（Ｏ
ＶＩ）等のインキ、細線印刷、レインボー印刷、凹版印
刷、ピクセル印刷等の様々な技法を組み込むことができ
る。

【００６１】偏光フィルム（３９）は、ＰＶＡ延伸フィ
ルムにヨードを吸収させたＰＶＡ−ヨウ素型、二色性染
料型、金属または金属化合物含有型、ポリエン型などの
高分子多結晶型が考えられ、特にＰＶＡ−ヨウ素型、二
色性染料型フィルムが用いられる。さらに、円偏光フィ
ルム（５９）は、前記偏光フィルム（５９１）に１／４
波長位相差フィルム（５９２）を重ねたフィルムであ
り、円偏光フィルターを用いることで、潜像を表示する
際に、観察角度に対する依存性が無くなり、容易に表示
可能となる。

【００６２】

【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。 ＜実施例１＞上質紙からなるパスポート基材上の顔写真
部及びＯＣＲ文字部を除いた部分に、真空蒸着法を用い
てＡｌの光反射層を５０ｍｍ×５０ｍｍのサイズで形成
した（マスクを用いて必要部のみ形成）。次に、この光
反射層上に下記配合比のサーモトロピック液晶からなる
高分子液晶塗料をスクリーン印刷法を用いて塗布し、乾
燥温度８０℃にて層厚２．０μｍの潜像画像形成層を得
た。 （高分子液晶塗料） 高分子液晶（キラコールＰＬＣ７００３：旭電化工業（株）製）…２０部 シクロヘキサノン …８０部

【００６３】次に、市販のインクジェットプリンターを
用いて、顔写真及びＯＣＲ文字を印字後、上記パスポー
ト基材上の潜像画像形成層に潜像パターンの形成を行う
ため、「ＴＯＰ」の文字が凸状に形成された刻印版を用
い、１００℃、０．２秒間ホットスタンプにて熱圧をか
けて配向を行い潜像を設けた。このように得られた潜像
を有するパスポートは、円偏光フィルムを介さない目視
では潜像パターンが全く視認できず単なるパスポートに
見えたが、円偏光フィルムを介した目視によって潜像パ
ターンが鮮明に出現し、潜像パターンを視認することが
できた。

【００６４】＜実施例２＞本実施例２においては、画像
形成を昇華型転写方式と樹脂型溶融転写方式の複合リボ
ンを用いて行った。 （複合リボンの製造）まず、３色の昇華性染料（イエロ
ー、シアン、マゼンタ）を各々ポリビニルブチラール樹
脂に分散させて染料インキ、及び塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合樹脂中にカーボンブラックを分散させた墨塗液
を調合し、それぞれグラビアコーターを用いて厚さ４．
５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に各色
が交互に配置されるように塗布・乾燥して３色の染料層
と１色の顔料層を有する複合リボンを製造した。ここ
で、墨塗料のカーボンブラック添加量は、パスポートの
光学文字識別（ＯＣＲ）において、印字時のＰＣＳ値
（Ｐｒｉｎｔ Ｃｏｎｔｒａｓｔ Ｓｉｇｎａｌ）が
０．６以上となるように調整した。

【００６５】次に、実施例１における潜像画像形成層を
形成したパスポート基材上に下記配合比の受像層塗料を
グラビア法を用いて全面に塗布し、乾燥温度８０℃にて
乾燥し受像層を形成した。 （受像層塗料） 塩化ビニル／酢酸ビニル共重合樹脂 …１５部 ポリエステル樹脂 … ５部 メチルエチルケトン …３０部 トルエン …５０部

【００６６】次に、上記作成した複合リボンを市販のサ
ーマルプリンタを用い、パスポート基材上の受像層に顔
写真及びＯＣＲ文字を印字し、さらに上記複合リボンを
取り外した後、パスポート基材上の潜像画像形成層に顔
写真をモノクロデータに変換した画像ファイルを用いて
サーマルヘッドにて配向を行い潜像を設けた。このよう
に得られた潜像を有するパスポートは、円偏光フィルム
を介さない目視では潜像パターンが全く視認できず単な
るパスポートに見えたが、円偏光フィルムを介した目視
によって潜像パターンが鮮明に出現し、顔写真を視認す
ることができた。また、ここで得られた潜像パターン
は、目視確認情報（顔写真）と同一の画像パターン（顔
写真）を形成したので、更に偽造防止効果が向上した。

【００６７】＜実施例３＞本実施例３においては、潜像
画像を保護フィルム側に設けた構成にて製造を行った。 （保護フィルムの製造）厚み５０μｍのトリアセテート
フィルム（無配向）に実施例１で使用したサーモトロピ
ック液晶の高分子液晶塗料をグラビア印刷法を用いて
「ＴＯＰ」の文字を０．５μｍ形成した。ここで、乾燥
温度を１５０℃とし、ラミロールを通すことにより押厚
し、高分子液晶の配向を同時に行った。次に、酸化チタ
ンを用いてＥＢ法（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ蒸着
法）により酸化チタン（屈折率２．１：膜厚４００Å）
の光反射層を設けた後、下記配合比からなる接着層塗料
を乾燥温度８０℃にて、乾燥後の層厚が２．０μｍとな
るように接着層を形成した。 （接着層塗料） ポリエステル樹脂 …１５部 エポキシ樹脂 … ５部 メチルエチルケトン …８０部

【００６８】次に、上質紙からなるパスポート基材に顔
写真を貼り、ＯＣＲ文字を印字後、この面と上記製造し
た保護フィルムの接着層面とを合わせ、１００℃に加熱
したシリコンゴムによる転写ローラーにて加熱・加圧し
てラミネートしパスポートを得た。本実施例３にて製造
したパスポートは、実施例１、２により得られた潜像を
有するパスポートと同様な効果が得られた。さらに、本
実施例３の製造方法によるとパスポート基材の種類によ
らず効率的に潜像を有するパスポートを製造することが
できる。

【００６９】＜実施例４＞本実施例４では、上記実施例
３で製造した保護フィルムの光反射層に代わりＯＶＤ画
像を兼ねた光反射層を用いた構成で製造した。まず、実
施例３と同様に厚み５０μｍのトリアセテートフィルム
からなる保護フィルム上にに、サーモトロピック液晶の
高分子液晶塗料をグラビア印刷法で「ＴＯＰ」の文字を
０．５μｍ形成した。次にＯＶＤ形成層塗料をグラビア
法にて２μｍ塗布した。このＯＶＤ画像形成層上にニッ
ケル製のＯＶＤレリーフパターンを加熱押圧すること
で、ＯＶＤ画像形成層上にＯＶＤレリーフパターンを形
成した。本実施例４はこの熱加工でＯＶＤ形成と同時に
高分子液晶の配向を行った。

【００７０】次いで、上記方法形成したＯＶＤ画像形成
層のＯＶＤレリーフパターン面に、ＯＶＤ効果層とし
て、実施例３で設けた光反射層と同じ酸化チタンを厚み
４００Åにて形成後、受像層塗料をグラビア法にて２μ
ｍ塗布した。以下にＯＶＤ形成層塗料に使用した組成に
ついて示す。 （ＯＶＤ形成層塗料） 塩化ビニル／酢酸ビニル共重合樹脂 … ５部 ウレタン樹脂 …１５部 メチルエチルケトン …５０部 トルエン …３０部

【００７１】受像層への画像形成及びパスポート基材へ
の転写は実施例３と同様に行い潜像を有するパスポート
を得た。本実施例４にて得られた潜像を有するパスポー
トについては、上記実施例３の効果に加え、層内にＯＶ
Ｄ画像をを兼ねた光反射層を有するため偽造防止性がさ
らに向上する。

【００７２】

【発明の効果】本発明は、基材上の少なくとも一方の面
上の所定の位置に、顔写真等の目視確認情報とＯＣＲ文
字等の機械確認情報が形成されている機械式読み取り可
能なパスポートにおいて、偏光フィルムを介した目視に
よって視認可能な且つ偏光フィルムを介さない目視によ
って視認不能又は視認困難なように、配向を利用して形
成された潜像を有する潜像画像形成層を設けたので、パ
スポートの真偽判定において、真偽判定が多回数可能で
あり、耐性、画像の精細さの点で制約されず、且つ、そ
の判読に特定の検出装置を必要としない、更に、偽造か
否かの真偽判定を容易に行うことができる機械式読み取
りが可能な、潜像を有するパスポートとなる。

【００７３】また、本発明は、上記潜像を有するパスポ
ートの製造において、前記顔写真等の目視確認情報とＯ
ＣＲ文字等の機械確認情報を形成した後に、少なくとも
潜像を形成した潜像画像形成層が積層されてある保護フ
ィルムを貼り合わせることにより製造するので、パスポ
ート基材の種類によらず効率的に上記潜像を有するパス
ポートを製造することができる。

【００７４】また、本発明は、パスポートの検証方法に
おいて、上記潜像を有するパスポート上の前記潜像を偏
光フィルムを介した目視によって潜像の確認を試みるこ
とを、パスポートが正規のパスポートであるか否かの検
証に利用するので、パスポートの真偽判定において、真
偽判定が多回数可能であり、耐性、画像の精細さの点で
制約されず、且つ、その判読に特定の検出装置を必要と
しない、更に、偽造か否かの真偽判定を容易に行うこと
ができる機械式読み取りが可能な、潜像を有するパスポ
ートの検証方法となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による潜像を有するパスポートの一実施
例を示す平面図である。

【図２】図１におけるＸ−Ｘ’断面で一実施例を示す断
面図である。

【図３】図１に示す潜像を有するパスポートの一実施例
の潜像を判読する際の状態を示す平面図である。

【図４】図３におけるＸ−Ｘ’断面で示す潜像を判読す
る際の状態を示す断面図である。

【図５】本発明による潜像を有するパスポートの他の例
を示す断面図である。

【図６】（ａ）、（ｂ）は、本発明による潜像を有する
パスポートの別な他の例を示す断面図である。

【図７】（ａ）、（ｂ）は、本発明による潜像を有する
パスポートの別な他の例を示す断面図である。

【図８】（ａ）、（ｂ）は、図２に示す光反射層がＯＶ
Ｄ画像を兼ねた光反射層である場合の構成を示す断面図
である。

【図９】本発明による潜像を有するパスポートの潜像を
判読する際の光路の状態を概念的に示す説明図である。

【符号の説明】

１０‥‥潜像を有するパスポート ２２‥‥潜像 ２２’‥‥視認可能な画像 ３１‥‥保護フィルム ３２‥‥潜像画像形成層 ３３‥‥パスポート基材 ３４、９４‥‥光反射層 ３５‥‥目視確認情報（顔写真等） ３６‥‥機械確認情報（ＯＣＲ文字等） ３７‥‥隠蔽層 ３９、９９、５９１‥‥偏光フィルム ５９‥‥円偏光フィルム ５９２‥‥１／４波長フィルム ８４‥‥ＯＶＤ画像を兼ねた光反射層 ８４ａ‥‥ＯＶＤ画像形成層 ８４ｂ‥‥ＯＶＤ効果層 ８４ｃ‥‥光学特性の異なる薄膜 ８４ｄ‥‥光学特性の異なる薄膜 ８４ｅ‥‥光学特性の異なる薄膜 ９１‥‥光源 ９２‥‥白色光 ９７‥‥反射光

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/13 ５０５ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５０５ 1/1334 1/1334 1/1335 ５１０ 1/1335 ５１０ (72)発明者 久保 章 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2C005 HA02 HB02 JA17 JC10 LA31 2H088 EA20 GA06 HA18 JA03 JA21 JA29 MA20 2H089 HA02 RA11 TA15 2H091 FA07X FA07Z FC06 HA11 HA19 JA01 LA30 MA10

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材上の少なくとも一方の面上の所定の位
   置に、顔写真等の目視確認情報とＯＣＲ文字等の機械確
   認情報が形成されている機械式読み取り可能なパスポー
   トにおいて、偏光フィルムを介した目視によって視認可
   能な且つ偏光フィルムを介さない目視によって視認不能
   又は視認困難なように、配向を利用して形成された潜像
   を有する潜像画像形成層を設けたことを特徴とする潜像
   を有するパスポート。
2. 【請求項２】請求項１記載の潜像を有するパスポートに
   おいて、前記潜像が顔写真等の目視確認情報若しくはＯ
   ＣＲ文字等の機械確認情報と関連した画像であることを
   特徴とする潜像を有するパスポート。
3. 【請求項３】前記潜像画像形成層の材料が、外力によっ
   て配向されることにより形成可能な潜像を設ることが可
   能な高分子材料であることを特徴とする請求項１、又は
   請求項２記載の潜像を有するパスポート。
4. 【請求項４】前記潜像画像形成層の材料が、高分子液晶
   材料であることを特徴とする請求項１、又は請求項２記
   載の潜像を有するパスポート。
5. 【請求項５】前記高分子液晶材料が、サーモトロピック
   性を示す高分子液晶材料であり、前記潜像は加熱・加圧
   により配向させて設けたことを特徴とする請求項４記載
   の潜像を有するパスポート。
6. 【請求項６】請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記
   載の潜像を有するパスポートの製造において、前記顔写
   真等の目視確認情報とＯＣＲ文字等の機械確認情報を形
   成した後に、少なくとも前記潜像を形成した潜像画像形
   成層が積層されてある保護フィルムを貼り合わせること
   により製造することを特徴とする潜像を有するパスポー
   トの製造方法。
7. 【請求項７】前記保護フィルムが、ＯＶＤ画像を兼ねた
   光反射層と前記潜像画像形成層とが積層されてあること
   を特徴とする請求項６記載の潜像を有するパスポートの
   製造方法。
8. 【請求項８】請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記
   載の潜像を有するパスポート上の前記潜像を偏光フィル
   ムを介した目視によって潜像の確認を試みることを、パ
   スポートが正規のパスポートであるか否かの検証に利用
   することを特徴とするパスポートの検証方法。
9. 【請求項９】前記偏光フィルムが円偏光フィルムである
   ことを特徴とする請求項８記載のパスポートの検証方
   法。