JP2002366015A - 潜像形成可能な転写箔及び潜像を有する転写媒体 - Google Patents
潜像形成可能な転写箔及び潜像を有する転写媒体Info
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- JP2002366015A JP2002366015A JP2001172425A JP2001172425A JP2002366015A JP 2002366015 A JP2002366015 A JP 2002366015A JP 2001172425 A JP2001172425 A JP 2001172425A JP 2001172425 A JP2001172425 A JP 2001172425A JP 2002366015 A JP2002366015 A JP 2002366015A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2250/00—Laminate comprising a hologram layer
- G03H2250/10—Laminate comprising a hologram layer arranged to be transferred onto a carrier body
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- Polarising Elements (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、通常の状態では印刷インキよりなる
画像や反射・回折光が互いに干渉して再生されるホログ
ラム画像、更には回折格子画像等の画像が観察されるの
みであるが、専用の検証媒体を介して観察したときのみ
に潜像が可視化できるようにした転写箔及び転写媒体
で、特に潜像化された画像が検証媒体を介して観察した
時に明瞭に認識されるようにした潜像形成可能な転写箔
及び潜像を有する転写媒体の提供を目的とする。 【解決手段】基材上に、少なくとも剥離兼保護層、潜像
形成可能な高分子液晶層、金属反射層及び接着層を順次
積層すると共に、少なくとも金属反射層を透明蒸着膜と
反射膜の二層構成とする。
画像や反射・回折光が互いに干渉して再生されるホログ
ラム画像、更には回折格子画像等の画像が観察されるの
みであるが、専用の検証媒体を介して観察したときのみ
に潜像が可視化できるようにした転写箔及び転写媒体
で、特に潜像化された画像が検証媒体を介して観察した
時に明瞭に認識されるようにした潜像形成可能な転写箔
及び潜像を有する転写媒体の提供を目的とする。 【解決手段】基材上に、少なくとも剥離兼保護層、潜像
形成可能な高分子液晶層、金属反射層及び接着層を順次
積層すると共に、少なくとも金属反射層を透明蒸着膜と
反射膜の二層構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、通常の状態では印
刷インキよりなる画像や反射・回折光が互いに干渉して
再生されるホログラム画像や回折格子画像等の画像が観
察されるのみであるが、専用の検証媒体を介して観察し
たときには潜像が認識できるようにした、潜像形成可能
な転写箔及び潜像を有する転写媒体である。
刷インキよりなる画像や反射・回折光が互いに干渉して
再生されるホログラム画像や回折格子画像等の画像が観
察されるのみであるが、専用の検証媒体を介して観察し
たときには潜像が認識できるようにした、潜像形成可能
な転写箔及び潜像を有する転写媒体である。
【０００２】
【従来の技術】従来から、所望の部分に潜像を設け、必
要な時にその潜像を目視できるようにした潜像記録媒体
が種々ある。例えば万線のピッチの間隙を利用して潜像
（隠し文字等）を入れ、万線部分を検証媒体で隠蔽する
ことで潜像化していた像が現れるようにした万線画や、
フィラーを入れた透明インキで潜像を印刷し、鉛筆で潜
像部分を擦ると鉛筆の粉が印刷部分に付着して隠しパタ
ーン等が現れるようにした鉛筆出し印刷物（デコマッ
ト）等である。これらの潜像記録媒体は隠されている潜
像がよく観察すると分かってしまうため、本格的な潜像
記録媒体というよりは、遊び用として使用されている。
要な時にその潜像を目視できるようにした潜像記録媒体
が種々ある。例えば万線のピッチの間隙を利用して潜像
（隠し文字等）を入れ、万線部分を検証媒体で隠蔽する
ことで潜像化していた像が現れるようにした万線画や、
フィラーを入れた透明インキで潜像を印刷し、鉛筆で潜
像部分を擦ると鉛筆の粉が印刷部分に付着して隠しパタ
ーン等が現れるようにした鉛筆出し印刷物（デコマッ
ト）等である。これらの潜像記録媒体は隠されている潜
像がよく観察すると分かってしまうため、本格的な潜像
記録媒体というよりは、遊び用として使用されている。
【０００３】これらの潜像記録媒体中の潜像を記録する
ための画像記録用材料としては、不可逆性感熱発色イン
キ、フィラー含有の白色インキ、可逆性感熱発色イン
キ、フォトクロミックインキ、蛍光インキ、磁性イン
キ、赤外線吸収インキ等があり、種々の形態で使用され
ている。
ための画像記録用材料としては、不可逆性感熱発色イン
キ、フィラー含有の白色インキ、可逆性感熱発色イン
キ、フォトクロミックインキ、蛍光インキ、磁性イン
キ、赤外線吸収インキ等があり、種々の形態で使用され
ている。
【０００４】不可逆性感熱発色インキは熱を加えること
によって不可逆的に発色するインキであるが、このイン
キの白色もしくは無色透明タイプのものにより基材上に
潜像を形成して潜像記録媒体とする。しかし、このよう
な構成の潜像記録媒体は、潜像を表示させるためには熱
源装置が必要であり、しかも一回発色表示させた画像は
消色することができないため、用途が限定されている。
によって不可逆的に発色するインキであるが、このイン
キの白色もしくは無色透明タイプのものにより基材上に
潜像を形成して潜像記録媒体とする。しかし、このよう
な構成の潜像記録媒体は、潜像を表示させるためには熱
源装置が必要であり、しかも一回発色表示させた画像は
消色することができないため、用途が限定されている。
【０００５】また、フィラー含有の白色インキは、例え
ば酸化チタン等の金属よりも硬いフィラーを含有させた
白色インキであるが、このインキにより白色の紙に潜像
を印刷し、必要であればマット調のニスで潜像部分をオ
ーバーコートして潜像記録媒体とする。このような構成
の潜像記録媒体は潜像の部分をコイン等で擦ることによ
り所期の像を表示させることができるが、表示できるの
は一回限りであり用途が限定されている。
ば酸化チタン等の金属よりも硬いフィラーを含有させた
白色インキであるが、このインキにより白色の紙に潜像
を印刷し、必要であればマット調のニスで潜像部分をオ
ーバーコートして潜像記録媒体とする。このような構成
の潜像記録媒体は潜像の部分をコイン等で擦ることによ
り所期の像を表示させることができるが、表示できるの
は一回限りであり用途が限定されている。
【０００６】さらにまた、可逆性感熱発色インキ（サー
モクロミックインキ）は、熱をかけることにより可逆的
に発色もしくは消色するインキであり、加熱をやめて暫
く放置すると元の状態に戻るという特性を利用し、潜像
記録媒体中の潜像形成用材料として、あるいは画像を一
時的に隠蔽して潜像化するための隠蔽層形成用材料等と
して使用されている。しかしこのインキならびにこのイ
ンキにより潜像を記録した潜像記録媒体は、耐性、特に
耐熱性が弱く、用途が限定されている。
モクロミックインキ）は、熱をかけることにより可逆的
に発色もしくは消色するインキであり、加熱をやめて暫
く放置すると元の状態に戻るという特性を利用し、潜像
記録媒体中の潜像形成用材料として、あるいは画像を一
時的に隠蔽して潜像化するための隠蔽層形成用材料等と
して使用されている。しかしこのインキならびにこのイ
ンキにより潜像を記録した潜像記録媒体は、耐性、特に
耐熱性が弱く、用途が限定されている。
【０００７】さらにまた、フォトクロミックインキは、
光を照射することにより発色するインキで、白色もしく
は無色透明タイプのものが潜像記録媒体の潜像形成用材
料として使用されている。しかし、このインキならびに
このインキにより潜像を記録した潜像記録媒体は、耐
性、特に耐光性が弱く、用途が限定されている。
光を照射することにより発色するインキで、白色もしく
は無色透明タイプのものが潜像記録媒体の潜像形成用材
料として使用されている。しかし、このインキならびに
このインキにより潜像を記録した潜像記録媒体は、耐
性、特に耐光性が弱く、用途が限定されている。
【０００８】さらにまた、蛍光インキは紫外線等の活性
光線を照射することにより蛍光を発光するインキである
が、このインキの白色または無色透明タイプのもので潜
像を形成することがある。蛍光インキには有機タイプと
無機タイプのものがあるが、有機タイプのものはインキ
中にごく少量の有機系蛍光物質を含有するだけで発光が
確認されるが、耐光性が弱いために用途が限定されてい
る。また、無機タイプのものはインキ中に無機系蛍光物
質を多く入れる必要があり（１０〜２０％程度）、これ
により形成された潜像はそれ単独ではその存在が目視で
も分かってしまうため、デザイン等に工夫を凝らす必要
がある。
光線を照射することにより蛍光を発光するインキである
が、このインキの白色または無色透明タイプのもので潜
像を形成することがある。蛍光インキには有機タイプと
無機タイプのものがあるが、有機タイプのものはインキ
中にごく少量の有機系蛍光物質を含有するだけで発光が
確認されるが、耐光性が弱いために用途が限定されてい
る。また、無機タイプのものはインキ中に無機系蛍光物
質を多く入れる必要があり（１０〜２０％程度）、これ
により形成された潜像はそれ単独ではその存在が目視で
も分かってしまうため、デザイン等に工夫を凝らす必要
がある。
【０００９】さらにまた、磁性インキは磁性微粒子をイ
ンキ中に分散したものである。これを利用して潜像を形
成するには、まず磁気記録可能な保持力（約３００Ｏｅ
以上）のある磁性層を形成し、しかる後にこの磁性層の
一部をパターン状に磁化させればよい。そして、潜像の
可視化は、磁性層上に鉄粉等を振りかけ、磁化させた潜
像部分のみに選択的に吸着させてやればよい。しかし、
この方式では潜像を表示させる工程が煩雑であり、また
画像の書き換えが可能であり、用途が限定されている。
ンキ中に分散したものである。これを利用して潜像を形
成するには、まず磁気記録可能な保持力（約３００Ｏｅ
以上）のある磁性層を形成し、しかる後にこの磁性層の
一部をパターン状に磁化させればよい。そして、潜像の
可視化は、磁性層上に鉄粉等を振りかけ、磁化させた潜
像部分のみに選択的に吸着させてやればよい。しかし、
この方式では潜像を表示させる工程が煩雑であり、また
画像の書き換えが可能であり、用途が限定されている。
【００１０】さらにまた、赤外線を吸収するインキにて
画像を形成し、しかる後この画像を隠蔽して潜像化（目
視できないようにする）するための隠蔽層を赤外線は透
過する材料で設けてなる潜像記録媒体があるが、この隠
蔽されている潜像化画像を現出・表示させるためには赤
外線照射装置や赤外線カメラ等が必要であり、装置的に
大がかりとなる。また、可視光照射下では白色もしくは
無色で、赤外線域に吸収のあるインキ（ＩＶインキ）に
より潜像を形成した潜像記録媒体もあるが、これも前記
同様、潜像を可視化するためには赤外線カメラ等が必要
である。
画像を形成し、しかる後この画像を隠蔽して潜像化（目
視できないようにする）するための隠蔽層を赤外線は透
過する材料で設けてなる潜像記録媒体があるが、この隠
蔽されている潜像化画像を現出・表示させるためには赤
外線照射装置や赤外線カメラ等が必要であり、装置的に
大がかりとなる。また、可視光照射下では白色もしくは
無色で、赤外線域に吸収のあるインキ（ＩＶインキ）に
より潜像を形成した潜像記録媒体もあるが、これも前記
同様、潜像を可視化するためには赤外線カメラ等が必要
である。
【００１１】一方、ピッチもしくは角度を部分的に変え
た網点や万線で構成される潜像を通常の印刷インキによ
り形成することもある。このような構成の潜像の可視化
は、整然と並んだ網点もしくは万線を設けた透明フィル
ムをこの潜像上にモアレを発生するように重ね合わせた
り、あるいは潜像以外の万線部分を前記した透明フィル
ムの万線部分で隠蔽するように重ね合わせて行ってい
た。この場合、潜像ならびに潜像記録媒体の構成が簡単
で、しかも潜像の現出、消去が繰り返し行えるが、複雑
な形状の潜像パターンを形成できないという問題があ
る。
た網点や万線で構成される潜像を通常の印刷インキによ
り形成することもある。このような構成の潜像の可視化
は、整然と並んだ網点もしくは万線を設けた透明フィル
ムをこの潜像上にモアレを発生するように重ね合わせた
り、あるいは潜像以外の万線部分を前記した透明フィル
ムの万線部分で隠蔽するように重ね合わせて行ってい
た。この場合、潜像ならびに潜像記録媒体の構成が簡単
で、しかも潜像の現出、消去が繰り返し行えるが、複雑
な形状の潜像パターンを形成できないという問題があ
る。
【００１２】他方、従来から、ホログラム画像や回折格
子画像等は光の回折・干渉効果を用いて立体画像や特殊
な装飾画像を表現でき、その製造方法は高度な製造技術
を要するため、偽造防止手段として、クレジットカー
ド、有価証券、証明書類等の一部あるいは全面に使用さ
れている。
子画像等は光の回折・干渉効果を用いて立体画像や特殊
な装飾画像を表現でき、その製造方法は高度な製造技術
を要するため、偽造防止手段として、クレジットカー
ド、有価証券、証明書類等の一部あるいは全面に使用さ
れている。
【００１３】ホログラムは製造方法により、レリーフ型
ホログラム及び体積型ホログラムに分けられる。レリー
フ型ホログラムは、光学的撮影方法により微細な凹凸パ
ターンからなるレリーフ型のマスターホログラムを作製
し、さらにこれから電気メッキ法により凹凸パターンを
複製してニッケル製のプレス版を作製し、しかる後この
プレス版をホログラム形成層上に加熱押圧して製造する
ものである。一方、体積型ホログラムは、感光性樹脂等
の記録材料を用いて、体積方向に干渉縞を記録したもの
である。この型のホログラムでは、リップマンホログラ
ムと呼ばれるものが一般に使用されており、感光性樹脂
の屈折率を体積方向に変化させ、反射型ホログラムとし
たものである。
ホログラム及び体積型ホログラムに分けられる。レリー
フ型ホログラムは、光学的撮影方法により微細な凹凸パ
ターンからなるレリーフ型のマスターホログラムを作製
し、さらにこれから電気メッキ法により凹凸パターンを
複製してニッケル製のプレス版を作製し、しかる後この
プレス版をホログラム形成層上に加熱押圧して製造する
ものである。一方、体積型ホログラムは、感光性樹脂等
の記録材料を用いて、体積方向に干渉縞を記録したもの
である。この型のホログラムでは、リップマンホログラ
ムと呼ばれるものが一般に使用されており、感光性樹脂
の屈折率を体積方向に変化させ、反射型ホログラムとし
たものである。
【００１４】また、回折格子画像は回折格子からなる微
少セルが回折形成層表面に複数配置されて形成され、回
折格子の空間周波数、回折格子の方向、各セルの並び方
の少なくとも何れかを変化させてなる画像であり、前述
したホログラム同様、偽造防止の有効な手段としてカー
ドや印刷物等の分野で採用されている。
少セルが回折形成層表面に複数配置されて形成され、回
折格子の空間周波数、回折格子の方向、各セルの並び方
の少なくとも何れかを変化させてなる画像であり、前述
したホログラム同様、偽造防止の有効な手段としてカー
ドや印刷物等の分野で採用されている。
【００１５】しかし、これらのホログラム画像や回折格
子画像は、上述したように偽造防止のための手段として
は有効なものではあるが、必要に応じて何処にでも簡単
に形成されるものではなく、しかも最近は、複製技術の
進歩により、ホログラムや回折格子画像を有する画像記
録媒体の真正品に近似する複製物も得られるようになっ
てきている。
子画像は、上述したように偽造防止のための手段として
は有効なものではあるが、必要に応じて何処にでも簡単
に形成されるものではなく、しかも最近は、複製技術の
進歩により、ホログラムや回折格子画像を有する画像記
録媒体の真正品に近似する複製物も得られるようになっ
てきている。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
状況に鑑みなされたものであり、通常の状態では印刷イ
ンキよりなる画像や反射・回折光が互いに干渉して再生
されるホログラム画像、更には回折格子画像等の画像が
観察されるのみであるが、専用の検証媒体を介して観察
したときのみに潜像が形成・可視化できるようにした転
写箔及び転写媒体で、特に潜像化された画像が検証媒体
を介して観察した時に明瞭に認識されるようにした潜像
形成可能な転写箔及び潜像を有する転写媒体の提供を目
的とする。
状況に鑑みなされたものであり、通常の状態では印刷イ
ンキよりなる画像や反射・回折光が互いに干渉して再生
されるホログラム画像、更には回折格子画像等の画像が
観察されるのみであるが、専用の検証媒体を介して観察
したときのみに潜像が形成・可視化できるようにした転
写箔及び転写媒体で、特に潜像化された画像が検証媒体
を介して観察した時に明瞭に認識されるようにした潜像
形成可能な転写箔及び潜像を有する転写媒体の提供を目
的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するためになされたもので、請求項１に記載の発明は、
少なくとも基材上に、剥離兼保護層、潜像形成可能な高
分子液晶層、金属反射層及び接着層を順次積層してな
り、少なくとも金属反射層が透明蒸着膜と反射膜からな
ることを特徴とする。
するためになされたもので、請求項１に記載の発明は、
少なくとも基材上に、剥離兼保護層、潜像形成可能な高
分子液晶層、金属反射層及び接着層を順次積層してな
り、少なくとも金属反射層が透明蒸着膜と反射膜からな
ることを特徴とする。
【００１８】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の潜像形成可能な転写箔において、剥離兼保護層
と潜像形成可能な高分子液晶層との間には回折形成構造
層が設けてあることを特徴とする。
に記載の潜像形成可能な転写箔において、剥離兼保護層
と潜像形成可能な高分子液晶層との間には回折形成構造
層が設けてあることを特徴とする。
【００１９】さらにまた、請求項３に記載の発明は、請
求項１または請求項２に記載の潜像形成可能な転写箔に
おいて、潜像形成可能な高分子液晶層がサーモトロピッ
ク性を有する高分子液晶材料からなることを特徴とす
る。
求項１または請求項２に記載の潜像形成可能な転写箔に
おいて、潜像形成可能な高分子液晶層がサーモトロピッ
ク性を有する高分子液晶材料からなることを特徴とす
る。
【００２０】さらにまた、請求項４に記載の発明は、請
求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の潜像形成
可能な転写箔において、金属反射層が金属材料からなる
透明蒸着膜と反射膜からなることを特徴とする。
求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の潜像形成
可能な転写箔において、金属反射層が金属材料からなる
透明蒸着膜と反射膜からなることを特徴とする。
【００２１】さらにまた、請求項５に記載の発明は、請
求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の潜像形成
可能な転写箔において、潜像形成可能な液晶高分子層に
は高分子材料からなる液晶配向促進層積層してあること
を特徴とする。
求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の潜像形成
可能な転写箔において、潜像形成可能な液晶高分子層に
は高分子材料からなる液晶配向促進層積層してあること
を特徴とする。
【００２２】さらにまた、請求項６に記載の発明は、請
求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の潜像形成
可能な転写箔において、回折形成構造層には高屈折材料
からなる高屈折率層が積層してあることを特徴とする。
求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の潜像形成
可能な転写箔において、回折形成構造層には高屈折材料
からなる高屈折率層が積層してあることを特徴とする。
【００２３】さらにまた、請求項７に記載の発明は、請
求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の潜像形成
可能な転写箔において、接着層が少なくとも熱可塑性樹
脂と体質顔料を主体とすることを特徴とする。
求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の潜像形成
可能な転写箔において、接着層が少なくとも熱可塑性樹
脂と体質顔料を主体とすることを特徴とする。
【００２４】さらにまた、請求項８に記載の発明は、少
なくとも剥離兼保護層、潜像形成可能な高分子液晶層、
金属反射層及び接着層が基材上に順次積層してなると共
に、少なくとも金属反射層が透明蒸着膜と反射膜からな
ることを特徴とする潜像形成可能な転写箔の接着層、金
属反射層、潜像形成可能な高分子液晶層及び剥離兼保護
層をこの順序で熱圧転写し、潜像形成可能な高分子液晶
層には潜像が形成してあることを特徴とする。
なくとも剥離兼保護層、潜像形成可能な高分子液晶層、
金属反射層及び接着層が基材上に順次積層してなると共
に、少なくとも金属反射層が透明蒸着膜と反射膜からな
ることを特徴とする潜像形成可能な転写箔の接着層、金
属反射層、潜像形成可能な高分子液晶層及び剥離兼保護
層をこの順序で熱圧転写し、潜像形成可能な高分子液晶
層には潜像が形成してあることを特徴とする。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施の
形態によって詳細に説明する。図１は本発明の実施の形
態の一例を示す潜像形成可能な転写箔１の概略断面説明
図である。本発明の潜像形成可能な転写箔１は、基本的
には、基材１１上に剥離兼保護層１２と潜像形成可能な
高分子液晶層１５、金属反射層１９及び接着層１８がこ
の順序で少なくとも積層されてなり、金属反射層１９は
少なくとも透明蒸着膜１６と反射膜１７とからなるもの
である。図１に示す潜像形成可能な転写箔１において
は、剥離兼保護層１２と高分子液晶層１５との間に回折
形成構造層１３と高屈折率層１４とが更に積層されてい
る。
形態によって詳細に説明する。図１は本発明の実施の形
態の一例を示す潜像形成可能な転写箔１の概略断面説明
図である。本発明の潜像形成可能な転写箔１は、基本的
には、基材１１上に剥離兼保護層１２と潜像形成可能な
高分子液晶層１５、金属反射層１９及び接着層１８がこ
の順序で少なくとも積層されてなり、金属反射層１９は
少なくとも透明蒸着膜１６と反射膜１７とからなるもの
である。図１に示す潜像形成可能な転写箔１において
は、剥離兼保護層１２と高分子液晶層１５との間に回折
形成構造層１３と高屈折率層１４とが更に積層されてい
る。
【００２６】ここで、基材１１は、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボ
ネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等の合
成樹脂、天然樹脂等のフィルム、合成紙、紙、薄膜ガラ
スあるいはこれらの材料から選択されたものを適宜組み
合わせた複合体等からなる。
タレート、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボ
ネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等の合
成樹脂、天然樹脂等のフィルム、合成紙、紙、薄膜ガラ
スあるいはこれらの材料から選択されたものを適宜組み
合わせた複合体等からなる。
【００２７】一方、この基材１１上の剥離兼保護層１２
は、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ゴム樹脂、あるいはこ
の塩化ゴム樹脂とニトロセルロース、アセチルセルロー
ス、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレン又
は塩酢ビ樹脂の混合物等からなる。また、これらの材料
にメラミン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂あるい
は尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を加えた材料により構成し
てもよい。この剥離兼保護層はこれらの層構成材料をグ
ラビア法やマイクログラビア法などの公知のコーティン
グ法を用いて０．１μｍから１０μｍの厚さで基材１１
上にコーティングすることにより形成する。
は、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ゴム樹脂、あるいはこ
の塩化ゴム樹脂とニトロセルロース、アセチルセルロー
ス、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレン又
は塩酢ビ樹脂の混合物等からなる。また、これらの材料
にメラミン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂あるい
は尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を加えた材料により構成し
てもよい。この剥離兼保護層はこれらの層構成材料をグ
ラビア法やマイクログラビア法などの公知のコーティン
グ法を用いて０．１μｍから１０μｍの厚さで基材１１
上にコーティングすることにより形成する。
【００２８】この剥離兼保護層１２は、図３に示すよう
に、この転写箔１を被転写基材３上に熱圧転写をし、転
写媒体４を得た時、基材１１側から剥離し、転写された
転写部２を保護する役割を果たす層であるが、基材１１
から剥がれにくい場合には、基材１１と剥離兼保護層１
２との間に基材１１との密着はよいが剥離兼保護層１２
との密着は悪い離型層をさらに設けてもよい。この離型
層は剥離兼保護層と同様に、所謂離型剤をグラビア法や
マイクログラビア法などの公知のコーティング法を用い
て０．１μｍから１０μｍの厚さでコーティングして設
ければよい。
に、この転写箔１を被転写基材３上に熱圧転写をし、転
写媒体４を得た時、基材１１側から剥離し、転写された
転写部２を保護する役割を果たす層であるが、基材１１
から剥がれにくい場合には、基材１１と剥離兼保護層１
２との間に基材１１との密着はよいが剥離兼保護層１２
との密着は悪い離型層をさらに設けてもよい。この離型
層は剥離兼保護層と同様に、所謂離型剤をグラビア法や
マイクログラビア法などの公知のコーティング法を用い
て０．１μｍから１０μｍの厚さでコーティングして設
ければよい。
【００２９】一方、剥離兼保護層１２上に形成されてい
るのが回折形成構造層１３である。この回折形成構造層
１３はここに照射されて反射されたり、回折される光が
互いに干渉して再生される画像、すなわちホログラム画
像や回折格子画像が観察されるようにした層である。
るのが回折形成構造層１３である。この回折形成構造層
１３はここに照射されて反射されたり、回折される光が
互いに干渉して再生される画像、すなわちホログラム画
像や回折格子画像が観察されるようにした層である。
【００３０】ここで、回折格子画像とは、回折格子から
なる微少セルが複数配置されて構成され、回折格子の空
間周波数、回折格子の方向、各セルの並べ方の少なくと
も何れかを変化させてなる画像構成部分に光を照射した
ときの反射・回折光が互いに干渉して再生される画像で
ある。
なる微少セルが複数配置されて構成され、回折格子の空
間周波数、回折格子の方向、各セルの並べ方の少なくと
も何れかを変化させてなる画像構成部分に光を照射した
ときの反射・回折光が互いに干渉して再生される画像で
ある。
【００３１】回折形成構造層１３は上述したようにこれ
らの回折格子画像やホログラムが再生されるようにした
層で、ホログラム画像や回折格子画像等を再生させるた
めの干渉縞や微少凹凸が安定的に成形可能な材料で形成
すればよく、熱プレスによる成形性が良好で、プレスム
ラが生じ難く、明るい再生像が得られるような材料から
なる。具体的には、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂等の熱可塑性樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の熱
硬化性樹脂、あるいはラジカル重合性不飽和基を有する
紫外線や電子線硬化性樹脂或いはこれらの複合材料等で
ある。
らの回折格子画像やホログラムが再生されるようにした
層で、ホログラム画像や回折格子画像等を再生させるた
めの干渉縞や微少凹凸が安定的に成形可能な材料で形成
すればよく、熱プレスによる成形性が良好で、プレスム
ラが生じ難く、明るい再生像が得られるような材料から
なる。具体的には、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂等の熱可塑性樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の熱
硬化性樹脂、あるいはラジカル重合性不飽和基を有する
紫外線や電子線硬化性樹脂或いはこれらの複合材料等で
ある。
【００３２】このような回折形成構造層１３上には、図
１に示すように必要に応じて高屈折率層１４がさらに設
けてある。この高屈折率層１４はホログラム画像や回折
格子画像の再生時における回折効率を高め、より鮮明な
画像の再生や色の変化が得られるようにするために設け
るものである。
１に示すように必要に応じて高屈折率層１４がさらに設
けてある。この高屈折率層１４はホログラム画像や回折
格子画像の再生時における回折効率を高め、より鮮明な
画像の再生や色の変化が得られるようにするために設け
るものである。
【００３３】この高屈折率層１４はホログラム画像や回
折格子画像等を再生させるための干渉縞や微少凹凸が形
成されている回折形成構造層１３の構成材料よりも屈折
率や反射効果が高く、しかも下部の高分子液晶層１５の
存在が認識できる程度の透明性は少なくとも有する材料
で形成する。
折格子画像等を再生させるための干渉縞や微少凹凸が形
成されている回折形成構造層１３の構成材料よりも屈折
率や反射効果が高く、しかも下部の高分子液晶層１５の
存在が認識できる程度の透明性は少なくとも有する材料
で形成する。
【００３４】具体的には、屈折率の異なるＴｉＯ2、Ｓ
ｉ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＳ等の高屈折率材料や
反射効果がより高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａ
ｕ等の金属材料を単層であるいは積層して設ける。この
層は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成方
法にて形成するが、その膜厚は用途によって異なるが、
５〜１０００ｎｍ程度であればよい。上記以外でも、高
屈折率層１４を構成する材料としては、その屈折率が、
回折形成構造層１３で使用する高分子材料（屈折率ｎ＝
１．３〜１．５）よりも高い材料であれば、上記の無機
材料以外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機
系フィラーを分散したものであっても使用可能である。
これらの材料によりグラビアコート、ダイコート、スク
リーン印刷等の公知のコーティング法や印刷法にて形成
すればよい。さらに、上記以外の材料であっても後述す
る高分子液晶層１５中の潜像を確認する際に支障のない
程度の透明性を有する材料であれば、適宜使用すること
が可能である。
ｉ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＳ等の高屈折率材料や
反射効果がより高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａ
ｕ等の金属材料を単層であるいは積層して設ける。この
層は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成方
法にて形成するが、その膜厚は用途によって異なるが、
５〜１０００ｎｍ程度であればよい。上記以外でも、高
屈折率層１４を構成する材料としては、その屈折率が、
回折形成構造層１３で使用する高分子材料（屈折率ｎ＝
１．３〜１．５）よりも高い材料であれば、上記の無機
材料以外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機
系フィラーを分散したものであっても使用可能である。
これらの材料によりグラビアコート、ダイコート、スク
リーン印刷等の公知のコーティング法や印刷法にて形成
すればよい。さらに、上記以外の材料であっても後述す
る高分子液晶層１５中の潜像を確認する際に支障のない
程度の透明性を有する材料であれば、適宜使用すること
が可能である。
【００３５】一方、高屈折率層１４上に形成されてい
る、潜像形成可能な高分子液晶層１５はその一部の分子
配列を特定方向に配向させて潜像を記録、形成できるよ
うになっており、専用の検証媒体を介して観察したとき
のみにその潜像化されていた画像が認識できるようにし
た層である。
る、潜像形成可能な高分子液晶層１５はその一部の分子
配列を特定方向に配向させて潜像を記録、形成できるよ
うになっており、専用の検証媒体を介して観察したとき
のみにその潜像化されていた画像が認識できるようにし
た層である。
【００３６】この高分子液晶層１５は、例えばポリエス
テル共重合体、ポリエーテル、ポリカーボネイト、ポリ
イソシアネート、ポリグルタミン酸エステル等のサーモ
トロピック性を有する高分子液晶材料からなるものであ
り、例えばグラビア印刷法、スクリーン印刷法等の印刷
手段やノズルコーター法等の塗布手段等の既知の層形成
手段により形成すればよい。
テル共重合体、ポリエーテル、ポリカーボネイト、ポリ
イソシアネート、ポリグルタミン酸エステル等のサーモ
トロピック性を有する高分子液晶材料からなるものであ
り、例えばグラビア印刷法、スクリーン印刷法等の印刷
手段やノズルコーター法等の塗布手段等の既知の層形成
手段により形成すればよい。
【００３７】これらのサーモトロピック性を示す高分子
液晶材料等からなる高分子液晶層１５は、通常に形成し
た状態では特定の結晶構造を有してないランダムな分子
配列状態になっている。このような分子配列状態にて形
成されている高分子液晶の層に対してサーマルヘッド、
レーザービーム、ホットスタンパー等により部分的に熱
を加え、その部分を溶融すると、その部分に一定方向の
配向が生じ、加熱部分に対応した潜像が形成されること
になる。この潜像はそのままではその存在が確認されな
いが、偏光フィルムや偏光フィルター等の検証媒体を介
して観察すると、認識されるようになる。
液晶材料等からなる高分子液晶層１５は、通常に形成し
た状態では特定の結晶構造を有してないランダムな分子
配列状態になっている。このような分子配列状態にて形
成されている高分子液晶の層に対してサーマルヘッド、
レーザービーム、ホットスタンパー等により部分的に熱
を加え、その部分を溶融すると、その部分に一定方向の
配向が生じ、加熱部分に対応した潜像が形成されること
になる。この潜像はそのままではその存在が確認されな
いが、偏光フィルムや偏光フィルター等の検証媒体を介
して観察すると、認識されるようになる。
【００３８】この時の状況が図２に示してある。図２の
（ａ）は、図３に示すように、被転写基材３に図１に示
す転写箔の転写部２を被転写基材３上に熱圧転写して得
られた転写媒体４の状態を示す平面説明図であり、図２
の（ｂ）は、その時の状態を検証媒体６で観察している
時の状態を示す平面説明図である。被転写基材３上に転
写された転写部２は、図２の（ａ）に示すように、単に
目視しただけでは潜像が確認できず、ホログラム画像や
回折格子画像等の再生画像５１が認識されるだけであ
る。しかしながら、図２の（ｂ）に示すようにこの潜像
部２を検証媒体６を介して観察すると潜像化されていた
画像５が出現する。この部分は高分子液晶層１５の一部
を熱、電気、磁気エネルギー等で選択的に配向した部分
である。
（ａ）は、図３に示すように、被転写基材３に図１に示
す転写箔の転写部２を被転写基材３上に熱圧転写して得
られた転写媒体４の状態を示す平面説明図であり、図２
の（ｂ）は、その時の状態を検証媒体６で観察している
時の状態を示す平面説明図である。被転写基材３上に転
写された転写部２は、図２の（ａ）に示すように、単に
目視しただけでは潜像が確認できず、ホログラム画像や
回折格子画像等の再生画像５１が認識されるだけであ
る。しかしながら、図２の（ｂ）に示すようにこの潜像
部２を検証媒体６を介して観察すると潜像化されていた
画像５が出現する。この部分は高分子液晶層１５の一部
を熱、電気、磁気エネルギー等で選択的に配向した部分
である。
【００３９】潜像の可視化の際に使用される検証媒体６
とは、具体的には偏光フィルムや偏光フィルター等であ
る。偏光フィルムや偏光フィルターのタイプには、ＰＶ
Ａ延伸フィルムにヨードを吸収させたＰＶＡ−ヨウ素
型、二色性染料型、金属または金属化合物含有型、ポリ
エン型などの高分子多結晶型等種々のものがあるが、こ
れらの中から適宜のものを選択して図２のｂに示すよう
に潜像の部分に重ね合わせて使用すればよい。偏光フィ
ルムには、前記偏光フィルムに１／４波長フィルムを重
ねた円偏光フィルムもあるが、この円偏光フィルムを用
いることで観察角度に依存することなく、潜像を可視画
像として容易に現出させることが可能となる。
とは、具体的には偏光フィルムや偏光フィルター等であ
る。偏光フィルムや偏光フィルターのタイプには、ＰＶ
Ａ延伸フィルムにヨードを吸収させたＰＶＡ−ヨウ素
型、二色性染料型、金属または金属化合物含有型、ポリ
エン型などの高分子多結晶型等種々のものがあるが、こ
れらの中から適宜のものを選択して図２のｂに示すよう
に潜像の部分に重ね合わせて使用すればよい。偏光フィ
ルムには、前記偏光フィルムに１／４波長フィルムを重
ねた円偏光フィルムもあるが、この円偏光フィルムを用
いることで観察角度に依存することなく、潜像を可視画
像として容易に現出させることが可能となる。
【００４０】また、叙述の高分子液晶層１５上に積層し
てある金属反射層１９は、高分子液晶層１５を透過して
きた照射光を反射させるための層であり、少なくとも透
明蒸着膜１６と反射膜１７とからなる。
てある金属反射層１９は、高分子液晶層１５を透過して
きた照射光を反射させるための層であり、少なくとも透
明蒸着膜１６と反射膜１７とからなる。
【００４１】透明蒸着膜１６は、例えば透明性を有する
各種セラミックを用いることができる。例えば、Ｆｅ2
Ｏ3、ＴｉＯ2、ＣｄＳ、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、ＰｄＣｌ2、
ＣｄＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＷＯ3、ＳｉＯ、Ｓｉ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ
3、Ｐｂ０2、Ｔａ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＭｇＯ、Ｓｉ
Ｏ2、ＭｇＦ2、ＣｅＦ3、ＣａＦ2、ＡｌＦ3、Ａｌ
2Ｏ 3、ＧａＯ等により形成する。形成方法は公知の手法
を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるい
は光学膜厚（＝ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの
制御が可能な、通常の真空蒸着法、スパッタリング法な
どの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出
法を用いることができる。膜厚は５〜１０００ｎｍ程度
とすればよい。この透明蒸着層１６を設けることで、前
記した高分子液晶層１５を加圧・加熱して液晶の分子配
列を部分的に配向させて潜像を形成する時、配向に伴う
歪みがその下の金属反射層１９に及ぶことがなくなり、
明瞭な潜像とすることが可能となる。しかも、転写部の
表面状態が安定し、回折形成構造層１３の安定化ならび
にこの回折形成構造層１３におけるホログラム画像や回
折画像の鮮鋭な再現が可能となる。
各種セラミックを用いることができる。例えば、Ｆｅ2
Ｏ3、ＴｉＯ2、ＣｄＳ、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、ＰｄＣｌ2、
ＣｄＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＷＯ3、ＳｉＯ、Ｓｉ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ
3、Ｐｂ０2、Ｔａ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＭｇＯ、Ｓｉ
Ｏ2、ＭｇＦ2、ＣｅＦ3、ＣａＦ2、ＡｌＦ3、Ａｌ
2Ｏ 3、ＧａＯ等により形成する。形成方法は公知の手法
を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるい
は光学膜厚（＝ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの
制御が可能な、通常の真空蒸着法、スパッタリング法な
どの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出
法を用いることができる。膜厚は５〜１０００ｎｍ程度
とすればよい。この透明蒸着層１６を設けることで、前
記した高分子液晶層１５を加圧・加熱して液晶の分子配
列を部分的に配向させて潜像を形成する時、配向に伴う
歪みがその下の金属反射層１９に及ぶことがなくなり、
明瞭な潜像とすることが可能となる。しかも、転写部の
表面状態が安定し、回折形成構造層１３の安定化ならび
にこの回折形成構造層１３におけるホログラム画像や回
折画像の鮮鋭な再現が可能となる。
【００４２】ここで、金属反射層１９を構成する反射膜
１７は、反射性を有するものであれば特に限定されるも
のではなく、各種金属、合金等を用いることができる。
例えば金属としてＡｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ等があ
り、合金としてはＰｔ−Ｒｈ、Ｎｉ−Ｃｒ等がある。こ
の反射層１７は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の
薄膜形成技術にて形成され、膜厚は５〜５００ｎｍ程度
とすればよい。
１７は、反射性を有するものであれば特に限定されるも
のではなく、各種金属、合金等を用いることができる。
例えば金属としてＡｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ等があ
り、合金としてはＰｔ−Ｒｈ、Ｎｉ−Ｃｒ等がある。こ
の反射層１７は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の
薄膜形成技術にて形成され、膜厚は５〜５００ｎｍ程度
とすればよい。
【００４３】一方、接着層１８は転写時に転写箔１の基
材１１以外の転写部２を転写対象となるカードや預金通
帳等の被転写基材３上に熱圧転写し接着するための層で
あり、接着成分と脆性成分である体質顔料やゴム系樹脂
等をグラビア印刷法やマイクログラビア印刷法などの公
知のコーティング法を用いて１μｍから１０μｍの厚さ
で形成する。
材１１以外の転写部２を転写対象となるカードや預金通
帳等の被転写基材３上に熱圧転写し接着するための層で
あり、接着成分と脆性成分である体質顔料やゴム系樹脂
等をグラビア印刷法やマイクログラビア印刷法などの公
知のコーティング法を用いて１μｍから１０μｍの厚さ
で形成する。
【００４４】本発明に係る潜像形成可能な転写箔は以上
のような構成であり、接着層を被転写基材の所望部分に
熱圧転写して接着させ、しかる後に基材を剥離させて使
用する。このようにして得られた転写媒体の状態を示す
のが図３である。
のような構成であり、接着層を被転写基材の所望部分に
熱圧転写して接着させ、しかる後に基材を剥離させて使
用する。このようにして得られた転写媒体の状態を示す
のが図３である。
【００４５】一方、図４から図７は本発明の他の実施の
形態に係る潜像形成可能な転写箔７、１０とそれらを使
用して得られた転写媒体８、４１の状態を示す説明図で
ある。これらの潜像を有する転写箔７、１０は、図１に
示す潜像を有する転写箔１と同じように、基材２０、３
０上に少なくとも剥離兼保護層２１、３１、回折形成構
造層２２、３２、高屈折率層２３、３３、潜像形成可能
な高分子液晶層２５、３６、金属反射層５３、５４及び
に接着層２８、３９がこの順序で積層されている。転写
箔１と転写箔７とにおいて異なるのは、高分子液晶層２
５の上下にアンカー層２４１、２４２がそれぞれ形成さ
れている点である。また、転写箔１と転写箔１０とにお
いて異なるのは、高屈折率層３３と高分子液晶層３６と
の間にアンカー層３４と液晶配向促進層３５が形成され
ている点である。
形態に係る潜像形成可能な転写箔７、１０とそれらを使
用して得られた転写媒体８、４１の状態を示す説明図で
ある。これらの潜像を有する転写箔７、１０は、図１に
示す潜像を有する転写箔１と同じように、基材２０、３
０上に少なくとも剥離兼保護層２１、３１、回折形成構
造層２２、３２、高屈折率層２３、３３、潜像形成可能
な高分子液晶層２５、３６、金属反射層５３、５４及び
に接着層２８、３９がこの順序で積層されている。転写
箔１と転写箔７とにおいて異なるのは、高分子液晶層２
５の上下にアンカー層２４１、２４２がそれぞれ形成さ
れている点である。また、転写箔１と転写箔１０とにお
いて異なるのは、高屈折率層３３と高分子液晶層３６と
の間にアンカー層３４と液晶配向促進層３５が形成され
ている点である。
【００４６】アンカー層２４１、２４２、３４は、それ
を挟む層同士をしっかりと接着させるために必要に応じ
て設けるものである。その構成材料としては熱可塑性樹
脂が好ましく、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹脂等の単
体或いは共重合体の単独もしくはこれらの複合材料が使
用可能であるが、必ずしもこれに限定されるものではな
い。アンカー層はこれらのアンカー層構成材料により、
例えばグラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルコー
ター法等の既知の塗布手段等により形成すればよい。
を挟む層同士をしっかりと接着させるために必要に応じ
て設けるものである。その構成材料としては熱可塑性樹
脂が好ましく、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹脂等の単
体或いは共重合体の単独もしくはこれらの複合材料が使
用可能であるが、必ずしもこれに限定されるものではな
い。アンカー層はこれらのアンカー層構成材料により、
例えばグラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルコー
ター法等の既知の塗布手段等により形成すればよい。
【００４７】また、液晶配向促進層３５は、ポリイミ
ド、ポリビニルアルコール等からなる層であり、耐熱性
を有すると共に、これに隣接して設けてある高分子液晶
層３６における潜像形成時に、分子配列が効率よく配向
するように必要に応じて設ける層である。
ド、ポリビニルアルコール等からなる層であり、耐熱性
を有すると共に、これに隣接して設けてある高分子液晶
層３６における潜像形成時に、分子配列が効率よく配向
するように必要に応じて設ける層である。
【００４８】このような構成の転写箔７、１０を用い、
被転写基材２９、４２にその転写部９、４０を熱圧転写
して得られた転写媒体の状態を示すのが図５と図７であ
る。
被転写基材２９、４２にその転写部９、４０を熱圧転写
して得られた転写媒体の状態を示すのが図５と図７であ
る。
【００４９】一方、図８は本発明の潜像を有する転写媒
体の転写部に偏光フィルム４３を重ね合わせて高分子液
晶層４４中の潜像を観察しているときの、偏光フィルム
４３、高分子液晶層４４及び金属反射層４５の３層間の
光路状態を概念的に説明した図である。光源４６から照
射された白色照射光４７は偏光フィルム４３を透過して
直線偏光となり、さらに部分的に分子配向に異方性をも
たせた透明性を有する高分子液晶層４４を透過していく
と楕円偏光に変わり、金属反射層４５により反射され
る。反射された楕円偏光は再度偏光フィルム４３を透過
して透過反射光４８として戻ってくる。この透過反射光
４８は波長によって光の強さが異なるため、多彩な色相
を有する画像が目視できるようになる。また、偏光フィ
ルム４３の配向方向と分子配向された高分子液晶層４４
との角度によっても見える色相が異なってくる。
体の転写部に偏光フィルム４３を重ね合わせて高分子液
晶層４４中の潜像を観察しているときの、偏光フィルム
４３、高分子液晶層４４及び金属反射層４５の３層間の
光路状態を概念的に説明した図である。光源４６から照
射された白色照射光４７は偏光フィルム４３を透過して
直線偏光となり、さらに部分的に分子配向に異方性をも
たせた透明性を有する高分子液晶層４４を透過していく
と楕円偏光に変わり、金属反射層４５により反射され
る。反射された楕円偏光は再度偏光フィルム４３を透過
して透過反射光４８として戻ってくる。この透過反射光
４８は波長によって光の強さが異なるため、多彩な色相
を有する画像が目視できるようになる。また、偏光フィ
ルム４３の配向方向と分子配向された高分子液晶層４４
との角度によっても見える色相が異なってくる。
【００５０】
【実施例】本発明を、具体的な実施例を挙げて詳細に説
明する。
明する。
【００５１】＜実施例１＞厚さ１６μｍのＰＥＴ基材上
に下記［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材料
インキを用い、乾燥温度８０℃、塗布厚１．０μｍの条
件でグラビア印刷をし、剥離兼保護層を形成した。次
に、この剥離兼保護層の上に、下記［回折形成構造層
（ホログラム形成層）の組成］からなる回折形成構造材
料インキを用い、乾燥温度８０℃、塗布厚０．６μｍの
条件でグラビア印刷をし、回折構造形成層を形成した。
次いで、ホログラムレリーフパターンを有するニッケル
製の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロールエンボ
ス法により、前記工程で形成した回折形成構造層（ホロ
グラム形成層）上に押圧することで、回折形成構造層
（ホログラム形成層）上にレリーフパターンを形成し
た。続いて、上記方法でレリーフパターンを形成した回
折形成構造層（ホログラム形成層）上に、真空蒸着法を
用いて膜厚０．０５μｍのＺｎＳからなる高屈折率層を
形成した。さらにその上に、下記［高分子液晶層の組
成］からなるサーモトロピック性高分子液晶材料インキ
を用い、グラビア印刷法にて、「ＡＢＣ」の文字柄を形
成し、乾燥温度６０℃で乾燥した。文字柄の印刷膜厚は
０．５μｍであった。次に、高分子液晶層上に、真空蒸
着法により膜厚２００ｎｍのＭｇＦ2からなる透明蒸着
膜を設けた。更にその上に、真空蒸着法により約７５ｎ
ｍのＡｌからなる反射膜を形成した。そして最後に、下
記［接着層の組成］からなる接着材料インキを用い、グ
ラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗布厚２．０μｍ
の条件で接着層を形成し、高分子液晶転写箔を得た。こ
の高分子液晶転写箔を被転写媒体上に重ね、１２０℃、
０．２秒間の条件でホットスタンプにて熱圧をかけて転
写し、潜像を有する転写媒体を得た。
に下記［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材料
インキを用い、乾燥温度８０℃、塗布厚１．０μｍの条
件でグラビア印刷をし、剥離兼保護層を形成した。次
に、この剥離兼保護層の上に、下記［回折形成構造層
（ホログラム形成層）の組成］からなる回折形成構造材
料インキを用い、乾燥温度８０℃、塗布厚０．６μｍの
条件でグラビア印刷をし、回折構造形成層を形成した。
次いで、ホログラムレリーフパターンを有するニッケル
製の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロールエンボ
ス法により、前記工程で形成した回折形成構造層（ホロ
グラム形成層）上に押圧することで、回折形成構造層
（ホログラム形成層）上にレリーフパターンを形成し
た。続いて、上記方法でレリーフパターンを形成した回
折形成構造層（ホログラム形成層）上に、真空蒸着法を
用いて膜厚０．０５μｍのＺｎＳからなる高屈折率層を
形成した。さらにその上に、下記［高分子液晶層の組
成］からなるサーモトロピック性高分子液晶材料インキ
を用い、グラビア印刷法にて、「ＡＢＣ」の文字柄を形
成し、乾燥温度６０℃で乾燥した。文字柄の印刷膜厚は
０．５μｍであった。次に、高分子液晶層上に、真空蒸
着法により膜厚２００ｎｍのＭｇＦ2からなる透明蒸着
膜を設けた。更にその上に、真空蒸着法により約７５ｎ
ｍのＡｌからなる反射膜を形成した。そして最後に、下
記［接着層の組成］からなる接着材料インキを用い、グ
ラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗布厚２．０μｍ
の条件で接着層を形成し、高分子液晶転写箔を得た。こ
の高分子液晶転写箔を被転写媒体上に重ね、１２０℃、
０．２秒間の条件でホットスタンプにて熱圧をかけて転
写し、潜像を有する転写媒体を得た。
【００５２】 ［剥離兼保護層の組成］ アクリル樹脂 ２０重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ３０重量部 ［回折形成構造層の組成］ 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １５重量部 ウレタン樹脂 １０重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［高分子液晶層の組成］ 高分子液晶（キラコールＰＬＣ−７００３：旭電化工業（株）製） ２０重量部 メチルエチルケトン ８０重量部 ［接着層の組成］ ポリエステル樹脂 １０重量部 アクリル樹脂 １０重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ４０重量部
【００５３】得られた潜像形成可能な転写箔及び潜像を
有する転写媒体においては目視では潜像が全く視認でき
ず、ホログラム画像のみが見えた。しかし、潜像を有す
る転写媒体に偏光フィルムを重ねることで潜像化されて
いたパターンが鮮明に出現した。
有する転写媒体においては目視では潜像が全く視認でき
ず、ホログラム画像のみが見えた。しかし、潜像を有す
る転写媒体に偏光フィルムを重ねることで潜像化されて
いたパターンが鮮明に出現した。
【００５４】＜実施例２＞厚さ１６μｍのＰＥＴ基材上
に、下記［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材
料インキを用い、グラビア印刷法により乾燥温度８０
℃、塗布厚１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成し
た。次に、この剥離兼保護層の上に、下記［回折形成構
造層（ホログラム形成層）の組成］からなる回折形成構
造材料インキを用い、グラビア印刷法にて、乾燥温度８
０℃、塗布厚０．６μｍの条件で回折形成構造層を形成
した。次いで、ホログラムレリーフパターンを有するニ
ッケル製の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロール
エンボス法により、回折形成構造層（ホログラム形成
層）上に押圧することで、回折形成構造層（ホログラム
形成層）上にレリーフパターンを形成した。さらに、上
記方法でレリーフパターンを形成した回折形成構造層
（ホログラム形成層）上に、真空蒸着法を用いて膜厚
０．０５μｍのＴｉＯ2からなる高屈折率層を形成し
た。さらにまた、その上に、下記［液晶配向促進層の組
成］からなる液晶配向促進材料をグラビア印刷法にて、
乾燥温度８０℃、塗布厚１．０μｍの条件で塗布し、液
晶配向促進層を形成した次に、この液晶配向促進層の上
に、下記［高分子液晶層の組成］からなるサーモトロピ
ック性液晶高分子材料インキを用い、スクリーン印刷法
にて、「ＡＢＣ」の文字柄を形成し、乾燥温度１００℃
で乾燥した。文字柄の印刷膜厚は１．２μｍであった。
続いて、上記高分子液晶層上に、真空蒸着法にて膜厚３
００ｎｍのＳｉＯ2からなる透明蒸着層を設け、さら
に、真空蒸着法にて８０ｎｍのＡｌ膜からなる反射膜を
設けた。最後にその上に、下記［接着層の組成］からな
る接着材料インキを用い、乾燥温度８０℃、塗布厚１．
０μｍの条件でグラビア印刷により接着層を形成し、高
分子液晶転写箔を得た。この高分子液晶転写箔を被転写
媒体（紙）上に重ね、１２０℃、０．２秒間の条件でホ
ットスタンプにて熱圧をかけて転写し、潜像を有する転
写媒体を得た。
に、下記［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材
料インキを用い、グラビア印刷法により乾燥温度８０
℃、塗布厚１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成し
た。次に、この剥離兼保護層の上に、下記［回折形成構
造層（ホログラム形成層）の組成］からなる回折形成構
造材料インキを用い、グラビア印刷法にて、乾燥温度８
０℃、塗布厚０．６μｍの条件で回折形成構造層を形成
した。次いで、ホログラムレリーフパターンを有するニ
ッケル製の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロール
エンボス法により、回折形成構造層（ホログラム形成
層）上に押圧することで、回折形成構造層（ホログラム
形成層）上にレリーフパターンを形成した。さらに、上
記方法でレリーフパターンを形成した回折形成構造層
（ホログラム形成層）上に、真空蒸着法を用いて膜厚
０．０５μｍのＴｉＯ2からなる高屈折率層を形成し
た。さらにまた、その上に、下記［液晶配向促進層の組
成］からなる液晶配向促進材料をグラビア印刷法にて、
乾燥温度８０℃、塗布厚１．０μｍの条件で塗布し、液
晶配向促進層を形成した次に、この液晶配向促進層の上
に、下記［高分子液晶層の組成］からなるサーモトロピ
ック性液晶高分子材料インキを用い、スクリーン印刷法
にて、「ＡＢＣ」の文字柄を形成し、乾燥温度１００℃
で乾燥した。文字柄の印刷膜厚は１．２μｍであった。
続いて、上記高分子液晶層上に、真空蒸着法にて膜厚３
００ｎｍのＳｉＯ2からなる透明蒸着層を設け、さら
に、真空蒸着法にて８０ｎｍのＡｌ膜からなる反射膜を
設けた。最後にその上に、下記［接着層の組成］からな
る接着材料インキを用い、乾燥温度８０℃、塗布厚１．
０μｍの条件でグラビア印刷により接着層を形成し、高
分子液晶転写箔を得た。この高分子液晶転写箔を被転写
媒体（紙）上に重ね、１２０℃、０．２秒間の条件でホ
ットスタンプにて熱圧をかけて転写し、潜像を有する転
写媒体を得た。
【００５５】 ［剥離兼保護層の組成］ 塩化ゴム樹脂 ２０重量部 ニトルセルロース ５重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［回折形成構造層の組成］ 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １０重量部 ウレタン樹脂 １５重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［液晶配向促進層の組成］ ポリビニルアルコール １０重量部 蒸留水 ９０重量部 ［高分子液晶層の組成］ 高分子液晶（キラコールＰＬＣ−７００３：旭電化工業（株）製） ４０重量部 メチルエチルケトン ３０重量部 シクロヘキサノン ３０重量部 ［接着層の組成］ ポリエステル樹脂 １５重量部 アクリル樹脂 ５重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ４０重量部
【００５６】得られた潜像形成可能な転写箔と潜像を有
する転写媒体においては目視では潜像が全く視認できな
かった。しかし、潜像を有する転写媒体に偏光フィルム
を重ねることで潜像化されていた「ＡＢＣ」のパターン
が鮮明に出現した。
する転写媒体においては目視では潜像が全く視認できな
かった。しかし、潜像を有する転写媒体に偏光フィルム
を重ねることで潜像化されていた「ＡＢＣ」のパターン
が鮮明に出現した。
【００５７】＜実施例３＞厚さ１２μｍのＰＥＴ基材上
に、［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材料イ
ンキを用い、グラビア印刷法で乾燥温度８０℃、塗布厚
１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成した。次に、こ
の剥離兼保護層上に、下記［回折形成構造層（ホログラ
ム形成層）の組成］からなる回折形成構造材料インキを
用い、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗布厚
０．６μｍの条件で回折構造形成層を形成した。次い
で、ホログラムレリーフパターンを有するニッケル製の
画像金型を１００℃に加熱し、公知のロールエンボス法
により、回折形成構造層（ホログラム形成層）上に押圧
することで、回折形成構造層（ホログラム形成層）上に
レリーフパターンを形成した。さらに、上記方法でレリ
ーフパターンを形成した回折形成構造層（ホログラム形
成層）上に、真空蒸着法を用いて膜厚０．０５μｍのＺ
ｎＳからなる高屈折率層を形成した。続いてその上に、
下記［アンカー層の組成］からなるアンカー材料を用
い、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗布厚１．
０μｍの条件でアンカー層を形成した。そしてその上
に、下記［液晶配向促進層の組成］からなる液晶配向促
進材料を用い、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、
塗布厚１．０μｍの条件で液晶配向形成層を形成した。
次に、下記［高分子液晶層の組成］からなるサーモトロ
ピック性高分子材料インキを用い、グラビア印刷法に
て、「ＡＢＣ」の文字柄を形成し、乾燥温度１００℃で
乾燥し、高分子液晶層とした。印刷膜厚は１．０μｍで
あった。さらに上記高分子液晶層上に、真空蒸着法にて
膜厚１５０ｎｍの低屈折率のＭｇＦ2からなるを透明蒸
着膜を設け、さらに、真空蒸着法にて約６０ｎｍのＡｌ
膜からなる反射膜を設けた。そして最後に、下記［接着
層の組成］からなる接着材料インキを用い、グラビア印
刷法にて、乾燥温度８０℃、塗布厚１．５μｍの条件で
接着層を設け、高分子液晶転写箔を得た。この高分子液
晶転写箔を被転写媒体（プラスチックシート）上に重
ね、１２０℃、０．２秒間の条件でホットスタンプにて
熱圧をかけて転写し、潜像を有する転写媒体を得た。
に、［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材料イ
ンキを用い、グラビア印刷法で乾燥温度８０℃、塗布厚
１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成した。次に、こ
の剥離兼保護層上に、下記［回折形成構造層（ホログラ
ム形成層）の組成］からなる回折形成構造材料インキを
用い、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗布厚
０．６μｍの条件で回折構造形成層を形成した。次い
で、ホログラムレリーフパターンを有するニッケル製の
画像金型を１００℃に加熱し、公知のロールエンボス法
により、回折形成構造層（ホログラム形成層）上に押圧
することで、回折形成構造層（ホログラム形成層）上に
レリーフパターンを形成した。さらに、上記方法でレリ
ーフパターンを形成した回折形成構造層（ホログラム形
成層）上に、真空蒸着法を用いて膜厚０．０５μｍのＺ
ｎＳからなる高屈折率層を形成した。続いてその上に、
下記［アンカー層の組成］からなるアンカー材料を用
い、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗布厚１．
０μｍの条件でアンカー層を形成した。そしてその上
に、下記［液晶配向促進層の組成］からなる液晶配向促
進材料を用い、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、
塗布厚１．０μｍの条件で液晶配向形成層を形成した。
次に、下記［高分子液晶層の組成］からなるサーモトロ
ピック性高分子材料インキを用い、グラビア印刷法に
て、「ＡＢＣ」の文字柄を形成し、乾燥温度１００℃で
乾燥し、高分子液晶層とした。印刷膜厚は１．０μｍで
あった。さらに上記高分子液晶層上に、真空蒸着法にて
膜厚１５０ｎｍの低屈折率のＭｇＦ2からなるを透明蒸
着膜を設け、さらに、真空蒸着法にて約６０ｎｍのＡｌ
膜からなる反射膜を設けた。そして最後に、下記［接着
層の組成］からなる接着材料インキを用い、グラビア印
刷法にて、乾燥温度８０℃、塗布厚１．５μｍの条件で
接着層を設け、高分子液晶転写箔を得た。この高分子液
晶転写箔を被転写媒体（プラスチックシート）上に重
ね、１２０℃、０．２秒間の条件でホットスタンプにて
熱圧をかけて転写し、潜像を有する転写媒体を得た。
【００５８】 ［剥離兼保護層の組成］ 塩化ゴム樹脂 ２０重量部 塩酢ビニル樹脂 ５重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［回折形成構造層の組成］ 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２０重量部 ウレタン樹脂 １５重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ２５重量部 ［アンカー層の組成］ ウレタン樹脂 ２０重量部 ポリエステル １５重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ２５重量部 ［液晶配向促進層の組成］ ポリイミド １５重量部 γ−ブチロラクトン ６５重量部 ブチルセロソルブ ２０重量部 ［高分子液晶層の組成］ 高分子液晶（キラコールＰＬＣ−７００３：旭電化工業（株）製） ２０重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 シクロヘキサノン ３０重量部 ［接着層の組成］ ポリエステル樹脂 １０重量部 アクリル樹脂 １０重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ４０重量部
【００５９】得られた潜像形成可能な転写箔と潜像を有
する転写媒体においては目視では潜像が全く視認できな
かった。しかし、潜像を有する転写媒体に偏光フィルム
を重ねて観察すると「ＡＢＣ」というパターンが鮮明に
出現した。
する転写媒体においては目視では潜像が全く視認できな
かった。しかし、潜像を有する転写媒体に偏光フィルム
を重ねて観察すると「ＡＢＣ」というパターンが鮮明に
出現した。
【００６０】＜比較例１＞厚さ１６μｍのＰＥＴ基材上
に下記［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材料
インキを使用し、グラビア印刷法にて乾燥温度８０℃、
塗布厚１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成した。次
に、剥離兼保護層の上に、下記［回折形成構造層（ホロ
グラム形成層）の組成］からなる回折形成構造材料イン
キを使用し、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗
布厚０．６μｍの条件で回折形成構造層を形成した。次
いで、ホログラムレリーフパターンを有するニッケル製
の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロールエンボス
法により、回折形成構造層（ホログラム形成層）上に押
圧することで、回折形成構造層（ホログラム形成層）上
にレリーフパターンを形成した。続いて、上記方法でレ
リーフパターンを形成した回折形成構造層（ホログラム
形成層）上に、真空蒸着法を用いて膜厚０．０５μｍの
ＺｎＳからなる高屈折率層を設けた。そして、その上に
下記［高分子液晶層の組成］からなるサーモトロピック
性高分子液晶材料インキを使用し、グラビア印刷法にて
「ＴＯＰＰＡＮ」の文字柄を印刷し、乾燥温度６０℃で
乾燥した、印刷膜厚は０．５μｍであった。次にその上
に、真空蒸着法にて約７５ｎｍのＡｌからなる反射膜を
形成した。そして最後に、下記［接着層の組成］からな
る接着材料インキを使用し、グラビア印刷法にて、乾燥
温度８０℃、塗布厚２．０μｍの条件で接着層を反射層
上に形成し、高分子液晶転写箔を得た。この高分子液晶
転写箔を被転写媒体上に重ね、１２０℃、０．２秒間の
条件でホットスタンプにて熱圧をかけて転写し、潜像を
有する転写媒体を得た。
に下記［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材料
インキを使用し、グラビア印刷法にて乾燥温度８０℃、
塗布厚１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成した。次
に、剥離兼保護層の上に、下記［回折形成構造層（ホロ
グラム形成層）の組成］からなる回折形成構造材料イン
キを使用し、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗
布厚０．６μｍの条件で回折形成構造層を形成した。次
いで、ホログラムレリーフパターンを有するニッケル製
の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロールエンボス
法により、回折形成構造層（ホログラム形成層）上に押
圧することで、回折形成構造層（ホログラム形成層）上
にレリーフパターンを形成した。続いて、上記方法でレ
リーフパターンを形成した回折形成構造層（ホログラム
形成層）上に、真空蒸着法を用いて膜厚０．０５μｍの
ＺｎＳからなる高屈折率層を設けた。そして、その上に
下記［高分子液晶層の組成］からなるサーモトロピック
性高分子液晶材料インキを使用し、グラビア印刷法にて
「ＴＯＰＰＡＮ」の文字柄を印刷し、乾燥温度６０℃で
乾燥した、印刷膜厚は０．５μｍであった。次にその上
に、真空蒸着法にて約７５ｎｍのＡｌからなる反射膜を
形成した。そして最後に、下記［接着層の組成］からな
る接着材料インキを使用し、グラビア印刷法にて、乾燥
温度８０℃、塗布厚２．０μｍの条件で接着層を反射層
上に形成し、高分子液晶転写箔を得た。この高分子液晶
転写箔を被転写媒体上に重ね、１２０℃、０．２秒間の
条件でホットスタンプにて熱圧をかけて転写し、潜像を
有する転写媒体を得た。
【００６１】 ［剥離兼保護層の組成］ アクリル樹脂 ２０重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ３０重量部 ［回折形成構造層の組成］ 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １５重量部 ウレタン樹脂 １０重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［高分子液晶層の組成］ 高分子液晶（キラコールＰＬＣ−７００３：旭電化工業（株）製） ２０重量部 メチルエチルケトン ８０重量部 ［接着層の組成］ ポリエステル樹脂 １０重量部 アクリル樹脂 １０重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ４０重量部
【００６２】得られた転写箔や転写媒体においては目視
では潜像が全く視認できないが、その表面状態が粗れて
おり、回折形成構造層が破壊され、ホログラムの効果が
半減していた。また、偏光フィルムを重ねても潜像パタ
ーンが出現しなかった。
では潜像が全く視認できないが、その表面状態が粗れて
おり、回折形成構造層が破壊され、ホログラムの効果が
半減していた。また、偏光フィルムを重ねても潜像パタ
ーンが出現しなかった。
【００６３】＜比較例２＞厚さ１６μｍのＰＥＴ基材上
に［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材料イン
キを使用し、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗
布厚１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成した。次
に、この剥離兼保護層の上に、下記［回折形成構造層
（ホログラム形成層）の組成］からなる回折形成構造材
料インキを使用し、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０
℃、塗布厚０．６μｍの条件で回折形成構造層を形成し
た。次いで、ホログラムレリーフパターンを有するニッ
ケル製の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロールエ
ンボス法により、回折形成構造層（ホログラム形成層）
上に押圧することで、回折形成構造層（ホログラム形成
層）上にレリーフパターンを形成した。続いて、上記方
法でレリーフパターンを形成した回折形成構造層（ホロ
グラム形成層）上に、真空蒸着法を用いて膜厚０．０５
μｍのＴｉＯ2からなる高屈折率層を形成した。そして
その上に、下記［液晶配向促進層の組成］からなる液晶
配向促進材料を使用し、グラビア印刷法にて、乾燥温度
８０℃、塗布厚１．０μｍの条件で液晶配向促進層を形
成した。次に、液晶配向促進層の上に、下記［高分子液
晶層の組成］からなるサーモトロピック性高分子液晶材
料インキでスクリーン印刷し、「ＡＢＣ」の文字柄を形
成し、乾燥温度１００℃で乾燥した。印刷膜厚は１．２
μｍであった。続いて、上記高分子液晶層上に、真空蒸
着法にて８０ｎｍのＡｌからなる反射膜を形成した。そ
して最後に、下記［接着層の組成］からなる接着材料イ
ンキでグラビア印刷法により、乾燥温度８０℃、塗布厚
１．０μｍの条件で接着層を高分子液晶層上に形成し、
高分子液晶転写箔を得た。この高分子液晶転写箔を被転
写媒体（紙）上に重ね、１２０℃、０．２秒間の条件で
ホットスタンプにて熱圧をかけて転写し、潜像を有する
転写媒体を得た。
に［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材料イン
キを使用し、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗
布厚１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成した。次
に、この剥離兼保護層の上に、下記［回折形成構造層
（ホログラム形成層）の組成］からなる回折形成構造材
料インキを使用し、グラビア印刷法にて、乾燥温度８０
℃、塗布厚０．６μｍの条件で回折形成構造層を形成し
た。次いで、ホログラムレリーフパターンを有するニッ
ケル製の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロールエ
ンボス法により、回折形成構造層（ホログラム形成層）
上に押圧することで、回折形成構造層（ホログラム形成
層）上にレリーフパターンを形成した。続いて、上記方
法でレリーフパターンを形成した回折形成構造層（ホロ
グラム形成層）上に、真空蒸着法を用いて膜厚０．０５
μｍのＴｉＯ2からなる高屈折率層を形成した。そして
その上に、下記［液晶配向促進層の組成］からなる液晶
配向促進材料を使用し、グラビア印刷法にて、乾燥温度
８０℃、塗布厚１．０μｍの条件で液晶配向促進層を形
成した。次に、液晶配向促進層の上に、下記［高分子液
晶層の組成］からなるサーモトロピック性高分子液晶材
料インキでスクリーン印刷し、「ＡＢＣ」の文字柄を形
成し、乾燥温度１００℃で乾燥した。印刷膜厚は１．２
μｍであった。続いて、上記高分子液晶層上に、真空蒸
着法にて８０ｎｍのＡｌからなる反射膜を形成した。そ
して最後に、下記［接着層の組成］からなる接着材料イ
ンキでグラビア印刷法により、乾燥温度８０℃、塗布厚
１．０μｍの条件で接着層を高分子液晶層上に形成し、
高分子液晶転写箔を得た。この高分子液晶転写箔を被転
写媒体（紙）上に重ね、１２０℃、０．２秒間の条件で
ホットスタンプにて熱圧をかけて転写し、潜像を有する
転写媒体を得た。
【００６４】 ［剥離兼保護層の組成］ 塩化ゴム樹脂 ２０重量部 ニトルセルロース ５重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［回折形成構造層の組成］ 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １０重量部 ウレタン樹脂 １５重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［液晶配向促進層の組成］ ポリビニルアルコール １０重量部 蒸留水 ９０重量部 ［高分子液晶層の組成］ 高分子液晶（キラコールＰＬＣ−７００３：旭電化工業（株）製） ４０重量部 メチルエチルケトン ３０重量部 シクロヘキサノン ３０重量部 ［接着層の組成］ ポリエステル樹脂 １５重量部 アクリル樹脂 ５重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ４０重量部
【００６５】得られた転写箔と転写媒体においては目視
では潜像画像が全く視認できないが、ホログラム転写箔
の表面状態が粗ており、回折形成構造層が破壊され、ホ
ログラムの効果が半減していた。また、偏光フィルムを
重ねても潜像パターンが出現しなかった。
では潜像画像が全く視認できないが、ホログラム転写箔
の表面状態が粗ており、回折形成構造層が破壊され、ホ
ログラムの効果が半減していた。また、偏光フィルムを
重ねても潜像パターンが出現しなかった。
【００６６】＜比較例３＞厚さ１２μｍのＰＥＴ基材上
に、下記［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材
料インキを使用し、グラビア印刷法で、乾燥温度８０
℃、塗布厚１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成し
た。次に、この剥離兼保護層上に、下記［回折形成構造
層（ホログラム形成層）の組成］からなる回折形成構造
材料インキをグラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗
布厚０．６μｍの条件で塗布し、回折形成構造層を形成
した。次いで、ホログラムレリーフパターンを有するニ
ッケル製の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロール
エンボス法により、回折形成構造層（ホログラム形成
層）上に押圧することで、回折形成構造層（ホログラム
形成層）上にレリーフパターンを形成した。そしてさら
に、上記方法でレリーフパターンを形成した回折形成構
造層（ホログラム形成層）上に、真空蒸着法を用いて膜
厚０．０５μｍのＺｎＳからなる高屈折率層を形成し
た。さらにその上に、下記［アンカー層の組成］からな
るアンカー材料をグラビア印刷法にて、乾燥温度８０
℃、塗布厚１．０μｍの条件で塗布し、アンカー層を形
成した。このアンカー層の上には、下記［液晶配向促進
層の組成］からなる液晶配向促進材料をグラビア印刷法
にて、乾燥温度８０℃、塗布厚１．０μｍの条件で塗布
し、液晶配向促進層を形成した次に、この液晶配向促進
層の上に、下記［高分子液晶層の組成］からなるサーモ
トロピック性高分子液晶材料インキでグラビア印刷し、
「ＡＢＣ」の文字柄を形成し、乾燥温度１００℃で乾燥
した。印刷膜厚は１．０μｍであった。上記高分子液晶
層上には、真空蒸着法にて約６０ｎｍのＡｌからなる反
射膜をさらに成膜した。そして最後に、下記［接着層の
組成］からなる接着材料インキをグラビア印刷法にて、
乾燥温度８０℃、塗布厚１．５μｍの条件で塗布し、接
着層を形成し、高分子液晶転写箔を得た。この高分子液
晶転写箔を被転写媒体（プラスチックシート）上に重
ね、１２０℃、０．２秒間の条件でホットスタンプにて
熱圧をかけて転写し、潜像を有する転写媒体を得た。
に、下記［剥離兼保護層の組成］からなる剥離兼保護材
料インキを使用し、グラビア印刷法で、乾燥温度８０
℃、塗布厚１．０μｍの条件で剥離兼保護層を形成し
た。次に、この剥離兼保護層上に、下記［回折形成構造
層（ホログラム形成層）の組成］からなる回折形成構造
材料インキをグラビア印刷法にて、乾燥温度８０℃、塗
布厚０．６μｍの条件で塗布し、回折形成構造層を形成
した。次いで、ホログラムレリーフパターンを有するニ
ッケル製の画像金型を１００℃に加熱し、公知のロール
エンボス法により、回折形成構造層（ホログラム形成
層）上に押圧することで、回折形成構造層（ホログラム
形成層）上にレリーフパターンを形成した。そしてさら
に、上記方法でレリーフパターンを形成した回折形成構
造層（ホログラム形成層）上に、真空蒸着法を用いて膜
厚０．０５μｍのＺｎＳからなる高屈折率層を形成し
た。さらにその上に、下記［アンカー層の組成］からな
るアンカー材料をグラビア印刷法にて、乾燥温度８０
℃、塗布厚１．０μｍの条件で塗布し、アンカー層を形
成した。このアンカー層の上には、下記［液晶配向促進
層の組成］からなる液晶配向促進材料をグラビア印刷法
にて、乾燥温度８０℃、塗布厚１．０μｍの条件で塗布
し、液晶配向促進層を形成した次に、この液晶配向促進
層の上に、下記［高分子液晶層の組成］からなるサーモ
トロピック性高分子液晶材料インキでグラビア印刷し、
「ＡＢＣ」の文字柄を形成し、乾燥温度１００℃で乾燥
した。印刷膜厚は１．０μｍであった。上記高分子液晶
層上には、真空蒸着法にて約６０ｎｍのＡｌからなる反
射膜をさらに成膜した。そして最後に、下記［接着層の
組成］からなる接着材料インキをグラビア印刷法にて、
乾燥温度８０℃、塗布厚１．５μｍの条件で塗布し、接
着層を形成し、高分子液晶転写箔を得た。この高分子液
晶転写箔を被転写媒体（プラスチックシート）上に重
ね、１２０℃、０．２秒間の条件でホットスタンプにて
熱圧をかけて転写し、潜像を有する転写媒体を得た。
【００６７】 ［剥離兼保護層の組成］ 塩化ゴム樹脂 ２０重量部 塩酢ビニル樹脂 ５重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［回折形成構造層の組成］ 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２０重量部 ウレタン樹脂 １５重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ２５重量部 ［アンカー層の組成］ ウレタン樹脂 ２０重量部 ポリエステル １５重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ２５重量部 ［液晶配向促進層の組成］ ポリイミド １５重量部 γ−ブチロラクトン ６５重量部 ブチルセロソルブ ２０重量部 ［高分子液晶層の組成］ 高分子液晶（キラコールＰＬＣ−７００３：旭電化工業（株）製） ２０重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 シクロヘキサノン ３０重量部 ［接着層の組成］ ポリエステル樹脂 １０重量部 アクリル樹脂 １０重量部 メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ４０重量部
【００６８】得られた転写箔と転写媒体においては目視
では潜像が全く視認できないが、ホログラム転写箔の表
面状態が粗ており、回折形成構造層が破壊され、ホログ
ラムの効果が半減していた。また、偏光フィルムを重ね
ても鮮明な潜像パターンが出現しなかった。
では潜像が全く視認できないが、ホログラム転写箔の表
面状態が粗ており、回折形成構造層が破壊され、ホログ
ラムの効果が半減していた。また、偏光フィルムを重ね
ても鮮明な潜像パターンが出現しなかった。
【００６９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は高分子液晶
層上に設ける金属反射層が少なくとも透明蒸着層と反射
膜からなり、しかもその透明蒸着膜が高分子液晶層に接
するように設けてあるため、高分子液晶層の所望部分を
配向させて潜像を設ける際に、配向による部分的な歪み
の影響を下の金属反射層が受けなくなるので、非常に鮮
鋭な潜像の形成と潜像化画像の明瞭な現出が可能とな
る。しかも、回折形成構造層のホログラム画像や回折画
像等の画像が被転写基材上においても所期の状態で明瞭
に認識されるようになる。また、潜像の形成が簡便にで
き、さらには簡単な検証方法により潜像パターンの確認
ができる等の効果も奏する。
層上に設ける金属反射層が少なくとも透明蒸着層と反射
膜からなり、しかもその透明蒸着膜が高分子液晶層に接
するように設けてあるため、高分子液晶層の所望部分を
配向させて潜像を設ける際に、配向による部分的な歪み
の影響を下の金属反射層が受けなくなるので、非常に鮮
鋭な潜像の形成と潜像化画像の明瞭な現出が可能とな
る。しかも、回折形成構造層のホログラム画像や回折画
像等の画像が被転写基材上においても所期の状態で明瞭
に認識されるようになる。また、潜像の形成が簡便にで
き、さらには簡単な検証方法により潜像パターンの確認
ができる等の効果も奏する。
【図１】本発明の潜像形成可能な転写箔の一実施形態を
示す断面説明図。
示す断面説明図。
【図２】転写箔の転写部を被転写基材上に転写して得ら
れた転写媒体とその状態を検証媒体を介して観察してい
るときの状態の平面図説明図。
れた転写媒体とその状態を検証媒体を介して観察してい
るときの状態の平面図説明図。
【図３】被転写基材上に転写箔の転写部を転写して得ら
れた転写媒体のの断面説明図。
れた転写媒体のの断面説明図。
【図４】本発明の他の実施の形態に係る潜像形成可能な
転写箔の断面説明図。
転写箔の断面説明図。
【図５】図４に示す潜像形成可能な転写箔を使用して被
転写基材に転写部を転写して得られた潜像を有する転写
媒体の断面説明図。
転写基材に転写部を転写して得られた潜像を有する転写
媒体の断面説明図。
【図６】本発明のさらに他の実施の形態に係る潜像形成
可能な転写箔の断面説明図。
可能な転写箔の断面説明図。
【図７】図６に示す潜像形成可能な転写箔を使用して被
転写基材に転写部を転写して得られた潜像を有する転写
媒体の断面説明図。
転写基材に転写部を転写して得られた潜像を有する転写
媒体の断面説明図。
【図８】本発明の潜像を有する転写媒体の転写部に偏光
フィルムを重ね合わせて高分子液晶層中の潜像を観察し
ているときの、偏光フィルム、高分子液晶層及び金属反
射層の３層間の光路状態を概念的に説明した説明図であ
る。
フィルムを重ね合わせて高分子液晶層中の潜像を観察し
ているときの、偏光フィルム、高分子液晶層及び金属反
射層の３層間の光路状態を概念的に説明した説明図であ
る。
１、７、１０ 潜像形成可能な転写箔 ２、９、４０ 転写部 ３、２９、４２ 被転写基材 ４、８、４１ 潜像を有する転写媒体 ５ 潜像 ６ 検証媒体 ４３ 偏光フィルム １１、２０、３０ 基材 １２、２１、３１ 剥離兼保護層 １３、２２、３２ 回折形成構造層（ホログ
ラム形成層） １４、２３、３３ 高屈折率層（ホログラム
効果層） １５、２５、３６ 高分子液晶層 １６、２６、３７ 透明蒸着膜 １７、２７、３８ 反射膜 １８、２８、３９ 接着層 １９、５３、５４ 金属反射層 ２４１、２４２、３４ アンカー層 ３５ 液晶配向促進層 ４６ 光源 ４７ 白色照射光 ４８ 透過反射光
ラム形成層） １４、２３、３３ 高屈折率層（ホログラム
効果層） １５、２５、３６ 高分子液晶層 １６、２６、３７ 透明蒸着膜 １７、２７、３８ 反射膜 １８、２８、３９ 接着層 １９、５３、５４ 金属反射層 ２４１、２４２、３４ アンカー層 ３５ 液晶配向促進層 ４６ 光源 ４７ 白色照射光 ４８ 透過反射光
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/18 Ｇ０２Ｂ 5/18 5/30 5/30 5/32 5/32 Ｆターム(参考） 2C005 HA04 HB10 HB20 JA18 JA19 JB08 JB09 LA19 LA20 2H049 AA07 AA13 AA40 AA43 AA56 AA64 AA65 BA02 BA03 BA06 BA27 BA42 BB01 BB03 BB42 BB43 BB62 BB63 BC08 BC21 CA05 CA08 CA09 CA15 CA28 2K008 AA04 AA13 CC01 EE04 FF12 GG05 HH02 HH12 3B005 EA12 EA20 EB01 EC25 FA04 FB09 FB21 FB61 FF01 GA02 GB01 4F100 AA06 AA11 AB01D AB10 AK01E AK15 AK23 AK25 AK42 AL01 AR00B AR00E AS00C AT00A BA05 BA07 CA13E CB00E EH66D GB41 JB16E JL14B JN01D JN06D JN30 JN30E
Claims (8)
- 【請求項１】基材上に、少なくとも剥離兼保護層、潜像
形成可能な高分子液晶層、金属反射層及び接着層を順次
積層してなり、少なくとも金属反射層が透明蒸着膜と反
射膜からなることを特徴とする潜像形成可能な転写箔。 - 【請求項２】剥離兼保護層と潜像形成可能な高分子液晶
層との間には回折形成構造層が設けてあることを特徴と
する請求項１に記載の潜像形成可能な転写箔。 - 【請求項３】潜像形成可能な高分子液晶層がサーモトロ
ピック性を有する高分子液晶材料からなることを特徴と
する請求項１または請求項２に記載の潜像形成可能な転
写箔。 - 【請求項４】金属反射層が金属材料からなる透明蒸着膜
と反射膜からなることを特徴とする請求項１ないし請求
項３のいずれか１項に記載の潜像形成可能な転写箔。 - 【請求項５】潜像形成可能な高分子液晶層には高分子材
料からなる液晶配向促進層が積層してあることを特徴と
する請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の潜
像形成可能な転写箔。 - 【請求項６】回折形成構造層には高屈折率材料からなる
高屈折率層が積層してあることを特徴とする請求項２な
いし請求項５のいずれか１項に記載の潜像形成可能な転
写箔。 - 【請求項７】接着層が少なくとも熱可塑性樹脂と体質顔
料を主体とすることを特徴とする請求項１ないし請求項
６のいずれか１項に記載の潜像形成可能な転写箔。 - 【請求項８】少なくとも剥離兼保護層、潜像形成可能な
高分子液晶層、金属反射層及び接着層が基材上に順次積
層してなると共に、少なくとも金属反射層が透明蒸着膜
と反射膜からなることを特徴とする潜像形成可能な転写
箔の接着層、金属反射層、潜像形成可能な高分子液晶層
及び剥離兼保護層をこの順序で熱圧転写し、潜像形成可
能な高分子液晶層には潜像が形成してあることを特徴と
する潜像を有する転写媒体。
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| JP2001172425A JP4193377B2 (ja) | 2001-06-07 | 2001-06-07 | 潜像形成可能な転写箔及び潜像を有する転写媒体 |
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| JP2002366015A true JP2002366015A (ja) | 2002-12-20 |
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Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006525139A (ja) * | 2003-04-17 | 2006-11-09 | レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | フィルムおよび光学的セキュリティ素子 |
| JP2009000839A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム転写箔およびホログラム積層体 |
| JP2009142996A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Toppan Printing Co Ltd | 転写箔、その転写方法および転写物 |
| JP2010054920A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Toppan Printing Co Ltd | 表示体及び光学効果機能の発現方法 |
| JP2010105183A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Toppan Printing Co Ltd | 転写箔およびその転写物 |
| USD623690S1 (en) | 2010-03-05 | 2010-09-14 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Metal transaction device with gem-like surface |
| US7805368B2 (en) | 1998-06-22 | 2010-09-28 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Debit purchasing of stored value card for use by and/or delivery to others |
| US7809595B2 (en) | 2002-09-17 | 2010-10-05 | Jpmorgan Chase Bank, Na | System and method for managing risks associated with outside service providers |
| US7860789B2 (en) | 2001-07-24 | 2010-12-28 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Multiple account advanced payment card and method of routing card transactions |
| USD643064S1 (en) | 2010-07-29 | 2011-08-09 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Metal transaction device with gem-like surface |
| US8020754B2 (en) | 2001-08-13 | 2011-09-20 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | System and method for funding a collective account by use of an electronic tag |
| JP2011186092A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Hyogo Prefecture | 高分子液晶の配向制御方法 |
| US8306907B2 (en) | 2003-05-30 | 2012-11-06 | Jpmorgan Chase Bank N.A. | System and method for offering risk-based interest rates in a credit instrument |
| JP2013068960A (ja) * | 2012-11-19 | 2013-04-18 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム転写箔およびホログラム積層体 |
| US8725589B1 (en) | 2009-07-30 | 2014-05-13 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Methods for personalizing multi-layer transaction cards |
| USD854083S1 (en) | 2013-03-27 | 2019-07-16 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Hybrid transaction device |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0843804A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-02-16 | F Hoffmann La Roche Ag | 液晶異方性層を有する層状光学的構成部品 |
| JPH08216577A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-27 | Toppan Printing Co Ltd | 抽選券及びその製造方法 |
| JPH0914963A (ja) * | 1995-04-26 | 1997-01-17 | Asahi Optical Co Ltd | 測量機の合焦調節装置 |
| JPH0968927A (ja) * | 1995-09-01 | 1997-03-11 | Nitto Denko Corp | 偽造防止方法及びそのラベル |
| JP2000309197A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Nippon Mitsubishi Oil Corp | 転写用素子 |
| JP2001071698A (ja) * | 1999-09-02 | 2001-03-21 | Toppan Printing Co Ltd | Ｏｖｄ形成媒体の偽造防止方法及び偽造防止を施したｏｖｄ転写箔及びｏｖｄ形成媒体 |
| JP2001105795A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-17 | Polymatech Co Ltd | 転写成形体 |
| JP2001150791A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | スクラッチｏｖｄ形成体およびその製造に用いられる転写箔 |
-
2001
- 2001-06-07 JP JP2001172425A patent/JP4193377B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0843804A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-02-16 | F Hoffmann La Roche Ag | 液晶異方性層を有する層状光学的構成部品 |
| JPH08216577A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-27 | Toppan Printing Co Ltd | 抽選券及びその製造方法 |
| JPH0914963A (ja) * | 1995-04-26 | 1997-01-17 | Asahi Optical Co Ltd | 測量機の合焦調節装置 |
| JPH0968927A (ja) * | 1995-09-01 | 1997-03-11 | Nitto Denko Corp | 偽造防止方法及びそのラベル |
| JP2000309197A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Nippon Mitsubishi Oil Corp | 転写用素子 |
| JP2001071698A (ja) * | 1999-09-02 | 2001-03-21 | Toppan Printing Co Ltd | Ｏｖｄ形成媒体の偽造防止方法及び偽造防止を施したｏｖｄ転写箔及びｏｖｄ形成媒体 |
| JP2001105795A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-17 | Polymatech Co Ltd | 転写成形体 |
| JP2001150791A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | スクラッチｏｖｄ形成体およびその製造に用いられる転写箔 |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8005756B2 (en) | 1998-06-22 | 2011-08-23 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Debit purchasing of stored value card for use by and/or delivery to others |
| US7818253B2 (en) | 1998-06-22 | 2010-10-19 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Debit purchasing of stored value card for use by and/or delivery to others |
| US7809643B2 (en) | 1998-06-22 | 2010-10-05 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Debit purchasing of stored value card for use by and/or delivery to others |
| US7805368B2 (en) | 1998-06-22 | 2010-09-28 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Debit purchasing of stored value card for use by and/or delivery to others |
| US8515868B2 (en) | 2001-07-24 | 2013-08-20 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Multiple account advanced payment card and method of routing card transactions |
| US8751383B2 (en) | 2001-07-24 | 2014-06-10 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Multiple account advanced payment card and method of routing card transactions |
| US7860789B2 (en) | 2001-07-24 | 2010-12-28 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Multiple account advanced payment card and method of routing card transactions |
| US8020754B2 (en) | 2001-08-13 | 2011-09-20 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | System and method for funding a collective account by use of an electronic tag |
| US7809595B2 (en) | 2002-09-17 | 2010-10-05 | Jpmorgan Chase Bank, Na | System and method for managing risks associated with outside service providers |
| JP2006525139A (ja) * | 2003-04-17 | 2006-11-09 | レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | フィルムおよび光学的セキュリティ素子 |
| US7511796B2 (en) | 2003-04-17 | 2009-03-31 | Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg | Film and optical anti-counterfeiting element |
| JP4768600B2 (ja) * | 2003-04-17 | 2011-09-07 | レオナード クルツ シュティフトゥング ウント コンパニー カーゲー | フィルムおよび光学的セキュリティ素子 |
| KR101081501B1 (ko) * | 2003-04-17 | 2011-11-08 | 레오나르트 쿠르츠 스티프퉁 운트 코. 카게 | 필름 및 광학 위조 방지 요소 |
| US8306907B2 (en) | 2003-05-30 | 2012-11-06 | Jpmorgan Chase Bank N.A. | System and method for offering risk-based interest rates in a credit instrument |
| JP2009000839A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム転写箔およびホログラム積層体 |
| JP2009142996A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Toppan Printing Co Ltd | 転写箔、その転写方法および転写物 |
| JP2010054920A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Toppan Printing Co Ltd | 表示体及び光学効果機能の発現方法 |
| JP2010105183A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Toppan Printing Co Ltd | 転写箔およびその転写物 |
| US8725589B1 (en) | 2009-07-30 | 2014-05-13 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Methods for personalizing multi-layer transaction cards |
| USD623690S1 (en) | 2010-03-05 | 2010-09-14 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Metal transaction device with gem-like surface |
| JP2011186092A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Hyogo Prefecture | 高分子液晶の配向制御方法 |
| USD643064S1 (en) | 2010-07-29 | 2011-08-09 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Metal transaction device with gem-like surface |
| JP2013068960A (ja) * | 2012-11-19 | 2013-04-18 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム転写箔およびホログラム積層体 |
| USD854083S1 (en) | 2013-03-27 | 2019-07-16 | Jpmorgan Chase Bank, N.A. | Hybrid transaction device |
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