JP2001202616A

JP2001202616A - 磁気情報記録媒体

Info

Publication number: JP2001202616A
Application number: JP2000011836A
Authority: JP
Inventors: Naoaki Shindou; 直彰新藤
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2000-01-20
Filing date: 2000-01-20
Publication date: 2001-07-27

Abstract

(57)【要約】【課題】装飾性に優れているＯＶＤを有した磁気情報記
録媒体であっても、静電気による磁気情報の書き込み、
読みとりエラーや加工時の不具合を防止することができ
る磁気情報記録媒体を提供する。【解決手段】磁気情報を有する記録媒体基材１１上に少
なくとも磁気層１２、隠蔽層１３、ＯＶＤ層１４を有す
る磁気情報記録媒体１０において、前記隠蔽層１３が導
電性を有していない薄膜によりなることを特徴とする磁
気情報記録媒体１０。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、偽造防止効果を必
要とするクレジットカードやキャッシュカード等の磁気
情報を有した磁気情報記録媒体に関する。さらに詳しく
は前記磁気情報記録媒体に偽造防止効果を付与するため
ＯＶＤ画像を形成した磁気情報記録媒体に関わる。

【０００２】

【従来の技術】光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾
画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、光学特性の
異なる薄膜を重ねることにより、見る角度により色の変
化（カラーシフト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤ
（Optical Variable Device）の開発が進められてい
る。

【０００３】ホログラムや回折格子のごときＯＶＤは、
微細な凹凸パターンや、屈折率の異なる縞状パターンな
どの回折構造からなっており、これにより光の回折と干
渉により見る角度（すなわち、ホログラムを支持してい
る角度）に応じて、固有の像や色の変化（カラーシフ
ト）を生じる。一方、多層薄膜は光学特性の異なるセラ
ミックスや金属材料を幾重にも積層した構造でなる。こ
の多層薄膜は構成する材料の光学特性と膜厚により得ら
れる光の干渉作用を利用した表示技術であり、特定の波
長域に反射・透過特性を有しいるため、観察する角度に
よりカラーシフトを生じる。

【０００４】本明細書においてはホログラムおよび回折
格子や多層薄膜などの光の干渉を利用した表示技術を総
称してＯＶＤと称することとする。

【０００５】これらＯＶＤは立体画像やカラーシフトと
いった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有し
ており各種包装材や絵本、カタログ等の一般的な印刷物
に利用されている。さらに、このＯＶＤは高度な製造技
術を要することから有効な偽造防止手段としてクレジッ
トカード、有価証券、証明書類等に形成され使用されて
いる。最近では、ＯＶＤの有する装飾効果に着目し媒体
の全面に形成したものも現れてきている。

【０００６】一方、磁気情報記録部を有する情報媒体で
あるキャッシュカードやクレジットカードは黒色あるい
は茶褐色でなる磁気テープの色を隠蔽し、デザインに制
限がないカードを作ることが試みられてきた。その方法
としては、カードの色自体を磁気テープの色と合わせる
手法や白色、黒色あるいは銀色等の隠蔽インキを上から
塗布した後に絵柄の印刷を施す手法が取られている。

【０００７】前者の場合、色が制限されるためにデザイ
ンが限定されてしまうという問題がある。後者の方法で
はデザインの幅が広がるが、その隠蔽および印刷の厚み
が厚くなるため、磁気出力が低下するという問題があっ
た。特に絵柄印刷上に前述のＯＶＤを形成した場合に、
ＯＶＤ分の厚みが増すためにより出力が低下し、読み取
りエラーを生じやすいという問題を有していた。具体例
を挙げるならば磁気ストライプを有するクレジットカー
ド等の磁気カードは磁気テープの性能にもよるが、一般
に約６μｍ程度の印刷が限界であり、それ以下にしなけ
ればならないという問題がある。

【０００８】このような、偽造防止効果の高いＯＶＤを
付与した磁気情報記録媒体は読み取り難い媒体であっ
た。特開平９−２９４４３号公報によれば隠蔽層をＡｌ
やＮｉ等の金属薄膜で形成することにより薄膜化し、光
回折画像（ホログラムや回折格子）を形成しても出力が
低下しない構成が提案されている。しかしながら、この
構成はその情報媒体上に導電体である金属と絶縁体であ
るプラスチック材料を積層した構造であり、電荷のたま
りやすい構造のため、加工時に静電気による様々な不具
合を起こすほか、磁気情報を書き込むあるいは読み出す
際に電荷の放電によりエラーを生じやすい構成であっ
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
に鑑みてなされたもので、装飾性に優れているＯＶＤを
有した磁気情報記録媒体であっても、静電気による磁気
情報の書き込み、読みとりエラーや加工時の不具合を防
止することができる磁気情報記録媒体を提供することを
課題としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた請求項１に記載の発明は、磁気情報を有する
記録媒体基材上に少なくとも磁気層、隠蔽層、ＯＶＤ層
を有する磁気情報記録媒体において、前記隠蔽層が導電
性を有していない薄膜によりなることを特徴とする磁気
情報記録媒体である。

【００１１】また、請求項２に記載の発明は、磁気情報
を有する記録媒体基材上に少なくとも磁気層、隠蔽層、
ＯＶＤ層、印刷層を有する磁気情報記録媒体において、
前記隠蔽層が導電性を有していない薄膜によりなること
を特徴とした磁気情報記録媒体である。

【００１２】また、請求項３に記載の発明は、前記隠蔽
層を構成する薄膜が島状構造を有した金属薄膜よりなる
ことを特徴とした請求項１、請求項２に記載の磁気情報
記録媒体である。この隠蔽層を構成する薄膜は各々の島
は導電性を示すが、島と島の間が離れているために、膜
自体では導電性を示さない性質を有している。

【００１３】また、請求項４に記載の発明は、前記隠蔽
層を構成する薄膜が金属酸化物等の誘電体薄膜よりなる
ことを特徴とした請求項１、請求項２に記載の磁気情報
記録媒体である。この金属酸化物等の誘電体薄膜も導電
性を示さない性質を有している。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態によっ
て図面を参照して詳細に説明する。

【００１５】図１は、本発明の磁気情報記録媒体の一実
施例を示し、（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の
磁気情報記録媒体のＸ−Ｘ線における断面図である。以
降、これらの図を用いて詳しく説明する。

【００１６】図１に示した磁気情報記録媒体（１０）
は、磁気層（１２）を有する磁気情報記録媒体基材（１
１）に隠蔽層（１３）、ＯＶＤ層（１４）、印刷層（１
５）、保護層（２６）が設けられた形になり、外見では
印刷層に印刷してある『☆』や『ＩＤＣＡＲＤ』の絵柄
や文字およびＯＶＤ（１４）である『ＢＡＮＫ』のパタ
ーンしか確認できない。磁気層は隠蔽層の下側になって
いるので見ることができない。

【００１７】磁気層（１２）を有した磁気情報記録媒体
基材（１１）としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポ
リスチレン等の合成樹脂のあるいは天然樹脂、紙、合成
紙などを単独で又は組合わせた複合体に磁気情報を読み
書き可能な磁気層を全面或いは一部分に設けた構成であ
り、磁気情報記録媒体基材（１１）上には隠蔽層（１
３）、ＯＶＤ層（１４）、印刷層（１５）、保護層（１
６）が積層されるために、その加工に耐えうる強度、耐
熱性や使用方法に応じた耐性が要求される。そのために
上記の材料に限定されず、加工方法に応じて適宜選択さ
れる。また、その厚みや形状には商品形態により異なる
ため特に制限はないが、キャシュカード、クレジットカ
ードのような規格の定められている媒体であれば、その
規格に準じる必要がある。

【００１８】隠蔽層（１３）は磁気層（１２）を隠蔽す
る層であり導電性のない薄膜でなる。例えば島状構造で
なる金属薄膜やセラミックス材料からなる薄膜が挙げら
れる。以降これらに関してさらに詳しく説明する。島状
構造でなる金属薄膜とは、図７に示すようなサイズ０．
０２〜１μｍの粒子が間隔０．００１〜０．５μｍ程度
で各々が孤立した島状に形成された薄膜であり、島同士
が離れているため、薄膜全体では導電性を示さない。ま
た、その間隔も非常に小さいため、膜全体では光を反射
する特性を示し、磁気層（１２）を隠蔽することが可能
となる。

【００１９】この薄膜は真空蒸着、スパッタリング、イ
オンプレーティング等の薄膜形成法により直接形成する
方法（特公平６−６７８３号公報）があり、Ｓｎ、Ｓｎ
−Ａｌ合金、Ｓｎ−Ｓｉ合金、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎ
ｉ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｇｅ等が挙げられるが、融点の低い金
属や貴金属が加工に適しており、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａｌ合
金、Ｓｎ−Ｓｉ合金が好ましい。

【００２０】その他に島状構造の薄膜を形成する方法と
しては、Ａｌのような島状構造の蒸着が難しい材料であ
っても、一旦連続した薄膜を形成した後、島状構造とな
るようにエッチングにより部分的に薄膜を除去し製造す
ることも可能である。これら以外の方法であっても各々
が独立した島構造の薄膜が形成できる公知の手法であれ
ば利用可能であり、限定されるものではない。

【００２１】一方、金属酸化物、硫化物等の誘電体材料
を用いた隠蔽層は例えばＴｉＯ₂、Ｓｉ₂Ｏ₃、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ
₃、ＡｌＦ₃等のセラミックス材料が挙げられる。これ
ら材料は色調や光透過性の程度から様々ではあるが２０
０Å〜１００００Åの範囲にて公知の真空蒸着、スパッ
タリング、イオンプレーティング等の薄膜形成法で設け
られる。

【００２２】これらの材料は導電性を示さず、静電気に
よる不具合を生じにくい媒体が得られるが、いずれも透
明性が高く隠蔽性に劣る。しかしながらＴｉＯ₂、Ｓｉ
₂Ｏ ₃、ＺｎＳ等の材料はプラスチック材料と屈折率が
異なるため、プラスッチック材料と積層した場合、その
境界で光を反射する特性を有している。この特性を利用
し薄膜を形成する面を予め細かく荒らしておき光の反射
面積をより多くし、更に反射光を散乱させることによ
り、白色の隠蔽層を得ることが可能である。

【００２３】さらに詳しくこれを説明するならば図２は
本発明の磁気情報記録媒体の一実施例を示す断面図であ
り、隠蔽層（２３）を表面性の荒い面に形成した例を示
す断面図であり、隠蔽層（２３）面上で光が反射、散乱
し磁気層（２２）を隠蔽することができる。

【００２４】図３は、図２に示した本発明の磁気情報記
録媒体（２０）を作製する隠蔽層転写箔（３０）を示
す。図のように、隠蔽層転写箔の支持体（３１）に剥離
し易いプラスチック材料にて剥離層（３２）を塗布し、
その表面を熱圧によるエンボス方式やサンドブラスト方
式により表面を粗面化し、その後、前述のセラミック材
料にて蒸着させ隠蔽層（３３）、接着層（３４）を設け
た後、磁気情報記録媒体基材（２１）に転写させて図３
に示す磁気情報記録媒体を作製することができる。ま
た、剥離層（３２）の材料に無機フィラーや着色顔料等
の粒子を混入することにより表面を粗面化するとともに
隠蔽効果を向上させることも可能である。以上は一実施
例であり、表面の粗面化された面に薄膜を形成する方法
であれば、これらに限定されるものではない。また、こ
の手法は隠蔽力を向上し白色化或いは着色する効果があ
り、前述の島構造を有する金属薄膜にも適用可能であ
る。更に隠蔽性を高めるため隠蔽用の印刷を施したり、
基材の色を磁気層の色と合わせることにより、磁気層を
目立ち難くした上で、隠蔽層を設けることも可能であ
る。

【００２５】印刷層（１５）は、隠蔽層（１３）により
隠蔽されないように隠蔽層より上になるようにしたほう
がよい。したがって、図１においては、印刷層は（１
５）は保護層（１６）とＯＶＤ層（１４）の間に設けて
ある。しかし、ＯＶＤ層が透明で印刷層の絵柄、文字等
が判読できるならば、ＯＶＤ層（１４）と隠蔽層（１
３）の間に印刷層が有っても構わない。

【００２６】図１の磁気情報記録媒体（１０）において
は、『ＩＤＣＡＲＤ』や『☆』の印刷で示した部分が印
刷層であり、文字や記号あるいはキャラクター等絵柄の
目視確認可能な情報や背景が印刷される。この印刷層は
公知の材料・印刷方法にて設けられるが、印刷層（１
５）は磁気層（１２）の上になるので、厚く形成すると
磁気出力の低下の原因となるため１〜３μｍ程度で設け
ることが好ましい。なお、印刷層（１５）は必須構成要
件ではなく、用途によって必要な場合に設ければ良い。

【００２７】次にＯＶＤ層（１４）に関して詳しく説明
する。ＯＶＤ層（１４）は前述した光の干渉を利用した
ＯＶＤ画像を形成する層であり、立体画像の表現や見る
角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体を
形成する層である。その中でホログラムや回折格子のご
ときＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターン
として平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を
記録する体積型が挙げられる。

【００２８】レリーフ型とは、一般的に光学的な撮影方
法により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマス
ターホログラムを作製し、これから電気メッキ法により
凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を複製
し、このプレス版をホログラム形成層上に加熱押圧する
という周知の方法により大量複製が行われている。この
タイプのホログラムは、レリーフ型ホログラムと称され
ている。

【００２９】また、レリーフ型ホログラムとは異なり、
感光性樹脂などの記録材を用いて、体積方向に干渉縞を
記録する体積型ホログラムと称されるものもある。この
型のホログラムではリップマンホログラムと呼ばれるも
のが一般に使用されており、これは感光性樹脂の屈折率
を体積方向に変化させ、反射型ホログラムとしたもので
ある。

【００３０】更に、この立体画像を再生し得るホログラ
ム画像とは異なり、微小なエリアに複数種類の単純な回
折格子を配置して画素とし、画像を表現するグレーティ
ングイメージ、ピクセルグラムといった回折格子画像も
また、レリーフ型ホログラムと同様な方法で大量複製が
行われ、一方、ホログラムや回折格子と手法が異なり、
光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層
し、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる
多層膜方式もその例である。これら、ＯＶＤの中でも量
産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホログラ
ム（回折格子）や多層薄膜方式のものが好ましい。以
降、これらを利用した磁気情報記録媒体に関して詳しく
説明する。

【００３１】図４及び図５は、ＯＶＤの形態による本発
明の磁気情報記録媒体の実施例を説明する断面図を示
す。図４は、レリーフ型のホログラムや回折格子をＯＶ
Ｄとして用いた例であり、磁気層（４２）を有する磁気
情報記録媒体基材（４１）上に、隠蔽層（４３）、ＯＶ
Ｄ層（４４）、印刷層（４５）、保護層（４６）が設け
られた構成になっている。この場合、ＯＶＤ層（４４）
はＯＶＤ形成層（４４ａ）およびＯＶＤ効果層（４４
ｂ）から成っており、ＯＶＤ効果層（４４ｂ）はより回
折効率が得られるよう光を反射する高屈折材料薄膜や金
属薄膜によりなる。

【００３２】また、図５は、ＯＶＤとしてカラーシフト
を生じる多層膜構成の断面図を示したもので、ＯＶＤ層
（５４）は光学特性の異なる薄膜（５４ａ、５４ｂ，５
４ｃ）の多層膜構成となっている。このようにＯＶＤ層
の構成はＯＶＤ形成方法により異なり、その形態により
複数の材料を積層した構成となる。それゆえ、その構成
は図４や図５に限定されるものではなく、一実施例であ
る。

【００３３】レリーフ型のホログラム（回折格子）は前
述したように微細な凹凸パターンを有するプレス版を加
熱しＯＶＤ形成層（４４ａ）に押し当て、そのパターン
を複製する方式である。それゆえ、ＯＶＤ形成層（４４
ａ）は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難
く、明るい再生像が得られる材料であって、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂な
どの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラ
ジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹
脂を単独あるい複合して用いることができる。また、上
記以外ものでも、ＯＶＤレリーフパターンを形成可能な
材料であれば適宜使用可能である。

【００３４】また、レリーフ型のホログラム（回折格
子）を用いた場合、その回折効率を高めるためＯＶＤ形
成層（４４ａ）で使用される高分子材料と屈折率の異な
る反射層（ＯＶＤ効果層（４４ｂ））を設けることが好
ましい。このＯＶＤ効果層（４４ｂ）を設けることによ
り、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をも
たらす。用いる材料としては、屈折率の異なるＴｉ
Ｏ₂、Ｓｉ₂Ｏ₃、ＳｉＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、など
の高屈折率材料やより反射効果の高いＳｎ、Ａｌ等の島
状構造薄膜が挙げられ、これら材料を単独あるいは積層
して使用できる。これらの層は前述したように、導電性
を示さない材料が用いられ、これらに限定されるもので
はない。これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等
の公知の薄膜形成技術やエッチング法にて形成され、そ
の膜厚は用途によって異なるが、１００Å〜１００００
Å程度で形成される。

【００３５】上記以外でも、ＯＶＤ効果層（４４ｂ）を
構成する材料としては、その屈折率が、ＯＶＤ形成層
（４４ａ）で使用される高分子材料（屈折率ｎ＝１．３
〜１．５）よりも高く、導電性を示さない材料であれ
ば、上記の無機材料以外の有機系、有機無機複合体、有
機系材料に無機系フィラーを分散したものであっても使
用可能である。これらの材料はグラビアコート、ダイコ
ート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法、や印
刷法にて０．１μｍ〜１０μｍ程度形成される。さらに
は、上記以外の材料であっても反射性を有した材料であ
れば、適宜使用することが可能である。

【００３６】一方、図５に示す多層薄膜方式にて形成さ
れるＯＶＤ層（５４）は、前述したように、異なる光学
特性を有する多層薄膜層（５４ａ、５４ｂ、５４ｃ）か
らなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併
設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば屈折
率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈
折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わ
せを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合
わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。

【００３７】この多層薄膜層は、セラミックスや金属な
どの材料が用いられ、おおよそ２以上の高屈折率材料と
屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜厚で積層
したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げ
る。まず、セラミックスとしては、Ｓｂ₂Ｏ₃（３．０
＝屈折率ｎ：以下同じ）、Ｆｅ₂Ｏ₃（２．７）、Ｔｉ
Ｏ₂（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ₂（２．
３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ₂（２．３）、Ｃｄ
Ｏ（２．２）、Ｓｂ₂Ｏ₃（２．０）、ＷＯ₃（２．
０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ₂Ｏ₃（２．５）、Ｉｎ
₂Ｏ₃（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ₂Ｏ
₃（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ₂（２．
０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ₂（１．５）、ＭｇＦ
₂（１．４）、ＣｅＦ₃（１．６）、ＣａＦ₂（１．３
〜１．４）、ＡｌＦ₃（１．６）、Ａｌ₂Ｏ₃（１．
６）、ＧａＯ（１．７）等が挙げられ、金属材料として
は金属単体もしくは合金の島状構造を有した薄膜、例え
ばＡｌ、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａｌ等が挙げられる。

【００３８】また、低屈折率の有機ポリマー、例えばポ
リエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４
９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメ
チルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン
（１．６０）等が使用可能である。これらの高屈折率材
料もしくは３０％〜６０％透過性を有する島状構造の金
属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくと
も一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる事によ
り、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示
すものである。なお、金属から構成される薄膜は、構成
材料の状態や形成条件などにより、屈折率などの光学特
性が変わってくるため、本発明の実施例では一定の条件
における値を用いている。

【００３９】上記した各材料から屈折率、反射率、透過
率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性などに
基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜を形
成する。形成方法は公知の手法を用いることができ、膜
厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ・ｄ、
ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な、通常の真
空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法や
ＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができ
る。

【００４０】また、低屈折率有機ポリマーの成膜方法と
しては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、ス
クリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビ
ア法、ロールコート法等などの塗布方法等を用いること
ができる。なお、本発明ではセラミックス・金属のみを
開示しているが、セラミックス・金属と同等、あるいは
類似する屈折率と反射率を有するものであれば、用いる
ことが可能である。

【００４１】この多層薄膜層の、具体例を挙げるなら
ば、その層厚が５０〜２００００Åの範囲であり、また
薄膜の層構成は上記した高屈折率の材料もしくは金属材
料からなる薄膜、例えばＺｎＳ、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、
Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂、ＺｎＯ、Ｔａ
₂Ｏ₃、Ａｌ、Ｓｎなどと、上記した低屈折率の材料か
らなる薄膜、例えばＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂、ＣａＦ₂、Ｍ
ｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃などとの組み合わせであり、それらを
交互に積層し、その積層数が２層以上であり、好ましく
は２層〜９層であるものが挙げられる。尚、用いられる
材料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるた
め、これに限定されるものではない。

【００４２】保護層（１６、２６、４６、５６）は、Ｏ
ＶＤ層や印刷層を外傷から保護する役割を持つもので、
必要に応じて形成される。使用される樹脂としては、例
えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル樹
脂−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、メラ
ミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポ
リイミド樹脂等の従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、紫外線または電子線硬化樹脂を単独或いは、混合物
して用いられる。

【００４３】更に、サーマルヘッド等による画像形成時
の印字痕防止のために、樹脂を架橋する硬化剤、ポリエ
チレンワッス、カルナバワックス、シリコンワックス等
のワックス類、或いは炭酸カルシウム、ステアリン酸亜
鉛、シリカ、アルミナ、タルク等の体質顔料、シリコ−
ン油脂等の油脂類を透明性が損なわれない範囲で添加す
ることができる。この剥離保護層（１６）に用いる樹脂
は、例えばグラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズル
コーター法等の既知の塗布手段およびオフセット印刷
法、フレキソ印刷法等の印刷手段により塗工する。

【００４４】以上に説明したような磁気情報記録媒体と
して、磁気層／隠蔽層／ＯＶＤ層／印刷層／保護層を積
層した構成は、一例であり、商品の形態あるいは製造方
法により各層の上に接着層や印刷層を適宜設けることは
可能である。また、その積層する順もこれに示した限り
でなく、例えば隠蔽層上に印刷層を有する構成やＯＶＤ
効果層が隠蔽層を兼ねる構成であってもよい。一方、偽
造防止を向上させるべく蛍光発色インキや赤外線インキ
や液晶高分子等にて潜像を付与した構成も付け加えるこ
とも可能である。

【００４５】このような磁気情報記録媒体を作製するに
場合、図６に示すＯＶＤ転写箔（６０）を用い、粘着層
（６２）を介して磁気情報記録媒体基材に転写させても
良い。ＯＶＤ転写箔は、ＯＶＤ転写箔支持体（６１）上
に剥離性を有する保護層（６６）、印刷層（６５）、Ｏ
ＶＤ層（６４）、隠蔽層（６３）、粘着層（６２）が積
層された構成になっている。これらの材料及び作成方法
は前述したものを利用することが可能である。

【００４６】

【実施例】本発明を、具体的な実施例を挙げて詳細に説
明する。

【００４７】［実施例１］図４に示した本発明の磁気情
報記録媒体の一実施例を説明する。まず、厚み７６０μ
ｍの塩化ビニルからなる磁気情報記録媒体基材（４１）
に磁気層（４２）として６５０Ｏｅの磁気テープを熱圧
により埋め込んだ磁気テープ入りカードを用いて試作を
行なった。磁気情報記録媒体基材（４１）の表面にＳｎ
を島状構造で５００Å蒸着した後、以下の組成でなるＯ
ＶＤ形成層（４４ａ）をグラビア法で１μｍ、ＯＶＤ効
果層（５４ｂ）としてＴｉＯ₂を真空蒸着にて５００Å
成形した後、ロールエンボス法を用いて１４０℃に熱し
たレリーフレインボーホログラムのスタンパーを押し当
て、レインボーホログラムパターンを形成した。更に青
インキで全面にスクリーン印刷にて１μｍ塗布、及び絵
柄を１μｍ程度で印刷を施した。その後、保護層（４
６）として以下の組成からなる紫外線硬化材料を２μｍ
塗布し、紫外線を照射して硬化せしめた。

【００４８】〈ＯＶＤ形成層組成〉ポリエステル２０部ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）５部ＭＥＫ（メチルエチルケトン）５０部トルエン２５部〈保護層組成〉ウレタンアクリレート５０部アクリレートモノマ− ４５部光重合開始剤５部

【００４９】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか５００ÅのＳｎ蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上の印刷の厚みが５．０μｍ程度であるため良好な出力
が得られた。また、積み重ねた状態で電荷をためること
もなく、電気を急激に放電することもないので、作業が
しやすく、磁気情報の数十回書込読出を行ってもエラー
は生じなかった。

【００５０】［実施例２］図５に示した本発明の磁気情
報記録媒体の一実施例を説明する。ＯＶＤ層（５４）と
して多層薄膜にした以外は実施例と同様な方法で実施例
２の磁気カードを得た。

【００５１】この多層箔薄膜として、ＺｎＳー４００
Å、ＳｉＯ₂−５８００Å、ＺｎＳ−８００Åを順に形
成してＯＶＤ層（５４）とした。

【００５２】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか５００ÅのＳｎ蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上の印刷の厚みが５．０μｍ程度であるため良好な出力
が得られた。また、積み重ねた状態で電荷をためること
もなく、電気を急激に放電することもないので、作業が
しやすく、磁気情報の数十回書込読出を行ってもエラー
は生じなかった。一方、本実施例では多層薄膜のＯＶＤ
層が形成されているため、見る角度により色が変化する
装飾性の高いカードが得られた。

【００５３】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の磁気情報記
録媒体は導電性を示さない薄膜にて磁気層を隠蔽するこ
とで、ＯＶＤが形成されているにもかかわらず、十分な
磁気出力が得られるとともに、取り扱い時の不具合や、
磁気情報の書込読出時にもエラーを生じない媒体を提供
することができる。すなわち、外見では磁気層が確認さ
れず、隠蔽可能であり、積み重ねた状態で電荷をためる
ことも、静電気をを急激に放電することもないので、作
業がしやすく、磁気情報の書込読出時にエラーを生じる
ことのない磁気情報記録媒体である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気情報記録媒体の一実施例を示し、
（Ａ）は平面図、（Ｂ）はＸーＸ線部に於ける断面図で
ある。

【図２】本発明の隠蔽層を粗面化した磁気情報記録媒体
の一実施例を示す断面図である。

【図３】図２に示す粗面化した隠蔽層を作成する為の隠
蔽層転写箔の構成断面図である。

【図４】本発明の磁気情報記録媒体の一実施例であり、
レリーフ型ＯＶＤを用いた時の構成断面図である。

【図５】本発明の磁気情報記録媒体の一実施例であり、
多層薄膜型ＯＶＤを用いた時の構成断面図である。

【図６】ＯＶＤ転写箔の構成断面図である。

【図７】隠蔽層の島状構造を説明する概念図である。

【符号の説明】

１０…磁気情報記録媒体１１…磁気情報記録媒体基材１２…磁気層１３…隠蔽層１４…ＯＶＤ層１５…印刷層１６…保護層２０…磁気情報記録媒体２１…磁気情報記録媒体基材２２…磁気層２３…隠蔽層２４…ＯＶＤ層２５…印刷層２６…保護層３０…隠蔽層転写箔３１…隠蔽層転写箔支持体３２…剥離層３３…隠蔽層３４…接着層４０…磁気情報記録媒体４１…磁気情報記録媒体基材４２…磁気層４３…隠蔽層４４…ＯＶＤ層４４ａ…ＯＶＤ形成層４４ｂ…ＯＶＤ効果層４５…印刷層４６…保護層５０…磁気情報記録媒体５１…磁気情報記録媒体基材５２…磁気層５３…隠蔽層５４…ＯＶＤ層５２ａ，５２ｂ，５２ｃ…薄膜層５５…印刷層５６…保護層６０…ＯＶＤ転写箔６１…ＯＶＤ転写箔支持体６２…粘着層６３…隠蔽層６４…ＯＶＤ層６５…印刷層６６…剥離保護層７０…隠蔽層７１…金属薄膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気情報を有する記録媒体基材上に少なく
とも磁気層、隠蔽層、ＯＶＤ層を有する磁気情報記録媒
体において、前記隠蔽層が導電性を有していない薄膜に
よりなることを特徴とする磁気情報記録媒体。
【請求項２】磁気情報を有する記録媒体基材上に少なく
とも磁気層、隠蔽層、ＯＶＤ層、印刷層を有する磁気情
報記録媒体において、前記隠蔽層が導電性を有していな
い薄膜によりなることを特徴とした磁気情報記録媒体。
【請求項３】前記隠蔽層を構成する薄膜が島状構造を有
した金属薄膜よりなることを特徴とした請求項１、請求
項２に記載の磁気情報記録媒体。
【請求項４】前記隠蔽層を構成する薄膜が金属酸化物等
の誘電体薄膜よりなることを特徴とした請求項１、請求
項２に記載の磁気情報記録媒体。