JP2001232993A - 転写媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】カード上に本転写媒体を転写する場合、磁気情
報の読み書きに支障をきたすことなく、カード上に設け
た磁気媒体を表面がマット状な隠蔽層を用いることで視
覚的に隠蔽し、デザインの自由度を広げた転写媒体を提
供する。 【解決手段】支持体２０上に少なくとも、剥離保護層２
１、隠蔽層２４、接着剤層２５を設けてある転写媒体１
１において、隠蔽層２４はマット状に粗面化、非導電性
薄膜層、或いは非導電性薄膜層でかつマット状に粗面化
されている隠蔽層であることを特徴とする転写媒体１１
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、偽造防止効果を必
要とするクレジットカードやキャッシュカード等の磁気
情報を有した磁気情報記録媒体の転写媒体に関する。さ
らに詳しくは前記情報記録媒体に偽造防止効果を付与す
るためＯＶＤ画像を形成したＯＶＤを有する転写媒体に
関わる。

【０００２】

【従来の技術】光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾
画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、光学特性の
異なる薄膜を重ねることにより、見る角度により色の変
化（カラーシフト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤ
（Optical Variable Device）の開発が進められてい
る。

【０００３】ホログラムや回折格子のごときＯＶＤは、
微細な凹凸パターンや、屈折率の異なる縞状パターンな
どの回折構造からなっており、これにより光の回折と干
渉により見る角度（すなわち、ホログラムを支持してい
る角度）に応じて、固有の像や色の変化（カラーシフ
ト）を生じる。一方、多層薄膜は光学特性の異なるセラ
ミックスや金属材料を幾重にも積層した構造でなる。

【０００４】この多層薄膜は構成する材料の光学特性と
膜厚により得られる光の干渉作用を利用した表示技術で
あり、特定の波長域に反射・透過特性を有しいるため、
観察する角度によりカラーシフトを生じる。

【０００５】本明細書においてはホログラムおよび回折
格子や多層薄膜などの光の干渉を利用した表示技術を総
称してＯＶＤと称することとする。

【０００６】これらＯＶＤは立体画像やカラーシフトと
いった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有し
ており各種包装材や絵本、カタログ等の一般的な印刷物
に利用されている。さらに、このＯＶＤは高度な製造技
術を要することから有効な偽造防止手段としてクレジッ
トカード、有価証券、証明書類等に形成され使用されて
いる。最近では、ＯＶＤの有する装飾効果に着目し媒体
の全面に形成したものも現れてきている。

【０００７】一方、磁気情報記録部を有する情報媒体で
あるキャッシュカードやクレジットカードは黒色あるい
は茶褐色でなる磁気テープの色を隠蔽し、デザイン制限
ないカードを作ることが試みられてきた。その方法とし
ては、カードの色自体を磁気テープの色と合わせる手法
や白色、黒色あるいは銀色等の隠蔽インキを上から塗布
した後に絵柄の印刷を施す手法が取られている。前者の
場合色が制限されるために、デザインが限定されてしま
うという問題がある。後者の方法ではデザインの幅が広
がるが、その隠蔽および印刷の厚みが厚くなるため、磁
気出力が低下するという問題があった。

【０００８】特に絵柄印刷上に前述のＯＶＤを形成した
場合に、ＯＶＤ分の厚みが増すためにより出力が低下
し、読みとりエラーを生じやすいという問題を有してい
た。具体例を挙げるならば磁気ストライプを有するクレ
ジットカード等の磁気カードは磁気テープの性能にもよ
るが、一般に約６μｍ程度の印刷が限界であり、それ以
下にしなければならないという問題がある。

【０００９】このような、偽造防止効果の高いＯＶＤを
付与した磁気情報記録媒体は読み取り難い媒体であっ
た。特開平９−２９４４３号公報によれば隠蔽層をＡｌ
やＮｉ等の金属薄膜で形成することにより薄膜化し、光
回折画像（ホログラムや回折格子）を形成しても出力が
低下しない構成が提案されている。しかしながら、この
構成はその情報媒体上に導電体である金属と絶縁体であ
るプラスチック材料を積層した構造であり、電荷のたま
りやすい構造のため、加工時に静電気による様々な不具
合を起こすほか、磁気情報を書き込むあるいは読み出す
際に電荷の放電によりエラーを生じやすい構成であっ
た。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、ＯＶＤを有した転写媒体において、例えば
カード上に本転写媒体を転写して設けた場合、磁気情報
の読み書きに支障をきたすことなくカード上に設けた磁
気媒体を表面がマット状な隠蔽層を用いることで視覚的
に隠蔽し、デザインの自由度を広げたことを特徴とする
転写媒体の提案である。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するためになされた発明であり、請求項１に記載の発明
は、支持体上に少なくとも、剥離保護層、隠蔽層、接着
剤層を設けてある転写媒体において、隠蔽層はマット状
に粗面化し／かつ非導電性薄膜層から成る隠蔽層である
ことを特徴とする転写媒体である。

【００１２】表面をマット状とすることにより、光は正
反射することなく乱反射し白色に近い色調を得られる事
から、デザインの選択性を広げる事ができ、非導電性薄
膜層を設けることで隠蔽性が格段に向上し磁気情報の読
み書きに支障をきたすことがなくなる。

【００１３】また請求項２に記載の発明は、前記転写媒
体において、剥離保護層と隠蔽層の層間に印刷層、ＯＶ
Ｄ層を設けたことを特徴とする請求項１に記載の転写媒
体である。隠蔽層を擬似的に白色とすることでＯＶＤ層
の効果が格段に向上し偽造防止効果が得られる。

【００１４】また請求項３に記載の発明は、前記転写媒
体において、隠蔽層は無機フィラ／或いは有機フィラ／
或いは着色顔料を混入させ表面をマット状とし／かつ非
導電性薄膜層を設けたことを特徴とする請求項１又は請
求項２に記載の転写媒体である。

【００１５】また請求項４に記載の発明は、前記転写媒
体において、隠蔽層は熱圧によるエンボス方式により表
面をマット状とし／かつ非導電性薄膜層を設けたことを
特徴とする請求項１又は請求項２に記載の転写媒体であ
る。

【００１６】また請求項５に記載の発明は、前記転写媒
体において、隠蔽層はサンドブラスト法により表面をマ
ット状とし／かつ非導電性薄膜層を設けたことを特徴と
する請求項１又は請求項２に記載の転写媒体である。

【００１７】請求項６の発明は、前記転写媒体におい
て、隠蔽層は相溶性の異なる２種類以上の樹脂をブレン
ドして成膜課程で表面をマット状にし／かつ非導電性薄
膜層を設けたことを特徴とする請求項１又は請求項２に
記載の転写媒体である。

【００１８】請求項７に記載の発明は、前記転写媒体に
おいて、隠蔽層の非導電性薄膜層は島状構造を有した金
属薄膜よりなることを特徴とする請求項１〜６のいずれ
か１項に記載の転写媒体である。この金属薄膜は各々の
島は導電性を示すが、島と島の間が離れているために、
膜自体では導電性を示さない性質を有している。

【００１９】請求項８に記載の発明は、前記転写媒体に
おいて、隠蔽層の非導電性薄膜層は金属酸化物等の誘電
体薄膜よりなることを特徴とする請求項１〜６のいずれ
か１項に記載の転写媒体である。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態によっ
て図面を参照して詳細に説明する。全図にわたり、同一
部材・個所には同一符号が付されている

【００２１】図１および図２は本発明の転写媒体の一実
施例を示す断面図ある。更に図３は本発明の転写媒体を
磁気情報記録媒体に転写して用いた一応用例を示す断面
図である。以降、これらの図を用いて詳しく説明する。

【００２２】図１に示した転写媒体（１１）は、支持体
（２０）の上層に剥離保護層（２１）、隠蔽層（２４）
として樹脂層（２４−１）、非導電性薄膜層（２４−
２）を設け、接着剤層２５を積層した構成である。

【００２３】図２に示した転写媒体（１１）は、支持体
（２０）の上層に剥離保護層（２１）、印刷層（２
２）、ＯＶＤ層（２３）としてＯＶＤ樹脂層（２３−
１）、ＯＶＤ効果層（２３−２）を設け、この上層に隠
蔽層（２４）として樹脂層（２４−１）、非導電性薄膜
層（２４−２）を設け、接着剤層（２５）を積層した構
成である。

【００２４】また、図３は図１或いは図２に示した転写
媒体（１１）を磁気情報記録媒体（３０）に転写し、磁
気層（３１）を隠蔽しＯＶＤ層（２３）の意匠性を高め
た一応用例の断面図である。

【００２５】以下、本発明の隠蔽層付き印刷物をさらに
詳しく説明する。図１，図２において、転写媒体の支持
体（２０）は耐熱性、引っ張り強度等に優れた強靱なプ
ラスチックフィルムが適用できる。例えば、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）、ポリエ
チレンナフタレートフィルム（ＰＥＮフィルム）、ポリ
イミドフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム
（ＰＰＳフィルム）等のフィルムが使用できる。これら
フィルムは加工性、操作性を考慮し、物理特性の優れた
厚み２μｍから２００μｍの範囲から選択され、好まし
くは４．５μｍから１００μｍ前後の厚みが用いられ
る。

【００２６】剥離保護層（２１）は支持体（２０）から
転写媒体（１１）を磁気情報記録媒体（３０）へ転写す
るものであり、更に、磁気ヘッドや何らかの物理的な擦
れ、汗、薬品等の刺激から転写媒体（１１）を保護する
役割を果たすものであり、印刷法、コーティング法等に
より、膜厚０．２から１０μｍ程度に設けることができ
る。

【００２７】使用される樹脂としては、例えば、アクリ
ル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル樹脂−酢酸ビニ
ル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、
エポキシ系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド樹脂
等の従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線ま
たは電子線硬化樹脂を単独或いは、混合物して用いられ
る。更に、耐性の向上、記録の際のスティッキング防止
のために、樹脂を架橋する硬化剤、ポリエチレンワッ
ス、カルナバワックス、シリコンワックス等のワックス
類、或いは炭酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、シリ
カ、アルミナ、タルク等の体質顔料、シリコ−ン油脂等
の油脂類を透明性を損なわない範囲で添加することがで
きる。

【００２８】印刷層（２２）は任意のパターンで印刷さ
れ、文字や記号あるいはキャラクター等絵柄の目視確認
可能な情報や背景が印刷される。この印刷層は当業者に
公知の材料・印刷方法にて設けられるが、転写媒体（１
１）を磁気層上に転写する場合は、印刷膜厚が厚く形成
すると磁気出力の低下の原因となるため１〜３μｍ程度
で設けることが好ましい。

【００２９】ＯＶＤ層（２３）は必要に応じてＯＶＤ樹
脂層（２３−１）、ＯＶＤ効果層（２３−２）で構成さ
れるが、次に示すとおりこれに限定されるものではな
い。続いてＯＶＤ層に関して詳しく説明する。ＯＶＤ層
（２３）は前述した光の干渉を利用したＯＶＤ画像を形
成する層であり、立体画像の表現や見る角度により色が
変化するカラーシフトを生じる表示体を形成する層であ
る。その中でホログラムや回折格子のごときＯＶＤとし
ては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記
録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を記録する体積型
が挙げられる。

【００３０】レリーフ型とは、一般的に光学的な撮影方
法により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマス
ターホログラムを作製し、これから電気メッキ法により
凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を複製
し、このプレス版をホログラム形成層上に加熱押圧する
という周知の方法により大量複製が行われている。この
タイプのホログラムは、レリーフ型ホログラムと称され
ている。

【００３１】また、レリーフ型ホログラムとは異なり、
感光性樹脂などの記録材を用いて、体積方向に干渉縞を
記録する体積型ホログラムと称されるものもある。この
型のホログラムではリップマンホログラムと呼ばれるも
のが一般に使用されており、これは感光性樹脂の屈折率
を体積方向に変化させ、反射型ホログラムとしたもので
ある。

【００３２】更に、この立体画像を再生し得るホログラ
ム画像とは異なり、微小なエリアに複数種類の単純な回
折格子を配置して画素とし、画像を表現するグレーティ
ングイメージ、ピクセルグラムといった回折格子画像も
また、レリーフ型ホログラムと同様な方法で大量複製が
行われ、

【００３３】一方、ホログラムや回折格子と手法が異な
り、光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を
積層し、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生
じる多層膜方式もその例である。これら、ＯＶＤの中で
も量産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホロ
グラム（回折格子）や多層薄膜方式のものが好ましい。
以降、これらに関して詳しく説明する。

【００３４】レリーフ型のホログラム（回折格子）は微
細な凹凸パターンを有するプレス版を加熱しＯＶＤ層に
押し当て、そのパターンを複製する方式である。それゆ
え、ＯＶＤ層は熱による成形性が良好で、プレスムラが
生じ難く、明るい再生像が得られる材料であって、ポリ
カーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル
樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるい
は、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬
化性樹脂を単独あるい複合して用いることができる。ま
た、上記以外ものでも、ＯＶＤレリーフパターンを形成
可能な材料であれば適宜使用可能である。

【００３５】また、レリーフ型のホログラム（回折格
子）を用いた場合、その回折効率を高めるためＯＶＤ層
で使用される高分子材料と屈折率の異なる反射層を設け
ることができる。このＯＶＤ効果層を設けることによ
り、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をも
たらす。用いる材料としては、屈折率の異なるＴｉ
Ｏ₂ 、Ｓｉ₂ Ｏ ₃ 、ＳｉＯ、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＳ、など
の高屈折率材料やより反射効果の高いＳｎ、Ａｌ等の島
状構造薄膜が挙げられ、これら材料を単独あるいは積層
して使用できる。これらの層は導電性を示さない材料が
好ましく、これらに限定されるものではない。これらの
材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成
技術やエッチング法にて形成され、その膜厚は用途によ
って異なるが、１００Å〜１００００Å程度で形成され
る。

【００３６】上記以外でも、ＯＶＤ効果層を構成する材
料としては、その屈折率が、ＯＶＤ層（２３）で使用さ
れる高分子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも高
く、導電性を示さない材料であれば、上記の無機材料以
外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機系フィ
ラーを分散したものであっても使用可能である。これら
の材料はグラビアコート、ダイコート、スクリーン印刷
等の公知のコーティング法、や印刷法にて０．１μｍ〜
１０μｍ程度形成される。さらには、上記以外の材料で
あっても反射性を有した材料であれば、適宜使用するこ
とが可能である。

【００３７】一方、多層薄膜方式にて形成されるＯＶＤ
層（２３）は、前述したように、異なる光学適性を有す
る多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜ま
たはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成され
る。例えば屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折
率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また
特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。
それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ること
ができる。

【００３８】この多層薄膜層は、セラミックスや金属な
どの材料が用いられ、おおよそ２以上の高屈折率材料と
屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜厚で積層
したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げ
る。まず、セラミックスとしては、Ｓｂ₂ Ｏ₃ （３．
０）、Ｆｅ₂ Ｏ₃ （２．７）、ＴｉＯ₂ （２．６）、Ｃ
ｄＳ（２．６）、ＣｅＯ₂（２．３）、ＺｎＳ（２．
３）、ＰｂＣｌ₂ （２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ
₂ Ｏ₃ （２．０）、ＷＯ₃ （２．０）、ＳｉＯ（２．
０）、Ｓｉ₂ Ｏ₃ （２．５）、Ｉｎ₂ Ｏ₃ （２．０）、
ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ ₂ Ｏ₃ （２．４）、ＺｎＯ
（２．１）、ＺｒＯ₂ （２．０）、ＭｇＯ（１．６）、
ＳｉＯ₂ （１．５）、ＭｇＦ₂ （１．４）、ＣｅＦ
₃ （１．６）、ＣａＦ₂ （１．３〜１．４）、ＡｌＦ₃
( １．６）、Ａｌ₂ Ｏ₃ （１．６）、ＧａＯ（１．７）
等が挙げられ、金属材料としては金属単体もしくは合金
の島状構造を有した薄膜、例えばＡｌ、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａ
ｌ、等が挙げられる。尚、この括弧内の数値は屈折率ｎ
を示す。

【００３９】また、低屈折率の有機ポリマー、例えばポ
リエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４
９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメ
チルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン
（１．６０）等が使用可能である。この括弧内の数値は
屈折率ｎを示す。これらの高屈折率材料もしくは３０％
〜６０％透過性を有する島状構造の金属薄膜より少なく
とも一種、低屈折率材料より少なくとも一種選択し、所
定の厚さで交互に積層させる事により、特定の波長の可
視光に対する吸収あるいは反射を示すものである。な
お、金属から構成される薄膜は、構成材料の状態や形成
条件などにより、屈折率などの光学特性が変わってくる
ため、本発明の実施例では一定の条件における値を用い
ている。

【００４０】上記した各材料から屈折率、反射率、透過
率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性などに
基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜を形
成する。形成方法は公知の手法を用いることができ、膜
厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ・ｄ、
ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な、通常の真
空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法や
ＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができ
る。

【００４１】また、低屈折率有機ポリマーの成膜方法と
しては、公知のグラビア印刷方、オフセット印刷方、ス
クリーン印刷方などの印刷方法やバーコート法、グラビ
ア法、ロールコート法等などの塗布方法等を用いること
ができる。なお、本発明ではセラミックス・金属のみを
開示しているが、セラミックス・金属と同等、あるいは
類似する屈折率と反射率を有するものであれば、用いる
ことが可能である。

【００４２】この多層薄膜層の、具体例を挙げるなら
ば、その層厚が５０〜２００００Åの範囲であり、また
薄膜の層構成は上記した高屈折率の材料もしくは金属材
料からなる薄膜、例えばＺｎＳ、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、
Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、ＳｎＯ、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂ 、ＺｎＯ、Ｔａ
₂ Ｏ₃ 、Ａｌ、Ｓｎなどと、上記した低屈折率の材料か
らなる薄膜、例えばＭｇＦ₂ 、ＳｉＯ₂ 、ＣａＦ₂ 、Ｍ
ｇＯ、Ａｌ₂ Ｏ₃ などとの組み合わせであり、それらを
交互に積層し、その積層数が２層以上であり、好ましく
は２層〜９層であるものが挙げられる。尚、用いられる
材料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるた
め、これに限定されるものではない。

【００４３】隠蔽層（２４）は樹脂層（２４−１）およ
び非導電性薄膜層（２４−２）から構成され、非導電性
薄膜層（２４−２）は樹脂層（２４−１）と積層した場
合その境界で光を反射する特性を有している。この特性
を利用し薄膜を形成する面を予め細かく荒らしておくこ
とで光の反射面積をより多くし、さらには反射光を散乱
させることにより、白色の隠蔽層を得ることが可能であ
る。また、セラミックス材料以外の金属を用いた場合に
おいても、薄膜を形成する面を予め細かく荒らしておく
ことで金属光沢を抑え、より白色に近い隠蔽層を得る事
が可能である。

【００４４】樹脂層（２４−１）はポリカーボネート樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アクリル
樹脂、ポリエステル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポ
リエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱
硬化性樹脂、あるいは、ラジカル重合性不飽和基を有す
る紫外線や電子線硬化性樹脂を単独あるい複合して用い
ることができる。更に隠蔽層（２４）の構成層である樹
脂層（２４−１）をマット化する方法として、無機フィ
ラ／或いは有機フィラ／或いは着色顔料のマット剤を使
用した方法、エンボス方式により表面をマット化する方
法、サンドブラスト法により表面をマット化する方法、
相溶性の異なる２種類以上の樹脂をブレンドして成膜課
程で表面をマット化する方法があげられる。何れの方法
においても、隠蔽層（２４）表面を細かく荒らすこと
で、例えば金属光沢の得られる薄膜を設けたとしても、
入射光は乱反射し白色な隠蔽層（２４）が得られる。

【００４５】非導電性薄膜層（２４−１）は、例えば島
状構造でなる金属薄膜やセラミックス材料からなる薄膜
を用いるのが良い。以降これらに関してさらに詳しく説
明する。

【００４６】島状構造でなる金属薄膜とは、図４に示す
ようにサイズ２００Å〜１μｍの粒子が間隔１０Å〜５
０００Å程度で各々が孤立した島状に形成された薄膜で
あり、島（４１）同士が離れているため、薄膜全体には
導電性を示さない。また、その間隔も非常に小さいた
め、膜全体では光を反射する特性を示し、磁気層（３
１）を隠蔽することが可能となる。この薄膜は真空蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング等の薄膜形
成法により直接形成する方法（特公平６−６７８３号公
報）があり、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａｌ合金、Ｓｎ−Ｓｉ合金、
Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｇｅ等がが挙げ
られるが、融点の低い金属や貴金属が加工に適してお
り、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａｌ合金、Ｓｎ−Ｓｉ合金が好まし
い。

【００４７】その他に島状構造の薄膜を形成する方法と
しては、Ａｌのような島状構造の蒸着が難しい材料であ
っても、一旦連続した薄膜を形成した後、島状構造とな
るようにエッチングにより部分的に薄膜を除去し製造す
ることも可能である。これら以外の方法であっても各々
が独立した島構造の薄膜が形成できる公知の手法であれ
ば利用可能であり、限定される物ではない。

【００４８】一方、金属酸化物、硫化物等の誘電体材料
を用いた隠蔽層は例えばＴｉＯ₂ 、Ｓｉ₂ Ｏ₃ 、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂ 、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＳ、ＭｇＯ、Ａｌ₂ Ｏ
₃ 、ＡｌＦ₃ 等のセラミックス材料が挙げられる。これ
ら材料は色調や光透過性の程度から様々ではあるが２０
０Å〜１００００Åの範囲にて公知の真空蒸着、スパッ
タリング、イオンプレーティング等の薄膜形成法で設け
られる。

【００４９】これらの材料は導電性を示さず、静電気に
よる不具合を生じにくい媒体が得られるが、いずれも透
明性が高く隠蔽性に劣る。しかしながらＴｉＯ₂ ２、Ｓ
ｉ₂Ｏ₃ 、ＺｎＳ等の材料はプラスチック材料と屈折率
が異なるため、入射光は反射して隠蔽性が得られる。

【００５０】接着剤層（２５）は転写媒体（１１）を磁
気情報記録媒体（３０）に接着させる構成層であり、軟
化点１５０℃以下の高分子材料を印刷法、コーティング
法により膜厚０. ５μｍ〜１０μｍに塗布し設けられ
る。高分子材料としてはポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂、アクリル系樹脂の単独、混合或いは共重
合物、エラストマー等が用いられる。好ましくはポリ塩
化ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂が
用られる。

【００５１】磁気情報記録媒体（３０）は当業者に公知
な偽造防止効果を必要とするクレジットカードやキャッ
シュカード、ＩＤカード、更にはポイントカード等の磁
気層３１を有した磁気情報記録媒体が使用される。この
際、磁気層（３１）が磁気情報記録媒体（３０）の一部
に設けられている場合、その他の部分を磁気層（３１）
と同色系の印刷を施すか、顔料、或いは染料等を用いて
着色することで、全体の色バラツキを無くしても差し支
えない。

【００５２】磁気層（３１）は当業者に公知な磁性材料
を全面、或いは部分的に印刷法、コーティング法等で設
けることができる。更には、磁気テープ等を熱プレス、
熱転写等で設けることも差し支えないものである。

【００５３】以上に説明した構成は、一例であり、商品
の形態あるいは製造方法により各層の上に接着層や印刷
層を適宜設けることは可能である。また、その積層する
順もこれに示した限りでなく、例えばＯＶＤ層（２３）
の下層に印刷層（２２）を有する構成やＯＶＤ効果層
（２３−２）が隠蔽層（２４）を兼ねる構成であっても
良い。

【００５４】更に、偽造防止を向上させるべく蛍光発色
インキや赤外線インキや液晶高分子等にて潜像を付与し
た構成も付け加えることも可能である。

【００５５】

【実施例】本発明を、具体的な実施例を挙げて詳細に説
明する。 ［実施例１］図２に示した本発明の転写媒体の一実施例
を示す断面図を用いて詳しく説明する。厚み１２μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルムから成る支持体
（２０）に剥離保護層塗料をグラビア印刷法にて１μｍ
塗布し、剥離保護層（２１）を設けた。この上層に絵柄
をオフセット印刷法にて１μｍ程度の厚みで印刷層（２
２）を施した。この上層にＯＶＤ層をグラビア印刷法で
１μｍ、ＯＶＤ効果層としてＴｉＯ₂ を真空蒸着にて５
００Å形成した後、ロールエンボス法を用いて１４０℃
に熱したレリフー型レインボーホログラムのスタンパー
を押し当て、レインボーホログラムパターンを成形し
た。この上層に隠蔽層（２４）として樹脂層（２４−
１）をグラビア印刷法にて１μｍ塗布し、更に非導電性
薄膜層（２４−２）としてＳｎを真空蒸着法にて島状に
蒸着した。この上層に接着剤層塗料をグラビア印刷法に
て１μｍ塗布し、接着剤層（２５）を形成し転写媒体
（１１）とした。得られた転写媒体（１１）を、予め磁
気層（３１）として６５０Ｏｅの磁気テープを熱により
埋め込んだ厚み７６０μｍの塩化ビニルから成る磁気情
報記録媒体（３０）に１４０℃の熱ロール法にて接着し
図３の如くカードを形成した。

【００５６】上記で使用した層の塗料成分構成を下記に
示す。 （剥離保護層塗料） アクリル樹脂 １０部 カルナバワックス １部 ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ４５部 トルエン ４５部 〈ＯＶＤ層塗料〉 ポリエステル ２０部 ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート） ５部 ＭＥＫ ５０部 トルエン ２５部 （隠蔽層塗料） ポリエステル樹脂 ２０部 シリカ ２部 ＭＥＫ ４０部 トルエン ４０部 （接着剤層塗料） ポリエステル樹脂 １０部 ウレタン樹脂 １０部 ＭＥＫ ４０部 トルエン ４０部

【００５７】このようにして得られた磁気情報記録媒体
は外見では磁気層が確認されず、わずか５００ÅのＳｎ
蒸着にて隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気
テープ上の印刷の厚みが５．０μｍ程度であるため良好
な出力が得られた。また、積み重ねた状態で電荷をため
ることもなく、電気を急激に放電することもないので、
作業がしやすく、磁気情報の数十回書込読出を行っても
エラーは生じなかった。

【００５８】［実施例２］厚み１２μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムから成る支持体（２０）に上記
実施例１記載の剥離保護層塗料をグラビア印刷法にて１
μｍ塗布し、剥離保護層（２１）を設けた。この上層に
絵柄をオフセット印刷法にて１μｍ程度の厚みで印刷層
（２２）を施した。この上層に上記実施例１記載のＯＶ
Ｄ層をグラビア印刷法で１μｍ、ＯＶＤ効果層としてＴ
ｉＯ₂ を真空蒸着にて５００Å形成した後、ロールエン
ボス法を用いて１４０℃に熱したレリフー型レインボー
ホログラムのスタンパーを押し当て、レインボーホログ
ラムパターンを成形した。この上層に隠蔽層（２４）と
して樹脂層（２４−１）をグラビア印刷法にて１μｍ塗
布し、１２０℃の熱ロール法にてマット調にエンボスし
た後、更に非導電性薄膜層（２４−２）としてＳｎを真
空蒸着法にて島状に蒸着した。この上層に上記実施例１
記載の接着剤層塗料をグラビア印刷法にて１μｍ塗布
し、接着剤層（２５）を形成し転写媒体（１１）とし
た。得られた転写媒体（１１）を、予め磁気層（３１）
として６５０Ｏｅの磁気テープを熱により埋め込んだ厚
み７６０μｍの塩化ビニルから成る磁気情報記録媒体
（３０）に１４０℃の熱ロール法にて接着し図３の如く
カードを形成した。

【００５９】上記実施例２の隠蔽層塗料成分構成 （隠蔽層塗料） ポリウレタン樹脂 ２０部 ＭＥＫ ４０部 トルエン ４０部

【００６０】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか５００ÅのＳｎ蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上の印刷の厚みが５．０μｍ程度であるため良好な出力
が得られた。また、積み重ねた状態で電荷をためること
もなく、電気を急激に放電することもないので、作業が
しやすく、磁気情報の数十回書込読出を行ってもエラー
は生じなかった。

【００６１】［実施例３］厚み１２μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムから成る支持体（２０）に上記
実施例１記載の剥離保護層塗料をグラビア印刷法にて１
μｍ塗布し、剥離保護層（２１）を設けた。この上層に
絵柄をオフセット印刷法にて１μｍ程度の厚みで印刷層
（２２）を施した。この上層に上記実施例１記載のＯＶ
Ｄ層をグラビア印刷法で１μｍ、ＯＶＤ効果層としてＴ
ｉＯ₂ を真空蒸着にて５００Å形成した後、ロールエン
ボス法を用いて１４０℃に熱したレリフー型レインボー
ホログラムのスタンパーを押し当て、レインボーホログ
ラムパターンを成形した。この上層に隠蔽層（２４）と
して樹脂層（２４−１）をグラビア印刷法にて１μｍ塗
布し、サンドブラスト法にてマット調にした後、更に非
導電性薄膜層（２４−２）としてＳｎを真空蒸着法にて
島状に蒸着した。この上層に上記実施例１記載の接着剤
層塗料をグラビア印刷法にて１μｍ塗布し、接着剤層
（２５）を形成し転写媒体（１１）とした。

【００６２】得られた転写媒体（１１）を、予め磁気層
（３１）として６５０Ｏｅの磁気テープを熱により埋め
込んだ厚み７６０μｍの塩化ビニルから成る磁気情報記
録媒体（３０）に１４０℃の熱ロール法にて接着し図３
の如くカードを形成した。

【００６３】上記実施例３の隠蔽層塗料成分構成 （隠蔽層塗料） ポリウレタン樹脂 ２０部 ＭＥＫ ４０部 トルエン ４０部

【００６４】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか５００ÅのＳｎ蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上の印刷の厚みが５．０μｍ程度であるため良好な出力
が得られた。また、積み重ねた状態で電荷をためること
もなく、電気を急激に放電することもないので、作業が
しやすく、磁気情報の数十回書込読出を行ってもエラー
は生じなかった。

【００６５】［実施例４］厚み１２μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムから成る支持体（２０）に上記
実施例１記載の剥離保護層塗料をグラビア印刷法にて１
μｍ塗布し、剥離保護層（２１）を設けた。この上層に
絵柄をオフセット印刷法にて１μｍ程度の厚みで印刷層
（２２）を施した。この上層に上記実施例１記載のＯＶ
Ｄ層をグラビア印刷法で１μｍ、ＯＶＤ効果層としてＴ
ｉＯ₂ を真空蒸着にて５００Å形成した後、ロールエン
ボス法を用いて１４０℃に熱したレリフー型レインボー
ホログラムのスタンパーを押し当て、レインボーホログ
ラムパターンを成形した。この上層に隠蔽層（２４）と
して相溶性の異なる樹脂をブレンドした塗料をグラビア
印刷法にて１μｍ塗布し樹脂層（２４−１）を得た。更
に非導電性薄膜層（２４−２）としてＳｎを真空蒸着法
にて島状に蒸着した。この上層に上記実施例１記載の接
着剤層塗料をグラビア印刷法にて１μｍ塗布し、接着剤
層（２５）を形成し転写媒体（１１）とした。

【００６６】得られた転写媒体（１１）を、予め磁気層
３１として６５０Ｏｅの磁気テープを熱により埋め込ん
だ厚み７６０μｍの塩化ビニルから成る磁気情報記録媒
体（３０）に１４０℃の熱ロール法にて接着し図３の如
くカードを形成した。

【００６７】上記実施例４の隠蔽層塗料成分構成 （隠蔽層塗料） ポリウレタン樹脂 １０部 アクリル樹脂 １０部 ＭＥＫ ４０部 トルエン ４０部

【００６８】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか５００ÅのＳｎ蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上の印刷の厚みが５．０μｍ程度であるため良好な出力
が得られた。また、積み重ねた状態で電荷をためること
もなく、電気を急激に放電することもないので、作業が
しやすく、磁気情報の数十回書込読出を行ってもエラー
は生じなかった。

【００６９】磁気テープがない場合には、隠蔽層が必ず
しも導電性を有しない薄膜である必要はなく、表面をマ
ット化して置けば良い。しかし、磁気テープが設けられ
ている場合には、磁気情報を書き込む或いは読み出す際
に電荷の放電によるエラーを防ぐため導電性を有しない
薄膜であることが必要である。

【００７０】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の転写媒体
は、表面をマット状にした隠蔽層を設けることでデザイ
ンの自由度が向上し、更にはＯＶＤが形成されているに
もかかわらず、十分な磁気出力が得られるとともに、取
り扱い時の不具合や、磁気情報の書込読出時にもエラー
を生じない媒体を提供することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写媒体の一実施例を示す断面図であ
る。

【図２】本発明の転写媒体の一実施例を示す断面図であ
る。

【図３】本発明の転写媒体を磁気情報記録媒体に応用し
た一応用例を示す断面図である。

【図４】隠蔽層の島状構造を説明する概念図である。

【符号の説明】

１１・・転写媒体 ２０・・支持体 ２１・・剥離保護層 ２２・・印刷層 ２３・・ＯＶＤ層 ２３−１・・ＯＶＤ樹脂層 ２３−２・・ＯＶＤ効果層 ２４・・隠蔽層 ２４−１・・樹脂層 ２４−２・・非導電性薄膜層 ２５・・接着剤層 ３０・・磁気情報記録媒体 ３１・・磁気層 ４０・・隠蔽層 ４１・・金属薄膜（島）

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ４１Ｍ 3/14 Ｂ４２Ｄ 15/10 ５０１Ｅ ４Ｆ１００ Ｂ４２Ｄ 15/10 ５０１ ５０１Ｇ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2C005 HA04 HA26 HB01 HB09 HB10 JA02 JA19 KA09 KA15 KA40 2H113 AA01 AA03 AA04 AA06 BA22 BA27 BA39 BB07 BB22 BB32 BC10 CA00 CA37 CA39 DA68 FA03 FA07 FA09 FA12 2K008 AA13 EE04 FF02 FF13 FF14 HH02 2K009 AA12 BB13 BB24 CC02 CC03 CC14 DD03 DD04 DD07 DD15 EE00 3B005 EA07 EA12 EB01 FA04 FA07 FB09 FB36 FB38 FB43 FB53 4F100 AA01C AA01H AA17C AA21 AB01C AB21 AK01C AK01H AK25 AK42 AK51 AL05C AR00B AR00D AR00E AT00A BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D BA41 CA13C CA23C DD07C EH66 EJ17C EJ34C EJ40C EJ42C GB71 HB08E HB21C HB31E JB04C JG01C JG05C JL00 JL05 JL11D JL14B JM02C JN02C

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に少なくとも、剥離保護層、隠蔽
   層、接着剤層を設けてある転写媒体において、隠蔽層は
   マット状に粗面化、非導電性薄膜層、或いは非導電性薄
   膜層でかつマット状に粗面化されている隠蔽層であるこ
   とを特徴とする転写媒体。
2. 【請求項２】前記転写媒体において、剥離保護層と隠蔽
   層の層間に印刷層、ＯＶＤ層を設けたことを特徴とする
   請求項１に記載の転写媒体。
3. 【請求項３】前記転写媒体において、隠蔽層は無機フィ
   ラ、有機フィラ、着色顔料或いはこれらを混合して混入
   させ表面をマット状にしたことを特徴とする請求項１又
   は請求項２に記載の転写媒体。
4. 【請求項４】前記転写媒体において、隠蔽層は熱圧によ
   るエンボス方式により表面をマット状にしたことを特徴
   とする請求項１又は請求項２に記載の転写媒体。
5. 【請求項５】前記転写媒体において、隠蔽層はサンドブ
   ラスト法により表面をマット状としたことを特徴とする
   請求項１又は請求項２に記載の転写媒体。
6. 【請求項６】前記転写媒体において、隠蔽層は相溶性の
   異なる２種類以上の樹脂をブレンドして成膜課程で表面
   をマット状にしたことを特徴とする請求項１又は請求項
   ２に記載の転写媒体。
7. 【請求項７】前記転写媒体において、隠蔽層の非導電性
   薄膜層は島状構造を有した金属薄膜よりなることを特徴
   とする請求項１から６のいずれか１項に記載の転写媒
   体。
8. 【請求項８】前記転写媒体において、隠蔽層の非導電性
   薄膜層は金属酸化物等の誘電体薄膜よりなることを特徴
   とする請求項１から６のいずれか１項に記載の転写媒
   体。