JP4729816B2 - Ｏｖｄ転写媒体とその製造方法、および磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気情報を有する磁気記録カードを構成するための転写箔に関し、更に詳しくはカード基材上に磁気テープを配し、更にこれを隠蔽し、印刷層、保護層を有するオーバープリントカード、特にホログラムや光回折格子等の見る角度によりその画像や色が変化するＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）表示体を加工することが可能なオーバープリントカードを製造するために好適なＯＶＤ転写箔とそれを用いて製造されたにより転写された磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、磁気記録媒体であるクレジットカードやキャッシュカードが広く利用されている。これらは、一般的に白色の塩化ビニル樹脂をコア材として用い、この両面もしくは片面に、所定の磁気テープを所定位置に貼付した透明な塩化ビニル樹脂シートを重ねて加熱加圧プレスしたものを基材として用いたものである。
【０００３】
欧州や米国では白色のコア材に印刷を施し、後に透明シートをプレスする構成をとっている。しかし日本国内では、これら諸外国と同じ構成の他に、透明シートをプレス接着した後に、表面にデザイン等の絵柄印刷を施す構成のカードも使用されている。
これは、日本国内のみで通用するＪＩＳ規格の磁気テープがカード表面に付与されているためである。すなわち、諸外国ではカード表面に磁気テープがないため、印刷はシートの内側でかまわないが、日本ではカード表面にＪＩＳ規格磁気テープを使用し、磁気情報の記録消去を行う必要があるため、この磁気テープが基材の最表層付近になければならず、結果として透明シートの外側に磁気テープを設けることになる。そのため、デザインの都合上この磁気テープを隠蔽するための印刷を透明シートの外側に施す必要がある。
【０００４】
この透明シートの外側の磁気テープを隠蔽し絵柄を印刷したカードをオーバープリントカード（以下、ＯＰカード）と呼ぶことにする。
ＯＰカードの作成手順は次の通りである。白色塩化ビニルコアの両面に、あらかじめ所定位置に磁気テープを貼付した透明塩化ビニルシートを重ね、加熱加圧プレスしてカード基材を得る。その後、磁気テープを隠すための隠蔽層、デザインのための印刷層、印刷面を保護するための保護層が設けられ、表面を平らにするためのプレスを再度行ってカード形状に打ち抜き、必要に応じて設けられるホログラムの箔転写、サインパネル転写及びエンボス工程を経て、ＯＰカードとなる。
【０００５】
また、近年このＯＰカードにホログラムや回折格子が付与されるようになってきた。
これら光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、光学特性の異なる薄膜を重ねることにより、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層薄膜等のＯＶＤ（Optically Variable Device）は立体画像やカラーシフトといった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有している。また、ＯＶＤは高度な製造技術を要することから有効な偽造防止手段としての効果も有している。これらＯＶＤ表示体はＯＶＤ画像を形成してなるＯＶＤ形成層や光を反射しＯＶＤの効果を促進するＯＶＤ効果層が必要であり、一般的にはＯＰカードに支持体／保護層／ＯＶＤ形成層／ＯＶＤ効果層／接着層からなるＯＶＤ転写箔を貼り付け製造される。
【０００６】
さらに、近年のクレジットカードの偽造・不正使用防止策の一つとして、カードに所有者の顔写真を付与することも行われている。これは、昇華（熱移行）性の染料を用い、ＹＭＣの各色に塗り分けた昇華転写リボンをサーマルヘッド等で熱エネルギーを与え、個々の画像情報を記録していくものである。この顔写真ＯＰカードは、保護層上に別途塩化ビニルのように昇華染料が移行しやすい材料からなる受像層を設け、プレス加工を行い表面を平にして製造されている。
【０００７】
以上のように、印刷層が透明シートの内側にあって十分に保護されている諸外国のカードとは異なり、日本のＯＰカードはカード表面に様々な加工が施されている。
【０００８】
一方、一般的に磁気テープ上の印刷加工は磁気情報の読み取り性能の問題から６〜９μｍ程度であり、これらの様々な印刷や加工を施すためにはいずれの印刷もより薄い膜で形成しなければならない。その一方で様々な耐久性が要求されている。
中でも、磁気情報の読みとりや記録を行うときの磁気ヘッドの擦れに対する耐摩擦性は重要であり、特にＯＶＤのように何層も積層されるカードにおいては、より薄い保護層で耐摩擦性を確保しなければならない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
一般的に、ホログラム等のＯＶＤ転写箔の保護層はカード表面に使用するには耐摩擦性に劣っている。そのため、保護層に多量の滑材を添加し、耐摩擦性を確保する試みが行われているが、転写の際に表面へ滑材成分が析出し、粉ふいたような現象を起こしてしまう。この滑材成分の析出は、ＡＴＭ等カードリーダー内に蓄積され、内部を汚染し磁気の読みとりエラーや搬送不良を引き起こす。また、外観上に曇りが生じ、ＯＶＤの装飾効果を損なってしまうという問題を生じる。最近では、滑材を多用せず耐摩擦性を得るためにＵＶ硬化樹脂や熱硬化樹脂等の硬化タイプの樹脂をもちいる構成も提案されているが、これら硬化タイプの樹脂は様々なものとの密着性が悪いという欠点を有している。したがって、クレジットカードのほとんどに貼着されるクレジット会社固有のホログラム箔を転写することが非常に困難となってしまう。
【００１０】
本発明は、滑材による粉ふきや曇りを低減し、かつ耐久性、後加工適性を満足することができる転写媒体とその製造方法を提供することを課題としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するためになされた請求項１に記載の発明は、支持体上に、支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層が少なくともこの順で設けてあるＯＶＤ転写媒体であって、該第一の保護層が、樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成され、
該第二の保護層は、該第一の保護層の場合よりも滑材成分の割合が多く含有する組成で構成され、該組成としては、樹脂１００重量部に対して、滑材成分が１〜３０重量％含有すること、を特徴とするＯＶＤ転写媒体である。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、前記第一の保護層が、ガラス転移点が 〜１３０℃の高分子樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成されること、を特徴とする請求項１に記載のＯＶＤ転写媒体である。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、前記第一の保護層が、重合度６００〜２０００の範囲内にある塩化ビニル樹脂１００重量部に対して、融点が９０℃以上の滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成されていること、を特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載のＯＶＤ転写媒体である。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、前記第一の保護層と第二の保護層の合計の厚みが、乾燥厚みで０．４〜９μｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のＯＶＤ転写媒体である。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層が少なくともこの順で設けてあるＯＶＤ転写媒体の製造方法であって、
該第一の保護層を、樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成に形成し、該第二の保護層を、該第一の保護層の場合よりも滑材成分の割合が多く含有する組成とし、且つ、該組成としては樹脂１００重量部に足して、滑材成分が１〜３０重量部含有するように形成すること、を特徴とするＯＶＤ転写媒体の製造方法である。
【００１６】
また、請求項６に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＯＶＤ転写媒体の、前記第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層の少なくとも４層が、磁気記録層を備えた基材上に設けてあることを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１７】
また、請求項７に記載の発明は、前記磁気記録層は、目視による視認が不可能か又は困難なように隠蔽されてあること、を特徴とする請求項６に記載の磁気記録媒体である。
【００１８】
また、請求項８に記載の発明は、磁気記録層を備えた基材上に、接着層、ＯＶＤ層、第二の保護層、および第一の保護層の少なくとも４層を設ける磁気記録媒体の製造方法であって、
該磁気記録層を備えた該基材上に、請求項１乃至４のいずれかに記載のＯＶＤ転写媒体を用いて転写により該接着層、ＯＶＤ層、第二の保護層、および第一の保護層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００１９】
【作用】
本発明によってなる転写媒体を用いることにより、曇りが少なく耐摩擦性の優れたカードを容易に製造可能となる。一方では、ホログラム転写やカードエンボス等の後加工適性にも優れた構成である。さらに、請求項３記載の発明においては昇華染料の移行性に優れたカードがＯＶＤ箔の転写と同時に得られ、従来のように後から受像層を塗布する必要がなくなる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図面を参照して本発明を詳細に説明する。
図１は本発明の転写媒体（１）の構成を示す断面図である。転写媒体（１）は、支持体（２）上に第一保護層（３）、第二保護層（４）、ＯＶＤ層（５）、接着層（６）の順に各層が形成されている。
図２は本発明の転写媒体（１）を被転写体（１１）上に転写し、磁気記録媒体（２０）としてカード化した場合の一実施例を示す断面図である。磁気記録媒体（２０）は、カード基材として白色コア材（１２）の両面に透明オーバーシート材（１３）が積層されている。この透明オーバーシート材（１３）の表面（図の上側）にＪＩＳ磁気テープ（１６）が埋め込まれ、裏面（図の下側）にＩＳＯ磁気テープ（１７）が埋め込まれている。このＪＩＳ磁気テープ（１６）が埋め込まれた面側に、隠蔽層（１４）、印刷層（１５）が設けられ、被転写体（１１）が形成されている。この被転写体（１１）上に、転写媒体（１）上の保護層（３、４）およびＯＶＤ形成層（５）、接着層（６）が転写されて構成されたのが磁気記録媒体（２０）である。
【００２１】
支持体（２）としては厚みが安定しており、かつ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、これに限るものではない。その他の材料としては、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム等の耐熱性が高く、使用することが可能である。また、耐熱性の劣るフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化ビニル等の材料でも、塗液の塗工条件、さらに言えば乾燥条件が許せば使用可能である。
また、転写条件等により第一保護層の剥離が困難である場合には、支持体側に別途、従来既知の離形層を設けても良く、剥離が軽すぎる場合には同様に、従来既知の易接着処理を行っても良い。 また、転写層への影響が無い限りは、帯電防止処理等の加工も何ら問題は無い。
【００２２】
次に、保護層（３、４）、ＯＶＤ形成層（５）および接着層（６）の組成について説明する。
第一保護層（３）は、転写媒体（１）の加熱プレス転写後には容易に支持体（２）と剥離する材料が好ましい。例を挙げるならば、ポリアクリル酸エステル樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、セルロース系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネイト系樹脂等熱可塑性樹脂やメラミン、エポキシ等の熱硬化性樹やラジカル重合性不飽和基を有する紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等を単独あるい複合して用いることができる。
【００２３】
しかしながら硬化性樹脂は後加工でホログラムを転写した際に、接着しにくいという欠点を有しており、望ましくはホログラムの転写温度である１３０℃〜１８０℃の熱で軟化しやすい材料が好ましい。
具体的には軟化点１８０℃以下の高分子材料を用いることが望まれる。
これ以上にガラス転移点の高いものは熱により溶融・接着性が乏しく、ホログラムが接着しない可能性が高い。
【００２４】
一方、箔切れ性や耐摩性を考慮し、石油系ワックス、植物系ワックス等の各種ワックス、ステアリン酸等の脂肪酸やその金属塩、シリコンオイル等の滑材や、テトラフロロエチレンパウダー、ポリエチレンパウダー、シリコーン系微粒子やアクリルニトリル系微粒子等の有機フィラーおよび、シリカ微粒子等の無機フィラーを添加することもできる。しかしながらこの層は再表面に位置するため滑材の凹凸が現れやすく、その部分で光が乱反射し曇りを生じるため、滑材を多量に添加することは好ましくない。また、多量に添加することは前述のホログラムの密着や粉ふきの問題を生じるためにも極力添加を控える必要がある。それゆえ添加量は場合により添加しない、或いは樹脂１００重量部に対して１５重量部以下が好ましい。
【００２５】
また、カードに顔写真等の個々の情報を昇華転写方式により画像を形成する必要があれば、請求項３に記載のように昇華染料が移行しやすい塩化ビニル材料を用いる。特に１）重合度が６００から２０００の範囲内にある塩化ビニル樹脂を含有する組成、２）融点が９０℃以上の滑材成分を樹脂１００重量部に対して、１５重量部以下とする組成が好ましい。
【００２６】
詳しく説明するならば、重合度６００以下の塩化ビニル材料は熱や光による劣化の問題が生じやすい。この劣化現象はポリ塩化ビニルが空気（酸素）に接して、熱や光（紫外線）に曝されると脱塩素を起こし、不安定な共役二重結合のポリエン構造を生じて変色し始める。さらには架橋や分子切断を誘発して分解・劣化を導き、黒変・脆化・発泡等を起こし、使用に耐えなくなる現象を生じてしまうのである。また、重合度が２０００を超える場合には各種溶剤への溶解性が乏しくなり、溶液のゲル化等の問題が発生し、加工性の問題を引き起こす。熱溶融押し出し法等で無溶剤による薄膜均一加工が可能である場合には、これに限定されるものでは無い。
【００２７】
また、厚みとしては十分に染料を受け取るために、塩化ビニル樹脂でなる層が少なくとも０．４μｍ以上必要である。すなわち、第一保護層自体が０．４μｍ以上あれば良いが、後述する第二保護層も塩化ビニルを用いるならば、合計の厚みが０．４μｍ以上になれば良い。当然、第一保護層自体が０．４μｍ以上あれば第二保護層は如何なる材料も使用可能となる。
【００２８】
一方、添加する滑材に関して述べる。融点９０℃以下の滑材を使用すると昇華リボンの貼り付きが頻繁に生じる。そのため添加する滑材は９０℃以上のものが好ましい。この現象は、昇華転写リボンにサーマルヘッドから熱エネルギーを与え、染料を昇華させ移行させる際に、保護層の樹脂中に含まれる滑材の影響によって、保護層自体が溶融しやすくなり、リボンのバインダーと接着するために生じる現象と考えられる。それゆえ、融点が９０℃を超える滑材を使用することが好ましい。
【００２９】
このように第一保護層は後加工や曇りの問題により樹脂や滑材が制限されるため、耐摩擦性が劣るという問題がある。そこでこの問題を解消すべく二層目の第二保護層には強靭な樹脂を用いるか、あるいはより多く滑材を添加し滑り性を与え箔の削れを食い止める効果を与えなければならない。使用される樹脂は前述の第一保護層とおなじものが挙げられるが、この層は前述の後加工適性を考慮する必要が無いため、より強靭な紫外線硬化や熱硬化等の硬化タイプも使用可能である。一方、曇り性も考慮する必要は無く、滑材も前述の材料から適宜選択され添加可能である。しかしながら滑材の添加により層間の接着強度が低下するため、添加量は３０重量部以下が好ましい。
【００３０】
ＯＶＤ層（５）は光の干渉を利用したＯＶＤ画像を形成する層であり、立体画像の表現や見る角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体を形成する層である。その中でホログラムや回折格子のごときＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を記録する体積型が挙げられる。一方、ホログラムや回折格子と手法が異なり、光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層し、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層膜方式もその例である。これらは一例であり、光の干渉を利用した固有の像や色の変化を生じる公知の表示技術であればこれらに限されるものではない。
これら、ＯＶＤの中でも量産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）や多層薄膜方式のものが好ましい。
【００３１】
以降、これらに関して詳しく説明する。
レリーフ型のホログラム（回折格子）は光学的な撮影方式により、微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製し、電気メッキ法によりパターンを複製したニッケル製のプレス版にて量産を行う。すなわち、このプレス版を加熱しＯＶＤ形成層（５ａ）に押し当て、凹凸パターンを複製する。それゆえ、ＯＶＤ形成層（５ａ）は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料であって、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹脂を単独あるい複合して用いることができる。また、上記以外ものでも、ＯＶＤレリーフパターンを形成可能な安定性を有する材料であれば使用可能である。
【００３２】
また、レリーフ型のホログラム（回折格子）を用いた場合、その回折効率を高めるためレリーフ面を構成する高分子材料と屈折率の異なる反射層（ＯＶＤ効果層５ｂ）を設けることが好ましい。
このＯＶＤ効果層（５ｂ）を設けることにより、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をもたらす。用いる材料としては、屈折率の異なるＴｉＯ2、Ｓｉ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＳ、などの高屈折率材料やより反射効果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられ、これら材料を単独あるいは積層して使用できる。これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は用途によって異なるが、５０〜１００００Å程度で形成される。ＡｌやＳｎの金属反射層を用いた場合は、印刷層（１７）やカード上の磁気テープを隠蔽する効果も有するため、これら隠蔽層（１６）や印刷層（１７）は省かれる。
【００３３】
上記以外でも、ＯＶＤ効果層（５ｂ）を構成する材料としては、その屈折率が、ＯＶＤ形成層（５ａ）で使用される高分子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも高い材料であれば、上記の無機材料や、それ以外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機系フィラーを分散したものであっても使用可能である。
さらには、上記以外の材料であっても反射性を有した材料であれば、適宜使用することが可能である。
【００３４】
一方、多層薄膜方式を用いる場合、前述したように、ＯＶＤ層は異なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
この多層薄膜層は、セラミックスや金属などの材料が用いられ、おおよそ２つ以上の高屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜厚で積層したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げる。まず、セラミックスとしては、Ｓｂ2Ｏ3（３．０＝屈折率ｎ：以下同じ）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（２．０）、ＷＯ3（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ2（１．５）、ＭｇＦ2（１．４）、ＣｅＦ3（１．６）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１．６）、Ａｌ2Ｏ3（１．６）、ＧａＯ（１．７）等があり、金属単体もしくは合金の薄膜、例えばＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。また、低屈折率の有機ポリマーとしては、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等がある。これらの高屈折率材料もしくは３０％〜６０％透過の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる事により、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示すようになる。
なお、金属から構成される薄膜は、構成材料の状態や形成条件などにより、屈折率などの光学特性が変わってくるため、本発明の実施例では一定の条件における値を用いている。
【００３５】
上記した各材料から屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性などに基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜を形成する。形成方法は公知の手法を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な、通常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができる。また、低屈折率有機ポリマーの成膜方法としては、公知のグラビア印刷方、オフセット印刷方、スクリーン印刷方などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法等などの塗布方法等を用いることができる。なお、本発明ではセラミックス・金属のみを開示しているが、セラミックス・金属と同等、あるいは類似する屈折率と反射率を有するものであれば、用いることが可能である。
【００３６】
この多層薄膜層の、具体例を挙げるならば、その層厚が５０〜２００００Åの範囲であり、また薄膜の層構成は上記した高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例えばＺｎＳ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ、ＩＴＯ、ＣｅＯ2、ＺｎＯ、Ｔａ2Ｏ3、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉなどと、上記した低屈折率の材料からなる薄膜と、例えばＭｇＦ2、ＳｉＯ2、ＣａＦ2、ＭｇＯ、Ａｌ2Ｏ3などとの組み合わせであり、それらを交互に積層したものが挙げられる。また、その積層数は２層以上であり、好ましくは２層〜９層であるものが望まれる。尚、用いられる材料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定されるものではない。
【００３７】
以上ＯＶＤ層５を説明してきたが、これらは代表例であり、見る角度により色が変化するＯＶＩ（Optically variable Inks）やパールインキ等のような公知のＯＶＤ技術を形成することも容易に想像できる。さらには、これらのＯＶＤ技術を適宜選択し組み合わせることも可能である。
【００３８】
接着層（６）としては、ＯＶＤ層（５）とカード基材あるいは印刷層（１５）や隠蔽層（１４）とを接着させるという性能が要求される。その材質としては熱可塑性樹脂が好ましく、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹脂等の単体あるいは共重合体を、単独もしくは複合して使用可能であるが、これらに限定されるものではない。また、ブロッキングの防止および箔切れ性を考慮し、石油系ワックス、植物系ワックス等の各種ワックス、ステアリン酸等の脂肪酸やその金属塩、シリコンオイル等の滑材や、テトラフロロエチレンパウダー、ポリエチレンパウダー、シリコーン系微粒子やアクリルニトリル系微粒子等の有機フィラーおよび、シリカ微粒子等の無機フィラーを添加することもできる。
【００３９】
以上のように本発明のＯＶＤ転写箔の構成および材料を説明したが、これは代表例であり、各層の接着性を挙げるために層の間にアンカー層を設けることや、装飾効果を高めるために各層に染料や顔料で着色すること、あるいは構成する層の間に印刷層を設けることも容易に思いつく構成である。また、偽造防止効果を向上させるべく、公知の紫外線や赤外線で発光する蛍光・蓄光材料や赤外線吸収材料など光学的に特殊な吸収・発光特性を示し、特定の光で検証可能な材料を混入することや、それらを含有するインキにて印刷層を設けるなどの構成等、目的に合わせ適宜選択のうえ付与することも可能である。
【００４０】
【実施例】
以下に、実施例を示す。
＜実施例１＞
支持体（２）として表面未処理の２５μｍ厚ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、この上に、下記組成からなる第１保護層及び第２保護層を各々０．５μｍ形成した。その後、ＯＶＤ形成層塗料を１．０μｍで塗布し、１００℃雰囲気中に２４時間放置し、硬化を促進させた。
次いで、ロールエンボス法によりＯＶＤレリーフパターンを形成した後、真空蒸着法を用いて膜厚０．０５μｍのＺｎＳ蒸着薄膜層（ＯＶＤ効果層）を設けた。その後、接着層塗料を１．０μｍ設け、ＯＶＤ転写箔を得た。
【００４１】
（第一保護層の組成）
塩化ビニル樹脂 …１０部
ポリエチレンワックス …０．５部
ＴＨＦ（テトラヒドロフラン） …９０部
トルエン …９．５部
（第二保護層の組成）
アクリルポリオール …１６部
ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート） …４部
ポリエチレンワックス …４部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） …５０部
トルエン …２６部
（ＯＶＤ形成層の組成）
アクリルポリオール …１６部
ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート） …４部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） …６０部
トルエン …２６部
（接着層の組成）
アクリル樹脂 …２０部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） …４０部
トルエン …４０部
【００４２】
＜比較例１＞
下記組成からなる保護層を１μｍ塗布した。その後、実施例１と同一材料にて同様の手法にてＯＶＤ形成層、ＯＶＤ効果層、接着層を設け、比較例１を得た。
【００４３】
（比較例１の保護層の組成）
アクリル樹脂 …１０部
ポリエチレンワックス …１部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） …５０部
トルエン …３９部
【００４４】
また、上記の構成では透明感が比較しにくいため以下の比較例２、３も同時に作製した。
＜比較例２＞
実施例１と同一の材料および手法により保護層、ＯＶＤ形成層を設けた。
その後、ＯＶＤ画層形成せずＡｌ蒸着薄膜を０．０５μｍ形成し、接着層を１μｍ設けた。
＜比較例３＞
比較例１と同一の材料および手法により保護層、ＯＶＤ形成層を設けた。
その後、ＯＶＤ画層形成せずＡｌ蒸着薄膜を０．０５μｍ形成し、接着層を１μｍ設けた。
【００４５】
こうして得られた４種類の転写箔を１２０℃に熱したゴムロールを用いて被転写体（１１）である磁気テープ付きの塩化ビニルカードに転写した。
【００４６】
＜評価方法＞
それぞれ作成した転写媒体に関し、
▲１▼ 目視による粉ふきの状態を観察し評価した。
▲２▼ 磁気ヘッドパス試験を４０００回、７５００回、１００００回実施した。
▲３▼比較例２、３を反射濃度計により反射濃度を測定しその白色度合いを評価した。
【００４７】
＜評価結果＞
評価結果を［表１］に示す。
【００４８】
【表１】
【００４９】
実施例１は比較例１に較べ耐摩擦性に優れ、粉ふきも生じていない。
また実施例１と同一構成（ＯＶＤ効果層だけ異なる）の比較例２は比較例１と同一（ＯＶＤ効果層だけ異なる）の構成である比較例３よりよ曇りが少なく透明感に優れていることから、実施例１の構成は比較例１の構成より透明感に優れると推定される。
それゆえ、本発明の実施例は従来の保護層一層構成よりも透明感および耐摩擦性に優れる。
また、本発明の実施例に昇華染料タイプの転写リボンを転写し、画像を成形したところ、良好な画像が得られた。
【００５０】
【発明の効果】
本発明の第１保護層、第２保護層を有する転写媒体を用いることにより、曇りが少なく耐摩擦性の優れたカードを容易に製造可能となる。一方では、ホログラム転写やカードエンボス等の後加工適性にも優れた構成である。さらに、保護層に塩化ビニルを使用することにより昇華染料の移行性に優れたカードがＯＶＤ箔の転写と同時に得られ、従来のように後から受像層を塗布する必要がなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の転写媒体の一実施例の構成を示す断面図である。
【図２】本発明の転写媒体を用い、これを転写して得られる磁気記録媒体の一実施例を説明するものであり、（ａ）は、被転写体の断面図、（ｂ）は被転写体に転写媒体を転写してえられた磁気カードの断面図である。
【符号の説明】
１…転写媒体
２…支持体
３… 第一保護層
４…第二保護層
５…ＯＶＤ層
６…接着層
１１…被転写体
１２…コア材
１３…オーバーシート材
１４…隠蔽層
１５…印刷層
１６…ＪＩＳ磁気テープ
１７…ＩＳＯ磁気テープ
２０…磁気記録媒体（磁気テープ付きカード）
【０００１】
本発明は、磁気情報を有する磁気記録カードを構成するための転写箔に関し、更に詳しくはカード基材上に磁気テープを配し、更にこれを隠蔽し、印刷層、保護層を有するオーバープリントカード、特にホログラムや光回折格子等の見る角度によりその画像や色が変化するＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）表示体を加工することが可能なオーバープリントカードを製造するために好適なＯＶＤ転写箔とそれを用いて製造されたにより転写された磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、磁気記録媒体であるクレジットカードやキャッシュカードが広く利用されている。これらは、一般的に白色の塩化ビニル樹脂をコア材として用い、この両面もしくは片面に、所定の磁気テープを所定位置に貼付した透明な塩化ビニル樹脂シートを重ねて加熱加圧プレスしたものを基材として用いたものである。
【０００３】
欧州や米国では白色のコア材に印刷を施し、後に透明シートをプレスする構成をとっている。しかし日本国内では、これら諸外国と同じ構成の他に、透明シートをプレス接着した後に、表面にデザイン等の絵柄印刷を施す構成のカードも使用されている。
これは、日本国内のみで通用するＪＩＳ規格の磁気テープがカード表面に付与されているためである。すなわち、諸外国ではカード表面に磁気テープがないため、印刷はシートの内側でかまわないが、日本ではカード表面にＪＩＳ規格磁気テープを使用し、磁気情報の記録消去を行う必要があるため、この磁気テープが基材の最表層付近になければならず、結果として透明シートの外側に磁気テープを設けることになる。そのため、デザインの都合上この磁気テープを隠蔽するための印刷を透明シートの外側に施す必要がある。
【０００４】
この透明シートの外側の磁気テープを隠蔽し絵柄を印刷したカードをオーバープリントカード（以下、ＯＰカード）と呼ぶことにする。
ＯＰカードの作成手順は次の通りである。白色塩化ビニルコアの両面に、あらかじめ所定位置に磁気テープを貼付した透明塩化ビニルシートを重ね、加熱加圧プレスしてカード基材を得る。その後、磁気テープを隠すための隠蔽層、デザインのための印刷層、印刷面を保護するための保護層が設けられ、表面を平らにするためのプレスを再度行ってカード形状に打ち抜き、必要に応じて設けられるホログラムの箔転写、サインパネル転写及びエンボス工程を経て、ＯＰカードとなる。
【０００５】
また、近年このＯＰカードにホログラムや回折格子が付与されるようになってきた。
これら光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、光学特性の異なる薄膜を重ねることにより、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層薄膜等のＯＶＤ（Optically Variable Device）は立体画像やカラーシフトといった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有している。また、ＯＶＤは高度な製造技術を要することから有効な偽造防止手段としての効果も有している。これらＯＶＤ表示体はＯＶＤ画像を形成してなるＯＶＤ形成層や光を反射しＯＶＤの効果を促進するＯＶＤ効果層が必要であり、一般的にはＯＰカードに支持体／保護層／ＯＶＤ形成層／ＯＶＤ効果層／接着層からなるＯＶＤ転写箔を貼り付け製造される。
【０００６】
さらに、近年のクレジットカードの偽造・不正使用防止策の一つとして、カードに所有者の顔写真を付与することも行われている。これは、昇華（熱移行）性の染料を用い、ＹＭＣの各色に塗り分けた昇華転写リボンをサーマルヘッド等で熱エネルギーを与え、個々の画像情報を記録していくものである。この顔写真ＯＰカードは、保護層上に別途塩化ビニルのように昇華染料が移行しやすい材料からなる受像層を設け、プレス加工を行い表面を平にして製造されている。
【０００７】
以上のように、印刷層が透明シートの内側にあって十分に保護されている諸外国のカードとは異なり、日本のＯＰカードはカード表面に様々な加工が施されている。
【０００８】
一方、一般的に磁気テープ上の印刷加工は磁気情報の読み取り性能の問題から６〜９μｍ程度であり、これらの様々な印刷や加工を施すためにはいずれの印刷もより薄い膜で形成しなければならない。その一方で様々な耐久性が要求されている。
中でも、磁気情報の読みとりや記録を行うときの磁気ヘッドの擦れに対する耐摩擦性は重要であり、特にＯＶＤのように何層も積層されるカードにおいては、より薄い保護層で耐摩擦性を確保しなければならない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
一般的に、ホログラム等のＯＶＤ転写箔の保護層はカード表面に使用するには耐摩擦性に劣っている。そのため、保護層に多量の滑材を添加し、耐摩擦性を確保する試みが行われているが、転写の際に表面へ滑材成分が析出し、粉ふいたような現象を起こしてしまう。この滑材成分の析出は、ＡＴＭ等カードリーダー内に蓄積され、内部を汚染し磁気の読みとりエラーや搬送不良を引き起こす。また、外観上に曇りが生じ、ＯＶＤの装飾効果を損なってしまうという問題を生じる。最近では、滑材を多用せず耐摩擦性を得るためにＵＶ硬化樹脂や熱硬化樹脂等の硬化タイプの樹脂をもちいる構成も提案されているが、これら硬化タイプの樹脂は様々なものとの密着性が悪いという欠点を有している。したがって、クレジットカードのほとんどに貼着されるクレジット会社固有のホログラム箔を転写することが非常に困難となってしまう。
【００１０】
本発明は、滑材による粉ふきや曇りを低減し、かつ耐久性、後加工適性を満足することができる転写媒体とその製造方法を提供することを課題としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するためになされた請求項１に記載の発明は、支持体上に、支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層が少なくともこの順で設けてあるＯＶＤ転写媒体であって、該第一の保護層が、樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成され、
該第二の保護層は、該第一の保護層の場合よりも滑材成分の割合が多く含有する組成で構成され、該組成としては、樹脂１００重量部に対して、滑材成分が１〜３０重量％含有すること、を特徴とするＯＶＤ転写媒体である。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、前記第一の保護層が、ガラス転移点が 〜１３０℃の高分子樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成されること、を特徴とする請求項１に記載のＯＶＤ転写媒体である。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、前記第一の保護層が、重合度６００〜２０００の範囲内にある塩化ビニル樹脂１００重量部に対して、融点が９０℃以上の滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成されていること、を特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載のＯＶＤ転写媒体である。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、前記第一の保護層と第二の保護層の合計の厚みが、乾燥厚みで０．４〜９μｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のＯＶＤ転写媒体である。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層が少なくともこの順で設けてあるＯＶＤ転写媒体の製造方法であって、
該第一の保護層を、樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成に形成し、該第二の保護層を、該第一の保護層の場合よりも滑材成分の割合が多く含有する組成とし、且つ、該組成としては樹脂１００重量部に足して、滑材成分が１〜３０重量部含有するように形成すること、を特徴とするＯＶＤ転写媒体の製造方法である。
【００１６】
また、請求項６に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＯＶＤ転写媒体の、前記第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層の少なくとも４層が、磁気記録層を備えた基材上に設けてあることを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１７】
また、請求項７に記載の発明は、前記磁気記録層は、目視による視認が不可能か又は困難なように隠蔽されてあること、を特徴とする請求項６に記載の磁気記録媒体である。
【００１８】
また、請求項８に記載の発明は、磁気記録層を備えた基材上に、接着層、ＯＶＤ層、第二の保護層、および第一の保護層の少なくとも４層を設ける磁気記録媒体の製造方法であって、
該磁気記録層を備えた該基材上に、請求項１乃至４のいずれかに記載のＯＶＤ転写媒体を用いて転写により該接着層、ＯＶＤ層、第二の保護層、および第一の保護層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００１９】
【作用】
本発明によってなる転写媒体を用いることにより、曇りが少なく耐摩擦性の優れたカードを容易に製造可能となる。一方では、ホログラム転写やカードエンボス等の後加工適性にも優れた構成である。さらに、請求項３記載の発明においては昇華染料の移行性に優れたカードがＯＶＤ箔の転写と同時に得られ、従来のように後から受像層を塗布する必要がなくなる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図面を参照して本発明を詳細に説明する。
図１は本発明の転写媒体（１）の構成を示す断面図である。転写媒体（１）は、支持体（２）上に第一保護層（３）、第二保護層（４）、ＯＶＤ層（５）、接着層（６）の順に各層が形成されている。
図２は本発明の転写媒体（１）を被転写体（１１）上に転写し、磁気記録媒体（２０）としてカード化した場合の一実施例を示す断面図である。磁気記録媒体（２０）は、カード基材として白色コア材（１２）の両面に透明オーバーシート材（１３）が積層されている。この透明オーバーシート材（１３）の表面（図の上側）にＪＩＳ磁気テープ（１６）が埋め込まれ、裏面（図の下側）にＩＳＯ磁気テープ（１７）が埋め込まれている。このＪＩＳ磁気テープ（１６）が埋め込まれた面側に、隠蔽層（１４）、印刷層（１５）が設けられ、被転写体（１１）が形成されている。この被転写体（１１）上に、転写媒体（１）上の保護層（３、４）およびＯＶＤ形成層（５）、接着層（６）が転写されて構成されたのが磁気記録媒体（２０）である。
【００２１】
支持体（２）としては厚みが安定しており、かつ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、これに限るものではない。その他の材料としては、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム等の耐熱性が高く、使用することが可能である。また、耐熱性の劣るフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化ビニル等の材料でも、塗液の塗工条件、さらに言えば乾燥条件が許せば使用可能である。
また、転写条件等により第一保護層の剥離が困難である場合には、支持体側に別途、従来既知の離形層を設けても良く、剥離が軽すぎる場合には同様に、従来既知の易接着処理を行っても良い。 また、転写層への影響が無い限りは、帯電防止処理等の加工も何ら問題は無い。
【００２２】
次に、保護層（３、４）、ＯＶＤ形成層（５）および接着層（６）の組成について説明する。
第一保護層（３）は、転写媒体（１）の加熱プレス転写後には容易に支持体（２）と剥離する材料が好ましい。例を挙げるならば、ポリアクリル酸エステル樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、セルロース系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネイト系樹脂等熱可塑性樹脂やメラミン、エポキシ等の熱硬化性樹やラジカル重合性不飽和基を有する紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等を単独あるい複合して用いることができる。
【００２３】
しかしながら硬化性樹脂は後加工でホログラムを転写した際に、接着しにくいという欠点を有しており、望ましくはホログラムの転写温度である１３０℃〜１８０℃の熱で軟化しやすい材料が好ましい。
具体的には軟化点１８０℃以下の高分子材料を用いることが望まれる。
これ以上にガラス転移点の高いものは熱により溶融・接着性が乏しく、ホログラムが接着しない可能性が高い。
【００２４】
一方、箔切れ性や耐摩性を考慮し、石油系ワックス、植物系ワックス等の各種ワックス、ステアリン酸等の脂肪酸やその金属塩、シリコンオイル等の滑材や、テトラフロロエチレンパウダー、ポリエチレンパウダー、シリコーン系微粒子やアクリルニトリル系微粒子等の有機フィラーおよび、シリカ微粒子等の無機フィラーを添加することもできる。しかしながらこの層は再表面に位置するため滑材の凹凸が現れやすく、その部分で光が乱反射し曇りを生じるため、滑材を多量に添加することは好ましくない。また、多量に添加することは前述のホログラムの密着や粉ふきの問題を生じるためにも極力添加を控える必要がある。それゆえ添加量は場合により添加しない、或いは樹脂１００重量部に対して１５重量部以下が好ましい。
【００２５】
また、カードに顔写真等の個々の情報を昇華転写方式により画像を形成する必要があれば、請求項３に記載のように昇華染料が移行しやすい塩化ビニル材料を用いる。特に１）重合度が６００から２０００の範囲内にある塩化ビニル樹脂を含有する組成、２）融点が９０℃以上の滑材成分を樹脂１００重量部に対して、１５重量部以下とする組成が好ましい。
【００２６】
詳しく説明するならば、重合度６００以下の塩化ビニル材料は熱や光による劣化の問題が生じやすい。この劣化現象はポリ塩化ビニルが空気（酸素）に接して、熱や光（紫外線）に曝されると脱塩素を起こし、不安定な共役二重結合のポリエン構造を生じて変色し始める。さらには架橋や分子切断を誘発して分解・劣化を導き、黒変・脆化・発泡等を起こし、使用に耐えなくなる現象を生じてしまうのである。また、重合度が２０００を超える場合には各種溶剤への溶解性が乏しくなり、溶液のゲル化等の問題が発生し、加工性の問題を引き起こす。熱溶融押し出し法等で無溶剤による薄膜均一加工が可能である場合には、これに限定されるものでは無い。
【００２７】
また、厚みとしては十分に染料を受け取るために、塩化ビニル樹脂でなる層が少なくとも０．４μｍ以上必要である。すなわち、第一保護層自体が０．４μｍ以上あれば良いが、後述する第二保護層も塩化ビニルを用いるならば、合計の厚みが０．４μｍ以上になれば良い。当然、第一保護層自体が０．４μｍ以上あれば第二保護層は如何なる材料も使用可能となる。
【００２８】
一方、添加する滑材に関して述べる。融点９０℃以下の滑材を使用すると昇華リボンの貼り付きが頻繁に生じる。そのため添加する滑材は９０℃以上のものが好ましい。この現象は、昇華転写リボンにサーマルヘッドから熱エネルギーを与え、染料を昇華させ移行させる際に、保護層の樹脂中に含まれる滑材の影響によって、保護層自体が溶融しやすくなり、リボンのバインダーと接着するために生じる現象と考えられる。それゆえ、融点が９０℃を超える滑材を使用することが好ましい。
【００２９】
このように第一保護層は後加工や曇りの問題により樹脂や滑材が制限されるため、耐摩擦性が劣るという問題がある。そこでこの問題を解消すべく二層目の第二保護層には強靭な樹脂を用いるか、あるいはより多く滑材を添加し滑り性を与え箔の削れを食い止める効果を与えなければならない。使用される樹脂は前述の第一保護層とおなじものが挙げられるが、この層は前述の後加工適性を考慮する必要が無いため、より強靭な紫外線硬化や熱硬化等の硬化タイプも使用可能である。一方、曇り性も考慮する必要は無く、滑材も前述の材料から適宜選択され添加可能である。しかしながら滑材の添加により層間の接着強度が低下するため、添加量は３０重量部以下が好ましい。
【００３０】
ＯＶＤ層（５）は光の干渉を利用したＯＶＤ画像を形成する層であり、立体画像の表現や見る角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体を形成する層である。その中でホログラムや回折格子のごときＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を記録する体積型が挙げられる。一方、ホログラムや回折格子と手法が異なり、光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層し、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層膜方式もその例である。これらは一例であり、光の干渉を利用した固有の像や色の変化を生じる公知の表示技術であればこれらに限されるものではない。
これら、ＯＶＤの中でも量産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）や多層薄膜方式のものが好ましい。
【００３１】
以降、これらに関して詳しく説明する。
レリーフ型のホログラム（回折格子）は光学的な撮影方式により、微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製し、電気メッキ法によりパターンを複製したニッケル製のプレス版にて量産を行う。すなわち、このプレス版を加熱しＯＶＤ形成層（５ａ）に押し当て、凹凸パターンを複製する。それゆえ、ＯＶＤ形成層（５ａ）は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料であって、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹脂を単独あるい複合して用いることができる。また、上記以外ものでも、ＯＶＤレリーフパターンを形成可能な安定性を有する材料であれば使用可能である。
【００３２】
また、レリーフ型のホログラム（回折格子）を用いた場合、その回折効率を高めるためレリーフ面を構成する高分子材料と屈折率の異なる反射層（ＯＶＤ効果層５ｂ）を設けることが好ましい。
このＯＶＤ効果層（５ｂ）を設けることにより、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をもたらす。用いる材料としては、屈折率の異なるＴｉＯ2、Ｓｉ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＳ、などの高屈折率材料やより反射効果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられ、これら材料を単独あるいは積層して使用できる。これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は用途によって異なるが、５０〜１００００Å程度で形成される。ＡｌやＳｎの金属反射層を用いた場合は、印刷層（１７）やカード上の磁気テープを隠蔽する効果も有するため、これら隠蔽層（１６）や印刷層（１７）は省かれる。
【００３３】
上記以外でも、ＯＶＤ効果層（５ｂ）を構成する材料としては、その屈折率が、ＯＶＤ形成層（５ａ）で使用される高分子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも高い材料であれば、上記の無機材料や、それ以外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機系フィラーを分散したものであっても使用可能である。
さらには、上記以外の材料であっても反射性を有した材料であれば、適宜使用することが可能である。
【００３４】
一方、多層薄膜方式を用いる場合、前述したように、ＯＶＤ層は異なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
この多層薄膜層は、セラミックスや金属などの材料が用いられ、おおよそ２つ以上の高屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜厚で積層したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げる。まず、セラミックスとしては、Ｓｂ2Ｏ3（３．０＝屈折率ｎ：以下同じ）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（２．０）、ＷＯ3（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ2（１．５）、ＭｇＦ2（１．４）、ＣｅＦ3（１．６）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１．６）、Ａｌ2Ｏ3（１．６）、ＧａＯ（１．７）等があり、金属単体もしくは合金の薄膜、例えばＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。また、低屈折率の有機ポリマーとしては、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等がある。これらの高屈折率材料もしくは３０％〜６０％透過の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる事により、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示すようになる。
なお、金属から構成される薄膜は、構成材料の状態や形成条件などにより、屈折率などの光学特性が変わってくるため、本発明の実施例では一定の条件における値を用いている。
【００３５】
上記した各材料から屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性などに基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜を形成する。形成方法は公知の手法を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な、通常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができる。また、低屈折率有機ポリマーの成膜方法としては、公知のグラビア印刷方、オフセット印刷方、スクリーン印刷方などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法等などの塗布方法等を用いることができる。なお、本発明ではセラミックス・金属のみを開示しているが、セラミックス・金属と同等、あるいは類似する屈折率と反射率を有するものであれば、用いることが可能である。
【００３６】
この多層薄膜層の、具体例を挙げるならば、その層厚が５０〜２００００Åの範囲であり、また薄膜の層構成は上記した高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例えばＺｎＳ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ、ＩＴＯ、ＣｅＯ2、ＺｎＯ、Ｔａ2Ｏ3、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉなどと、上記した低屈折率の材料からなる薄膜と、例えばＭｇＦ2、ＳｉＯ2、ＣａＦ2、ＭｇＯ、Ａｌ2Ｏ3などとの組み合わせであり、それらを交互に積層したものが挙げられる。また、その積層数は２層以上であり、好ましくは２層〜９層であるものが望まれる。尚、用いられる材料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定されるものではない。
【００３７】
以上ＯＶＤ層５を説明してきたが、これらは代表例であり、見る角度により色が変化するＯＶＩ（Optically variable Inks）やパールインキ等のような公知のＯＶＤ技術を形成することも容易に想像できる。さらには、これらのＯＶＤ技術を適宜選択し組み合わせることも可能である。
【００３８】
接着層（６）としては、ＯＶＤ層（５）とカード基材あるいは印刷層（１５）や隠蔽層（１４）とを接着させるという性能が要求される。その材質としては熱可塑性樹脂が好ましく、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹脂等の単体あるいは共重合体を、単独もしくは複合して使用可能であるが、これらに限定されるものではない。また、ブロッキングの防止および箔切れ性を考慮し、石油系ワックス、植物系ワックス等の各種ワックス、ステアリン酸等の脂肪酸やその金属塩、シリコンオイル等の滑材や、テトラフロロエチレンパウダー、ポリエチレンパウダー、シリコーン系微粒子やアクリルニトリル系微粒子等の有機フィラーおよび、シリカ微粒子等の無機フィラーを添加することもできる。
【００３９】
以上のように本発明のＯＶＤ転写箔の構成および材料を説明したが、これは代表例であり、各層の接着性を挙げるために層の間にアンカー層を設けることや、装飾効果を高めるために各層に染料や顔料で着色すること、あるいは構成する層の間に印刷層を設けることも容易に思いつく構成である。また、偽造防止効果を向上させるべく、公知の紫外線や赤外線で発光する蛍光・蓄光材料や赤外線吸収材料など光学的に特殊な吸収・発光特性を示し、特定の光で検証可能な材料を混入することや、それらを含有するインキにて印刷層を設けるなどの構成等、目的に合わせ適宜選択のうえ付与することも可能である。
【００４０】
【実施例】
以下に、実施例を示す。
＜実施例１＞
支持体（２）として表面未処理の２５μｍ厚ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、この上に、下記組成からなる第１保護層及び第２保護層を各々０．５μｍ形成した。その後、ＯＶＤ形成層塗料を１．０μｍで塗布し、１００℃雰囲気中に２４時間放置し、硬化を促進させた。
次いで、ロールエンボス法によりＯＶＤレリーフパターンを形成した後、真空蒸着法を用いて膜厚０．０５μｍのＺｎＳ蒸着薄膜層（ＯＶＤ効果層）を設けた。その後、接着層塗料を１．０μｍ設け、ＯＶＤ転写箔を得た。
【００４１】
（第一保護層の組成）
塩化ビニル樹脂 …１０部
ポリエチレンワックス …０．５部
ＴＨＦ（テトラヒドロフラン） …９０部
トルエン …９．５部
（第二保護層の組成）
アクリルポリオール …１６部
ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート） …４部
ポリエチレンワックス …４部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） …５０部
トルエン …２６部
（ＯＶＤ形成層の組成）
アクリルポリオール …１６部
ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート） …４部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） …６０部
トルエン …２６部
（接着層の組成）
アクリル樹脂 …２０部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） …４０部
トルエン …４０部
【００４２】
＜比較例１＞
下記組成からなる保護層を１μｍ塗布した。その後、実施例１と同一材料にて同様の手法にてＯＶＤ形成層、ＯＶＤ効果層、接着層を設け、比較例１を得た。
【００４３】
（比較例１の保護層の組成）
アクリル樹脂 …１０部
ポリエチレンワックス …１部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） …５０部
トルエン …３９部
【００４４】
また、上記の構成では透明感が比較しにくいため以下の比較例２、３も同時に作製した。
＜比較例２＞
実施例１と同一の材料および手法により保護層、ＯＶＤ形成層を設けた。
その後、ＯＶＤ画層形成せずＡｌ蒸着薄膜を０．０５μｍ形成し、接着層を１μｍ設けた。
＜比較例３＞
比較例１と同一の材料および手法により保護層、ＯＶＤ形成層を設けた。
その後、ＯＶＤ画層形成せずＡｌ蒸着薄膜を０．０５μｍ形成し、接着層を１μｍ設けた。
【００４５】
こうして得られた４種類の転写箔を１２０℃に熱したゴムロールを用いて被転写体（１１）である磁気テープ付きの塩化ビニルカードに転写した。
【００４６】
＜評価方法＞
それぞれ作成した転写媒体に関し、
▲１▼ 目視による粉ふきの状態を観察し評価した。
▲２▼ 磁気ヘッドパス試験を４０００回、７５００回、１００００回実施した。
▲３▼比較例２、３を反射濃度計により反射濃度を測定しその白色度合いを評価した。
【００４７】
＜評価結果＞
評価結果を［表１］に示す。
【００４８】
【表１】
実施例１は比較例１に較べ耐摩擦性に優れ、粉ふきも生じていない。
また実施例１と同一構成（ＯＶＤ効果層だけ異なる）の比較例２は比較例１と同一（ＯＶＤ効果層だけ異なる）の構成である比較例３よりよ曇りが少なく透明感に優れていることから、実施例１の構成は比較例１の構成より透明感に優れると推定される。
それゆえ、本発明の実施例は従来の保護層一層構成よりも透明感および耐摩擦性に優れる。
また、本発明の実施例に昇華染料タイプの転写リボンを転写し、画像を成形したところ、良好な画像が得られた。
【００５０】
【発明の効果】
本発明の第１保護層、第２保護層を有する転写媒体を用いることにより、曇りが少なく耐摩擦性の優れたカードを容易に製造可能となる。一方では、ホログラム転写やカードエンボス等の後加工適性にも優れた構成である。さらに、保護層に塩化ビニルを使用することにより昇華染料の移行性に優れたカードがＯＶＤ箔の転写と同時に得られ、従来のように後から受像層を塗布する必要がなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の転写媒体の一実施例の構成を示す断面図である。
【図２】本発明の転写媒体を用い、これを転写して得られる磁気記録媒体の一実施例を説明するものであり、（ａ）は、被転写体の断面図、（ｂ）は被転写体に転写媒体を転写してえられた磁気カードの断面図である。
【符号の説明】
１…転写媒体
２…支持体
３… 第一保護層
４…第二保護層
５…ＯＶＤ層
６…接着層
１１…被転写体
１２…コア材
１３…オーバーシート材
１４…隠蔽層
１５…印刷層
１６…ＪＩＳ磁気テープ
１７…ＩＳＯ磁気テープ
２０…磁気記録媒体（磁気テープ付きカード）
Claims (8)
- 支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層が少なくともこの順で設けてあるＯＶＤ転写媒体であって、
該第一の保護層が、樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成され、
該第二の保護層は、該第一の保護層の場合よりも滑材成分の割合が多く含有する組成で構成され、該組成としては、樹脂１００重量部に対して、滑材成分が１〜３０重量％含有すること、
を特徴とするＯＶＤ転写媒体。 - 前記第一の保護層が、軟化点が４０〜１８０℃の高分子樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成されること、
を特徴とする請求項１に記載のＯＶＤ転写媒体。 - 前記第一の保護層が、重合度６００〜２０００の範囲内にある塩化ビニル樹脂１００重量部に対して、融点が９０℃以上の滑材を０〜１５重量部含有する組成で形成されていること、
を特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載のＯＶＤ転写媒体。 - 前記第一の保護層と第二の保護層の合計の厚みが、乾燥厚みで０．４〜９μｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のＯＶＤ転写媒体。
- 支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層が少なくともこの順で設けてあるＯＶＤ転写媒体の製造方法であって、
該第一の保護層を、樹脂１００重量部に対して、滑材を０〜１５重量部含有する組成に形成し、
該第二の保護層を、該第一の保護層の場合よりも滑材成分の割合が多く含有する組成とし、且つ、該組成としては樹脂１００重量部に足して、滑材成分が１〜３０重量部含有するように形成すること、
を特徴とするＯＶＤ転写媒体の製造方法。 - 請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＯＶＤ転写媒体の、前記第一の保護層、第二の保護層、ＯＶＤ層、および接着層の少なくとも４層が、磁気記録層を備えた基材上に設けてあることを特徴とする磁気記録媒体。
- 前記磁気記録層は、目視による視認が不可能か又は困難なように隠蔽されてあること、を特徴とする請求項６に記載の磁気記録媒体。
- 磁気記録層を備えた基材上に、接着層、ＯＶＤ層、第二の保護層、および第一の保護層の少なくとも４層を設ける磁気記録媒体の製造方法であって、
該磁気記録層を備えた該基材上に、請求項１乃至４のいずれかに記載のＯＶＤ転写媒体を用いて転写により該接着層、ＯＶＤ層、第二の保護層、および第一の保護層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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