JP2001150791A - スクラッチｏｖｄ形成体およびその製造に用いられる転写箔 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】誰でも容易に本物と偽物を区別することが可能
となる検証機能を有したスクラッチ形成体およびそれを
容易に製造し得る転写箔を提供する。 【解決手段】基材１上に少なくとも爪やコインのスクラ
ッチにより破壊されるスクラッチ層よびＯＶＤ層、印刷
層を積層してなるスクラッチＯＶＤ部３で秘密情報２を
隠蔽し、この印刷層に蛍光材料、赤外吸収材料又は偏光
潜像画像形成材料を含有させたことを特徴とするスクラ
ッチＯＶＤ形成体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カードあるいはシ
ート基材上に隠蔽された秘密情報を有しており、必要な
ときに隠蔽を削り取り、秘密情報を得ることができるス
クラッチカード類に関し、特に、くじや照会番号を有し
たカード等、偽造防止を必要とするスクラッチ情報形成
体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、スクラッチ情報形成体は支持体上
に形成された秘密情報となる絵柄、文字、数字、記号等
の情報を、目視による確認が不可能となるよう不透明な
ワックスインキやセルロース系樹脂やゴム系天然樹脂を
主体とする銀色、黒色、白色のインキで形成される脆弱
な隠蔽層で隠蔽されており、それら情報が必要な時、コ
インや爪で引っ掻きスクラッチすることにより隠蔽層を
支持体から剥離し、情報を現出させ、秘密情報を得る。
これらの情報を、くじの抽選番号や絵柄あるいは電話の
回線権利を得る照合番号（権利番号）として利用されて
おり、偽造される危険がある。すなわち、隠蔽層を故意
に剥がし、秘密情報を確認した後に、再度隠蔽するとい
う不正が行われるのである。

【０００３】一方、様々な偽造の防止策として、偽造さ
れにくい光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を
表現し得るホログラムや回折格子、光学特性の異なる薄
膜を重ねることにより見る角度に依存した変化（カラー
シフト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤ（Optical Va
riable Device）が利用されている。ホログラムや回折
格子のごときＯＶＤは、微細な凹凸パターンや、屈折率
の異なる縞状パターンなどの回折構造からなっており、
これにより光の回折と干渉により見る角度（すなわち、
ホログラムを支持している角度）に応じて、固有の像や
色の変化（カラーシフト）を生じる。

【０００４】一方、多層薄膜は光学特性の異なるセラミ
ックスや金属材料を幾重にも積層した構造でなる。この
多層薄膜は構成する材料の光学特性と膜厚により得られ
る光の干渉作用を利用した表示技術であり、特定の波長
域に反射・透過特性を有しているため、観察する角度に
よりカラーシフトを生じる。

【０００５】本明細書においてはホログラムおよび回折
格子や多層薄膜などの光の干渉を利用した表示技術を総
称してＯＶＤと称することとする。

【０００６】特開平８ー２６５７７号ではホログラムを
有した抽選券およびその製造方法が提案されいる。この
提案によればホログラムを形成することにより、意匠性
に優れかつ高い偽造防止効果を付与でき、さらにはホロ
グラム転写箔にて製造する方法により、転写工程という
簡単な一工程だけでスクラッチ形成体が得られる。

【０００７】しかしながら、ホログラム等のＯＶＤ画像
は一般によく知られていないため、一瞥では容易に判断
できず、似た画像のＯＶＤを貼った偽造品に気がつかず
に流通してしまうケースも出てきている。

【０００８】本来、ＯＶＤは製造が難しく、全く同一の
画像を贋造するには高価な設備と高度な技術および多く
の費用を必要とするため、完全な偽造は不可能であり、
ＯＶＤ画像を知っている人であれば、偽造品を見分ける
ことは可能である。さらには、同一画像が作り得ないこ
とから偽造の抑制効果もあるが、前述のケースのよう
に、未熟な検査係や一般消費者を欺くのであれば、同じ
物でなくとも、似た物であれば十分に欺ける可能性があ
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の課題に
鑑みてなされたものであり、誰でも容易に本物と偽物を
区別することが可能となる検証機能を有したスクラッチ
形成体およびそれを容易に製造し得る転写箔を提供する
ことを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた請求項１に記載の発明は、基材上に少なくと
も爪やコインのスクラッチにより破壊される隠蔽層およ
びＯＶＤ層、印刷層を積層してなり、印刷層が蛍光材料
を含有してなることを特徴としたスクラッチＯＶＤ形成
体であり、容易に紫外線あるいは赤外線ライト（レーザ
ー）により検証可能なスクラッチ形成体である。

【００１１】請求項２に記載の発明は、前記、印刷層が
赤外線吸収材料を含有してなることを特徴としたスクラ
ッチＯＶＤ転写箔であり、赤外線カメラにより検証可能
なスクラッチＯＶＤ形成体である。このスクラッチＯＶ
Ｄ形成体は赤外線カメラを利用した判定装置による機械
検証も可能となる。

【００１２】請求項３に記載の発明は、前記、印刷層の
少なくとも一部に配向を有したパターンや文字、絵柄等
の潜像画像が形成されていることを特徴とし、その上に
偏光フィルムを重ねた時に前記潜像画像が表示されるス
クラッチＯＶＤ転写箔であり、偏光フィルムを重ねるだ
けで目視にて検証可能なスクラッチ形成体を容易に製造
可能とする。偏光フィルムという安価で簡単な検証装置
で目視による検証が可能となる。

【００１３】請求項４記載の発明は、前記基材が生分解
性樹脂であることを特徴とする請求項１〜請求項３のい
ずれか１項に記載のスクラッチＯＶＤ形成体である。

【００１４】請求項５に記載の発明は、上記に記載の請
求項１〜３記載のスクラッチＯＶＤ形成体を容易に製造
することを可能とする転写箔であり、支持体上に少なく
とも印刷層、ＯＶＤ層、スクラッチ層を有し、該印刷層
が少なくとも蛍光発光材料あるいは赤外線吸収材料ある
いは偏光潜像画像形成材料を含有することを特徴とした
スクラッチＯＶＤ転写箔であり、被形成体の基材に加熱
押圧により任意形状でスクラッチＯＶＤを容易に形成可
能とする。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態によっ
て図面を参照して詳細に説明する。

【００１６】図１は本発明のスクラッチＯＶＤ形成体の
一実施例を示す平面図であり、図２は図１の本発明のス
クラッチＯＶＤ形成体のＸ−Ｘ線における断面図であ
る。

【００１７】スクラッチ形成体の基材（１）に秘密情報
（２）が印刷されており、その秘密情報を隠蔽するスク
ラッチＯＶＤ部（３）からなる。一方、図３はスクラッ
チＯＶＤ部（３）を容易に形成可能とする本発明のスク
ラッチＯＶＤ転写箔の一実施例を示す断面図ある。以
降、その材料に関して転写箔の断面図に基づき詳しく説
明する。

【００１８】支持体（３１）上に剥離保護層（３２）、
印刷層（３３）、ＯＶＤ層（３４）、スクラッチ層（３
５）などが積層されるため、その加工に耐えうる強度
や、さらには熱転写時の加熱加圧により軟化変形の生じ
ない耐熱性を有したシートが支持体（３１）として使用
される。具体的に挙げるならば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メ
チル、ポリスチレン等の合成樹脂のあるいは天然樹脂、
紙、合成紙などを単独で又は組合わせた複合体が使用可
能である。また、使用される材料はこれらに限定され
ず、各層の加工や転写に耐えうるシートおよびフィルム
であれば、使用可能であり、それら加工に応じて適宜選
択される。一方、その厚みは、加工される方法にもよる
が、加工のし易さから２μｍ〜１００μｍ程度の厚みが
望ましい。

【００１９】剥離性保護層（３２）は加熱加圧によりス
クラッチＯＶＤを被形成体に、接着させた後、支持体
（３１）から剥離するものであり、剥離性を有する以
外、下層にある印刷層（３３）、ＯＶＤ層（３４）、ス
クラッチ層（３５）等が薬品・溶剤などの浸透による化
学的な損傷や形成体同士の擦りによる損傷や機械による
擦りから保護する機能を有することが必要であり、この
両者の機能を具備させるために、高分子樹脂に耐摩擦剤
を混合したものが用いられる。

【００２０】この高分子樹脂は可塑剤や酸、アルカリ、
アルコール、灯油等の薬品類の浸透を防止するととも
に、形成体自体の擦りによる剥がれの発生を抑えるもの
である。例えば、メラミン樹脂、アクリル樹脂、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の
熱硬化樹脂、あるいは、ラジカル重合性不飽和基を有す
る紫外線や電子線硬化性樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、
塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、
セルロース系樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂等の熱可
塑性樹脂などが挙げられる。

【００２１】耐摩擦剤は、耐摩耗性を向上させるもので
あり、例えばテフロンパウダー、ポリエチレンパウダ
ー、動物系ワックス、植物系ワックス、鉱物系ワック
ス、石油系ワックス等の天然ワックス、合成炭化水素系
ワックス、脂肪族アルコールと酸系ワックス、脂肪酸エ
ステルとグリセライト系ワックス、水素化ワックス、合
成ケトン系ワックス、アミン及びアマイド系ワックス、
塩素化炭化水素系ワックス、合成動物ロウ系ワックス、
α−オレイン系ワックス等の合成ワックス、ステアリン
酸亜鉛などの高級脂肪酸の金属塩などが挙げられる。

【００２２】さらに剥離性保護層（３２）には、熱転写
時の転写シートからの転写部分の切れ性の向上のために
線状飽和ポリエステル樹脂などの剥離改善剤を配合する
こともできる。この配合割合は、１００重量部に対して
０〜３重量部程度が望ましい。

【００２３】剥離保護層（３２）に使用される材料は以
上に限られるものでなく、公知の材料であれば使用可能
である。

【００２４】以上の剥離生保護層（３２）は、支持体
（３１）と印刷層（３３）が剥がれやすく印刷層（３
３）に各種耐性（耐摩性および薬品耐性）を有していれ
ば特に必要なく、省略可能である。また、支持体（３
１）に剥がれやすくするために、印刷層（３３）と接着
の悪い離型層を設けることも可能である。

【００２５】印刷層（３３）は、蛍光材料あるいは赤外
線吸収材料や偏光性を有する材料で構成されている。こ
れらの材料で印刷された絵柄は検証機能を有しており、
容易にかつ迅速にスクラッチＯＶＤ形成体の真偽を判定
可能とする。以降、これらの材料に関して詳しく説明す
る。

【００２６】蛍光材料は紫外線を吸収し可視光線を発光
する紫外線発光蛍光体と赤外線を吸収し可視光を発光す
る赤外線発光蛍光体がある。

【００２７】紫外線発光蛍光体は紫外線により励起さ
れ、これよりも低いエネルギー準位に戻るときに発する
スペクトルのピークが青、緑、赤等の波長域にあるもの
であり、硫化亜鉛やアルカリ土類金属の硫化物などの高
純度蛍光体に発光をより強くするために微量の金属
（銅、銀、マンガン、ビスマス、鉛など）を付活剤とし
て加え高温焼成して得られる。紫外線発光蛍光剤は母体
結晶と付活剤の組み合わせにより色相、明るさ、色の減
衰の度合いを調整することができる。具体例としてはＣ
ａ₂ Ｂ₅ Ｏ₉ Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、ＣａＷＯ₄ 、ＺｎＯ：Ｚ
ｎ、Ｚｎ₂ ＳｉＯ₄ ：Ｍｎ、Ｙ₂ Ｏ₂ Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ
Ｓ：Ａｇ、ＹＶＯ₄ ：Ｅｕ、などがあり、これらを単
体、又はこれらから数種類を任意に選択して混合して使
用できる。尚、以上は例であり、公知の紫外線発光蛍光
体であれば使用可能である。

【００２８】一方、赤外線発光蛍光体として用いられる
材料は、赤外光（約８００〜約１２００ｎｍ）で励起し
可視光（約４００〜約８００ｎｍ）を発光する赤外可視
変換蛍光剤で、非常に特殊な励起機構を持つ蛍光体であ
り、エネルギーの小さな赤外線の光子を複数個用いて可
視発光の励起を行なう。具体例としてはＹＦ₃ ：Ｙｂ＋
Ｅｒ、ＹＦ₃ ：Ｙｂ＋Ｔｍ、ＢａＦＣＩ：Ｙｂ＋Ｅｒな
どがあるが、これらに限定されるものではなく公知の赤
外線発光蛍光体であれば、適宜選択され使用できる。な
お、赤外線発光蛍光剤は通常その組成を、主成分である
母体結晶とその中に分散した付活剤または発光中心に分
け、（：）で繋いで表記する。例えばＺｎＳ：Ｍｎの
「ＺｎＳ」が母体結晶、「Ｍｎ」が付活剤となる。

【００２９】次に、赤外線吸収材料としては、黒色のカ
ーボンブラック等よりは透明あるいは白色に近く目立ち
にくいものが望ましく、その例としてはＦｅ²⁺及びＣｕ
²⁺のうちのいずれか一方又は両方を含有するガラス系粉
末材料が挙げられる。具体的にはガラス系粉末材料が五
二酸化リン（Ｐ₂ Ｏ₅ ）を主成分とし、酸化鉄及び酸化
銅のうちのいずれか一方又は両方を１．０重量％以上含
む粉末材料で、より好ましくは五二酸化リンを重量％で
３５．０〜８０．０％、酸化鉄及び酸化銅をそれぞれ０
〜３．０％含むガラス系粉末材料やのリン酸塩系白色結
晶粉末や硫酸塩系白色結晶粉末等の白色結晶系材料が使
用可能である。

【００３０】この白色結晶系材料は、五二酸化リンを主
成分とし、Ｆｅ²⁺及びＣｕ²⁺のうちのいずれか一方又は
両方を含有するリン酸塩系白色粉末から構成されてお
り、具体的には五二酸化リンを主成分とし、Ｆｅ²⁺及び
Ｃｕ²⁺のうちのいずれか一方又は両方を２０重量％以上
含有する結晶粉末であって、好ましくは五二酸化リンを
重量％で４０〜７０％含有し、且つＦｅ²⁺及びＣｕ²⁺の
うちのいずれか一方又は両方を３０〜７０％含有する結
晶粉末が望ましい。

【００３１】一方、これら印刷層（３３）材料のバイン
ダー樹脂としては特に限定されことはなく、例えばアク
リル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合系樹脂など、
溶剤も特に限定されことはなく、メチルエチルケトン、
トルエンなどの公知の材料であれば、適宜用いることが
できる。

【００３２】さらに、請求項３に記載の偏光フィルムを
重ねることにより画像が表示される潜像を構成する材料
としては、全面に配向を有し偏光性を示す材料や、ある
いは部分的に配向の異なる材料や外力により配向を変化
させ、偏光性の異なる部分を付与できる材料が使用され
る。たとえば、ポリプロプピレンやポリエチレン、ポリ
スチレン、ポリエステル等の高分子材料やポリエステル
共重合体、ポリエーテル、ポリカーボネイト、ポリイソ
シアネート、ポリグルタミン酸エステル等の高分子液晶
材料が使用される。

【００３３】また、この層は、形成された後、熱、電
気、磁気エネルギーや加圧、引っ掻き、摩擦等の外力に
より配向を与える、もしくは配向を壊すことにより部分
的に偏光性を変化させ潜像を記録するため、熱圧で容易
に配向可能なサーモトロピック性を有していることが好
ましい。その場合、画像の形成方法として、ホットスタ
ンプ、サーマルヘッド、レーザーによる加熱等の容易な
方法が挙げられ、これら手法にて、より高精細な潜像画
像を容易に形成することが可能となる。

【００３４】さらに、あらかじめ配向せしめ偏光性を有
した高分子材料を微小片化しポリエステルやアクリルな
どの高分子樹脂に分散させ、塗布することも可能であ
る。この場合、任意の画像を印可することは難しいが、
ランダムな模様として潜像が観察されるため、検証機能
を付与することが可能である。尚、用いられる材料は上
記に限定されるものではなく、全面に配向を有し偏光性
を示す材料や、あるいは部分的に配向の異なる材料や外
力により配向を変化させ、偏光性の異なる部分を付与で
きる材料ならば使用可能である。

【００３５】ＯＶＤ層（３４）は前述した光の干渉を利
用したＯＶＤ画像を形成する層であり、立体画像の表現
や見る角度により色が変化するカラーシフトを生じる表
示体を形成する層である。その中でホログラムや回折格
子のごときＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パ
ターンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干
渉縞を記録する体積型が挙げられる。一方、ホログラム
や回折格子と手法が異なり、光学特性の異なるセラミッ
クスや金属材料の薄膜を積層し、見る角度により色の変
化（カラーシフト）を生じる多層膜方式もその例であ
る。これらは一例であり、光の干渉を利用した固有の像
や色の変化を生じる公知の表示技術であればこれに限ら
れるものではない。

【００３６】これら、ＯＶＤの中でも量産性やコストを
考慮した場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）
や多層薄膜方式のものが好ましい。

【００３７】図３のＯＶＤ層（３４）はレリーフ型のホ
ログラムや回折格子をＯＶＤとして用いた例であり、そ
の場合、ＯＶＤ層（３４）はＯＶＤ形成層（３４ａ）お
よびＯＶＤ効果層（３４ｂ）から成っており、ＯＶＤ効
果層（３４ｂ）はより回折効率が得られるよう光を反射
する金属薄膜よりなっている。

【００３８】レリーフ型のホログラム（回折格子）は光
学的な撮影方式により、微細な凹凸パターンからなるレ
リーフ型のマスター版を作製し、電気メッキ法によりパ
ターンを複製したニッケル製のプレス版にて量産を行
う。すなわち、このプレス版を加熱しＯＶＤ形成層（３
４ａ）に押し当て、凹凸パターンを複製する。

【００３９】それゆえ、ＯＶＤ形成層（３４ａ）は熱に
よる成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再
生像が得られる材料であって、カーボネート樹脂、スチ
レン樹脂、塩化ビニル樹脂、ウレタン樹脂などの熱可塑
性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラジカル重合
性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹脂を単独あ
るい複合して用いることができる。また、上記以外もの
でも、ＯＶＤレリーフパターンを形成可能な安定性を有
する材料であれば使用可能である。

【００４０】また、レリーフ型のホログラム（回折格
子）を用いた場合、その回折効率を高めるためＯＶＤ形
成層（３４ａ）で使用される高分子材料と屈折率の異な
る反射層（ＯＶＤ効果層）（３４ｂ）を設けることが好
ましい。このＯＶＤ効果層（３４ｂ）を設けることによ
り、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をも
たらす。用いる材料としては、屈折率の異なるＴｉ
Ｏ₂ 、Ｓｉ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃ 、ＺｎＳ、など
の高屈折率材料やより反射効果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられが、光透
過性のない金属薄膜の方が秘密情報の遮蔽効果も有する
ため、その使用が好ましい。また、これら材料は単独あ
るいは積層して使用できる。これらの材料は真空蒸着
法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成さ
れ、その膜厚は用途によって異なるが、１００〜１００
００Å程度で形成される。

【００４１】上記以外でも、ＯＶＤ効果層（３４ｂ）を
構成する材料としては、その屈折率が、潜像画像層ある
いはＯＶＤ形成層（３４）で使用される高分子材料（屈
折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも高い材料であれば、上
記の無機材料以外の有機系、有機無機複合体、有機系材
料に無機系フィラーを分散したものであっても使用可能
であり、さらには上記以外の材料であっても反射性を有
した材料であれば、適宜使用することが可能である。

【００４２】一方、多層薄膜方式にて形成されるＯＶＤ
層（４４）は、前述したように、異なる光学適性を有す
る多層薄膜層（４４ａ）、（４４ｂ）、（４４ｃ）から
なり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設
してなる複合薄膜として積層形成される。例えば屈折率
の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折
率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせ
を交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わ
せにより、所望の多層薄膜を得ることができる。

【００４３】この多層薄膜層は、セラミックスや金属な
どの材料が用いられ、おおよそ２以上の高屈折率材料と
屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜厚で積層
したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げ
る。まず、セラミックスとしては、Ｓｂ₂ Ｏ₃ （３．０
＝屈折率ｎ：以下同じ）、Ｆｅ₂ Ｏ₃ （２．７）、Ｔｉ
Ｏ₂ （２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ₂ （２．
３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ₂ （２．３）、Ｃｄ
Ｏ（２．２）、Ｓｂ₂ Ｏ₃ 、ＷＯ₃ （２．０）、ＳｉＯ
（２．０）、Ｓｉ₂ Ｏ₃ （２．５）、Ｉｎ₂ Ｏ₃ （２．
０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ₂ Ｏ₃ （２．４）、Ｚｎ
Ｏ（２．１）、ＺｒＯ₂ （２．０）、ＭｇＯ（１．
６）、ＳｉＯ₂ （１．５）、ＭｇＦ₂ （１．４）、Ｃｅ
Ｆ₃ （１．６）、ＣａＦ₂ （１．３〜１．４）、ＡｌＦ
₃ （１．６）、Ａｌ₂ Ｏ₃ （１．６）、ＧａＯ（１．
７）等があり、金属単体もしくは合金の薄膜、例えばＡ
ｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｓｉ等がある。

【００４４】また、低屈折率の有機ポリマー、例えばポ
リエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４
９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメ
チルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン
（１．６０）等がある。

【００４５】これらの高屈折率材料もしくは３０％〜６
０％透過の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料
より少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層さ
せる事により、特定の波長の可視光に対する吸収あるい
は反射を示すものである。なお、金属から構成される薄
膜は、構成材料の状態や形成条件などにより、屈折率な
どの光学特性が変わってくるため、本発明の実施例では
一定の条件における値を用いている。

【００４６】上記した各材料から屈折率、反射率、透過
率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性などに
基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜を形
成する。形成方法は公知の手法を用いることができ、膜
厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ・ｄ、
ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な、通常の真
空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法や
ＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができ
る。また、低屈折率有機ポリマーの成膜方法としては、
公知のグラビア印刷方、オフセット印刷方、スクリーン
印刷方などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロ
ールコート法等などの塗布方法等を用いることができ
る。なお、本発明ではセラミックス・金属のみを開示し
ているが、セラミックス・金属と同等、あるいは類似す
る屈折率と反射率を有するものであれば、用いることが
可能である。

【００４７】この多層薄膜層の、具体例を挙げるなら
ば、その層厚が５０〜２００００Åの範囲であり、また
薄膜の層構成は上記した高屈折率の材料もしくは金属材
料からなる薄膜、例えばＺｎＳ、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、
Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、ＳｎＯ、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂ 、ＺｎＯ、Ｔａ
₂ Ｏ₃ 、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉなどと、上記した低屈折率の材料から
なる薄膜、例えばＭｇＦ ₂ 、ＳｉＯ₂ 、ＣａＦ₂ 、Ｍｇ
Ｏ、Ａｌ₂ Ｏ₃ などとの組み合わせであり、それらを交
互に積層し、その積層数が２層以上であり、好ましくは
２層〜９層であるものが挙げられる。尚、用いられる材
料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるため、
これに限定されるものではない。

【００４８】スクラッチ層（３５）は転写の際に被形成
体に接着し、かつ転写されたスクラッチＯＶＤが爪やコ
インによって容易に剥がれ落ちるよう、脆弱でなければ
ならない。また、一方では、秘密情報の目視による確認
を防ぐために、隠蔽効果を有してなければならない。以
下には具体的にその材料を示す。

【００４９】使用される材料は、接着性を有する樹脂成
分と脆弱性および隠蔽性を有する顔料成分でなってお
り、樹脂成分としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合樹脂、セルロース系樹脂、塩素化ポリプロピ
レン樹脂等の熱可塑性樹脂や天然ゴム、イソプレンゴ
ム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブ
タジエンゴム、ブチルゴム、エチレン−酢酸ビニルゴ
ム、アクリルゴム等のゴムを使用することが可能であ
る。

【００５０】一方、樹脂を脆弱化しスクラッチによる破
壊され易くする添加剤として、酸化チタン、炭酸カルシ
ウム、酸化ケイ素、硫酸バリウム、アルミニウム粉末、
ブロンズ粉末、カーボンブラック等の顔料が添加され
る。以上の樹脂や顔料はこれらに限定される物ではな
く、スクラッチ接着層の機能を果たす材料であれば、適
宜選択され使用できる。

【００５１】以上に説明した支持体（３１）／剥離保護
層（３２）／印刷層（３３）／ＯＶＤ層３４（４４）／
スクラッチ層（３５）を積層した転写箔構成は、構成の
一例であり、商品の形態あるいは製造方法により各層間
に層間接着層を適宜設けることは可能である。また、そ
の積層する順もこれに示した限りでなく、ＯＶＤ層（３
４）とスクラッチ層（３５）の間に印刷層（３３）を設
ける構成も容易に考えら、これらに限られるものではな
い。すなわち、同一面からＯＶＤ画像および検証機能を
有した印刷が観察できればその構成は適宜選択され使用
できる。

【００５２】一方、これらＯＶＤ転写箔を転写形成する
基材（１）は印刷適性を有する任意の紙、合成紙、プラ
スチックフィルム、若しくはそれらの材料を組み合わせ
た複合体によるシート等が適用できる。一例として、上
質紙、コート紙、アート紙、カード紙等の印刷適性を有
する紙、合成紙の他、例えばポリエチレンやポリプロピ
レン等のポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂等
の材料を押し出し成形法、カレンダーロール成形法によ
り得たプラスチックフィルムまたはシート、さらにはこ
れらの材料による複合シート等が挙げられる。

【００５３】また、これらの基材は生分解材料を用いる
ことができ、例を挙げるならば、ポリ乳酸、ポリグリコ
リドや乳酸とオキシカルボン酸であるグリコール酸、酒
石酸、リンゴ酸等のモノマーやコポリマーを共重合した
材料が挙げられる。さらには、ヒドロキシルカルカノエ
ートユニットを有する脂肪酸ポリエステル樹脂、ポリブ
チレンサクシネートやポリエチレンサクシネートとアジ
ピン酸やコハク酸の共重合体等のポリエステル樹脂、が
挙げられ適宜使用可能である。

【００５４】

【実施例】本発明を、具体的な実施例を挙げて詳細に説
明する。

【００５５】［実施例１］まず、厚み２５μｍのＰＥＴ
フィルムから成る支持体（３１）シート上に剥離保護層
（３２）、印刷層（３３）、ＯＶＤ形成層（３４ａ）を
後述する組成のインキでグラビア印刷法により２μｍづ
つ設け、ＯＶＤ効果層（反射層）（３４ｂ）としてＡｌ
薄膜を５００Åの厚みで蒸着した。さらに後述する組成
のスクラッチ層（３５）をグラビア法により５μｍ設
け、本発明のスクラッチＯＶＤ転写箔を得た。尚、ＯＶ
Ｄ形成層にはレリーフ型レインボーホログラムのスタン
パーを用いてロールエンボス法により加熱・加圧し、ホ
ログラム画像を形成した。

【００５６】 《剥離保護層》 アクリル樹脂 １４. ５部 ポリエチレンワックス ０. ５部 ＭＥＫ ５０部 トルエン ３５部 《印刷層（蛍光インキ）》 アクリル樹脂 １５部 紫外線発光蛍光材料（Ｓｒ₃ （ＰＯ₄ ）₃ Ｃｌ：Ｅｕ）５部 ＭＥＫ ６０部 トルエン ２０部 《ＯＶＤ形成層》 アクリル樹脂 １０部 ニトロセルロース樹脂 ５部 ＭＥＫ ６０部 トルエン ２５部 《スクラッチ層》 イソプレンゴム ２０部 アクリル樹脂 ５部 アルミ粉 ５部 酸化チタン ５部 トルエン ５５部 ＭＥＫ １０部

【００５７】このようにして得られた転写箔を図５に示
した秘密情報（照合番号）（５６）をインキジェットプ
リンターにて印刷し、その後、印字情報の保護層（５
７）として紫外線硬化樹脂をシルクスクリーン印刷によ
り設けた。この後、被形成体（５０）上に転写を行っ
た。転写条件は８０℃，９．８ＭＰａ，０. ５sec.にて
行った。

【００５８】以上により本発明のスクラッチＯＶＤ形成
体が得られ、このようにして得られた形成体は一見ＯＶ
Ｄ表示体であり印刷層（３３）がないＯＶＤ表示体と見
分けがつかないが、ブラックライト（紫外線）を照射す
ると印刷層が発光し、容易に印刷層がない物と区別する
ことができた。

【００５９】［実施例２］支持体（３１）、剥離保護層
（３２）、ＯＶＤ層（３３）、スクラッチ層（３５）、
被形成体（５０）は前記実施例１と同一の材料を用い
た。本実施例２では印刷層（３３）を以下の材料を用い
て、グラビア印刷法により０. ５μｍの厚みで印刷を行
い、それ以外の工程は前記実施例１と同様の操作を行
い、本実施例２のスクラッチＯＶＤ形成体を得た。

【００６０】《印刷層（赤外線吸収インキ）》 アクリル樹脂 １５部 赤外線吸収材料（リン酸塩系） ５部 ＭＥＫ ６０部 トルエン ２０部

【００６１】このようにして得られた形成体は一見ＯＶ
Ｄ表示体であるが、赤外線カメラにて観察することによ
り印刷層の情報を確認することができ、容易に印刷層が
ない物と区別することができた。

【００６２】［実施例３］支持体（３１）、剥離保護層
（３２）、スクラッチ層（３５）、被形成体（５０）は
前記実施例１と同一の材料を用いた。本実施例３では印
刷層（３３）を以下の材料を用いて、グラビア印刷法に
より２μｍ印刷を行った。また、本実施例３ではＯＶＤ
層として多層薄膜層（４４ａ）、（４４ｂ）、（４４
ｃ）として順にＡｌ−７００Å、ＳｉＯ₂ −５８００
Å、Ａｌ−２００Åの厚みにて真空蒸着法にて設けた。

【００６３】 《高分子液晶層塗料》 高分子液晶（キラコールＰＬＣ７００３：旭電化工業（株）製）…２０部 テトラヒドロフラン …４０部 トルエン …４０部

【００６４】次に、得られたＯＶＤ形成体の印刷層（３
３）に潜像パターンを形成すべく、「ＴＯＰＰＡＮ Ｐ
ｒｉｎｔｉｎｇ」の文字が凸状に形成された刻印版を用
い、１２０℃、０．２秒間ホットスタンプにて熱圧をか
けて配向を行い、潜像部分を設けた。

【００６５】このように得られたスクラッチＯＶＤ形成
体は、目視では潜像部分が全く視認できず、単なるＯＶ
Ｄに見えたが、円偏光フィルムを重ねることで潜像部分
の「ＴＯＰＰＡＮ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ」が鮮明に出現
し、潜像部分を確認することができ、容易に印刷層（３
３）がない物と区別することができた。

【００６６】

【発明の効果】以上述べたように、本発明はスクラッチ
ＯＶＤ転写箔は検証機能を有したスクラッチＯＶＤ形成
体を転写工程だけで容易に製造可能であると同時に本転
写箔にて製造されたスクラッチＯＶＤ形成体は、検証機
能を有した印刷層の検証により、容易かつ迅速にに真偽
判定が可能となり、ＯＶＤ画像をよく知らない検査係で
も真偽の判別が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスクラッチＯＶＤ形成体転写箔の一実
施例を示す平面図である。

【図２】本発明のスクラッチＯＶＤ形成体の断面図であ
る。

【図３】本発明のスクラッチＯＶＤ転写箔の一実施例を
示す断面図である。

【図４】本発明のスクラッチＯＶＤ転写箔の一実施例を
示す断面図である。

【図５】本発明のスクラッチＯＶＤ転写箔を転写する被
形成体の平面図である。

【符号の説明】

１…基材 ２…秘密情報 ３…スクラッチＯＶＤ部 ３１…支持体 ３２…剥離保護層 ３３…印刷層 ３４、４４、…ＯＶＤ層 ３４ａ…ＯＶＤ形成層 ３４ｂ…ＯＶＤ効果層 ４４ａ、４４ｂ、４４ｃ…多層薄膜層 ３５…スクラッチ層 ５０…被形成体 ５６…秘密情報（照合番号） ５７…保護層

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C005 HA02 HB12 JB08 JB09 JB12 JB14 JB40 KA11 KA40 KA70 LA11 LA30 LB16 2H113 AA03 BA03 BA28 BB08 CA34 CA39 DA04 DA07 DA26 DA43 DA46 DA47 DA53 DA57 3B005 FB25 FB61 FC02Y FC08Y FE03 FG04X

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材上に少なくとも爪の引っ掻きやコイン
   のスクラッチにより破壊されるスクラッチ層およびＯＶ
   Ｄ層、印刷層を積層してなり、印刷層が蛍光材料を含有
   してなることを特徴としたスクラッチＯＶＤ形成体。
2. 【請求項２】前記印刷層が赤外線吸収材料を含有してな
   ることを特徴とする請求項１に記載のスクラッチＯＶＤ
   形成体。
3. 【請求項３】前記印刷層が少なくとも一部に配向を有し
   たパターンや文字、絵柄等の潜像画像が形成されてお
   り、その上に偏光フィルムを重ねた時に該潜像画像が表
   示されることを特徴とする請求項１に記載のスクラッチ
   ＯＶＤ形成体。
4. 【請求項４】前記基材が生分解性樹脂であることを特徴
   とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のスク
   ラッチＯＶＤ形成体。
5. 【請求項５】支持体上に少なくとも印刷層、ＯＶＤ層、
   スクラッチ層を有し、該印刷層が少なくとも蛍光発光材
   料、赤外線吸収材料あるいは偏光潜像画像形成材料を含
   有することを特徴とするスクラッチＯＶＤ転写箔。