JP2001323025A - モノマー、ポリマーおよびそれを用いた眼用レンズ - Google Patents
モノマー、ポリマーおよびそれを用いた眼用レンズInfo
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Abstract
率を有するポリマー用のモノマーを提供する。また該モ
ノマーからなるポリマーおよび眼用レンズを提供する。 【解決手段】下記式(a)で表されることを特徴とする
モノマー。 【化1】 [式(a)中、Xは重合可能な炭素炭素不飽和結合を有
する基を表す。Aはシロキサニル基を表す。mは1〜1
0の整数を表す。nは2〜10の整数を表す。]
Description
ーおよびそれを用いた眼用レンズに関するものである。
本発明はコンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜など
の眼用レンズとして特に好適に用いられる。
用、特に眼用レンズ用のモノマーとして3−メタクリロ
キシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シランが広
く利用されている(特開昭60−142324号公報、
特開昭54−24047号公報)。しかしながら3−メ
タクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シ
ランは親水性がほとんど無いために、それから得られる
ポリマーは低含水率であり、眼用レンズとしては好まし
くないものであった。また、3−メタクリロキシプロピ
ルトリス(トリメチルシロキシ)シランから得られるポ
リマーは比較的弾性率が高く、ソフトコンタクトレンズ
としては使用しにくいものであった。
公報には、下記式(H)
(H)のモノマーを使用した場合は3−メタクリロキシ
プロピルトリス(トリメチルシロキシ)シランと比較す
ると高含水率かつ低弾性率のポリマーが得られる傾向が
有る。しかし弾性率については十分ではなく、さらなる
低弾性率化が期待されている。
を解決し、高い酸素透過性を有し、なおかつ高含水率、
低弾性率を有するポリマー用のモノマーを提供すること
を目的とする。また該モノマーからなるポリマーおよび
眼用レンズを提供することを目的とする。
めに、本発明のモノマーおよびポリマーは、下記の構成
を有する。 「〔1〕下記式(a)で表されることを特徴とするモノ
マー。
飽和結合を有する基を表す。Aはシロキサニル基を表
す。mは1〜10の整数を表す。nは2〜10の整数を
表す。] 〔2〕〔1〕に記載のモノマーを重合成分として含むこ
とを特徴とするポリマー。 〔3〕〔2〕に記載のポリマーを用いてなる眼用レン
ズ。 〔4〕〔2〕のポリマーを用いてなるコンタクトレン
ズ。」
する。本発明のモノマーは下記式(a)で表されること
を特徴とする。
飽和結合を有する基を表す。Aはシロキサニル基を表
す。mは1〜10の整数を表す。nは2〜10の整数を
表す。] 式(a)中、Xは重合可能な炭素炭素不飽和結合を有す
る基を表すが、その具体的な例としては下記式(x1)
〜(x6)で表される基を挙げることができる。中でも
合成の容易さ、重合性の高さの点で(x1)および(x
2)で表される基が好ましく、最も好ましいのは式(x
2)で表される基である。
はメチル基を表す。] 式(a)中、Aはシロキサニル基を表す。本明細書にお
いてシロキサニル基とは、少なくとも1つのSi−O−
Si結合を有する基を表す。シロキサニル基としては下
記式(A)で表される置換基が好ましく使用される。
いに独立にH、置換されていてもよい炭素数1〜20の
アルキル基、置換されていてもよい炭素数6〜20のア
リール基を表す。kは0〜200の整数を表し、a、
b、cはそれぞれが互いに独立に0〜20の整数を表
す。ただしk=a=b=c=0の場合は除く。] 式(A)中、A1〜A11はそれぞれが互いに独立にH、
置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置
換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基が、そ
の具体的な例としてはH、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、se
c-ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキ
シル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基などのアル
キル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基を挙
げることができる。これらの中で最も好ましいのはメチ
ル基である。
が、好ましくは0〜50、さらに好ましくは0〜10で
ある。a、b、cはそれぞれが互いに独立に0〜20の
整数であるが、好ましくはa、b、cがそれぞれが互いに
独立に0〜5の整数である。k=0の場合、好ましい
a、b、cの組み合わせはa=b=c=1、a=b=1
かつc=0、およびa=1かつb=c=0である。
に比較的安価に入手できることから特に好適なものは、
トリス(トリメチルシロキシ)シリル基、メチルビス
(トリメチルシロキシ)シリル基、ジメチル(トリメチ
ルシロキシ)シリル基、ポリジメチルシロキサン基、ポ
リメチルシロキサン基およびポリ−コ−メチルシロキサ
ン−ジメチルシロキサン基などである。
が、該モノマーから得られるポリマーの酸素透過性と高
含水率、低弾性率をバランスさせるという点ではmは1
または2が好ましく、1が最も好ましい。
が、合成の容易さという点ではnは2または3が好まし
く、3が最も好ましい。
の一例としては、以下の方法を挙げることができる。ま
ず、式(a1)
す。]で表される化合物と、式(a2)
−トルエンスルホニロキシ基などの脱離基を表す。nは
2〜10の整数を表す。]で表される化合物を、水酸化
カリウムや水素化ナトリウムなどの塩基の存在下で反応
させて式(a3)
す。nは2〜10の整数を表す。]で表される化合物を
得る。次に式(a3)で表される化合物を、炭素炭素不
飽和結合を有する適当な化合物と反応させることによっ
て式(a4)
結合を有する適当な化合物とは、Xの種類によって異な
るが、例えばXが式(x1)で表される基である場合は
対応するエポキシ化合物、Xが式(x2)、式(x5)
および式(x6)で表される基である場合は対応するハ
ロゲン化物、Xが式(x3)および式(x4)で表され
る基である場合は対応するイソシアネート化合物であ
る。次に、式(a4)で表される化合物と式(a5)
ドロシリル化触媒の存在下で反応させて一般式(a)で
表されるモノマーが得られる。このとき式(a5)で表
される化合物のかわりにクロロシラン化合物を用いるこ
ともできる。クロロシラン化合物を用いた場合は、得ら
れるクロロシラン付加物と、アルコキシシラン化合物ま
たはクロロシラン化合物を水の存在下で縮合させること
によって一般式(a)で表されるモノマーが得られる。
モノマーを単独で重合して得ることも、他のモノマーと
共重合して得ることも可能である。他のモノマーと共重
合する場合の共重合モノマーとしては、共重合さえ可能
であれば何ら制限はなく、(メタ)アクリロイル基、スチ
リル基、アリル基、ビニル基および他の共重合可能な炭
素炭素不飽和結合を有するモノマーを使用することがで
きる。
限定されるものではない。(メタ)アクリル酸、イタコ
ン酸、クロトン酸、桂皮酸、ビニル安息香酸、メチル
(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレートなどの
アルキル(メタ)アクリレート類、ポリアルキレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコ
ールモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、ポリ
アルキレングリコールビス(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリス(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールテトラキス(メタ)アクリレート、両
末端に炭素炭素不飽和結合を有するシロキサンマクロマ
ーなどの多官能(メタ)アクリレート類、トリフルオロ
エチル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロイソプロピ
ル(メタ)アクリレートなどのハロゲン化アルキル(メタ)
アクリレート類、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2,3−ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
トなどの水酸基を有するヒドロキシアルキル(メタ)アク
リレート類、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N
−ジエチルアクリルアミド、N,N−ジ−n−プロピル
アクリルアミド、N,N−ジイソプロピルアクリルアミ
ド、 N,N−ジn−ブチルアクリルアミド、N−アク
リロイルモルホリン、N−アクリロイルピペリジン、N
−アクリロイルピロリジン、N−メチル(メタ)アクリ
ルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類、スチレン、
α−メチルスチレン、ビニルピリジンなどの芳香族ビニ
ルモノマー、マレイミド類、N−ビニルピロリドン、N
−ビニルカプロラクタム、N−ビニルオキサゾリドン、
1−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール、ビ
ニルピリジン、ビニルピラジンなどのヘテロ環ビニルモ
ノマー、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトア
ミド、N−メチル−N−ビニルアセトアミドなどのN−
ビニルカルボキサミド類、酢酸ビニルなどのビニルエス
テル類、3−[トリス(トリメチルシロキシ)シリル]
プロピル(メタ)アクリレート、3−[ビス(トリメチ
ルシロキシ)メチルシリル]プロピル(メタ)アクリレ
ート、3−[(トリメチルシロキシ)ジメチルシリル]
プロピル(メタ)アクリレート、3−[トリス(トリメ
チルシロキシ)シリル]プロピル(メタ)アクリルアミ
ド、3−[ビス(トリメチルシロキシ)メチルシリル]
プロピル(メタ)アクリルアミド、3−[(トリメチル
シロキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリル
アミド、[トリス(トリメチルシロキシ)シリル]メチ
ル(メタ)アクリレート、[ビス(トリメチルシロキ
シ)メチルシリル]メチル(メタ)アクリレート、
[(トリメチルシロキシ)ジメチルシリル]メチル(メ
タ)アクリレート、[トリス(トリメチルシロキシ)シ
リル]メチル(メタ)アクリルアミド、[ビス(トリメ
チルシロキシ)メチルシリル]メチル(メタ)アクリル
アミド、[(トリメチルシロキシ)ジメチルシリル]メ
チル(メタ)アクリルアミド、[トリス(トリメチルシ
ロキシ)シリル]スチレン、[ビス(トリメチルシロキ
シ)メチルシリル]スチレン、[(トリメチルシロキ
シ)ジメチルシリル]スチレン、N−〔3−[トリス
(トリメチルシロキシ)シリル]プロピル〕カルバミン
酸ビニル、N−〔3−[ビス(トリメチルシロキシ)メ
チルシリル]プロピル〕カルバミン酸ビニル、N−〔3
−[(トリメチルシロキシ)ジメチルシリル]プロピ
ル〕カルバミン酸ビニルおよび下記式(c1)〜(c
3)の化合物などである。
はメチル基を表す。sは1〜3の整数を表す。] 本発明のポリマーにおいては、良好な機械物性が得ら
れ、消毒液や洗浄液に対する良好な耐性が得られるとい
う意味で、1分子中に2個以上の共重合可能な炭素炭素
不飽和結合を有するモノマーを共重合成分として用いる
ことが好ましい。1分子中に2個以上の共重合可能な炭
素炭素不飽和結合を有するモノマーの共重合比率は0.
1重量%〜70重量%が好ましく、0.2重量%〜40
重量%がより好ましい。
るという点からは、本発明のポリマーは式(a)で表さ
れるモノマーを共重合して用いることが好ましく、その
場合の式(a)で表されるモノマーの共重合比率は30
重量%〜97重量%、より好ましくは50重量%〜95
重量%、最も好ましくは60重量%〜90重量%であ
る。式(a)で表されるモノマーの共重合比率が低すぎ
る場合はポリマーの酸素透過性が低くなり、高すぎる場
合は含水率が低くなる傾向が有る。
素、着色剤などを含むものでもよい。また重合性基を有
する紫外線吸収剤や色素、着色剤を、共重合した形で含
有してもよい。
しては、公知の方法を使用することができる。例えば、
一旦、丸棒や板状等に重合、成形しこれを切削加工等に
よって所望の形状に加工する方法、モールド重合法、お
よびスピンキャスト重合法などである。
際は、重合をしやすくするために過酸化物やアゾ化合物
に代表される熱重合開始剤や、光重合開始剤を添加する
ことが好ましい。熱重合を行う場合は、所望の反応温度
に対して最適な分解特性を有するものを選択して使用す
る。一般的には10時間半減期温度が40〜120℃の
アゾ系開始剤および過酸化物系開始剤が好適である。光
重合開始剤としてはカルボニル化合物、過酸化物、アゾ
化合物、硫黄化合物、ハロゲン化合物、および金属塩な
どを挙げることができる。これらの重合開始剤は単独ま
たは混合して用いられ、およそ1重量%くらいまでの量
で使用される。
際は、重合溶媒を使用することができる。溶媒としては
有機系、無機系の各種溶媒が適用可能であり特に制限は
無い。例を挙げれば、水、メチルアルコール、エチルア
ルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ノルマルブチルアルコール、イソブチルア
ルコール、tert−ブチルアルコール等のアルコール
系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソプ
ロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコー
ルエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミ
ル、乳酸エチル、安息香酸メチル等のエステル系溶剤、
ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、ノルマルオクタ
ン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロへキサン、エチル
シクロへキサン等の脂環族炭化水素系溶剤、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素系溶剤、石油系溶剤等各種のものであり、これら
は単独あるいは混合して使用することができる。
しては、公知の方法を使用することができる。例えば、
一旦、丸棒や板状等に重合、成形しこれを切削加工等に
よって所望の形状に加工する方法、モールド重合法、お
よびスピンキャスト重合法などである。
合法により得る場合について、次に説明する。
のモールドの空隙に充填する。そして光重合あるいは熱
重合を行ってモールドの形状に賦型する。モールドは、
樹脂、ガラス、セラミックス、金属等で製作されている
が、光重合の場合は光学的に透明な素材が用いられ、通
常は樹脂またはガラスが使用される。ポリマーを製造す
る場合には、多くの場合、2枚の対向するモールドによ
り空隙が形成されており、その空隙にモノマー組成物が
充填されるが、モールドの形状やモノマーの性状によっ
てはポリマーに一定の厚みを与えかつ充填したモノマー
組成物の液モレを防止する目的を有するガスケットを併
用してもよい。空隙にモノマー組成物を充填したモール
ドは、続いて紫外線のような活性光線を照射されるか、
オーブンや液槽に入れて加熱されて重合される。光重合
の後に加熱重合したり、逆に加熱重合後に光重合する両
者を併用する方法もありうる。光重合の場合は、例えば
水銀ランプや捕虫灯を光源とする紫外線を多く含む光を
短時間(通常は1時間以下)照射するのが一般的であ
る。熱重合を行う場合には、室温付近から徐々に昇温
し、数時間ないし数十時間かけて60℃〜200℃の温
度まで高めて行く条件が、ポリマーの光学的な均一性、
品位を保持し、かつ再現性を高めるために好まれる。
理を行うことができる。表面の水濡れ性を向上させるた
めには、該改質処理を行うことが好ましい。
磁波(光を含む)照射、プラズマ照射、蒸着およびスパ
ッタリングなどケミカルベーパーデポジション処理、加
熱、塩基処理、酸処理、その他適当な表面処理剤の使
用、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。
これらの改質手段の中で、簡便であり好ましいのは塩基
処理および酸処理である。
は、ポリマーを塩基性または酸性溶液に接触させる方
法、ポリマーを塩基性または酸性ガスに接触させる方法
等が挙げられる。そのより具体的な方法としては、例え
ば塩基性または酸性溶液にポリマーを浸漬する方法、ポ
リマーに塩基性または酸性溶液または塩基性または酸性
ガスを噴霧する方法、ポリマーに塩基性または酸性溶液
をヘラ、刷毛等で塗布する方法、ポリマーに塩基性また
は酸性溶液をスピンコート法やディップコート法で塗布
する方法などを挙げることができる。最も簡便に大きな
改質効果が得られる方法は、ポリマーを塩基性または酸
性溶液に浸漬する方法である。
漬する際の温度は特に限定されないが、通常−50℃〜
300℃程度の温度範囲内で行われる。作業性を考えれ
ば−10℃〜150℃の温度範囲がより好ましく、−5
℃〜60℃が最も好ましい。
る時間については、温度によっても最適時間は変化する
が、一般には100時間以内が好ましく、24時間以内
がより好ましく、12時間以内が最も好ましい。接触時
間が長すぎると、作業性および生産性が悪くなるばかり
でなく、酸素透過性の低下や機械物性の低下などの悪影
響が出る場合がある。
カリ土類金属水酸化物、各種炭酸塩、各種ホウ酸塩、各
種リン酸塩、アンモニア、各種アンモニウム塩、各種ア
ミン類、およびポリエチレンイミン、ポリビニルアミン
等の高分子量塩基などが使用可能である。これらの中で
は、低価格であることおよび処理効果が大きいことから
アルカリ金属水酸化物が最も好ましい。
の各種無機酸、酢酸、ギ酸、安息香酸、フェノールなど
の各種有機酸、およびポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリスルホメチルスチレ
ンなどの高分子量酸が使用可能である。これらの中で
は、処理効果が大きく他の物性への悪影響が少ないこと
から高分子量酸が最も好ましい。
機、有機の各種溶媒が使用できる。例えば、水、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、
ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、グリセリンなどの各種ア
ルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの各種
芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカ
ン、石油エーテル、ケロシン、リグロイン、パラフィン
などの各種脂肪族炭化水素、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどの各種ケトン類、酢
酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、フタル酸ジオ
クチルなどの各種エステル類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジア
ルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエー
テル、トリエチレングリコールジアルキルエーテル、テ
トラエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチ
レングリコールジアルキルエーテルなどの各種エーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N
−メチル−2−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノ
ン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルス
ルホキシドなどの各種非プロトン性極性溶媒、塩化メチ
レン、クロロホルム、ジクロロエタントリクロロエタ
ン、トリクロロエチレンなどのハロゲン系溶媒、および
フロン系溶媒などである。中でも経済性、取り扱いの簡
便さ、および化学的安定性などの点で水が最も好まし
い。溶媒としては、2種類以上の物質の混合物も使用可
能である。
性溶液は、塩基性物質または酸性物質および溶媒以外の
成分を含んでいてもよい。
酸処理の後、洗浄により塩基性または酸性物質を除くこ
とができる。
が使用できる。例えば、水、メタノール、エタノール、
プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレング
リコール、グリセリンなどの各種アルコール類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの各種芳香族炭化水素、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、デカン、石油エーテル、
ケロシン、リグロイン、パラフィンなどの各種脂肪族炭
化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンなどの各種ケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、安息香酸メチル、フタル酸ジオクチルなどの各種エ
ステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジ
エチレングリコールジアルキルエーテル、トリエチレン
グリコールジアルキルエーテル、テトラエチレングリコ
ールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジア
ルキルエーテルなどの各種エーテル類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロ
リドン、ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホス
ホリックトリアミド、ジメチルスルホキシドなどの各種
非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロロエタントリクロロエタン、トリクロロエチレン
などのハロゲン系溶媒、およびフロン系溶媒などであ
る。一般的には水が最も好適である。
合物を使用することもできる。洗浄溶媒は、溶媒以外の
成分、例えば無機塩類、界面活性剤、および洗浄剤を含
有してもよい。
ても良く、例えば表面のみに行うなどポリマーの一部の
みに行ってもよい。表面のみに改質処理を行った場合に
はポリマー全体の性質を大きく変えることなく表面の水
濡れ性のみを向上させることができる。
透過係数が50×10-11(cm2/sec)[mLO2
/(mL・hPa)]以上が好ましく、55×10-11
(cm 2/sec)[mLO2/(mL・hPa)]以上
がより好ましく、60×10-1 1(cm2/sec)[m
LO2/(mL・hPa)]以上が最も好ましい。酸素
透過係数をこの範囲にすることにより、コンタクトレン
ズとして使用した場合に目に対する負担をより軽減する
ことができ、連続装用が容易になる。
量%であり、さらに好ましくは20重量%〜55重量%
であり、最も好ましくは25重量%〜50重量%であ
る。含水率を15%以上にすることにより、コンタクト
レンズとして使用した場合に目の中での動きが良くなり
連続装用がより容易になる。含水率が高すぎると酸素透
過係数が小さくなるために好ましくない。
好ましく、100kPa〜1400kPaがより好まし
く、150kPa〜850kPaが最も好ましい。弾性
率が低すぎると軟らかすぎて形状保持性が悪くなり取り
扱いが難しくなるために好ましくない。弾性率が高すぎ
ると硬すぎてコンタクトレンズとして使用した場合に装
用感が悪くなるために好ましくない。
クトレンズ、眼内レンズ、人工角膜などの眼用レンズと
して特に好適に用いられる。
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
は、以下に示す方法で行った。
クロロホルム−dを使用し、クロロホルムのピークを内
部標準(7.26ppm)とした。
いて35℃の水中にてコンタクトレンズ状サンプルの酸
素透過係数を測定した。なお、サンプルの膜厚は必要に
応じて複数枚を重ね合わせることによって調整した。
た。サンプルを真空乾燥器で40℃、16時間乾燥し、
サンプルの重量(Wd)を測定した。その後、純水に浸
漬して40℃恒温槽に一晩以上おいて含水させた後、表
面水分をキムワイプで拭き取って重量(Ww)を測定し
た。次式にて含水率を求めた。
切り出したサンプル〔幅(最小部分)5mm、長さ14
mm、厚さ0.2mm程度〕を使用し、オリエンテック
社製のテンシロンRTM−100型を用いて測定した。
引張速度は100mm/minとし、つかみ間距離は5
mmとした。
の合成
および撹拌翼を備えた500mL三ツ口フラスコに1,
3−プロパンジオール(100g)および水酸化カリウ
ム(86.7g)を入れ、室温で1時間程度撹拌した。
滴下ロートに臭化アリル(159g)を入れ、撹拌しな
がら滴下した。滴下終了後、撹拌しながら60℃で3時
間反応させた。ジエチルエーテル(250mL)を加え
た後、塩をろ過で除き、ロータリーバキュームエバポレ
ーターにより溶媒成分を留去した。再び塩が析出したの
で再度ろ過で除いた。減圧蒸留により精製し、3−アリ
ロキシプロパノールを無色透明液体として得た。
00mL三ツ口フラスコに、(1)で合成した3−アリ
ロキシプロパノール(15g)、トリエチルアミン(1
9.6g)およびテトラヒドロフラン(30mL)を入
れた。この三ツ口フラスコを氷浴に浸漬し、撹拌してい
るところへ、メタクリル酸クロリド(20.2g)を約
30分かけて滴下した。滴下終了後、室温で2時間撹拌
を行った。析出した塩を吸引ろ過で除いた。ろ液に酢酸
エチル(100mL)を加え、分液ロートに入れ、食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水をこの
順に用いて洗浄した。無水硫酸マグネシウムにより脱水
処理を行った後、ロータリーバキュームエバポレーター
で溶媒を留去した。減圧蒸留により精製し、3−アリロ
キシプロピルメタクリレートを無色透明液体として得
た。
プロパノールに溶かし、テトラヒドロフランで1.93
×10-5mol/gに希釈した。以下この溶液を「触媒
溶液」と呼ぶ。
スフラスコに、(2)で合成した3−アリロキシプロピ
ルメタクリレート(6.94g)、トルエン(12g)
および触媒溶液(3.9g)を入れた。フラスコを水浴
に漬けて冷却し、撹拌しながらトリクロロシラン(1
0.21g)を少しずつ加えた。発熱が治まったことを
確認してからフラスコをセプタムで密栓し、室温で一晩
静置した。ロータリーバキュームエバポレーターにより
低沸点成分を除いた後、減圧蒸留により精製し、3−
(3−メタクリロキシプロポキシ)プロピルトリクロロ
シランを無色透明液体として得た。
mLナスフラスコにヘキサン(2.4g)、メタノール
(2.4g)および水(4.8g)を入れ、フラスコを
氷浴に浸漬し、フラスコ内を激しく撹拌した。ここへ、
(3)で合成した3−(3−メタクリロキシプロポキ
シ)プロピルトリクロロシラン(4.58g)およびメ
トキシトリメチルシラン(8.94g)からなる混合物
を約10分間かけて滴下した。滴下終了後、室温におい
て4時間撹拌を続けた。反応液は2層に分かれるので、
分液ロートにより上層を分取した。飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液(3回)および水(2回)をこの順に用いて
洗浄した。無水硫酸ナトリウムにより脱水を行った後、
ロータリーバキュームエバポレーターで溶媒を留去し
た。減圧蒸留により精製し、微黄色透明液体を得た。こ
の液体のプロトン核磁気共鳴スペクトルを測定し分析し
た結果、0.1ppm付近(27H)、0.4ppm付
近(2H)、1.6ppm付近(2H)、1.9ppm
付近(5H)、3.3ppm付近(2H)、3.5pp
m付近(2H)、4.2ppm付近(2H)、5.5p
pm付近(1H)および6.1ppm付近(1H)にピ
ークが検出されたことから式(M1)で表される化合物
であることを確認した。
の合成
酸クロリドを使用する他は、実施例1と同様に行って微
黄色透明液体を得た。この液体のプロトン核磁気共鳴ス
ペクトルを測定し分析した結果、0.1ppm付近(2
7H)、0.4ppm付近(2H)、1.6ppm付近
(2H)、1.9ppm付近(2H)、3.3ppm付
近(2H)、3.5ppm付近(2H)、4.2ppm
付近(2H)、5.8ppm付近(1H)、6.2pp
m付近(1H)および6.4ppm付近(1H)にピー
クが検出されたことから式(M1)で表される化合物で
あることを確認した。
化合物(65重量部)、N,N−ジメチルアクリルアミ
ド(35重量部)、トリエチレングリコールジメタクリ
レート(1重量部)、ダロキュア1173(チバ・スペ
シャリティー・ケミカルズ社製、0.5重量部)および
ジエチレングリコールジメチルエーテル(10重量部)
を混合し撹拌した。均一で透明なモノマー混合物が得ら
れた。このモノマー混合物をアルゴン雰囲気下で脱気し
た。窒素雰囲気のグローブボックス中で透明樹脂(ポリ
4−メチルペンテン−1)製のコンタクトレンズ用モー
ルドに注入し、捕虫灯を用いて光照射(1mW/c
m2、10分間)して重合し、コンタクトレンズ状サン
プルを得た。得られたサンプルを、大過剰量のイソプロ
ピルアルコールに60℃、16時間浸漬した後、大過剰
量の純水に24時間浸漬した。その後、清浄な純水に浸
漬して保存した。得られたサンプルは透明で濁りが無か
った。このサンプルの酸素透過係数は70×10
-11(cm2/sec)[mLO2/(mL・hP
a)]、含水率は30%、弾性率は380kPaであ
り、高酸素透過性、高含水率および低弾性率を有してい
た。
量部)のかわりに、実施例2で得た式(M2)の化合物
(35重量部)と3−メタクリロキシプロピルトリス
(トリメチルシロキシ)シラン(30重量部)を用いる
他は実施例3と同様にしてコンタクトレンズ状サンプル
を得た。得られたサンプルは透明で濁りが無かった。こ
のサンプルの酸素透過係数は75×10-11(cm2/s
ec)[mLO2/(mL・hPa)]、含水率は26
%、弾性率は280kPaであり、高酸素透過性、高含
水率および低弾性率を有していた。
量部)のかわりに、3−メタクリロキシプロピルトリス
(トリメチルシロキシ)シラン(65重量部)を用いる
他は実施例3と同様にしてコンタクトレンズ状サンプル
を得た。得られたサンプルは透明で濁りが無かった。こ
のサンプルの酸素透過係数は83×10-11(cm2/s
ec)[mLO2/(mL・hPa)]、含水率は22
%、弾性率は2050kPaであり、高酸素透過性であ
ったが、実施例3および実施例4と比較すると低含水率
であり、弾性率も高かった。
量部)のかわりに、式(H)
他は実施例3と同様にしてコンタクトレンズ状サンプル
を得た。得られたサンプルは透明で濁りが無かった。こ
のサンプルの酸素透過係数は71×10-11(cm2/s
ec)[mLO2/(mL・hPa)]]、含水率は2
5%、弾性率は830kPaであり、高酸素透過性、高
含水率であったが、実施例3および実施例4と比較する
と弾性率が高かった。
性を有し、かつ高含水率、低弾性率を有するポリマーお
よび眼用レンズが得られる。
Claims (7)
- 【請求項1】下記式(a)で表されることを特徴とする
モノマー。 【化1】 [式(a)中、Xは重合可能な炭素炭素不飽和結合を有
する基を表す。Aはシロキサニル基を表す。mは1〜1
0の整数を表す。nは2〜10の整数を表す。] - 【請求項2】シロキサニル基が下記式(A)で表される
置換基であることを特徴とする請求項1に記載のモノマ
ー。 【化2】 [式(A)中、A1〜A11はそれぞれが互いに独立に
H、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル
基、置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基
を表す。kは0〜200の整数を表し、a、b、cはそ
れぞれが互いに独立に0〜20の整数を表す。ただしk
=a=b=c=0の場合は除く。] - 【請求項3】式(a)において、Xが下記式(x1)〜
(x6)で表される置換基から選ばれる1つの置換基で
あることを特徴とする請求項2に記載のモノマー。 【化3】 [式(x1)〜(x6)中、R1はHまたはメチル基を
表す。] - 【請求項4】式(a)中、Xがメタクリロイル基または
アクリロイル基を表し、Aがトリス(トリメチルシロキ
シ)シリル基、メチルビス(トリメチルシロキシ)シリ
ル基およびジメチル(トリメチルシロキシ)シリル基か
ら選ばれた1つの置換基を表し、mが1または2の整数
を表し、nが整数3を表すことを特徴とする請求項3に
記載のモノマー。 - 【請求項5】請求項1〜4いずれかに記載のモノマーを
重合成分として含むことを特徴とするポリマー。 - 【請求項6】請求項5に記載のポリマーを用いてなる眼
用レンズ。 - 【請求項7】請求項5に記載のポリマーを用いてなるコ
ンタクトレンズ。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003042222A1 (fr) * | 2001-10-02 | 2003-05-22 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Monomere, polymere et lentille oculaire les comprenant |
JP2007526364A (ja) * | 2004-02-11 | 2007-09-13 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | ヒドロキシおよびシリコーン官能基含有(メタ)アクリルアミドモノマー、ならびに、それらから製造されるポリマー |
JP2015096471A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 信越化学工業株式会社 | 眼科デバイス製造用モノマー |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS60131518A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-07-13 | Nippon Contact Lens Seizo Kk | コンタクトレンズ材料 |
JPH0959679A (ja) * | 1995-08-17 | 1997-03-04 | Dainippon Ink & Chem Inc | 洗浄剤 |
JPH11287971A (ja) * | 1998-04-02 | 1999-10-19 | Kuraray Co Ltd | 眼用レンズ材料 |
JP2005179687A (ja) * | 2005-01-13 | 2005-07-07 | Dainippon Ink & Chem Inc | 洗浄剤 |
-
2000
- 2000-05-12 JP JP2000140442A patent/JP4882137B2/ja not_active Expired - Fee Related
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