JP2001316312A - 高純度1,6−ヘキサンジオール - Google Patents
高純度1,6−ヘキサンジオールInfo
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- JP2001316312A JP2001316312A JP2000069625A JP2000069625A JP2001316312A JP 2001316312 A JP2001316312 A JP 2001316312A JP 2000069625 A JP2000069625 A JP 2000069625A JP 2000069625 A JP2000069625 A JP 2000069625A JP 2001316312 A JP2001316312 A JP 2001316312A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリカーボネートジオールやポリエステルポ
リオールなどのソフトセグメントとして、あるいはその
まま鎖延長剤として、ポリウレタンやポリエステル樹脂
等の原料に用いる際に重合反応速度を低下させる不純物
を含有しない1,6−ヘキサンジオールを提供する。 【解決手段】 1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンの
含有量が0.1重量%以下である1,6−ヘキサンジオ
ールであり、この1,6−ヘキサンジオールは、アジピ
ン酸を晶析分離したろ液に含まれるジカルボン酸混合物
を直接水素還元することにより得ることができる。
リオールなどのソフトセグメントとして、あるいはその
まま鎖延長剤として、ポリウレタンやポリエステル樹脂
等の原料に用いる際に重合反応速度を低下させる不純物
を含有しない1,6−ヘキサンジオールを提供する。 【解決手段】 1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンの
含有量が0.1重量%以下である1,6−ヘキサンジオ
ールであり、この1,6−ヘキサンジオールは、アジピ
ン酸を晶析分離したろ液に含まれるジカルボン酸混合物
を直接水素還元することにより得ることができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高純度1,6−ヘ
キサンジオールに関するものであり、さらに詳しくはポ
リウレタンやポリエステル等の製造時の重合性を阻害す
る物質を含有しない1,6−ヘキサンジオールに関す
る。
キサンジオールに関するものであり、さらに詳しくはポ
リウレタンやポリエステル等の製造時の重合性を阻害す
る物質を含有しない1,6−ヘキサンジオールに関す
る。
【0002】
【従来の技術】1,6−ヘキサンジオールは、ポリエス
テル樹脂や、ウレタンフォームやウレタン塗料、接着剤
の原料として有用な物質である。例えばポリウレタンの
原料としては、鎖延長剤としてそのまま用いることがで
き、またポリカーボネートジオールやポリエステルポリ
オール等の製造に用いソフトセグメントとして用いるこ
とができる。特に1,6−ヘキサンジオールから得られ
るポリカーボネートジオールから製造した熱可塑性ポリ
ウレタンは、耐加水分解性、耐熱性に優れるという特性
を持つことが知られている。さらに1,6−ヘキサンジ
オールと1,5−ペンタンジオールから得られる共重合
ポリカーボネートジオール(特公平5−029648号
公報参照)は、それを原料とする熱可塑性ポリウレタン
(特公平7−684号公報参照)が、1,6−ヘキサン
ジオールのみから得られるポリカーボネートジオールか
ら製造した熱可塑性ポリウレタンの欠点である柔軟性、
弾性回復性という点にも著しく優れており、更にポリウ
レタン繊維の製造に際しても容易に紡糸できるという点
で近年注目されている。
テル樹脂や、ウレタンフォームやウレタン塗料、接着剤
の原料として有用な物質である。例えばポリウレタンの
原料としては、鎖延長剤としてそのまま用いることがで
き、またポリカーボネートジオールやポリエステルポリ
オール等の製造に用いソフトセグメントとして用いるこ
とができる。特に1,6−ヘキサンジオールから得られ
るポリカーボネートジオールから製造した熱可塑性ポリ
ウレタンは、耐加水分解性、耐熱性に優れるという特性
を持つことが知られている。さらに1,6−ヘキサンジ
オールと1,5−ペンタンジオールから得られる共重合
ポリカーボネートジオール(特公平5−029648号
公報参照)は、それを原料とする熱可塑性ポリウレタン
(特公平7−684号公報参照)が、1,6−ヘキサン
ジオールのみから得られるポリカーボネートジオールか
ら製造した熱可塑性ポリウレタンの欠点である柔軟性、
弾性回復性という点にも著しく優れており、更にポリウ
レタン繊維の製造に際しても容易に紡糸できるという点
で近年注目されている。
【0003】かかる1,6−ヘキサンジオールは、従
来、シクロヘキサンを空気酸化してシクロヘキサノン及
び/又はシクロヘキサノールを製造する際に副生するグ
ルタル酸、アジピン酸、6−ヒドロキシカプロン酸を含
むカルボン酸混合物を原料としてエステル化した後に銅
系の触媒を用いて水素化し、1,5−ペンタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオールとし、これを蒸留分離し
て製造されている(米国特許第3,268,588号明
細書)。しかしながら、本発明者らが検討した結果、上
記の方法で得られた1,6−ヘキサンジオールを原料と
してポリカーボネートジオールを製造し、これを原料と
してウレタン化反応を行うと重合速度が遅く、十分な分
子量が得られないこと、また鎖延長剤としてウレタン化
反応にそのまま用いた場合にも同様な問題があることが
わかった。また、ポリエステル製造時にも重合速度に同
様な影響が出てくるという問題があった。
来、シクロヘキサンを空気酸化してシクロヘキサノン及
び/又はシクロヘキサノールを製造する際に副生するグ
ルタル酸、アジピン酸、6−ヒドロキシカプロン酸を含
むカルボン酸混合物を原料としてエステル化した後に銅
系の触媒を用いて水素化し、1,5−ペンタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオールとし、これを蒸留分離し
て製造されている(米国特許第3,268,588号明
細書)。しかしながら、本発明者らが検討した結果、上
記の方法で得られた1,6−ヘキサンジオールを原料と
してポリカーボネートジオールを製造し、これを原料と
してウレタン化反応を行うと重合速度が遅く、十分な分
子量が得られないこと、また鎖延長剤としてウレタン化
反応にそのまま用いた場合にも同様な問題があることが
わかった。また、ポリエステル製造時にも重合速度に同
様な影響が出てくるという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ポリウレタ
ン製造時やポリエステル製造時等の重合速度を低下させ
る不純物を実質的に含有しない、高純度の1,6−ヘキ
サンジオールを提供することを目的とする。
ン製造時やポリエステル製造時等の重合速度を低下させ
る不純物を実質的に含有しない、高純度の1,6−ヘキ
サンジオールを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らがウレタン化
反応において十分な重合速度が得られない原因について
種々検討したところ上記の従来法で得られた1,6−ヘ
キサンジオールには1,4−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンが0.5〜2重量%含まれていること、さらに1,4
−ジヒドロキシシクロヘキサンの含有量が少ない1,6
−ヘキサンジオールをウレタン化反応に用いると高い重
合速度が得られることを見出し、本発明を完成したもの
である。すなわち、本発明は、(1)1,4−ジヒドロ
キシシクロヘキサンの含有量が0.1重量%以下である
ことを特徴とする1,6−ヘキサンジオール、(2)ポ
リウレタン製造の原料に用いることを特徴とする(1)
記載の1,6−ヘキサンジオール、である。
反応において十分な重合速度が得られない原因について
種々検討したところ上記の従来法で得られた1,6−ヘ
キサンジオールには1,4−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンが0.5〜2重量%含まれていること、さらに1,4
−ジヒドロキシシクロヘキサンの含有量が少ない1,6
−ヘキサンジオールをウレタン化反応に用いると高い重
合速度が得られることを見出し、本発明を完成したもの
である。すなわち、本発明は、(1)1,4−ジヒドロ
キシシクロヘキサンの含有量が0.1重量%以下である
ことを特徴とする1,6−ヘキサンジオール、(2)ポ
リウレタン製造の原料に用いることを特徴とする(1)
記載の1,6−ヘキサンジオール、である。
【0006】以下、本発明を詳細に説明する。従来法に
より得られた1,6−ヘキサンジオール中に含まれる
1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンは、2個の2級O
H基を持つジオールであり、これを含む1,6−ヘキサ
ンジオールを原料としてポリカーボネートジオールを製
造すると2級OH基は反応性が低いためポリカーボネー
トジオールの末端基となり、このようなポリカーボネー
トジオールを用いてウレタン化反応を行った場合、重合
速度が遅く十分な分子量のポリウレタンを得ることがで
きないことがわかった。また、鎖延長剤としてそのまま
ウレタン化反応に用いた場合にも同じ理由により十分な
分子量のポリウレタンを得ることができないことがわか
った。更には、ポリエステルへの重合時にも重合速度に
影響が出てくることもわかった。
より得られた1,6−ヘキサンジオール中に含まれる
1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンは、2個の2級O
H基を持つジオールであり、これを含む1,6−ヘキサ
ンジオールを原料としてポリカーボネートジオールを製
造すると2級OH基は反応性が低いためポリカーボネー
トジオールの末端基となり、このようなポリカーボネー
トジオールを用いてウレタン化反応を行った場合、重合
速度が遅く十分な分子量のポリウレタンを得ることがで
きないことがわかった。また、鎖延長剤としてそのまま
ウレタン化反応に用いた場合にも同じ理由により十分な
分子量のポリウレタンを得ることができないことがわか
った。更には、ポリエステルへの重合時にも重合速度に
影響が出てくることもわかった。
【0007】そこで本発明者らが鋭意検討した結果、
1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンの含有量が0.1
重量%以下である1,6−ヘキサンジオールがウレタン
化反応において高い重合反応性を示し、ポリウレタンの
原料として好適であることを見出したものである。ま
た、ポリエステルへの重合時にも重合速度に好ましい影
響が出てくることが判った。好ましくは、1,4−ジヒ
ドロキシシクロヘキサンの含有量は0.05重量%以下
である。医農薬原料等のファインケミカル原料として用
いる場合も、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン等の
不純物を実質的に含有しない1,6−ヘキサンジオール
が有用であることは言うまでもない。また、本発明の
1,6−ヘキサンジオール中の水分量は0.3重量%以
下であることが好ましく、さらに好ましくは0.2重量
%以下である。水分が0.3重量%より多いと例えばポ
リカーボネートジオール製造時に触媒が失活したり、そ
のまま鎖延長剤として用いた場合に有機イソシアネート
と水分が反応し、分子量が上昇しないことなどが発生し
好ましくない。
1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンの含有量が0.1
重量%以下である1,6−ヘキサンジオールがウレタン
化反応において高い重合反応性を示し、ポリウレタンの
原料として好適であることを見出したものである。ま
た、ポリエステルへの重合時にも重合速度に好ましい影
響が出てくることが判った。好ましくは、1,4−ジヒ
ドロキシシクロヘキサンの含有量は0.05重量%以下
である。医農薬原料等のファインケミカル原料として用
いる場合も、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン等の
不純物を実質的に含有しない1,6−ヘキサンジオール
が有用であることは言うまでもない。また、本発明の
1,6−ヘキサンジオール中の水分量は0.3重量%以
下であることが好ましく、さらに好ましくは0.2重量
%以下である。水分が0.3重量%より多いと例えばポ
リカーボネートジオール製造時に触媒が失活したり、そ
のまま鎖延長剤として用いた場合に有機イソシアネート
と水分が反応し、分子量が上昇しないことなどが発生し
好ましくない。
【0008】また、δ−バレロラクトン、ε−カプロラ
クトン等のラクトン類、5−ヒドロキシ吉草酸、6−ヒ
ドロキシカプロン酸等のヒドロキシカルボン酸類、ペン
タノール、ヘキサノール等のモノアルコール類は、1,
6−ヘキサンジオール製造時に副生し、混入することが
考えられる化合物であるが、これらの化合物の含有量は
合わせて0.5重量%以下が好ましく、さらに好ましく
は0.3重量%以下である。なお、本発明の1,6−ヘ
キサンジオールは所望に応じて1,4−ブタンジオール
及び/又は1,5−ペンタンジオールが含まれていても
よい。例えば前記した共重合ポリカーボネートジオール
の原料としては、1,5−ペンタンジオールと1,6−
ヘキサンジオールの混合物を好ましく用いることができ
る。
クトン等のラクトン類、5−ヒドロキシ吉草酸、6−ヒ
ドロキシカプロン酸等のヒドロキシカルボン酸類、ペン
タノール、ヘキサノール等のモノアルコール類は、1,
6−ヘキサンジオール製造時に副生し、混入することが
考えられる化合物であるが、これらの化合物の含有量は
合わせて0.5重量%以下が好ましく、さらに好ましく
は0.3重量%以下である。なお、本発明の1,6−ヘ
キサンジオールは所望に応じて1,4−ブタンジオール
及び/又は1,5−ペンタンジオールが含まれていても
よい。例えば前記した共重合ポリカーボネートジオール
の原料としては、1,5−ペンタンジオールと1,6−
ヘキサンジオールの混合物を好ましく用いることができ
る。
【0009】従来法で製造した1,6−ヘキサンジオー
ル中に上記の不純物が含まれる理由は、その原料である
シクロヘキサンを空気酸化してシクロヘキサノン及び/
又はシクロヘキサノールを製造する際に副生するグルタ
ル酸、アジピン酸、6−ヒドロキシカプロン酸を含むカ
ルボン酸混合物の中に水素還元を受けて1,4−ジヒド
ロキシシクロヘキサンとなる不純物が含まれているため
と推定される。本発明の1,6−ヘキサンジオールを得
る方法としては、上記のシクロヘキサノン及び/又はシ
クロヘキサノールを製造する際に副生するアジピン酸を
低級アルコールを用いてエステル化した後に蒸留などの
方法により精製し、アジピン酸ジエステルの純度を9
9.9重量%以上とし、これを銅系の触媒を用いて水素
還元して1,6−ヘキサンジオールとしても良い。しか
しこの方法は、アジピン酸ジエステルの精製に多大の労
力を必要とすることとなる。
ル中に上記の不純物が含まれる理由は、その原料である
シクロヘキサンを空気酸化してシクロヘキサノン及び/
又はシクロヘキサノールを製造する際に副生するグルタ
ル酸、アジピン酸、6−ヒドロキシカプロン酸を含むカ
ルボン酸混合物の中に水素還元を受けて1,4−ジヒド
ロキシシクロヘキサンとなる不純物が含まれているため
と推定される。本発明の1,6−ヘキサンジオールを得
る方法としては、上記のシクロヘキサノン及び/又はシ
クロヘキサノールを製造する際に副生するアジピン酸を
低級アルコールを用いてエステル化した後に蒸留などの
方法により精製し、アジピン酸ジエステルの純度を9
9.9重量%以上とし、これを銅系の触媒を用いて水素
還元して1,6−ヘキサンジオールとしても良い。しか
しこの方法は、アジピン酸ジエステルの精製に多大の労
力を必要とすることとなる。
【0010】また、従来法により得られた1,6−ヘキ
サンジオールを蒸留等の方法によりさらに精製すること
は、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンの沸点が1,
6−ヘキサンジオールの沸点に近く難しい。1,6−ヘ
キサンジオールの原料となるアジピン酸としては、上記
シクロヘキサノン及び/又はシクロヘキサノールを製造
する際の副生物の他に、シクロヘキサノン及び/又はシ
クロヘキサノールを硝酸酸化して得られるアジピン酸が
純度が高く、また工業的に生産されており入手が容易で
あり好ましく用いることができる。
サンジオールを蒸留等の方法によりさらに精製すること
は、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンの沸点が1,
6−ヘキサンジオールの沸点に近く難しい。1,6−ヘ
キサンジオールの原料となるアジピン酸としては、上記
シクロヘキサノン及び/又はシクロヘキサノールを製造
する際の副生物の他に、シクロヘキサノン及び/又はシ
クロヘキサノールを硝酸酸化して得られるアジピン酸が
純度が高く、また工業的に生産されており入手が容易で
あり好ましく用いることができる。
【0011】アジピン酸を水素還元して1,6−ヘキサ
ンジオールを得る方法としては、低級アルコールを用い
てジエステルとした後に銅系の触媒を用いて水素還元す
る公知の方法を用いることができる。しかしルテニウム
−スズ系の触媒を用いてアジピン酸を直接水素還元する
方法がエステル化工程なしで1,6−ヘキサンジオール
を得ることができ好ましい。ルテニウム−スズ系の触媒
としては、公知のルテニウム−スズ系の触媒を用いるこ
とができる。例えば、Ru−Sn−Ptを活性炭に担持
した触媒(特開平11−60523号公報参照)等を用
いることができる。
ンジオールを得る方法としては、低級アルコールを用い
てジエステルとした後に銅系の触媒を用いて水素還元す
る公知の方法を用いることができる。しかしルテニウム
−スズ系の触媒を用いてアジピン酸を直接水素還元する
方法がエステル化工程なしで1,6−ヘキサンジオール
を得ることができ好ましい。ルテニウム−スズ系の触媒
としては、公知のルテニウム−スズ系の触媒を用いるこ
とができる。例えば、Ru−Sn−Ptを活性炭に担持
した触媒(特開平11−60523号公報参照)等を用
いることができる。
【0012】さらに本発明者らが、鋭意検討した結果、
アジピン酸製造時に副生するジカルボン酸混合物を原料
として水素還元することによっても本発明の1,6−ヘ
キサンジオールが得られることを見出した。即ち、シク
ロヘキサノン及び/又はシクロヘキサノールを硝酸酸化
してアジピン酸を製造する際に副生するコハク酸、グル
タル酸、アジピン酸を直接又はエステルにした後に水素
還元してジオールとし、必要に応じて得られた1,4−
ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−
ヘキサンジオールを蒸留により分離し、本発明の1,6
−ヘキサンジオールを得ることができる。
アジピン酸製造時に副生するジカルボン酸混合物を原料
として水素還元することによっても本発明の1,6−ヘ
キサンジオールが得られることを見出した。即ち、シク
ロヘキサノン及び/又はシクロヘキサノールを硝酸酸化
してアジピン酸を製造する際に副生するコハク酸、グル
タル酸、アジピン酸を直接又はエステルにした後に水素
還元してジオールとし、必要に応じて得られた1,4−
ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−
ヘキサンジオールを蒸留により分離し、本発明の1,6
−ヘキサンジオールを得ることができる。
【0013】上記のジカルボン酸混合物は水素還元に供
する前に含有する硝酸及び硝酸酸化の触媒として使用す
る銅及びバナジウムの除去処理を行うことが好ましい。
硝酸が存在すると水素還元で用いる触媒金属が溶液中に
溶解し、触媒の活性が経時的に低下する。硝酸の除去方
法としては、ジカルボン酸混合物の水溶液を常圧又は減
圧下で加熱し、水および大部分の硝酸を除去し、さらに
130℃〜180℃の温度で1分〜1時間加熱する方法
が簡便であり好ましい。ジカルボン酸混合物をさらに活
性炭、陰イオン交換樹脂などを用いて精製すると水素還
元における触媒活性が高くなり、また長期間安定にジオ
ールを得ることができ好ましい。
する前に含有する硝酸及び硝酸酸化の触媒として使用す
る銅及びバナジウムの除去処理を行うことが好ましい。
硝酸が存在すると水素還元で用いる触媒金属が溶液中に
溶解し、触媒の活性が経時的に低下する。硝酸の除去方
法としては、ジカルボン酸混合物の水溶液を常圧又は減
圧下で加熱し、水および大部分の硝酸を除去し、さらに
130℃〜180℃の温度で1分〜1時間加熱する方法
が簡便であり好ましい。ジカルボン酸混合物をさらに活
性炭、陰イオン交換樹脂などを用いて精製すると水素還
元における触媒活性が高くなり、また長期間安定にジオ
ールを得ることができ好ましい。
【0014】上記のジカルボン酸混合物を原料として水
素還元を行うことにより本発明の1,6−ヘキサンジオ
ールを得ることができる。水素還元の方法としては、ジ
カルボン酸混合物をメタノール、エタノールなどのアル
コール類でエステル化した後に銅系の触媒を用いて水素
と反応させても良いが、水存在下でルテニウム及びスズ
を含む触媒を用いてジカルボン酸混合物を水素により直
接水素還元する方法が工程数が短く好ましい。
素還元を行うことにより本発明の1,6−ヘキサンジオ
ールを得ることができる。水素還元の方法としては、ジ
カルボン酸混合物をメタノール、エタノールなどのアル
コール類でエステル化した後に銅系の触媒を用いて水素
と反応させても良いが、水存在下でルテニウム及びスズ
を含む触媒を用いてジカルボン酸混合物を水素により直
接水素還元する方法が工程数が短く好ましい。
【0015】ジカルボン酸混合物の直接水素還元に用い
るルテニウム及びスズを含む触媒としては、さらにレニ
ウム及び/又は白金を含む触媒が活性が高く好ましい。
また担体としては、活性炭、シリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニアなどの多孔性物質を用いることできる
が、この中でも特に活性炭が好ましい。水素還元におけ
る水の量としては、水素還元温度においてジカルボン酸
混合物が溶解していることが好ましく、さらに詳しくは
ジカルボン酸溶液の濃度が1重量%〜50重量%であ
る。温度は100℃〜300℃が好ましく、さらに好ま
しくは140℃〜250℃である。圧力は1MPa〜2
5MPaが好ましく、さらに好ましくは5MPa〜20
MPaである。反応時間は温度及び圧力条件により任意
に選択することができるが、水添反応の中間体であるラ
クトン類が0.5重量%以下であるような水素還元条件
を選択することが1,6−ヘキサンジオール精製系への
負荷を低減することができ好ましい。水素還元反応は回
分式でも連続式でも行うことができる。得られた1,6
−ヘキサンジオールは、所望に応じて例えば蒸留により
脱水及び精製することができる。
るルテニウム及びスズを含む触媒としては、さらにレニ
ウム及び/又は白金を含む触媒が活性が高く好ましい。
また担体としては、活性炭、シリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニアなどの多孔性物質を用いることできる
が、この中でも特に活性炭が好ましい。水素還元におけ
る水の量としては、水素還元温度においてジカルボン酸
混合物が溶解していることが好ましく、さらに詳しくは
ジカルボン酸溶液の濃度が1重量%〜50重量%であ
る。温度は100℃〜300℃が好ましく、さらに好ま
しくは140℃〜250℃である。圧力は1MPa〜2
5MPaが好ましく、さらに好ましくは5MPa〜20
MPaである。反応時間は温度及び圧力条件により任意
に選択することができるが、水添反応の中間体であるラ
クトン類が0.5重量%以下であるような水素還元条件
を選択することが1,6−ヘキサンジオール精製系への
負荷を低減することができ好ましい。水素還元反応は回
分式でも連続式でも行うことができる。得られた1,6
−ヘキサンジオールは、所望に応じて例えば蒸留により
脱水及び精製することができる。
【0016】本発明の1,6−ヘキサンジオールを用い
てポリカーボネートジオールやポリエステルポリオー
ル、ポリエステル樹脂、さらにポリウレタンを製造する
方法としては、従来公知の方法を用いることができる。
例えばポリカーボネートジオールの合成は、Polym
er Reviews 第9巻、第9〜20頁に記載さ
れている方法に従って、ジアルキルカーボネートと1,
6−ヘキサンジオールを一般的なエステル交換触媒を用
いて行うことができる。又無触媒で合成する方法として
はエチレンカーボネートまたはジフェニルカーボネート
を使用する方法が従来から知られており、これらの方法
も用いることができる。またポリエステルポリオール
は、ジカルボン酸例えばアジピン酸と1,6−ヘキサン
ジオールから無触媒または触媒存在下の脱水反応により
合成することができる。また、ジカルボン酸ジエステル
と1,6−ヘキサンジオールからエステル交換反応によ
っても合成することができる。
てポリカーボネートジオールやポリエステルポリオー
ル、ポリエステル樹脂、さらにポリウレタンを製造する
方法としては、従来公知の方法を用いることができる。
例えばポリカーボネートジオールの合成は、Polym
er Reviews 第9巻、第9〜20頁に記載さ
れている方法に従って、ジアルキルカーボネートと1,
6−ヘキサンジオールを一般的なエステル交換触媒を用
いて行うことができる。又無触媒で合成する方法として
はエチレンカーボネートまたはジフェニルカーボネート
を使用する方法が従来から知られており、これらの方法
も用いることができる。またポリエステルポリオール
は、ジカルボン酸例えばアジピン酸と1,6−ヘキサン
ジオールから無触媒または触媒存在下の脱水反応により
合成することができる。また、ジカルボン酸ジエステル
と1,6−ヘキサンジオールからエステル交換反応によ
っても合成することができる。
【0017】これらのポリカーボネートジオールあるい
はポリエステルポリオール等のポリオールからポリウレ
タンを製造する方法としては、ポリウレタン業界で公知
のウレタン化反応の技術が用いられる。例えば、該ポリ
オールと有機イソシアネートを常温〜200℃で反応さ
せることによりNCO末端のポリウレタンプレポリマー
が生成する。これは、所望に応じて空気中の水分と反応
して硬化する一液型の無溶剤接着剤、シーラントとして
使用できる。またこのプレポリマーと別のポリオール、
公知の架橋剤と組み合わせて二液型の注型材等に用いる
ことができる。
はポリエステルポリオール等のポリオールからポリウレ
タンを製造する方法としては、ポリウレタン業界で公知
のウレタン化反応の技術が用いられる。例えば、該ポリ
オールと有機イソシアネートを常温〜200℃で反応さ
せることによりNCO末端のポリウレタンプレポリマー
が生成する。これは、所望に応じて空気中の水分と反応
して硬化する一液型の無溶剤接着剤、シーラントとして
使用できる。またこのプレポリマーと別のポリオール、
公知の架橋剤と組み合わせて二液型の注型材等に用いる
ことができる。
【0018】有機イソシアネートとしては、2,4−ト
リレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシア
ネート、及びその混合物(TDI)、ジフェニルメタン
−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、ナフタレン
−1,5−ジイソシアネート(NDI)、3,3’−ジ
メチル−4,4’−ビフェニレンジイソシアネート(T
ODI)、粗製TDI、ポリメチレンポリフェニルイソ
シアネート、フェニレンジイソシアネート、粗製MDI
等の公知の芳香族ジイソシアネートや、キシリレンジイ
ソシアネート(XDI)等の公知の芳香脂肪族ジイソシ
アネートや4,4’−メチレンビスシクロヘキシルジイ
ソシアネート(水添MDI)、ヘキサメチレンジイソシ
アネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(I
PDI)、シクロヘキサンジイソシアネート等の公知の
脂肪族ジイソシアネート及びこれらのイソシアネート類
のイソシアヌレート化変成品、カルボジイミド化変成
品、ビュレット化変成品等を用いることができる。ま
た、ポリエステルポリオール、ポリエステル樹脂は可塑
剤、接着剤等にも用いられる。
リレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシア
ネート、及びその混合物(TDI)、ジフェニルメタン
−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、ナフタレン
−1,5−ジイソシアネート(NDI)、3,3’−ジ
メチル−4,4’−ビフェニレンジイソシアネート(T
ODI)、粗製TDI、ポリメチレンポリフェニルイソ
シアネート、フェニレンジイソシアネート、粗製MDI
等の公知の芳香族ジイソシアネートや、キシリレンジイ
ソシアネート(XDI)等の公知の芳香脂肪族ジイソシ
アネートや4,4’−メチレンビスシクロヘキシルジイ
ソシアネート(水添MDI)、ヘキサメチレンジイソシ
アネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(I
PDI)、シクロヘキサンジイソシアネート等の公知の
脂肪族ジイソシアネート及びこれらのイソシアネート類
のイソシアヌレート化変成品、カルボジイミド化変成
品、ビュレット化変成品等を用いることができる。ま
た、ポリエステルポリオール、ポリエステル樹脂は可塑
剤、接着剤等にも用いられる。
【0019】又、上記ポリオールとポリイソシアネート
及び必要に応じて鎖延長剤を使用して、ワンショット
法、プレポリマー法、RIM法等の方法を用いて架橋型
もしくは熱可塑性のポリウレタンを製造することができ
る。これらの製造法においては、三級アミンやスズ、チ
タン、鉛等の有機金属塩に代表される公知の重合触媒
(例えば、岩田敬治著「ポリウレタン樹脂」日刊工業新
聞社刊 第23〜32頁(1969)参照)を用いるこ
とも可能である。又、これらの反応を溶媒を用いて行っ
てもよく、好ましい溶媒としては、ジメチルホルムアミ
ド、ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、メチルイソ
ブチルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、ベンゼ
ン、トルエン、エチルセルソルブ等が挙げられる。ま
た、本発明の1,6−ヘキサンジオールはそのままの形
でポリウレタン製造時の鎖延長剤としても用いることが
できる。
及び必要に応じて鎖延長剤を使用して、ワンショット
法、プレポリマー法、RIM法等の方法を用いて架橋型
もしくは熱可塑性のポリウレタンを製造することができ
る。これらの製造法においては、三級アミンやスズ、チ
タン、鉛等の有機金属塩に代表される公知の重合触媒
(例えば、岩田敬治著「ポリウレタン樹脂」日刊工業新
聞社刊 第23〜32頁(1969)参照)を用いるこ
とも可能である。又、これらの反応を溶媒を用いて行っ
てもよく、好ましい溶媒としては、ジメチルホルムアミ
ド、ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、メチルイソ
ブチルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、ベンゼ
ン、トルエン、エチルセルソルブ等が挙げられる。ま
た、本発明の1,6−ヘキサンジオールはそのままの形
でポリウレタン製造時の鎖延長剤としても用いることが
できる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例などを用い
てさらに詳細に説明する。なお、1,6−ヘキサンジオ
ールの分析は、ガスクロマトグラフィーによって行っ
た。分析方法は以下のとおりである。 ガスクロマトグラフィーの分析条件:カラム;DB−W
AX(J&W社製)、30m、膜厚0.25μm、昇温
条件:60℃〜250℃、検出器:FID。これに1,
6−ヘキサンジオール濃度が数重量%に調整した溶液を
用いて分析した。また、ポリカーボネートジオール及び
ポリウレタンの分子量分析はGPCを用いて分析した。
てさらに詳細に説明する。なお、1,6−ヘキサンジオ
ールの分析は、ガスクロマトグラフィーによって行っ
た。分析方法は以下のとおりである。 ガスクロマトグラフィーの分析条件:カラム;DB−W
AX(J&W社製)、30m、膜厚0.25μm、昇温
条件:60℃〜250℃、検出器:FID。これに1,
6−ヘキサンジオール濃度が数重量%に調整した溶液を
用いて分析した。また、ポリカーボネートジオール及び
ポリウレタンの分子量分析はGPCを用いて分析した。
【0021】
【実施例1】<1,6−ヘキサンジオールの製造>アジ
ピン酸製造設備から得られた副生ジカルボン酸混合物の
水溶液を約120℃の温度に1時間加熱した後、さらに
170℃〜175℃に30分間攪拌保持した。残った固
体をイオン交換水で38重量%水溶液とした。この水溶
液1000gとスチレン系陽イオン交換樹脂(オルガノ
(株)製、商品名:アンバーライトIR120B)30
0gを室温で2時間接触させた後濾過し、ろ液を水素還
元の原料とした。ジカルボン酸の濃度は38重量%であ
り、ジカルボン酸の組成は、コハク酸20重量%、グル
タル酸50重量%、アジピン酸30重量%であった。上
記のジカルボン酸混合物を塩化白金酸・6水和物と塩化
錫(II価)と3塩化ルテニウム・3水和物及び担体と
しての活性炭から含浸、乾燥、水素による還元処理を経
て調整した6.0重量%ルテニウム−5.0重量%錫−
3.5重量%白金を活性炭に担持した触媒を用いて直接
水素還元した。
ピン酸製造設備から得られた副生ジカルボン酸混合物の
水溶液を約120℃の温度に1時間加熱した後、さらに
170℃〜175℃に30分間攪拌保持した。残った固
体をイオン交換水で38重量%水溶液とした。この水溶
液1000gとスチレン系陽イオン交換樹脂(オルガノ
(株)製、商品名:アンバーライトIR120B)30
0gを室温で2時間接触させた後濾過し、ろ液を水素還
元の原料とした。ジカルボン酸の濃度は38重量%であ
り、ジカルボン酸の組成は、コハク酸20重量%、グル
タル酸50重量%、アジピン酸30重量%であった。上
記のジカルボン酸混合物を塩化白金酸・6水和物と塩化
錫(II価)と3塩化ルテニウム・3水和物及び担体と
しての活性炭から含浸、乾燥、水素による還元処理を経
て調整した6.0重量%ルテニウム−5.0重量%錫−
3.5重量%白金を活性炭に担持した触媒を用いて直接
水素還元した。
【0022】SUS316(ステンレス鋼)製1000
mlオートクレーブに上記ジカルボン酸水溶液600g
と上記触媒10gを仕込み、室温下でオートクレーブ内
の雰囲気を窒素置換した後、水素を2MPa圧入し、1
80℃まで昇温した。180℃に達した時点で水素をさ
らに圧入し15MPaとした。この圧力で30時間水素
還元反応を行った。水素還元反応後、反応液と触媒を濾
過により分離し、分離した触媒と上記のジカルボン酸混
合物600gを再度オートクレーブに仕込み、同条件に
て水素還元反応を行った。この水素還元反応を合計10
回繰り返して、水添反応液約6kgを得た。
mlオートクレーブに上記ジカルボン酸水溶液600g
と上記触媒10gを仕込み、室温下でオートクレーブ内
の雰囲気を窒素置換した後、水素を2MPa圧入し、1
80℃まで昇温した。180℃に達した時点で水素をさ
らに圧入し15MPaとした。この圧力で30時間水素
還元反応を行った。水素還元反応後、反応液と触媒を濾
過により分離し、分離した触媒と上記のジカルボン酸混
合物600gを再度オートクレーブに仕込み、同条件に
て水素還元反応を行った。この水素還元反応を合計10
回繰り返して、水添反応液約6kgを得た。
【0023】上記水添反応液を常圧下で109℃に加熱
し、水の大部分を留去した。次に残った液を12段の蒸
留塔を用いて蒸留し、水及びペンタノール等の低沸化合
物をを留去した。塔底の液は、次に35段の蒸留塔を用
いて減圧下に蒸留し、第一流分として1,4−ブタンジ
オール及び微量の1,5−ペンタンジオールを含む留分
を得、次に釜温度を上げ、減圧度を下げて1,5−ペン
タンジオールが主成分である第二留分を得た。1,4−
ブタンジオールと1,5−ペンタンジオールを蒸留した
後の塔底の液は、10段の蒸留塔を用いて減圧下に蒸留
して1,6−ペンタンジオール及び微量の1,5−ブタ
ンジオールを含む留分を得た。得られた1,6−ヘキサ
ンジオールは476gであった。ガスクロマトグラフィ
ーによる分析から純度は99.1%であり、他の含有物
は、1,4−ブタンジオール0.07重量%、1,5−
ペンタンジオール0.43重量%であり、1,4−ジヒ
ドロキシシクロヘキサンは0.01重量%以下であるこ
とを確認した。
し、水の大部分を留去した。次に残った液を12段の蒸
留塔を用いて蒸留し、水及びペンタノール等の低沸化合
物をを留去した。塔底の液は、次に35段の蒸留塔を用
いて減圧下に蒸留し、第一流分として1,4−ブタンジ
オール及び微量の1,5−ペンタンジオールを含む留分
を得、次に釜温度を上げ、減圧度を下げて1,5−ペン
タンジオールが主成分である第二留分を得た。1,4−
ブタンジオールと1,5−ペンタンジオールを蒸留した
後の塔底の液は、10段の蒸留塔を用いて減圧下に蒸留
して1,6−ペンタンジオール及び微量の1,5−ブタ
ンジオールを含む留分を得た。得られた1,6−ヘキサ
ンジオールは476gであった。ガスクロマトグラフィ
ーによる分析から純度は99.1%であり、他の含有物
は、1,4−ブタンジオール0.07重量%、1,5−
ペンタンジオール0.43重量%であり、1,4−ジヒ
ドロキシシクロヘキサンは0.01重量%以下であるこ
とを確認した。
【0024】<ポリカーボネートジオールの製造>攪拌
機、温度計、分留管を備えた反応器に上記で得られた
1,6−ヘキサンジオール236g(2.0mol)を
加え、70℃〜80℃で金属ナトリウム1.84g
(0.08mol)を攪拌下に添加した。ナトリウムが
完全に反応した後、ジエチルカーボネート236g
(2.0mol)を導入した。常圧で反応温度を95℃
〜100℃に上昇させるとエタノールが留出し始めた。
徐々に温度を上昇させ6時間で160℃とした。この間
約10%のジエチルカーボネートを含むエタノールが留
出した。その後更に反応器の圧力を10mmHg以下と
し、エタノールを抜き出しながら強攪拌下200℃にて
4時間反応させた。生成したポリマーは冷却後ジクロロ
メタンに溶解させ、希酸で中和した後、無水硫酸ナトリ
ウムで脱水してから、溶媒を蒸留除去し、更に2〜3m
mHg、140℃で数時間乾燥させた。得られた1,6
−ヘキサンジオールのポリカーボネートジオールは、常
温で白色固体であり、OH価は50.0mg/KOHで
あった。
機、温度計、分留管を備えた反応器に上記で得られた
1,6−ヘキサンジオール236g(2.0mol)を
加え、70℃〜80℃で金属ナトリウム1.84g
(0.08mol)を攪拌下に添加した。ナトリウムが
完全に反応した後、ジエチルカーボネート236g
(2.0mol)を導入した。常圧で反応温度を95℃
〜100℃に上昇させるとエタノールが留出し始めた。
徐々に温度を上昇させ6時間で160℃とした。この間
約10%のジエチルカーボネートを含むエタノールが留
出した。その後更に反応器の圧力を10mmHg以下と
し、エタノールを抜き出しながら強攪拌下200℃にて
4時間反応させた。生成したポリマーは冷却後ジクロロ
メタンに溶解させ、希酸で中和した後、無水硫酸ナトリ
ウムで脱水してから、溶媒を蒸留除去し、更に2〜3m
mHg、140℃で数時間乾燥させた。得られた1,6
−ヘキサンジオールのポリカーボネートジオールは、常
温で白色固体であり、OH価は50.0mg/KOHで
あった。
【0025】<ポリウレタンの製造例>得られた1,6
−ヘキサンジオールのポリカーボネートジオール14.
4gをジメチルホルムアミド90.0gに溶解させ、ジ
フェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI
と略す)2.50g(MDIとポリカーボネートジオー
ルの当量比が1.56)を添加し、50℃で1.5時間
混合した。反応液を室温まで冷却後、エチレンジアミン
0.20gをジメチルホルムアミド30gに溶かした液
を添加し、30分間混合した。得られたポリウレタンの
分子量をGPCで分析したところポリスチレン換算でM
nが6.60万、Mwが14.5万であった。得られた
ポリウレタンの引張り強さは34MPa、伸びは530
%であった。(JIS−K6251、3号ダンベル、試
料は2mm厚のプレスシートを用いた。)
−ヘキサンジオールのポリカーボネートジオール14.
4gをジメチルホルムアミド90.0gに溶解させ、ジ
フェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI
と略す)2.50g(MDIとポリカーボネートジオー
ルの当量比が1.56)を添加し、50℃で1.5時間
混合した。反応液を室温まで冷却後、エチレンジアミン
0.20gをジメチルホルムアミド30gに溶かした液
を添加し、30分間混合した。得られたポリウレタンの
分子量をGPCで分析したところポリスチレン換算でM
nが6.60万、Mwが14.5万であった。得られた
ポリウレタンの引張り強さは34MPa、伸びは530
%であった。(JIS−K6251、3号ダンベル、試
料は2mm厚のプレスシートを用いた。)
【0026】
【比較例1】市販の1,6−ヘキサンジオールをガスク
ロマトグラフィーで分析したところ1,6−ペンタンジ
オールの純度は、98.1%で1.4重量%の1,4−
ジヒドロキシシクロヘキサン(cis及びtrans)
を含んでいた。これを用いて実施例1と同様の方法で
1,6−ヘキサンジオールのポリカーボネートジオール
を合成した。得られたポリカーボネートジオールは、常
温で白色固体であり、OH価は68.3mg/KOHで
あった。
ロマトグラフィーで分析したところ1,6−ペンタンジ
オールの純度は、98.1%で1.4重量%の1,4−
ジヒドロキシシクロヘキサン(cis及びtrans)
を含んでいた。これを用いて実施例1と同様の方法で
1,6−ヘキサンジオールのポリカーボネートジオール
を合成した。得られたポリカーボネートジオールは、常
温で白色固体であり、OH価は68.3mg/KOHで
あった。
【0027】このポリカーボネートジオールを実施例1
と同様にMDIとポリカーボネートジオールの当量比が
1.56となるように10.6gを用いて実施例1と同
様にしてポリウレタンを合成した。得られたポリウレタ
ンの分子量をGPCで分析したところポリスチレン換算
でMnが5.74万、Mwが12.2万であった。得ら
れたポリウレタンの引張り強さは22MPa、伸びは3
60%であった。(JIS−K6251、3号ダンベ
ル、試料は2mm厚のプレスシートを用いた。)
と同様にMDIとポリカーボネートジオールの当量比が
1.56となるように10.6gを用いて実施例1と同
様にしてポリウレタンを合成した。得られたポリウレタ
ンの分子量をGPCで分析したところポリスチレン換算
でMnが5.74万、Mwが12.2万であった。得ら
れたポリウレタンの引張り強さは22MPa、伸びは3
60%であった。(JIS−K6251、3号ダンベ
ル、試料は2mm厚のプレスシートを用いた。)
【0028】
【発明の効果】本発明は、ポリウレタン製造時やポリエ
ステル製造時等の重合速度を低下させる不純物である
1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンを実質的に含有し
ない、高分子量のポリウレタン等のポリマー製造の原料
として好適な1,6−ヘキサンジオールを提供すること
を可能にした。
ステル製造時等の重合速度を低下させる不純物である
1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンを実質的に含有し
ない、高分子量のポリウレタン等のポリマー製造の原料
として好適な1,6−ヘキサンジオールを提供すること
を可能にした。
フロントページの続き Fターム(参考) 4H006 AA02 AC41 AC46 BD10 BD70 BE20 FE11 FG29 4H039 CA65 CB40 4J034 CA01 CA04 CB03 CC03 DA01 DF02 HA01 HA06 QA07
Claims (2)
- 【請求項1】 1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンの
含有量が0.1重量%以下であることを特徴とする1,
6−ヘキサンジオール。 - 【請求項2】 ポリウレタン製造の原料に用いることを
特徴とする請求項1記載の1,6−ヘキサンジオール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000069625A JP2001316312A (ja) | 2000-03-03 | 2000-03-14 | 高純度1,6−ヘキサンジオール |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000059403 | 2000-03-03 | ||
JP2000-59403 | 2000-03-03 | ||
JP2000069625A JP2001316312A (ja) | 2000-03-03 | 2000-03-14 | 高純度1,6−ヘキサンジオール |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001316312A true JP2001316312A (ja) | 2001-11-13 |
Family
ID=26586775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000069625A Pending JP2001316312A (ja) | 2000-03-03 | 2000-03-14 | 高純度1,6−ヘキサンジオール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001316312A (ja) |
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- 2000-03-14 JP JP2000069625A patent/JP2001316312A/ja active Pending
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化学大辞典8, JPN6009050834, 15 February 1964 (1964-02-15), JP, pages 295頁, ISSN: 0001430582 * |
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