JP2001301214A

JP2001301214A - 画像形成装置及び画像形成方法

Info

Publication number: JP2001301214A
Application number: JP2000125638A
Authority: JP
Inventors: Naoyo Suzuki; 直代鈴木
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2000-04-26
Filing date: 2000-04-26
Publication date: 2001-10-30

Abstract

(57)【要約】【課題】画質に優れた画像を記録可能な露光装置及び
記録方法を提供する。【解決手段】３チャンネル以上のレーザー光源、及
び、画像形成材料の非画像形成部に分布するように設け
られている減圧吸引孔を有し、表面の表面粗さが０．０
５μｍ〜１μｍのドラムを備え、画像形成材料をドラム
上に減圧密着させて外面走査方式でレーザービーム露光
を行なう画像形成装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は記録時に画質の劣化
を招かない画像形成装置及び画像形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】記録材料をドラム上に密着させレーザー
光などで露光し画像を得る記録方法は従来より知られて
いる。この方法は、記録材料の種類にもよるが、ドラム
の表面形状や記録材料を保持する部材の表面の形状の影
響を受け易く、記録材料の画質を劣化する場合がある。

【０００３】特に、高強度のレーザー光で露光し、その
光熱変換を利用して記録を行う材料を用いる場合、ドラ
ム表面の凹凸によるレーザー光焦点変動の影響を受け易
く、画質の劣化、特に解像度の低下や濃度変化による画
像ムラを起こし易い。またドラムや記録材料を保持する
部材への記録材料への密着方法に減圧密着を用いた場合
この現象が起こり易く、特にレーザー露光によりアブレ
ーションを起こして画像を形成する画像形成方法では顕
著に起こり易い。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は、画質に優れた画
像を記録可能な露光装置及び記録方法を提供することに
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、３チャンネル以上のレーザー光源、及び、画像形成
材料の非画像形成部に分布するように設けられている減
圧吸引孔を有し、表面の表面粗さが０．０５μｍ〜１μ
ｍのドラムを備え、画像形成材料をドラム上に減圧密着
させて外面走査方式でレーザービーム露光を行なう画像
形成装置、の画像形成装置を用いて、支持体上に露光光源の
波長光を吸収できる色材が樹脂バインダー中に分散され
てなる画像形成層を有する画像形成材料に露光する画像
形成方法、該画像形成層は硬化剤が添加されて形成さ
れ、且つ高密度エネルギー光の露光によりアブレーショ
ンを起こす画像形成材料であること、第１の支持体上に露光光源の波長光を吸収できる色
材が樹脂バインダー中に分散されてなる画像形成層を有
する画像形成シートと、表面粗さが０．０５μｍ〜１μ
ｍである第２の支持体上に受像層を有する被転写シート
からなる画像形成材料を、減圧密着度６．５ｋＰａ〜５
３．５ｋＰａでドラム上に減圧密着させて３チャンネル
以上のレーザービームで外面走査方式の露光を行なう画
像形成方法、画像形成材料に覆われているドラムの面積
に対するドラム上の吸引孔面積（吸引孔面積／画像形成
材料に覆われている面積）が０．０２％〜２％であるこ
と、被転写シート支持体の膜厚が７０μｍ〜４００μｍ
であること、間接部材（スペーサー）を介して画像形成材料を減
圧密着度６．５ｋＰａ〜５３．５ｋＰａでドラム上に減
圧密着させ、３チャンネル以上のレーザービームで外面
走査方式の露光を行なう画像形成方法、吸引孔面積／画
像形成材料に覆われている面積が０．０２％〜２％であ
ること、スペーサーの画像形成材料に接する側の表面粗
さが０．０５μｍ〜１μｍであること、スペーサーの膜
厚が７０μｍ〜４００μｍであること、により達成され
る。

【０００６】即ち、本発明者は以下のことを見出し本発
明に至った。１）ドラム上の減圧吸引孔が画像形成材料の非画像形成
部に分布するように設けられているドラムを用いて画像
形成することにより、画像部に吸引孔の痕が残らず、ま
たドラムの表面粗さを０．０５μｍ〜１μｍにすること
により画像部にドラム形状の痕が残らず、高画質の画像
が得られる。

【０００７】２）ドラムの全面に減圧吸引孔が配置さ
れ、ドラムの表面粗さが１μｍより粗いドラムを用いて
画像形成する場合には、画像形成材料では被転写シート
の支持体の表面粗さを０．０５μｍ〜１μｍにし、好ま
しくは被転写シートの支持体の膜厚を７０μｍ〜４００
μｍ以下にすることでドラム形状や吸引孔の痕が残らな
い画像を得ることができる。このとき画像形成材料に覆
われているドラムの面積に対するドラム上の吸引孔面積
（吸引孔面積／画像形成材料に覆われている面積）が
０．０２％〜２％であることが好ましく、ドラムに画像
形成材料を被覆したときの減圧密着度が６．５ｋＰａ〜
５３．５ｋＰａ以下に調整することで高画質な画像を得
ることができる。

【０００８】３）ドラムの全面に減圧吸引孔が配置さ
れ、ドラムの表面粗さが１μｍより粗いドラムを用いて
画像形成する場合、他の方法としては、ドラムと画像形
成材料の間に間接部材であるスペーサーを介在させても
よい。これにより画像形成材料を限定することなくドラ
ム形状や吸引孔の痕が残らない画像を得ることができ
る。スペーサーとしては表面粗さが０．０５μｍ〜１μ
ｍ、更には膜厚が７０μｍ〜４００μｍであるものを用
いることにより高画質な画像を得ることができる。

【０００９】なお本発明における表面粗さはＪＩＳＢ
０６０１に基づいて測定したものとする。

【００１０】以下、本発明を項目毎に詳述する。（画像形成材料）本発明に係る画像形成材料は第１の支
持体上に色材を有する画像形成層と、該画像形成層上に
積層された保護層より構成され（画像形成シートとも言
う）、更に第２の支持体上に受像層を有する被転写シー
トを用いて画像を形成する。

【００１１】〈画像形成層〉本発明に係る画像形成層
は、露光光源の波長光を吸収できる色材とそれを保持す
るための樹脂バインダーを有する。

【００１２】本発明に用いられる色材は露光光源の波長
光を吸収可能なものであり、例えばカーボンブラック等
は紫外線領域から可視、赤外線領域まで広く吸収を有す
る色材であるので好ましく用いることができる。その他
には無機或いは有機の顔料、染料が用いられ、単色、２
色混合、３色混合の顔料系化合物で構成される。

【００１３】無機顔料としては、二酸化チタン、カーボ
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄並びに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウム
のクロム酸塩などが挙げられる。有機顔料としては、ア
ゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントアン
スロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット染
料顔料、フタロシアニン顔料（銅フタロシアニン及びそ
の誘導体）、キナクリドン顔料などが挙げられる。又、
有機染料としては、酸性染料、直接染料、分散染料など
が挙げられる。

【００１４】露光光源の波長が近赤外線の場合、近赤外
光吸収剤としては、シアニン系、ポリメチン系、アズレ
ニウム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナフト
キノン系、アントラキノン系色素等の有機化合物、フタ
ロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体な
どが好適に用いられ、具体的には特開昭６３−１３９１
９１号、同６４−３３５４７号、特開平１−１６０６８
３号、同１−２８０７５０号、同１−２９３３４２号、
同２−２０７４号、同３−２６５９３号、同３−３０９
９１号、同３−３４８９１号、同３−３６０９３号、同
３−３６０９４号、同３−３６０９５号、同３−４２２
８１号、同３−９７５８９号、同３−１０３４７６号等
に記載の化合物が挙げられる。

【００１５】本発明の効果を更に発揮する色材として金
属原子含有粒子を好ましく用いることが出来る。該金属
原子含有粒子を用いた場合、感度、解像度、露光部の透
過濃度の改善においてより一層効果が顕著となる。ここ
に金属原子含有粒子とは鉄、クロム、マンガン、コバル
ト、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、銀、アルミニウム、
金、白金等の金属又はその酸化物等の化合物を総称して
いる。

【００１６】本発明に好ましく用いられる金属原子含有
粒子は、強磁性酸化鉄粉末、強磁性金属粉末、立方晶板
状粉末等が挙げられ、中でも、強磁性金属粉末を好適に
用いることができる。

【００１７】強磁性酸化鉄としては、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｆ
ｅ₃Ｏ₄、又はこれらの中間酸化鉄でＦｅＯ_x（１．３３
＜ｘ＜１．５０）で表されるものを挙げることができ
る。強磁性金属粉末としては、Ｆｅ、Ｃｏを始め、Ｆｅ
−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、
Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ｎｉ
系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ−
Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ
系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓ
ｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｃｏ系、
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｐ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｎｉ−Ｃｏ
系、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等を主成分とするメタル磁性粉末
等の強磁性金属粉末が挙げられ、中でもＦｅ系金属粉末
が好ましく、例えばＣｏ含有γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ被着γ
−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ含有Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ被着Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃ
ｏ含有磁性ＦｅＯ_x（４／３＜ｘ＜３／２）粉末等のコ
バルト含有酸化鉄系磁性粉末が挙げられる。又、耐蝕性
及び分散性の点から見ると、Ｆｅ系金属粉末の中で、Ｆ
ｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ
系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−
Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｃａ系
等のＦｅ−Ａｌ系強磁性粉末が好ましく、更にこの中で
は、強磁性粉末に含有されるＦｅ原子とＡｌ原子との含
有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ＝１００：１〜１００：
２０であり、かつ強磁性粉末のＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分
光分析法）による分析深度で１００Å以下の表面域に存
在するＦｅ原子とＡｌ原子との含有量比が原子数比でＦ
ｅ：Ａｌ＝３０：７０〜７０：３０である構造を有する
もの、或いはＦｅ原子とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原
子、更にＣｏ原子とＣａ原子の少なくとも１つとが強磁
性粉末に含有され、Ｆｅ原子の含有量が９０原子％以
上、Ｎｉ原子の含有量が１〜１０原子％、Ａｌ原子の含
有量が０．１〜５原子％、Ｓｉ原子の含有量が０．１〜
５原子％、Ｃｏ原子又はＣａ原子の含有量（両者を含有
する場合は合計量）が０．１〜１３原子％であり、かつ
強磁性粉末のＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分光分析法）による
分析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原子と
Ｎｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子と、Ｃｏ原子及び／又は
Ｃａ原子との含有量比が原子数比でＦｅ：Ｎｉ：Ａｌ：
Ｓｉ：（Ｃｏ及び／又はＣａ）＝１００：（４以下）：
（１０〜６０）：（１０〜７０）：（２０〜８０）であ
る構造を有するものが好ましい。尚、強磁性粉末の形状
は、長軸径が好ましくは０．３０μｍ以下、更に好まし
くは０．２０μｍ以下である。このような強磁性粉末に
よれば画像形成層の表面性が向上する。六方晶板状粉末
としては、バリウムフェライトやストロンチウムフェラ
イト等の六方晶系フェライトを挙げることができ、鉄元
素の一部が他の原子（Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、
Ｇｅ、Ｈｂ等）で置換されていてもよく、このようなフ
ェライト磁性体はＩＥＥＥｔｒａｎｓｏｎＭＡＧ，
ｐ１８，１６（１９８２）に記載されたものを挙げるこ
とができる。この中で、バリウムフェライト磁性粉末の
例としては、Ｆｅの一部が少なくともＣｏ及びＺｎで置
換された平均粒径（六方晶系フェライトの板面の対角線
の高さ）が４００〜９００Åであり、板状比（六方晶系
フェライトの板面の対角線の長さを板厚で除した値）が
２．０〜１０．０である。又、バリウムフェライト磁性
粉末は、更にＦｅの一部をＴｉ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ等の遷移金属で置換されていてもよい。

【００１８】立方晶系の磁性粉末を製造する方法は、例
えば、目的とするバリウムフェライトを形成するのに必
要な各原子の酸化物、炭酸化物を、硼酸の様なガラス形
成物質とともに溶融し、得られた融液を急冷してガラス
を形成し、次いでこのガラスを所定温度で熱処理して目
的とするバリウムフェライトの結晶粉末を析出させ、最
後にガラス成分を熱処理によって除去するという方法の
ガラス結晶化法の他、共沈−焼成法、水熱合成法、フラ
ックス法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があ
る。

【００１９】画像形成層に含有される金属原子含有粒子
の含有量は、画像形成層形成成分の５０〜９９質量％程
度、好ましくは６０〜９５質量％である。

【００２０】樹脂バインダーは、露光光源の波長光を吸
収可能な色剤を十分に保持できるものであれば特に制限
無く用いることができる。このような樹脂としては、ポ
リウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の
塩化ビニル系樹脂が代表的なものであり、これらの樹脂
は−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＣＯＯＭ及び−ＰＯ（Ｏ
Ｍ１）₂〔Ｍは水素原子又はアルカリ金属を、Ｍ１は水
素原子、アルカリ金属又はアルキル基を表す。〕から選
ばれる少なくとも１種の極性基を有する繰り返し単位を
含むことが好ましく、このような極性基を導入した樹脂
を用いることにより、金属粉体色剤の分散性を向上させ
ることができる。尚、この極性基の各樹脂中の含有比率
は０．１〜８．０モル％程度、好ましくは０．２〜６．
０モル％である。

【００２１】樹脂バインダーは、１種単独でも２種以上
を組み合わせて用いてもよく、２種以上混合して用いる
場合、例えばポリウレタン及び／又はポリエステルと塩
化ビニル系樹脂との比は、９０：１０〜１０：９０であ
り、好ましくは７０：３０〜３０：７０である。極性基
含有塩化ビニルとしては、例えば、塩化ビニル−ビニル
アルコール共重合体等水酸基を有する樹脂と、Ｃｌ−Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＳＯ₃Ｍ、Ｃｌ−
ＣＨ₂ＣＯ₂Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂Ｐ（＝Ｏ）（ＯＭ１）₂等の
極性基及び塩素原子を有する化合物との付加反応により
合成することができる。１例を以下に示す。

【００２２】−ＣＨ₂Ｃ（ＯＨ）Ｈ− ＋Ｃｌ−ＣＨ₂
ＣＨ₂ＳＯ₃Ｎａ →−ＣＨ₂Ｃ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｎ
ａ）Ｈ− 極性基含有塩化ビニル系樹脂は、極性基を含む繰り返し
単位が導入される不飽和結合を有する反応性モノマーを
所定量オートクレーブ等の反応容器に仕込み、ベンゾイ
ルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル等の一
般的なラジカル重合開始剤や、レドックス重合開始剤、
カチオン重合開始剤等を用いて重合することにより得る
ことができ、スルホン酸又はその塩を導入するための反
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、ｐ−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。又、カルボン酸もしくはその
塩を導入するときには、例えば（メタ）アクリル酸やマ
レイン酸を用い、リン酸もしくはその塩を導入するとき
には（メタ）アクリル−２−リン酸エステルを用いれば
よい。

【００２３】更に、バインダー樹脂の熱安定性を向上さ
せるためには、塩化ビニル系共重合体にエポキシ基を導
入することが好ましい。この場合、エポキシ基を有する
繰り返し単位の共重合体中における含有率は１〜３０モ
ル％程度、好ましくは１〜２０モル％であり、エポキシ
基を導入するためのモノマーとしてはグリシジルアクリ
レート等を挙げることができる。

【００２４】極性基を有するポリエステルは、ポリオー
ルと一部に極性基を有する多塩基酸との脱水縮合反応に
より合成することができ、極性基を有する多塩基酸とし
ては５−スルホイソフタル酸、２−スルホイソフタル
酸、４−スルホイソフタル酸、３−スルホフタル酸、５
−スルホイソフタル酸ジアルキル、２−スルホイソフタ
ル酸ジアルキル、４−スルホイソフタル酸ジアルキル、
３−スルホフタル酸ジアルキル及びこれらのアルカリ金
属塩等が挙げられ、ポリオールとしてはトリメチロール
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。

【００２５】極性基を有するポリウレタンは、ポリオー
ルとポリイソシアネートとを反応させることにより合成
することができ、具体的には、ポリオールとしてポリオ
ールと一部に極性基を有する多塩基酸との反応によって
得られるポリエステルポリオールを原料とすることによ
り合成する。又、ポリイソシアネートとしては、ジフェ
ニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、２，４−ト
リレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシア
ネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、リジン
イソシアネートメチルエステル等を挙げることができ
る。尚、極性基を有するポリウレタンの他の合成法とし
ては、水酸基を有するポリウレタンと極性基及び塩素原
子を有するＣｌ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂ＣＨ
₂ＯＳＯ₃Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂ＣＯ₂Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂Ｐ（＝
Ｏ）（ＯＭ１）₂等の化合物との付加反応も有効であ
る。

【００２６】その他の樹脂バインダーとして、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、ブタジ
エン−アクリロニトリル共重合体等のポリオレフィン系
樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール
系樹脂、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、スチ
レン−ブタジエン共重合体等のスチレン系樹脂、ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリアミド、
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂等を併
用してもかまわないが、これらを併用する場合は全樹脂
バインダーの２０質量％以下とするのが好ましい。

【００２７】画像形成層中の樹脂バインダーの含有率
は、例えば画像形成層成分中の１〜５０質量％程度、好
ましくは５〜４０質量％である。

【００２８】画像形成層には、耐久性向上剤、分散剤、
帯電防止剤、フィラー、硬化剤等の添加剤を含有せしめ
てもよい。

【００２９】耐久性向上剤としてはポリイソシアネート
等を挙げることができる。分散剤としては、ラウリル酸
やステアリン酸等の炭素原子数１２〜１８の脂肪酸やそ
れらのアミド、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩；
ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸塩、レシチ
ン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第４級アンモニ
ウム塩；カルボキシル基及びスルホン基を有するアゾ系
化合物等を挙げることができ、帯電防止剤としては、カ
チオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、非イオン
性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性微粒子等の他
「１１２９０の化学商品」化学工業日報社、ｐ．８７５
〜８７６等に記載の化合物、等を挙げることができる。

【００３０】フィラーとしては、カーボンブラック、グ
ラファイト、ＴｉＯ₂、ＢａＳＯ₄、ＺｎＳ、ＭｇＣ
Ｏ₃、ＣａＣＯ₃、ＺｎＯ、ＣａＯ、ＷＳ₂、ＭｏＳ₂、Ｍ
ｇＯ、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、α−ＦｅＯ
Ｈ、ＳｉＣ、ＣｅＯ₂、ＢＮ、ＳｉＮ、ＭｏＣ、ＢＣ、
ＷＣ、チタンカーバイド、コランダム、人造ダイアモン
ド、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、トリボリ、ケイソ
ウ土、シリカゲル、酸性白土、活性白土、ドロマイト等
の無機フィラーやポリエチレン樹脂粒子、フッ素樹脂粒
子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコー
ン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子等の有機フィラーを挙げ
ることができる。これらは離型剤を兼ねても良い。これ
らの無機・有機樹脂粒子は比重により異なるが、０．１
〜７０質量％の添加が好ましい。

【００３１】硬化剤は画像形成層を硬化できるものであ
れば特に制限なく用いることができ、このようなものと
しては、例えば、前述のバインダー樹脂の中のポリウレ
タンを合成する際に用いられるポリイソシアネートなど
を挙げることができる。このような硬化剤を添加して画
像形成層を硬化させることにより、形成された画像の耐
久性を高めるだけではなく、アブレーションを生じせし
めた部分の地汚れをなくすことができる。更には、溶剤
に対する耐久性を向上させることができるために、保護
層を塗布する際に有機溶剤を用いたとしても画像形成層
を損傷することなしに保護層を積層することができる。
その結果、水溶性もしくは水分散性樹脂からなる保護層
よりも更に耐久性の優れた保護層を設けることができ
る。これら硬化剤の添加量は例えば０〜２０質量％程
度、好ましくは０〜１５質量％である。

【００３２】画像形成層の付量は０．４〜５．０ｇ／ｍ
²程度、好ましくは０．６〜３．０ｇ／ｍ²の範囲であ
る。又、画像形成層は単層で構成しても組成の異なる多
層で構成してもよいが、多層で構成される場合、支持体
に近い側の層中に露光光源の波長光を吸収可能な色材を
より多く含有させることが好ましい。又、支持体から遠
い側の層中に露光光源の波長光以外の波長光を吸収可能
な色材を添加してもよい。

【００３３】画像形成層は、色材、樹脂バインダー及び
必要に応じて耐久性向上剤、分散剤、帯電防止剤、充填
剤、フィラー、硬化剤等と溶媒とを混練して塗料を調製
し、次いでこの塗料を希釈して、支持体上に塗布し乾燥
させて形成することができる。

【００３４】溶媒としては、アルコール類（エタノー
ル、プロパノール等）、セロソルブ類（メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ）、芳香族類（トルエン、キシレ
ン、クロルベンゼン等）、ケトン類（アセトン、メチル
エチルケトン等）、エステル系溶剤（酢酸エチル、酢酸
ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等）、ハロゲン系溶剤（クロロホルム、ジクロルベ
ンゼン等）、アミド系溶剤（例えばジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン等）、等を用いることができ
る。

【００３５】又、画像形成層成分の混練分散には、二本
ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミ
ル、コボルミル、トロンミル、サンドミル、サンドグラ
インダー、Ｓｑｅｇｖａｒｉアトライター、高速インペ
ラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディ
スパー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散
機、オープンニーダー、連続ニーダー等を用いることが
できる。

【００３６】支持体上への画像形成層の形成は、例え
ば、エクストルージョン方式の押し出しコータにより塗
布乾燥して行う。

【００３７】必要に応じて磁性粉末の配向を揃えたり、
画像形成層の表面性を均一にするためや空隙率を下げ塗
膜の強度を高くするために加熱加圧処理を行うのが好ま
しい。加熱加圧処理としては、例えばカレンダー処理を
行う。カレンダー処理は例えば、乾燥した画像形成層を
有する支持体をスーパーカレンダー装置に導き、ここで
カレンダー処理することにより行うことができる。カレ
ンダー条件としては、温度は６０〜１２０℃が好まし
く、更には７０〜１１０℃が好ましい。圧力は線圧１０
０〜５００ｋｇ／ｃｍが好ましく、更には２００〜４０
０ｋｇ／ｃｍが好ましい。

【００３８】尚、画像形成層の他の層も設ける場合、各
層毎に塗布乾燥を繰り返してもよいが、ウェット・オン
・ウェット方式で重層塗布して乾燥させてもよい。その
場合、リバースロール、グラビアロール、エアドクター
コータ、ブレードコータ、エアナイフコータ、スクイズ
コータ、含浸コータ、バーコータ、トランスファロール
コータ、キスコータ、キャストコータ或いはスプレーコ
ータ等と押し出しコータとの組み合わせにより塗布する
ことができる。ウェット・オン・ウェット方式における
重層塗布においては、下側の層が湿潤状態になったまま
で上側の層を塗布するので、上下層間の接着性が向上す
る。

【００３９】画像形成層を塗布乾燥後熱硬化することが
よい。この際の温度は３０℃以上が好ましく、より好ま
しくは４０℃〜８０℃である。熱硬化時間としては１２
時間以上が好ましく、２４時間〜１４４時間がより好ま
しい。

【００４０】〈保護層〉本発明に係る保護層は前記画像
形成層上に積層される。

【００４１】保護層の付量は通常０．０３〜１．０ｇ／
ｍ²であり、好ましくは０．０５〜０．５ｇ／ｍ²であ
る。

【００４２】樹脂バインダーは特に限定されない。ま
た、微粒子及び滑剤などを添加する場合にはそれらを十
分に保持できるものであれば制限無く用いることができ
る。このような樹脂としては、ポリウレタン、ポリエス
テル、塩化ビニル系共重合体等の塩化ビニル系樹脂、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体等のポリオレフ
ィン系樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセ
タール系樹脂、ニトロセルロース等のセルロース系樹
脂、スチレン−ブタジエン共重合体等のスチレン系樹
脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポ
リアミド、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセトアセタ
ール、ポリビニルホルマール等のアセタール系樹脂、及
びポリビニルアルコール、ゼラチン等の水溶性樹脂等が
挙げられる。樹脂バインダーは、１種単独でも２種以上
を組み合わせて用いてもよい。

【００４３】本発明に係る保護層中の樹脂バインダーの
含有率は、保護層形成成分中の１０〜１００質量％程
度、好ましくは４０〜１００質量％である。

【００４４】又、保護層の耐久性を高めるためにポリイ
ソシアネートなどの硬化剤を添加することが好ましい。
保護層を硬化するときに選択されるバインダーとしては
分子内に硬化剤と架橋反応し得る官能基を有している樹
脂を用いることが好ましい。具体的には、硬化剤として
イソシアネート系硬化剤を用いる場合はフェノキシ系樹
脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系
樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系
樹脂、ポリエステル系樹脂などを用いることが好まし
い。

【００４５】保護層には微粒子を添加してもよい。微粒
子としては、例えばカーボンブラック、グラファイト、
ＴｉＯ₂、ＢａＳＯ₄、ＺｎＳ、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、
ＺｎＯ、ＣａＯ、ＷＳ₂、ＭｏＳ₂、ＭｇＯ、ＳｎＯ₂、
Ａｌ₂Ｏ₃、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、α−ＦｅＯＨ、ＳｉＣ、Ｃｅ
Ｏ₂、ＢＮ、ＳｉＮ、ＭｏＣ、ＢＣ、ＷＣ、チタンカー
バイド、コランダム、人造ダイアモンド、ザクロ石、ガ
ーネット、ケイ石、トリボリ、ケイソウ土、ドロマイト
等の無機フィラーやポリエチレン樹脂粒子、フッ素樹脂
粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコ
ーン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子等の有機フィラーを挙
げることができる。

【００４６】前記微粒子は離型剤を兼ねても良い。この
離型剤を兼ねる無機微粒子としてはシリカゲル、炭酸カ
ルシウム、酸化チタン、酸性白土、活性白土、アルミナ
等を挙げることができ、有機微粒子としてはフッ素樹脂
粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコ
ーン樹脂粒子等の樹脂粒子を挙げることができる。これ
らの無機微粒子や有機微粒子は比重により異なるが、
０．１〜７０質量％の添加量が好ましい。又前記微粒子
においては粒度分布が狭く粒径が均一であるものが好ま
しい。具体的には、東芝シリコーン（株）製、シリコー
ン樹脂微粒子（製品名トスパール）や総研化学（株）
製、架橋アクリル微粉体ＭＲシリーズ、架橋ポリスチレ
ン微粉体ＳＧＰシリーズ、アクリル超微粉体ＭＰシリー
ズなどが挙げられる。

【００４７】微粒子の平均粒径は好ましくは０．３〜２
０μｍであり、より好ましくは０．８〜４．５μｍであ
る。微粒子の単位面積当たりの存在量、いわゆる付き量
は５〜１５０ｍｇ／ｍ²であり、好ましくは１０〜１０
０ｍｇ／ｍ²である。該微粒子の表面が重合可能な官能
基を有する場合、保護層の硬化時に保護層と微粒子の接
着性が向上するために、更に画像耐久性が向上する。具
体的には（株）日本触媒製ＦＸ−ＧＳＺ−０７などが挙
げられる。

【００４８】保護層の好ましい形態としては、画像形成
層と接しない保護層の最上層面のスムースター値が２３
℃・４８％ＲＨで０〜２００ｍｍＨｇであり、更に好ま
しくは５〜１００ｍｍＨｇ以下である。

【００４９】本発明に係る画像形成材料の保護層には滑
剤が含有されることが好ましく、例えばワックス、シリ
コーン系化合物及びフッ素系化合物が挙げられる。ワッ
クスとして具体的な化合物は、蜜ロウ、キャンデリラワ
ックス、パラフィンワックス、エステルワックス、モン
タンロウ、カルナバワックス、アミドワックス、ポリエ
チレンワックス、マイクロクリスタリンワックス等の固
形ワックス類が挙げられる。シリコーン系化合物（ワッ
クス状のものを含む）として具体的な化合物は、ジメチ
ルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイ
ル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル等のストレ
ートシリコーンオイル、オレフィン変性シリコーンオイ
ル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、エポキシ変性
シリコーンオイル、エポキシ・ポリエーテル変性シリコ
ーンオイル、アルコール変性シリコーンオイル、フッ素
変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、
フェノール変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリ
コーンオイル、カルボキシ変性シリコーンオイル、高級
脂肪酸変性シリコーンオイル、カルナバ変性シリコーン
オイル、アミド変性シリコーンオイル、（メタ）アクリ
ル変性シリコーンオイル等のラジカル反応性シリコーン
オイル、シリコーンジオールや、シリコーンジアミン等
の末端反応性シリコーンオイル、ハロゲン基、アルコキ
シ基、エステル基、アミド基、イミド基等で変性された
有機変性シリコーンオイル等を挙げることができる。

【００５０】フッ素系化合物としては、例えばポリテト
ラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン共重合体
（例えばアルキルビニルエーテル、エチレン等）、ポリ
ビニリデンフルオライド、フルオロアルキルメタクリレ
ート、フッ素ゴム等のフッ素系樹脂、パーフルオロポリ
エーテル油、フッ素アルコール、フッ素カルボン酸、パ
ーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキ
ル第４級アンモニウム塩、パーフルオロアルキルベタイ
ン、パーフルオロアルキルエチレンオキシド（付加
物）、パーフルオロアルキルオリゴマー等の低分子量フ
ッ素化合物等を挙げることができる。これらの素材の個
々の添加量は、好ましくは保護層中の固形分の０．１〜
３０質量％であり、更に好ましくは０．５〜２０質量％
である。複数添加する場合はこの倍数となる。

【００５１】更に画像耐久性を向上させるために、潤滑
剤及び研磨剤を添加してもよい。潤滑剤としては脂肪酸
または脂肪酸エステルが挙げられる。脂肪酸としては一
塩基酸であっても二塩基酸であってもよく、炭素数は６
〜３０が好ましく、１２〜２２の範囲がより好ましい。
具体的には、ステアリン酸、カプロン酸、カプリル酸、
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、イソステアリン酸、リノレン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、ベヘン酸、マロン酸、琥珀酸、マレイン酸、
グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、１，１，２−ドデカンジカルボン酸、オク
タンジカルボン酸等が挙げられる。

【００５２】脂肪酸エステルとしては、オレイルオレー
ト、イソスチルステアレート、ジオレイルアレート、ブ
チルステアレート、ブチルパルミテート、ブトキシエチ
ルステアレート、ブトキシエチルパルミテート、ブチル
ミリステート、オクチルミリステート、オクチルパルミ
テート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレート、ステアリルステアレート、ラ
ウリルオレート、オクチルオレート、イソブチルオレー
ト、エチルオレート、イソトリデシルオレート、２−エ
チルヘキシルステアレート、２−エチルヘキシルパルミ
テート、イソプロピルパルミテート、イソプロピルミリ
ステート、ブチルラウレート、セチル−２−エチルヘキ
サレート、ジオレイルアジペート、ジエチルアジペー
ト、ジイソブチルアジペート、ジイソデシルアジペー
ト、オレイルステアレート、２−エチルヘキシルミリス
テート、イソペンチルミリステート、イソペンチルステ
アレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチルエーテ
ルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ−ブチル
エーテルパルミテート等が挙げられる。

【００５３】研磨剤としては、アルミナ、酸化クロム、
炭化珪素、窒化珪素、酸化鉄、硫酸バリウム、酸化亜
鉛、酸化錫、人造ダイヤモンドなどが挙げられるが、実
用上の観点から見てアルミナ、酸化クロム、炭化珪素、
窒化珪素、酸化鉄が好ましい。また、研磨剤は保護層中
に一次粒子として存在することが好ましく、混錬分散に
は二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブ
ルミル、コボルミル、トロンミル、サンドミル、サンド
グラインダー、Ｓｑｅｇｖａｒｉアトライター、高速イ
ンペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、
ディスパー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分
散機、オープンニーダー、連続ニーダー等を適時選択し
て用いることができる。研磨剤の平均粒径は好ましくは
０．０１μｍ〜１μｍであり、より好ましくは０．０５
μｍ〜０．５μｍである。研磨剤は保護層に０．３〜１
０質量％添加することが好ましい。

【００５４】保護層を形成する際、調製した保護層形成
成分を溶解及び／又は分散させた塗工液を塗工するに
は、エクストルージョン方式の押し出しコーター、リバ
ースロールコーター、グラビアロールコーター、エアド
クターコーター、ブレードコーター、エアナイフコータ
ー、スクイズコーター、含浸コーター、バーコーター、
トランスファロールコーター、キスコーター、キャスト
コーター、スプレーコーター等の、公知の各種コーター
ステーションを適時選択して用いることができる。これ
らのコーターの中で、保護層の塗工には、画像形成層が
ダメージを受けないものであれば特に制限はないが、保
護層の膜厚が薄い場合には、上述したコーターステーシ
ョンの中で、薄層塗工に適したものが好ましく、エクス
トルージョン方式の押し出しコーター、グラビアロール
コーター、バーコーター等を使用することができる。
尚、これらの中でグラビアロールコーター、バーコータ
ー等画像形成層と接触する塗工方法を用いる場合には、
搬送方向に対して、グラビアロールやバーの回転方向は
順転でもリバースでも良く、また順転の場合には等速で
も、周速差を設けても良い。更に、接触する塗工方法を
用いる場合には、画像形成層を塗工後カレンダー処理等
の平滑化処理を行ったり、画像形成層塗工後、キュアー
して熱硬化させたものを用いるのが好ましい。

【００５５】保護層を塗布乾燥後、熱硬化することが好
ましい。また、この際の温度は３０℃以上が好ましく、
より好ましくは４０℃〜８０℃である。熱硬化時間とし
ては１２時間以上が好ましく、２４時間〜１４４時間が
より好ましい。

【００５６】〈支持体〉画像形成材料に用いる支持体と
しては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、
ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ナイロン、芳香族ポリアミ
ド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリ
エーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等
の各樹脂フィルム、更には前記樹脂を２層以上積層して
なる樹脂フィルム等の透明支持体を挙げることができ
る。画像形成材料に用いる支持体は露光光源波長の光を
５０％以上透過可能な支持体であり、フィルム状に延伸
しヒートセットしたものが寸法安定性の点で好ましい。
又、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸カルシ
ウム等のフィラーを添加してもよい。支持体の厚みは１
０〜５００μｍ程度、好ましくは２５〜２５０μｍであ
る。

【００５７】〈バックコート層〉本発明に係る画像形成
材料では、支持体の画像形成層とは反対面にバックコー
ト層を設けることがより好ましい。バックコート層は、
帯電防止性、搬送性を向上させる目的で設けられる。

【００５８】バックコート層は帯電防止性を付与するた
めに帯電防止剤を含有することが好ましい。また、更に
導電性微粒子を併用してもよい。

【００５９】帯電防止剤としては第４級アンモニウム
塩、ポリアミン誘導体などの陽イオン型界面活性剤、ア
ルキルホスフェートなどの陰イオン型界面活性剤、ベタ
イン型などの両面イオン型界面活性剤、もしくは脂肪酸
エステルなどの非イオン型界面活性剤、更にポリシロキ
サン系のものが使用できる。また、両性イオン型、もし
くは陽イオン型の水溶性アクリル樹脂はバインダーなし
に単独でバックコートすることができる。

【００６０】導電性微粒子としては、例えば酸素不足酸
化物、金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化
物等の不定比化合物を形成しやすい金属酸化物微粒子等
が挙げられる。この中で最も好ましい化合物は製造方法
などが多様な方式をとることが可能な金属酸化物微粒子
である。

【００６１】例えば、結晶性の金属酸化物粒子が一般的
であり、例えばＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、
Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、Ｂ₂Ｏ、ＭｏＯ₃及びこれ
らの複合酸化物を挙げることができるが、これらの中で
も特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂が好ましく、複合酸化
物としてはＺｎＯに対してＡｌ、Ｉｎ等、ＴｉＯ₂に対
しては、Ｎｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ₂に対してはＳｂ、Ｎｂ
ハロゲン元素等の異種元素を０．０１〜３０ｍｏｌ％含
むものが好ましく、特に０．１〜１０ｍｏｌ％含むもの
が好ましい。またこれらの導電性微粒子の体積抵抗率は
１０⁷Ω／ｃｍ以下、特に１０⁵Ω／ｃｍ以下であること
が好ましい。結晶内に酸素欠陥を有するもの、及び前記
金属酸化物に対していわゆるドナーとなる異種原子を少
量含む場合には導電性が向上するので好ましい。この様
な導電性微粒子の製造についての詳細は例えば特開昭５
６−１４３４３０号に記載されている。

【００６２】樹脂バインダーとしては、帯電防止剤を相
溶あるいは分散できる樹脂であれば、特に限定されな
い。樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル
樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアクリル酸エス
テル樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、芳香族
ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アル
キド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹
脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ウレタン変性シリ
コーン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂な
どが挙げられる。

【００６３】導電性微粒子に用いる導電層のバインダー
としてはゼラチン、誘導体ゼラチン、コロイド状アルブ
ミン、カゼイン等の蛋白質；カルボキシルメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合物；
寒天、アルギニン酸ソーダ、でんぷん誘導体等の糖誘導
体；合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコール、
ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重合
体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体、及び部分
加水分解物、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、
ポリアクリル酸エステル等のビニル重合体及びその共重
合体、ロジン、シェラックなどの天然物及びその誘導
体、その他多くの合成樹脂類が用いられる。又、スチレ
ン・ブタジエン共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリ
ル酸エステル及びその誘導体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビ
ニル−アクリル酸エステル共重合体、ポリオレフィン、
オレフィン−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョンも使
用することが出来る。その他、カーボネート系、ポリエ
ステル系、ウレタン系、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、及びポリピロールの如き有機
半導体を使用することも出来る。これらのバインダー
は、２種以上を混合して使用することも出来る。

【００６４】製造時の取り扱い容易性や製品性能の観点
から、これらのバインダーの中でも特に、ポリアクリル
酸共重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリ
ロ、ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリ
エステル、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンが好
ましい。

【００６５】また、導電層と支持体の間に接着性を良好
なものとするために、導電層に支持体を膨潤させる化合
物を含有せしめることが出来る。支持体を膨潤させる化
合物としては、例えば、レゾルシン、クロルレゾルシ
ン、メチルレゾルシン、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾー
ル、ｐ−クレゾール、フェノール、ｏ−クロルフェノー
ル、ｐ−クロルフェノール、ジクロルフェノール、トリ
クロルフェノール、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、ト
リクロル酢酸、トリフロロ酢酸、泡水クロラール等を挙
げることができるが、特にレゾルシン及びｐ−クロルフ
ェノールが好ましい。

【００６６】導電性微粒子の割合は体積含有率で１０％
〜７０％、より好ましくは１５％〜５０％であり、その
使用量は０．０５ｇ／ｍ²〜５．０ｇ／ｍ²、好ましくは
０．１ｇ／ｍ²〜２．０ｇ／ｍ²である。なお支持体を膨
潤せしめる化合物は０．０１ｇ／ｍ²〜５．０ｇ／ｍ²、
好ましくは０．０５ｇ／ｍ²〜１．０ｇ／ｍ²である。

【００６７】前記の帯電防止剤及び導電性微粒子は前記
バインダーを溶解させた有機溶剤中または水溶液中に溶
解もしくは分散させて使用する。

【００６８】なお滑剤として、前述のワックス、シリコ
ン系化合物及びフッ素系化合物などが添加されることが
好ましい。

【００６９】バックコート層の塗布に際しては、溶剤を
適宜選択して塗布液を調製する。溶剤の選択は当業者で
あれば容易に行なうことができる。塗布方法としては通
常の塗布方式、例えばブレードコーター、ロールコータ
ー、バーコーター、カーテンコーター、グラビアコータ
ーや、押出しラミネーション法、貼合法などの公知の方
法の中から任意の方法を選択して採用することができ
る。また、塗布に際しては、サポニン、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸等の公知の塗布助剤や硬膜剤、着色材、紫
外線吸収剤、熱線カット剤等を適宜必要に応じて塗布液
に添加することができる。

【００７０】また、支持体とバックコート層との間の接
着性を向上させるために、両者の間に下引き層を設けて
も良い。

【００７１】バックコート層の表面比抵抗値は、バック
コート層中の帯電防止剤及び導電性微粒子の体積含有率
を調整することにより及び／又はバックコート層の厚み
により調整することができる。前記調整により表面比抵
抗値は１０¹¹Ω／ｃｍ²以下にすることが好ましい。し
かしながら、バックコート層としての強度を十分に持た
せるためには、樹脂バインダーの量は５質量％を下まわ
らないことが好ましい。帯電防止剤の場合、帯電防止剤
の割合は０．５〜３０質量％、より好ましくは１〜１０
質量％でありその使用量は０．００１〜１ｇ／ｍ²、好
ましくは０．００２〜０．０５ｇ／ｍ²であり、導電性
微粒子の場合、体積含有率で１０〜７０％、より好まし
くは１５〜５０％でありその使用量は０．０１〜５ｇ／
ｍ²、好ましくは０．１〜２ｇ／ｍ²である。

【００７２】この他に、帯電防止層に塗布性を改善させ
るための添加剤、例えば界面活性剤等を必要に応じて含
有することができる。

【００７３】また、バックコート層はスムースター値が
７〜２００ｍｍＨｇとなるように設けられることが好ま
しい。前記スムースター値を得るためには、バックコー
ト層の表面を粗面化する手段が最も最適である。スムー
スター値は、真空型の空気マクロメーター（東栄電気工
業社製：スムースターＳＭ−６Ｂ）を用いて、２３℃４
８％ＲＨ条件下で、測定ヘッドに吸着された被測定面の
粗さに応じて流入する空気量を圧力ｍｍＨｇの変化とし
て測定する。スムースター値は表面マット度と相関して
おり、圧力値が高くなるほどマット度は高くなる。

【００７４】粗面化の手段としては、バックコート層塗
工液にマット材を添加する、バックコート層をエンボス
化工する、凹凸のある支持体上にバックコート層を設け
る、粗面化ロールでバックコート層面に凹凸をつけるな
どの方法が挙げられるが、バックコート層表面が粗面化
できればどのような方法でも適用できる。特にバックコ
ート層塗工液にマット材を添加する方法が、最も簡便且
つ有効で好ましい。マット材としては有機又は無機の微
粒子が使用できる。

【００７５】有機系マット材としてはポリメチルアクリ
レート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、フッ素樹脂、グアナミン樹脂、アクリル樹脂、スチ
レン−アクリル共重合体樹脂、シリコン樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂粒子、その他ラジカル重合
系ポリマーの微粒子、ポリエステル、ポリカーボネート
などの縮合ポリマーの微粒子などが挙げられる。無機系
マット材としては金属酸化物（シリカ、酸化亜鉛、アル
ミナ、酸化チタン等）、珪酸塩（珪酸カルシウム）、硫
酸塩（硫酸バリウム）、炭酸塩（炭酸カルシウム）等が
挙げられる。

【００７６】バックコート層の粗面化の程度はスムース
ター値によって決定される。スムースター値が小さすぎ
ると画像形成装置内で搬送性が悪くなったり、形成され
た画像をＰＳ版に焼きつける場合、ＰＳ版との密着に時
間がかかるなどの問題が発生してしまう。また、逆にス
ムースター値の値が大きすぎると、即ち、バックコート
層の表面の凹凸が大きいとバックコート層側から露光す
る場合、光の散乱が起き、感度低下、画像品質の低下な
どの問題が発生してしまう。マット材を用いる場合、マ
ット材の粒径や含有量はスムースター値と像様に露光し
たときに光の散乱により画像に影響しないように選択さ
れるが、粒径が０．１〜１０μｍ、含有量は０．０１〜
１ｇ／ｍ²が好ましい。

【００７７】この他に、バックコート層も塗布性を改善
するための添加剤、例えば界面活性剤等を必要に応じて
含有することができる。また支持体とバックコート層と
の結合力を高めるためにバックコート層中に接着剤を含
有したり、バックコート層を硬化させたり中間層などを
設けてもよい。

【００７８】〈被転写シート〉本発明に用いる被転写シ
ートは、高密度エネルギー光の露光により照射部の支持
体と画像形成層との結合力が低下した画像形成層及び保
護層部分を受容可能でありかつ、画像形成層を保持する
第１の支持体から引き離すことにより照射部の画像形成
層が転写され得る部材である。

【００７９】後述する本発明の画像形成方法において、
画像露光後に剥離して画像を受像するために設ける被転
写シートは上記画像形成材料支持体の様な支持体として
用いられる樹脂フィルムを被転写シート支持体（第２の
支持体）として用いることもでき、またその樹脂フィル
ム上に高密度エネルギー光照射部の画像形成層を受容可
能な受像層を設けたもの等を用いることができる。

【００８０】あらかじめ積層する方法としては、被転写
シート支持体上に常温もしくは加熱により粘着性を有す
る樹脂を押し出しラミネートするか、水や溶剤に分散ま
たは溶解して塗布乾燥することによって得られる。

【００８１】画像保護層上への被転写シートのより好ま
しい積層方法としては対面する１対の貼合ローラーの間
を圧力をかけながら密着させることによって貼合するこ
とができる。被転写シートが加熱により粘着性を有する
場合には貼合ローラーの直前、もしくは貼合中、ないし
は貼合後に加熱することによって密着性を確保すること
が好ましい。

【００８２】被転写シートの厚みは５μｍ〜３００μｍ
であることが好ましく、さらには１０μｍ〜１５０μｍ
であることが好ましい。

【００８３】〈支持体〉合成紙（たとえばポリプロピレ
ンを主成分とする合成紙など）、等が挙げられる。具体
的には、王子油化加工（株）製商品名ユポあるいは日清
紡（株）製商品名ピーチコートの各グレード、あるいは
ダイアホイルヘキスト（株）製ダイアナールＷ−９００
Ｅ等を好ましく用いることができる。

【００８４】樹脂からなる基材はアクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナ
イロン、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミ
ド、ポリエーテルイミド等の各樹脂フィルム、更には前
記樹脂を２層以上積層してなる樹脂フィルム等の支持体
を挙げることができる。又、酸化チタン、酸化亜鉛、硫
酸バリウム、炭酸カルシウム等のフィラーを添加しても
よい。

【００８５】シートあるいはフィルム状に延伸し、ヒー
トセットしたものが寸法安定性の面から好ましく、基材
は、ミクロボイドがないものでも、あるいはミクロボイ
ドのあるものでも、用途に応じて適宜に選択することが
できる。

【００８６】被転写シートの支持体として用いられる基
紙は、天然パルプ、合成パルプ、またはそれらの混合物
から抄紙されるパルプ紙が好ましく、この中で、木材パ
ルプを主成分とする天然パルプ紙が好ましい。紙は、長
網抄紙機等を用いて抄造され、平滑度向上の目的で、抄
紙後にマシンカレンダー、スーパーカレンダー、熱カレ
ンダー等を用いてカレンダー処理することが好ましい。
また、平滑性向上のために、顔料を含有した樹脂層でコ
ートした基紙も本発明においては好適に用いることがで
きる。具体的な基紙としては、上質紙、アート紙、コー
ト紙、片艶紙、含浸紙、板紙等が挙げられる。

【００８７】なお、紙としては、後述する白色微粒子を
含有するポリプロピレンおよびポリオレフィンのラミネ
ート層を設ける際に、平滑性を持たせるためにベック平
滑度５０秒以上にするのが好ましく、１００秒以上更に
は２００秒以上の平滑性を有することが好ましい。ま
た、紙の厚みは特に制限はないが、５〜８００μｍが好
ましく、１０〜５００μｍがより好ましい。

【００８８】上記基紙中には、必要に応じてサイズ剤、
定着剤、紙力増強剤、填料、帯電防止剤、染料、顔料、
蛍光増白剤、酸化防止剤、減摩剤等の添加剤が含まれて
いても良い。

【００８９】前記基材としては、ＯＨＰなどの透過原
稿、ガラスなどに貼付けるシール用途のように透明性が
要求される場合には透明度の高いものが好ましく、また
反射画像の場合は形成される画像の鮮明性を高めるため
に、基材を構成する層中に白色顔料例えば、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、シリカ、硫酸バリウム、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、タルク、クレー等が添加されても
良い。

【００９０】前記基材の厚みは通常５〜１，０００μ
ｍ、好ましくは１０〜５００μｍであり、このような範
囲の中から適宜に選定される。

【００９１】例えば、露光装置のドラム上の表面粗さが
１．０μｍより粗く、画像形成材料とドラムの間に間接
部材であるスペーサーを介さない場合、被転写シートの
支持体の膜厚は７０μｍ〜４００μｍが好ましく、ま
た、表面粗さは０．０５μｍ〜１μｍであることが好ま
しく、より好ましくは０．０５μｍ〜０．５０μｍであ
る。

【００９２】一方、露光装置のドラム上の表面粗さが
１．０μｍ以下である場合、及び、画像形成材料とドラ
ムの間に間接部材であるスペーサーを介する場合は、被
転写シートは画像形成後不要となるため、その厚みは可
能な限り薄い方が廃材の低減という点で好ましい。しか
しながらその厚みが薄すぎる場合画像形成層から被転写
シートを剥離する際に破壊してしまう恐れや、剥離後の
被転写シートの搬送性が困難となる懸念があるため支持
体の厚みは、通常６〜１００μｍ程度、好ましくは１２
〜５０μｍである。また、表面粗さは０．０５μｍ〜１
μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０５μ
ｍ〜０．５０μｍである。

【００９３】〈受像層〉本発明に係る画像形成材料に用
いられる受像層は主として熱可塑性樹脂バインダーから
なる。用いられる樹脂バインダーとしてはウレタン樹
脂、アクリル樹脂、スチレン共重合エラストマーが好ま
しく用いられる。ウレタン樹脂としては分子内にウレタ
ン結合（−ＮＨＣＯＯ−）を有する樹脂、具体的には日
本ポリウレタン工業（株）製接着剤用ポリウレタン樹脂
ニッポラン等があげられる。アクリル樹脂としてはエチ
レン−エチルアクリレート共重合樹脂（ＥＥＡ）やエチ
レン−アクリル酸共重合樹脂（ＥＡＡ）、その他変性ア
クリル樹脂があり、具体的には三井デュポンポリケミカ
ル（株）製ＥＶＡＦＬＥＸ−ＥＥＡや日本ゼオン（株）
製ニポールＬＸシリーズなどがあげられる。

【００９４】スチレン共重合エラストマーとしては分子
内にポリスチレンブロック（Ｓ）とポリブタジエン
（Ｂ）、ポリイソプレン（Ｉ）、ポリエチレン／ブチレ
ン（ＥＢ）、ポリエチレン／プロピレン（ＥＰ）ブロッ
クが共重合したＳＢＳ、ＳＩＳ、ＳＥＢＳ、ＳＥＰＳな
どを好ましく用いることができる。具体的にはシェルジ
ャパン（株）製カリフレックスＴＲ、クレイトンＤ、ク
レイトンＧや（株）クラレ製セプトン、ハイブラーや旭
化成（株）製タフテックＨ、Ｍシリーズなどがあげられ
る。

【００９５】このほかにも効果を低下させない範囲でそ
の他の樹脂を任意の割合で混合することができる。

【００９６】また受像層には必要に応じて添加剤として
無機または有機のフィラーを添加することができる。無
機微粒子としては、たとえばシリカ、酸化チタン、酸化
アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ホウ酸ア
ルミニウム等の金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグ
ネシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、水酸化ア
ルミニウム、水酸化マグネシウム、窒化ホウ素等の金属
塩、カオリン、クレー、タルク、亜鉛華、鉛白、ジーク
ライト、石英、ケイソウ土、パーライト、ベントナイ
ト、雲母、合成雲母などが挙げられる。有機微粒子とし
ては、メラミン樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、スチレ
ン−アクリル共重合体樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子、
フッ素樹脂粒子などが挙げられる。

【００９７】受像層の付量は通常０．０１〜１０ｇ／ｍ
²、好ましくは０．１〜５ｇ／ｍ²である。

【００９８】〈被転写シートのバックコート層〉被転写
シートのバックコート層は、画像形成シートのバックコ
ート層と同様の材料を用いて形成される。但し、画像形
成シートのバックコート層側からレーザー露光する場
合、被転写シートのバックコート層中のマット材量は、
画像形成シートのバックコート層中のマット材量ほど限
定されず、耐熱性を向上させるためにマット材量を増量
することができる。

【００９９】（スペーサー）表面粗さは０．０５μｍ〜
１μｍが好ましく、より好ましくは０．５μｍ以下であ
る。また、膜厚は７０μｍ〜４００μｍであることが好
ましい。取り扱いの容易なシートであれば特に制限なく
用いることができる。シート材料としては例えば、画像
形成材料に用いる支持体と同様なものを用いることがで
きる。

【０１００】（画像形成装置）３チャンネル以上のレー
ザービーム及び外面走査方式のドラムを備え画像形成材
料をドラム上に減圧密着させて露光を行なうマルチチャ
ンネルレーザービーム露光装置であり、本発明の１態様
は前記ドラムのドラム表面の表面粗さが０．０５μｍ〜
１μｍであり、且つ、ドラム上の減圧吸引孔は画像形成
材料の非画像形成部に分布するように設けられている。
このような画像形成装置を用いることにより、画像形成
材料に厳しい規制を課すことなく高画質の画像が得られ
る。

【０１０１】一方、上記のようなドラムを備えた画像形
成装置を用いない場合は、高画質の画像を得るために画
像形成材料の被転写シートの支持体を限定する、又は、
ドラムと画像形成材料の間に間接部材であるスペーサー
を介する等の仕立てを施す。このとき、画像形成材料に
覆われているドラムの面積に対するドラム上の吸引孔面
積（吸引孔面積／画像形成材料に覆われている面積）が
０．０２％〜２％のドラムに画像形成材料を被覆したと
きの減圧密着度が６．５ｋＰａ〜５３．５ｋＰａ以下に
調整する。減圧密着度が低すぎると露光時に画像形成材
料がドラムから浮いたり、剥離したりする現象が起こ
り、一方、高すぎると被転写シートと画像シートの境界
面が剥離し画像の飛び残りが発生してしまう。よって上
記の範囲に減圧密着度を調整することにより画像形成材
料が露光時にドラムから一部浮き上がり、剥離すること
なく更に画像の飛び残りなく高画質な画像を得ることが
できる。

【０１０２】（画像形成方法）本発明に係る画像形成方
法は支持体上に画像形成層、保護層をこの順に有し、更
に画像保護層上に被転写シートが予め積層された画像形
成材料を用いて、該画像形成層が高密度エネルギー光の
露光により支持体と画像形成層との結合力が低下してそ
の後、被転写シートと支持体を引き離すことにより照射
部の画像形成層が被転写シートに転写され得るものであ
る。

【０１０３】本発明で用いられるレーザー光源として
は、一般によく知られている、ルビーレーザー、ＹＡＧ
レーザー、ガラスレーザーなどの固体レーザー；Ｈｅ−
Ｎｅレーザー、Ａｒイオンレーザー、Ｋｒイオンレーザ
ー、ＣＯ₂レーザー、ＣＯレーザー、Ｈｅ−Ｃｄレーザ
ー、Ｎ₂レーザー、エキシマーレーザーなどの気体レー
ザー；ＩｎＧａＰレーザー、ＡｌＧａＡｓレーザー、Ｇ
ａＡｓＰレーザー、ＩｎＧａＡｓレーザー、ＩｎＡｓＰ
レーザー、ＣｄＳｎＰ₂レーザー、ＧａＳｂレーザーな
どの半導体レーザー；化学レーザー、色素レーザー等を
挙げることができ、これらの中でも効率的にアブレーシ
ョンを起こさせるためには、波長が６００〜１２００ｎ
ｍの可視光から近赤外領域のレーザーを用いるのが、効
率的に光エネルギーを熱エネルギーに変換できることか
ら、感度の面で好ましい。

【０１０４】また露光方向は、支持体側から露光するの
が好ましく、さらに、画像露光部分の画像形成層の破壊
が起こらず、支持体と画像形成層間の接着力のみ低下す
るあるいはなくなるように画像露光するのが、画像露光
部分を均一に被転写シート側に引き抜くことができるこ
とから好ましい。

【０１０５】支持体と画像形成層との間に中間層が積層
されている場合には、アブレーション位置は中間層と画
像形成層との間でも良いし、支持体と中間層との間でも
良く、また場合によっては中間層の一部熱破壊でも良
い。

【０１０６】画像形成シートと被転写シートを画像露光
後剥離するのに必要な剥離力はＪＩＳＣ２１０７
（ＪＩＳＺ０２３７）の１８０度引き剥がし法にお
いて３ｇｆ／ｃｍ〜５０ｇｆ／ｃｍであることが好まし
い。また、被転写シートを引き剥がす際の方法として
は、剥離板、剥離ロールによる剥離角度固定方法、手で
被転写シートと画像形成材料を固定せずに引き剥がす手
剥離方法など、画像形成に影響を与えなければ種々の剥
離方法を用いることができる。

【０１０７】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
なお、以下において「部」は、特に断りがない限り「有
効成分としての質量部」を表す。

【０１０８】実施例１［画像形成材料］画像形成材料を下記に示した画像形成
シート及び被転写シートを用いて作製した。

【０１０９】〈画像形成シート〉〈支持体〉厚み１００μｍの画像形成層積層面をコロナ
放電処理した透明ポリエチレンテレフタレートフィルム
〔東レ（株）製、Ｔ−６０〕を用いた。

【０１１０】〈画像形成層〉Ｆｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末（色材兼金属含有粉体）（Ｆｅ：Ａｌ原子数比＝１００：４（全体），５０：５０（表面）平均長軸径０．１４μｍ）１００部ポリエステル樹脂３０部（東洋紡績（株）社製：バイロンＵＲ８３００、固形分３０％）ポリエステル樹脂１５部（東洋紡績（株）社製：バイロンＵＲ４１２２、固形分３０％）ポリエステル系樹脂（東洋紡績（株）社製：バイロン２８ＳＳ）２部 α−アルミナ（平均粒子径０．１５μｍ）５部ステアリン酸１部ステアリン酸ブチル１部ポリイソシアネート化合物１部（日本ポリウレタン工業社製：コロネートＨＸ）シクロヘキサノン１００部メチルエチルケトン１００部トルエン１００部からなる組成物をオープンニーダを用いて混練分散し
て、色材として無機金属化合物を含有する画像形成層形
成塗工液を調製し、支持体の上流側から減圧する押出し
塗布方式で支持体上に付き量２．９ｇ／ｍ²になるよう
に塗布し乾燥後、１００℃・線圧３００ｋｇ／ｃｍの条
件下でカレンダー処理を施した。巻き取り方向は塗布面
を内側にした。更に６０℃で７２時間熱硬化させること
により画像形成層を形成した。

【０１１１】〈保護層〉フェノキシ樹脂１．００部（フェノキシアソシエート（株）製：ＰＫＨＨ）ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製：ＵＥ３６９０）１．００部ポリイソシアネート化合物０．７５部（日本ポリウレタン工業（株）製：コロネートＨＸ）ポリエチレンワックス（興洋化学（株）製：ＣＥ−１５５）０．０６部シリコーン樹脂微粒子０．０６部（富士シリシア化学（株）製：サイロホービック２００）アルミナ０．０６部（住友化学（株）製、高純度アルミナＨＩＴ６０Ｇ）トルエン５８．２部シクロヘキサノン３８．８部からなる組成物を減圧押し出しコーティングにより前記
画像形成層上に塗布乾燥後、６０℃で７２時間熱硬化
し、保護層とした。

【０１１２】〈バックコート層〉画像形成層を有する支
持体面とは反対面にポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製：バイロン２００）４．１６部帯電防止剤（花王（株）製：コータミン２４Ｐ）０．１５部ＰＭＭＡフィラー（総研化学（株）製：ＭＸ−１５０）０．１部シリコン樹脂（信越化学（株）製：Ｘ−２４−８３００）０．０５部ワックス０．０５部（（株）岐阜セラック製造所製：ハイディスパー４０５５）メチルエチルケトン７６部シクロヘキサノン１９部からなるバックコート層を付量０．５ｇ／ｍ²となるよ
うに塗布乾燥した。

【０１１３】〈被転写シート〉〈受像層〉厚み３８μｍの透明ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム〔ダイアホイルヘキスト（株）製、Ｔ−１
００Ｅ〕にポリウレタン樹脂４．８５部（日本ポリウレタン工業（株）製：ニッポラン３１０９）シリコーン樹脂微粒子０．１部（東芝シリコーン（株）製：トスパールＴ−１２０）カルナバワックス０．０５部（（株）岐阜セラック製造所製：ハイディスパー４０５５）トルエン３８部メチルエチルケトン３８部シクロヘキサノン１９部からなる受像層を付量１．２ｇ／ｍ²となるように塗布
乾燥することにより被転写シートを得た。

【０１１４】〈バックコート層〉受像層を有する支持体
面とは反対面にポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製：バイロン２００）４．２５部帯電防止剤（花王（株）製：コータミン２４Ｐ）０．１５部ＰＭＭＡフィラー（総研化学（株）製：ＭＸ−１５０）０．５０部シリコン樹脂（信越化学（株）製：Ｘ−２４−８３００）０．０５部ワックス（（株）岐阜セラック製造所製：Ｘ８１２６）０．０５部メチルエチルケトン７６部シクロヘキサノン１９部からなるバックコート層を付量０．５ｇ／ｍ²となるよ
うに塗布乾燥した。

【０１１５】上記画像形成シートの保護層面と被転写シ
ートの接着層面を対面させ、対面するヒートローラーに
より加熱、加圧することにより密着させ、その接着力が
ＪＩＳＣ２１０７（ＪＩＳＺ０２３７）の１８
０度引き剥がし法において３〜８ｇｆ／ｃｍの範囲内に
おさまるように調整した。

【０１１６】［画像形成方法］〈画像形成装置１（概略を図１に示す）〉（外面走査方式ドラム）減圧吸引孔が画像形成材料の非
画像形成部に分布するように設けられ（図２参照）、表
面粗さ０．５μｍである。

【０１１７】（レーザービーム）チャンネル数：３２チャンネル（ｃｈ）ビーム径：６μｍ波長：８３０ｎｍ（半導体レーザー）〈画像形成装置２〉（外面走査方式ドラム）減圧吸引孔はドラム全面に分布
するように設けられ（図３参照）、表面粗さ２．０μｍ
である。

【０１１８】（レーザービーム）チャンネル数：３２ｃｈビーム径：６μｍ波長：８３０ｎｍ（半導体レーザー）上記画像形成装置のドラム上に上記画像記録材料の被転
写シート側がドラムに接するようにして減圧密着させ
た。

【０１１９】画像形成材料の画像形成シートの支持体と
画像形成層の界面に焦点を合わせ、ポストスクリプト
（登録商標）データ（ＰＳデータ）を用いて露光しレー
ザー光照射部の支持体と画像形成層の結合力を低下させ
た後、画像形成層を有する画像形成シートと被転写シー
トとを剥離することにより像様に画像を形成した。

【０１２０】感度（露光に要するエネルギー量）、露光
部の画像形成層の透過濃度（Ｄｍｉｎ）及び網点画像の
ムラの評価を下記の方法で行った。

【０１２１】［評価方法］感度（露光に要するエネルギー量）５００ｍｍ×５００
ｍｍの画像を形成するテストパターン露光を行い、画像
形成が可能な最適露光エネルギー（Ｅ：単位ｍＪ／ｃｍ
²）を ◎ Ｅ≦２５０ ○ ２５０＜Ｅ≦４００ △ ４００＜Ｅ≦６００ × ６００＜Ｅで評価した。

【０１２２】露光部の透過濃度（Ｄｍｉｎ）画像形成材料のアブレーション部分の光透過濃度をＸ−
ｒｉｔｅ社製Ｘｒｉｔｅ濃度計を用いて測定し、 ◎ ０．０４未満（極めて良好） ○ ０．０４以上０．０５未満（実質上問題の無い微小な着色剤層飛散末が顕微鏡で確
認できる程度） ○△ ０．０５以上０．０６未満（転写ムラがルーペで
確認できる） △ ０．０６以上０．０７未満（転写ムラがルーペで
確認できる） × ０．０７以上（転写ムラが目視で確認できる）で評価した。

【０１２３】網点画像のムラ画像露光可能領域全面に露光した５０％網点部を目視で
観察し、ドラムの表面形状模様及び吸引孔痕が画像に表
れていないかどうかを ○ 画像にドラムの表面形状模様及び吸引孔痕全くなし △ 画像にドラムの表面形状模様及び吸引孔痕おぼろげ
にあり × 画像にドラムの表面形状模様及び吸引孔痕くっきり
ありで評価した。

【０１２４】結果を表１に示す。

【０１２５】

【表１】

【０１２６】本発明の画像形成装置１によれば、露光画
像の網点部にムラのない高画質な画像を得られることが
わかる。

【０１２７】実施例２表２に記載の被転写シートの支持体を用いた以外は実施
例１と同様の画像形成材料を用い、感度（露光に要する
エネルギー量）、露光部の画像形成層の透過濃度（Ｄｍ
ｉｎ）及び網点画像のムラ、異物による画像欠陥の評価
を行った。

【０１２８】〈画像形成装置〉（外面走査方式ドラム）減圧吸引孔はドラム全面に分布
するように設けられ（図３）、表面粗さ２．０μｍ、吸
引孔面積／画像形成材料に覆われている面積×１００＝
０．２％であり、画像形成材料を被覆したときの減圧密
着度は表２に示す。

【０１２９】（レーザービーム）チャンネル数：３２ｃｈビーム径：６μｍ波長：８３０ｎｍ（半導体レーザー）

【０１３０】

【表２】

【０１３１】〈異物及び吸引孔起因の飛び残りによる画
像欠陥〉１００ｍｍ×１００ｍｍで画像露光可能領域全
面に露光したアブレーション部をルーペで観察し、ドラ
ムと画像形成材料との間に混入した異物及びドラム吸引
孔起因の受像層へのアブレーション不良による１００μ
ｍ以上の大きさの画像飛び残りの個数をカウントし、 ○ １０個未満 △ １０個以上３０個未満 × ３０個以上で評価した。

【０１３２】結果を表３に示す。

【０１３３】

【表３】

【０１３４】実施例３実施例１と同様の画像形成材料を用い、スペーサーとし
て表４に記載のシートを用いて、実施例２と同様の画像
形成装置を用い、ドラムの外面上にスペーサーを貼付
け、このシートより大きいサイズで上記画像記録材料の
被転写シート側がドラムに接するようにして減圧密着さ
せて画像形成し、感度（露光に要するエネルギー量）、
露光部の画像形成層の透過濃度（Ｄｍｉｎ）及び網点画
像のムラ、異物及び吸引孔起因の飛び残りによる画像欠
陥について評価した。

【０１３５】

【表４】

【０１３６】結果を表５に示す。

【０１３７】

【表５】

【０１３８】

【発明の効果】以上の実施例で実証した如く、本発明に
よれば以下の効果を有する。

【０１３９】ドラム上の減圧吸引孔が画像形成材料の非
画像形成部に分布するように設けられているドラムを用
い、ドラムの表面粗さを０．０５μｍ〜１μｍにするこ
とにより、画像部に吸引孔の痕が残らず高画質の画像が
得られた。

【０１４０】ドラムの全面に減圧吸引孔が配置され、ド
ラムの表面粗さが１μｍより粗いドラムを用いて画像形
成する場合には、画像形成材料では被転写シートの支持
体の表面粗さを０．０５μｍ〜１μｍにし、更に被転写
シートの支持体の膜厚を７０μｍ〜４００μｍとするこ
とでドラム形状や吸引孔の痕が残らない画像を得ること
ができた。このとき画像形成材料に覆われているドラム
の面積に対するドラム上の吸引孔面積（吸引孔面積／画
像形成材料に覆われている面積）が０．０２％〜２％の
ドラムに画像形成材料を被覆したときの減圧密着度が
６．５ｋＰａ〜５３．５ｋＰａに調整することでより高
画質な画像を得ることができた。

【０１４１】ドラムの全面に減圧吸引孔が配置され、ド
ラムの表面粗さが１μｍより粗いドラムを用いて画像形
成する場合、他の方法として、ドラムと画像形成材料の
間に間接部材であるスペーサーを介在させることにより
画像形成材料を限定することなくドラム形状や吸引孔の
痕が残らない画像を得ることができた。スペーサーは表
面粗さが０．０５μｍ以上１μｍ以下、更に膜厚が７０
μｍ以上４００μｍ以下であるものを用いることにより
高画質な画像を得ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】画像形成装置の概略図。

【図２】本発明に係る、画像未露光部に減圧吸引孔が設
けられている画像形成装置のドラムの平面概略図。

【図３】全面に減圧吸引孔が設けられているドラムの平
面概略図。

【符号の説明】

１画像形成装置２ドラム３マルチレーザーヘッド４画像形成材料５減圧吸引孔６画像露光量域Ｘ副走査方向Ｙ主走査方向

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｊ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】３チャンネル以上のレーザー光源、及
び、画像形成材料の非画像形成部に分布するように設け
られている減圧吸引孔を有し、表面の表面粗さが０．０
５μｍ〜１μｍのドラムを備え、画像形成材料をドラム
上に減圧密着させて外面走査方式でレーザービーム露光
を行なうことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】請求項１に記載の画像形成装置を用い
て、支持体上に露光光源の波長光を吸収できる色材が樹
脂バインダー中に分散されてなる画像形成層を有する画
像形成材料に露光することを特徴とする画像形成方法。
【請求項３】前記画像形成層は硬化剤が添加されて形
成され、且つ高密度エネルギー光の露光によりアブレー
ションを起こす画像形成材料であることを特徴とする請
求項２に記載の画像形成方法。
【請求項４】第１の支持体上に露光光源の波長光を吸
収できる色材が樹脂バインダー中に分散されてなる画像
形成層を有する画像形成シートと、表面粗さが０．０５
μｍ〜１μｍである第２の支持体上に受像層を有する被
転写シートからなる画像形成材料を、減圧密着度６．５
ｋＰａ〜５３．５ｋＰａでドラム上に減圧密着させて３
チャンネル以上のレーザービームで外面走査方式の露光
を行なうことを特徴とする画像形成方法。
【請求項５】画像形成材料に覆われているドラムの面
積に対するドラム上の吸引孔面積（吸引孔面積／画像形
成材料に覆われている面積）が０．０２％〜２％である
ことを特徴とする請求項４に記載の画像形成方法。
【請求項６】前記被転写シート支持体の膜厚が７０μ
ｍ〜４００μｍであることを特徴とする請求項４又は５
に記載の画像形成方法。
【請求項７】間接部材（スペーサー）を介して画像形
成材料を減圧密着度６．５ｋＰａ〜５３．５ｋＰａでド
ラム上に減圧密着させ、３チャンネル以上のレーザービ
ームで外面走査方式の露光を行なうことを特徴とする画
像形成方法。
【請求項８】画像形成材料に覆われているドラムの面
積に対するドラム上の吸引孔面積（吸引孔面積／画像形
成材料に覆われている面積）が０．０２％〜２％である
ことを特徴とする請求項７に記載の画像形成方法。
【請求項９】前記スペーサーの画像形成材料に接する
側の表面粗さが０．０５μｍ〜１μｍであることを特徴
とする請求項７又は８に記載の画像形成方法。
【請求項１０】前記スペーサーの膜厚が７０μｍ〜４
００μｍであることを特徴とする請求項７、８又は９に
記載の画像形成方法。