JP2001276547A - 調温装置および高温排ガスの調温方法 - Google Patents
調温装置および高温排ガスの調温方法Info
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- F23J15/00—Arrangements of devices for treating smoke or fumes
- F23J15/06—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of coolers
Abstract
(57)【要約】
【課題】 揮発成分や溶融ダスト成分の付着を防止し得
て、しかも高温排ガスを効果的に調温することを可能な
らしめる調温装置を提供する。 【解決手段】 調温装置１の調温塔２の上部に、高温排
ガスの流速を減速して偏流を防止し得る排ガス導入ダク
ト３を介してガス吹込み口２ａから吹込まれる高温排ガ
スのガス流のほぼ中心に向かう斜め下方に冷却水を噴霧
する冷却水噴霧ノズル５を設け、第１拡大段部２１の環
状平面に、調温塔２の内壁に沿う下向き旋回ガス流とな
るように冷却ガスを噴射する複数の第１段冷却ガス噴射
ノズル６を設けると共に、第１拡大段部２１の下方の第
２拡大段部２２の環状平面に、調温塔２の内壁に沿う下
向き旋回ガス流となるように冷却ガスを噴射する複数の
第２段冷却ガス噴射ノズル６を設ける。
て、しかも高温排ガスを効果的に調温することを可能な
らしめる調温装置を提供する。 【解決手段】 調温装置１の調温塔２の上部に、高温排
ガスの流速を減速して偏流を防止し得る排ガス導入ダク
ト３を介してガス吹込み口２ａから吹込まれる高温排ガ
スのガス流のほぼ中心に向かう斜め下方に冷却水を噴霧
する冷却水噴霧ノズル５を設け、第１拡大段部２１の環
状平面に、調温塔２の内壁に沿う下向き旋回ガス流とな
るように冷却ガスを噴射する複数の第１段冷却ガス噴射
ノズル６を設けると共に、第１拡大段部２１の下方の第
２拡大段部２２の環状平面に、調温塔２の内壁に沿う下
向き旋回ガス流となるように冷却ガスを噴射する複数の
第２段冷却ガス噴射ノズル６を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、調温塔を備えてな
る調温装置および高温排ガスの調温方法の改善に関し、
より詳しくは、調温装置の調温塔の内壁への揮発成分や
溶融ダスト成分の付着を防止して、高温排ガスを効果的
に冷却することを可能ならしめるようにした調温装置お
よび高温排ガスの調温方法の技術分野に属するものであ
る。
る調温装置および高温排ガスの調温方法の改善に関し、
より詳しくは、調温装置の調温塔の内壁への揮発成分や
溶融ダスト成分の付着を防止して、高温排ガスを効果的
に冷却することを可能ならしめるようにした調温装置お
よび高温排ガスの調温方法の技術分野に属するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、調温装置は、焼却炉や溶融炉等
の高温ガス発生源から排出される高温排ガスを、後工程
のボイラー用の熱源として活用するのに、またバグフィ
ルターで処理するのに適した温度となるように、冷却水
の噴霧やスクラバーによる湿式処理法により調温するも
のである。しかしながら、焼却炉や溶融炉から排出され
る高温排ガスには、揮発成分や溶融ダストを含む飛灰や
ダストが混入しており、このような高温排ガスを冷却水
噴霧だけで調温すると調温塔の内壁に揮発成分の液化物
や溶融ダストの固化物が付着するという問題がある。ま
た、湿式処理では、揮発成分や溶融ダストの中に水溶性
成分が含まれているため、水処理設備を必要とする等、
設備費に関して不利になるという問題があった。
の高温ガス発生源から排出される高温排ガスを、後工程
のボイラー用の熱源として活用するのに、またバグフィ
ルターで処理するのに適した温度となるように、冷却水
の噴霧やスクラバーによる湿式処理法により調温するも
のである。しかしながら、焼却炉や溶融炉から排出され
る高温排ガスには、揮発成分や溶融ダストを含む飛灰や
ダストが混入しており、このような高温排ガスを冷却水
噴霧だけで調温すると調温塔の内壁に揮発成分の液化物
や溶融ダストの固化物が付着するという問題がある。ま
た、湿式処理では、揮発成分や溶融ダストの中に水溶性
成分が含まれているため、水処理設備を必要とする等、
設備費に関して不利になるという問題があった。
【０００３】そのため、上記のような問題を解決するよ
うにした種々の調温装置が提案されている。例えば、特
開平５−２３１６３３号公報（従来例１）においては、
排ガス導入ダクトから分岐させたパージガス吹ダクトか
ら、調温塔の水平断面がなす円の接線方向、かつ斜め下
方に高温排ガスを噴射してパージガスを旋回させるか、
または調温塔内の上部に溢流堰を設け、この溢流堰から
オーバーフローさせた水を内壁に沿って流下させること
によって、調温塔の内壁への付着物の付着を防止する技
術が提案されている。
うにした種々の調温装置が提案されている。例えば、特
開平５−２３１６３３号公報（従来例１）においては、
排ガス導入ダクトから分岐させたパージガス吹ダクトか
ら、調温塔の水平断面がなす円の接線方向、かつ斜め下
方に高温排ガスを噴射してパージガスを旋回させるか、
または調温塔内の上部に溢流堰を設け、この溢流堰から
オーバーフローさせた水を内壁に沿って流下させること
によって、調温塔の内壁への付着物の付着を防止する技
術が提案されている。
【０００４】また、特開平７−１３３９１９号公報（従
来例２）においては、燃焼排ガス冷却室（調温塔に相当
する。）の管壁に複数の高圧液体噴射ノズルを設け、こ
れら高圧液体噴射ノズルから燃焼排ガス冷却室の管内壁
に高圧流体を噴出させることによって付着ダストを除去
する技術が提案されている。
来例２）においては、燃焼排ガス冷却室（調温塔に相当
する。）の管壁に複数の高圧液体噴射ノズルを設け、こ
れら高圧液体噴射ノズルから燃焼排ガス冷却室の管内壁
に高圧流体を噴出させることによって付着ダストを除去
する技術が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例１および２
に係る技術は、何れもそれなりに有用であると考えられ
る。しかしながら、高温排ガスをパージガスとして吹込
んで旋回させる従来例１の場合には、高温排ガスに含ま
れている揮発成分や溶融ダスト成分を十分冷却すること
ができないため、調温塔の内壁への揮発成分や溶融ダス
トの付着防止効果は必ずしも十分ではない。また、調温
塔の内壁に沿って水を流下させることは、湿式処理法と
同様に、水溶性成分を処理する水処理設備が必要になっ
てくる。さらに、高圧流体を噴射する従来例２の場合に
は、単なる対症療法に過ぎず、高温排ガスに含まれてい
る揮発成分や溶融ダスト成分そのものの調温塔の内壁へ
の付着を防止するものではない。
に係る技術は、何れもそれなりに有用であると考えられ
る。しかしながら、高温排ガスをパージガスとして吹込
んで旋回させる従来例１の場合には、高温排ガスに含ま
れている揮発成分や溶融ダスト成分を十分冷却すること
ができないため、調温塔の内壁への揮発成分や溶融ダス
トの付着防止効果は必ずしも十分ではない。また、調温
塔の内壁に沿って水を流下させることは、湿式処理法と
同様に、水溶性成分を処理する水処理設備が必要になっ
てくる。さらに、高圧流体を噴射する従来例２の場合に
は、単なる対症療法に過ぎず、高温排ガスに含まれてい
る揮発成分や溶融ダスト成分そのものの調温塔の内壁へ
の付着を防止するものではない。
【０００６】ところで、近年、産業廃棄物の直接溶融炉
等、金属を含むような廃棄物を焼却・溶融処理する設備
が研究されている。このような設備の場合には、鉛、亜
鉛やＮａ、Ｋ等のアルカリ金属等の低融点物質が多く含
まれているので、低融点物質の付着という問題がより顕
著になる。また、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化
金属や酸化金属を含む廃棄物を原料として、１０００℃
以上の高温で還元し、または還元・溶融して還元鉄等を
得る技術が注目されているが、これらの原料は、大量の
低融点物質や揮発成分を含むと共に、極めて高温のガス
が発生するため、ガスの冷却と付着防止との両立が難し
く、現時点においては有効な調温装置は提供されていな
い。
等、金属を含むような廃棄物を焼却・溶融処理する設備
が研究されている。このような設備の場合には、鉛、亜
鉛やＮａ、Ｋ等のアルカリ金属等の低融点物質が多く含
まれているので、低融点物質の付着という問題がより顕
著になる。また、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化
金属や酸化金属を含む廃棄物を原料として、１０００℃
以上の高温で還元し、または還元・溶融して還元鉄等を
得る技術が注目されているが、これらの原料は、大量の
低融点物質や揮発成分を含むと共に、極めて高温のガス
が発生するため、ガスの冷却と付着防止との両立が難し
く、現時点においては有効な調温装置は提供されていな
い。
【０００７】従って、本発明の目的は、調温塔の内壁へ
の揮発成分や溶融ダストの付着を効果的に防止すると共
に、高温排ガスを効果的に冷却することを可能ならしめ
る調温装置および高温排ガスの調温方法を提供すること
である。
の揮発成分や溶融ダストの付着を効果的に防止すると共
に、高温排ガスを効果的に冷却することを可能ならしめ
る調温装置および高温排ガスの調温方法を提供すること
である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記実情に鑑み
てなされたものであって、従って上記課題を解決するた
め、本発明の請求項１に係る調温装置が採用した主たる
手段は、吹込まれる高温排ガスが適切な温度になるよう
に調温し、調温された排ガスを後工程側に排出する調温
塔を備えてなる調温装置において、前記調温塔に、前記
高温排ガスのガス流のほぼ中心に向かって冷却水を噴霧
する冷却水噴霧手段を設けると共に、この調温塔の内壁
に沿って冷却ガスを噴射する冷却ガス噴射手段を設けた
ことを特徴とする。
てなされたものであって、従って上記課題を解決するた
め、本発明の請求項１に係る調温装置が採用した主たる
手段は、吹込まれる高温排ガスが適切な温度になるよう
に調温し、調温された排ガスを後工程側に排出する調温
塔を備えてなる調温装置において、前記調温塔に、前記
高温排ガスのガス流のほぼ中心に向かって冷却水を噴霧
する冷却水噴霧手段を設けると共に、この調温塔の内壁
に沿って冷却ガスを噴射する冷却ガス噴射手段を設けた
ことを特徴とする。
【０００９】本発明の請求項２に係る調温装置が採用し
た主たる手段は、排ガス導入ダクトを介して上部に設け
たガス吹込口から吹込まれ、高温ガス発生源から排出さ
れた高温排ガスを、適切な温度になるように調温し、調
温された排ガスを下部排出ダクトから後工程側に排出す
る調温塔を備えてなる調温装置において、前記調温塔の
上部に、前記ガス吹込口から吹込まれる高温排ガスのガ
ス流のほぼ中心に向かって冷却水を噴霧する冷却水噴霧
手段を設けると共に、この調温塔の内壁に沿って下方に
冷却ガスを噴射する冷却ガス噴射手段を設けたことを特
徴とする。
た主たる手段は、排ガス導入ダクトを介して上部に設け
たガス吹込口から吹込まれ、高温ガス発生源から排出さ
れた高温排ガスを、適切な温度になるように調温し、調
温された排ガスを下部排出ダクトから後工程側に排出す
る調温塔を備えてなる調温装置において、前記調温塔の
上部に、前記ガス吹込口から吹込まれる高温排ガスのガ
ス流のほぼ中心に向かって冷却水を噴霧する冷却水噴霧
手段を設けると共に、この調温塔の内壁に沿って下方に
冷却ガスを噴射する冷却ガス噴射手段を設けたことを特
徴とする。
【００１０】本発明の請求項３に係る調温装置が採用し
た主たる手段は、請求項１または２のうちの何れか一つ
の項に記載の調温装置において、前記調温塔に、前記冷
却ガス噴射手段が複数配設され、下段側になるほど径が
拡大する２段以上の拡大段部を設けたことを特徴とす
る。
た主たる手段は、請求項１または２のうちの何れか一つ
の項に記載の調温装置において、前記調温塔に、前記冷
却ガス噴射手段が複数配設され、下段側になるほど径が
拡大する２段以上の拡大段部を設けたことを特徴とす
る。
【００１１】本発明の請求項４に係る調温装置が採用し
た主たる手段は、請求項１，２または３のうちの何れか
一つの項に記載の調温装置において、前記冷却ガス噴射
手段を、冷却ガスが前記調温塔の内壁に沿う下向き旋回
ガス流になるように、この調温塔の内壁の斜め下方向に
向かって冷却ガスを噴射する向きに配設したことを特徴
とする。
た主たる手段は、請求項１，２または３のうちの何れか
一つの項に記載の調温装置において、前記冷却ガス噴射
手段を、冷却ガスが前記調温塔の内壁に沿う下向き旋回
ガス流になるように、この調温塔の内壁の斜め下方向に
向かって冷却ガスを噴射する向きに配設したことを特徴
とする。
【００１２】本発明の請求項５に係る調温装置が採用し
た主たる手段は、請求項３または４のうちの何れか一つ
の項に記載の調温装置おいて、２段以上の前記拡大段部
に設けられた冷却ガス噴射手段のうち、上段の拡大段部
に設けられた冷却ガス噴射手段から、下段の拡大段部に
設けられた冷却ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスが噴
射されるように構成したことを特徴とする。
た主たる手段は、請求項３または４のうちの何れか一つ
の項に記載の調温装置おいて、２段以上の前記拡大段部
に設けられた冷却ガス噴射手段のうち、上段の拡大段部
に設けられた冷却ガス噴射手段から、下段の拡大段部に
設けられた冷却ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスが噴
射されるように構成したことを特徴とする。
【００１３】本発明の請求項６に係る調温装置が採用し
た主たる手段は、請求項１，２，３，４または５のうち
の何れか一つの項に記載の調温装置おいて、調温されて
排出される排ガスの量と温度とが一定になるように、前
記冷却水の噴霧量を調整する冷却水噴霧量制御手段と、
前記冷却ガスの噴射量を調整する冷却ガス噴射量制御手
段とを設けたことを特徴とする。
た主たる手段は、請求項１，２，３，４または５のうち
の何れか一つの項に記載の調温装置おいて、調温されて
排出される排ガスの量と温度とが一定になるように、前
記冷却水の噴霧量を調整する冷却水噴霧量制御手段と、
前記冷却ガスの噴射量を調整する冷却ガス噴射量制御手
段とを設けたことを特徴とする。
【００１４】本発明の請求項７に係る調温装置が採用し
た主たる手段は、請求項１，２，３，４または５のうち
の何れか一つの項に記載の調温装置おいて、調温されて
排出される排ガスの温度と水分含有量とが一定になるよ
うに、前記冷却水の噴霧量を調整する冷却水噴霧量制御
手段と、前記冷却ガスの噴射量を調整する冷却ガス噴射
量制御手段とを設けたことを特徴とする。
た主たる手段は、請求項１，２，３，４または５のうち
の何れか一つの項に記載の調温装置おいて、調温されて
排出される排ガスの温度と水分含有量とが一定になるよ
うに、前記冷却水の噴霧量を調整する冷却水噴霧量制御
手段と、前記冷却ガスの噴射量を調整する冷却ガス噴射
量制御手段とを設けたことを特徴とする。
【００１５】本発明の請求項８に係る調温装置が採用し
た主たる手段は、請求項２，３，４，５，６または７の
うちの何れか一つの項に記載の調温装置おいて、前記排
ガス導入ダクトの前記高温ガス発生源と前記ガス吹込手
段との間を、逆Ｖ字状に屈曲形成したことを特徴とす
る。
た主たる手段は、請求項２，３，４，５，６または７の
うちの何れか一つの項に記載の調温装置おいて、前記排
ガス導入ダクトの前記高温ガス発生源と前記ガス吹込手
段との間を、逆Ｖ字状に屈曲形成したことを特徴とす
る。
【００１６】本発明の請求項９に係る調温装置が採用し
た主たる手段は、請求項２，３，４，５，６，７または
８のうちの何れか一つの項に記載の調温装置おいて、前
記高温ガス発生源が、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の
酸化金属や酸化金属を含む廃棄物を原料として高温で還
元し、または還元・溶融して還元鉄等を製造する還元金
属製造設備であることを特徴とする。
た主たる手段は、請求項２，３，４，５，６，７または
８のうちの何れか一つの項に記載の調温装置おいて、前
記高温ガス発生源が、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の
酸化金属や酸化金属を含む廃棄物を原料として高温で還
元し、または還元・溶融して還元鉄等を製造する還元金
属製造設備であることを特徴とする。
【００１７】本発明の請求項１０に係る高温排ガスの調
温方法の要旨は、下段側になるほど径が拡大する２以上
の拡大段部を備えた調温塔内に、高温ガス発生源から排
出される高温排ガスを排ガス導入ダクトを介して上部に
設けたガス吹込口から吹込み、吹込まれた高温排ガスを
適切な温度になるように調温した後、下部排出ダクトか
ら後工程側に排出する高温排ガスの調温方法であって、
前記調温塔の上部から前記高温排ガスのガス流のほぼ中
心に向かって冷却水を噴霧し、前記調温塔の拡大段部の
上段側に設けた冷却ガス噴射手段から、下段側に設けた
冷却ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスを、この調温塔
の内壁に沿う旋回ガス流になるように斜め下方に噴射す
ると共に、調温されて前記下部排出ダクトから排出され
る排ガスの量と温度とが一定になるように、前記冷却ガ
スの噴射量と冷却水の噴霧量とを調整することを特徴と
する。
温方法の要旨は、下段側になるほど径が拡大する２以上
の拡大段部を備えた調温塔内に、高温ガス発生源から排
出される高温排ガスを排ガス導入ダクトを介して上部に
設けたガス吹込口から吹込み、吹込まれた高温排ガスを
適切な温度になるように調温した後、下部排出ダクトか
ら後工程側に排出する高温排ガスの調温方法であって、
前記調温塔の上部から前記高温排ガスのガス流のほぼ中
心に向かって冷却水を噴霧し、前記調温塔の拡大段部の
上段側に設けた冷却ガス噴射手段から、下段側に設けた
冷却ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスを、この調温塔
の内壁に沿う旋回ガス流になるように斜め下方に噴射す
ると共に、調温されて前記下部排出ダクトから排出され
る排ガスの量と温度とが一定になるように、前記冷却ガ
スの噴射量と冷却水の噴霧量とを調整することを特徴と
する。
【００１８】本発明の請求項１１に係る高温排ガスの調
温方法の要旨は、下段側になるほど径が拡大する２以上
の拡大段部を備えた調温塔内に、高温ガス発生源から排
出される高温排ガスを排ガス導入ダクトを介して上部に
設けたガス吹込口から吹込み、吹込まれた高温排ガスを
適切な温度になるように調温した後、下部排出ダクトか
ら後工程側に排出する高温排ガスの調温方法であって、
前記調温塔の上部から前記高温排ガスのガス流のほぼ中
心に向かって冷却水を噴霧し、前記調温塔の拡大段部の
上段側に設けた冷却ガス噴射手段から、下段側に設けた
冷却ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスを、この冷却塔
本体の内壁に沿う旋回ガス流になるように斜め下方に噴
射すると共に、調温されて前記下部排出ダクトから排出
される排ガスの温度と水分含有量とが一定になるよう
に、前記冷却ガスの噴射量と冷却水の噴霧量とを調整す
ることを特徴とする。
温方法の要旨は、下段側になるほど径が拡大する２以上
の拡大段部を備えた調温塔内に、高温ガス発生源から排
出される高温排ガスを排ガス導入ダクトを介して上部に
設けたガス吹込口から吹込み、吹込まれた高温排ガスを
適切な温度になるように調温した後、下部排出ダクトか
ら後工程側に排出する高温排ガスの調温方法であって、
前記調温塔の上部から前記高温排ガスのガス流のほぼ中
心に向かって冷却水を噴霧し、前記調温塔の拡大段部の
上段側に設けた冷却ガス噴射手段から、下段側に設けた
冷却ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスを、この冷却塔
本体の内壁に沿う旋回ガス流になるように斜め下方に噴
射すると共に、調温されて前記下部排出ダクトから排出
される排ガスの温度と水分含有量とが一定になるよう
に、前記冷却ガスの噴射量と冷却水の噴霧量とを調整す
ることを特徴とする。
【００１９】本発明の請求項１２に係る高温排ガスの調
温方法の要旨は、請求項１０または１１のうちの何れか
一つの項に記載の高温排ガスの調温方法おいて、前記ガ
ス吹込口から前記調温塔内に高温ガス発生源から排出さ
れる高温排ガスを吹込むに際して、一旦斜め上方に上昇
させると共に、途中において斜め下方に下降させること
を特徴とする。
温方法の要旨は、請求項１０または１１のうちの何れか
一つの項に記載の高温排ガスの調温方法おいて、前記ガ
ス吹込口から前記調温塔内に高温ガス発生源から排出さ
れる高温排ガスを吹込むに際して、一旦斜め上方に上昇
させると共に、途中において斜め下方に下降させること
を特徴とする。
【００２０】本発明の請求項１３に係る高温排ガスの調
温方法の要旨は、請求項１０，１１または１２のうちの
何れか一つの項に記載の高温排ガスの調温方法におい
て、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化金属や酸化金
属を含む廃棄物を原料として高温で還元し、または還元
・溶融して還元鉄等を製造する還元金属製造設備である
高温ガス発生源から排出される高温排ガスを、前記ガス
吹込口から前記調温塔内に吹込むことを特徴とする。
温方法の要旨は、請求項１０，１１または１２のうちの
何れか一つの項に記載の高温排ガスの調温方法におい
て、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化金属や酸化金
属を含む廃棄物を原料として高温で還元し、または還元
・溶融して還元鉄等を製造する還元金属製造設備である
高温ガス発生源から排出される高温排ガスを、前記ガス
吹込口から前記調温塔内に吹込むことを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の高温排ガスの調温
方法を実現する実施の形態に係る調温装置の構成を、そ
の主要部側面断面図の図１と、図１のＡ部詳細図の図２
（ａ）と、図２（ａ）のＢ−Ｂ線断面図の図２（ｂ）
と、図１のＣ部詳細図の図２（ｃ）と、図２（ｃ）のＤ
−Ｄ線断面図の図２（ｄ）と、その排ガス導入ダクトの
側面図の図３とを参照しながら説明する。
方法を実現する実施の形態に係る調温装置の構成を、そ
の主要部側面断面図の図１と、図１のＡ部詳細図の図２
（ａ）と、図２（ａ）のＢ−Ｂ線断面図の図２（ｂ）
と、図１のＣ部詳細図の図２（ｃ）と、図２（ｃ）のＤ
−Ｄ線断面図の図２（ｄ）と、その排ガス導入ダクトの
側面図の図３とを参照しながら説明する。
【００２２】図１に示す符号１は調温装置で、この調温
装置１は、主として上下に長い段付き円胴状の調温塔２
と、この調温塔２の上部に設けられたガス吹込み口２ａ
に接続され、図示しない高温ガス発生源から排出された
高温排ガスを、この調温塔２内に流入させる排ガス導入
ダクト３と、この調温塔２の底面側に開口し、この調温
塔２の胴壁を貫通して斜め上方に延び、適切な温度にな
るように調温された排ガスを、後工程側、例えば図示し
ないボイラーやバグフィルターに送り出すために排出す
る下部排出ダクト４とから構成されている。
装置１は、主として上下に長い段付き円胴状の調温塔２
と、この調温塔２の上部に設けられたガス吹込み口２ａ
に接続され、図示しない高温ガス発生源から排出された
高温排ガスを、この調温塔２内に流入させる排ガス導入
ダクト３と、この調温塔２の底面側に開口し、この調温
塔２の胴壁を貫通して斜め上方に延び、適切な温度にな
るように調温された排ガスを、後工程側、例えば図示し
ないボイラーやバグフィルターに送り出すために排出す
る下部排出ダクト４とから構成されている。
【００２３】前記調温塔２は、上記のとおり、段付き円
胴状に形成されているが、図１、図２（ａ），（ｂ），
（ｃ），（ｄ）の各図から良く理解されるように、上端
部より若干下側に、第１拡大段部２１が形成されると共
に、この第１拡大段部２１の下方であって、かつ上下方
向の中程よりも上方位置に、第１拡大段部２１よりも大
径の第２拡大段部２２が形成されている。前記第１拡大
段部２１の上側の小径部の外周部には、斜め下方に向か
って延び、この小径部を貫通して、前記ガス吹込み口２
ａから吹込まれる高温排ガスのガス流の中心に向かって
冷却水を噴霧する複数の冷却水噴霧ノズル５が設けられ
ている。これら冷却水噴霧ノズル５の噴霧口を高温排ガ
スのガス流のほぼ中心、かつ斜め下方に向けたのは、後
述する冷却ガスのガス流を乱さないようにすることを狙
いとしたものである。なお、本実施の形態においては、
これら冷却水噴霧ノズル５の噴霧口の向きは、斜め下方
約４５度に設定されている。
胴状に形成されているが、図１、図２（ａ），（ｂ），
（ｃ），（ｄ）の各図から良く理解されるように、上端
部より若干下側に、第１拡大段部２１が形成されると共
に、この第１拡大段部２１の下方であって、かつ上下方
向の中程よりも上方位置に、第１拡大段部２１よりも大
径の第２拡大段部２２が形成されている。前記第１拡大
段部２１の上側の小径部の外周部には、斜め下方に向か
って延び、この小径部を貫通して、前記ガス吹込み口２
ａから吹込まれる高温排ガスのガス流の中心に向かって
冷却水を噴霧する複数の冷却水噴霧ノズル５が設けられ
ている。これら冷却水噴霧ノズル５の噴霧口を高温排ガ
スのガス流のほぼ中心、かつ斜め下方に向けたのは、後
述する冷却ガスのガス流を乱さないようにすることを狙
いとしたものである。なお、本実施の形態においては、
これら冷却水噴霧ノズル５の噴霧口の向きは、斜め下方
約４５度に設定されている。
【００２４】前記第１拡大段部２１の環状平面には、調
温塔２の内壁に沿い、斜め下方向きの旋回ガス流になる
接線方向から冷却ガスを噴射する複数の第１段冷却ガス
噴射ノズル６が設けられると共に、前記第２拡大段部２
２の環状平面には、調温塔２の内壁に沿い、斜め下方向
きの旋回ガス流になる接線方向から冷却ガスを噴射する
前記第１段冷却ガス噴射ノズル６と同構成になる複数の
第２段冷却ガス噴射ノズル７が設けられている。つま
り、冷却ガスを調温塔２の内壁に沿う下向きの旋回ガス
流とし、調温塔２の内壁への高温排ガスの直接接触を防
止すると共に、固化した揮発・溶融ダスト成分を吹き飛
ばすことにより、調温塔２の内壁へのダスト等の付着防
止を狙いとしたものである。勿論、高温排ガスや揮発・
溶融ダスト成分は、この冷却ガスによっても冷却・固化
される。
温塔２の内壁に沿い、斜め下方向きの旋回ガス流になる
接線方向から冷却ガスを噴射する複数の第１段冷却ガス
噴射ノズル６が設けられると共に、前記第２拡大段部２
２の環状平面には、調温塔２の内壁に沿い、斜め下方向
きの旋回ガス流になる接線方向から冷却ガスを噴射する
前記第１段冷却ガス噴射ノズル６と同構成になる複数の
第２段冷却ガス噴射ノズル７が設けられている。つま
り、冷却ガスを調温塔２の内壁に沿う下向きの旋回ガス
流とし、調温塔２の内壁への高温排ガスの直接接触を防
止すると共に、固化した揮発・溶融ダスト成分を吹き飛
ばすことにより、調温塔２の内壁へのダスト等の付着防
止を狙いとしたものである。勿論、高温排ガスや揮発・
溶融ダスト成分は、この冷却ガスによっても冷却・固化
される。
【００２５】ところで、この実施の形態１においては、
上記のとおり、上下位置関係を有する第１段冷却ガス噴
射ノズル６と、第２段冷却ガス噴射ノズル７とが設けら
れている。しかしながら、この第２段冷却ガス噴射ノズ
ル７の下方位置に第１拡大段部を設け、この第１拡大段
部の環状平面に複数の第３段冷却ガス噴射ノズルを設け
ることができる。しかも、冷却ガス噴射ノズルの配設段
数を多くすることにより、高温排ガスと冷却ガスとが混
合し難くなるという効果が得られるから、冷却ガス噴射
ノズルの配設段数に限定されるものではない。
上記のとおり、上下位置関係を有する第１段冷却ガス噴
射ノズル６と、第２段冷却ガス噴射ノズル７とが設けら
れている。しかしながら、この第２段冷却ガス噴射ノズ
ル７の下方位置に第１拡大段部を設け、この第１拡大段
部の環状平面に複数の第３段冷却ガス噴射ノズルを設け
ることができる。しかも、冷却ガス噴射ノズルの配設段
数を多くすることにより、高温排ガスと冷却ガスとが混
合し難くなるという効果が得られるから、冷却ガス噴射
ノズルの配設段数に限定されるものではない。
【００２６】前記調温塔２の底部には、周知の構成にな
るサイクロ減速機８の作動によってこの調温塔２の底部
の径中心を回転中心として回転して、この底部に付着し
たり、溜まったりしているダスト等を掻き取ると共に掻
き寄せて、この底部に開口するダスト排出口２ｂからこ
の調温塔２の外部に排出させるためのダストスクレーパ
９が設けられている。
るサイクロ減速機８の作動によってこの調温塔２の底部
の径中心を回転中心として回転して、この底部に付着し
たり、溜まったりしているダスト等を掻き取ると共に掻
き寄せて、この底部に開口するダスト排出口２ｂからこ
の調温塔２の外部に排出させるためのダストスクレーパ
９が設けられている。
【００２７】前記排ガス導入ダクト３は、高温ガス発生
源、例えば、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化金属
や酸化金属を含む廃棄物を原料として高温で還元し、ま
たは還元・溶融して還元鉄等を製造する図示しない還元
金属製造設備等の高温ガス発生源から排出され、揮発成
分や溶融ダストを含む高温排ガスを前記ガス吹込み口２
ａに導くものであるが、この排ガス導入ダクト３は、図
３に示すように、逆Ｖ字状に屈曲形成されている。
源、例えば、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化金属
や酸化金属を含む廃棄物を原料として高温で還元し、ま
たは還元・溶融して還元鉄等を製造する図示しない還元
金属製造設備等の高温ガス発生源から排出され、揮発成
分や溶融ダストを含む高温排ガスを前記ガス吹込み口２
ａに導くものであるが、この排ガス導入ダクト３は、図
３に示すように、逆Ｖ字状に屈曲形成されている。
【００２８】具体的には、この排ガス導入ダクト３は、
高温排ガスが流入する上流側が低く、流入する高温排ガ
スを斜め上方に上昇させる斜め上向きの上昇ダクト部３
１と、この上昇ダクト部３１の上端部に連なり、上部に
マンホール３２ａが設けられてなる水平ダクト部３２
と、この水平ダクト部３２の反上昇ダクト部３１側の端
部に連なり、先端部に前記ガス吹込み口２ａに接続され
る垂直ダクト部３３ａを有し、斜め下方に高温排ガスを
下降させる斜め下向きの下降ダクト部３３とから構成さ
れている。つまり、この排ガス導入ダクト３は、高温ガ
ス発生源と前記ガス吹込口との間が高い台形山形状に屈
曲形成されている。ところで、この排ガス導入ダクト３
には水平ダクト部３２が設けられているが、完全な逆Ｖ
字状に製造することが困難であるからに過ぎない。
高温排ガスが流入する上流側が低く、流入する高温排ガ
スを斜め上方に上昇させる斜め上向きの上昇ダクト部３
１と、この上昇ダクト部３１の上端部に連なり、上部に
マンホール３２ａが設けられてなる水平ダクト部３２
と、この水平ダクト部３２の反上昇ダクト部３１側の端
部に連なり、先端部に前記ガス吹込み口２ａに接続され
る垂直ダクト部３３ａを有し、斜め下方に高温排ガスを
下降させる斜め下向きの下降ダクト部３３とから構成さ
れている。つまり、この排ガス導入ダクト３は、高温ガ
ス発生源と前記ガス吹込口との間が高い台形山形状に屈
曲形成されている。ところで、この排ガス導入ダクト３
には水平ダクト部３２が設けられているが、完全な逆Ｖ
字状に製造することが困難であるからに過ぎない。
【００２９】なお、前記排ガス導入ダクト３を、上記の
ように台形山形状に屈曲形成したのは、この排ガス導入
ダクト３の曲部により高温排ガスのガス流の慣性力を抑
えることにより、調温塔２に吹込まれた時の高温排ガス
およびダストの偏流を防止して、調温塔２の内壁に沿う
冷却ガスの下向きの旋回ガス流の乱れを少なくすること
を狙いとしたものである。この排ガス導入ダクト３を上
記のような構成にすることにより、例え揮発が凝固して
沈降し、溶融ダスト成分が沈降したとしても、排ガス導
入ダクト３の内壁に堆積するのが防止され、高温排ガス
の流れが阻害されなくなるという効果もある。
ように台形山形状に屈曲形成したのは、この排ガス導入
ダクト３の曲部により高温排ガスのガス流の慣性力を抑
えることにより、調温塔２に吹込まれた時の高温排ガス
およびダストの偏流を防止して、調温塔２の内壁に沿う
冷却ガスの下向きの旋回ガス流の乱れを少なくすること
を狙いとしたものである。この排ガス導入ダクト３を上
記のような構成にすることにより、例え揮発が凝固して
沈降し、溶融ダスト成分が沈降したとしても、排ガス導
入ダクト３の内壁に堆積するのが防止され、高温排ガス
の流れが阻害されなくなるという効果もある。
【００３０】また、前記排ガス導入ダクト３の内周面は
耐火物３ａによって覆われている。つまり、この排ガス
導入ダクト３内を流れる高温排ガスの温度の低下を防止
することによって、高温排ガス中に含まれている揮発成
分や溶融ダスト成分を固化させることなく、気化状態も
しくは溶融状態のまま調温塔２内に導くように配慮され
ている。
耐火物３ａによって覆われている。つまり、この排ガス
導入ダクト３内を流れる高温排ガスの温度の低下を防止
することによって、高温排ガス中に含まれている揮発成
分や溶融ダスト成分を固化させることなく、気化状態も
しくは溶融状態のまま調温塔２内に導くように配慮され
ている。
【００３１】さらに、このような構成になる調温塔２の
下部排出ダクト４には、図示省略しているが、この下部
排出ダクト４から排出される調温された排ガスの流量を
測定するガス流量計と、温度を検出する温度計とが取付
けられている。そして、調温された排ガスの流量と温度
とが共に一定になるように、前記ガス流量計および温度
計からの検出信号に基づいて、冷却水の噴霧量を調整す
る冷却水調整弁の開度を制御する冷却水噴霧量制御手段
である冷却水量制御装置と、冷却ガスの噴射量を調整す
るガス調整弁の開度を制御する冷却ガス噴射量制御手段
であるガス量制御装置が設けられている。なお、水分検
出器を設け、調温された排ガスの温度と水分含有量とが
一定になるように、冷却水調整弁およびガス調整弁との
開度を調整するように構成しても良い。
下部排出ダクト４には、図示省略しているが、この下部
排出ダクト４から排出される調温された排ガスの流量を
測定するガス流量計と、温度を検出する温度計とが取付
けられている。そして、調温された排ガスの流量と温度
とが共に一定になるように、前記ガス流量計および温度
計からの検出信号に基づいて、冷却水の噴霧量を調整す
る冷却水調整弁の開度を制御する冷却水噴霧量制御手段
である冷却水量制御装置と、冷却ガスの噴射量を調整す
るガス調整弁の開度を制御する冷却ガス噴射量制御手段
であるガス量制御装置が設けられている。なお、水分検
出器を設け、調温された排ガスの温度と水分含有量とが
一定になるように、冷却水調整弁およびガス調整弁との
開度を調整するように構成しても良い。
【００３２】ところで、冷却ガスの噴射だけで同じ温度
まで冷却する場合、そのままの噴射量では高温排ガスの
量が増すため、冷却ガスの噴射量を多くする必要があ
り、下部排出ダクトから排出される排ガスの排出量が冷
却ガスの噴射量に比例して多くなる反面、排ガスには高
い顕熱があるので、熱回収するには好まれる。また、冷
却水の噴霧だけで同じ温度まで冷却する場合、同様に冷
却水の噴霧量を多くする必要があり、下部排出ダクトか
ら排出される排ガス中の水分量が冷却水の噴霧量に比例
して多くなるので、酸等による腐食トラブルを招き、排
ガスの顕熱が低いので熱回収には好まれない。
まで冷却する場合、そのままの噴射量では高温排ガスの
量が増すため、冷却ガスの噴射量を多くする必要があ
り、下部排出ダクトから排出される排ガスの排出量が冷
却ガスの噴射量に比例して多くなる反面、排ガスには高
い顕熱があるので、熱回収するには好まれる。また、冷
却水の噴霧だけで同じ温度まで冷却する場合、同様に冷
却水の噴霧量を多くする必要があり、下部排出ダクトか
ら排出される排ガス中の水分量が冷却水の噴霧量に比例
して多くなるので、酸等による腐食トラブルを招き、排
ガスの顕熱が低いので熱回収には好まれない。
【００３３】しかしながら、本実施の形態に係る調温装
置１によれば、冷却水の噴霧と冷却ガスの噴射との相乗
作用によって高温排ガスを冷却して調温する構成のた
め、ボイラーや予熱器等の後工程の設備構成や熱回収量
等によって、適正に排ガスの温度、排ガス中の水分量を
調整することができる。例えば、熱回収量が少なくて良
い場合や酸露点の低い排ガスを処理する場合には、冷却
水の噴霧量を多くする一方、冷却ガスの噴射量を少なく
することにより、容易に排ガスの温度を一定に調整する
ことができるので、熱回収側の排ガス温度を適正に保つ
ことができる。また、上記とは逆に、熱回収量を多く必
要とする場合や酸露点の高い排ガスを処理する場合に
は、冷却水の噴霧量を少なくすると共に、冷却ガスの噴
射量を多くすれば良いものである。さらに、調温された
排ガスの温度と水分含有量とが一定になるように制御す
る場合には、総排ガス量に見合った量の冷却水を噴霧
し、残りを冷却ガスにより補うようにすれば良い。
置１によれば、冷却水の噴霧と冷却ガスの噴射との相乗
作用によって高温排ガスを冷却して調温する構成のた
め、ボイラーや予熱器等の後工程の設備構成や熱回収量
等によって、適正に排ガスの温度、排ガス中の水分量を
調整することができる。例えば、熱回収量が少なくて良
い場合や酸露点の低い排ガスを処理する場合には、冷却
水の噴霧量を多くする一方、冷却ガスの噴射量を少なく
することにより、容易に排ガスの温度を一定に調整する
ことができるので、熱回収側の排ガス温度を適正に保つ
ことができる。また、上記とは逆に、熱回収量を多く必
要とする場合や酸露点の高い排ガスを処理する場合に
は、冷却水の噴霧量を少なくすると共に、冷却ガスの噴
射量を多くすれば良いものである。さらに、調温された
排ガスの温度と水分含有量とが一定になるように制御す
る場合には、総排ガス量に見合った量の冷却水を噴霧
し、残りを冷却ガスにより補うようにすれば良い。
【００３４】ところで、亜硫酸ガス（ＳＯ3 ）等の低温
腐食ガスを含む高温排ガスを排出する高温ガス発生源が
ある。このような高温ガス発生源から排出される高温排
ガスを調温する場合には、冷却ガスの噴射量を増やすと
共に、冷却水の噴霧量を減らして酸露点を低く抑えるこ
とにより、効率的な熱回収が可能になる。つまり、酸露
点は、排ガスに含まれている水分量と低温腐食ガス量と
によって決まり、水分量または低温腐食ガス量が少なく
なると低くなる。そこで、冷却水の噴霧量を減らして酸
露点を低く抑えれば、熱交換器の伝熱面表面の最低温度
の規制（低温酸腐食を防ぐため。）が低くなり、例えば
完全対向流式の伝熱効率が優れた熱交換器を採用するこ
とがが可能になるからである。
腐食ガスを含む高温排ガスを排出する高温ガス発生源が
ある。このような高温ガス発生源から排出される高温排
ガスを調温する場合には、冷却ガスの噴射量を増やすと
共に、冷却水の噴霧量を減らして酸露点を低く抑えるこ
とにより、効率的な熱回収が可能になる。つまり、酸露
点は、排ガスに含まれている水分量と低温腐食ガス量と
によって決まり、水分量または低温腐食ガス量が少なく
なると低くなる。そこで、冷却水の噴霧量を減らして酸
露点を低く抑えれば、熱交換器の伝熱面表面の最低温度
の規制（低温酸腐食を防ぐため。）が低くなり、例えば
完全対向流式の伝熱効率が優れた熱交換器を採用するこ
とがが可能になるからである。
【００３５】また、低温腐食性ガスを含まない高温排ガ
スを調温する場合には、冷却水の噴霧量を多くし、冷却
ガスの噴射量を少なくすることにより、下部排出ノズル
から排出される調温された排ガスの排出量を少なくする
ことができる。つまり、低温腐食を恐れる必要がないか
ら、酸露点を低くするために冷却ガスの噴射量を多くす
る必要がなく、冷却水の蒸発潜熱を活用することにより
冷却ガスの噴射量を少なくすることが可能になるからで
ある。
スを調温する場合には、冷却水の噴霧量を多くし、冷却
ガスの噴射量を少なくすることにより、下部排出ノズル
から排出される調温された排ガスの排出量を少なくする
ことができる。つまり、低温腐食を恐れる必要がないか
ら、酸露点を低くするために冷却ガスの噴射量を多くす
る必要がなく、冷却水の蒸発潜熱を活用することにより
冷却ガスの噴射量を少なくすることが可能になるからで
ある。
【００３６】以下、本実施の形態に係る調温装置１の作
用態様を説明すると、高温ガス発生源から排出され、揮
発成分や溶融ダストを含む高温排ガスが排ガス導入ダク
ト３を介して調温塔２の上部に設けられたガス吹込み口
２ａから、耐火物３ａの断熱効果により溶融ダストを固
化させない所定以上の温度を保持しながら調温塔２内に
吹込まれるが、上記のとおり、排ガス導入ダクト３は台
形山形状に屈曲形成されていて、高温排ガスの慣性力が
抑えられ、そして偏流することなく調温塔２内に吹込ま
れる。調温塔２内に吹込まれた高温排ガスは、上部に設
けられた複数の冷却水噴霧ノズル５から噴霧される冷却
水の気化により熱が奪われて温度が低下しながら下降し
て底部に到達すると共に、調温された排ガスが下部排出
ダクト４から後工程側に排出される。
用態様を説明すると、高温ガス発生源から排出され、揮
発成分や溶融ダストを含む高温排ガスが排ガス導入ダク
ト３を介して調温塔２の上部に設けられたガス吹込み口
２ａから、耐火物３ａの断熱効果により溶融ダストを固
化させない所定以上の温度を保持しながら調温塔２内に
吹込まれるが、上記のとおり、排ガス導入ダクト３は台
形山形状に屈曲形成されていて、高温排ガスの慣性力が
抑えられ、そして偏流することなく調温塔２内に吹込ま
れる。調温塔２内に吹込まれた高温排ガスは、上部に設
けられた複数の冷却水噴霧ノズル５から噴霧される冷却
水の気化により熱が奪われて温度が低下しながら下降し
て底部に到達すると共に、調温された排ガスが下部排出
ダクト４から後工程側に排出される。
【００３７】冷却水噴霧ノズル５からの冷却水の噴霧と
平行して第１段・２段冷却ガス噴射ノズル６，７から冷
却ガスが噴射されるが、冷却水は吹込まれた高温排ガス
のガス流のほぼ中心に向かって噴射されるから、噴射さ
れた冷却ガスは噴霧される冷却水により影響を受けるこ
となく下向き旋回ガス流になって、調温塔２の内壁を覆
うこととなる。そして、高温排ガスのガス流の温度は下
降するにつれて低下し、この高温ガス中の揮発・溶融ダ
スト成分が固化するが、冷却ガスの下向き旋回ガス流に
より、排ガスと調温塔２の内壁との直接接触が阻まれる
から、固化した揮発・溶融ダスト成分が調温塔２の内壁
に付着するようなことがなく、そして、例え排ガスが調
温塔２の内壁に接近したとしても、冷却ガスにより揮発
・溶融ダスト成分がさらに冷却されるから、固化した揮
発・溶融ダスト成分が内壁に付着するようなことがな
い。
平行して第１段・２段冷却ガス噴射ノズル６，７から冷
却ガスが噴射されるが、冷却水は吹込まれた高温排ガス
のガス流のほぼ中心に向かって噴射されるから、噴射さ
れた冷却ガスは噴霧される冷却水により影響を受けるこ
となく下向き旋回ガス流になって、調温塔２の内壁を覆
うこととなる。そして、高温排ガスのガス流の温度は下
降するにつれて低下し、この高温ガス中の揮発・溶融ダ
スト成分が固化するが、冷却ガスの下向き旋回ガス流に
より、排ガスと調温塔２の内壁との直接接触が阻まれる
から、固化した揮発・溶融ダスト成分が調温塔２の内壁
に付着するようなことがなく、そして、例え排ガスが調
温塔２の内壁に接近したとしても、冷却ガスにより揮発
・溶融ダスト成分がさらに冷却されるから、固化した揮
発・溶融ダスト成分が内壁に付着するようなことがな
い。
【００３８】上記のとおり、第１段・２段冷却ガス噴射
ノズル６，７が設けられており、大量の高温排ガスを処
理する場合でも、固化した揮発・溶融ダスト成分の調温
塔２の内壁への付着を防止しながら、効果的に高温排ガ
スを冷却することができるから、調温塔２の小型化に寄
与することができる。そして、上段側の第１段冷却ガス
噴射ノズル６から、第段冷却ガス噴射ノズル７よりも多
量の冷却ガスを噴射することにより、一番高温であっ
て、かつ揮発・溶融ダスト成分が多く含まれている吹込
まれた高温排ガスのガス流が流れる調温塔２の上部内壁
部分が大量の冷却ガスで覆われるため、この上部内壁部
分への固化した揮発・溶融ダスト成分の付着が確実に防
止されるのに加えて、安易に排ガスの量を増大させるこ
となく、排ガスの排出量を適切にすることができるか
ら、後工程側の設備の大型化を防止することができる。
ノズル６，７が設けられており、大量の高温排ガスを処
理する場合でも、固化した揮発・溶融ダスト成分の調温
塔２の内壁への付着を防止しながら、効果的に高温排ガ
スを冷却することができるから、調温塔２の小型化に寄
与することができる。そして、上段側の第１段冷却ガス
噴射ノズル６から、第段冷却ガス噴射ノズル７よりも多
量の冷却ガスを噴射することにより、一番高温であっ
て、かつ揮発・溶融ダスト成分が多く含まれている吹込
まれた高温排ガスのガス流が流れる調温塔２の上部内壁
部分が大量の冷却ガスで覆われるため、この上部内壁部
分への固化した揮発・溶融ダスト成分の付着が確実に防
止されるのに加えて、安易に排ガスの量を増大させるこ
となく、排ガスの排出量を適切にすることができるか
ら、後工程側の設備の大型化を防止することができる。
【００３９】さらに、冷却水の噴霧量と冷却ガスの噴射
量との調整により調温された排ガスの流量と温度とが共
に一定になるように調整されるから、後工程において排
ガスを安定的に処理することができるのに加えて、安易
に排ガス量の増大を来すことがなく、排ガスの排出量を
適切にすることができ、後工程側の設備の大型化を防止
することができる。また、調温された排ガスの量と水分
含有量とが一定になるように制御することにより、後工
程において排ガスを安定的に処理することができるのに
加えて、後工程におけるダクトや熱交換器への付着や酸
による腐食が防止される。
量との調整により調温された排ガスの流量と温度とが共
に一定になるように調整されるから、後工程において排
ガスを安定的に処理することができるのに加えて、安易
に排ガス量の増大を来すことがなく、排ガスの排出量を
適切にすることができ、後工程側の設備の大型化を防止
することができる。また、調温された排ガスの量と水分
含有量とが一定になるように制御することにより、後工
程において排ガスを安定的に処理することができるのに
加えて、後工程におけるダクトや熱交換器への付着や酸
による腐食が防止される。
【００４０】例えば、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の
酸化金属や酸化金属を含む廃棄物を原料として高温で還
元し、または還元・溶融して還元鉄等を製造する図示し
ない還元金属製造設備から排出され、揮発成分や溶融ダ
ストが特に大量に含まれている高温排ガスの調温に適用
すると、固化した揮発成分や溶融ダストの付着防止効果
が特に顕著である。
酸化金属や酸化金属を含む廃棄物を原料として高温で還
元し、または還元・溶融して還元鉄等を製造する図示し
ない還元金属製造設備から排出され、揮発成分や溶融ダ
ストが特に大量に含まれている高温排ガスの調温に適用
すると、固化した揮発成分や溶融ダストの付着防止効果
が特に顕著である。
【００４１】つまり、本実施の形態に係る調温装置１に
よれば、高温排ガスをパージガスとして吹込んで旋回さ
せる従来例１よりも、高温排ガスに含まれている揮発成
分や溶融ダストを十分冷却することができ、調温塔の内
壁への付着防止効果が優れている。そして、内壁に沿っ
て水を流下させる構成でなく、冷却水は蒸発して排ガス
と共に排出されるから、水溶性成分を処理する水処理設
備は不必要である。また、高圧流体を噴射する従来例２
のように、高温排ガスに含まれている揮発成分や溶融ダ
ストそのものが調温塔の内壁に付着するようなことがな
い。
よれば、高温排ガスをパージガスとして吹込んで旋回さ
せる従来例１よりも、高温排ガスに含まれている揮発成
分や溶融ダストを十分冷却することができ、調温塔の内
壁への付着防止効果が優れている。そして、内壁に沿っ
て水を流下させる構成でなく、冷却水は蒸発して排ガス
と共に排出されるから、水溶性成分を処理する水処理設
備は不必要である。また、高圧流体を噴射する従来例２
のように、高温排ガスに含まれている揮発成分や溶融ダ
ストそのものが調温塔の内壁に付着するようなことがな
い。
【００４２】また、産業廃棄物の直接溶融炉等、金属を
含むような廃棄物を焼却・溶融処理する設備のように、
鉛、亜鉛等の低融点物質が多く含まれている高温排ガス
に対しても、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化金属
や酸化金属を含む廃棄物を原料として、１０００℃以上
の高温で還元し、または還元・溶融して還元鉄等を得る
還元金属製造設備から排出され、揮発・溶融ダスト成分
を大量に含む高温排ガスに対しても、調温塔の内壁への
ダストの付着を防止しながら、しかも効果的に調温する
ことができる。
含むような廃棄物を焼却・溶融処理する設備のように、
鉛、亜鉛等の低融点物質が多く含まれている高温排ガス
に対しても、石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化金属
や酸化金属を含む廃棄物を原料として、１０００℃以上
の高温で還元し、または還元・溶融して還元鉄等を得る
還元金属製造設備から排出され、揮発・溶融ダスト成分
を大量に含む高温排ガスに対しても、調温塔の内壁への
ダストの付着を防止しながら、しかも効果的に調温する
ことができる。
【００４３】
【実施例】以下、本実施の形態に係る調温装置によっ
て、還元金属製造設備から排出される高温排ガスを調温
した実施例を、その温度分布説明図の図４を参照しなが
ら説明すると、図示しない還元金属製造設備から排出さ
れる高温排ガスには、大量の揮発・溶融ダスト成分
（鉛、亜鉛とその酸化物）が含まれている。そして、こ
の高温排ガスの温度は７００〜１４００℃である。ま
た、調温塔２に吹込む前に、ＣＯを完全燃焼させた高温
排ガスの成分はＣＯ2 ；２０容積％、Ｎ2 ；６７．３容
積％、Ｈ2 Ｏ；１１．８容積％、Ｏ2 ；０．３容積％で
ある。
て、還元金属製造設備から排出される高温排ガスを調温
した実施例を、その温度分布説明図の図４を参照しなが
ら説明すると、図示しない還元金属製造設備から排出さ
れる高温排ガスには、大量の揮発・溶融ダスト成分
（鉛、亜鉛とその酸化物）が含まれている。そして、こ
の高温排ガスの温度は７００〜１４００℃である。ま
た、調温塔２に吹込む前に、ＣＯを完全燃焼させた高温
排ガスの成分はＣＯ2 ；２０容積％、Ｎ2 ；６７．３容
積％、Ｈ2 Ｏ；１１．８容積％、Ｏ2 ；０．３容積％で
ある。
【００４４】このような高温排ガスは、後工程の機器の
種類によって３５０〜６００℃に調温される。より具体
的には、熱回収量が少なくて良い場合やダストの融点／
軟化点が低い場合、下部排出ダクト４から排出される排
ガスを通常のバグフィルターで処理する場合等では３５
０℃の低温側の温度になるように、また多量の熱回収が
必要な場合やダストの融点／軟化点が高い場合、ボイラ
ーへの供給や高温バグフィルターで処理する場合等では
６００℃の高温側の温度になるように調温されるもので
ある。
種類によって３５０〜６００℃に調温される。より具体
的には、熱回収量が少なくて良い場合やダストの融点／
軟化点が低い場合、下部排出ダクト４から排出される排
ガスを通常のバグフィルターで処理する場合等では３５
０℃の低温側の温度になるように、また多量の熱回収が
必要な場合やダストの融点／軟化点が高い場合、ボイラ
ーへの供給や高温バグフィルターで処理する場合等では
６００℃の高温側の温度になるように調温されるもので
ある。
【００４５】冷却ガスとしては、下部排出ダクト４から
排出される調温された排ガスの温度以下、または揮発・
溶融ダスト成分の軟化点／溶融点以下であれば良く、揮
発・溶融ダスト成分を含まないものである。例えば、空
気、窒素、不活性ガスや前記下部排出ダクト４から排出
され、バグフィルターで処理されたガスを用いることが
でき、また高温ガス発生源が還元金属製造設備や廃棄物
処理設備であれば原料乾燥工程から排出されるガスを冷
却ガスとして用いることができ、さらに焼却炉、溶融炉
や還元金属製造設備や廃棄物処理設備等に用いられる燃
焼用空気や２次燃焼用空気等を冷却ガスとして用いるこ
とができる。
排出される調温された排ガスの温度以下、または揮発・
溶融ダスト成分の軟化点／溶融点以下であれば良く、揮
発・溶融ダスト成分を含まないものである。例えば、空
気、窒素、不活性ガスや前記下部排出ダクト４から排出
され、バグフィルターで処理されたガスを用いることが
でき、また高温ガス発生源が還元金属製造設備や廃棄物
処理設備であれば原料乾燥工程から排出されるガスを冷
却ガスとして用いることができ、さらに焼却炉、溶融炉
や還元金属製造設備や廃棄物処理設備等に用いられる燃
焼用空気や２次燃焼用空気等を冷却ガスとして用いるこ
とができる。
【００４６】この実施例では、冷却ガスとして常温の空
気を用い、第１段冷却ガス噴射ノズル６から３７０ｍ3
／ｍｉｎの空気を２０ｍ／ｓの流速で、また第２段冷却
ガス噴射ノズル７から３５０ｍ3 ／ｍｉｎの空気を２０
ｍ／ｓの流速で噴射すると共に、冷却水噴霧ノズル５か
ら６５ｄｍ3 ／ｍｉｎの冷却水を噴霧した。その結果、
排ガス導入ダクト３に流入する１１３３℃の高温排ガス
が効果的に調温されて、下部排出ダクト４から４５０℃
の調温された排ガスが排出された。第１段冷却ガス噴射
ノズル６や第２段冷却ガス噴射ノズル７から噴射されて
旋回ガス流になっている調温塔２の内壁に近接した部分
は上下に渡り高温排ガスがそれぞれ効果的に冷却され
て、４００〜４２０℃になっており、しかも冷却空気の
下向きの旋回ガス流が乱れていないことが示されてい
る。なお、冷却ガスの噴射速度は１８ｍ／ｓ以上が好ま
しく、より好ましくは２０ｍ／ｓ以上である。
気を用い、第１段冷却ガス噴射ノズル６から３７０ｍ3
／ｍｉｎの空気を２０ｍ／ｓの流速で、また第２段冷却
ガス噴射ノズル７から３５０ｍ3 ／ｍｉｎの空気を２０
ｍ／ｓの流速で噴射すると共に、冷却水噴霧ノズル５か
ら６５ｄｍ3 ／ｍｉｎの冷却水を噴霧した。その結果、
排ガス導入ダクト３に流入する１１３３℃の高温排ガス
が効果的に調温されて、下部排出ダクト４から４５０℃
の調温された排ガスが排出された。第１段冷却ガス噴射
ノズル６や第２段冷却ガス噴射ノズル７から噴射されて
旋回ガス流になっている調温塔２の内壁に近接した部分
は上下に渡り高温排ガスがそれぞれ効果的に冷却され
て、４００〜４２０℃になっており、しかも冷却空気の
下向きの旋回ガス流が乱れていないことが示されてい
る。なお、冷却ガスの噴射速度は１８ｍ／ｓ以上が好ま
しく、より好ましくは２０ｍ／ｓ以上である。
【００４７】また、還元金属製造設備から排出される高
温排ガス中に、０〜２容積％程度のＣＯが含まれている
場合であっても、第１段・２段冷却ガス噴射ノズル６，
７から噴射される常温の空気により燃焼し、可燃性ガス
が大気中に放出されるようなことがなく、環境汚染防止
に対しても優れていることが判った。
温排ガス中に、０〜２容積％程度のＣＯが含まれている
場合であっても、第１段・２段冷却ガス噴射ノズル６，
７から噴射される常温の空気により燃焼し、可燃性ガス
が大気中に放出されるようなことがなく、環境汚染防止
に対しても優れていることが判った。
【００４８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の請求項１乃
至９に係る調温装置または請求項１０乃至１３に係る高
温排ガスの調温方法によれば、調温塔に吹込まれる高温
排ガスのガス流のほぼ中心に向かって冷却水が噴霧され
ると共に、調温塔の内壁に沿って冷却ガスが噴射される
ので、高温排ガスや揮発・溶融ダストが効果的に冷却さ
れて、揮発・溶融ダストは固化する。しかしながら、冷
却水の噴霧により乱されることなく調温塔の内壁に沿っ
て流れる冷却ガスのガス流によって調温塔の内壁が高温
排ガスから遮られていて、固化した揮発・溶融ダスト
が、例え調温塔の内壁に付着しようとしても冷却ガスの
ガス流により吹き飛ばされ、内壁面にしないばかりか、
または既に揮発・溶融ダストが固化しているので、調温
塔の内壁に付着するようなことがない。
至９に係る調温装置または請求項１０乃至１３に係る高
温排ガスの調温方法によれば、調温塔に吹込まれる高温
排ガスのガス流のほぼ中心に向かって冷却水が噴霧され
ると共に、調温塔の内壁に沿って冷却ガスが噴射される
ので、高温排ガスや揮発・溶融ダストが効果的に冷却さ
れて、揮発・溶融ダストは固化する。しかしながら、冷
却水の噴霧により乱されることなく調温塔の内壁に沿っ
て流れる冷却ガスのガス流によって調温塔の内壁が高温
排ガスから遮られていて、固化した揮発・溶融ダスト
が、例え調温塔の内壁に付着しようとしても冷却ガスの
ガス流により吹き飛ばされ、内壁面にしないばかりか、
または既に揮発・溶融ダストが固化しているので、調温
塔の内壁に付着するようなことがない。
【００４９】従って、高温排ガスをパージガスとして吹
込んで旋回させる従来例１よりも、高温排ガスに含まれ
ている揮発成分や溶融ダストを十分冷却することがで
き、調温塔の内壁への付着防止効果が優れている。そし
て、内壁に沿って水を流下させる構成でなく、冷却水は
蒸発して排ガスと共に排出されるから、水溶性成分を処
理する水処理設備は不必要になる。また、高圧流体を噴
射する従来例２のように、高温排ガスに含まれている揮
発成分や溶融ダストそのものが調温塔の内壁に付着する
ようなことがない。
込んで旋回させる従来例１よりも、高温排ガスに含まれ
ている揮発成分や溶融ダストを十分冷却することがで
き、調温塔の内壁への付着防止効果が優れている。そし
て、内壁に沿って水を流下させる構成でなく、冷却水は
蒸発して排ガスと共に排出されるから、水溶性成分を処
理する水処理設備は不必要になる。また、高圧流体を噴
射する従来例２のように、高温排ガスに含まれている揮
発成分や溶融ダストそのものが調温塔の内壁に付着する
ようなことがない。
【００５０】本発明の請求項３に係る調温装置によれ
ば、調温塔に設けられた２段以上の拡大段部に冷却ガス
噴射手段が設けられており、本発明の請求項４に係る調
温装置によれば、冷却ガスが調温塔の内壁に沿う下向き
の旋回ガス流になるので、冷却ガスのガス流により調温
塔の内壁の広範囲を覆い、高温排ガスとの直接接触を効
果的に防止することができる。
ば、調温塔に設けられた２段以上の拡大段部に冷却ガス
噴射手段が設けられており、本発明の請求項４に係る調
温装置によれば、冷却ガスが調温塔の内壁に沿う下向き
の旋回ガス流になるので、冷却ガスのガス流により調温
塔の内壁の広範囲を覆い、高温排ガスとの直接接触を効
果的に防止することができる。
【００５１】本発明の請求項５に係る調温装置によれ
ば、上段の拡大段部に設けられた冷却ガス噴射手段か
ら、下段の拡大段部に設けられた冷却ガス噴射手段より
も多量の冷却ガスが噴射されるため、調温塔のガス吹込
み口の近傍の内壁が多量の冷却ガスのガス流により覆わ
れ、吹込み直後の高温排ガスに含まれている多量の揮発
・溶融ダスト成分が固化ても、これらが調温塔のガス吹
込み口の近傍の内壁に付着使用とするのを効果的に防止
することができる。
ば、上段の拡大段部に設けられた冷却ガス噴射手段か
ら、下段の拡大段部に設けられた冷却ガス噴射手段より
も多量の冷却ガスが噴射されるため、調温塔のガス吹込
み口の近傍の内壁が多量の冷却ガスのガス流により覆わ
れ、吹込み直後の高温排ガスに含まれている多量の揮発
・溶融ダスト成分が固化ても、これらが調温塔のガス吹
込み口の近傍の内壁に付着使用とするのを効果的に防止
することができる。
【００５２】本発明の請求項６に係る調温装置、または
本発明の請求項１０に係る高温排ガスの調温方法によれ
ば、調温されて排出される排ガスの量と温度とが一定に
なるように制御されるから、後工程において排ガスを安
定的に処理することができるのに加えて、安易に排ガス
量の増大を来すことがなく、排ガスの排出量を適切にす
ることができ、後工程側の設備の大型化を防止すること
ができる。
本発明の請求項１０に係る高温排ガスの調温方法によれ
ば、調温されて排出される排ガスの量と温度とが一定に
なるように制御されるから、後工程において排ガスを安
定的に処理することができるのに加えて、安易に排ガス
量の増大を来すことがなく、排ガスの排出量を適切にす
ることができ、後工程側の設備の大型化を防止すること
ができる。
【００５３】本発明の請求項７に係る調温装置、または
本発明の請求項１１に係る高温排ガスの調温方法によれ
ば、調温されて排出される排ガスの温度と水分含有量と
が一定になるように制御されるので、後工程において排
ガスを安定的に処理することができるのに加えて、後工
程における飛灰やダスト成分のダクトや熱交換器への付
着や酸による腐食を防止することができる。
本発明の請求項１１に係る高温排ガスの調温方法によれ
ば、調温されて排出される排ガスの温度と水分含有量と
が一定になるように制御されるので、後工程において排
ガスを安定的に処理することができるのに加えて、後工
程における飛灰やダスト成分のダクトや熱交換器への付
着や酸による腐食を防止することができる。
【００５４】本発明の請求項８に係る調温装置、または
本発明の請求項１２に係る高温排ガスの調温方法によれ
ば、この排ガス導入ダクトの曲部により高温排ガスの慣
性力が抑えられ、調温塔のガス吹込み口から吹込まれた
時の偏流が防止されるから、調温装置内での冷却効果を
低下させることなく、調温塔の内壁に沿って流れる冷却
ガスのガス流の乱れを防止することができる。
本発明の請求項１２に係る高温排ガスの調温方法によれ
ば、この排ガス導入ダクトの曲部により高温排ガスの慣
性力が抑えられ、調温塔のガス吹込み口から吹込まれた
時の偏流が防止されるから、調温装置内での冷却効果を
低下させることなく、調温塔の内壁に沿って流れる冷却
ガスのガス流の乱れを防止することができる。
【００５５】本発明の請求項９に係る調温装置、または
本発明の請求項１３に係る高温排ガスの調温方法によれ
ば、還元金属製造設備からは大量の揮発・溶融ダスト成
分を含む高温排ガスが排出されるが、これら揮発・溶融
ダスト成分は冷却水の噴霧と冷却ガスの噴射とにより効
果的に冷却して固化させ、そして固化した大量の揮発、
溶融ダスト成分の調温塔の内壁への付着を防止しなが
ら、高温排ガスを調温することができる。
本発明の請求項１３に係る高温排ガスの調温方法によれ
ば、還元金属製造設備からは大量の揮発・溶融ダスト成
分を含む高温排ガスが排出されるが、これら揮発・溶融
ダスト成分は冷却水の噴霧と冷却ガスの噴射とにより効
果的に冷却して固化させ、そして固化した大量の揮発、
溶融ダスト成分の調温塔の内壁への付着を防止しなが
ら、高温排ガスを調温することができる。
【図１】本発明の実施の形態に係る調温装置の主要部側
面断面図である。
面断面図である。
【図２】図２（ａ）は図１のＡ部詳細図であり、図２
（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ線断面図であり、図２
（ｃ）は図１のＣ部詳細図であり、図２（ｄ）は図２
（ｃ）のＤ−Ｄ線断面図である。
（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ線断面図であり、図２
（ｃ）は図１のＣ部詳細図であり、図２（ｄ）は図２
（ｃ）のＤ−Ｄ線断面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る調温装置の排ガス導
入ダクトの側面図である。
入ダクトの側面図である。
【図４】本発明の実施例に係る調温装置の温度分布説明
図である。
図である。
１…調温装置 ２…調温塔，２ａ…ガス吹込み口，２ｂ…ダスト排出
口，２１…第１拡大段部，２２…第２拡大段部 ３…排ガス導入ダクト，３ａ…耐火物，３１…上昇ダク
ド部，３２…水平ダクト部，３２ａ…マンホール，３３
…下降ダクト部，３３ａ…垂直ダクト部 ４…下部排出ダクト ５…冷却水噴霧ノズル ６…第１段冷却ガス噴射ノズル ７…第２段冷却ガス噴射ノズル ８…サイクロ減速機 ９…ダストスクレーパ
口，２１…第１拡大段部，２２…第２拡大段部 ３…排ガス導入ダクト，３ａ…耐火物，３１…上昇ダク
ド部，３２…水平ダクト部，３２ａ…マンホール，３３
…下降ダクト部，３３ａ…垂直ダクト部 ４…下部排出ダクト ５…冷却水噴霧ノズル ６…第１段冷却ガス噴射ノズル ７…第２段冷却ガス噴射ノズル ８…サイクロ減速機 ９…ダストスクレーパ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ２３Ｊ 15/04 Ｆ２３Ｇ 5/44 ＺＡＢＺ Ｆ２７Ｄ 17/00 １０４ Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｋ // Ｆ２３Ｇ 5/44 ＺＡＢ Ｄ Ｆターム(参考） 3K065 AA24 AB01 AC01 BA05 HA02 HA03 3K070 DA07 DA09 DA37 4K056 DB05 DC05 DC12 DC16
Claims (13)
- 【請求項１】 吹込まれる高温排ガスが適切な温度にな
るように調温し、調温された排ガスを後工程側に排出す
る調温塔を備えてなる調温装置において、前記調温塔
に、前記高温排ガスのガス流のほぼ中心に向かって冷却
水を噴霧する冷却水噴霧手段を設けると共に、この調温
塔の内壁に沿って冷却ガスを噴射する冷却ガス噴射手段
を設けたことを特徴とする調温装置。 - 【請求項２】 排ガス導入ダクトを介して上部に設けた
ガス吹込口から吹込まれ、高温ガス発生源から排出され
た高温排ガスを、適切な温度になるように調温し、調温
された排ガスを下部排出ダクトから後工程側に排出する
調温塔を備えてなる調温装置において、前記調温塔の上
部に、前記ガス吹込口から吹込まれる高温排ガスのガス
流のほぼ中心に向かって冷却水を噴霧する冷却水噴霧手
段を設けると共に、この調温塔の内壁に沿って下方に冷
却ガスを噴射する冷却ガス噴射手段を設けたことを特徴
とする調温装置。 - 【請求項３】 前記調温塔に、前記冷却ガス噴射手段が
複数配設され、下段側になるほど径が拡大する２段以上
の拡大段部を設けたことを特徴とする請求項１または２
のうちの何れか一つの項に記載の調温装置。 - 【請求項４】 前記冷却ガス噴射手段を、冷却ガスが前
記調温塔の内壁に沿う下向き旋回ガス流になるように、
この調温塔の内壁の斜め下方向に向かって冷却ガスを噴
射する向きに配設したことを特徴とする請求項１，２ま
たは３のうちの何れか一つの項に記載の調温装置。 - 【請求項５】 ２段以上の前記拡大段部に設けられた冷
却ガス噴射手段のうち、上段の拡大段部に設けられた冷
却ガス噴射手段から、下段の拡大段部に設けられた冷却
ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスが噴射されるように
構成したことを特徴とする請求項３または４のうちの何
れか一つの項に記載の調温装置。 - 【請求項６】 調温されて排出される排ガスの量と温度
とが一定になるように、前記冷却水の噴霧量を調整する
冷却水噴霧量制御手段と、前記冷却ガスの噴射量を調整
する冷却ガス噴射量制御手段とを設けたことを特徴とす
る請求項１，２，３，４または５のうちの何れか一つの
項に記載の調温装置。 - 【請求項７】 調温されて排出される排ガスの温度と水
分含有量とが一定になるように、前記冷却水の噴霧量を
調整する冷却水噴霧量制御手段と、前記冷却ガスの噴射
量を調整する冷却ガス噴射量制御手段とを設けたことを
特徴とする請求項１，２，３，４または５のうちの何れ
か一つの項に記載の調温装置。 - 【請求項８】 前記排ガス導入ダクトの前記高温ガス発
生源と前記ガス吹込手段との間を、逆Ｖ字状に屈曲形成
したことを特徴とする請求項２，３，４，５，６または
７のうちの何れか一つの項に記載の調温装置。 - 【請求項９】 前記高温ガス発生源が、石炭等の炭素還
元剤と鉄鉱石等の酸化金属や酸化金属を含む廃棄物を原
料として高温で還元し、または還元・溶融して還元鉄等
を製造する還元金属製造設備であることを特徴とする請
求項２，３，４，５，６，７または８のうちの何れか一
つの項に記載の調温装置。 - 【請求項１０】 下段側になるほど径が拡大する２以上
の拡大段部を備えた調温塔内に、高温ガス発生源から排
出される高温排ガスを排ガス導入ダクトを介して上部に
設けたガス吹込口から吹込み、吹込まれた高温排ガスを
適切な温度になるように調温した後、下部排出ダクトか
ら後工程側に排出する高温排ガスの調温方法であって、
前記調温塔の上部から前記高温排ガスのガス流のほぼ中
心に向かって冷却水を噴霧し、前記調温塔の拡大段部の
上段側に設けた冷却ガス噴射手段から、下段側に設けた
冷却ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスを、この調温塔
の内壁に沿う旋回ガス流になるように斜め下方に噴射す
ると共に、調温されて前記下部排出ダクトから排出され
る排ガスの量と温度とが一定になるように、前記冷却ガ
スの噴射量と冷却水の噴霧量とを調整することを特徴と
する高温排ガスの調温方法。 - 【請求項１１】 下段側になるほど径が拡大する２以上
の拡大段部を備えた調温塔内に、高温ガス発生源から排
出される高温排ガスを排ガス導入ダクトを介して上部に
設けたガス吹込口から吹込み、吹込まれた高温排ガスを
適切な温度になるように調温した後、下部排出ダクトか
ら後工程側に排出する高温排ガスの調温方法であって、
前記調温塔の上部から前記高温排ガスのガス流のほぼ中
心に向かって冷却水を噴霧し、前記調温塔の拡大段部の
上段側に設けた冷却ガス噴射手段から、下段側に設けた
冷却ガス噴射手段よりも多量の冷却ガスを、この冷却塔
本体の内壁に沿う旋回ガス流になるように斜め下方に噴
射すると共に、調温されて前記下部排出ダクトから排出
される排ガスの温度と水分含有量とが一定になるよう
に、前記冷却ガスの噴射量と冷却水の噴霧量とを調整す
ることを特徴とする高温排ガスの調温方法。 - 【請求項１２】 前記ガス吹込口から前記調温塔内に高
温ガス発生源から排出される高温排ガスを吹込むに際し
て、一旦斜め上方に上昇させると共に、途中において斜
め下方に下降させることを特徴とする請求項１０または
１１のうちの何れか一つの項に記載の高温排ガスの調温
方法。 - 【請求項１３】 石炭等の炭素還元剤と鉄鉱石等の酸化
金属や酸化金属を含む廃棄物を原料として高温で還元
し、または還元・溶融して還元鉄等を製造する還元金属
製造設備である高温ガス発生源から排出される高温排ガ
スを、前記ガス吹込口から前記調温塔内に吹込むことを
特徴とする請求項１０，１１または１２のうちの何れか
一つの項に記載の高温排ガスの調温方法。
Priority Applications (8)
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|---|---|---|---|
| JP2000094110A JP3844941B2 (ja) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | 調温装置および高温排ガスの調温方法 |
| CN01103888A CN1315627A (zh) | 2000-03-30 | 2001-03-19 | 高温废气的温度控制装置与温度控制方法 |
| TW090106916A TW472126B (en) | 2000-03-30 | 2001-03-23 | Temperature control device and temperature control method for high-temperature exhaust gas |
| KR10-2001-0015995A KR100446364B1 (ko) | 2000-03-30 | 2001-03-27 | 온도 제어 장치 및 고온 배기가스의 온도 제어 방법 |
| AU31377/01A AU743817B2 (en) | 2000-03-30 | 2001-03-28 | Temperature control device and temperature control method for high-temperature exhaust gas |
| EP01108039A EP1139023A1 (en) | 2000-03-30 | 2001-03-29 | Temperature control device and temperature control method for high-temperature exhaust gas |
| US09/819,850 US6517770B1 (en) | 2000-03-30 | 2001-03-29 | Temperature control device and temperature control method for high-temperature exhaust gas |
| CA002342569A CA2342569A1 (en) | 2000-03-30 | 2001-03-30 | Temperature control device and temperature control method for high-temperature exhaust gas |
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|---|---|---|---|
| JP2000094110A JP3844941B2 (ja) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | 調温装置および高温排ガスの調温方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001276547A true JP2001276547A (ja) | 2001-10-09 |
| JP3844941B2 JP3844941B2 (ja) | 2006-11-15 |
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ID=18609200
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| EP (1) | EP1139023A1 (ja) |
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| KR (1) | KR100446364B1 (ja) |
| CN (1) | CN1315627A (ja) |
| AU (1) | AU743817B2 (ja) |
| CA (1) | CA2342569A1 (ja) |
| TW (1) | TW472126B (ja) |
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| JP2008014601A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス冷却設備およびその制御方法 |
| JP2011021810A (ja) * | 2009-07-15 | 2011-02-03 | Ohkawara Kakohki Co Ltd | 高温ガス冷却用冷却塔の整流装置 |
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