JP2001244231A - 横軸式基板回転乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板への水滴の跳ね返り再付着がなく、チャ
ンバ内の排気効率も良好なチャンバ構造を備えた横軸式
基板回転乾燥装置を提供する。 【解決手段】 チャンバ１は、ロータ２の外周を取り巻
く周壁１０を備えた筒状に形成され、周壁１０には、吸
気口１３と排気口１４が周方向へ離隔して設けられると
ともに、ロータ２の回転中心Ｇを中心とした周壁１０の
内径が、吸気口１３から排気口１４へいくに従って漸次
連続的に大きくなるインボリュート曲線を描くように設
定されている。これにより、ロータ２の回転運動とも相
俟って排気効率が良好で、ウエハＷ、Ｗ、…からチャン
バ１の周壁１０に向けて飛散する水滴がウエハＷに跳ね
返って再付着するのを有効に防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は横軸式基板回転乾燥
装置に関し、さらに詳細には、半導体基板等の薄板状の
基板を保持するロータが水平状態で回転可能に配置され
てなる横軸式基板回転乾燥装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体基板や液晶用ガラス基板等の薄板
状の基板（以下、単に基板と称する。）の洗浄処理等の
表面処理に使用される基板洗浄装置の一つに、基板を薬
液に浸漬して処理する湿式基板洗浄装置がある。

【０００３】この湿式基板洗浄装置の一般的構成は、基
板を洗浄処理するための基板洗浄槽と、この基板洗浄槽
で処理された基板を乾燥させるための基板乾燥装置とを
備えてなり、この基板乾燥装置としては、通常、基板を
保持するロータが高速回転されて、基板上に付着した水
滴が液切り乾燥される基板回転乾燥装置が用いられてい
る。

【０００４】この種の基板回転乾燥装置としては、ロー
タが水平状態で回転可能に配置されてなる横軸式のもの
と、ロータが垂直状態で回転可能に配置されてなる縦軸
式のものとがある。そして、近時は、基板の大型化に伴
って、複数の基板を一括して処理するバッチ式の場合、
ロータの回転バランスに優れる前者の横軸式基板回転乾
燥装置が主流となっている。

【０００５】横軸式基板回転乾燥装置は、固定的に設け
られた密閉可能なチャンバ内に、ロータが水平状態で回
転駆動可能に軸支されるとともに、このロータに、複数
枚の基板を収納したカセットが取外し可能に保持固定さ
れてなる。また、上記チャンバの頂部に基板搬入搬出口
兼用の吸気口が設けられるとともに、底部に排気口が設
けられている。

【０００６】そして、上記吸気口から清浄空気が供給さ
れる一方、上記排気口から排気が行われながら、上記ロ
ータの回転駆動により、このロータに保持されたカセッ
ト内のカセットも一体回転されて、基板上に付着した水
滴が回転により生じる遠心力で液切り乾燥されるように
構成されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の横軸
式基板回転乾燥装置にあっては、以下に述べるような構
造上の問題点から、その乾燥効率が悪く、さらなる改良
が要望されていた。

【０００８】(1）上記ロータに、複数枚の基板を収納し
たカセットがそのまま保持される構造であるため、基板
から遠心力により飛散した水滴が跳ね返り、基板に再付
着し易い。

【０００９】(2）上記ロータを収納するチャンバは、製
造容易性およびコストの面から、ロータの外周を取り巻
く周壁が矩形状断面を有する略直方体形状とされてい
る。これがため、チャンバの排気効率が悪く、しかも、
特に、基板からチャンバ周壁の水平頂部に向けて飛散し
た水滴が跳ね返りまたは落下して、基板に再付着し易
い。

【００１０】(3) 上記チャンバに設けられる吸気口と排
気口は、ロータの回転運動との関係を考慮した配置構成
ではなく、しかも、チャンバの周壁が断面矩形状である
ため、周壁のコ−ナ部に渦流が発生し易くなるため、排
気効率が悪い。

【００１１】本発明はかかる従来の課題に鑑みてなされ
たものであって、その目的とするところは、横軸式基板
回転乾燥装置において、基板への水滴の跳ね返り再付着
がなく、チャンバ内の排気効率も良好なチャンバ構造の
提供にある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の横軸式基板回転乾燥装置は、固定的に設け
られた密閉可能なチャンバ内に回転可能に軸支されるロ
ータが、複数枚の基板を所定の配列ピッチをもって直接
保持する基板保持部を備え、上記チャンバは、上記ロー
タの外周を取り巻く周壁を備えた筒状に形成され、上記
チャンバの周壁には、吸気口と排気口が周方向へ離隔し
て設けられるとともに、上記ロータの回転中心を中心と
した上記周壁の内径が、上記吸気口から排気口へいくに
従って漸次連続的に大きくなるように設定されているこ
とを特徴とする。

【００１３】好適な実施態様として、上記チャンバの周
壁の内径面の断面輪郭形状は、少なくとも、上記吸気口
から排気口にかけてインボリュート曲線を描くように設
定されている。また、上記吸気口は前記チャンバの周壁
の底部近傍位置に配置されるとともに、上記排気口は上
記吸気口からロータ回転方向へほぼ３６０度隔てた上記
周壁の底部位置に配置されている。さらに、上記チャン
バは、固定的に設けられた下側チャンバ部と、この下側
チャンバ部に取外し可能に取り付けられる上側チャンバ
部とからなる上下分割構造を備え、上記両チャンバ部の
接合部は、チャンバ外部からの塵埃の侵入を防止する負
圧式防塵構造を備えている。

【００１４】本発明においては、ロータの基板保持部
に、基板が直接保持されていることにより、基板上の水
滴はカセット等の障害物もなく遠心力により飛散され、
効率的な液切りが保証される。

【００１５】しかも、上記ロータの回転中心を中心とし
たチャンバ周壁の内径が、周壁に設けられた吸気口から
排気口へいくに従って漸次連続的に大きくなるように設
定されてなる断面円弧状とされていることにより、ロー
タの回転運動とも相俟って排気効率が良好で、基板から
チャンバの周壁に向けて飛散する水滴が基板に跳ね返っ
て再付着するのを有効に防止される。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面に基づいて詳細に説明する。

【００１７】本発明に係る横軸式基板回転乾燥装置を図
１ないし図３に示し、この基板回転乾燥装置は、具体的
には、半導体基板（以下、ウエハ）Ｗを薬液に浸漬して
洗浄処理する湿式基板洗浄装置に装置されるものであっ
て、上記薬液が満たされた基板洗浄槽に並列して配置さ
れる。

【００１８】この基板回転乾燥装置は、密閉可能なチャ
ンバ１と、このチャンバ１内に回転可能に設けられたロ
ータ２と、このロータ２に設けられた基板保持部３と、
この基板保持部３に対して基板Ｗを搬入搬出するための
基板搬入搬出部４とを主要部として備え、これらが防振
構造を備える装置フレーム５上に装着されてなる。この
装置フレーム５は、中央部分から前フレーム５ａと後フ
レーム５ｂに分離可能な前後分割構造とされて、前後方
向の設置スペースが狭い場合においても装置の組立・分
解が可能な構成とされている。ちなみに、基板回転乾燥
装置の左右両側には上記洗浄槽等の他の装置構成部が並
設される関係から、左右横方向には、作業空間をとるこ
とができないのが通常である。

【００１９】チャンバ１は、密閉可能な構造を備えた筒
状のもので、装置フレーム５上に固定的に設けられてい
る。

【００２０】具体的には、チャンバ１は、ロータ２の外
周を取り巻く薄板材からなる周壁１０と、この周壁１０
の両側を閉塞するとともに上記装置フレーム５に取付け
固定される側壁１１，１２とからなる略円筒状に形成さ
れている。

【００２１】また、上記周壁１０には、吸気口１３と排
気口１４が周方向へ離隔して設けられており、図示の実
施形態においては、図２および図４に示すように、吸気
口１３が周壁１０の底部近傍位置に配置されるととも
に、排気口１４が上記吸気口１３からロータ２の回転方
向Ｘへほぼ３６０度隔てた周壁１０の底部位置に配置さ
れている。

【００２２】上記吸気口１３には吸気管１６が一体的に
接続されており、この吸気管１６は、図示のごとく、上
記吸気口１３からわずかに下方向へ延びてから水平横方
向へ延びた後、垂直上方向へ延びて設けられ、その基端
開口１６ａがＨＥＰＡフィルタ１７を介してチャンバ１
外のクリーンルームに開放連通されている。

【００２３】一方、上記排気口１４には排気管１８が一
体的に接続されており、この排気管１８は、上記排気口
１４からわずかに下方向へ傾斜するとともに上記吸気管
１６と並行して延びた後、装置フレーム５内を垂直下方
向へ延び、さらに水平方向へ延びて設けられ、その基端
開口１８ａが図外の負圧源であるブロア１９を介して工
場排気設備へ連通されている。

【００２４】そして、上記ブロア１９の駆動により、ク
リーンルームからＨＥＰＡフィルタ１７および吸気管１
６を介して導入される清浄空気は、吸気口１３からチャ
ンバ１内へ入り、所定の流路を経て排気口１４から排気
管１８を介して工場排気設備へ強制排気される。

【００２５】これに関連して、上記チャンバ１の周壁１
０は、チャンバ１内における空気流路を考慮した排気効
果の大きい形状寸法に設計されている。すなわち、周壁
１０の内径面の断面輪郭形状は、ロータ２の回転中心Ｇ
を中心とした前記周壁１０の内径Ｒが、上記吸気口１３
から排気口１４へいくに従って漸次連続的に大きくなる
ように設定された略円形状とされ、好ましくは、少なく
とも吸気口１３から排気口１４にかけてインボリュート
曲線を描くように設定されている。

【００２６】図示の実施形態においては、上記吸気口１
３と排気口１４の配置関係から、吸気口１３からロータ
２の回転方向Ｘの排気口１４に向けてほぼ全周にわたっ
てインボリュート曲線を描くように設定されている。

【００２７】これにより、吸気口１３からチャンバ１内
へ流入した清浄空気は、ロータ２の回転方向Ｘへ周壁１
０の内径面に沿って円滑に流れ、後述するようにロータ
２の回転による遠心力によりウエハＷから飛散した霧状
の水滴を効率良く排気口１４へ強制排出することとな
る。

【００２８】これに関連して、少なくとも上記チャンバ
１の周壁１０は、撥水性および耐食性に優れるコーティ
ング材料により被覆形成されて、周壁１０に付着した水
滴の排水作用が促進されるように構成されることが望ま
しい。

【００２９】また、図示のチャンバ１は、図４に示すよ
うに、下側チャンバ部２０と上側チャンバ部２１とから
なる上下分割構造を備えて、チャンバ１内部のメンテナ
ンスが容易な構造とされている。

【００３０】すなわち、下側チャンバ部２０は、装置フ
レーム５上に固定的に設けられており、図５および図６
に示すような形状寸法を有して、その周壁１０部位に、
上記吸気口１３と排気口１４が設けられている。一方、
上側チャンバ部２１は、下側チャンバ部２０の頂部開口
部に取外し可能に取り付けられるもので、図７に示すよ
うな形状寸法を有し、その頂部にウエハＷを搬入搬出す
るための開口部２２が設けられている。

【００３１】上記両チャンバ部２０、２１の接合部は、
通常のシール構造に加えて、負圧式防塵構造２３を備え
てなり、特に、装置運転時におけるチャンバ１外部から
の塵埃の侵入を完全に防止し得る構造とされている。

【００３２】この負圧式防塵構造２３は、具体的には図
８に示すように、下側チャンバ部２０の頂部開口部外周
の接合フランジ２４に設けられている。つまり、接合フ
ランジ２４の上面は、図示のごとく内周側が低く設定さ
れて上下段付き平面とされるとともに、その下側平面２
４ａに上記負圧式防塵構造２３の排気通路２６が開口さ
れている。この排気通路２６は、図示のごとく上記下側
平面２４ａから接合フランジ２４の内部を外側方向へ貫
いて、図外の負圧供給源である真空ポンプ２７に連通さ
れている。

【００３３】また、上記接合フランジ２４の上側平面つ
まり上側チャンバ部２１の接合フランジ２５との接合面
２４ｂに環状溝２８が設けられるとともに、この環状溝
２８にＯリング２９が嵌着されて、上記両接合フランジ
２４、２５間における通常のシール構造が構成されてい
る。

【００３４】そして、装置運転時において、上記ブロア
１９の駆動によりチャンバ１内が強制排気されて負圧状
態になると、特に薄肉状の周壁１０が内側へ歪む傾向に
ある。これにより、上記両チャンバ部２０、２１の接合
部のシール構造（Ｏリング２９）に隙間が生じ、この隙
間からチャンバ１外部の塵埃が負圧状態のチャンバ1内
へ引き込まれて侵入しようとするが、上記負圧式防塵構
造２３の作用により、上記隙間から侵入する塵埃は、排
気通路２６を介してチャンバ１の外部へ再び強制排出さ
れて、チャンバ1内へ到達することはない。

【００３５】また、チャンバ１の頂部に設けられた上記
開口部２２は、開閉蓋３０により密閉可能とされてい
る。この開閉蓋３０は、スライド案内部（スライド案内
手段）３１により横方向へ開閉動作するスライド開閉式
とされている。上記スライド案内部３１は、上記開閉蓋
３０を開閉案内する案内レール３１ａと、上記開閉蓋３
０を案内レール３１ａに沿って開閉動作させる図外の駆
動シリンダとを主要部として構成されている。上記案内
レール３１ａは、図２に示すように、上記チャンバ１の
開口部２２から下向き傾斜方向へアーチ状つまり下向き
湾曲状に延びて設けられて、開閉蓋３０の設置スペース
がコンパクトになるように構成されている。

【００３６】ロータ２は、上記チャンバ１内に水平状態
で回転可能に軸支されてなるとともに、複数枚のウエハ
Ｗ，Ｗ，…を直接保持する前記基板保持部３を備えてな
る。

【００３７】具体的には、ロータ２は、図１および図３
に示すように、前後両側に配された一対のフランジ３
５、３６と、これら両フランジ３５、３６を橋絡状に一
体連結する複数の連結杆３７、３７、…とを有してなる
円筒籠状のもので、上記両フランジ３５、３６の外側に
同軸状に配された一対の回転軸３８、３９を介して、チ
ャンバ１の側壁１１，１２に水平状態で回転可能に軸支
されている。このロータ２と前記チャンバ１の周壁１０
との間には、図２に示すように、吸気口１３から排気口
１４へいくに従って漸次連続的に大きくなる空間が形成
され、この空間が前述したように装置運転時におけるチ
ャンバ１内の空気流路を形成する。

【００３８】上記両回転軸３８、３９は、フランジ３
５、３６の外側面から外方向へ突出して設けられるとと
もに、軸受４０を介してそれぞれチャンバ１の側壁１
１，１２に回転可能に軸支されており、また、一方の回
転軸３９は、伝動プーリ４１、伝動ベルト４２および伝
動プーリ４３を介して、回転駆動源である駆動モータ４
４の駆動軸４４ａに駆動連結されている。

【００３９】上記両回転軸３８、３９の軸受部には密閉
された排気空間が形成され、この排気空間は、図示しな
いが、排気管およびブロア等を介して工場排気設備に連
通されて、この軸受部位に生じた塵埃を積極的に強制排
気する構造とされている。

【００４０】また、図示しないが、回転軸３８または３
９の近傍位置には、ロータ２の回転方向位置を検出する
ための位置センサが設けられており、この位置センサの
検出結果に従って上記駆動モータ４４が制御されて、ロ
ータ２をその基準位置、つまり、駆動モータ４４の停止
時（＝ウエハＷの交換時）において、例えば、上記基板
保持部３に保持されたウエハＷのオリエンテーションフ
ラット面（オリフラ）が下向きに水平状態に位置決めさ
れるように構成されている。

【００４１】上記基板保持部３は、複数枚のウエハＷ、
Ｗ、…を所定の配列ピッチをもって直接保持するもの
で、ロータ２に固定的に設けられた下側保持部４５と、
チャッキング動作可能に設けられた上側保持部４６を主
要部として構成されている。

【００４２】下側保持部４５は、図２および図３に示す
ように、ロータ２のフランジ３５、３６間に橋絡状にか
つ連結杆３７と平行に設けられた３つの保持杆４５ａ、
４５ａ、４５ａからなる。この保持杆４５ａは、上記複
数枚のウエハＷ、Ｗ、…を所定の配列ピッチをもって保
持する櫛歯形状の保持溝を有している。

【００４３】上側保持部４６は、同じく図２および図３
に示すように、ロータ２のフランジ３５、３６間に橋絡
状にかつ連結杆３７と平行に設けられた一対の保持杆４
６ａ、４６ａからなる。この保持杆４６ａは、上記複数
枚のウエハＷ、Ｗ、…を所定の配列ピッチをもって保持
する櫛歯形状の保持溝を有している。また、これら一対
の保持杆４６ａ、４６ａは、上記フランジ３５、３６に
回動可能に軸支されるとともに、図示しないが、装置フ
レーム５側に設けられた駆動装置により所定の揺動範囲
内でチャッキング動作するように構成されている。

【００４４】そして、下側保持部４５の保持杆４５ａ、
４５ａ、４５ａによりウエハＷ、Ｗ、…の下側部分が所
定の配列ピッチをもって点接触状態または線接触状態で
保持されるとともに、上側保持部４６の一対の保持杆４
６ａ、４６ａにより、上記ウエハＷ、Ｗ、…の上側部分
が所定の配列ピッチをもってチャッキング保持される。

【００４５】基板搬入搬出部４は、上記基板保持部３に
対してウエハＷ、Ｗ、…を搬入搬出するもので、具体的
には、ウエハＷ、Ｗ、…の下側部分を保持する一対の保
持杆５０ａ，５０ａと、これら保持杆５０ａ、５０ａを
昇降動作させる昇降機構５１とを主要部として構成され
ている。

【００４６】上記保持杆５０ａは、基板保持部３の保持
杆４５ａと同様、ウエハＷ、Ｗ、…の下側部分を上記所
定の配列ピッチをもって点接触状態または線接触状態で
保持する櫛歯形状の保持溝を有している。これら一対の
保持杆５０ａ、５０ａは、平行に配設された昇降ロッド
５２、５２を介して単一の昇降台５３上に支持されてお
り、この昇降台５３がボールネジ機構等の送りネジ機構
５４を介して駆動モータ５５に駆動連結されている。

【００４７】そして、この駆動モータ５５の回転駆動に
より、送りねじ機構５４を介して上記昇降台５３に支持
された保持杆５０ａ、５０ａが、基板受渡し位置である
最上昇位置Ａと、退避位置である最低位置Ｂとの間で昇
降動作される。図２から明らかなように、上記基板受渡
し位置Ａにおいては、保持杆５０ａ、５０ａはチャンバ
１の開口部２２を介してチャンバ１の上方に位置すると
ともに、上記退避位置Ｂにおいては、保持杆５０ａ、５
０ａはチャンバ１内から退避した位置にある。

【００４８】次に、以上のように構成された基板回転乾
燥装置における乾燥工程の一例について説明する。

【００４９】（１） ウエハＷ、Ｗ、…の搬入：図外の
基板洗浄槽における洗浄工程を完了したウエハＷ、Ｗ、
…は、基板搬送ロボット６０と基板搬入搬出部４との協
働作用により、チャンバ１内の基板保持部３に搬入され
る。

【００５０】具体的には、基板搬送ロボット６０に保持
されたウエハＷ、Ｗ、…がチャンバ１上の基板受渡し位
置Ａに位置決めされると、ウエハＷ、Ｗ、…の存在を図
示しない位置センサが検出して、開閉蓋３０が開くとと
もに、基板搬入搬出部4の保持杆５０ａ、５０ａが上昇
して、基板搬送ロボット６０のアーム６０ａに保持され
たウエハＷ、Ｗ、…の下側部分を保持して一括して受け
取る。このとき、基板保持部３における上側保持部４６
の保持杆４６ａ、４６ａは解放状態にある（図２の二点
鎖線位置参照）。

【００５１】続いて、上記基板搬入搬出部4の保持杆５
０ａ、５０ａがウエハＷ、Ｗ、…を保持したまま下降し
て、基板保持部３における下側保持部４５の保持杆４５
ａ、４５ａ、４５ａ間を下方へ通過するとき、保持杆５
０ａ、５０ａ上のウエハＷ、Ｗ、…は上記保持杆４５
ａ、４５ａ、４５ａに一括して移載されて、その下側部
分が保持される。上記基板搬入搬出部4の保持杆５０
ａ、５０ａは、最終的には退避位置Ｂまで下降退避す
る。

【００５２】続いて、上側保持部４６の保持杆４６ａ、
４６ａが上記解放状態位置（図２の二点鎖線位置）から
内側へ揺動して閉じ、ウエハＷ、Ｗ、…の上側部分を上
側からチャッキングする。これにより、ウエハＷ、Ｗ、
…は、ロータ２に位置決めされて固定的に支持されるこ
ととなる。

【００５３】（２） ウエハＷ、Ｗ、…の乾燥： ｉ）開閉蓋３０が閉止して、チャンバ１内が密封状態に
なった後、ブロア１９が駆動してチャンバ１内の強制排
気が開始されるとともに、負圧式防塵構造２３の真空ポ
ンプ２７および軸受部の強制排気が開始される。

【００５４】ii) 駆動モータ４４の回転駆動により、ロ
ータ２が低速回転して、ウエハＷ、Ｗ、…の水切りが行
われる。

【００５５】iii)水切りが完了した後、駆動モータ４４
が増速回転して、ロータ２が高速回転し、これによりウ
エハＷ、Ｗ、…の高速回転によるスピン乾燥が行われ
る。

【００５６】iv) 駆動モータ４４の駆動停止により、ロ
ータ２の回転が停止されるとともに、チャンバ１内の強
制排気が停止するとともに、負圧式防塵構造２３の駆動
および軸受部の強制排気が停止する。このとき、ロータ
２は所定の基準位置に位置決め停止される。この後、図
示しない不活性気体供給源からチャンバ１内に不活性気
体が供給充填されて、チャンバ１内が大気圧とほぼ同圧
となる。

【００５７】（３） ウエハＷ、Ｗ、…の搬出：乾燥工
程を完了したウエハＷ、Ｗ、…は、再び基板搬入搬出部
４と基板搬送ロボット６０との協働作用により、チャン
バ１内の基板保持部３から搬出される。

【００５８】具体的には、基板保持部３の上側保持部４
６の保持杆４６ａ、４６ａがチャッキング位置から解放
状態位置（図２の二点鎖線位置）へ揺動して開き、ウエ
ハＷ、Ｗ、…のチャッキングを解除する。

【００５９】続いて、上記基板搬入搬出部４の保持杆５
０ａ、５０ａが退避位置Ｂから上昇して、基板保持部３
における下側保持部４５の保持杆４５ａ、４５ａ、４５
ａ間を上方へ通過するとき、下側保持部４５上に保持さ
れたウエハＷ、Ｗ、…が上記保持杆５０ａ、５０ａに一
括して移載されて、その下側部分を保持されたまま基板
搬入搬出位置Ａまで上昇する。

【００６０】基板搬入搬出位置Ａまで上昇して位置決め
されたウエハＷ、Ｗ、…は、ここに待機する基板搬送ロ
ボット６０のアーム６０ａに保持された後、図外の基板
搬出位置において搬送用キャリアに収納され、装置外へ
搬出される。

【００６１】しかして、以上のように構成された基板回
転乾燥装置においては、ロータ２の基板保持部３によ
り、ウエハＷ、Ｗ、…が直接保持されているから、ウエ
ハＷ上の水滴はカセット等の障害物もなく遠心力により
飛散され、効率的な液切りが保証される。

【００６２】また、上記ロータ２の回転中心Ｇを中心と
したチャンバ１の周壁１０の内径が、周壁１０に設けら
れた吸気口１３から排気口１４へいくに従って漸次連続
的に大きくなるように設定されてなる断面円弧状とされ
ているから、ロータ２の回転運動とも相俟って排気効率
が良好で、ウエハＷ、Ｗ、…からチャンバ１の周壁１０
に向けて飛散する水滴がウエハＷに跳ね返って再付着す
るのが有効に防止される。

【００６３】上述した実施形態はあくまでも本発明の好
適な実施態様を示すものであって、本発明はこれに限定
されることなくその範囲内で種々の設計変更が可能であ
る。

【００６４】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
固定的に設けられた密閉可能なチャンバ内に回転可能に
軸支されるロータが、複数枚の基板を所定の配列ピッチ
をもって直接保持する基板保持部を備え、上記チャンバ
は、上記ロータの外周を取り巻く周壁を備えた筒状に形
成され、上記チャンバの周壁には、吸気口と排気口が周
方向へ離隔して設けられるとともに、上記ロータの回転
中心を中心とした上記周壁の内径が、上記吸気口から排
気口へいくに従って漸次連続的に大きくなるように設定
されているから、横軸式基板回転乾燥装置において、基
板への水滴の跳ね返り再付着がなく、チャンバ内の排気
効率も良好なチャンバ構造を提供することができる。

【００６５】すなわち、ロータの基板保持部に、基板が
直接保持されていることにより、基板上の水滴はカセッ
ト等の障害物もなく遠心力により飛散され、効率的な液
切りが保証される。

【００６６】しかも、上記ロータの回転中心を中心とし
たチャンバ周壁の内径が、周壁に設けられた吸気口から
排気口へいくに従って漸次連続的に大きくなるように設
定されてなる断面円弧状、好適にはインボリュート曲線
を描くように設定されていることにより、ロータの回転
運動とも相俟って排気効率が良好で、基板からチャンバ
の周壁に向けて飛散する水滴が基板に跳ね返って再付着
するのが有効に防止され得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る一実施形態である横軸式基板回転
乾燥装置を示す正面図である。

【図２】同じく同基板回転乾燥装置を示す図１における
Ｉ−Ｉ線に沿った側面断面図である。

【図３】同じく同基板回転乾燥装置を示す図２における
II−II線に沿った正面断面図である。

【図４】同基板回転乾燥装置のチャンバを上下に分解し
て示す側面断面図である。

【図５】同チャンバの下側チャンバ部を示し、図５(a）
は正面図、図５(b）は背面図である。

【図６】同じく同チャンバの下側チャンバ部を示し、図
６(a）は平面図、図６(b）は底面図である。

【図７】同チャンバの上側チャンバ部を示し、図７(a）
は正面図、図７(b）は側面断面図、図７(c）は正面断面
図である。

【図８】同チャンバにおける負圧式防塵構造を拡大して
示す断面図である。

【符号の説明】

Ｗ ウエハ Ｇ ロータの回転中心 Ｒ 周壁の内径 １ チャンバ ２ ロータ ３ 基板保持部 ４ 基板搬入搬出部 ５ 装置フレーム １０ チャンバの周壁 １３ 吸気口 １４ 排気口 １６ 吸気管 １７ ＨＥＰＡフィルタ １８ 排気管 １９ ブロア ２０ 下側チャンバ部 ２１ 上側チャンバ部 ２３ 負圧式防塵構造 ２４、２５ 接合フランジ ２６ 排気通路 ２７ 真空ポンプ ２８ 環状溝 ２９ Ｏリング ３０ 開閉蓋 ３１ スライド案内部（スライド案内手
段） ３１ａ 案内レール ４４ 駆動モータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 哲也 東京都青梅市今井３丁目９番18号 エス・ イー・エス株式会社内 (72)発明者 加藤 孝明 神奈川県川崎市中原区下沼部1952 株式会 社ツガワターミナル内 (72)発明者 小野 裕司 神奈川県川崎市中原区下沼部1952 株式会 社ツガワターミナル内 Ｆターム(参考） 3L113 AA06 AB08 AC45 AC46 AC63 AC68 AC75 AC76 AC83 BA34 DA01 DA24

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 固定的に設けられた密閉可能なチャンバ
   内に、複数枚の基板を保持するロータが回転可能に軸支
   されるとともに、このロータの回転軸が水平状に配置さ
   れてなる横軸式基板回転乾燥装置であって、前記ロータ
   は、複数枚の基板を所定の配列ピッチをもって直接保持
   する基板保持部を備え、 前記チャンバは、前記ロータの外周を取り巻く周壁を備
   えた筒状に形成され、 前記チャンバの周壁には、吸気口と排気口が周方向へ離
   隔して設けられるとともに、前記ロータの回転中心を中
   心とした前記周壁の内径が、前記吸気口から排気口へい
   くに従って漸次連続的に大きくなるように設定されてい
   ることを特徴とする横軸式基板回転乾燥装置。
2. 【請求項２】 前記チャンバの周壁の内径面の断面輪郭
   形状が、少なくとも、前記吸気口から排気口にかけてイ
   ンボリュート曲線を描くように設定されていることを特
   徴とする請求項１に記載の横軸式基板回転乾燥装置。
3. 【請求項３】 前記吸気口は前記チャンバの周壁の底部
   近傍位置に配置されるとともに、前記排気口は前記吸気
   口からロータ回転方向へほぼ３６０度隔てた前記周壁の
   底部位置に配置されていることを特徴とする請求項１ま
   たは２に記載の横軸式基板回転乾燥装置。
4. 【請求項４】 前記チャンバは、固定的に設けられた下
   側チャンバ部と、この下側チャンバ部に取外し可能に取
   り付けられる上側チャンバ部とからなる上下分割構造を
   備え、 前記両チャンバ部の接合部は、チャンバ外部からの塵埃
   の侵入を防止する負圧式防塵構造を備えていることを特
   徴とする請求項１から３のいずれか一つに記載の横軸式
   基板回転乾燥装置。
5. 【請求項５】 前記チャンバの頂部に、基板を搬入搬出
   するための開口部が設けられるとともに、この開口部は
   開閉蓋により密閉可能とされ、 前記開閉蓋は、スライド案内手段により横方向へ開閉動
   作するスライド開閉式とされるとともに、前記スライド
   案内手段は、前記開口部から下向き傾斜方向へ延びて設
   けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれ
   か一つに記載の横軸式基板回転乾燥装置。
6. 【請求項６】 前記排気口が負圧源に連通されて、前記
   チャンバ内が強制排気構造とされていることを特徴とす
   る請求項１から５のいずれか一つに記載の横軸式基板回
   転乾燥装置。
7. 【請求項７】 前記吸気口に吸気を濾過するフィルタ手
   段が設けられていることを特徴とする請求項１から６の
   いずれか一つに記載の横軸式基板回転乾燥装置。