JP2019125659A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の周縁部を良好にエッチング処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗを鉛直姿勢に保持しながら、水平な回転軸線Ｃ回りに基板Ｗを回転させる基板保持回転ユニット４と、エッチング液が溜められ、基板Ｗの周縁部５０がエッチング液に浸漬されるエッチング槽５と、基板Ｗの周縁部５０における吹き付け位置Ｐ２に向けて気体を吹き付ける気体吹き付けユニット６と、吹き付け位置Ｐ２に対向し、吹き付け位置Ｐ２への気体の吹き付けによって飛散するエッチング液を捕獲する内壁３１を有する処理カップ７と、基板Ｗの周縁部５０における下流側領域Ｐ５の周囲に、基板Ｗの主面に沿いかつ回転軸線Ｃから離反するような第１の水平方向Ｄ３に向かう気流ＦＬを形成する気流形成ユニット８とを含む。【選択図】図１

Description

この発明は、基板の周縁部をエッチング処理する基板処理装置および基板処理方法に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などのＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。

半導体装置の製造工程では、半導体ウエハ等の基板の周縁部に対してエッチング（いわゆるベベルエッチング）処理が施されることがある。基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置は、たとえば、基板を水平に保持して回転させる基板保持回転ユニットと、基板保持回転ユニットに保持されている基板の上面の周縁部に向けてエッチング液を吐出する上面周縁部ノズルと、基板保持回転ユニットに保持されている基板の下面の周縁部に向けてエッチング液を吐出する下面周縁部ノズルとを備えている（下記特許文献１参照）。

一方、基板を鉛直姿勢に保持しながら、基板の周縁部にエッチング処理を施す縦置きタイプの基板処理装置が知られている。たとえば、下記特許文献２に記載の基板処理装置は、エッチング槽に溜められたエッチング液に基板の周縁部を浸漬させながら基板を、当該基板の中央部を通る水平軸線回りに回転させることにより、基板の周縁部にエッチング処理が施される。

特開２０１１−２５８９２５号公報 特許４０９５４７８号公報

しかしながら、特許文献２に係る手法では、基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置の直ぐ下流側に設定された水供給位置に向けて、水ノズルから水が吐出される。そのため、限られた期間のみしか、基板の周縁部にエッチング液を接液させることができない。したがって、特許文献２に係る手法は、基板の周縁部へのエッチング量を大きく確保する場合には適当でない。

本願発明者らは、基板の周縁部において大きなエッチング量の確保を可能にすべく、ベベルエッチング処理において、基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置の直ぐ下流側の部分でリンスを行わず、ベベルエッチング処理が終わった後に、リンス処理を別途行うことを検討している。
この場合、基板におけるエッチング液の液垂れを抑制または防止するために、および／または、基板の周縁部の各所でエッチング量を均一にすべく、基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置に対し基板の回転方向の下流側の下流側領域において気体を吹き付け、エッチング液を基板の周縁部から除去させることが考えられる。

しかしながら、基板の周縁部への気体の吹き付けに伴って、基板の周縁部における吹き付け位置の周囲に、エッチング液のミストが発生する。発生したミストがエッチング液除去後の基板の周縁部に付着し、パーティクルの原因になるおそれがある。
したがって、基板の周縁部において大きなエッチング量の確保を可能にすること、およびパーティクルの発生を抑制しながら基板の周縁部をエッチング処理することが求められている。すなわち、基板の周縁部を良好にエッチング処理することが求められている。

そこで、この発明の目的は、基板の周縁部を良好にエッチング処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。

前記の目的を達成するための請求項１に記載の発明は、基板の周縁部にエッチング処理を施す基板処理装置であって、処理チャンバと、前記処理チャンバの内部に収容され、基板を鉛直姿勢に保持しながら、当該基板の中央部を通る水平軸線回りに当該基板を回転させる基板保持回転ユニットと、エッチング液が溜められたエッチング槽であって、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の周縁部をエッチング液に浸漬させることにより、基板の周縁部に前記エッチング処理を施すエッチング槽と、前記処理チャンバの内部における、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置に対し当該基板の回転方向の下流側に設定された吹き付け位置に向けて気体を吹き付ける気体吹き付けユニットと、前記吹き付け位置に対向し、前記吹き付け位置への気体の吹き付けによって飛散するエッチング液を捕獲する内壁を有し、前記処理チャンバの内部において、前記基板保持回転ユニットによって保持されている基板の少なくとも一部を収容する処理カップと、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の周縁部における前記吹き付け位置に対し当該基板の回転方向の下流側の下流側領域の周囲に、当該基板の主面に沿いかつ前記水平軸線から離反するような第１の横方向に向かう気流を形成する気流形成ユニットとを含む、基板処理装置を提供する。

この明細書において、第１の横方向とは、水平方向だけでなく、水平面に対して傾斜する方向をも含む趣旨である。
この構成によれば、処理カップの内部に基板の少なくとも一部が収容された状態で、基板が鉛直姿勢に保持される。エッチング槽に溜められたエッチング液に基板の周縁部を浸漬させながら水平軸線回りに基板を回転させることにより、基板の周縁部にエッチング液を塗布することができ、これにより、基板の周縁部にエッチング処理を施すことができる。基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置の直ぐ下流側の部分でリンス処理を行わないので、基板の周縁部において大きなエッチング量を確保することが可能である。

また、基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置に対し基板の回転方向の下流側に設定された吹き付け位置に向けて、当該吹き付け位置に対し処理カップの内壁と反対側から気体が吹き付けられる。これにより、基板の周縁部からエッチング液を除去できる。そのため、基板におけるエッチング液の液垂れを抑制または防止することができ、また、基板の周縁部の各所に均一なエッチング処理を施すことができる。

また、基板の少なくとも一部分が処理カップに収容されており、かつ基板の周縁部に対し処理カップの内壁と反対側から気体を吹き付けるので、気体の吹き付けに伴って基板の周縁部から飛散するエッチング液を処理カップによって良好に捕獲できる。処理チャンバの隔壁に付着したエッチング液は、基板の汚染を生じさせるおそれがあるが、そのような、エッチング液の隔壁への付着を未然に抑制または防止できる。

ところが、基板の周縁部への気体の吹き付けに伴って、基板の周縁部における吹き付け位置の周囲に、エッチング液のミストが発生する。発生したエッチング液のミストが、内壁で跳ね返って、基板の周縁部における吹き付け位置に対し基板の回転方向の下流側の下流側領域の周囲に漂うと、エッチング液除去後の基板の周縁部に付着し、汚染の原因になるおそれがある。エッチング液除去後の基板の周縁部に付着し、汚染の原因になるおそれがある。

この構成では、下流側領域の周囲に、基板の主面に沿いかつ水平軸線から離反するような第１の横方向に向かう気流が形成される。そのため、発生したエッチング液のミストは気流によって第１の横方向に向けて促され、下流側に近づくことが抑制される。これにより、エッチング液除去後の基板の周縁部に、エッチング液のミストが付着することを抑制または防止できる。ゆえに、エッチング液のミストの付着に起因するパーティクルの発生を抑制または防止できる。

これにより、基板の周縁部を良好にエッチング処理できる。
請求項２に記載の発明は、前記気流形成ユニットが、前記基板保持回転ユニットによって保持されている基板に対して前記第１の横方向の側に配置された排気口を有する、請求項１に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、基板に対して前記第１の横方向に排気口が配置されているので、処理チャンバの内部に気流を発生させることができ、これにより、下流側領域の周囲において、第１の横方向に向かう気流を良好に形成することが可能である。

請求項３に記載の発明は、前記気流形成ユニットが、前記基板保持回転ユニットによって保持されている基板を、前記排気口との間で、前記第１の横方向に沿う方向に挟むように配置された給気ユニットをさらに含む、請求項２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、給気ユニットおよび排気口が、第１の横方向に沿う方向に基板を挟んでいるので、給気ユニットによって処理チャンバの内部に気体を供給し、かつ処理チャンバの内部の雰囲気を排気口から排気することにより、処理チャンバの内部に、第１の横方向に向かう気流を形成できる。これにより、下流側領域の周囲において、第１の横方向に向かう気流を、比較的容易に形成できる。

請求項４に記載の発明は、前記処理チャンバが、箱状の隔壁を有し、前記隔壁が、天面と、複数の側面とを有し、基板を搬出入するための搬出入口が、前記天面または前記給気ユニットが設けられた側面とは異なる側面に形成されている、請求項３に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、給気ユニットを、搬出入口が形成される面とは異なる面に設けるので、隔壁に対する給気ユニットの配置レイアウトに自由度を持たせることができる。

請求項５に記載の発明は、前記処理チャンバが、箱状の隔壁を有し、前記隔壁が、複数の側面を有し、前記給気ユニットが、基板を搬出入するための搬出入口が形成される側面と同じ側面に、前記搬出入口の周囲を取り囲むように設けられている、請求項３に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、給気ユニットを搬出入口の周囲を取り囲むように設けることにより、給気ユニットを、搬出入口が形成される側面と同じ側面に良好に設けることができる。また、このようなレイアウトとすることで、隔壁における給気ユニットの配置面積を、最大限に確保することが可能である。

請求項６に記載の発明は、前記処理チャンバが、複数の側面を有し、前記給気ユニットが、基板を搬出入するための搬出入口が形成される側面と同じ側面に、前記搬出入口の上方または下方に設けられている、請求項３に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、給気ユニットを搬出入口の上方または下方に設けることにより、給気ユニットを、搬出入口が形成される側面と同じ側面に良好に設けることができる。

請求項７に記載の発明は、前記処理チャンバの内部における前記処理カップの外方には、前記排気口とは別にチャンバ排気口が形成されている、請求項２〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、排気口とは別にチャンバ排気口を設けるので、処理カップの内部だけでなく、処理チャンバの内部における処理カップの外方に存在するエッチング液のミストを、処理チャンバの内部から良好に排除できる。

請求項８に記載の発明は、前記内壁が、傾斜状をなし、捕獲したエッチング液を前記エッチング槽に向けて案内する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、内壁によって捕獲されたエッチング液が、エッチング槽に案内される。そのため、内壁によって捕獲されたエッチング液をエッチング槽にダイレクトに帰還させることができ、これにより、基板の周縁部のエッチング処理に用いられたエッチング液を、エッチング槽が良好に回収できる。

請求項９に記載の発明は、前記内壁が、側壁と底壁とを有し、前記側壁が、第１の内面を有し、前記第１の内面が、前記第１の横方向に向かうに従って間隔が狭くなるようなＶ字面をなしている、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、側壁の内面（第１の内面）の奥行きを、第１の横方向に広げることができるので、側壁の内面（第１の内面）におけるエッチング液の跳ね返りを、より効果的に抑制できる。

請求項１０に記載の発明は、前記気流形成ユニットが、前記基板保持回転ユニットによって保持されている基板に対して前記第１の横方向の側に配置された排気口を有し、前記排気口が、Ｖ字面をなす前記第１の内面の最奥部分に配置されている、請求項９に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、側壁の第１の内面のＶ字面のうち最奥部分に排気口が配置される。そのため、処理カップの内部における、第１の横方向の端部において、排気口に向かう気流を安定して形成できる。これにより、処理カップの内部に、円滑に流れる気流を形成できる。

請求項１１に記載の発明は、前記底壁が、第２の内面を有し、前記第２の内面が、前記第１の内面に連なり、かつ下方に向かうに従って間隔が狭くなるようなＶ字面を含む、請求項９または１０に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、内壁によって捕獲されたエッチング液が、底壁の第２の内面のＶ字面の最下部に集めることができる。本発明は、請求項８に係る発明と組み合わされてもよい。この場合、Ｖ字面の最下部に集められたエッチング液をエッチング槽へと案内できる。

請求項１２に記載の発明は、前記処理チャンバの内部において、複数の前記基板保持回転ユニットが、当該基板保持回転ユニットに保持される基板の主面に沿って並んで配置されている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、処理チャンバの内部に、複数の基板保持回転ユニットが収容される。基板保持回転ユニットが基板を鉛直姿勢で保持するので、各基板保持回転ユニットを、基板の主面に沿う方向に小型化できる。しかも、複数の基板保持回転ユニットを水平軸線に沿って配列するので、全体として大型化することがない。そのため、処理チャンバが大型化することなく、処理チャンバの内部に複数の基板保持回転ユニットを収容できる。これにより、スループットの向上を図ることができる。

請求項１３に記載の発明は、前記気体吹き付けユニットが、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の一方主面側から前記吹き付け位置に向けて気体を吐出する第１の気体吹き付けユニットと、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の他方主面側から前記吹き付け位置に向けて気体を吐出する第２の気体吹き付けユニットとを含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、基板の周縁部に吹き付け位置に向けて、基板の一方主面側と基板の他方主面側との双方から気体を吹き付けるため、基板の周縁部の一方主面側および他方主面側の双方からエッチング液を良好に除去できる。
請求項１４に記載の発明は、前記気体吹き付けユニットが、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の回転半径方向の内側から前記吹き付け位置に対して気体を吹き付けるユニットを含む、請求項１３に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、基板回転保持ユニットによって回転される基板の周縁部に対して、回転半径方向の内側から気体が吹き付けられる。そのため、基板の周縁部に付着しているエッチング液を、エッチング残渣ごと基板外に排出できる。ゆえに、基板の周縁部からエッチング液を良好に除去できる。
請求項１５に記載の発明は、前記基板保持回転ユニットが、基板の中央部を吸着により保持する吸着保持ユニットを含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、基板に保持しながら良好に回転させることができる。この場合、基板を高速で回転させることも可能である。
請求項１６に記載の発明は、前記基板保持回転ユニットが、前記水平軸線回りに基板を回転可能に保持する保持ユニットと、前記保持ユニットによって保持されている基板の周縁部に接触して、当該基板を回転させるローラとを含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、保持ユニットによって基板が鉛直姿勢に保持されている状態で、基板の周縁部にローラを接触させて基板を回転させる。保持ユニットによって基板が鉛直姿勢に保持されている状態で、基板の芯出しを行うことができる。換言すると、基板が、偏芯することなく、保持ユニットによって支持されている。これにより、基板の周縁部におけるエッチング幅の均一性を高くに保つことができる。

請求項１７に記載の発明は、前記エッチング槽には、循環配管の一端および他端が接続されており、前記循環配管には、前記循環配管を流れるエッチング液を加熱するためのヒータが介装されている、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、所望の高温に昇温されたエッチング液をエッチング槽に溜めておくことができる。すなわち、エッチング槽に溜められているエッチング液の液温を、所望の高温に維持できる。これにより、所望の高温に良好に温度制御されたエッチング液を用いて、基板の周縁部にエッチング処理を施すことができる。

請求項１８に記載の発明は、前記エッチング槽には、エッチング液供給源からのエッチング液がエッチング液バルブを介して供給され、かつリンス液供給源からのリンス液がリンス液バルブを介して供給される、請求項１７に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、エッチング処理の際には、リンス液バルブを閉じながらエッチング液バルブを開く。これにより、エッチング槽にエッチング液が供給され、エッチング槽にエッチング液が溜められる。また、リンス処理の際には、エッチング液バルブを閉じながらリンス液バルブを開く。これにより、エッチング槽にリンス液が供給され、エッチング槽にリンス液が溜められる。すなわち、エッチング処理およびリンス処理の双方を、共通のエッチング槽を使用しながら、基板の周縁部に施すことができる。これにより、リンス槽を別途設ける必要がなく、装置の簡素化を図ることができる。

請求項１９に記載の発明は、リンス液が溜められたリンス槽であって、前記基板の周縁部をリンス液に浸漬させながら当該基板の中央部を通る水平軸線回りに当該基板を回転させることにより、前記基板の周縁部にリンス処理を施すリンス槽をさらに含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、リンス処理の際には、エッチング槽とは別に設けられたリンス槽を用いて、基板の周縁部にリンス処理が施される。

請求項２０に記載の発明は、前記基板保持回転ユニットに保持されている基板を昇降させる昇降させる基板昇降ユニットをさらに含み、基板昇降ユニットが、基板の周縁部が前記リンス液に浸漬可能な下位置から、基板の周縁部が前記リンス液に浸漬しない上位置まで退避させた状態で、前記基板保持回転ユニットが前記基板を回転させることにより、当該基板の周縁部に乾燥処理が施される、請求項１８または１９に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、基板の周縁部を前記リンス液に浸漬しない上位置まで退避させた状態で、基板を回転させることにより、基板の周縁部を良好に乾燥させることができる。
請求項２１に記載の発明は、基板の周縁部にエッチング処理を施す基板処理方法であって、処理チャンバの内部に収容された処理カップを準備する工程と、前記処理カップの内部に前記基板の少なくとも一部が収容された状態で、基板を鉛直姿勢に保持する基板保持工程と、基板の周縁部を、エッチング槽に溜められたエッチング液に浸漬させながら当該基板の中央部を通る水平軸線回りに当該基板を回転させる基板回転工程と、前記水平軸線回りに回転させられている基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置に対し当該基板の回転方向の下流側に設定された吹き付け位置に向けて、当該吹き付け位置に対し前記処理カップの内壁と反対側から気体を吹き付ける気体吹き付け工程と、前記水平軸線回りに回転させられている基板の周縁部における前記吹き付け位置に対し当該基板の回転方向の下流側の下流側領域の周囲に、当該基板の主面に沿いかつ前記水平軸線から離反するような第１の横方向に向かう気流を形成する気流形成工程とを含む、基板処理方法である。

この方法によれば、処理カップの内部に基板の少なくとも一部が収容された状態で、基板が鉛直姿勢に保持される。エッチング槽に溜められたエッチング液に基板の周縁部を浸漬させながら水平軸線回りに基板を回転させることにより、基板の周縁部にエッチング液を塗布することができ、これにより、基板の周縁部にエッチング処理を施すことができる。基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置の直ぐ下流側の部分でリンス処理を行わないので、基板の周縁部において大きなエッチング量を確保することが可能である。

また、基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置に対し基板の回転方向の下流側に設定された吹き付け位置に向けて、当該吹き付け位置に対し処理カップの内壁と反対側から気体が吹き付けられる。これにより、基板の周縁部からエッチング液を除去できる。そのため、基板におけるエッチング液の液垂れを抑制または防止することができ、また、基板の周縁部の各所に均一なエッチング処理を施すことができる。

また、基板の少なくとも一部分が処理カップに収容されており、かつ基板の周縁部に対し処理カップの内壁と反対側から気体を吹き付けるので、気体の吹き付けに伴って基板の周縁部から飛散するエッチング液を処理カップによって良好に捕獲できる。処理チャンバの隔壁に付着したエッチング液は、基板の汚染を生じさせるおそれがあるが、そのような、エッチング液の隔壁への付着を未然に抑制または防止できる。

ところが、基板の周縁部への気体の吹き付けに伴って、基板の周縁部における吹き付け位置の周囲に、エッチング液のミストが発生する。発生したエッチング液のミストが、内壁で跳ね返って、基板Ｗの周縁部における吹き付け位置に対し基板の回転方向の下流側の下流側領域の周囲に漂うと、エッチング液除去後の基板の周縁部に付着し、汚染の原因になるおそれがある。エッチング液除去後の基板の周縁部に付着し、汚染の原因になるおそれがある。

この方法では、下流側領域の周囲に、基板の主面に沿いかつ水平軸線から離反するような第１の横方向に向かう気流が形成される。そのため、発生したエッチング液のミストは気流によって第１の横方向に向けて促され、下流側に近づくことが抑制される。これにより、エッチング液除去後の基板の周縁部に、エッチング液のミストが付着することを抑制または防止できる。ゆえに、エッチング液のミストの付着に起因するパーティクルの発生を抑制または防止できる。

これにより、基板の周縁部を良好にエッチング処理できる。

図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置に備えられた処理ユニットの内部を水平方向に見た模式図である。 図２は、図１を、切断面線II−IIから見た図である。 図３Ａは、図１を、切断面線IIIＡ−IIIＡから見た図である。 図３Ｂは、基板の周縁部への気体の吹き付けを説明するための断面図である。 図４は、隔壁の右側面を、処理チャンバの内側から見た図である。 図５は、前記基板処理装置の主要部の電気的構成を説明するためのブロック図である。 図６は、前記処理ユニットにおいて実行されるベベルエッチング処理例の内容を説明するための流れ図である。 図７Ａ〜７Ｂは、前記ベベルエッチング処理例を説明するための模式図である。 図７Ｃは、図７Ｂの次の工程を示す模式図である。 図８は、第１の変形例を説明するための図である。 図９は、第２の変形例を説明するための図である。 図１０は、第３の変形例を説明するための図である。 図１１は、第４の変形例を説明するための図である。 図１２は、第５の変形例を説明するための図である。 図１３は、第６の変形例を説明するための図である。 図１４は、第７の変形例を説明するための図である。 図１５は、第８の変形例を説明するための図である。 図１６は、第９の変形例を説明するための図である。

以下では、この発明の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
＜一実施形態＞
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置１に備えられた処理ユニット２の内部を水平方向に見た模式図である。図２は、図１を、切断面線II−IIから見た図である。図３Ｂは、基板Ｗの周縁部５０への気体の吹き付けを説明するための断面図である。図４は、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａを、処理チャンバ３の内側から見た図である。

基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗの周縁部を一枚ずつエッチング処理する枚葉式の装置（ベベルエッチング装置）である。基板処理装置１は、処理ユニット２を備えている。処理ユニット２は、基板Ｗを鉛直姿勢に保持しながら基板Ｗの周縁部５０を、エッチング液を含む処理液、および処理ガスを用いてエッチング処理する、いわゆる縦置きタイプのベベルエッチング装置である。この実施形態において、基板Ｗの周縁部５０とは、基板Ｗの表面（デバイス形成側の主面。一方主面）の周縁領域５１（図３Ｂ参照）、基板Ｗの裏面（デバイス非形成側の主面。他方主面）の周縁領域５２（図３Ｂ参照）、および基板Ｗの周端面５３を含む部分をいう。周縁領域５１，５２とは、たとえば、基板Ｗの周端縁からコンマ数ミリ〜数ミリメートル程度の幅を有する環状の領域をいう。

処理ユニット２は、内部空間を有する箱形の処理チャンバ３と、処理チャンバ３の内部空間に収容され、基板Ｗを鉛直姿勢に保持しながら、所定の水平軸線Ｃ回りに基板Ｗを回転させる基板保持回転ユニット４と、エッチング液が溜められたエッチング槽５と、基板Ｗの周縁部５０に向けて気体を吹き付ける気体吹き付けユニット６と、処理チャンバ３の内部空間において、基板保持回転ユニット４によって保持されている基板Ｗの大部分（少なくとも一部）を収容する処理カップ７と、処理チャンバ３の内部空間に気流を形成する気流形成ユニット８とを含む。

処理ユニット２は、複数（たとえば５枚）の基板Ｗに対し、ベベルエッチング処理を同時に施す処理ユニットである。図１および図２の例では、１つの処理ユニット２に、基板保持回転ユニット４および気体吹き付けユニット６が基板Ｗの枚数に相当する数だけ設けられている（図２では、気体吹き付けユニット６の図示を省略している）。
処理チャンバ３は、天面９ｂ、底面および４つの側面（第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａ）を含む箱状の隔壁９を含む。

複数の基板保持回転ユニット４は、前後方向に沿って一列に並んで配置されている。 各基板保持回転ユニット４は、真空吸着式のチャック（吸着保持ユニット）である。各基板保持回転ユニット４は、鉛直姿勢の基板Ｗの裏面の中央部を吸着して保持する円板状の吸着ベース１０と、吸着ベース１０を回転可能に支持する支持アーム１１と、吸着ベース１０に結合されて、吸着ベース１０を、その中心を通る水平な回転軸線（水平軸線）Ｃ回りに回転させる基板回転ユニット１２と、吸着ベース１０を昇降させるベース昇降ユニット１３とを含む。真空吸着式の基板保持回転ユニット４は、基板Ｗの保持力が極めて高く、そのため、基板Ｗを高速（たとえば後述するスピンドライ速度）で回転させることも可能である。図２の例では、各基板保持回転ユニット４に保持された状態で、各基板Ｗの回転軸線Ｃは互いに一致している。

吸着ベース１０は、基板Ｗの外径よりも小さな外径を有する水平な円形の吸着面１０ａを含む。基板Ｗの裏面の中央部が吸着ベース１０に吸着保持された状態において、基板Ｗの周縁部５０が、吸着ベース１０の周端縁よりも外側にはみ出ている。基板回転ユニット１２が回転駆動されることにより、回転軸線Ｃ回りに基板Ｗが回転される。基板回転ユニット１２は、たとえばスピンモータである。

ベース昇降ユニット１３は、支持アーム１１に結合されている。ベース昇降ユニット１３は、ボールねじおよびモータを含む構成を用いて構成される。ベース昇降ユニット１３は、支持アーム１１を昇降して、基板Ｗを鉛直姿勢のまま昇降する。ベース昇降ユニット１３は、支持アーム１１を昇降することにより、下位置（図７Ａおよび図７Ｂ参照）と上位置（図７Ｃ参照）との間で、鉛直姿勢のまま基板Ｗを昇降する。

以下の説明では、吸着ベース１０に保持されている基板Ｗの表面が対向する方向を前方Ｄ１とし、吸着ベース１０に保持されている基板Ｗの裏面が対向する方向を後方Ｄ２として説明する。また、基板Ｗの主面（表面または裏面）に沿う水平方向として、第１の水平方向Ｄ３（第１の横方向）と、その逆の第２の水平方向Ｄ４とが存在するが、第１の水平方向Ｄ３が、図１および図２に示す左方向であり、第２の水平方向Ｄ４が、図１および図２に示す右方向である。

エッチング槽５は、基板保持回転ユニット４に保持されている基板Ｗの下方に配置されている。エッチング槽５は、たとえば上方が開放した有底箱状である。１つのエッチング槽５に溜められる処理液（エッチング液またはリンス液）には、複数の基板保持回転ユニット４に保持されている複数枚の基板Ｗが一括して浸漬される。
エッチング槽５には、エッチング液配管１５が接続されている。エッチング液配管１５には、図示しないエッチング供給源からのエッチング液が供給されるようになっている。エッチング液配管１５には、エッチング液配管１５を開閉するためのエッチング液バルブ１６が介装されている。エッチング液バルブ１６が開かれると、エッチング液配管１５からエッチング槽５にエッチング液が供給される。エッチング液バルブ１６が閉じられることにより、エッチング槽５へのエッチング液の供給が停止される。

エッチング槽５に溜められるエッチング液（すなわち、ベベルエッチング処理に用いられるエッチング液）として、この実施形態では、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液：ammonia−hydrogen peroxide mixture）を用いる。しかし、ＳＣ１に代えて、ＨＦ（ふっ酸）、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水：hydrochloric acid/hydrogen peroxide mixture）、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）などをエッチング液として用いることもできる。

図１に示すように、エッチング槽５には、循環配管１７の上流端１７ａおよび下流端１７ｂの双方が接続されている。循環配管１７には、エッチング槽５に溜められているエッチング液を循環配管１７の内部に送り出すための送液ポンプ１８と、循環配管１７を循環するエッチング液を加熱して、当該エッチングの温度を所望の高温まで昇温させるためのヒータ１９と、循環配管１７を循環するエッチング液中の異物を除去するフィルタ２０とが、上流側からこの順で介装されている。循環配管１７には、送液ポンプ１８の上流側において、排液配管２１が分岐接続されている。排液配管２１の途中部には、排液配管２１を開閉するための排液バルブ２２が介装されている。排液配管２１の下流端は、所定の処理液設備に接続されている。

この実施形態では、エッチング槽５にリンス液を溜めることができる。エッチング槽５には、リンス液配管２３が接続されている。リンス液配管２３には、図示しないリンス液供給源からのリンス液が供給されるようになっている。リンス液配管２３には、リンス液配管２３を開閉するためのリンス液バルブ２４が介装されている。リンス液バルブ２４が開かれると、リンス液配管２３からエッチング槽５にリンス液が供給される。リンス液バルブ２４が閉じられることにより、エッチング槽５へのリンス液の供給が停止される。リンス液は、たとえば脱イオン水（ＤＩＷ）であるが、ＤＩＷに限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水および希釈濃度（たとえば、１０ｐｐｍ〜１００ｐｐｍ程度）の塩酸水のいずれかであってもよい。エッチング槽５に、エッチング液ではなくリンス液を溜めることにより、エッチング槽５をリンス槽として機能させることができる。

エッチング槽５が空の状態において、排液バルブ２２が閉じられ、かつエッチング液バルブ１６が開かれることにより、エッチング槽５にエッチング液が溜められる。エッチング槽５に溜められているエッチング液の液面高さが予め定める基準高さに達するとエッチング液バルブ１６が閉じられ、エッチング槽５へのエッチング液の供給が停止される。
エッチング槽５にエッチング液が溜められている状態で、送液ポンプ１８が駆動されると、エッチング槽５から循環配管１７に送られたエッチング液が、循環配管１７を循環してエッチング槽５に戻る。そのため、エッチング液が、エッチング槽５が循環配管を循環し続ける。これにより、エッチング槽５に溜められているエッチング液が予め定める高温に昇温し、その昇温後は、その高温に維持される。すなわち、エッチング槽５に溜められているエッチング液の液温を、所望の高温に精度良く維持できる。

エッチング槽５に溜められているエッチング液の液面高さが基準高さに達している状態において、基板保持回転ユニット４によって保持されている基板Ｗの周縁部５０がエッチング液に浸漬する。エッチング液への基板Ｗの周縁部５０の浸漬深さが、ベベルエッチング処理におけるエッチング幅を規定するので、エッチング液の液面高さは基準高さに高精度に制御されている。

送液ポンプ１８の駆動が停止している状態で、排液バルブ２２が開かれることにより、エッチング槽５に溜められているエッチング液、および循環配管１７の内部のエッチング液が、排液配管２１を介して機外に排出される。
また、エッチング槽５が空の状態において、排液バルブ２２が閉じられ、かつリンス液バルブ２４が開かれることにより、エッチング槽５にリンス液が溜められる。エッチング槽５に溜められているリンス液の液面高さが基準高さに達するとリンス液バルブ２４が閉じられ、エッチング槽５へのリンス液の供給が停止される。エッチング槽５に溜められているリンス液の液面高さが基準高さに達している状態において、基板保持回転ユニット４によって保持されている基板Ｗの周縁部５０がリンス液に浸漬する。

送液ポンプ１８の駆動が停止している状態で、排液バルブ２２が開かれることにより、エッチング槽５に溜められているリンス液が、排液配管２１を介して機外に排出される。
各気体吹き付けユニット６は、対応する基板保持回転ユニット４に保持されている基板Ｗの周縁部５０のうち吹き付け位置Ｐ２に向けて不活性ガス（たとえばＮ_２）等の気体を吹き付ける（ブローする）気体ノズルを含む。気体吹き付け位置Ｐ２は、基板Ｗの周縁部５０の浸漬位置Ｐ１に対し基板Ｗの回転方向Ｄｒ（以下、単に「回転方向Ｄｒ」という）の下流側に間隔を隔てた位置に設定されている。図１の例では、気体吹き付け位置Ｐ２を、基板Ｗの最下位置（すなわち浸漬位置Ｐ１）に対し回転方向Ｄｒの下流側に約６０°隔てた位置に設定しているが、気体吹き付け位置Ｐ２の周方向位置は、基板Ｗの周縁部５０の最下位置（すなわち浸漬位置Ｐ１）から微小角度（たとえば約５°）隔てた位置Ｐ３から、最下位置（すなわち浸漬位置Ｐ１）に対し回転方向Ｄｒの下流側に約９０°隔てた位置Ｐ４までの範囲において適宜設定可能である。

気体ノズルは、図３Ｂに示すように、基板Ｗの表面側から基板Ｗの周縁部５０に向けて（より具体的には、基板Ｗの表面の周縁領域５１に向けて）気体を吹き付ける第１の気体ノズル（第１の気体吐出ユニット）２５ａと、基板Ｗの裏面側から基板Ｗの周縁部５０に向けて（より具体的には、基板Ｗの裏面の周縁領域５２に向けて）気体を吹き付ける第２の気体ノズル（第２の気体吐出ユニット）２５ｂとを含む。

各気体吹き付けユニット６は、図１に示すように、各気体ノズル（気体ノズル２５ａ，２５ｂ）に接続された気体配管２６（図３Ｂ参照）と、気体配管２６に介装されて、気体配管２６から気体ノズル２５ａ，２５ｂへの気体の供給および供給停止を切り換える気体バルブ２７（図３Ｂ参照）とを含む。第１の気体ノズル２５ａ、気体配管２６および気体バルブ２７が、第１の気体吹き付けユニットに含まれる。第２の気体ノズル２５ｂ、気体配管２６および気体バルブ２７が、第２の気体吹き付けユニットに含まれる。

第１および第２の気体ノズル２５ａ，２５ｂは、その吐出口を基板Ｗの周縁部５０の気体吹き付け位置Ｐ２に向けて、気体吹き付け位置Ｐ２に対し基板Ｗの回転半径方向における内側に配置されている。これにより、第１および第２の気体ノズル２５ａ，２５ｂから吹き付けられる気体が、側面視（前面視または背面視）において、基板Ｗの回転半径方向に沿ってその内側から外側に向かう。

第１の気体ノズル２５ａからの気体の吐出方向は、鉛直方向ＤＶに対して基板Ｗの周縁部５０の方へ傾けられている。すなわち、気体吹き付け位置Ｐ２は、水平方向に関して第１の気体ノズル２５ａの吐出口よりも基板Ｗの周縁部５０側に配置されており、第１の気体ノズル２５ａからの気体の吐出方向は、基板Ｗの表面に対して傾いている。第１の気体ノズル２５ａからの気体の吐出方向と、基板Ｗの表面とがなす角度（入射角度）θ１（図３Ｂ参照）は、たとえば、約５°〜約９０°の範囲内に設定されており、より好ましくは、図３Ｂに示すように約４５°に設定されている。

第２の気体ノズル２５ｂからの気体の吐出方向は、鉛直方向ＤＶに対して基板Ｗの周縁部５０の方へ傾けられている。すなわち、気体吹き付け位置Ｐ２は、水平方向に関して第２の気体ノズル２５ｂの吐出口よりも基板Ｗの周縁部５０側に配置されており、第２の気体ノズル２５ｂからの気体の吐出方向は、基板Ｗの裏面に対して傾いている。第２の気体ノズル２５ｂからの気体の吐出方向と、基板Ｗの裏面とがなす角度（入射角度）θ２（図３Ｂ参照）は、たとえば、約５°〜約９０°の範囲内に設定されており、より好ましくは、図３Ｂに示すように約４５°に設定されている。

基板保持回転ユニット４によって回転されている基板Ｗの周縁部５０に対して、回転半径方向の内側から気体が吹き付けられる。そのため、基板Ｗの周縁部５０に付着しているエッチング液を、エッチング残渣ごと基板Ｗ外に排出できる。ゆえに、基板Ｗの周縁部５０からエッチング液を良好に除去できる。
また、基板Ｗの周縁部５０に向けて、基板Ｗの表面側と基板Ｗの裏面側との双方から気体を吹き付けるため、基板Ｗの表面の周縁領域５１、および基板Ｗの裏面の周縁領域５２の双方からエッチング液を良好に除去できる。

処理カップ７は、複数の基板保持回転ユニット４に対し、前方Ｄ１、後方Ｄ２および第１の水平方向Ｄ３を取り囲み、かつ第２の水平方向Ｄ４が開放された箱状をなしている。図１に示すように、処理カップ７は、複数の基板保持回転ユニット４に保持されている各基板Ｗの大部分を収容している。
処理カップ７は、内壁３１を有している。内壁３１は、底壁３２と、底壁３２の、第１の水平方向Ｄ３側の端縁から上方に向けて立ち上がる側壁３３とを含む。底壁３２および側壁３３は、たとえば耐薬性を有する樹脂材料を用いて一体に形成されている。

図２に示すように、側壁３３の水平方向に沿う断面形状が、第１の水平方向Ｄ３に向けて間隔が狭くなるようなＶ字状をなしている。すなわち、側壁３３の第１の内面３３ａは屈曲面であり、第１の水平方向Ｄ３に向けて間隔が狭くなるようなＶ字面である。第１の内面３３ａの、第１の水平方向Ｄ３の最奥部分には、上下に延びる直線状の第１の底端縁３４が形成されている。

底壁３２は、第２の水平方向Ｄ４に向かうに従って下方に傾斜する傾斜状をなしている。底壁３２の、第２の水平方向Ｄ４側の端部が、エッチング槽５の上方に位置している。底壁３２は、鉛直方向に沿う断面形状が下方に向けて間隔が狭くなるようなＶ字状をなしている。すなわち、底壁３２の第２の内面３２ａは屈曲面であり、下方に向けて間隔が狭くなるようなＶ字面である。底壁３２の第２の内面３２ａの最下位部分には、左右に延びる第２の底端縁（最下部）３５が形成されている。第２の底端縁３５は第１の底端縁３４に連続している。第２の底端縁３５は、水平面に対して傾斜している。図１は、処理カップ７を、第１の底端縁３４および第２の底端縁３５を通る鉛直面で切断した状態を示している。

気流形成ユニット８は、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａから処理チャンバ３の内部空間に清浄空気を送る送風ユニットとしてのＦＦＵ（ファン・フィルタ・ユニット。給気ユニット）３６と、処理カップ７の側壁３３に形成された排気口３７とを含む。
ＦＦＵ３６は隔壁９の右方に配置されており、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａに取り付けられている。ＦＦＵ３６は、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａから処理チャンバ３の内部空間に清浄空気を送る。

隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａには、図１および図４に示すように、基板Ｗの搬入または搬出のための搬出入口４６が形成されている。隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａには、搬出入口４６を開閉するためのシャッタ４７が設けられている。シャッタ４７は、搬出入口４６を覆う閉位置（図１および図４でそれぞれ実線および破線で図示）と、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａにおける搬出入口４６の下方部に退避して、搬出入口４６を開放する開状態（図１および図４で二点鎖線で図示）との間で昇降可能に設けられている。シャッタ４７が閉状態にあるときは、処理チャンバ３の内部空間が、その外側の空間と遮断される。シャッタ４７には、シャッタ４７を開位置と閉位置との間で昇降させるためのシャッタ昇降ユニット４８が結合されている。シャッタ昇降ユニット４８はたとえばシリンダを含む。処理チャンバ３の外側には、搬出入口４６を通して処理チャンバ３内にハンドをアクセスさせ、基板Ｗを搬出入するための基板搬送装置（図示しない）が配置されている。

隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａには、ＦＦＵ３６が、シャッタ４７が配置される領域の周囲および搬出入口４６の周囲を取り囲むように設けられている。具体的には、図４に示すように、側面視矩形状の複数（たとえば４つ）のＦＦＵモジュール３６ａを、シャッタ４７が配置される領域の周囲および搬出入口４６の周囲を取り囲むように並べている。これにより、ＦＦＵ３６を、搬出入口４６が形成されるのと同じ第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａに良好に設けることができる。しかも、このようなレイアウトとすることで、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａにおけるＦＦＵ３６の配置面積を、最大限に確保することが可能である。

図１に示すように、排気口３７は、Ｖ字面からなる第１の内面３３ａの最奥部分に形成されている。また、排気口３７は、側壁３３（第１の内面３３ａ）の上端部分に設けられている。排気口３７には、排気口３７に接続された排気ダクト３８を介して排気装置３９が接続されている。排気装置３９は、処理カップ７の、第１の水平方向Ｄ３側の最奥部分から、処理カップ７の内部を吸引する。ＦＦＵ３６および排気口３７（排気装置３９）により、処理カップ７の内部に、第２の水平方向Ｄ４から第１の水平方向Ｄ３に向けて横方向に流れる気流ＦＬが形成される。

また、ＦＦＵ３６および排気口３７が、左右方向（第１の横方向に沿う方向）に基板Ｗを挟んでいるので、ＦＦＵ３６によって処理チャンバ３の内部空間に気体を供給し、かつ処理チャンバ３の内部空間の雰囲気を排気口３７から排気することにより、処理チャンバ３の内部空間に、第１の水平方向Ｄ３に向かう気流ＦＬを形成できる。
また、側壁３３の第１の内面３３ａのＶ字面のうち最奥部分に排気口３７が配置される。そのため、処理カップ７の内部における、第１の水平方向Ｄ３の端部において、排気口３７に向かう気流を安定して形成できる。これにより、処理カップ７の内部に、円滑に流れる気流を形成できる。

処理チャンバ３の内部空間における処理カップ７の外方には、排気口３７とは別にチャンバ排気口４０が形成されている。チャンバ排気口４０には、排気ダクト（図示しない）を介して排気装置（図示しない）が接続されている。図２の例では、この排気装置は、排気装置３９とは別個の装置であるが、排気装置３９が共通して使用されていてもよい。排気口３７とは別にチャンバ排気口４０を設けるので、処理カップ７の内部だけでなく、処理チャンバ３の内部における処理カップ７の外方に存在するエッチング液のミストを、処理チャンバ３の内部から良好に排除できる。

処理ユニット２は、さらに、基板搬送装置（図示しない）と、基板保持回転ユニット４との間で、基板Ｗを受け渡す受け渡し装置４１を含む。基板搬送装置から基板Ｗを受け取り、かつ受け取った基板Ｗの姿勢を変更して、受け渡し装置４１は、処理チャンバ３の内部空間で基板Ｗを支持する支持部４２と、支持部４２に保持されている基板Ｗの姿勢を水平姿勢と鉛直姿勢（吸着ベース１０の吸着面１０ａに沿う鉛直姿勢）との間で変化させる姿勢変更装置４３と、支持部４２を水平方向および／または鉛直方向に移動させる移動装置４４とを含む。受け渡し装置４１は、処理ユニット２によって処理される基板Ｗの枚数に相当する数だけ設けられている。受け渡し装置４１は、基板保持回転ユニット４に一対一対応で設けられている。図示の関係上、図２において、受け渡し装置４１の図示を省略している。

支持部４２が基板Ｗを水平姿勢に保持できる姿勢にあり、かつ支持部４２が搬出入口４６に対し第１の水平方向Ｄ３に対向している状態で、基板搬送装置（図示しない）から支持部４２に、水平姿勢の基板Ｗが引き渡される。
支持部４２が受け取った基板Ｗは、吸着ベース１０へ引き渡される。具体的には、移動装置４４が、支持部４２に保持されている基板Ｗを、対応する基板保持回転ユニット４の直上位置（図１に二点鎖線で示す位置）まで水平移動させる。当該直上位置への到達後、姿勢変更装置４３が、支持部４２に保持されている基板Ｗの姿勢を、水平姿勢から鉛直姿勢へと姿勢変更させる。その後、移動装置４４が、支持部４２を下降させ、吸着ベース１０の吸着面１０ａに対向する位置まで基板Ｗを下降させる。この状態で、吸着ベース１０の吸着面１０ａが吸引されることにより、基板のＷの裏面が吸着ベース１０によって吸着保持され、支持部４２から吸着ベース１０に、鉛直姿勢の基板Ｗが引き渡される。

一方、支持部４２が基板Ｗを鉛直姿勢に保持できる姿勢にあり、かつ支持部４２が吸着ベース１０の吸着面１０ａに対向している状態で、吸着面１０ａの吸引を解除し、かつ支持部４２が基板Ｗを支持することにより、支持部４２から吸着ベース１０に、鉛直姿勢の基板Ｗが引き渡される。
移動装置４４によって基板Ｗが上昇された後、姿勢変更装置４３が、支持部４２に保持されている基板Ｗの姿勢を、鉛直姿勢から水平姿勢へと姿勢変更させる。その後、移動装置４４が、支持部４２に保持されている基板Ｗを、搬出入口４６に対し第１の水平方向Ｄ３に対向する位置まで水平移動させる。この状態で、基板搬送装置（図示しない）のハンドが基板Ｗに対してアクセスすることにより、基板搬送装置に、水平姿勢の基板Ｗが引き渡される。

図５は、基板処理装置１の主要部の電気的構成を説明するためのブロック図である。
基板処理装置１は、マイクロコンピュータからなる制御装置１００を備えている。制御装置１００は、予め定められたプログラムに従って、基板回転ユニット１２、ベース昇降ユニット１３、ＦＦＵ３６、排気装置３９、姿勢変更装置４３、移動装置４４、シャッタ昇降ユニット４８等の動作を制御する。さらに、制御装置１００は、エッチング液バルブ１６、排液バルブ２２、リンス液バルブ２４、気体バルブ２７の開閉動作を制御する。

図６は、処理ユニット２において実行されるベベルエッチング処理例の内容を説明するための流れ図である。図７Ａ〜７Ｃは、このベベルエッチング処理例を説明するための模式図である。
このベベルエッチング処理例について、図１〜図６を参照しながら説明する。図７Ａ〜７Ｃは適宜参照する。

前述のように、ＦＦＵ３６は常時稼働しており、また、排気口３７及びチャンバ排気口４０からの吸引も常時行われている。そのため、処理チャンバ３の内部空間への基板Ｗの搬入前において、処理チャンバ３の内部空間、とくに処理カップ７の内部に、左方に向かう気流ＦＬが形成されている。
ベベルエッチング処理の開始前において、エッチング槽５にエッチング液が溜められており、その液面高さは予め定める基準液面高さにある。また、エッチング槽５に溜められているエッチング液（たとえばＳＣ１）の液温が、予め定める高温（約６０℃〜約８０℃の範囲内の、予め定める温度）に維持されている。

ベベルエッチング処理の開始に際して、シャッタ４７が閉位置から開位置に移動され、搬出入口４６が開放する。未処理状態の複数枚（たとえば５枚の）の基板Ｗが処理チャンバ３の内部空間に搬入され（図６のＳ１：基板Ｗ搬入）、受け渡し装置４１を介して、基板保持回転ユニット４の吸着ベース１０に受け渡される。
具体的には、基板搬送装置（図示しない）によって水平姿勢の基板Ｗが、１枚ずつ受け渡し装置４１に引き渡される。また、各受け渡し装置４１が、受け取った基板Ｗを鉛直姿勢に姿勢変更し、かつ基板保持回転ユニット４の吸着ベース１０の吸着面１０ａに対向する位置まで移動させる。その後、吸着ベース１０に基板Ｗが引き渡され、吸着ベース１０の吸着面１０ａに基板Ｗが保持される。

搬入対象の全ての基板Ｗが搬入されて、基板搬送装置が処理チャンバ３外に退避させられた後、シャッタ４７によって搬出入口４６が閉じられる。
シャッタ４７の閉塞後、制御装置１００は、エッチング工程を実行する（図６のＳ３）。具体的には、制御装置１００は、ベース昇降ユニット１３を制御して、各基板保持回転ユニット４の吸着ベース１０を下位置（図７Ｃに示す位置）まで下降させる。吸着ベース１０の下位置は、吸着ベース１０によって保持されている基板Ｗの最下位置が、エッチング槽５において基準液面高さに溜められているエッチング液に、予め定めるエッチング幅に相当する深さだけ浸漬するような位置である。そのため、図７Ａに示すように、各基板Ｗの周縁部５０の最下位置（すなわち浸漬位置Ｐ１）が、エッチング槽５に溜められているエッチング液に浸漬される。これにより、各基板Ｗの周縁部５０にエッチング液が塗布され、各基板Ｗの周縁部５０がエッチングされる。すなわち、複数枚の基板Ｗの周縁部５０に対し、エッチング工程が同時に施される。

また、制御装置１００は、基板回転ユニット１２を制御して、基板Ｗの回転を開始させる。基板Ｗの回転が予め定めるエッチング処理速度（たとえば約１ｒｐｍ〜約１０００ｒｐｍの範囲で、より好ましくは約５００ｒｐｍ）に達した以降は、そのエッチング処理速度に維持される。
特許文献１のように、水平姿勢の基板を、鉛直軸線回りに回転させる横置きタイプの基板処理装置では、基板の周縁部に供給した処理液（エッチング液）が基板の中央部に向けて移動するのを防止するため、比較的高回転速度で基板を回転させる必要がある。しかし、この実施形態のように、縦置きタイプの基板処理装置１では、そのような問題が発生しない。そのため、基板Ｗの回転速度の設定の自由度が高くなり、基板Ｗの回転速度（エッチング処理速度）を比較的低速に設けることも可能である。

エッチング工程において、表面の周縁領域５１、裏面の周縁領域５２および周端面５３を含む基板Ｗの周縁部５０が、エッチング槽５に溜められているエッチング液に浸漬される。そのため、表面の周縁領域５１に接液するエッチング液の量と、裏面の周縁領域５２に接液するエッチング液の量とを等しくすることができる。これにより、周縁領域５１，周縁領域５２に対するエッチング工程における、表裏面の均一性を高めることができる。

また、エッチング工程において、循環配管１７にエッチング液を循環させることにより、所望の高温に良好に温度制御されたエッチング液を、エッチング槽５に溜めておくことができる。これにより、所望の高温に良好に温度制御されたエッチング液を用いて、基板Ｗの周縁部５０をエッチングすることができる。
基板Ｗの回転開始に並行して、また、制御装置１００は、気体バルブ２７を開いて、各気体ノズル（第１および第２の気体ノズル２５ａ，２５ｂ）の吐出口から、各基板Ｗの周縁部５０の吹き付け位置Ｐ２に向けて、気体を吹き付ける。このときの吹き付け流量は、たとえば８（リットル／分）である。各基板Ｗの周縁部５０への気体の吹き付けにより、各基板Ｗの周縁部５０に塗布されているエッチング液が吹き飛ばされ、各基板Ｗの周縁部５０から除去される。

各基板Ｗの周縁部５０への気体の吹き付けによって、基板Ｗの周縁部５０に塗布されていたエッチング液が気体の供給側と反対側に向けて飛散する。前述のように、気体吹き付け位置Ｐ２の周方向位置が、基板Ｗの周縁部５０の最下位置（すなわち浸漬位置Ｐ１）から微小角度（たとえば約５°）回転方向Ｄｒに隔てた位置Ｐ３から、最下位置（すなわち浸漬位置Ｐ１）に対し回転方向Ｄｒの下流側に約９０°隔てた位置Ｐ４までの範囲内で適宜設定されている。また、気体吹き付け位置Ｐ２に対し、気体ノズル（第１および第２の気体ノズル２５ａ，２５ｂ）の吐出口と反対側には、側壁３３の第１の内面３３ａまたは底壁３２の第２の内面３２ａが存在している。そのため、基板Ｗの周縁部５０から飛散するエッチング液が、側壁３３の第１の内面３３ａまたは底壁３２の第２の内面３２ａによって捕獲される。

第１の内面３３ａまたは第２の内面３２ａによって捕獲されたエッチング液は、底面の第２の内面３２ａの第２の底端縁３５に集められる。こうして集められたエッチング液が、傾斜状の第２の底端縁３５を伝って、自重によってエッチング槽５へと案内される。すなわち、捕獲されたエッチング液をエッチング槽５にダイレクトに帰還させることができ、これにより、基板Ｗの周縁部５０のエッチングに用いられたエッチング液を、エッチング槽５が良好に回収できる。

また、各基板Ｗの周縁部５０への気体の吹き付けに伴って、基板Ｗの周縁部５０における吹き付け位置Ｐ２の周囲に、エッチング液のミストＭが発生する。発生したエッチング液のミストＭが、内壁３１で跳ね返って、各基板Ｗの周縁部５０における吹き付け位置Ｐ２に対し回転方向Ｄｒの下流側の下流側領域Ｐ５（以下、単に「下流側領域Ｐ５」という）の周囲に漂うと、エッチング液除去後の各基板Ｗの周縁部５０や表面、裏面に付着し、汚染の原因になるおそれがある。下流側領域Ｐ５とは、基板Ｗの周縁部５０における吹き付け位置Ｐ２に対し回転方向Ｄｒの下流側の領域であって、吹き付け位置Ｐ２と基板Ｗの周縁部５０の最上位置Ｐ６との間の少なくとも一部分の領域をいう。

しかしながら、このベベルエッチング処理では、処理の開始から、処理チャンバ３の内部空間、とくに処理カップ７の内部に、左方に向かう気流ＦＬが形成されている。このような気流ＦＬは、下流側領域Ｐ５の周囲にも形成されている。下流側領域Ｐ５の周囲における、気流ＦＬの向かう方向は、基板Ｗの主面（表裏面）に沿いかつ、下流側領域Ｐ５において基板Ｗから離反するような方向である第１の水平方向Ｄ３である。そのため、発生したエッチング液のミストＭは気流ＦＬによって第１の水平方向Ｄ３に向けて促され、下流側領域Ｐ５に近づくことが抑制される。

また、側壁３３の第１の内面３３ａがＶ字面をなしているので、第１の内面３３ａの奥行きを、第１の水平方向Ｄ３に広げることができるので、側壁３３の第１の内面３３ａにおけるエッチング液の跳ね返りを、より効果的に抑制できる。
予め定める周回数だけ、各基板Ｗが回転させられた後、制御装置１００は、基板回転ユニット１２を制御して、各基板Ｗの回転を停止させる。また、制御装置１００は、ベース昇降ユニット１３を制御して、各吸着ベース１０を上位置（図７Ｃに示す位置）まで上昇させる。これにより、基板Ｗの周縁部５０がエッチング液への浸漬状態から退避する。 また、制御装置１００は、気体バルブ２７を閉じて、各気体ノズル（第１および第２の気体ノズル２５ａ，２５ｂ）の吐出口からの気体の吐出を停止する。

その後、制御装置１００は、排液バルブ２２を開く。これにより、エッチング槽５および循環配管１７からエッチング液が抜かれる。エッチング槽５が空になった後、制御装置１００は、排液バルブ２２を閉じながらリンス液バルブ２４を開いて、エッチング槽５にリンス液を供給する。これにより、エッチング槽５にリンス液が溜められ、エッチング液がリンス槽として機能するようになる。

次いで、制御装置１００はリンス工程を実行する（図６のＳ４）。具体的には、制御装置１００は、各ベース昇降ユニット１３を制御して、図７Ｂに示すように、各基板保持回転ユニット４の吸着ベース１０を下位置まで下降させる。そのため、各基板Ｗの周縁部５０の最下位置（すなわち浸漬位置Ｐ１）が、エッチング槽５に溜められているリンス液に浸漬される。これにより、基板Ｗの周縁部５０に付着しているエッチング液が洗い流される。すなわち、複数枚の基板Ｗの周縁部５０に対し、リンス工程が同時に施される。

また、制御装置１００は、基板回転ユニット１２を制御して、基板Ｗの回転を開始させる。基板Ｗの回転が予め定めるリンス処理速度（たとえば約１ｒｐｍ〜約１０００ｒｐｍの範囲で、より好ましくは約１０ｒｐｍ）に達した以降は、そのリンス処理速度に維持される。
また、制御装置１００は、気体バルブ２７を開いて、各気体ノズル（第１および第２の気体ノズル２５ａ，２５ｂ）の吐出口から、各基板Ｗの周縁部５０の吹き付け位置Ｐ２に向けて、気体を吹き付ける。このときの吹き付け流量は、たとえば８（リットル／分）である。各基板Ｗの周縁部５０への気体の吹き付けにより、各基板Ｗの周縁部５０に付着しているリンス液が吹き飛ばされ、各基板Ｗの周縁部５０から除去される。

予め定める周回数だけ、各基板Ｗが回転させられた後、制御装置１００は、基板回転ユニット１２を制御して各基板Ｗの回転を停止させる。また、制御装置１００は、ベース昇降ユニット１３を制御して、各吸着ベース１０を上位置まで上昇させる。これにより、基板Ｗの周縁部５０がリンス液への浸漬状態から退避する。
次いで、制御装置１００は乾燥処理を実行する（図６のＳ５）。具体的には、制御装置１００は、各基板保持回転ユニット４の吸着ベース１０を上位置に維持しながら、各基板Ｗの回転を加速し、基板Ｗの回転速度を、エッチング工程（Ｓ３）またはリンス工程（Ｓ４）よりも高速のスピンドライ速度（たとえば約２５００ｒｐｍ）まで上昇させ、その後そのスピンドライ速度で維持させる。これにより、各基板Ｗの周縁部５０に付着しているリンス液が振り切られて、基板Ｗの周縁部５０が乾燥させられる。すなわち、複数枚の基板Ｗの周縁部５０に対し、乾燥処理が同時に施される。

乾燥工程（Ｓ５）の開始から予め定める期間が経過すると、制御装置１００は、基板回転ユニット１２を制御して各基板保持回転ユニット４の回転（すなわち、基板Ｗの回転）を停止させる。
その後、ベベルエッチング処理済みの複数枚の基板Ｗが、受け渡し装置４１を介して、基板搬送装置（図示しない）によって処理チャンバ３の外に搬出される（図６のＳ６）。具体的には、各受け渡し装置４１が、対応する基板保持回転ユニット４から基板Ｗを受け取る。各受け渡し装置４１は、受け取った基板Ｗを水平姿勢に姿勢変更し、かつ搬出入口４６に対し第１の水平方向Ｄ３に対向する位置まで移動させる。その後、基板搬送装置によって、処理チャンバ３の外に基板Ｗが搬出される。

以上によりこの実施形態によれば、処理カップ７の内部に基板Ｗが収容された状態で、基板Ｗが鉛直姿勢に保持される。エッチング槽５に溜められたエッチング液に基板Ｗの周縁部５０を浸漬させながら水平な回転軸線Ｃ回りに基板Ｗを回転させることにより、基板Ｗの周縁部５０にエッチング液を塗布することができ、これにより、基板Ｗの周縁部５０をエッチングすることができる。基板Ｗの周縁部５０におけるエッチング液への浸漬位置Ｐ１の直ぐ下流側の部分でリンス処理を行わないので、基板Ｗの周縁部５０において大きなエッチング量を確保することが可能である。

また、基板Ｗの周縁部５０におけるエッチング液への浸漬位置Ｐ１に対し回転方向Ｄｒの下流側に設定された吹き付け位置Ｐ２に向けて、吹き付け位置Ｐ２に対し処理カップ７の内壁３１と反対側から気体が吹き付けられる。これにより、基板Ｗの周縁部５０からエッチング液を除去できる。そのため、基板Ｗにおけるエッチング液の液垂れを抑制または防止することができ、また、基板Ｗの周縁部５０の各所に均一なエッチング処理を施すことができる。

また、基板Ｗが処理カップ７に収容されており、かつ基板Ｗの周縁部５０に対し処理カップ７の内壁３１と反対側から気体を吹き付けるので、気体の吹き付けに伴って基板Ｗの周縁部５０から飛散するエッチング液を処理カップ７によって良好に捕獲できる。処理チャンバ３の隔壁９に付着したエッチング液は、基板Ｗの汚染を生じさせるおそれがあるが、そのような、エッチング液の隔壁９への付着を未然に抑制または防止できる。

ところが、基板Ｗの周縁部５０への気体の吹き付けに伴って、基板Ｗの周縁部５０における吹き付け位置Ｐ２の周囲に、エッチング液のミストＭが発生する。発生したエッチング液のミストＭが、内壁３１で跳ね返って、基板Ｗの周縁部５０の下流側領域Ｐ５の周囲に漂うと、エッチング液除去後の基板Ｗの周縁部５０に付着し、汚染の原因になるおそれがある。

この実施形態では、下流側領域Ｐ５の周囲に第１の水平方向Ｄ３に向かう気流ＦＬが形成される。そのため、発生したエッチング液のミストＭは気流ＦＬによって第１の水平方向Ｄ３に向けて促され、下流側領域Ｐ５に近づくことが抑制される。ゆえに、エッチング液除去後の基板Ｗの周縁部５０に、エッチング液のミストＭが付着することを抑制または防止できる。これにより、エッチング液のミストＭの付着に起因するパーティクルの発生を抑制または防止できる。

これにより、基板Ｗの周縁部５０を良好にエッチング処理できる。
また、処理チャンバ３の内部空間に、複数の基板保持回転ユニット４が収容されている。基板保持回転ユニット４が基板Ｗを鉛直姿勢で保持するので、各基板保持回転ユニット４を、前後方向（回転軸線Ｃに沿う方向）に小型化できる。しかも、複数の基板保持回転ユニット４が前後方向（回転軸線Ｃに沿う方向）に並んでいるので、処理チャンバ３の全体が大型化する必要がない。そのため、処理チャンバ３が大型化することなく、処理チャンバ３の内部に複数の基板保持回転ユニット４を収容できる。これにより、スループットの向上を図ることができる。

また、エッチング処理の際には、リンス液バルブ２４を閉じながらエッチング液バルブ１６を開く。これにより、エッチング槽５にエッチング液が供給され、エッチング槽５にエッチング液が溜められる。また、リンス工程の際には、エッチング液バルブ１６を閉じながらリンス液バルブ２４を開く。これにより、エッチング槽５にリンス液が供給され、エッチング槽５にリンス液が溜められる。すなわち、エッチング工程（Ｓ３）およびリンス工程（Ｓ４）の双方を、共通のエッチング槽５を使用しながら、基板Ｗの周縁部５０に施すことができる。これにより、リンス槽を別途設ける必要がなく、装置の簡素化を図ることができる。

以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は、他の形態で実施することもできる。
＜ＦＦＵ３６（給気ユニット）および排気口３７についての変形例＞
隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａにおいて、図８に示すように、ＦＦＵ３６が、搬出入口４６の上方に設けられ、かつ搬出入口４６の前後の側方には設けられていない構成であってもよい。

また、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａにおいて、図９に示すように、ＦＦＵ３６が、搬出入口４６の下方に設けられ、かつ搬出入口４６の前後の側方には設けられていない構成であってもよい。
図８および図９の変形例によっても、ＦＦＵ３６を、搬出入口４６が形成されるのと同じ第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａに良好に設けることができる。しかも、このようなレイアウトとすることで、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａにおけるＦＦＵ３６の配置面積を、最大限に確保することが可能である。

また、図９の変形例では、下流側領域Ｐ５の周囲における気流ＦＬの向かう方向が、水平面に対して傾斜する方向である。すなわち、下流側領域Ｐ５の周囲における気流ＦＬの向かう方向が、基板Ｗの主面（表裏面）に沿いかつ、下流側領域Ｐ５において基板Ｗから離反するような方向である第１の傾斜方向Ｄ３１である。
また、図９の例に限られず、前記の実施形態において、本実施形態において、下流側領域Ｐ５の周囲における気流ＦＬの向かう方向が、水平面に対して傾斜していてもよい。

さらに、隔壁９の天面９ｂに搬出入口４６が形成されている場合には、図１０に示すように、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａの中央部を含む領域に、ＦＦＵ３６が設けられてもよい。
図１０の変形例によれば、ＦＦＵ３６を、搬出入口４６が形成される面とは異なる面に設けるので、隔壁９に対するＦＦＵ３６の配置レイアウトに自由度を持たせることができる。したがって、隔壁９の、第２の水平方向Ｄ４側の側面９ａの中央部を含む領域に、ＦＦＵ３６を設けることができ、これにより、処理チャンバ３の内部空間に水平方向に沿う気流を、容易に形成できる。

また、給気ユニットの一例としてＦＦＵ３６を示したが、ＦＦＵ３６に限られず、その他の給気構造を給気ユニットとして設けることができる。
さらには、排気装置３９と排気口３７とがあり、加えて給気口があれば、給気ユニットを省略しても、処理チャンバ３の内部空間に気流を形成することができる。
また、排気口３７が、処理カップ７の内壁３１（側壁３３）に開口しておらず、処理チャンバ３の内部空間における、処理カップ７の上方（好ましくは、側壁３３の上方）で開口していてもよい。

また、排気口３７が、側壁３３（第１の内面３３ａ）の上端部分以外の領域、すなわち、第１の内面３３ａの上下方向の中央部や、下端部に設けられていてもよい。
＜処理カップ７についての変形例＞
また、前述の説明において、側壁３３の第１の内面３３ａがＶ字面からなるとしたが、側壁３３の第１の内面３３ａはこの面形状に限られず、たとえば平坦面からなってもよい。

また、前述の説明において、底壁３２の第２の内面３２ａがＶ字面からなるとしたが、底壁３２の第２の内面３２ａはこの面形状に限られず、たとえば平坦面からなってもよい。
また、図１１に示すように、処理カップ７が、下カップのみならず、上カップ７１をも備える構成であってもよい。
＜気体吹き付けユニット６についての変形例＞
気体吹き付けユニット６（第１および第２の気体ノズル２５ａ，２５ｂ）が、基板Ｗの周縁部５０に設定された吹き付け位置Ｐ２に対し、基板Ｗの回転半径方向の内側からではなく、図１２に示すように、基板Ｗの回転半径方向に対して交差する方向（水平方向）に気体を吹き付けるものであってもよい。

また、気体吹き付けユニット６によって吹き付けられる不活性ガスとして、Ｎ_２を例に挙げたが、その他、ヘリウムやアルゴンを不活性ガスとして用いることもできる。また、気体吹き付けユニット６によって吹き付けられる気体は、不活性ガスに限られず、空気等を用いることもできる。
＜エッチング槽５についての変形例＞
図１３に示すように、エッチング槽５の上面に、当該上面全域を覆う蓋２０１を設け、この蓋２０１に、基板Ｗの周縁部５０が通過して、当該周縁部５０をエッチング液に浸漬させるためのスリット２０２が形成されていてもよい。この場合、図１３に示すように、処理カップ７の内壁３１に捕獲されたエッチング液が帰還するための帰還穴２０３が蓋２０１に形成されていてもよい。
＜リンス槽についての変形例＞
エッチング槽５とは別に、リンス槽３０１を設けてもよい。そして、リンス工程において、リンスすなわち、リンス槽３０１に溜められたリンス液に基板Ｗの周縁部５０を浸漬させながら基板を回転させることにより、基板Ｗの周縁部５０にリンス処理が施される。

この場合、図１４および図１５に示すように、たとえば、エッチング槽５の第２の水平方向Ｄ４側に隣接して、リンス槽３０１が設けられる。このとき、基板Ｗの周縁部５０の浸漬先を、エッチング槽５とリンス槽３０１との間で切り換えるためには、図１４（ａ）および図１４（ｂ）に示すように、基板Ｗの位置を動かさずに、エッチング槽５およびリンス槽３０１を動かしてもよいし、図１５（ａ）および図１５（ｂ）に示すように、エッチング槽５およびリンス槽３０１を動かさずに、基板Ｗの位置を動かしてもよい。
＜基板保持回転ユニット４についての変形例＞
図１６に示すように、基板保持回転ユニット４に代えて、水平軸線Ｃ回りに基板Ｗを回転可能に保持する保持ユニット４０２と、基板Ｗの周縁部５０に接触するローラ４０３とを含む基板保持回転ユニット４０１が採用されていてもよい。保持ユニット４０２は、水平方向に移動可能な１対のガイド４０２ａ，４０２ｂを含む。各ガイド４０２ａ，４０２ｂ、基板Ｗの外周に整合する円弧状部のガイド面４０４ａを有している。ガイド面４０４ａを基板Ｗの外周に接触させることにより、保持ユニット４０２は、基板Ｗを、水平軸線Ｃまわりに回転可能に保持している。

基板保持回転ユニット４０１には、複数（たとえば２個の）ローラ４０３が設けられている。各ローラ４０３は、その中心を通る回転軸線回りに回転可能に設けられている。各ローラ４０３が基板Ｗの周縁部５０に接触している状態で、ローラ４０３を回転させることにより、基板Ｗが回転させられる。
基板保持回転ユニット４０１は、各ローラ４０３を回転するための駆動ユニット４０５を備えている。駆動ユニット４０５は、ベルトやモータを含む構成である。複数のローラ４０３と駆動ユニット４０５とはユニット化されている。

保持ユニット４０２に基板Ｗが保持されている状態で、複数のローラ４０３および駆動ユニット４０５が降下して、複数のローラ４０３が基板Ｗの周縁部５０に接触する。そして、ローラ４０３が回転することにより、基板Ｗが回転する。エッチング工程（図６のＳ３）では、基板Ｗの周縁部５０がエッチング槽５のエッチング液に浸漬されている状態で、基板Ｗが回転され、これにより、基板Ｗの周縁部５０がエッチングされる。

基板Ｗの周縁部５０に対するエッチング処理では、スピンチャック（基板保持回転ユニット４）に対して基板Ｗが偏芯していると、基板Ｗの回転角度に応じて、基板Ｗの周端と回転軸線（水平軸線Ｃ）との距離が変化する。この場合、基板Ｗの周縁部５０におけるエッチング幅の均一性を高くに保つことができない。
この変形例によれば、保持ユニット４０２によって基板Ｗが鉛直姿勢に保持されている状態で、基板Ｗの芯出しを行うことができる。換言すると、基板Ｗが、偏芯することなく、保持ユニット４０２によって支持されている。これにより、基板Ｗの周縁部５０におけるエッチング幅の均一性を高くに保つことができる。
＜その他の変形例＞
前述の実施形態において、１つのエッチング槽５に溜められるエッチング液に、複数の基板保持回転ユニット４に保持されている複数枚の基板Ｗが一括して浸漬されるとして説明したが、エッチング槽５が基板Ｗに一対一対応で設けられ、１つのエッチング槽５に１つの基板Ｗが浸漬されるようになっていてもよい。

また、処理チャンバ３の内部空間に複数枚に基板Ｗが収容される例を説明したが、処理チャンバ３の内部空間に基板Ｗが１枚だけ収容される構成であってもよい。
また、前述の実施形態において、基板処理装置１が半導体ウエハからなる基板Ｗの表面を処理する装置である場合について説明したが、基板処理装置が、液晶表示装置用基板、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などのＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などの基板を処理する装置であってもよい。

その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。

１ ：基板処理装置
３ ：処理チャンバ
４ ：基板保持回転ユニット
５ ：エッチング槽
６ ：気体吹き付けユニット
７ ：処理カップ
８ ：気流形成ユニット
９ ：隔壁
９ａ ：側面
９ｂ ：天面
１５ ：エッチング液配管
１６ ：エッチング液バルブ
１７ ：循環配管
１７ａ ：上流端
１７ｂ ：下流端
２３ ：リンス液配管
２４ ：リンス液バルブ
２５ａ ：第１の気体ノズル（第１の気体吹き付けユニット）
２５ｂ ：第２の気体ノズル（第２の気体吹き付けユニット）
２６ ：気体配管（第１の気体吹き付けユニット、第２の気体吹き付けユニット）
２７ ：気体バルブ（第１の気体吹き付けユニット、第２の気体吹き付けユニット）
３１ ：内壁
３２ ：底壁
３２ａ ：第２の内面
３３ ：側壁
３３ａ ：第１の内面
３７ ：排気口
４０ ：チャンバ排気口
４６ ：搬出入口
５０ ：周縁部
Ｃ ：回転軸線（水平軸線）
Ｄ３ ：第１の水平方向（第１の横方向）
３６ ：ＦＦＵ（給気ユニット）
Ｐ１ ：浸漬位置
Ｐ２ ：吹き付け位置
Ｐ５ ：下流側領域
Ｗ ：基板

Claims (21)

1. 基板の周縁部にエッチング処理を施す基板処理装置であって、
   処理チャンバと、
   前記処理チャンバの内部に収容され、基板を鉛直姿勢に保持しながら、当該基板の中央部を通る水平軸線回りに当該基板を回転させる基板保持回転ユニットと、
   エッチング液が溜められたエッチング槽であって、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の周縁部をエッチング液に浸漬させることにより、基板の周縁部に前記エッチング処理を施すエッチング槽と、
   前記処理チャンバの内部における、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置に対し当該基板の回転方向の下流側に設定された吹き付け位置に向けて気体を吹き付ける気体吹き付けユニットと、
   前記吹き付け位置に対向し、前記吹き付け位置への気体の吹き付けによって飛散するエッチング液を捕獲する内壁を有し、前記処理チャンバの内部において、前記基板保持回転ユニットによって保持されている基板の少なくとも一部を収容する処理カップと、
   前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の周縁部における前記吹き付け位置に対し当該基板の回転方向の下流側の下流側領域の周囲に、当該基板の主面に沿いかつ前記水平軸線から離反するような第１の横方向に向かう気流を形成する気流形成ユニットとを含む、基板処理装置。
2. 前記気流形成ユニットが、前記基板保持回転ユニットによって保持されている基板に対して前記第１の横方向の側に配置された排気口を有する、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記気流形成ユニットが、前記基板保持回転ユニットによって保持されている基板を、前記排気口との間で、前記第１の横方向に沿う方向に挟むように配置された給気ユニットをさらに含む、請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記処理チャンバが、箱状の隔壁を有し、
   前記隔壁が、天面と、複数の側面とを有し、
   基板を搬出入するための搬出入口が、前記天面または前記給気ユニットが設けられた側面とは異なる側面に形成されている、請求項３に記載の基板処理装置。
5. 前記処理チャンバが、箱状の隔壁を有し、
   前記隔壁が、複数の側面を有し、
   前記給気ユニットが、基板を搬出入するための搬出入口が形成される側面と同じ側面に、前記搬出入口の周囲を取り囲むように設けられている、請求項３に記載の基板処理装置。
6. 前記処理チャンバが、複数の側面を有し、
   前記給気ユニットが、基板を搬出入するための搬出入口が形成される側面と同じ側面に、前記搬出入口の上方または下方に設けられている、請求項３に記載の基板処理装置。
7. 前記処理チャンバの内部における前記処理カップの外方には、前記排気口とは別にチャンバ排気口が形成されている、請求項２〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
8. 前記内壁が、傾斜状をなし、捕獲したエッチング液を前記エッチング槽に向けて案内する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置。
9. 前記内壁が、側壁と底壁とを有し、
   前記側壁が、第１の内面を有し、
   前記第１の内面が、前記第１の横方向に向かうに従って間隔が狭くなるようなＶ字面をなしている、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
10. 前記気流形成ユニットが、前記基板保持回転ユニットによって保持されている基板に対して前記第１の横方向の側に配置された排気口を有し、
    前記排気口が、Ｖ字面をなす前記第１の内面の最奥部分に配置されている、請求項９に記載の基板処理装置。
11. 前記底壁が、第２の内面を有し、
    前記第２の内面が、前記第１の内面に連なり、かつ下方に向かうに従って間隔が狭くなるようなＶ字面を含む、請求項９または１０に記載の基板処理装置。
12. 前記処理チャンバの内部において、複数の前記基板保持回転ユニットが、当該基板保持回転ユニットに保持される基板の主面に沿って並んで配置されている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置。
13. 前記気体吹き付けユニットが、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の一方主面側から前記吹き付け位置に向けて気体を吐出する第１の気体吹き付けユニットと、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の他方主面側から前記吹き付け位置に向けて気体を吐出する第２の気体吹き付けユニットとを含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の基板処理装置。
14. 前記気体吹き付けユニットが、前記基板保持回転ユニットによって回転させられている基板の回転半径方向の内側から前記吹き付け位置に対して気体を吹き付けるユニットを含む、請求項１３に記載の基板処理装置。
15. 前記基板保持回転ユニットが、基板の中央部を吸着により保持する吸着保持ユニットを含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
16. 前記基板保持回転ユニットが、前記水平軸線回りに基板を回転可能に保持する保持ユニットと、前記保持ユニットによって保持されている基板の周縁部に接触して、当該基板を回転させるローラとを含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
17. 前記エッチング槽には、循環配管の一端および他端が接続されており、前記循環配管には、前記循環配管を流れるエッチング液を加熱するためのヒータが介装されている、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
18. 前記エッチング槽には、エッチング液供給源からのエッチング液がエッチング液バルブを介して供給され、かつリンス液供給源からのリンス液がリンス液バルブを介して供給される、請求項１７に記載の基板処理装置。
19. リンス液が溜められたリンス槽であって、前記基板の周縁部をリンス液に浸漬させながら当該基板の中央部を通る水平軸線回りに当該基板を回転させることにより、前記基板の周縁部にリンス処理を施すリンス槽をさらに含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
20. 前記基板保持回転ユニットに保持されている基板を昇降させる昇降させる基板昇降ユニットをさらに含み、
    基板昇降ユニットが、基板の周縁部が前記リンス液に浸漬可能な下位置から、基板の周縁部が前記リンス液に浸漬しない上位置まで退避させた状態で、前記基板保持回転ユニットが前記基板を回転させることにより、当該基板の周縁部に乾燥処理が施される、請求項１８または１９に記載の基板処理装置。
21. 基板の周縁部にエッチング処理を施す基板処理方法であって、
    処理チャンバの内部に収容された処理カップを準備する工程と、
    前記処理カップの内部に前記基板の少なくとも一部が収容された状態で、基板を鉛直姿勢に保持する基板保持工程と、
    基板の周縁部を、エッチング槽に溜められたエッチング液に浸漬させながら当該基板の中央部を通る水平軸線回りに当該基板を回転させる基板回転工程と、
    前記水平軸線回りに回転させられている基板の周縁部におけるエッチング液への浸漬位置に対し当該基板の回転方向の下流側に設定された吹き付け位置に向けて、当該吹き付け位置に対し前記処理カップの内壁と反対側から気体を吹き付ける気体吹き付け工程と、
    前記水平軸線回りに回転させられている基板の周縁部における前記吹き付け位置に対し当該基板の回転方向の下流側の下流側領域の周囲に、当該基板の主面に沿いかつ前記水平軸線から離反するような第１の横方向に向かう気流を形成する気流形成工程とを含む、基板処理方法。

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