JP2001233715A - 除草剤組成物 - Google Patents
除草剤組成物Info
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Abstract
チル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2
−イル)フェノキシ酢酸エステルと2,6−ビス
[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)オキ
シ]安息香酸ナトリウム塩とを有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤組成物。
Description
イネ畑またはイネ水田における雑草を防除するのに適し
た除草剤組成物に関するものである。
在、数多くの除草剤が市販され、使用されているが、防
除の対象となる雑草は種類も多く、発生も長期間にわた
るため、より除草効果が高く、幅広い殺草スペクトラム
を有し、作物に対し薬害の問題を生じない除草剤が求め
られている。
を見出すべく鋭意検討した結果、2−クロロ−4−フル
オロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3
−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸エステルと
2,6−ビス[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−
イル)オキシ]安息香酸ナトリウム塩(一般名:ビスピ
リバック−ソディウム、以下ビスピリバック−ソディウ
ムと記す。)とを有効成分として含有する除草剤組成物
を雑草に処理することにより、農耕地あるいは非農耕地
に発生する種々の雑草を効果的に除草でき、しかもその
除草効力はそれらを単独で用いる場合に比較して相乗的
に増大することから低薬量で施用でき、更に殺草スペク
トルが拡大し、特にイネ畑またはイネ水田において広範
囲の種類の雑草を除草できることを見出し本発明に至っ
た。即ち、本発明は2−クロロ−4−フルオロ−5−
(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジ
ノン−2−イル)フェノキシ酢酸エステル(以下、本エ
ステル化合物と総称する。)とビスピリバック−ソディ
ウムとを有効成分(以下、本有効成分と記す。)として
含有する除草剤組成物(以下、本発明組成物と記す。)
及びそれを雑草に処理する除草方法を提供する。
テルとは、C1〜C7アルキルエステル、C5〜C6シ
クロアルキルエステル、C2〜C6アルケニルエステル
を意味する。
た溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリ
フルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、70℃で2
0分間攪拌した。該反応液を室温に冷却し、これに2−
フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフェニルヒ
ドラジン5.8g(21.5mmol)をジエチルエ−テル約20mlに
溶解した溶液を加え、室温で1時間攪拌した。エ−テル
層を分離して、濃縮し、残渣にテトラヒドロフラン(以
下「THF」と記す。)約60mlを加え、これにカルボエ
トキシエチリデントリフェニルホスホラン8.3g(23.0mm
ol)を加え、2時間加熱還流した。減圧下にTHFを留
去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
に付し、2−[2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプ
ロポキシフェニル]−4−メチル−5−トリフルオロメ
チルピリダジン−3−オンを3.8g(10.5mmol)得た。2
−[2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフ
ェニル]−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダ
ジン−3−オン3.5g(9.7mmol)を氷冷下、濃硫酸約10m
lに溶解し、室温まで昇温した。10分後、反応液に約1
00mlの水を加え、生じた結晶をろ集し、水20mlで2回、
ヘキサン10mlで1回順次洗浄した。得られた結晶をイソ
プロパノ−ルから再結晶して、2−[2−フルオロ−4
−クロロ−5−ヒドロキシフェニル]−4−メチル−5
−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン3.2g(9.9m
mol)を得た。2−[2−フルオロ−4−クロロ−5−
ヒドロキシフェニル]−4−メチル−5−トリフルオロ
メチルピリダジン−3−オン3.2g(9.9mmol)をN,N
−ジメチルホルムアミド約50mlに溶解し、室温で水素化
ナトリウム(60重量%オイルディスパ−ジョン)0.44
g(11mmol)を加え、30分間室温で放置後、氷冷し、
ブロモ酢酸エチル1.8g(11mmol)を加えた。1時間室温
で攪拌した後、ジエチルエ−テル、水を順次加え、抽出
した。有機層を10%塩酸水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィ−に付し、2−クロロ−4−フ
ルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−
3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸エチル
(以下、化合物Aと記す。)2.4g(5.5mmol )を得た。
融点102.0℃
の反応試剤を用いる以外は、同様の操作を行うことによ
り、夫々、目的の本エステル化合物を得ることができ
る。
わす)
て、物性値を示す。1 H−NMR(250MHzまたは300MHz、CD
Cl3、TMS、δ(ppm)) 化合物E:0.88(3H,t,J=7Hz)、1.2
−1.4(4H,m)、1.55−1.70(2H,
m)、2.43(3H,q,J=2Hz)、4.19
(2H,t,J=7Hz)、4.68(2H,s)、
6.98(1H,d,J=7Hz)、7.33(1H,
d,J=8Hz)、7.99(1H,s) 化合物H:1.26(6H,d,J=6.3Hz)、
2.43(3H,q,J=2Hz)、4.65(2H,
s)、5.05−5.18(1H,m)、6.98(1
H,d,J=7Hz)、7.33(1H,d,J=8H
z)、7.98(1H,s) 化合物I:0.90(6H,d,J=6.6Hz)、
1.85−2.03(1H,m)、2.42(3H,
q,J=1.8Hz)、3.98(2H,d,J=6.
5Hz)、4.70(2H,s)、6.99(1H,
d,J=6.3Hz)、7.33(1H,d,J=9.
1Hz)、7.98(1H,s) 化合物J:1.45−1.53(9H,m)、2.39
−2.45(3H,m)、4.58−4.60(2H,
m)、6.96−7.00(1H,m)、7.30−
7.36(1H,m)、7.96−8.00(1H,
m) 化合物K:1.5−1.9(8H,m)、2.43(3
H,q,J=2Hz)、4.65(2H,s)、5.2
−5.4(1H,m)、6.97(1H,d,J=7H
z)、7.33(1H,d,J=8Hz)、7.98
(1H,s) 化合物M:2.42(3H,q,J=1.9Hz)、
4.67−4.72(2H,m)、5.23−5.37
(2H,m)、5.84−5.98(1H,m)、7.
00(1H,d,J=6.3Hz)、7.33(1H,
d,J=9.2Hz)、7.99(1H,s) 化合物N:2.42(3H,q,J=1.8Hz)、
4.68−4.71(1H,m)、4.77(2H,
s)、4.94−5.01(1H,m),7.03(1
H,d,J=6.3Hz)、7.26−7.31(1
H,m)、7.34(1H,d,J=9.0Hz)、
7.99(1H,s)
Chemicals Handbook‘99(Mei
ster Publishing Company, 1
999年)C282頁に記載の化合物である。
活性を有し、またイネ等の作物との選択性にも富み、通
常の耕起栽培の他、不耕起栽培、果樹園などの農園芸分
野及び運動場、空き地、林地、線路端などの非農耕地に
於いても優れた除草活性を発揮することから、除草剤と
して優れている。本発明組成物は殊にイネ畑またはイネ
水田の雑草防除に適しており、イネ畑またはイネ水田等
において問題となる下記の種々の雑草に対して優れた除
草効力を有する。 アカバナ科雑草:オオマツヨイグサ(Oenother
a erythrosepala)、メマツヨイグサ
(Oenothera biennis)、コマツヨイ
グサ(Oenothera laciniata) キンポウゲ科雑草:トゲミノキツネノボタン(Ranu
nculus muricatus)、イボミキンポウ
ゲ(Ranunculus sardous) タデ科雑草:ソバカズラ(Polygonum con
volvulus)、サナエタデ(Polygonum
lapathifolium)、アメリカサナエタデ
(Polygonum pensylvanicu
m)、ハルタデ(Polygonum persica
ria)、イタドリ(Polygonum cuspi
datum)、ミチヤナギ(Polygonum av
iculare)、ナガバギシギシ(Rumex cr
ispus)、エゾノギシギシ(Rumex obtu
sifolius)、ヒメスイバ(Rumex ace
tosella) スベリヒユ科雑草:スベリヒユ(Portulaca
oleracea) ナデシコ科雑草:ハコベ(Stellaria med
ia)、オランダミミナグサ(Cerastium g
lomeratum) アカザ科雑草:シロザ(Chenopodium al
bum)、ホウキギ(Kochia scopari
a) ヒユ科雑草:アオゲイトウ(Amaranthus r
etroflexus)、ホナガアオゲイトウ(Ama
ranthus hybridus)、オオホナガアオ
ゲイトウ(Amaranthus palmeri)、
トールウォーターヘンプ(Amaranthus tu
berculatus)、コモンウォーターヘンプ(A
maranthus rudis) アブラナ科雑草:ワイルドラディッシュ(Raphan
us raphanistrum)、ノハラガラシ(S
inapis arvensis)、ナズナ(Caps
ella bursa−pastoris)、マメグン
バイナズナ(Lepidium virginicu
m) マメ科雑草:アメリカツノクサネム(Sesbania
exaltata)、エビスグサ(Cassia ob
tusifolia)、フロリダベガ−ウィ−ド(De
smodium tortuosum)、シロツメクサ
(Trifolium repens)、オオカラスノ
エンドウ(Vicia sativa)、コメツブウマ
ゴヤシ(Medicago lupulina) ケシ科雑草:ヒナゲシ(Papaver rhoea
s) アオイ科雑草:イチビ(Abutilon theop
hrasti)、アメリカキンゴジカ(Sida sp
inosa)、ギンセンカ(Hibiscus tri
onum) スミレ科雑草:フィ−ルドパンジ−(Viola ar
vensis)、ワイルドパンジ−(Viola tr
icolor) アカネ科雑草:ヤエムグラ(Galium apari
ne) ヒルガオ科雑草:アメリカアサガオ(Ipomoea
hederacea)、マルバアサガオ(Ipomoe
a purpurea)、マルバアメリカアサガオ(I
pomoea hederacea var integ
riuscula)、マメアサガオ(Ipomoea
lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convol
vulus arvensis)、ヒロハヒルガオ(C
alystegia sepium) シソ科雑草:ヒメオドリコソウ(Lamium pur
pureum)、ホトケノザ(Lamium ampl
exicaule) ナス科雑草:シロバナチョウセンアサガオ(Datur
a stramonium)、イヌホオズキ(Sola
num nigrum)、ワルナスビ(Solanum
carolinense) ゴマノハグサ科雑草:オオイヌノフグリ(Veroni
ca persica)、タチイヌノフグリ(Vero
nica arvensis)、フラサバソウ(Ver
onica hederaefolia) キク科雑草:オナモミ(Xanthium strum
arium)、野生ヒマワリ(Helianthus
annuus)、カミツレ(Matricaria c
hamomilla)、イヌカミツレ(Matrica
ria perforata or inodora)、
コシカギク(Matricaria matricar
ioides)、コ−ンマリ−ゴ−ルド(Chrysa
nthemum segetum)、ブタクサ(Amb
rosia artemisiifolia)、オオブ
タクサ(Ambrosia trifida)、ヒメム
カシヨモギ(Erigeron canadensi
s)、ヨモギ(Artemisiaprincep
s)、セイタカアワダチソウ(Solidago al
tissima)、オオアワダチソウ(Solidag
o gigantea)、セイヨウタンポポ(Tara
xacum officinale)、ノボロギク(S
enecio vulgaris)、ハキダメギク(G
alinsoga ciliata) ムラサキ科雑草:ワスレナグサ(Myosotis s
corpioides)、ノハラムラサキ(Myoso
tis arvensis) ガガイモ科雑草:オオトウワタ(Asclepias
syriaca) トウダイグサ科雑草:トウダイグサ(Euphorbi
a helioscopia)、オオニシキソウ(Eu
phorbia maculata) フウロソウ科雑草:アメリカフウロ(Geranium
carolinianum) カタバミ科雑草:ムラサキカタバミ(Oxalis c
orymbosa) ウリ科雑草:アレチウリ(Sicyos angula
tus) イネ科雑草:イヌビエ(Echinochloa cr
us−galli)、エノコログサ(Setaria
viridis)、アキノエノコログサ(Setari
a faberi)、メヒシバ(Digitaria s
anguinalis)、オヒシバ(Eleusine
indica)、スズメノカタビラ(Poa annu
a)、ブラックグラス(Alopecurus myo
suroides)、カラスムギ(Avena fat
ua)、シルキーベントグラス(Apera spic
a−venti)、セイバンモロコシ(Sorghum
halepense)、シバムギ(Agropyro
n repens)、ウマノチャヒキ(Bromus t
ectorum)、ギョウギシバ(Cynodoned
actylon)、オオクサキビ(Panicum d
ichotomiflorum)、テキサスパニカム
(Panicum texanum)、シャタ−ケ−ン
(Sorghum vulgare)、ナルコビエ(E
riochloavillosa)、スズメノテッポウ
(Alopecurus geniculatus) ツユクサ科雑草:ツユクサ(Commelina co
mmunis)、マルバツユクサ(Commelina
benghalensis) トクサ科雑草:スギナ(Equisetum arve
nse) カヤツリグサ科雑草:コゴメガヤツリ(Cyperus
iria)、ハマスゲ(Cyperus rotund
us)、キハマスゲ(Cyperus esculen
tus) ゴマノハグサ科雑草:アゼナ(Lindernia p
rocumbens)、アメリカアゼナ(Linder
nia dubia) ミソハギ科雑草:キカシグサ(Rotala indi
ca)、ヒメミソハギ(Ammannia multi
flora)、ホソバヒメミソハギ(Ammannia
coccinea) ミゾハコベ科雑草:ミゾハコベ(Elatine tr
iandra) カヤツリグサ科雑草:タマガヤツリ(Cyperus
difformis)、ホタルイ(Scirpus j
uncoides subsp. hotarui)、イ
ヌホタルイ(Scirpus juncoides su
bsp. juncoides)、マツバイ(Eleo
charis acicularis)、ミズガヤツリ
(Cyperus serotinus)、クログワイ
(Eleocharis kuroguwai) ミズアオイ科雑草:コナギ(Monochoria v
aginalis) オモダカ科雑草:ウリカワ(Sagittaria p
ygmaea)、オモダカ(Sagittaria t
rifolia)、ヘラオモダカ(Alismacan
aliculatum) ヒルムシロ科雑草:ヒルムシロ(Potamogeto
n distinctus) セリ科雑草:セリ(Oenanthe javanic
a)一方、本発明組成物は作物であるイネに対して問題
となるような薬害を生じない。
とビスピリバック−ソディウムとの混合割合は対象とす
る雑草種、施用場面、施用条件等により変わり得るが、
重量比で通常1:0.1〜10の範囲である。
と混合し、必要により界面活性剤、その他の製剤用補助
剤等を添加して、乳剤、水和剤、懸濁剤等に製剤化して
用いられる。これらの製剤中には本有効成分が、通常、
0.5〜90重量%、好ましくは1〜80重量%含有さ
れる。
しては、例えば粘土類(カオリナイト、珪藻土、合成含
水酸化珪素、フバサミクレー、酸性白土等)、タルク、
その他の無機鉱物(セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、
活性炭、炭酸カルシウム等)化学肥料(硫安、燐安、硝
安、塩安、尿素等)などの微粉末や粒状物が挙げられ、
液体担体としては、例えば水、アルコール類(メタノー
ル、エタノール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン等)、芳香族炭化水素類
(トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタ
レン等)、非芳香族炭化水素類(ヘキサン、シクロヘキ
サン、ケロシン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブ
チル等)、ニトリル類(アセトニトリル、イソブチロニ
トリル等)、エーテル類(ジオキサン、ジイソプロピル
エーテル等)、酸アミド類(ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等)、ハロゲン化炭化水素類(ジク
ロロエタン、トリクロロエチレン等)などが挙げられ
る。
エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ル
スルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類およびその
ポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエー
テル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導
体などが挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、
例えばカゼイン、ゼラチン、多糖類(澱粉、アラビアガ
ム、セルロース誘導体、アルギン酸等)、リグニン誘導
体、ベントナイト、合成水溶性高分子(ポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸等)な
どの固着剤や分散剤、PAP(酸性リン酸イソプロピ
ル)、BHT(2、6―tert−ブチル−4―メチル
フェノール)、BHA(2−/3−tert−ブチル−
4―メトキシフェノール)、植物油、鉱物油、脂肪酸、
脂肪酸エステルなどの安定剤が挙げられる。
製剤手法により製剤した後、これらを混合することによ
り調製することもでき、また、施用時に混用または併用
することもできる。このようにして製剤化された本発明
組成物は、そのままでまたは水等で希釈して雑草に処理
される。本発明組成物は、さらに、他の除草剤と混合し
て用いることにより除草効力の増強を期待でき、さらに
殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、薬害軽減剤
(セーフナー)、土壌改良剤等と併用することもでき
る。
物とビスピリバック−ソディウムとの混合比、気象条
件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対
象雑草、対象作物により変わり得るが、本有効成分量と
して、1ヘクタール当り通常5〜200g、好ましくは
10〜100gである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は、そ
の所定量を1ヘクタール当り通常100〜1000リッ
トルの水で希釈して施用する。また、本発明組成物の水
希釈液にアジュバントを加え、雑草に対する効力の増強
を期待することができる。
重量部を表す。 製剤例1 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N25部、ビ
スピリバック−ソディウム25部、リグニンスルホン酸
カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合
成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合して水和剤を得
る。 製剤例2 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N10部、ビ
スピリバック−ソディウム70部、リグニンスルホン酸
カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合
成含水酸化珪素15部をよく粉砕混合して水和剤を得
る。 製剤例3 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N8部、ビス
ピリバック−ソディウム2部、リグニンスルホン酸カル
シウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含
水酸化珪素85部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N20部、ビ
スピリバック−ソディウム20部、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノオレエート3部、CMC(カルボキシメ
チルセルロース)3部および水54部を混合し、粒度が
5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。 製剤例5 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N2部、ビス
ピリバック−ソディウム8部、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノオレエート3部、CMC(カルボキシメチル
セルロース)3部および水84部を混合し、粒度が5ミ
クロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。 製剤例6 化合物A、化合物B、化合物C、化合物D、化合物E、
化合物F、化合物G、化合物H、化合物I、化合物J、
化合物K、化合物L、化合物M又は化合物N8部、ビス
ピリバック−ソディウム2部、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノオレエート3部、CMC(カルボキシメチル
セルロース)3部および水85部を混合し、粒度が5ミ
クロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。
処理のそれと比較して全くないしほとんど違いがないも
のを「0」とし、供試植物が完全枯死または生育が完全
に抑制されているものを「10」として、0〜10の1
1段階に区分し、0、1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10で示す。除草効力の評価値「7」、
「8」、「9」、「10」は優れた除草効力であること
を意味し、評価値「5」以下は実用上不十分な除草効力
であることを意味する。薬害の評価は、薬害がほとんど
認められない場合は「無害」、軽度の薬害が認められる
場合は「小」、中程度の薬害が認められる場合は
「中」、強度の薬害が認められる場合は「大」で示す。
め、イネ、イヌビエを播種し、22日間温室内で育成さ
せた。化合物A5部、ソルポール3005X(東邦化学
工業株式会社商品名)6部及びキシレン89部をよく混
合して得られる化合物Aの乳剤、ビスピリバック−ソデ
ィウム5部、ソルポール3005X(東邦化学工業株式
会社商品名)6部及びキシレン89部をよく混合して得
られるビスピリバック−ソディウムの乳剤及び該化合物
A乳剤とビスピリバック−ソディウム乳剤との混合剤の
各々所定量を水で希釈し、小型噴霧器で植物体上方より
均一に散布した。処理後5日間温室内で育成し、除草効
力及びイネへの安全性を調査した。結果を表2に示す。
イネ畑、イネ水田における広範囲の種類の雑草を選択的
に除草できる。
Claims (3)
- 【請求項1】2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メ
チル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2
−イル)フェノキシ酢酸エステルと2,6−ビス
[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)オキ
シ]安息香酸ナトリウム塩とを有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤組成物。 - 【請求項2】イネ畑またはイネ水田における雑草を防除
するための請求項1に記載の除草剤組成物。 - 【請求項3】請求項1または2に記載の除草剤組成物を
イネ畑またはイネ水田の雑草に処理することを特徴とす
る除草方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2000047291A JP4513155B2 (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 除草剤組成物 |
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---|---|---|---|
JP2000047291A JP4513155B2 (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 除草剤組成物 |
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JP4513155B2 JP4513155B2 (ja) | 2010-07-28 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2008018501A1 (fr) * | 2006-08-10 | 2008-02-14 | Nippon Soda Co., Ltd. | Composition agrochimique |
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