JPH09323977A - ピリダジン−３−オン誘導体、その用途およびその製造中間体 - Google Patents

ピリダジン−３−オン誘導体、その用途およびその製造中間体

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JPH09323977A
JPH09323977A JP23992896A JP23992896A JPH09323977A JP H09323977 A JPH09323977 A JP H09323977A JP 23992896 A JP23992896 A JP 23992896A JP 23992896 A JP23992896 A JP 23992896A JP H09323977 A JPH09323977 A JP H09323977A
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alkyl group
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Tadashi Katayama
忠 片山
Yoko Mine
洋子 峯
Shinichi Kawamura
伸一 河村
Minoru Sanemitsu
穣 実光
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた除草活性を有する化合物を提供するこ
とを課題とする。 【解決手段】一般式 化１ 【化１】 （式中、Ｒ1 はＣ１−Ｃ３ハロアルキル基を表し、Ｒ2
およびＲ3 は水素原子等を表し、Ｑは一般式 化２ 【化２】 等を表わす。）で示されるピリダジン−４−オン誘導体
を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はピリダジン−３−オ
ン誘導体、その用途およびその製造中間体に関する。
【発明が解決しようとする課題】本発明は優れた除草活
性を有する化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】本発明者等は優れた除草
活性を有する化合物を見い出すべく鋭意検討した結果、
下記一般式 化５で示されるピリダジン−３−オン誘導
体が優れた除草活性を有することを見い出し、本発明を
完成した。即ち、本発明は、一般式 化５
【化５】 〔式中、Ｒ1 はＣ１−Ｃ３ハロアルキル基を表わし、Ｒ
2 およびＲ3 は同一または相異なり、水素原子、Ｃ１−
Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基またはＣ１
−Ｃ３アルコキシＣ１−Ｃ３アルキル基を表わし、Ｑは
一般式 化６
【化６】 ｛式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｙはハ
ロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはトリフルオロメ
チル基を表し、Ｚ1 は酸素原子、硫黄原子またはＮＨ基
を表し、Ｚ2 は酸素原子または硫黄原子を表し、ｎは０
又は１を表し、Ｂは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、クロロスルホニル基、−ＯＲ10基、−Ｓ
Ｒ10基、−ＳＯ2 ＯＲ10基、−Ｎ（Ｒ11）Ｒ12基、−Ｓ
Ｏ2 Ｎ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＮＲ11（ＣＯＲ13）基、−Ｎ
Ｒ11（ＳＯ2 Ｒ14）基、−Ｎ（ＳＯ2 Ｒ14）（ＳＯ2 Ｒ
15）基、−Ｎ（ＳＯ2 Ｒ14）（ＣＯＲ13）基、−ＮＨＣ
ＯＯＲ13基、−ＣＯＯＲ10基、−ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ
12基、−ＣＳＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＯＲ16基、−ＣＲ
17＝ＣＲ18ＣＯＲ16基、−ＣＲ17＝ＣＲ18ＣＯＯＲ
13基、ＣＲ17＝ＣＲ18ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ2
ＣＨＷＣＯＯＲ13基、−ＣＨ2 ＣＨＷＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ
12基、−ＣＲ17＝ＮＯＲ33基、−ＣＲ17＝ＮＮ（Ｒ11）
Ｒ12基、−ＣＲ17（Ｚ2 Ｒ34）2 基、−ＯＣＯ2 Ｒ19基
または−ＯＣＯＲ18基を表し、（ここで、Ｗは水素原
子、塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ10は水素原子、
Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ
３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６ア
ルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６
アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ
１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル
基、Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキル基、カルボキシＣ
１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボ
ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキ
シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４
アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カル
ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）
カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロア
ルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−
Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル｝カルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）カル
ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ2 ＣＯＮ（Ｒ11）
Ｒ12基、−ＣＨ2 ＣＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ（Ｃ
１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ（Ｃ
１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、｛（Ｃ１
−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オ
キシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基またはヒドロキシ
Ｃ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ11とＲ12はそれぞれ独
立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハ
ロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ア
ルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ８
アルコキシアルキル基、Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキ
ル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６
アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３
−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
ル基または、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４ア
ルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表すか、
あるいは、Ｒ11とＲ12とで、テトラメチレン、ペンタメ
チレンまたはエチレンオキシエチレンを表し、Ｒ13は水
素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキ
ル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基またはＣ３−Ｃ６ア
ルケニル基を表し、Ｒ14とＲ15はそれぞれ独立してＣ１
−Ｃ６アルキル基またはＣ１−Ｃ６ハロアルキル基を表
わすか、あるいはメチル基もしくはニトロ基で置換され
てもよいフェニル基を表し、Ｒ16は水素原子、Ｃ１−Ｃ
６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６
アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ
６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ２−
Ｃ８アルコキシアルキル基またはヒドロキシＣ１−Ｃ６
アルキル基を表し、Ｒ17およびＲ18はそれぞれ独立し
て、水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ19
はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ33は水素原子、Ｃ１
−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−
Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３
−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ
３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル
基、または、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ34はＣ１−Ｃ６アルキル
基、あるいは、Ｒ34２つが結合してエチレンまたはトリ
メチレンを表す。）Ｒ4 は水素原子またはＣ１−Ｃ３ア
ルキル基を表し、Ｒ5 は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル
基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロア
ルキル）アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−
Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３
−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル
基、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル基、Ｃ３−Ｃ８アル
コキシアルコキシアルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６ア
ルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ
４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アル
キル基、−ＣＨ2 ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ2 ＣＯ
ＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ
ＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ
ＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基（ここで、Ｒ11およびＲ12は前記
と同じ意味を表す。）、Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキ
ル基、またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ6 はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル
基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキ
シＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−
Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アル
コキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）
カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６
ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル
基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基または（Ｃ
１−Ｃ６アルキル）カルボニル基を表し、Ｒ7 は水素原
子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ8 はＣ１−Ｃ
６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６
ヒドロキシアルキル基、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル
基、Ｃ３−Ｃ10アルコキシアルコキシアルキル基、（Ｃ
１−Ｃ５アルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキ
ル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルオキシＣ
１−Ｃ６アルキル基、カルボキシル基、カルボキシＣ１
−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニ
ル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル基、
（Ｃ３−Ｃ10シクロアルコキシ）カルボニル基、（Ｃ３
−Ｃ８アルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ８
アルキニルオキシ）カルボニル基、アミノカルボニル
基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、ジ
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ１−
Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アル
キル基または、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボ
ニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。｝で示される
Ｑ−１、Ｑ−２、Ｑ−３、Ｑ−４またはＱ−５を表わ
す。〕で示されるピリダジン−３−オン誘導体（以下、
本発明化合物と記す。）およびそれを有効成分とする除
草剤を提供する。
【０００２】本発明はさらに、本発明化合物のうち特に
優れた除草効力を有するＲ1 がトリフルオロメチル基で
ありＱが下記Ｑ1 である化合物の製造中間体として有用
な、一般式 化７
【化７】 〔式中、Ｒ3 は前記と同じ意味を表わし、Ｑ1 は一般式
化８
【化８】 ｛式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ1 、Ｚ2 、ｎ、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ7 お
よびＲ8 は前記と同じ意味を表わし、Ｒ9 は前記Ｒ6 の
うちホルミル基以外を表わし、Ｂ1 は水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、ＯＲ27基、ＳＲ27基、Ｓ
Ｏ2 ＯＲ27基、Ｎ（Ｒ11）Ｒ12基、ＳＯ2 Ｎ（Ｒ11）Ｒ
12基、ＮＲ11（ＣＯＲ13）基、ＮＲ11（ＳＯ2 Ｒ14）
基、Ｎ（ＳＯ2 Ｒ14）（ＳＯ2 Ｒ15）基、Ｎ（ＳＯ2 Ｒ
14）（ＣＯＲ13）基、ＮＨＣＯＯＲ13基、ＣＯＯＲ
27基、ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＳＮ（Ｒ11）Ｒ12基、
ＣＲ17＝ＣＲ18ＣＯＯＲ13基、ＣＲ17＝ＣＲ18ＣＯＮ
（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＨ2 ＣＨＷＣＯＯＲ13基、ＣＨ2 Ｃ
ＨＷＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＲ17＝ＮＯＲ33基、ＣＲ
17＝ＮＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＲ17（Ｚ2 Ｒ34）2 基、Ｏ
ＣＯ2 Ｒ19基、またはＯＣＯＲ19基を表わす。〕（ここ
で、Ｗ、Ｚ2 、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ17、
Ｒ18、Ｒ19、Ｒ33およびＲ34は前記と同じ意味を表わ
し、Ｒ27は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ
６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベン
ジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアル
ケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロア
ルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ８
アルコキシアルキル基、Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキ
ル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８
アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１
−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シ
クロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ
Ｈ2 ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＨ2 ＣＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ
12基、ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12
基、ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ12
基（ここで、Ｒ11およびＲ12は前記と同じ意味を表
す。）、｛（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル｝オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
基、またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表わ
す。）｝で示されるＱ1 −１、Ｑ−２、Ｑ1 −３、Ｑ−
４またはＱ−５を表わす。〕で示されるヒドラゾン類を
も提供する。
【０００３】
【発明の実施の形態】本発明において、Ｒ1 で示される
Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基としては、トリフルオロメチ
ル基、クロロジフルオロメチル基等があげられ、Ｒ2 、
Ｒ3 で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル
基、エチル基、イソプロピル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ
３ハロアルキル基としては、トリクロロメチル基、トリ
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフル
オロメチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ３アルコキシＣ１−Ｃ３アルキル基としてはメ
トキシメチル基等があげられ、Ｘ，ＹおよびＢで示され
るハロゲン原子とは塩素原子、フッ素原子、臭素原子ま
たはヨウ素原子を意味し、Ｒ10で示される、Ｃ１−Ｃ６
アルキル基としてはメチル基、エチル基、イソプロピル
基、プロピル基、イソブチル基、ブチル基、ｔ−ブチル
基（ここで、「ｔ」は「ｔｅｒｔｉａｒｙ」を表す：以
下、同じ）、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基等
が挙げられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、２−
クロロエチル基、３−クロロプロピル基、２，２，２−
トリフルオロエチル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ８シクロ
アルキル基としてはシクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としてはアリル基、１−メ
チル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニ
ル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−３−
ブテニル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基
としては、２−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジ
クロロ−２−プロペニル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ６ア
ルキニル基としてはプロパルギル基、１−メチル−２−
プロピニル基、２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２
−プロピニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニ
ル基としては４−ブロモ−２−ブチニル基等が挙げら
れ、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基としてはシアノメチル
基等が挙げられ、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル基とし
てはメトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメ
チル基、エトキシエチル基等が挙げられ、Ｃ２−Ｃ８ア
ルキルチオアルキル基としてはメチルチオメチル基等が
挙げられ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、
カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カ
ルボキシエチル基等が挙げられ、（Ｃ１−Ｃ８アルコキ
シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキ
シカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、
プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボ
ニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブト
キシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオ
キシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボニル
メチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エト
キシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエ
チル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−
ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカルボ
ニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、
１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミル
オキシカルボニルエチル基、１−ｔ−アミルオキシカル
ボニルエチル基、等が挙げられ、（Ｃ１−Ｃ６ハロアル
コキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、２
−クロロエトキシカルボニルメチル基等が挙げられ、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメト
キシカルボニルメチル基、１−メトキシメトキシカルボ
ニルエチル基等が挙げられ、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコ
キシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シク
ロブチルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオ
キシカルボニルメチル基、シクロヘキシルオキシカルボ
ニルメチル基、１−シクロブチルオキシカルボニルエチ
ル基、１−シクロペンチルオキシカルボニルエチル基、
１−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル基、等が挙
げられ、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６
アルキル基としては、メチルカルボニルメチル基等が挙
げられ、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル基としては、クロロメチルカルボニルメチ
ル基等が挙げられ、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−
Ｃ４アルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基として
は、２−メトキシエチルカルボニルメチル基等が挙げら
れ、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ
６アルキル基としては、シクロペンチルカルボニルメチ
ル基等が挙げられ、｛（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボ
ニリルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカルボニルＣ１−Ｃ
６アルキル基としては、（エトキシカルボニル）メトキ
シカルボニルメチル基等が挙げられ、
【０００４】Ｒ11とＲ12で表される、Ｃ１−Ｃ６アルキ
ル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、イソプロピル基、イソブチル基等があげられ、Ｃ１
−Ｃ６ハロアルキル基としてはクロロエチル基、ブロモ
エチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基として
はアリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテ
ニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基として
は、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル基等
があげられ、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シ
アノメチル基、等があげられ、Ｃ２−Ｃ８アルコキシア
ルキル基としてはメトキシメチル基、エトキシエチル
基、等があげられ、Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキル基
としてはメチルチオメチル基、メチルチオエチル基等が
あげられ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはカ
ルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基等があげら
れ、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６ア
ルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エト
キシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル
基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカル
ボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、ｔ
−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニ
ルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、ｔ
−アミルオキシカルボニルメチル基、１−メトキシカル
ボニルエチル基、１−エトキシカルボニルエチル基、１
−プロポキシカルボニルエチル基、１−イソプロポキシ
カルボニルエチル基、１−ブトキシカルボニルエチル
基、１−イソブトキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブ
トキシカルボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニ
ルエチル基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル
基、１−ｔ−アミルオキシカルボニルエチル基、等があ
げられ、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ
１−Ｃ６アルキル基としては、シクロペンチルオキシカ
ルボニルメチル基等があげられ、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコ
キシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６ア
ルキル基としては、メトキシメトキシカルボニルメチル
基、１−メトキシメトキシカルボニルエチル等があげら
れ、
【０００５】Ｒ13で示される、Ｃ１−Ｃ６アルキル基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
アミル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソアミル
基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては
２，２，２−トリフルオロエチル基等があげられ、Ｃ３
−Ｃ８シクロアルキル基としてはシクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等
があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としてはアリル基
等があげられ、Ｒ14，Ｒ15で示される、Ｃ１−Ｃ６アル
キル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、イソプロピル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロア
ルキル基としてはトリフルオロメチル基、２，２，２−
トリフルオロエチル基、２−クロロエチル基、クロロメ
チル基、トリクロロメチル基等があげられ、メチル基も
しくはニトロ基で置換されてもよいフェニル基としては
フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、２−ニトロフェニ
ル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基等
があげられ、Ｒ16で示される、Ｃ１−Ｃ６アルキル基と
してはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ア
ミル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル
基、イソアミル基、ｔ−アミル基があげられ、Ｃ１−Ｃ
６ハロアルキル基としてはクロロメチル基、ジクロロメ
チル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、１−クロ
ロエチル基、１，１−ジクロロエチル基、１−ブロモエ
チル基、１，１−ジクロロエチル基等があげられ、Ｃ２
−Ｃ６アルケニル基としてはビニル基、アリル基、１−
プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基等があげ
られ、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基としては、３，３−
ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジブロモ−２−
プロペニル基等があげられ、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基と
してはエチニル基、２−ブチニル基等があげられ、Ｃ２
−Ｃ６ハロアルキニル基としては３−ブロモ−２−プロ
ピニル基等があげられ、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル
基としてはメトキシメチル基、エトキシメチル基、イソ
プロポキシメチル基等があげられ、ヒドロキシＣ１−Ｃ
６アルキル基としてはヒドロキシメチル基等があげら
れ、Ｒ17，Ｒ18で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基として
はメチル基等があげられ、Ｒ19で示されるＣ１−Ｃ６ア
ルキル基としてはメチル基、エチル基等が挙げられ、Ｒ
33で示される、Ｃ１−Ｃ６アルキル基としてはメチル
基、エチル基等が挙げられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基
としては２−クロロエチル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ８
シクロアルキル基としてはシクロペンチル基等が挙げら
れ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としてはアリル基等が挙げ
られ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては２−クロロ
−２−プロペニル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ６アルキニ
ル基としてはプロパルギル基等が挙げられ、Ｃ３−Ｃ６
ハロアルキニル基としては４−クロロ−２−ブチニル基
等が挙げられ、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基としては２
−シアノエチル基、シアノメチル基等が挙げられ、（Ｃ
１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基
としてはエトキシカルボニルメチル基等が挙げられ、Ｒ
34で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としてはメチル基、
エチル基等が挙げられ、Ｒ4 で示されるＣ１−Ｃ３アル
キル基としてはメチル基等が挙げられ、
【０００６】Ｒ5 で示される、Ｃ１−Ｃ６アルキル基と
してはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ア
ミル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソアミル基
等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては２−
クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３−クロロブチ
ル基、３−ブロモブチル基、ジフルオロメチル基、ブロ
モジフルオロメチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ８シクロ
アルキルアルキル基としてはシクロペンチルメチル基等
があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としてはアリル
基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、
２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−メ
チル−３−ブテニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロア
ルケニル基としては２−クロロ−２−プロペニル基、
３，３−ジクロロ−２−プロペニル基があげられ、Ｃ３
−Ｃ６アルキニル基としてはプロパルギル基、１−メチ
ル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、１，１−ジメ
チル−２−プロピニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロ
アルキニル基としては、３−ヨード−２−プロピニル
基、３−ブロモ−２−プロピニル基等があげられ、シア
ノＣ１−Ｃ６アルキル基としてはシアノメチル基等があ
げられ、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル基としてはメト
キシメチル基、エトキシメチル基、１−メトキシエチル
基等があげられ、Ｃ３−Ｃ８アルコキシアルコキシアル
キル基としてはメトキシエトキシメチル基等があげら
れ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、カルボ
キシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキ
シエチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシカル
ボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポ
キシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメ
チル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカ
ルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、
アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカ
ルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボニルメチル
基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカ
ルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエチル
基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブト
キシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカルボニル
エチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１−
アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミルオキ
シカルボニルエチル基、１−ｔ−アミルオキシカルボニ
ルエチル基、等があげられ、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アル
キル基としては、メトキシメトキシカルボニルメチル
基、１−メトキシメトキシカルボニルエチル基等があげ
られ、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基としては、シクロブチルオキシカルボ
ニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル
基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、１−シ
クロブチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロペン
チルオキシカルボニルエチル基、１−シクロヘキシルオ
キシカルボニルエチル基、等があげられ、Ｃ２−Ｃ８ア
ルキルチオアルキル基としてはメチルチオメチル基等が
あげられ、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはヒ
ドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプ
ロピル基等があげられ、
【０００７】Ｒ6 で示される、Ｃ１−Ｃ６アルキル基と
してはメチル基、エチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハ
ロアルキル基としてはブロモメチル基、ジブロモメチル
基、トリブロモメチル基、１−ブロモエチル基、クロロ
メチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基等が
あげられ、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはヒ
ドロキシメチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としてはメトキシメチル基、エト
キシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメ
チル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６
アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはメトキシメト
キシメチル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシメ
トキシメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）
カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、アセ
チルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル
基、イソプロピルカルボニルオキシメチル基等があげら
れ、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１
−Ｃ６アルキル基としてはトリフルオロアセチルオキシ
メチル基、クロロアセチルオキシメチル基、トリクロロ
アセチルオキシメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６ア
ルコキシ）カルボニル基としては、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基、アミルオキシカルボニル基、イ
ソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル
基、イソアミルオキシカルボニル基等があげられ、（Ｃ
１−Ｃ６アルキル）カルボニル基としては、メチルカル
ボニル基、エチルカルボニル基、イソプロピルカルボニ
ル基等があげられ、Ｒ7 で示されるＣ１−Ｃ６アルキル
基としてはメチル基等があげられ、Ｒ8 で示される、Ｃ
１−Ｃ６アルキル基としてはメチル基、エチル基等があ
げられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としてはクロロメチ
ル基、ブロモメチル基、フルオロメチル基等があげら
れ、Ｃ１−Ｃ６ヒドロキシアルキル基としてはヒドロキ
シメチル基等があげられ、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキ
ル基としてはメトキシメチル基、エトキシメチル基、イ
ソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソブトキ
シメチル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ10アルコキシアルコ
キシアルキル基としてはメトキシメトキシメチル基、メ
トキシエトキシメチル基、エトキシメトキシメチル基等
があげられ、（Ｃ１−Ｃ５アルキル）カルボニルオキシ
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としてはアセチルオキシメチル
基、エチルカルボニルオキシメチル基、イソプロピルカ
ルボニルオキシメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６ハ
ロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては
２−クロロエチルカルボニルオキシメチル基等が挙げら
れ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはカルボキ
シメチル基等が挙げられ、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カ
ルボニル基としてメトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、アミルオキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、イソブトキシカルボニル基、イソアミルオキ
シカルボニル基、等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６ハロアル
コキシ）カルボニル基としては２−クロロエトキシカル
ボニル基、２−ブロモエトキシカルボニル基、３−クロ
ロブトキシカルボニル基、１−クロロ−２−プロポキシ
カルボニル基、１，３−ジクロロ−２−プロポキシカル
ボニル基、２，２−ジクロロエトキシカルボニル基、
２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル基、２，
２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、２，２，２
−トリブロモエトキシカルボニル基等があげられ、（Ｃ
３−Ｃ10シクロアルコキシ）カルボニル基としては、シ
クロブチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシ
カルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等が
あげられ、（Ｃ３−Ｃ８アルケニルオキシ）カルボニル
基としては、アリルオキシカルボニル基、３−ブテニル
オキシカルボニル基、等があげられ、（Ｃ３−Ｃ８アル
キニルオキシ）カルボニル基としては、プロパルギルオ
キシカルボニル基、３−ブチニルオキシカルボニル基、
１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニル基等があ
げられ、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基と
しては、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカル
ボニル基、プロピルアミノカルボニル基等があげられ、
ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基としては
ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニ
ル基、ジイソプロピルアミノカルボニル基等があげら
れ、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ
１−Ｃ６アルキル基としては、メチルアミノカルボニル
オキシメチル基、エチルアミノカルボニルオキシメチル
基、プロピルアミノカルボニルオキシメチル基等があげ
られ、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキ
シＣ１−Ｃ６アルキル基としてはジメチルアミノカルボ
ニルオキシメチル基、ジエチルアミノカルボニルオキシ
メチル基等があげられる。
【０００８】本発明化合物のうち、除草活性の点から好
ましい置換基として、Ｒ1 についてフッ素原子で置換さ
れたメチル基（例えばトリフルオロメチル基、クロロジ
フルオロメチル基）、フッ素原子で置換されたエチル基
（例えばペンタフルオロエチル基）があげられ、中でも
特にトリフルオロメチル基があげられ、Ｒ2 について
は、メチル基、エチル基等のＣ１−Ｃ３アルキル基、水
素原子、中でも特にメチル基、水素原子があげられ、Ｒ
3 についてはメチル基、エチル基等のＣ１−Ｃ３アルキ
ル基、水素原子、中でも特にメチル基、水素原子があげ
られ、ＱについてはＱ−１、Ｑ−２、Ｑ−３、Ｑ−４が
挙げられる。本発明化合物の中で除草活性の点から好ま
しい化合物としては上記の好ましい置換基を組み合わせ
た化合物が挙げられる。ＱがＱ−１である場合は、Ｘが
水素原子またはフッ素原子であり、Ｙが塩素原子である
化合物がより好ましく、その中でもＢがＯＲ10基、ＳＲ
10基、Ｎ（Ｒ11）Ｒ12基、ＮＲ11（ＳＯ2 Ｒ14）基、Ｃ
ＯＯＲ10基である化合物がより好ましい。その中でもＲ
10がＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、
（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
ル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基、Ｒ11が水素原子、Ｒ12が（Ｃ１−Ｃ
６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｒ14
がＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基で
ある化合物がより好ましい。ＱがＱ−２である場合は、
Ｘがフッ素原子または水素原子であり、Ｚ1 が酸素原子
であり、Ｒ4 が水素原子であり、ｎが１である化合物が
より好ましく、その中でもＲ5 がＣ３−Ｃ６アルキニル
基である化合物がより好ましい。本発明化合物において
好ましい化合物の例を以下に具体的に挙げる。尚、化学
名の後の括弧内の番号は後記表１〜５に記載の化合物番
号を示す。 ７−フルオロ−６−（５−トリフルオロメチル−３−ピ
リダジノン−２−イル）−４−プロパルギル−２Ｈ−
１，４−ベンゾオキサジン−３−オン（２−６３１） ７−フルオロ−６−（４−メチル−５−トリフルオロメ
チル−３−ピリダジノン−２−イル）−４−プロパルギ
ル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン（２−
２５１） ６−（５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２
−イル）−４−プロパルギル−２Ｈ−１，４−ベンゾオ
キサジン−３−オン（２−５８３） ６−（４−メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリ
ダジノン−２−イル）−４−プロパルギル−２Ｈ−１，
４−ベンゾオキサジン−３−オン（２−２０３） ２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシ
フェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリ
ダジン−３−オン（１−４７６） ２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニ
ル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン
−３−オン（１−４７４） ２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−エトキシフェニ
ル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン
−３−オン（１−４７５） ２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオ
キシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチル
ピリダジン−３−オン（１−４８６） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ノキシ酢酸メチル（１−４９５） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ノキシ酢酸エチル（１−４９６） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ノキシ酢酸プロピル（１−４９７） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ノキシ酢酸イソプロピル（１−５００） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ノキシ酢酸ブチル（１−４９８） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ノキシ酢酸ペンチル（１−４９９） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ノキシ酢酸シクロペンチル（１−５０１） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−
５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
ル）フェノキシ｝プロピオン酸エチル（１−５０４） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−
５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
ル）フェノキシ｝プロピオン酸メチル（１−５０３） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ニルチオ酢酸エチル（１−５７７） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェ
ニルチオ酢酸メチル（１−５７６） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−
５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
ル）フェニルチオ｝プロピオン酸エチル（１−５８５） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−
５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
ル）フェニルチオ｝プロピオン酸メチル（１−５８４） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−トリフル
オロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェノキ
シ｝プロピオン酸メチル（１−１１４０） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−トリフル
オロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェノキ
シ｝プロピオン酸エチル（１−１１４１） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−トリフルオロメ
チル−３−ピリダジノン−２−イル）フェニルチオ酢酸
エチル（１−１２１４） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−トリフルオロメ
チル−３−ピリダジノン−２−イル）フェニルチオ酢酸
メチル（１−１２１３） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−トリフル
オロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェニルチ
オ｝プロピオン酸エチル（１−１２２２） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−トリフル
オロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェニルチ
オ｝プロピオン酸メチル（１−１２２１） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−トリフル
オロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェニルチ
オ｝プロピオン酸イソプロピル（１−１２２６） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−
５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
ル）フェニルアミノ｝プロピオン酸エチル（１−４２
０） ２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−トリフル
オロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェニルア
ミノ｝プロピオン酸エチル（１−１０５７） Ｎ−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−
５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
ル）フェニル｝メタンスルフォンアミド（１−３６７） Ｎ−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−
５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
ル）フェニル｝クロロメタンスルフォンアミド（１−３
６９） Ｎ−｛２−クロロ−５−（４−メチル−５−トリフルオ
ロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フェニル｝メ
タンスルフォンアミド（１−３９８） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）安息
香酸メチル（１−６４１） ２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−メチル−５−ト
リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）安息
香酸エチル（１−６４２） ２−クロロ−５−（４−メチル−５−トリフルオロメチ
ル−３−ピリダジノン−２−イル）安息香酸エチル（１
−６２１） ２−クロロ−５−（４−メチル−５−トリフルオロメチ
ル−３−ピリダジノン−２−イル）安息香酸イソプロピ
ル（１−６２５） ２−（４−クロロ−２−フルオロ−−５−プロパルギル
オキシフェニル）−６−メチル−５−トリフルオロメチ
ルピリダジン−３−オン（１−１４４１） 本発明化合物には不斉炭素に由来する光学異性体が存在
する場合があるが、これらの光学異性体もすべて本発明
に含まれることはもちろんである。
【０００９】本発明化合物は、例えば、（製造法１）〜
（製造法１７）により製造することができる。 （製造法１） 一般式 〔ａ〕 〔式中、Ｒ1 、Ｒ3 およびＱ1 は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示されるヒドラゾン誘導体（一般式 化７のヒ
ドラゾン類を含む）と、一般式〔ｂ〕 〔式中、Ｒ2 およびＲ19は前記と同じ意味を表わし、Ａ
ｒは置換されてもよいフェニル基（例えば、フェニル基
等）を表す。〕で示されるホスホラン化合物とを反応さ
せることにより本発明化合物のうちＱがＱ1 である化合
物を製造する方法。該反応は、通常、溶媒中で行われ、
反応温度の範囲は通常−２０℃〜１５０℃であり好まし
くは０℃〜１００℃である。反応時間の範囲は通常、瞬
時〜７２時間である。反応に供される試剤の量は、一般
式〔ａ〕で示されるヒドラゾン誘導体１モルに対して一
般式〔ｂ〕で示されるホスホラン化合物は１モルの割合
が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させ
ることができる。用いられる溶媒としては、ヘキサン、
ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル
等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン（以
下、ＴＨＦと記す。）、エチレングリコールジメチルエ
ーテル等のエーテル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン
等のニトロ化合物、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ
−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコール、イソプロパノール等のア
ルコール類、水等、あるいはそれらの混合物があげられ
る。反応終了後、反応溶媒を留去したのちそのままクロ
マトグラフィーに付するか、または反応液を有機溶媒抽
出および濃縮する等の通常の後処理を行い、必要ならば
クロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精
製することによって、目的の本発明化合物を単離するこ
とができる。該反応は、一般式〔ｃ〕 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ19およびＱ1 は前記と同
じ意味を表す。〕で示される化合物を経由している。本
製造法は、一般式〔ｃ〕の化合物を一旦単離して、その
後化合物〔ｃ〕を分子内で環化させることにより行なう
こともできる。該環化反応は、通常、溶媒中で行うこと
ができる。反応温度の範囲は通常、０℃〜１５０℃であ
り、好ましくは５０℃〜１５０℃である。反応時間の範
囲は通常、瞬時〜７２時間である。用いられる溶媒とし
ては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサ
ン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
オキサン、ＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン
等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベ
ンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロ
ニトリル等のニトリル類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド類、ピリ
ジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、蟻酸、酢
酸、プロピオン酸等の脂肪酸類、メタノール、エタノー
ル、エチレングリコール、イソプロパノール等のアルコ
ール類、水等、あるいはそれらの混合物があげられる。
また、硫酸等の酸やナトリウム メチラート等の塩基等
を反応の触媒として使用することもできる。
【００１０】（製造法２） 下記スキーム化９にしたがった製造法。
【化９】 〔式中、Ｒ51は水素原子以外のＲ5 を表し、Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＸは前記と同じ意味を表
し、Ｒ22はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｄは塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはｐ−
トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕 各工程の反応条件は、例えば、特開平１−301679号公報
に記載されているか、または、例えば以下のようであ
る。化合物〔Ｉ〕から化合物〔II〕を製造する方法 化合物〔II〕は化合物〔Ｉ〕をニトロ化剤と溶媒中で反
応させることにより製造することができる。 ニトロ化剤：硝酸等 ニトロ化剤の量：化合物〔Ｉ〕１モルに対して１〜１０
モルの割合 溶 媒：硫酸等 温 度：−１０℃〜室温 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔II〕から化合物〔III 〕を製造する方法 化合物〔III 〕は化合物〔II〕と一般式ＨＯＣＨ
（Ｒ4 ）ＣＯＯＲ22（式中、Ｒ4 およびＲ22は前記と同
じ意味を表わす。）で示される化合物とをフッ化カリウ
ムの存在下溶媒中で反応させることにより製造すること
ができる。 化合物ＨＯＣＨ（Ｒ4 ）ＣＯＯＲ22の量：化合物〔II〕
１モルに対して１〜５０モルの割合 フッ化カリウムの量：化合物〔II〕１モルに対して１〜
５０モルの割合 溶 媒：１，４−ジオキサン等 温 度：室温〜加熱還流 時 間：瞬時〜９６時間化合物〔III 〕から化合物〔IV〕を製造する方法 化合物〔IV〕は化合物〔III 〕を鉄粉等を用いて酸の存
在下溶媒中還元することにより製造することができる。 鉄粉等の量：化合物〔III 〕１モルに対して３モル〜過
剰量の割合 酸 ：酢酸等 酸の量：１〜１０モルの割合 溶 媒：水、酢酸エチル等 温 度：室温〜加熱還流 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔IV〕から化合物〔Ｖ〕を製造する方法 化合物〔Ｖ〕は化合物〔IV〕と一般式Ｒ51−Ｄ（式中、
Ｒ51およびＤは前記と同じ意味を表わす。）で示される
化合物とを反応させることにより製造することができ
る。反応は、通常、塩基の存在下、溶媒中で行われ、反
応温度の範囲は通常−２０℃〜１５０℃、好ましくは０
℃〜５０℃であり、反応時間の範囲は通常、瞬時〜４８
時間である。反応に用いられる反応剤の量は化合物〔I
V〕１モルに対して化合物Ｒ51−Ｄは通常１〜３モルで
あり、塩基は通常１〜２モルである。反応に用いられる
塩基としては、たとえば、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメ
チルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。反応
に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグ
ロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、ＴＨＦ、エチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類、ニトロベンゼン等のニト
ロ化合物、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルモ
ルホリン等の第三級アミンあるいはそれらの混合物が挙
げられる。反応終了後、必要に応じて反応液を水にあ
け、有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、さら
に必要に応じてカラムクロマトグラフィーもしくは再結
晶等の操作を行うことにより本発明化合物〔Ｖ〕を単離
することができる。スキーム化９の化合物〔ＩＩＩ〕
は、下記スキーム化１０にしたがって製造することもで
きる。
【化１０】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、ＸおよびＲ22は前記
と同じ意味を表す。〕 各工程の反応条件は例えば以下のようである。化合物〔VI〕から化合物〔VII 〕を製造する方法 化合物〔VII 〕は化合物〔VI〕と一般式ＢｒＣＨ
（Ｒ4 ）ＣＯＯＲ22（式中、Ｒ4 およびＲ22は前記と同
じ意味を表わす。）で示される化合物とを塩基の存在下
溶媒中で反応させることにより製造することができる。 化合物ＢｒＣＨ（Ｒ4 ）ＣＯＯＲ22の量：化合物〔VI〕
１モルに対して１〜２モルの割合 塩 基：水素化ナトリウム、炭酸カリウム等 塩基の量：化合物〔VI〕１モルに対して１〜２モルの割
合 溶 媒：１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等 温 度：０℃〜１００℃ 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔VII 〕から化合物〔III 〕を製造する方法 化合物〔III 〕は化合物〔VII 〕をニトロ化剤と溶媒中
で反応させることにより製造することができる。 ニトロ化剤：硝酸等 ニトロ化剤の量：化合物〔VII 〕１モルに対して１〜１
０モルの割合 溶 媒：硫酸、酢酸等 温 度：−１０℃〜室温 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔VI〕から化合物〔VIII〕を製造する方法 化合物〔VIII〕は化合物〔VI〕をニトロ化剤と溶媒中で
反応させることにより製造することができる。 ニトロ化剤：硝酸等 ニトロ化剤の量：化合物〔VI〕１モルに対して１〜１０
モルの割合 溶 媒：硝酸、酢酸等 温 度：−１０℃〜室温 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔VIII〕から化合物〔III 〕を製造する方法 化合物〔III 〕は化合物〔VIII〕と化合物ＢｒＣＨ（Ｒ
4 ）ＣＯＯＲ22とを塩基の存在下溶媒中で反応させるこ
とにより製造することができる。 化合物ＢｒＣＨ（Ｒ4 ）ＣＯＯＲ22量：化合物〔VIII〕
１モルに対して１〜２モルの割合 塩 基：水素化ナトリウム、炭酸カリウム等 塩基の量：化合物〔VIII〕１モルに対して１〜２モルの
割合 溶 媒：１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等 温 度：０℃〜１００℃ 時 間：瞬時〜２４時間
【００１１】（製造法３） 下記スキーム化１１にしたがった製造法。
【化１１】 〔式中、Ｘ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ51およびＤは前記と
同じ意味を表す。〕 各工程の反応条件は、例えば、特開昭６２−２５２７８
７号公報に記載されているか、または、例えば以下のよ
うである。化合物〔IX〕から化合物〔Ｘ〕を製造する方法 化合物〔Ｘ〕は化合物〔IX〕を鉄粉等の存在下、酸を用
いて溶媒中で反応させることにより製造することができ
る。 鉄粉等の量：化合物〔IX〕１モルに対して３モル〜過剰
量の割合 酸 ：酢酸等 酸の量：化合物〔IX〕１モルに対して１〜１０モルの割
合 溶 媒：水、酢酸エチル等 温 度：室温〜加熱還流 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔Ｘ〕から化合物〔XI〕を製造する方法 化合物〔XI〕は化合物〔Ｘ〕とチオシアン酸ナトリウ
ム、チオシアン酸カリウム等と溶媒中で反応させた後、
臭素または塩素と溶媒中で反応させることにより製造す
ることができる。 チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム等の
量：化合物〔Ｘ〕１モルに対して１〜１０モルの割合 臭素または塩素の量：化合物〔Ｘ〕１モルに対して１〜
１０モルの割合 溶 媒：塩酸水、酢酸水、硫酸水等 温 度：０〜５０℃ 時 間：瞬時〜１５０時間化合物〔XI〕から化合物〔XII 〕を製造する方法 化合物〔XII 〕は、1)化合物〔XI〕と亜硝酸ナトリウ
ム、亜硝酸カリウム等と溶媒中で反応させた後、2)酸性
溶液中で加熱することにより製造することができる。 ＜反応1)＞ 亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の
量：化合物〔XI〕１モルに対して１〜２モルの割合 溶 媒：塩酸水または硫酸水 温 度：−１０℃〜１０℃ 時 間：瞬時〜５時間 ＜反応2)＞ 酸性溶液：塩酸水、硫酸水等 温 度：７０℃〜加熱還流 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XII 〕から化合物〔XIII〕を製造する方法 化合物〔XIII〕は化合物〔XII 〕と化合物Ｒ51−Ｄとを
塩基の存在下溶媒中で反応させることにより製造するこ
とができる。 化合物Ｒ51−Ｄの量：化合物〔XII 〕１モルに対して１
〜３モルの割合 塩 基：水素化ナトリウム、炭酸カリウム等 塩基の量：化合物〔XII 〕１モルに対して１〜２モルの
割合 溶 媒：１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等 温 度：０〜１００℃ 時 間：瞬時〜４８時間
【００１２】（製造法４）下記スキーム化１２にしたが
った製造法。
【化１２】 〔式中、Ｘ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ5 は前記と同じ
意味を表す。〕 各工程の反応条件は、例えば、特開昭61−165384号公報
に記載されているか、または、例えば以下のようであ
る。化合物〔XIV 〕から化合物〔XV〕を製造する方法 化合物〔XV〕は化合物〔XIV 〕を鉄粉等を用いて酸の存
在下溶媒中で還元することにより製造することができ
る。 鉄粉等の量：化合物〔XIV 〕１モルに対して３モル〜過
剰量の割合 酸 ：酢酸等 酸の量：化合物〔XIV 〕１モルに対して１〜１０モルの
割合 溶 媒：水、酢酸エチル等 温 度：室温〜加熱還流 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XV〕から化合物〔XVI 〕を製造する方法 化合物〔XVI 〕は、1)化合物〔XV〕と亜硝酸塩とを溶媒
中反応させてジアゾニウム塩にした後、2)昇温して該ジ
アゾニウム塩を溶媒中で還化することにより製造するこ
とができる。 ＜反応1)＞ 亜硝酸塩：亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリ
ウム等 亜硝酸塩の量：化合物〔XV〕１モルに対して１〜２モル
の割合 溶 媒：塩酸水、硫酸水等 温 度：−１０〜１０℃ 時 間：瞬時〜５時間 ＜反応2)＞ 溶媒：塩酸水、硫酸水等 温 度：室温〜８０℃ 時 間：瞬時〜２４時間
【００１３】（製造法５） 下記スキーム化１３にしたがった製造法。
【化１３】 〔式中、Ｙ1 はニトロ基以外のＹを表し、Ｘ、Ｙ、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｄは前記と同じ意味を表し、Ｒ101
はＲ10のうち水素原子以外の基を表し、Ｒ23及びＲ24は
同一または相異なり前記の、水素原子以外のＲ11、水素
原子以外のＲ12、ＣＯＲ13、ＳＯ2 Ｒ14、ＳＯ2 Ｒ15ま
たはＣＯＯＲ10のうちのいずれかの基を表す。また、Ｒ
23−Ｄ又は（Ｒ23）2 Ｏ、Ｒ24−Ｄ又は（Ｒ24）2 Ｏ、
Ｒ101 −Ｄ又は（Ｒ101 ）2 Ｏとあるは必要に応じて化
学的に可能である一方を用いて反応することができると
いう意味である。〕 各工程の反応条件は、例えば、特開昭63−41466 号公報
や国際特許出願公開明細書ＷＯ９２／１１２４４号に記
載されているか、または例えば下記のようである。化合物〔XVII〕から化合物〔XVIII 〕を製造する方法 化合物〔XVIII 〕は化合物〔XVII〕に溶媒中硝酸を加え
ることにより製造することができる。(Organic Synthes
is Collective Vol.1, p372 参照) 反応温度の範囲は、通常０℃〜１００℃、反応時間の範
囲は通常瞬時〜２４時間である。反応に供される試剤の
量は、化合物〔XVII〕１モルに対して硝酸１モルの割合
が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させ
ることができる。用いられる溶媒としては、硫酸等の酸
性溶媒を挙げることができる。化合物〔XVIII 〕から化合物〔XIX 〕を製造する方法 化合物〔XIX 〕は化合物〔XVIII 〕を溶媒中で還元する
ことにより製造することができる。(Organic Synthesis
Collective Vol.2, p471, Vol.5, p829参照)例えば、
酢酸、鉄粉および水を含有する混合液に、化合物〔XVII
I 〕をそのまま、または酢酸エチル等の溶媒に化合物
〔XVIII 〕を溶解したものを加えることにより製造する
ことができる。反応温度の範囲は通常０〜１００℃であ
り、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。反応
終了後の反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた
結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等
の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィ
ー、再結晶等の操作によってさらに精製することによ
り、目的物を単離することができる。化合物〔XIX 〕から化合物〔XX〕を製造する方法 化合物〔XX〕は、1)化合物〔XIX 〕を亜硝酸塩と溶媒中
で反応させた後、2)酸性溶媒中で加熱することにより製
造することができる。 ＜反応1)＞ 亜硝酸塩：亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリ
ウム等 亜硝酸塩の量：化合物〔XIX 〕１モルに対して１〜２モ
ルの割合 溶 媒：塩酸水、硫酸水等 温 度：−１０〜１０℃ 時 間：瞬時〜５時間 ＜反応2)＞ 酸性溶媒：塩酸水、硫酸水等 温 度：７０℃〜加熱還流 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XX〕から化合物〔XXIII 〕を製造する方法 化合物〔XXIII 〕は化合物〔XX〕と一般式 Ｒ101 −Ｄまたは（Ｒ101 ）2 Ｏ 〔式中、Ｒ101 およびＤは前記と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させ
ることにより製造することができる。この反応は、通常
溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−２０℃〜１５
０℃であり、好ましくは０℃〜１００℃である。反応時
間の範囲は、通常、瞬時〜７２時間である。反応に供さ
れる試剤の量は、化合物〔XX〕１モルに対して化合物Ｒ
101 −Ｄ又は（Ｒ101 ）2 Ｏ、塩基はそれぞれ１モルの
割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化
させることができる。また、用いられる塩基としては有
機塩基、無機塩基、共に使用することができ、例えば、
炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等
があげられる。用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘ
プタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、ＴＨＦ、エ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケト
ン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエ
ステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化
合物、アセトニトリル、イソプチロニトリル等のニトリ
ル類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（以下、ＤＭＦと記す。）、アセトアミド等の酸アミド
類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン、
ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あ
るいはそれらの混合物があげられる。反応終了後の反応
液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集す
るか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処
理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の
操作によってさらに精製することにより、目的物を単離
することができる。化合物〔XIX 〕から化合物〔XXI 〕を製造する方法 化合物〔XXI 〕は化合物〔XIX 〕と一般式Ｒ23−Ｄで示
される化合物、または一般式（Ｒ23）2 Ｏで示される化
合物とを無溶媒でまたは溶媒中、必要に応じ塩基の存在
下で反応させることにより製造することができる。反応
温度の範囲は通常−２０〜２００℃、好ましくは０〜１
８０℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜７２時間であ
る。反応に供される試剤の量は化合物〔XIX〕１モルに
対して、化合物Ｒ23−Ｄまたは化合物（Ｒ23）2 Ｏは１
モル、塩基は１モルが理想的であるが、反応の状況に応
じて任意に変化させることができる。必要に応じて用い
られる塩基としてはピリジン、トリエチルアミン等の有
機塩基、無機塩基が挙げられる。必要に応じて用いられ
る溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シ
クロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジオキサン、ＴＨＦ、エチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イ
ソプチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミド、ＤＭ
Ｆ、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチル
モルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、
スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が
あげられる。反応終了後の反応液は、生じた結晶を濾集
するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後
処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等
の操作によってさらに精製することにより、目的物を単
離することができる。化合物〔XXI 〕から化合物〔XXII〕を製造する方法 化合物〔XXII〕は化合物〔XXI 〕と化合物Ｒ24−Ｄまた
は化合物（Ｒ24）2 Ｏとを反応させることにより製造す
ることができる。本製造法は化合物〔XIX 〕から化合物
〔XXI 〕を製造する方法に準ずる。
【００１４】（製造法６） 下記スキーム化１４にしたがった製造法。
【化１４】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ10、Ｒ11および
Ｒ12は前記と同じ意味を表す。〕 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔XXIV〕から化合物〔XXV 〕を製造する方法 化合物〔XXV 〕は化合物〔XXIV〕とクロロスルホン酸と
を無溶媒または溶媒中反応させることにより製造するこ
とができる。 クロロスルホン酸の量：化合物〔XXIV〕１モルに対して
１モル〜過剰量の割合 溶 媒：硫酸 温 度：０〜７０℃ 時 間：瞬時〜２４時間 (Org. Syn. Coll. Vol. 1, 8(1941)参照)化合物〔XXV 〕から化合物〔XXVI〕を製造する方法 化合物〔XXVI〕は化合物〔XXV 〕と一般式Ｒ10−ＯＨ
（式中、Ｒ10は前記と同じ意味を表わす。）で示される
化合物とを塩基の存在下、無溶媒または溶媒中反応させ
ることにより製造することができる。 化合物Ｒ10−ＯＨの量：化合物〔XXV 〕１モルに対して
１モル〜過剰量の割合 塩 基：トリエチルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム
等の無機塩基 塩基の量：１〜２モルの割合； 溶 媒：ＤＭＦ、１，
４−ジオキサン等 温 度：０〜１００℃； 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XXV 〕から化合物〔XXVII 〕を製造する方法 化合物〔XXVII 〕は化合物〔XXV 〕と一般式Ｒ11Ｒ12Ｎ
Ｈ（式中、Ｒ11およびＲ12は前記と同じ意味を表わ
す。）で示される化合物とを塩基の存在下または非存在
下、無溶媒または溶媒中で反応させることにより製造す
ることができる。 化合物Ｒ11Ｒ12ＮＨの量：化合物〔XXV 〕１モルに対し
て１モル〜過剰量の割合 塩 基：トリエチルアミン等の有機塩基または炭酸カリ
ウム等の無機塩基 塩基の量：１〜２モルの割合 溶 媒：ＤＭＦ、１，４−ジオキサン等 温 度：０℃〜１００℃ 時 間：瞬時〜２４時間
【００１５】（製造法７） 下記スキーム化１５にしたがった製造法。
【化１５】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ11、Ｒ12、
Ｒ17、Ｒ18およびＲ22は前記と同じ意味を表す。〕 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔XXVIII〕から化合物〔XXIX〕を製造する方法 化合物〔XXIX〕は、特開平５−２９４９２０号公報のｐ
１５〜１６に記載の方法に準じて化合物〔XXVIII〕から
製造することができる。化合物〔XXIX〕から化合物〔XXX 〕を製造する方法 化合物〔XXX 〕は化合物〔XXIX〕と一般式（Ｃ6 Ｈ5 ）
3 Ｐ＝ＣＲ18ＣＯＯＲ22または一般式（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ）2
Ｐ（Ｏ）ＣＨＲ18ＣＯＯＲ22（式中、Ｒ18およびＲ22は
前記と同じ意味を表わす。）で示される化合物とを溶媒
中、化合物（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ）2 Ｐ（Ｏ）ＣＨＲ18ＣＯＯＲ
22を用いる場合は塩基の存在下、反応させることにより
製造することができる。 化合物（Ｃ6 Ｈ5 ）3 Ｐ＝ＣＲ18ＣＯＯＲ22または化合
物（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ）2 Ｐ（Ｏ）ＣＨＲ18ＣＯＯＲ22の量：
化合物〔XXIX〕１モルに対して１〜２モルの割合 溶 媒：ＴＨＦ、トルエン等 塩 基：水素化ナトリウム等 塩基の量：化合物〔XXIX〕１モルに対して１〜２モルの
割合 温 度：０℃〜５０℃ 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XXX 〕から化合物〔XXXI〕を製造する方法 化合物〔XXXI〕は化合物〔XXX 〕と化合物Ｒ11Ｒ12ＮＨ
とを反応させることにより製造することができる。
【００１６】（製造法８） 下記スキーム化１６にしたがった製造法。
【化１６】 〔式中、Ｗ2 は塩素原子または臭素原子を表わし、Ｘ、
Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ13は前記と同じ意味を表
す。〕 反応条件は、例えば、米国特許明細書USP5,208,212号に
記載されているか、または以下のようである。化合物
〔XXXII 〕を塩酸、臭素酸等の溶媒中で通常の方法でジ
アゾニウム塩にした後、アセトニトリル等の溶媒中、塩
化第２銅、臭化第２銅等の銅塩の存在下、該ジアゾニウ
ム塩と一般式ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯ2 Ｒ13〔式中、Ｒ13は前
記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物とを反応さ
せることにより製造することができる。反応温度の範囲
は通常−２０〜１５０℃好ましくは０〜６０℃であり、
反応時間の範囲は瞬時〜７２時間である。反応終了後の
反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾
集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の
後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶
等の操作によってさらに精製することにより、目的物を
単離することができる。
【００１７】（製造法９） 下記スキーム化１７に従っ
た製造法
【化１７】 （式中、Ｗ3 は、臭素原子またはヨウ素原子を表わし、
Ｘ、Ｙ1 、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ13は前記と同じ意
味を表わす。各工程の反応条件は例えば下記のようであ
る。化合物〔XIX 〕から化合物〔XXXIV 〕を製造する方法 化合物〔XXXIV 〕は、1)化合物〔XIX 〕を溶媒中でジア
ゾ化した後、2)ヨウ化カリウムまたは臭化銅（Ｉ）と溶
媒中で反応させることにより製造することができる。 ＜反応1)＞ ジアゾ化剤：亜硝酸ナトリウムまたは亜硝酸カリウム等 ジアゾ化剤の量：化合物〔XIX 〕１モルに対して１〜２
モルの割合 溶 媒：臭化水素水、硫酸水等 温 度：−１０℃〜１０℃ 時 間：瞬時〜５時間 ＜反応2)＞ ヨウ化カリウムまたは臭化銅（Ｉ）の量：化合物〔XXXI
V 〕１モルに対して１モル〜過剰量の割合 溶 媒：臭化水素水、硫酸水等 温 度：０℃〜８０℃ 時 間：瞬時〜２４時間 (Org. Syn. Coll. Vol. 2, 604(1943), Vol. 1, 136(19
32) 参照)化合物〔XXXIV 〕から化合物〔XXXV〕を製造する方法 化合物〔XXXV〕は化合物〔XXXIV 〕と一酸化炭素と一般
式Ｒ13−ＯＨ（式中、Ｒ13は前記と同じ意味を表わ
す。）で示される化合物とを溶媒中、遷移金属触媒およ
び塩基の存在下、一酸化炭素雰囲気下で反応させること
により製造することができる。 触 媒：ＰｄＣｌ2 （ＰＰｈ3 ）2 等（ここでＰｈはフ
ェニルを表す。） 触媒の量：化合物〔XXXIV 〕１モルに対して触媒量〜0.
５モルの割合 化合物Ｒ13−ＯＨの量：化合物〔XXXIV 〕に対して１モ
ル〜過剰量の割合 塩 基：ジエチルアミン等の有機塩基 塩基の量：化合物〔XXXIV 〕１モルに対して１〜２モル
の割合 溶 媒：ＤＭＦ等 一酸化炭素の気圧：１〜１５０気圧 温 度：０〜１００℃ 時 間：瞬時〜７２時間 (Bull. Chem. Soc. Jpn.48(7),2075(1975)参照)
【００１８】（製造法１０） 下記スキーム化１８に従
った製造法
【化１８】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ19は前記と
同じ意味を表わす。〕 化合物〔XXXVII〕は化合物〔XXXVI 〕を硫酸等の酸の存
在下に加水分解するか、または塩化メチレン等の溶媒中
でボロントリブロマイド等の酸で処理したのち、水で処
理することにより製造することができる。反応温度の範
囲は通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃で
あり、反応時間の範囲は通常瞬時〜７２時間である。反
応に供される酸の量は化合物〔XXXVI 〕１モルに対して
１モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任
意に変化させることができる。反応終了後の反応液は、
（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、
または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行
い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作に
よってさらに精製することにより、目的物を単離するこ
とができる。
【００１９】（製造法１１） 下記スキーム化１９に従
った製造法
【化１９】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｚ2 およびＲ17は
前記と同じ意味を表わし、Ｚ3 は酸素原子又はイオウ原
子を表わし、Ｒ25は水素原子又はＣ１−Ｃ５アルキル基
を表わし、Ｒ26はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６ア
ルケニル基またはＣ３−Ｃ６アルキニル基を表わす。〕 化合物〔XXXIX 〕は化合物〔XXXVIII 〕と一般式Ｒ26Ｚ
3 Ｈ〔式中、Ｒ26およびＺ3 は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示される化合物とを触媒の存在下または非存在
下、通常溶媒中で反応させることにより製造することが
できる。反応に供される化合物Ｒ26Ｚ3 Ｈの量は、化合
物〔XXXVIII 〕１モルに対して１モルの割合が理想的で
あるが、反応の状況に応じて任意に変化させることがで
きる。用いられる触媒としてはパラトルエンスルホン酸
等が挙げられ、用いられる溶媒としてはトルエン、キシ
レン等、また、化合物〔XXXVIII 〕が挙げられる。反応
温度の範囲は通常０℃〜２００℃、好ましくは５０℃〜
１５０℃である。反応時間の範囲は、通常瞬時〜７２時
間である。反応終了後の反応液は、（必要に応じて水を
加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽
出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロ
マトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製す
ることにより、目的物を単離することができる。
【００２０】（製造法１２） 下記スキーム化２０に従
った製造法
【化２０】 （式中、Ｒ61は前述のＲ6 の定義からメチル基を除いた
置換基を表わし、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は前記
と同じ意味を表わす。） 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔XXXVII〕から化合物〔XL〕を製造する方法 化合物〔XL〕は化合物〔XXXVII〕と２，３−ジクロロプ
ロペンとを塩基の存在下溶媒中で反応させることにより
製造することができる。 ２，３−ジクロロプロペンの量：化合物〔XXXVII〕１モ
ルに対して１〜３モルの割合；塩 基：炭酸カリウム等
の無機塩基 塩基の量：化合物〔XXXVII〕１モルに対して１〜２モル
の割合 溶 媒：ＤＭＦ等； 温 度：０℃〜７０℃；時 間：
瞬時〜２４時間化合物〔XL〕から化合物〔XLI 〕を製造する方法 化合物〔XLI 〕は化合物〔XL〕を溶媒中で加熱すること
により製造することができる。 溶 媒：ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリン、ｐ−イソプロピルベンゼン等；温
度：７０℃〜２００℃ 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XLI 〕から化合物〔XLII〕を製造する方法 米国特許明細書第5,308,829 号のcolumn２〜11に記載さ
れている、ベンゾフラン環の２位のメチル基を他の置換
基に変換させる方法に準じて製造することができる。
【００２１】（製造法１３） 下記スキーム化２１に従
った製造法
【化２１】 （式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ7 は前記と
同じ意味を表わす。） 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔XXXVII〕から化合物〔XLIII 〕を製造する方法 化合物〔XLIII 〕は化合物〔XXXVII〕と一般式ＣＨ2 ＝
ＣＲ7 ＣＨ2 Ｗ2 （式中、Ｗ2 およびＲ7 は前記と同じ
意味を表わす。）で示される化合物とを塩基の存在下溶
媒中で反応させることにより製造することができる。 化合物ＣＨ2 ＝ＣＲ7 ＣＨ2 Ｗ2 の量：化合物〔XXXVI
I〕１モルに対して１〜５モルの割合 塩 基：炭酸カリウム等の無機塩基 塩基の量：化合物〔XXXVII〕１モルに対して１〜５モル
の割合 溶 媒：ＤＭＦ、１，４−ジオキサン等 温 度：０〜１００℃ 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XLIII 〕から化合物〔XLIV〕を製造する方法 化合物〔XLIV〕は化合物〔XLIII 〕を溶媒中、加熱する
ことにより製造することができる。 溶 媒：Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチル
アニリン、ｐ−ジイソプロピルベンゼン等 温 度：１００〜２００℃ 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XLIV〕から化合物〔XLV 〕を製造する方法 化合物〔XLV 〕は化合物〔XLIV〕を酸の存在下に溶媒中
で加熱することにより製造することができる。 酸 ：ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸、硫酸等の無
機酸 酸の量：化合物〔XLIV〕１モルに対して触媒量〜１モル
の割合 溶 媒：トルエン、キシレン等 温 度：１００〜２５０℃ 時 間：瞬時〜２４時間
【００２２】（製造法１４） 下記スキーム化２２に従
った製造法
【化２２】 （式中、Ｒ81は前述のＲ8 の定義からメチル基およびヒ
ドロキシメチルを除いた置換基を表わし、Ｘ、Ｙ、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ7 は前記と同じ意味を表わ
す。） 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔XLIV〕から化合物〔XLVI〕を製造する方法 化合物〔XLVI〕は化合物〔XLIV〕と過酸とを溶媒中反応
させることにより製造することができる。 過 酸：ｍ−クロロ過安息香酸、過酢酸 過酸の量：化合物〔XLIV〕１モルに対して１モル〜過剰
量の割合 溶 媒：ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素、酢酸
等の有機酸 温 度：−２０℃〜室温 時 間：瞬時〜２４時間化合物〔XLVI〕から化合物〔XLVII 〕を製造する方法 化合物〔XLVII 〕は化合物〔XLVI〕を塩基の存在下溶媒
中で反応させることにより製造することができる。 塩 基：炭酸カリウム等 塩基の量：化合物〔XLVI〕１モルに対して１〜２モルの
割合 溶 媒：メタノール、エタノール等 温 度：０〜５０℃ 時 間：瞬時〜５時間化合物〔XLVII 〕から化合物〔XLVIII〕を製造する方法 米国特許明細書第5,411,935 号のcolumn５〜10に記載さ
れている、ジヒドロベンゾフラン環の２位のヒドロキシ
アルキル基を他の置換基に変換させる方法に準じて製造
することができる。
【００２３】（製造法１５） 下記スキーム化２３に従
った製造法
【化２３】 〔式中、Ｗ1 はハロゲン原子（好ましくは塩素原子）を
表わし、Ｒ32は水素原子またはＣ１−Ｃ５アルキル基を
表わし、Ｘ、Ｙ、Ｚ2 、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ11、
Ｒ12、Ｒ33およびＲ34は前記と同じ意味を表わす。〕 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔XXVIII〕から化合物〔XLIX〕を製造する方法 化合物〔XLIX〕は化合物〔XXVIII〕と塩化チオニル等の
ハロゲン化剤とを溶媒中通常の方法で反応させることに
より製造することができる。化合物〔XLIX〕から化合物〔Ｌ〕を製造する方法 化合物〔Ｌ〕は化合物〔XLIX〕と一般式 化２４
【化２４】 〔式中、Ｍ+ はアルカリ金属カチオン（好ましくはリチ
ウムカチオン、ナトリウムカチオン）を表わし、Ｒ19、
Ｒ22およびＲ32は前記と同じ意味を表わす。〕で示され
る化合物とを反応させて（以下、第１反応と記す。）一
般式 化２５
【化２５】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ19、Ｒ22および
Ｒ32は前記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物を
得た後、該化合物化２５を加水分解および脱カルボキシ
ル化する（以下、第２反応と記す。）ことにより製造す
ることができる。第１反応は、通常溶媒中で行われ、反
応温度の範囲は通常−２０〜５０℃、好ましくは室温で
あり、反応時間の範囲は瞬時〜７２時間である。用いら
れる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、ＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、ホルムアミド、ＤＭＦ、アセトアミド等の
酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫
黄化合物あるいはそれらの混合物が挙げられる。第２反
応は、酢酸等の低級カルボン酸等の溶媒中、または非溶
媒中、硫酸、臭化水素酸等の存在下で行われ、反応温度
の範囲は通常８０〜１４０℃、好ましくは１００〜１２
０℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜７２時間である。化合物〔Ｌ〕から化合物〔LI〕を製造する方法 化合物〔LI〕は化合物〔Ｌ〕と一般式Ｈ2 Ｎ−Ｏ−Ｒ33
〔式中、Ｒ33は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
化合物とを反応させることにより製造することができ
る。本反応は、低級アルコール（例えばメタノール、エ
タノール、イソプロパノール) または低級アルコールと
水との混合液中で行われ、反応温度の範囲は０〜８０℃
であり、反応時間の範囲は瞬時〜７２時間である。化合
物Ｈ2 Ｎ−Ｏ−Ｒ33は遊離塩基の形態または塩酸塩また
は硫酸塩等の酸付加塩の形態で使用することができる。
本反応は、ピリジン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウ
ム等のアルカリ金属炭酸水素塩、炭酸カルシウム等のア
ルカリ土類金属炭酸塩等の塩基性触媒を添加して行うこ
ともできる。また、化合物〔LI〕は、一般式 化２６
【化２６】 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ32は前記と
同じ意味を表わす。〕で示される化合物と、一般式Ｒ33
−Ｄ〔式中、Ｒ33およびＤは前記と同じ意味を表わ
す。〕で示される化合物とを通常、溶媒中塩基の存在下
で反応させることにより製造することがきる。用いられ
る塩基としてはアルカリ金属アルコラート、アルカリ金
属水素化物（例えば水素化ナトリウム）が挙げられる。
反応に供される試剤の量は、化２６の化合物１モルに対
して化合物Ｒ33−Ｄは１モル程度の割合、塩基は１〜２
モルの割合が理想的であるが、状況に応じて変化させる
ことができる。用いられる溶媒としては、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、ＴＨＦ、
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
ホルムアミド、ＤＭＦ、アセトアミド等の酸アミド類、
ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メ
タノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロ
パノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物が
挙げられる。本反応における反応温度の範囲は−１０〜
１００℃、好ましくは０〜８０℃であり、反応時間は瞬
時〜７２時間である。化合物〔Ｌ〕から化合物〔LII 〕を製造する方法 化合物〔LII 〕は化合物〔Ｌ〕と一般式Ｈ2 Ｎ−Ｎ（Ｒ
11）Ｒ12〔式中、Ｒ11およびＲ12は前記と同じ意味を表
わす。〕で示される化合物とを反応させることにより製
造することができる。本反応は、低級アルコール（例え
ばメタノール、エタノール、イソプロパノール）または
低級アルコールと水との混合液中で行われ、反応温度の
範囲は０〜８０℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜７２
時間である。化合物Ｈ2 Ｎ−Ｎ（Ｒ11）Ｒ12は遊離塩基
の形態または塩酸塩または硫酸等の酸付加塩の形態で使
用することができる。本反応は、ピリジン等の有機塩
基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭
酸塩、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素
塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩等の塩
基性触媒を添加して行うこともできる。化合物〔Ｌ〕から化合物〔LIII〕を製造する方法 化合物〔LIII〕は化合物〔Ｌ〕と一般式Ｒ34−Ｚ2 Ｈ
〔式中、Ｚ2 およびＲ34は前記と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物とを通常、触媒量〜過剰量のｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸、硫酸等の酸の存在下、ベンゼ
ン、クロロホルム等の有機溶媒中で反応させることによ
り製造することができる。反応温度の範囲は−３０℃〜
反応混合物の沸点温度であり、反応時間の範囲は瞬時〜
７２時間である。
【００２４】（製造法１６） 下記スキーム化２７に従
った製造法
【化２７】 〔式中、Ｑ1 およびＲ1 は前記と同じ意味を表わす。〕 化合物〔LV〕は化合物〔LIV 〕と一般式 化２８
【化２８】（Ｒ22Ｏ）2 Ｐ（＝Ｏ）ＣＨ2 ＣＯＯＲ19 〔式中、Ｒ19およびＲ22は前記と同じ意味を表わす。〕
とを溶媒中で反応させることにより製造することができ
る。反応温度の範囲は通常３０℃〜１２０℃であり、好
ましくは４０℃〜８０℃である。反応時間の範囲は通常
５〜７２時間である。反応に供される試剤の量は化合物
〔LIV 〕１モルに対して化２８の化合物１モルの割合が
理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させる
ことができる。用いられる溶媒としては、トリエチルア
ミン等の第三級アミンがあげられる。反応終了後、反応
溶媒を留去した後、そのままクロマトグフィーに付する
か、または反応液を有機溶媒抽出および濃縮する等の通
常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再
結晶等の操作によって、さらに精製することによって目
的の本発明化合物を単離することができる。
【００２５】（製造法１７） 下記スキーム〔ｄ〕に従った製造法 〔式中、Ｂ3 はＯＲ35基、ＳＲ35基、ＣＯＯＲ35基、Ｃ
ＯＲ16基またはＣＲ17＝ＣＲ18ＣＯＲ16基を表わし、Ｒ
35は（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アル
キル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ
４アルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基または
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６ア
ルキル基を表わし、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18は前記と同じ
意味を表わし、Ｂ4 はＢ3 のケトンまたはアルデヒド部
分がアルコールによってケタールまたはアセタールとし
て保護された置換基を表し、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 および
Ｒ3 は前記と同じ意味を表わす。〕 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔ＬXII 〕から化合物〔LXIII 〕を製造する方法 化合物〔LXIII 〕は、一般式〔ａ〕で示されるヒドラゾ
ン誘導体にかえて化合物〔ＬXII 〕を用いる以外は( 製
造法１) と同様にして製造することができる。化合物〔L XIII 〕から化合物〔LXIV〕を製造する方法 化合物〔LXIV〕は、化合物〔LXIII 〕のケタールまたは
アセタール部分を通常の方法で脱保護することにより製
造することができる。尚、化合物〔ＬXII 〕は、下記ス
キーム〔ｅ〕に従って製造することができる 〔式中、Ｘ，Ｙ，Ｂ3 およびＢ4 は、前記と同じ意味を
表す。〕 即ち、化合物〔ＬＸＶ〕の置換基Ｂ3 のケトンまたはア
ルデヒド部分をメタノール等のアルコールでケタールま
たはアセタールとして保護することにより化合物〔ＬＸ
ＶＩ〕とした後、後述の化３５の化合物にかえて化合物
〔ＬＸＶＩ〕を用いる以外は後述の一般式〔ａ〕で示さ
れるヒドラゾン誘導体の製造法と同様にして製造する事
ができる。
【００２６】次に、本発明化合物を製造する際に用いら
れる中間体や原料化合物の製造法について述べる。（製
造法１）により本発明化合物を製造する場合の一方の原
料化合物である一般式〔ｂ〕で示されるホスホラン化合
物は市販されているものを用いるか、または、例えば実
験化学講座（丸善株式会社）第４版第２４巻、２５９〜
２６０頁に記載された方法にしたがって製造することが
できる。（製造法１）により本発明化合物を製造する場
合のもう一方の原料化合物である一般式〔ａ〕で示され
るヒドラゾン誘導体（一般式 化７のヒドラゾン類を含
む）は、一般式 化２９
【化２９】Ｒ1 Ｃ（＝Ｏ）ＣＶ2 Ｒ3 〔式中、Ｒ1 およびＲ3 は前記と同じ意味を表わし、Ｖ
は沃素原子、臭素原子、または塩素原子を表わす。〕で
示されるα−ジハロ化合物と水とを塩基の存在下に反応
させて、一般式 化３０
【化３０】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ3 は前記と同じ意味を表わす。〕で示
されるカルボニル誘導体とした（以下、反応１と記
す。）後、続いてそれと一般式 化３１
【化３１】Ｑ1 −ＮＨＮＨ2 〔式中、Ｑ1 は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
ヒドラジン誘導体とを反応させる（以下、反応２と記
す。）ことによって製造することができる。一般式 化
３０で示されるカルボニル誘導体は、水、アルコール中
で、水和体またはアセタール誘導体として反応させるこ
ともできる。
【００２７】反応１は、通常、溶媒中で行い、反応温度
の範囲は通常２０〜１００℃、反応時間の範囲は通常瞬
時から２４時間であり、反応に供される試剤の量は、式
化２９で表わされるα−ジハロ化合物１モルに対して
水および塩基の量は各々２モルの割合が理想的である
が、必要に応じて変化させる事ができる。用いられる塩
基としては、有機塩基、無機塩基共に使用する事がで
き、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等があげら
れる。用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジオキサン、ＴＨＦ、エチレングリコール
ジメチルエーテル等のエーテル類、蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニト
ロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニ
トリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ＤＭＦ等
の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三
級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄
化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、水等、あるい
はそれらの混合物があげられる。
【００２８】反応２は、通常溶媒中で行い反応温度の範
囲は通常−２０〜２００℃、反応時間の範囲は、通常瞬
時〜７２時間である。反応に供される試剤の量は、反応
１に用いたα−ジハロ化合物１モルに対して、化３１の
ヒドラジン誘導体は１モルの割合が理想的であるが、反
応の状況に応じて任意に変化させる事ができる。また、
状況に応じてヒドラジン誘導体の塩酸塩や硫酸塩等の塩
を用いる事もできる。用いられる溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、
ＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル等のエー
テル類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン
等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリ
ル等のニトリル類、ホルムアミド、ＤＭＦ、アセトアミ
ド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルエミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン等の
第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の
硫黄化合物、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類、
メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプ
ロパノール等のアルコール類、水等、あるいはそれらの
混合物があげられる。反応終了後の反応液は、（必要に
応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、
有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要
ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさ
らに精製することにより、目的物を単離することができ
る。
【００２９】一般式〔ａ〕のヒドラゾン誘導体（一般式
化７のヒドラゾン類を含む）のうち、一般式 化３２
【化３２】 〔式中、Ｘは前記と同じ意味を表わし、Ｙ2 はハロゲン
原子を表わし、Ｂ2 は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−
Ｃ６アルコキシ基またはＣ１−Ｃ６アルキルチオ基を表
わす。〕で示される化合物は下記スキーム化３３に従っ
て製造することもできる。
【化３３】 〔式中、Ｘ、Ｙ2 、Ｂ2 およびＲ22は前記と同じ意味を
表わす。〕 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔LV I〕から化合物〔LV II 〕を製造する方法 化合物〔LVII〕は、化合物〔LVI 〕を塩酸または硫酸中
で亜硝酸塩と反応させて、対応するジアゾニウム塩とし
た後、該ジアゾニウム塩と一般式 化３４
【化３４】 〔式中、Ｒ22は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
化合物とを、酢酸ナトリウム、ピリジン等の塩基の存在
下で反応させることにより製造することができる。(Tet
rahedron, Vol. 35, p2013(1979)参照）化合物〔LVII〕から化合物〔LVIII 〕を製造する方法 化合物〔LVIII 〕は化合物〔LVII〕を通常、塩基の存在
下、溶媒中で加水分解することにより製造することがで
きる。反応温度の範囲は０℃〜１５０℃、好ましくは２
０℃〜１００℃であり、反応時間の範囲は１〜２４時
間、好ましくは１〜１０時間である。反応に供される試
剤の量は、化合物〔LVII〕１モルに対して、塩基の量は
１モルの割合が理想的であるが、必要に応じて変化させ
る事ができる。用いられる塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化ナトリ
ウム等の無機塩基があげられる。用いられる溶媒として
は、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサ
ン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、
ＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル等のエー
テル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプ
チルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン
類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、
ＤＭＦ等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン
等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン
等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレング
リコール、イソプロパノール等のアルコール類、水等、
あるいはそれらの混合物があげられる。化合物〔LVIII 〕から化３２を製造する方法 化３２は化合物〔LVIII 〕を溶媒中で加熱することによ
り製造することができる。反応温度の範囲は５０℃〜２
００℃、好ましくは５０℃〜１５０℃であり、反応時間
の範囲は瞬時〜７２時間である。用いられる溶媒として
は、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサ
ン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
オキサン、ＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソプチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン
等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベ
ンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロ
ニトリル等のニトリル類、ホルムアミド、ＤＭＦ、アセ
トアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルモルホ
リン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン等の硫黄化合物、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の脂
肪酸類、メタノール、エタノール、エチレングリコー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、水等、あるい
はそれらの混合物があげられる。本反応は、必要に応じ
て銅等の金属を触媒として用いる事もできる。反応終了
後の反応液は、生じた結晶を濾集するか、又は有機溶媒
抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばク
ロマトグラフィー、再結晶等の操作によって更に精製す
ることにより、目的物を単離する事ができる。
【００３０】一般式 化３１で示されるヒドラジン誘導
体は、一般式 化３５
【化３５】Ｑ1 −ＮＨ2 〔式中、Ｑ1 は前記と同じ意味
を表す。〕 で示されるアニリン誘導体より、例えば(Organic Synth
esis collective volume1, P.442 参照）下記ルート
化３６に従って製造することができる。
【化３６】 〔式中、Ｑ1 は前記と同じ意味を表す。〕
【００３１】一般式 化３６で示されるアニリン誘導体
は、例えばヨーロッパ特許出願公開明細書ＥＰ−61741
−Ａ；米国特許明細書 USP 4,670,046、USP 4,770,695
、USP 4,709,049 、USP 4,640,707 、USP 4,720,927
、USP 5,169,431 ；特開昭63−156787号公報で公知で
あるか、または、そこに記載された方法に準じて製造す
ることができるか、または、例えば下記スキーム化３７
にしたがって製造することができる。
【化３７】 〔式中、ＸおよびＹ1 は前記と同じ意味を表わし、Ｒ31
はＣＯＲ16又はＣＯＯＲ10を表す。〕 各工程の反応条件は例えば下記のようである。化合物〔LIX 〕から化合物〔LX〕を製造する方法 化合物〔LX〕は化合物〔LIX 〕と硝酸とを溶媒中反応さ
せることにより製造することができる。反応温度の範囲
は通常０℃〜１００℃、反応時間の範囲は通常、瞬時〜
２４時間である。反応に供される試剤の量は、化合物
〔LIX 〕１モルに対して硝酸１モルの割合が理想的であ
るが、反応の状況に応じて任意に変化させることができ
る。用いられる溶媒としては、通常酸性溶媒を使用する
ことができ、例えば、塩酸と硫酸の混合物や硝酸と硫酸
の混合物等があげられる。（Organic Synthesis collec
ive Vol.1, p372 参照）化合物〔LX〕から化合物〔LXI 〕を製造する方法 化合物〔LXI 〕は化合物〔LX〕を酢酸、鉄粉および水か
らなる混合液中で還元することにより製造することがで
きる。反応温度の範囲は通常０℃〜１００℃、反応時間
の範囲は通常、瞬時〜２４時間である。反応終了後の反
応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行
い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作に
よってさらに精製することにより、目的物を単離するこ
とができる。（Organic Synthesis colleciveVol.2, p4
71, Vol.5, p829参照）
【００３２】本発明化合物は、優れた除草効力を有し、
かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。す
なわち本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理
において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対し
て除草効力を有する。 タデ科雑草 ソバカズラ (Polygonum convolvulus)、サナエタデ (Po
lygonum lapathiolium) 、アメリカサナエタデ (Polygo
num pensylvanicum)、ハルタデ (Polygonum persicari
a) 、ナガバギシギシ (Rumex crispus)、エゾノギシギ
シ (Rumex obtusifolius) 、イタドリ (Polygonum cusp
idatum) スベリヒユ科雑草 スベリヒユ（Portulaca oleracea) ナデシコ科雑草 ハコベ (Stellaria media) アカザ科雑草 シロザ (Chenopodium album)、ホウキギ (Kochia scopa
ria) ヒユ科雑草 アオゲイトウ (Amaranthus retroflexus) 、ホナガアオ
ゲイトウ (Amaranthushybridus) アブラナ科雑草 ワイルドラディッシュ (Raphanus raphanistrum)、ノハ
ラガラシ (Sinapis arvensis) 、ナズナ (Capsella bur
sa-pastoris) マメ科雑草 アメリカツノクサネム（Sesbania exaltata)、エビスグ
サ (Cassia obtusifolia) 、フロリダベガーウィード
(Desmodium tortuosum)、シロツメクサ (Trifolium rep
ens) アオイ科雑草 イチビ (Abutilon theophrasti) 、アメリカキンゴジカ
(Sida spinosa) スミレ科雑草 フィールドパンジー (Viola arvensis) 、ワイルドパン
ジー (Viola tricolor) アカネ科雑草 ヤエムグラ (Galium aparine) ヒルガオ科雑草 アメリカアサガオ (Ipomoea hederacea)、マルバアサガ
オ (Ipomoea purpurea) 、マルバアメリカアサガオ (Ip
omoea hederacea var integriuscula)、マメアサガオ
(Ipomoea lacunosa) 、セイヨウヒルガオ (Convolvulus
arvensis) シソ科雑草 ヒメオドリコソウ (Lamium purpureum) 、ホトケノザ
(Lamium amplexicaule) ナス科雑草 シロバナチョウセンアサガオ (Datura stramonium)、イ
ヌホオズキ (Solanumnigrum) ゴマノハグサ科雑草 オオイヌノフグリ (Veronica persica) 、フラサバソウ
(Veronica hederaefolia) キク科雑草 オナモミ (Xanthium pensylvanicum) 、野生ヒマワリ
(Helianthus annuus)、イヌカミツレ (Matricaria perf
orata or inodora)、コーンマリーゴールド (Chrysanth
emum segetum)、オロシャギク (Matricaria matricario
ides)、ブタクサ(Ambrosia artemisiifolia)、オオブタ
クサ (Ambrosia trifida) 、ヒメムカシヨモギ (Eriger
on canadensis)、ヨモギ (Artemisia princeps) 、セイ
タカアワダチソウ (Solidago altissima) ムラサキ科雑草 ワスレナグサ (Myosotis arvensis) ガガイモ科雑草 オオトウワタ (Asclepias syriaca) トウダイグサ科雑草 トウダイグサ (Euphorbia helioscopia)、オオニシキソ
ウ (Euphorbia maculata) イネ科雑草 イヌビエ (Echinochloa crus-galli) 、エノコログサ
(Setaria viridis)、アキノエノコログサ (Setaria fab
eri) 、メヒシバ (Digitaria sanguinalis)、オヒシバ
(Eleusine indica)、スズメノカタビラ (Poa annua)、
ブラックグラス (Alopecurus myosuroides) 、カラスム
ギ (Avena fatua)、セイバンモロコシ (Sorghum halepe
nse)、シバムギ (Agropyron repens) 、ウマノチャヒキ
(Bromus tectorum)、ギョウギシバ (Cynodon dactylo
n) 、オオクサキビ (Panicum dichotomiflorum)、テキ
サスパニカム (Panicum texanum)、シャターケーン (So
rghumvulgare) ツユクサ科雑草 ツユクサ (Commelina communis) トクサ科雑草 スギナ (Equisetum arvense) カヤツリグサ科雑草 コゴメガヤツリ (Cyperus iria) 、ハマスゲ (Cyperus
rotundus) 、キハマスゲ (Cyperus esculentus) しかも、本発明化合物中のあるものは、トウロモコシ
(Zea mays) 、コムギ (Triticum aestivum)、オオムギ
(Hordeum vulgare)、イネ (Oryza sativa) 、ソルガム
(Sorghum bicolor)、ダイズ (Glycine max)、ワタ (Gos
sypium spp.) 、テンサイ (Beta vulgaris)、ピーナッ
ツ (Arachis hypogaea) 、ヒマワリ (Helianthus annuu
s)、ナタネ (Brassica napus) 等の主要作物、花卉・蔬
菜等の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さな
い。また、本発明化合物は、ダイズ、トウモロコシ、コ
ムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を
効果的に除草することができる。しかも、本発明化合物
中のあるものは、作物に対しては問題となるような薬害
を示さない。
【００３３】また、本発明化合物は、水田の湛水処理に
おいて、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して
除草効力を有する。 イネ科雑草 タイヌビエ（Echinochloa oryzicola) ゴマノハグサ科雑草 アゼナ (Lindernia procumbens) ミソハギ科雑草 キカシグサ (Rotala indica)、ヒメミソハギ (Ammannia
multiflora) ミゾハコベ科雑草 ミゾハコベ (Elatine triandra) カヤツリグサ科雑草 タマガヤツリ (Cyperus difformis)、ホタルイ (Scirpu
s juncoides)、マツバイ (Eleocharis acicularis)、ミ
ズガヤツリ (Cyperus serotinus)、クログワイ(Eleocha
ris kuroguwai) ミズアオイ科雑草 コナギ (Monochoria vaginalis) オモダカ科雑草 ウリカワ (Sagittaria pygmaea) 、オモダカ (Sagittar
ia trifolia)、ヘラオモダカ (Alisma canaliculatum) ヒルムシロ科雑草 ヒルムシロ (Potamogeton distinctus) セリ科雑草 セリ (Oenanthe javanica) しかも、本発明化合物中のあるものは、移植水稲に対し
て問題となるような薬害を示さない。さらに、本発明化
合物は、樹園地、牧草地、芝生地、林業地または水路、
運河あるいはその他の非農耕地に発生する広範囲の雑草
を除草できる。また、本発明化合物は、水路、運河等に
発生するホテイアオイ (Eichhornia crassipes) 等の水
生雑草に除草効力を有する。本発明化合物は、国際特許
出願公開明細書ＷＯ９５／３４６５９号明細書に記載さ
れる除草性化合物と同様な特性を有し、該明細書に記載
される除草剤耐性遺伝子等が導入されることにより耐性
の付与された作物を栽培する場面においては、耐性の付
与されていない通常の作物の栽培時に使用されるより多
くの薬量の本発明化合物が使用可能となり、好ましくな
い他の植物をより効果的に除草することができる。
【００３４】本発明化合物を除草剤の有効成分として用
いる場合は、通常固体担体、液体担体、界面活性剤その
他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、
粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等に製剤する。こ
れらの製剤には、有効成分として本発明化合物を重量比
で 0.001〜８０％、好ましくは、 0.005〜７０％含有す
る。固体担体としては、カオリンクレー、アタパルジャ
イトクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライ
ト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微粉末、クルミ
殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有機物微粉末、
硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および合成含水酸化
珪素の微粉末等が挙げられ、液体担体としては、メチル
ナフタレン、フェニルキシリルエタン、キシレン等のア
ルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノー
ル、エチレングリコール、２−エトキシエタノール等の
アルコール類、フタル酸ジアルキルエステル等のエステ
ル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケ
トン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、綿実油等の植物
油、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、水等が
挙げられる。乳化、分散、湿展等のために用いられる界
面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキル
スルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアル
キルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルア
リールエーテルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性
剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレ
ンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。そ
の他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、
アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、
ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）、ＰＡＰ（酸性
リン酸イソプロピル）等が挙げられる。
【００３５】本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出
芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理
する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等が
あり、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、
作物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等
がある。
【００３６】また、他の除草剤と混合して用いることに
より、除草効力の増強が認められる場合がある。さら
に、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調
節剤、肥料、土壌改良剤等と混合して用いることもでき
る。本発明化合物と混合して使用することができる除草
剤の例を以下に示す。アトラジン（ａｔｒａｚｉｎ）、
シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、ジメタメトリン
（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン（ｍｅ
ｔｒｉｂｕｚｉｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙ
ｎ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓ
ｉｍｅｔｒｙｎ）、クロロトルロン（ｃｈｌｏｒｏｔｏ
ｌｕｒｏｎ）、ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、ダイムロン
（ｄｙｍｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔ
ｕｒｏｎ）、イソプロチュロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏ
ｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、メタベンズチア
ズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、ブ
ロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、アイオキシニ
ル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、エタルフルラリン（ｅｔｈａｌ
ｆｌｕｒａｌｉｎ）、ペンデイ メサリン（ｐｅｎｄｉｍ
ｅｔｈａｌｉｎ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａ
ｌｉｎ）、アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅ
ｎ）、アシフルオルフェンＮａ塩（ａｃｉｆｌｕｏｒｆ
ｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏ
ｘ）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉ
ｌ）、フォメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、ラクト
フェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、オキサジアゾン（ｏｘａ
ｄｉａｚｏｎ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕ
ｏｒｆｅｎ）、カルフェントラゾン（ｃａｒｆｅｎｔｒ
ａｚｏｎ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃ
ｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌ
ｕｍｉｏｘａｚｉｎｅ）、フルチアセットメチル（ｆｌ
ｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、サルフェントラゾ
ン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、チジアジミン（ｔ
ｈｉｄｉａｚｉｍｉｎ）、ジフェンゾコート（ｄｉｆｅ
ｎｚｏｑｕａｔ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）、パラ
コート（ｐａｒａｑｕａｔ）、２，４−Ｄ、２，４−Ｄ
Ｂ、ＤＣＰＡ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、クロメプロップ
（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒ
ａｌｉｄ）、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）、ジチオピル
（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏ
ｘｙｐｙｒ）、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、ナ
プロアニリド（ｎａｐｌｏａｎｉｌｉｄｅ）、フェノチ
オール（ｐｈｅｎｏｔｈｉｏｌ）、キンクロラック（ｑ
ｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐ
ｙｒ）、アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、ア
ラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕ
ｔａｃｈｌｏｒ）、ジエタチルエチル（ｄｉｅｔｈａｔ
ｙｌ−ｅｔｈｙｌ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃ
ｈｌｏｒ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌ
ｏｒ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、ベ
ンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔ
ｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒ
ｏｎ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ
−ｅｔｈｙｌ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕ
ｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、メツルフロンメチル
（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスル
フロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プリミスルフロ
ン（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロン
エチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙ
ｌ）、サルフォメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒ
ｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、チフェンスルフロンメチオル
（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ト
リアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリベ
ニュロンメチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙ
ｌ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏ
ｎ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ
−ｍｅｔｈｙｌ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏ
ｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、フルメツラム（ｆｌｕｍｅｔ
ｕｒａｍ）、フルピリスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌ
ｆｕｒｏｎ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆ
ｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕ
ｒｏｎ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、プロス
ルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン
（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフルスルフロンメチ
ル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、
イマザメタベンズメチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎ
ｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙ
ｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピ
ル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）、イマザメス（ｉｍａｚ
ａｍｅｔｈ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、
ビスピリバックＮａ塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄ
ｉｕｍ）、ピリミノッバクメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂ
ａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリチオバックＮａ塩（ｐｙｒ
ｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、アロキシジムＮａ
塩（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、クレソジム
（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘ
ｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉ
ｍ）、ジクロホップメチル（ｄｉｃｈｌｏｆｏｐ−ｍｅ
ｔｈｙｌ）、フェノキサプロップエチル（ｆｅｎｏｘａ
ｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フェノキサロップ−ｐ−エチ
ル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルア
ジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、
フルアジホップ−ｐ−ブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｐ
−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙ
ｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップ−ｐ−エチル
（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｐ−ｅｔｈｙｌ）、シハロホ
ップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、クロ
デイ ナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐ
ｒｏｐａｒｇｙｌ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆ
ｅｎａｐ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、ジフ
ルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ノルフル
ラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、ピラゾレート（ｐ
ｙｒａｚｏｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚ
ｏｘｙｆｅｎ）、イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌ
ｕｔｏｌｅ）、サルコトリオン（ｓｕｌｕｃｏｔｒｉｏ
ｎｅ）、グルフォシネートアンモニウム塩（ｇｌｕｆｏ
ｓｉｎａｔｅ−ａｎｍｏｎｉｕｍ）、グリフォセート
（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚ
ｏｎ）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、
ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、ブタミホス
（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔ
ｅ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、
ジメテンアミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、ＤＳＭ
Ａ，ＥＰＴＣ，エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒ
ｂ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）、メフェナセ
ット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、モリネート（ｍｏｌｉｎ
ａｔｅ）、ＭＳＭＡ，ピペロフォス（ｐｉｐｅｒｏｐｈ
ｏｓ）、ピリブチカルブ（ｐｒｉｂｕｔｙｃａｒｂ）、
プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、ピリデート（ｐｙｒ
ｉｄａｔｅ）、トリアレート（ｔｒｉａｌｌａｔｅ）、
カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌ）、フルポ
キサム（ｆｌｕｐｏｘａｍ）、チアフルアミド（ｔｈｉ
ａｆｌｕａｍｉｄｅ）、上記化合物は、ファームケミカ
ルズハンドブック（マイスターパブリッシングカンパニ
ー）〔Farm Chemicals Handbook(Meister Publishing C
ompany)]１９９５年版のカタログ、アグケムニューコン
パウンドレビュー１９９５年版（アグケムインフォメー
ションサービス）〔AG CHEM NEW COMPOUND REVIEW,VOL.
13,1995(AG CHEM INFORMATION SERVICE)または、「除草
剤研究総覧（博友社）」に記載されている。具体的な混
合例を以下に示す。尚、本発明化合物は後述の表１〜５
の化合物番号で示す。 １．本発明化合物 1-495、1-496 、1-499 、1-503 およ
び1-577 からなる群から選ばれる１つの化合物とアトラ
ジン、シアナジン、ブロモキシニルおよびベンタゾンか
らなる群から選ばれる１つの化合物と重量比で１：１〜
１００の割合で混合する。 ２．本発明化合物 1-495、1-496 、1-499 、1-503 およ
び1-577 からなる群から選ばれる１つの化合物とクレソ
ジム、セトキシジム、ジクロホップメチル、キザロップ
−ｐ−エチル、ラクトフェン、アシフルオルフェン、ア
シフルオルフェンＮａ塩、フォメサフェン、フルミクロ
ラックペンチルおよびジカンバからなる群から選ばれる
１つの化合物とを重量比で１：0.５〜５０の割合で混合
する。 ３．本発明化合物 1-495、1-496 、1-499 、1-503 およ
び1-577 からなる群から選ばれる１つの化合物とニコス
ルフロン、プリミスルフロン、プロスルフロン、クロリ
ムロンエチル、チフェンスルフロン、リムスルフロン、
ハロスルフロン、オキサスルフロン、イソキサフルトー
ル、イマゼタピルおよびイマザモックスからなる群から
選ばれる１つの化合物とを重量比で１：0.１〜１０の割
合で混合する。 ４．本発明化合物 1-439、1-482 、1-486 、1-496 、1-
1076、1-1123および1-1441からなる群から選ばれる１つ
の化合物とイソプロチュロンおよびクロロトルロンから
なる群から選ばれる１つの化合物とを重量比で１：１〜
１００の範囲で混合する。 ５．本発明化合物 1-439、1-482 、1-486 、1-496 、1-
1076、1-1123および1-1441からなる群から選ばれる１つ
の化合物とメコプロップ、フルロキシピアおよびアイオ
キシニルからなる群から選ばれる１つの化合物とを重量
比で１：0.５〜５０の割合で混合する。 ６．本発明化合物 1-439、1-482 、1-486 、1-496 、1-
1076、1-1123および1-1441からなる群から選ばれる１つ
の化合物と、ジフルフェニカン、メツルフロンメチル、
フェノキサプロップエチルおよびクロディナホッププロ
パルギルからなる群から選ばれる１つの化合物とを重量
比で１：0.１〜１０の割合で混合する。 ７．本発明化合物1-1141、1-1222および2-203 からなる
群から選ばれる１つの化合物とグリフォゼート、グルフ
ォシネートアンモニウム塩およびパラコートからなる群
から選ばれる１つの化合物とを重量比で１：１〜１００
の割合で混合する。
【００３７】本発明化合物を除草剤の有効成分として用
いる場合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時
期、処理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草等によっ
ても異なるが、１ヘクタール当たり通常0.01ｇ〜 10000
ｇ、好ましくは１ｇ〜8000ｇであり、乳剤、水和剤、懸
濁剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等は、通常その所
定量を１ヘクタール当たり１０リットル〜1000リットル
の（必要ならば展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈
して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤は通常なんら希釈す
ることなくそのまま処理する。ここで、必要に応じて用
いられる補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリ
オキシエチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン
酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸
塩、クロップオイルコンセントレイト（crop oil conce
ntrate) 、大豆油、コーン油、綿実油、ヒマワリ油等の
植物油等が挙げられる。
【００３８】また、本発明化合物は、ワタの落葉剤・乾
燥剤、ジャガイモ（Solanum tuberosum)の乾燥剤等の収
穫補助剤の有効成分として用いることができる。その場
合、本発明化合物を、除草剤の有効成分として用いる場
合と同様に通常製剤化して、作物の収穫前に、単独また
は他の収穫補助剤と混合して茎葉処理する。
【００３９】
【実施例】以下、本発明を製造例、製剤例および試験例
等により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの
例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の製
造例および中間体化合物である一般式〔ａ〕のヒドラゾ
ン誘導体（一般式 化７のヒドラゾン類を含む）の製造
例を示す。尚、本発明化合物は表１〜表５の化合物番号
で示す。 製造例１ （本発明化合物２−６３１の製造） 酢酸ナトリウム8.０ｇ（97.2mmol）と水５０mlを混合し
た溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３−ト
リフルオロアセトン6.６ｇ（24.3mmol）を加え、３０分
間８０℃で反応させた。次に、反応液を、０℃に冷却
し、これに、７−フルオロ−６−ヒドラジノ−４−プロ
パルギル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン
4.４ｇ（18.7mmol）を加え、室温で２時間攪拌した。生
じた結晶を濾集し、１０mlの水で２回洗浄し、乾燥させ
ることにより、７−フルオロ−６−トリフルオロアセチ
ルメチリデンヒドラジノ−４−プロパルギル−２Ｈ−
１，４−ベンゾオキサジン−３−オン〔別名 ３，３，
３−トリフルオロ−２−オキソ−プロパナール １−
（７−フルオロ−３−オキソ−４−プロパルギル−２−
Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−６−イルヒドラゾ
ン）〕6.３ｇ（18.37 mmol）を得た。m.p.190.6 ℃（分
解） この化合物6.０ｇ（17.5mmol）とトルエン５０mlを混合
した溶液に、カルボエトキシメチレントリフェニルホス
ホラン9.１ｇ（26.2mmol）を加え、１時間加熱還流し
た。減圧下にトルエンを留去した後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、７−フルオロ−６−
〔５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
ル〕−４−プロパルギル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサ
ジン−３−オン（本発明化合物２−６３１）1.３ｇ（3.
５mmol）を得た。 製造例２ （本発明化合物１−４７６の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（53.5mmol）と水約１００mlを混
合した溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３
−トリフルオロアセトン6.６ｇ（24.3mmol）を加え、７
０℃で２０分間反応させた。次に反応液を室温に冷却
し、これに２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポ
キシフェニルヒドラジン5.８ｇ（21.5mmol）をジエチル
エーテル約２０mlに溶解した溶液を加え、室温で１時間
攪拌した。エーテル層を分離、濃縮した残渣にＴＨＦ約
６０mlを加え、これにカルボエトキシエチリデントリフ
ェニルホスホラン8.３ｇ（23.0mmol）を加え、２時間加
熱還流した。減圧下にＴＨＦを留去した後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−〔２−フ
ルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル〕−
４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−
オン（本発明化合物１−４７６）を3.８ｇ（10.5mmol）
得た。 製造例３ （本発明化合物１−３９１の製造） ２−〔２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシ
フェニル〕−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリ
ダジン−３−オン（本発明化合物１−４７６：製造例２
にて製造）3.５ｇ（9.７mmol）を氷冷下、濃硫酸約１０
mlに溶解し、室温まで昇温した。１０分後、反応液に約
１００mlの水を加え、生じた結晶をろ集し、水２０mlで
２回およびヘキサン１０mlで１回順次洗浄した。得られ
た結晶をイソプロパノールから再結晶して、２−〔２−
フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル〕−４
−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オ
ン（本発明化合物１−３９１）3.２ｇ（9.０mmol）を得
た。 製造例４ （本発明化合物１−４８６の製造） 本発明化合物１−３９１（製造例３にて製造） 3.２ｇ
（１０mmol）をＤＭＦ約５０mlに溶解し、これに室温で
炭酸カリウム2.０ｇ（１３mmol）を加えた。さらにプロ
パルギルブロマイド1.３ｇ（１１mmol）を加え、３０分
室温で攪拌した後、水１００mlを加えた。生じた結晶を
ろ集し、ヘキサンで洗浄後、イソプロパノールから再結
晶し、本発明化合物１−４８６ 3.４ｇ（９mmol）を得
た。 製造例５ （本発明化合物１−４９６の製造） 本発明化合物１−３９１（製造例３にて製造） 3.２ｇ
（１０mmol）をＤＭＦ約５０mlに溶解し、室温で水素化
ナトリウム（６０重量％ オイルデイスパージョン 0.
44ｇ（11mmol）を加え、３０分室温で放置後、氷冷下、
ブロモ酢酸エチル1.８ｇ（１１mmol）を加えた。１時間
室温で攪拌した後、ジエチルエーテルで抽出した。有機
層を１０％ＨＣｌ水、重そう水および飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、本発明化合物１−４９６ 2.４ｇ（5.５mmol）を
得た。 製造例６ （本発明化合物２−２５１の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（53.5mmol）と水約５０mlを混合
した溶液に、水冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３−
トリフルオロアセトン6.６ｇ（24.3mmol）を加え、８０
℃で１時間反応させた。次に、反応液を０℃に冷却し、
これに７−フルオロ−６−ヒドラジノ−４−プロパルギ
ル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン4.４ｇ
（18.7mmol）を加え、室温で２時間攪拌した。生じた結
晶をロ集し、１０mlの水で２回およびヘキサン１０mlで
１回順次洗浄後、包水のままトルエン５０mlに溶解し
た。この溶液にカルボエトキシエチリデントリフェニル
ホスホラン8.８ｇ（24.3mmol）を加え、１時間共沸脱水
しながら加熱還流した。減圧下トルエンを留去した後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本
発明化合物２−２５１ 3.５ｇ（9.01mmol）を得た。 製造例７ （本発明化合物２−３２８の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（53.5mmol）と水約５０mlを混合
した溶液に水冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３−ト
リフルオロアセトン6.６ｇ（24.3mmol）を加え、１時間
８０℃で反応させた。次に反応液を０℃に冷却し、それ
に６−フルオロ−５−ヒドラジノ−３−（sec −ブチ
ル）−１，３−ベンゾチアゾール−２−オン4.８ｇ（1
8.7mmol）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液にジ
エチルエーテル１００mlを加え、攪拌した後、分液し、
有機層を濃縮した。残渣をＴＨＦ５０mlに溶解し、これ
にカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン8.
８ｇ（24.3mmol）を加え、１時間加熱還流した。減圧下
にＴＨＦを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、本発明化合物２−３２８ 3.７ｇ
（9.６mmol）を得た。 製造例８ （本発明化合物１−３４７の製造） 濃硫酸５０mlを氷冷し、これに本発明化合物１−３４１
7.０ｇ（２２．８mmol）を溶解した。これに発煙硝酸
1.５１ｇ（２４mmol）を５℃以下で滴下し、０〜５℃で
１時間熟成させた。反応液を氷水３００mlにあけ、５０
mlのジエチルエーテルで３回抽出後、抽出液を併せて水
約１００mlおよび重ソウ水１００mlで順次洗浄した。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、半濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明
化合物１−３４７ 6.１ｇ（１7.４mmol）を得た。 製造例９ （本発明化合物１−３５３の製造） 鉄粉5.０ｇ、酢酸７５mlおよび水１０mlを混合し、約８
０℃に昇温し、約１５分熟成した。酢酸エチル４０mlに
本発明化合物１−３４７（製造例８にて製造）6.０ｇ
（１7.１mmol）を溶解し、８０℃以下で滴下した。約８
０℃で１時間熟成後、室温まで放冷した。酢酸エチル１
００mlで２回抽出後、抽出液を併せて水５０mlで２回お
よび重ソウ水で１回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に酢酸エチルを留去した後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発
明化合物１−３５３ 5.１ｇ（１5.９mmol）を得た。
【００４０】製造例１０ （本発明化合物１−４２０の
製造） 本発明化合物１−３５３（製造例９にて製造） ５００
mg（1.６mmol）と２−ブロモプロピオン酸エチル１０ml
（７7.３mmol）を混ぜ、約１６０℃で約１２時間加熱還
流した。放冷後、反応液をそのままシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、本発明化合物１−４２０を２
６０mg（0.６mmol）得た。 製造例１１ （本発明化合物１−１６２２の製造） アクリル酸エチル６ml（５5.４mmol）、亜硝酸ｔ−ブチ
ル0.５ｇ（4.８mmol）および塩化第２銅0.６ｇ（4.５mm
ol）をアセトニトリル５ml中で混合し、氷冷した。アセ
トニトリル５mlに溶解した本発明化合物１−３５３（製
造例９にて製造） 1.０ｇ（3.１mmol）をこれに５℃以
下で滴下し、一晩室温で熟成した。反応液を氷水にあ
け、酢酸エチル１００mlで２回抽出した。有機層を併せ
て希塩酸５０mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧下で溶媒を除去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、本発明化合物１−１６２２
0.５１ｇ（1.２mmol）を得た。 製造例１２ （本発明化合物１−１２２１の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（５3.５mmol）と水約５０mlを混
合した溶液に氷冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３−
トリフルオロアセトン6.６ｇ（２4.３mmol）を加え、８
０℃で１時間反応させた。次に、反応液を０℃に冷却
し、これに２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒド
ラジノフェニルチオ）プロピオン酸メチル5.２ｇ（１8.
７mmol）を加え、室温で２時間攪拌した。生じた結晶を
ろ集し、１０mlの水で２回およびヘキサン１０mlで１回
順次洗浄後、乾燥させた。これをＴＨＦ５０mlに溶解
し、カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン8.
４ｇ（２2.４mmol）を加え、室温で３時間攪拌した。減
圧下にＴＨＦを留去した後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、本発明化合物１−１２２１3.
８ｇ（9.０mmol）を得た。 製造例１３ （本発明化合物２−８２１の製造） 酢酸ナトリウム8.０ｇ（９7.２mmol）と水約５０mlを混
合した溶液に氷冷下、３，３−ジブロモ−１，１，１−
トリフルオロブタノン6.９ｇ（２4.３mmol）を加え、３
０分間８０℃で反応させた。次に、反応液を０℃に冷却
し、これに７−フルオロ−６−ヒドラジノ−４−プロパ
ルギル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン4.
４ｇ（１8.７mmol）を加え、室温で２時間攪拌した。生
じた結晶をろ集し、１０mlの水で２回洗浄し、乾燥させ
ることにより、１，１，１−トリフルオロ−２，３−ブ
タンジオン ３−（７−フルオロ−３−オキソ−４−プ
ロパルギル−２−Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−６−
イルヒドラゾン）6.１ｇ（１7.０mmol）を得た。この化
合物6.１ｇ（１7.０mmol）とＴＨＦ５０mlを混合した溶
液にカルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン7.
１ｇ（２0.４mmol）を加え、１時間加熱還流した。減圧
下にＴＨＦを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、７−フルオロ−６−〔６−メチ
ル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−
イル〕４−プロパルギル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサ
ジン−３−オン（本発明化合物２−８２１）0.６１ｇ
（1.６mmol）を得た。 （参考例１）製造例１３で示した３，３−ジブロモ−
１，１，１−トリフルオロ−２−ブタノンの製造例を示
す。酢酸２７０ml中に酢酸ナトリウム３4.０ｇを溶解し
た。これに１，１，１−トリフルオロ−２−ブタノン２
５ｇ（0.２０ mol）を加え、１５〜２０℃に保ちなが
ら、臭素６6.３ｇ（0.４２ mol）を４５分かけて滴下し
た。５時間温度を１５〜２０℃に保ちながら攪拌し、そ
の後室温で６８時間放置した。上澄液をとり、濃硫酸６
００mlで分液した。さらに濃硫酸３０７mlで洗浄し、常
圧蒸留により３，３−ジブロモ−１，１，１−トリフル
オロ−２−ブタノン２８ｇ（0.１０ mol）を得た。 製造例１４ （本発明化合物１−１３４６の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（５3.５mmol）と水約５０mlを混
合した溶液に氷冷下、３，３−ジブロモ−１，１，１−
トリフルオロ−２−ブタノン6.９ｇ（２4.３mmol）を加
え、８０℃で１時間反応させた。次に、反応液を０℃に
冷却し、これに２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒドラ
ジノフェノール3.３ｇ（１8.７mmol）を加え、室温で２
時間攪拌した。生じた結晶をロ集し、１０mlの水で２回
およびヘキサン１０mlで１回、順次洗浄し、乾燥後、Ｔ
ＨＦ５０mlに溶解した。この溶液にカルボエトキシメチ
レントリフェニルホスホラン8.８ｇ（２4.３mmol）を加
え、３時間室温で攪拌した。減圧下にＴＨＦを留去した
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、本発明化合物１−１３４６ 0.５１ｇ（1.６mmol）
を得た。 製造例１５ （本発明化合物１−１４４１の製造） 本発明化合物１−１３４６（製造例１４にて製造） 3.
２ｇ（１０mmol）をＤＭＦ約５０mlに溶解し、これに室
温で炭酸カリウム2.０ｇ（１３mmol）を加えた。さらに
プロパルギルブロマイド1.３ｇ（１１mmol）を加え、３
０分室温で攪拌した。反応液に水１００mlを加え、生じ
た結晶をロ集し、ヘキサンで洗浄後、得られた結晶をイ
ソプロパノールから再結晶し、本発明化合物１−１４４
１ 3.２ｇ（8.５mmol）を得た。 製造例１６ （本発明化合物１−４９９の製造） 製造例５において、ブロモ酢酸エチル1.８ｇ（1 １mmo
l）にかえてクロロ酢酸ノルマルペンチル1.８ｇ（1 １m
mol）を加え、４０℃で３時間攪拌した後、ジエチルエ
ーテルで抽出した。有機層を１０％ＨＣｌ水、重そう水
および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物１−４９９
3.８ｇ（8.０mmol）を得た。 製造例１７ （本発明化合物２−２０３の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（５3.５mmol）と水約５０mlを混
合した溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３
−トリフルオロアセトン6.６ｇ（２4.３mmol）を加え、
８０℃で１時間反応させた。次に、反応液を０℃に冷却
し、これに６−ヒドラジノ−４−プロパルギル−２Ｈ−
１，４−ベンゾオキサジン−３−オン4.０ｇ（１8.７mm
ol）を加え、室温で２時間攪拌した。生じた結晶をロ集
し、１０mlの水で２回およびヘキサン１０mlで１回、順
次洗浄後、包水のままＴＨＦ５０mlに溶解した。この溶
液にカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン
8.８ｇ（２4.３mmol）を加え、３時間加熱還流した。減
圧下にＴＨＦを留去した後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、本発明化合物２−２０３3.３
ｇ（8.８mmol）を得た。 製造例１８ （本発明化合物１−１２２２の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（５3.５mmol）と水約５０mlを混
合した溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３
−トリフルオロアセトン6.６ｇ（２4.３mmol）を加え、
８０℃で１時間反応させた。次に、反応液を０℃に冷却
し、これに２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒド
ラジノフェニルチオ）プロピオン酸エチル5.５ｇ（１8.
７mmol）を加え、室温で２時間攪拌した。生じた結晶を
ロ集し、１０mlの水で２回およびヘキサン１０mlで１
回、順次洗浄後、乾燥させた。これをＴＨＦ５０mlに溶
解し、カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン
8.４ｇ（２2.４mmol）を加え、室温で３時間攪拌した。
減圧下にＴＨＦを留去した後、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、本発明化合物１−１２２２
4.３ｇ（9.９mmol）を得た。
【００４１】製造例１９ （本発明化合物１−４７６の
製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（53.5mmol）と水約１００mlを混
合した溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３
−トリフルオロアセトン6.６ｇ（24.3mmol）を加え、７
０℃で２０分間反応させた。次に反応液を室温に冷却
し、これに２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポ
キシフェニルヒドラジン5.８ｇ（21.5mmol）をジエチル
エーテル約２０mlに溶解した溶液を加え、室温で１時間
攪拌した。エーテル層を分離し、飽和食塩水１０ｍｌで
１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチル
エーテルを留去し、３，３，３−トリフルオロ−２−オ
キソ−プロパナール １−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）6.５ｇ（２
0.０mmol）〔 1Ｈ−ＮＭＲ（250MHz、CDCl3 、TMS ，δ
(ppm)) 1.39(6H, d, J=6.0Hz) 、4.38-4.52(1H, m)、7.
15(1H, d, J=10.5Hz)、7.22(1H, d, J=7.3Hz)、7.43(1
H, q, J=1.7Hz)、9.18(1H, br)〕を得た。この化合物を
５０ｍｌのＴＨＦに溶解し、これにカルボエトキシエチ
リデントリフェニルホスホラン8.３ｇ（23.0mmol）を加
え、２時間加熱還流した。減圧下にＴＨＦを留去した
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、２−〔２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポ
キシフェニル〕−４−メチル−５−トリフルオロメチル
ピリダジン−３−オン（本発明化合物１−４７６）を3.
８ｇ（10.5mmol）得た。 製造例２０ （本発明化合物１−６４２の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（53.5mmol）と水約１００mlを混
合した水溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，３，
３−トリフルオロアセトン6.６ｇ（24.3mmol）を加え、
７０℃で２０分間反応させた。次に反応液を室温に冷却
し、これに２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒドラジノ
安息香酸エチルのジエチルエーテル溶液〔これは次のよ
うにして調製した：粗２−クロロ−４−フルオロ−５−
ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩5.８ｇ（21.5mmol）を
水３０mlに溶解し、ジエチルエーテル１００mlを加えた
後、冷却しながら飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え、
中和した。さらに飽和食塩水で洗浄して得た。〕を加え
室温で２時間激しく攪拌した。エーテル層を分離し、飽
和食塩水１０mlで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、ジエチルエーテルを留去した。残渣をＴＨＦ５
０mlに溶解し、カルボエトキシエチリデントリフェニル
ホスホラン8.３ｇ（23.0mmol）を加え、２時間加熱還流
した。減圧下にＴＨＦを留去した後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物１−６
４２ 3.８ｇ（10.0mmol）を得た。 （参考例２）製造例２０で示した２−クロロ−４−フル
オロ−５−ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩の製造例を
示す。２−クロロ−４−フルオロ安息香酸５０ｇ(0.29m
ol）を室温で塩酸１５０mlに溶解した。これに発煙硝酸
２８ml(0.31mol）と濃硫酸５６mlを混合した混酸を３５
℃から４５℃で滴下した。滴下後、溶液を４０℃で１時
間攪拌し、氷水２５０mlにあけた。生じた結晶をロ集
し、ヘキサン／酢酸エチル混合液から再結晶し、２−ク
ロロ−４−フルオロ−５−ニトロ安息香酸５５ｇ(0.25m
ol) を得た。２−クロロ−４−フルオロ−５−ニトロ安
息香酸５５ｇ(0.25mol）を酢酸エチル５０mlに溶解し、
これに塩化チオニル３３ｇ(0.28mol) を加え３時間加熱
還流した後、室温まで放冷し、さらに氷水下でエタノー
ル２０mlおよびトリエチルアミン３０ｇを加え、室温で
２時間攪拌した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィーに付し、２−クロロ−４−フルオロ−５
−ニトロ安息香酸エチル５７ｇ(0.23mol) を得た。鉄粉
６０ｇを１０％酢酸５００mlと混合し、４０℃に加熱し
た。一方、２−クロロ−４−フルオロ−５−ニトロ安息
香酸エチル５０ｇ(0.20mol) を酢酸２０mlと酢酸エチル
２０mlの混合溶液に溶解し、これを先の鉄粉−酢酸混合
液に滴下した。滴下後５０℃で１時間攪拌し、セライト
ロ過を行った。濾液に酢酸エチル１００mlを加え抽出し
た。抽出液を重ソウ水および飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５
−アミノ−２−クロロ４−フルオロ安息香酸エチル４０
ｇ(0.18mol) を得た。５−アミノ−２−クロロ−４−フ
ルオロ安息香酸エチル１９ｇ (87.4mmol) を濃塩酸１２
０mlに溶解した後、０℃に冷却した。これに、亜硝酸ナ
トリウム6.３ｇ（91.7mmol）を水１０mlに溶解した溶液
を、１０℃以下で滴下した。０℃で３０分間攪拌後、溶
液を−３０℃に冷却し、これに塩化第２すず５８ｇ(0.3
1mol)を塩酸４０mlに溶解した溶液を一気に加えた。そ
の後０℃で３時間攪拌し、生じた結晶をロ集後、乾燥
し、粗２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒドラジノ安息
香酸エチル塩酸塩１3.６ｇ（50.7mmol）を得た。 製造例２１ （本発明化合物１−１７８９の製造） 本発明化合物１−３９１（製造例３にて製造）5.０ｇ
（15.5mmol）をＤＭＦ約５０mlに溶解し、これに室温で
炭酸カリウム2.８ｇ（20.2mmol）を加えた。さらに３−
ブロモ−２−メチル−１−プロペン1.５ｇ（17.1mmol）
を加え、３０分室温で攪拌した。反応液に水１００mlを
加え、生じた結晶を濾集し、ヘキサンで洗浄後、得られ
た結晶をさらにイソプロパノールから再結晶し、本発明
化合物１−１７８９ 4.４ｇ（13.2mmol）を得た。 製造例２２ （本発明化合物４−４５１の製造） 本発明化合物１−１７８９（製造例２１にて製造） 4.
０ｇ（12.0mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルアニリン２０mlに
溶解し、１８０℃で３時間加熱した。室温まで冷却した
後、酢酸エチル１００mlを加え、１Ｎ塩酸溶液および飽
和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、溶媒を留去すると、結晶が析出した。これをイソプ
ロパノールから再結晶し、２−〔４−クロロ−６−フル
オロ−３−ヒドロキシ−２−（２−メチル−２−プロペ
ニル）〕−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダ
ジン−３−オン3.４ｇ（10.2mmol）を得た。（融点133.
２℃） これをキシレン３０mlに溶解し、ｐ−トルエンスルホン
酸を触媒量加え、１時間加熱還流した。室温まで冷却し
た後、酢酸エチル１００mlを加え、重ソウ水および食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマグラフィー
に付し、本発明化合物４−４５１ 3.０ｇ（9.0mmol)を
得た。 製造例２3 （本発明化合物１−４８３の製造） 本発明化合物１−３９１（製造例３にて製造） 5.０ｇ
（15.5mmol）をＤＭＦ約２０mlに溶解した後、室温で炭
酸カリウム2.４ｇ（17.1mmol）を加えた。この溶液を約
４０℃に加熱し、２，３−ジクロロプロペンを1.７ｇ
（17.1mmol）加えた。同温度で１時間反応させた後に反
応液を放冷し、氷水にあけた。生じた結晶をロ集し、ヘ
キサンで洗浄し、得られた結晶をさらにイソプロパノー
ルから再結晶し、本発明化合物１−４８３ 5.２ｇ（1
3.1mmol）を得た。
【００４２】製造例２４ （本発明化合物３−１３９の
製造） 本発明化合物１−４８３（製造例２３にて製造） 3.０
ｇ（7.６mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルアニリン１０mlに溶
解し、３時間加熱還流した。室温まで冷却した後、酢酸
エチル５０mlを加え、１Ｎ塩酸溶液および飽和食塩水で
順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を
留去した。生じた結晶をイソプロパノールから再結晶
し、２−〔４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシ
−２−（２−クロロ−２−プロペニル）〕−４−メチル
−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン2.２ｇ
（5.６mmol）〔 1Ｈ−ＮＭＲ（300MHz、CDCl3 、TMS δ
(ppm)) 2.41(3H, q, J=1.9Hz) 、3.56(1H, d, J=16.3H
z) 、3.72(1H, d, J=16.3Hz)、4.91(1H, q, J=1.4Hz)、
5.12(1H, d, J=1.5Hz)、5.72(1H, s) 、7.25(1H, d,J=
8.7Hz)、8.00(1H, s) 〕を得た。これを氷冷したトリフ
ルオロメタンスルホン酸１０mlに溶解し、氷冷下で攪拌
した。３０分後、反応液を氷水にあけ、生じた結晶をロ
集し、得られた結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、本発明化合物３−１３９ 1.９ｇ（5.４mm
ol）を得た。 製造例２５ （本発明化合物１−１７４４の製造） ２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒドラジノ安息香酸エ
チル塩酸塩5.8 ｇ（21.5mmol）に替えて２，４−ジクロ
ロ−５−ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩〔該化合物は
前記参考例２の方法を用いて２，４−ジクロロ安息香酸
から合成した。〕6.１ｇ（21.5mmol）を用いる以外は製
造例２０と同様の操作を行い、本発明化合物１−１７４
４ 4.８ｇ（１2.２mmol）を得た。 製造例２６ （本発明化合物１−１２７９の製造） 酢酸ナトリウム5.３ｇ（５3.５mmol）と水約１００mlを
混合した水溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，
３，３−トリフルオロアセトン6.６ｇ（２4.３mmol）を
加え、７０℃で２０分間反応させた後、室温に冷却し
た。これに２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒドラジノ
安息香酸エチルのジエチルエーテル溶液〔これは次のよ
うにして調製した：２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒ
ドラジノ安息香酸エチル塩酸塩5.８ｇ（２1.５mmol）を
水３０mlに溶解し、ジエチルエーテル１００mlを加え、
冷却しながら飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え中和し
た。さらに飽和食塩水で洗浄して得た。〕を加え、室温
で２時間激しく攪拌した。エーテル層を分離し、飽和食
塩水１０mlで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、ジエチルエーテルを留去した。残渣に少量のヘキサ
ンを加え、２−クロロ−４−フルオロ−５−（２−オキ
ソ−３，３，３−トリフルオロプロピリデンヒドラジ
ノ）安息香酸エチル4.３ｇ（１2.６mmol）を得た。これ
をＴＨＦ５０mlに溶解し、カルボエトキシメチレントリ
フェニルホスホラン5.０ｇ（１4.４mmol）を加え、２時
間加熱還流した。減圧下にＴＨＦを留去した後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化
合物１−１２７９ 3.６ｇ（9.７mmol）を得た。 製造例２７ （本発明化合物１−１７８０の製造） 酢酸ナトリウム５０ｇ（0.６１mol)と１，１−ジブロモ
−３，３，３−トリフルオロアセトン４１ｇ（0.１４mo
l)とを水５００mlを混合し、８０℃で３０分間攪拌した
後、０℃まで冷却した。これに４−ブロモ−２−フルオ
ロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラジン塩酸塩４５
ｇ（0.１４mol)を１０℃以下で添加し、１０℃以下で３
時間攪拌した。生じた結晶をロ集、乾燥し、３，３，３
−トリフルオロ−２−オキソプロパナール−１−（４−
ブロモ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒ
ドラゾン）２５ｇ（９4.３mmol）を得た。カルボエトキ
シメチレントリフェニルホスホラン１６ｇ（４6.０mmo
l）と３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ
ール−１−（４−ブロモ−２−フルオロ−５−イソプロ
ポキシフェニルヒドラゾン）１６ｇ（４3.１mmol）をＴ
ＨＦ１００ml中室温で４時間攪拌した。反応液を濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、本発明化合物１−１７８０ 9.４ｇ（２3.８mmol）
を得た。 （参考例３）製造例２７で示した４−ブロモ−２−フル
オロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラジン塩酸塩の
製造例を示す。２−ブロモ−４−フルオロフェノール９
３ｇ（0.４９mol)を水２００mlに懸濁させた中に、クロ
ロギ酸メチル５５ｇ（0.５９mol)と水酸化ナトリウム水
溶液（ＮａＯＨ２1.５ｇ（0.５１mol)およびＨ2 Ｏ６０
mlから調製）を１０℃以下で併注滴下した。滴下終了
後、同温度で２時間攪拌した後、生じた結晶をロ集し、
水で洗浄後、バキュームオーブンで乾燥することによ
り、２−ブロモ−４−フルオロフェノキシギ酸メチル１
１1.６ｇ（0.４５mol)を得た。２−ブロモ−４−フルオ
ロフェノキシギ酸メチル１１０ｇ（0.４４mol)を硫酸２
５０mlに溶解させた液に５℃以下で混酸（発煙硝酸３０
ｇおよび硫酸３０mlから調製）を滴下した。そのまま２
時間攪拌した後、反応液を氷にあけた。析出した結晶を
ロ集し、水で洗浄後、乾燥することにより、２−ブロモ
−４−フルオロ−５−ニトロフェノキシギ酸メチル１２
６ｇ（0.４３mol)を得た。２−ブロモ−４−フルオロ−
５−ニトロフェノキシギ酸メチル１２５ｇ（0.４３mol)
を水２００mlに懸濁させた液に、水酸化ナトリウム１９
ｇ（0.４７mol)を加え、５０〜６０℃で４時間攪拌し
た。反応液を室温まで冷却し、クロロホルムで洗浄し
た。水層を塩酸水で酸性とした後、酢酸エチルで抽出
し、抽出液を乾燥後、濃縮し、２−ブロモ−４−フルオ
ロ−５−ニトロフェノール１０４ｇ（0.４３mol)を得
た。２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロフェノール
１００ｇ（0.４２mol)をＤＭＦ４００mlに溶解させた
後、炭酸カリウム７０ｇ（0.５０mol)を加えた。その後
５０℃に昇温し、ヨウ化イソプロピル９４ｇ（0.５５mo
l)を滴下した。滴下終了後、４５〜５０℃で１時間攪拌
した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を水および希塩酸で順次洗浄し、乾燥、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−
ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロフェニルイソプロピ
ルエーテル９9.８ｇ（0.３６mol)を得た。２−ブロモ−
４−フルオロ−５−ニトロフェニルイソプロピルエーテ
ル６０ｇ（0.２２mol)を酢酸エチル３００mlに溶解し、
１０％−パラジウムカーボン1.０ｇを加えて、水素雰囲
気下で還元反応を行った。反応終了後、ロ過によりパラ
ジウムカーボンを除き、ロ液を濃縮し、４−ブロモ−２
−フルオロ−５−イソプロポキシアニリン５２ｇ（0.２
１mol)を得た。塩化第２すず１０８ｇ（0.５７mol)を濃
塩酸１００mlに溶解させて−３０℃に冷却した後、これ
にジアゾニウム溶液〔４−ブロモ−２−フルオロ−５−
イソプロポキシアニリン４７ｇ（0.１９mol)、亜硝酸ナ
トリウム１3.５ｇ（0.２０mol)および塩酸１２０mlから
調製〕を０℃以下で滴下した。滴下終了後、２時間室温
で攪拌した。生じた結晶をロ集し、バキュームオーブン
で乾燥し、粗４−ブロモ−２−フルオロ−５−イソプロ
ポキシフェニルヒドラジン塩酸塩４５ｇ（0.１４mol)を
得た。 製造例２８ （本発明化合物１−１７８３の製造） カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン１９
ｇ（５2.４mmol）と３，３，３−トリフルオロ−２−オ
キソプロパナール １−（４−ブロモ−２−フルオロ−
５−イソプロピルオキシフェニルヒドラゾン）（製造例
２７にて製造）１９ｇ（６3.２mmol）をＴＨＦ１００ml
中で５時間加熱還流させた。反応液を濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合
物１−１７８３ 9.１ｇ（２2.２mmol）を得た。 製造例２９ （本発明化合物１−１７４８の製造） ４−ブロモ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニ
ルヒドラジン塩酸塩４５ｇ（0.１４mol)にかえて２，４
−ジクロロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラジン塩
酸塩〔該化合物は、２，４−ジクロロフェノールから参
考例３に示した方法に準じて合成した。〕４１ｇ（0.１
４mol)を用いる以外は製造例２７の前半部分と同様の操
作を行い、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロ
パナール１−（２，４−ジクロロ−５−イソプロポキシ
フェニルヒドラゾン）３1.３ｇ（９1.３mol)を得た。次
にこれとカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホ
ラン４０ｇ（0.１１mol)とをＴＨＦ１００ml中で５時間
加熱還流させた。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物１−１７
４８ ２１ｇ（５4.８mol)を得た。 製造例３０ （本発明化合物１−１０２９の製造） ２−（４−ブロモ−２−フルオロ−５−イソプロピルオ
キシフェニル）−５−トリフルオロメチルピリダジン−
３−オン（本発明化合物１−１７８０：製造例２７にて
製造）９ｇ（２2.８mmol）を濃硫酸５０ml中に加え、そ
のまま１時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を乾燥し、濃縮後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢
酸エチル＝５：１）に付し、本発明化合物１−１０２９
5.９ｇ（１6.７mmol）を得た。 製造例３１ （本発明化合物１−３９２の製造） ２−（４−ブロモ−２−フルオロ−５−イソプロピルオ
キシフェニル）−４−メチル-5- トリフルオロメチルピ
リダジン−３−オン（本発明化合物１−１７８３：製造
例２８にて製造）９ｇ（２2.０mmol）を濃硫酸５０ml中
に加え、そのまま１時間攪拌した。反応液を氷にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥し、濃縮後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘ
キサン：酢酸エチル＝５：１）に付し、本発明化合物１
−３９２ 4.２ｇ（１1.５mmol）を得た。 製造例３２ （本発明化合物１−１２７４の製造） 酢酸ナトリウム7.４ｇ（９0.２mmol）と１，１−ジブロ
モ−３，３，３−トリフルオロアセトン8.０ｇ（２8.２
mmol）を水７０mlに混合し、８０℃で３０分間攪拌した
後、冷却した。そこへ２−クロロ−５−ヒドラジノ桂皮
酸エチル7.０ｇを１０℃以下で加えて、そのまま３時間
攪拌した。生じた結晶をロ集した後、乾燥し、２−クロ
ロ−５−（３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロ
ピリデンヒドラジノ）桂皮酸エチル9.６ｇ（２7.５mmo
l）を得た。〔 1Ｈ−ＮＭＲ（250MHz、CDCl3 、TMS δ
(ppm)) 1.36(3H, t, J=6.9Hz) 、4.30(2H, q, J=6.9H
z)、6.4 〜6.6(1H, m)、7.2 〜7.5(3H, m)、7.65(1H,
d, J=2.5Hz)、8.0 〜8.1(1H, m)〕 次に、カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン
1.０ｇ（2.９mmol）と２−クロロ−５−（３，３，３−
トリフルオロ−２−オキソプロピリデンヒドラジノ）桂
皮酸エチル1.０ｇ（2.９mmol）をＴＨＦ１０ml中室温で
１時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エ
チル＝５：１）に付し、本発明化合物１−１２７４ 0.
４３ｇ（１1.５mmol）を得た。 （参考例４）製造例３２で示した２−クロロ−５−ヒド
ラジノ桂皮酸エチルは、以下の方法で製造した。塩化第
２すず６０ｇを濃塩酸６０mlに溶解し、−３０℃まで冷
却後、これにジアゾニウム溶液（５−アミノ−２−クロ
ロ桂皮酸エチル１９ｇと亜硝酸ナトリウム6.３ｇから調
製）を０℃以下で滴下した。その後、室温で１時間攪拌
し、生じた結晶をロ集した。その結晶を氷水に加え、２
Ｎ−ＮａＯＨ水で中和した後、クロロホルムで抽出し
た。抽出液を乾燥後、濃縮して、２−クロロ−５−ヒド
ラジノ桂皮酸エチル7.０ｇを得た。 製造例３３ （本発明化合物１−６３７の製造） カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン1.１
ｇ（2.９mmol）と２−クロロ−５−（３，３，３−トリ
フルオロ−２−オキソプロピリデンヒドラジノ）桂皮酸
エチル（製造例３２の前半部分で製造）1.０ｇ（2.９mm
ol）をＴＨＦ１０ml中で３時間加熱還流させた。反応液
を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に付し、
本発明化合物１−６３７ 0.６６ｇ（1.７mmol）を得
た。 製造例３４ （本発明化合物１−３６７の製造） 本発明化合物１−３５３（製造例９にて製造） 0.５ｇ
（1.６mmol）をピリジン1.５mlに溶解した後、室温でこ
れにメタンスルホニルクロライド0.２ｇ（1.７mmol）を
滴下した。そのまま２時間攪拌後、反応液を氷水にあ
け、酢酸エチルで抽出した。抽出液を希塩酸で洗浄し、
乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）
に付し、本発明化合物１−３６７ 0.４２ｇ（1.１mmo
l）を得た。 製造例３５ （本発明化合物１−３６９の製造） メタンスルホニルクロライド0.２ｇ（1.７mmol）にかえ
てクロロメチルスルホニルクロライド0.２３ｇ（1.６mm
ol）を用いた以外は製造例３４と同様の操作を行い、本
発明化合物１−３６９ 0.３８ｇ（0.９１mmol）を得
た。 製造例３６ （本発明化合物１−３９１の製造） ５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノール（該
化合物はヨーロッパ特許出願公開明細書ＥＰ−６１７４
１−Ａに記載の方法で製造した）３2.３ｇを濃塩酸１５
０mlと混合し、５０℃で３０分間攪拌した。この混合液
に、亜硝酸ナトリウム１５ｇを水４０mlに溶解したもの
を、０℃で１０分かけて滴下した。０℃で１時間攪拌し
た後、−５０℃に冷却した。これに塩化第１スズ１３２
ｇを濃塩酸１３２ｇに溶解したものを−５０℃ですばや
く滴下し、徐々に室温に戻し、１時間攪拌した。生じた
固体を濾集し、減圧下８０℃で乾燥し、２−フルオロ−
４−クロロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン塩酸塩
の粗結晶を７５ｇ得た。〔 1Ｈ−ＮＭＲ（DMSO-d6 ，TM
S,δ(ppm)) 3〜5(2H, b)、6.73(1H, d) 、7.22(1H, d)
、8.20(1H, s) 、9 〜11(2H, b) 〕 酢酸ナトリウム４9.２ｇおよび１，１−ジブロモ−３，
３，３−トリフルオロアセトン４0.５ｇを水４００mlに
溶解し、８０〜９０℃で４０分間加熱した。この溶液を
０℃に冷却し、上で得られた２−フルオロ−４−クロロ
−５−ヒドロキシフェニルヒドラジン塩酸塩の粗結晶７
５ｇを加えた。室温で７０分間攪拌し、生じた結晶をロ
集し、減圧乾燥して、３，３，３−トリフルオロ−２−
オキソプロパナール １−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）３5.４ｇを得
た。〔 1Ｈ−ＮＭＲ（300MHz、CDCl3 、TMS δ(ppm))
5.49(s, 1H)、7.15(d, J=10.5, 1H) 、7.24(d, J=7.4,
1H)、7.38(q, J=1.8, 1H)、8.75(s, 1H) 〕 得られた３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパ
ナール １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロ
キシフェニルヒドラゾン）１2.９ｇおよびカルボエトキ
シエチリデントリフェニルホスホラン２2.３ｇをＴＨＦ
１１０mlに溶解し３時間加熱還流した。減圧で溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシ
フェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリ
ダジン−３−オン（本発明化合物１−３９１）8.８ｇを
得た。
【００４３】製造例３７ （本発明化合物１−３３２の
製造） ３，３，３−トリフルオロ−２−オキソ−１−プロパナ
ール １−（４−クロロフェニルヒドラゾン）２ｇ、ジ
エチルホスホノ酢酸エチル２ｇおよびトリエチルアミン
２０mlを混合し、５０℃で２４時間反応させた。減圧下
に溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、２−（４−クロロフェニル）−５−
トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（本発明化合
物１−３３２）1.１６ｇを得た。 （参考例５）製造例１９で製造した３，３，３−トロフ
ルオロ−２−オキソプロパナール１−（４−クロロ−２
−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）
は以下の方法により製造することもできる。４，４，４
−トリフルオロアセト酢酸エチル２0.１ｇと酢酸ナトリ
ウム２５ｇを水１５０mlに溶解させた溶液に、ジアゾニ
ウム塩酸溶液（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプ
ロポキシアニリン２0.３ｇ、濃塩酸２０ml、水２０mlお
よび亜硝酸ナトリウム7.３ｇから調製）を１０℃以下で
滴下した。滴下終了後、１時間室温で攪拌した後、生じ
た結晶をロ集し、水で洗浄した後、乾燥し、エステル体
３４ｇをオレンジ色結晶として得た。（収率８５％） １，４−ジオキサン３０mlと水３ml中に上記反応で得ら
れたエステル体１5.９ｇと水酸化リチウム−水和物1.７
ｇを加え、６時間加熱還流した。反応液を氷水にあけ、
希塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を乾
燥した後、濃縮した。得られた結晶をヘキサンで洗浄
し、カルボン酸体１1.３ｇを黄色結晶として得た。（収
率７6.３％） 上記反応で得られたカルボン酸体7.４ｇをＤＭＦ４２ml
に溶解し、１００℃に反応液を昇温し、そのまま３０分
間保温した。その後室温まで冷却し、水にあけ、酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を希塩酸水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、濃縮して、目的物5.９ｇをオレ
ンジ色結晶として得た。（収率９０％） 〔 1Ｈ−ＮＭＲ（250MHz、CDCl3 、TMS 、δ(ppm)) 1.3
9(6H, d, J=6.0Hz) 、4.38〜4.52(1H, m) 、7.15(1H,
d, J=10.5Hz) 、7.22(1H, d, J=7.3Hz)、7.43(1H,q, J=
1.7Hz)、9.18(1H, br)〕 （参考例６）参考例５の方法に準じて、製造例３７で示
した３，３，３−トリフルオロ−２−オキソ−１−プロ
パナール １−（４−クロロフェニルヒドラゾン）を合
成した。即ち、１，４−ジオキサン３０mlと水２mlとの
混合液に出発物質であるエステル体5.０ｇと水酸化リチ
ウム−水和物0.６７ｇを加え、1.５時間加熱還流した。
反応液を氷水にあけ、希塩酸で中和した後、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を乾燥した後、濃縮した。得られた
結晶をヘキサン−ジエチルエーテル混合溶媒（ヘキサ
ン：ジエチルエーテル＝２：１）で洗浄してカルボン酸
体3.３ｇを黄色結晶として得た。（収率７３％） 方法1) 上記反応で得られたカルボン酸体3.３ｇをジメ
チルスルホキシド１０mlに溶解させ、１００℃に反応液
を昇温し、そのまま１０分間保温した。その後室温まで
冷却し、反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝７：１）
に付し、目的物2.５５ｇを得た。（収率９１％） 方法2) トルエン４０ml中に、上記反応で得られたカル
ボン酸体5.０ｇ、キノリン0.５mlおよび銅粉0.１ｇとを
加えた反応溶液を１００℃に昇温し、そのまま２０分間
保温した。反応液を室温まで冷却し、そのままシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢
酸エチル＝８：１））に付し、目的物3.６ｇを得た。
（収率８６％）
【００４４】本発明化合物の例のいくつかを化合物番号
とともに表１〜表５に示す。表中のｎはノルマルをｉは
イソをｓはセカンダリーをｃはシクロをそれぞれ表す。
【表１】
【００４５】
【００４６】
【００４７】
【００４８】
【００４９】
【００５０】
【００５１】
【００５２】
【００５３】
【００５４】
【００５５】
【００５６】
【００５７】
【００５８】
【００５９】
【００６０】
【００６１】
【００６２】
【００６３】
【００６４】
【００６５】
【００６６】
【００６７】
【００６８】
【００６９】
【００７０】
【００７１】
【００７２】
【００７３】
【００７４】
【００７５】
【００７６】
【００７７】
【００７８】
【００７９】
【００８０】
【００８１】
【００８２】
【００８３】
【００８４】
【００８５】
【００８６】
【００８７】
【００８８】
【００８９】
【００９０】
【００９１】
【００９２】
【００９３】
【００９４】
【００９５】
【００９６】
【００９７】
【００９８】
【００９９】
【０１００】
【０１０１】
【０１０２】
【０１０３】
【０１０４】
【０１０５】
【０１０６】
【０１０７】
【０１０８】
【０１０９】
【０１１０】
【０１１１】
【０１１２】
【０１１３】
【０１１４】
【０１１５】
【０１１６】
【０１１７】
【０１１８】
【表２】
【０１１９】
【０１２０】
【０１２１】
【０１２２】
【０１２３】
【０１２４】
【０１２５】
【０１２６】
【０１２７】
【０１２８】
【０１２９】
【０１３０】
【０１３１】
【０１３２】
【０１３３】
【０１３４】
【０１３５】
【０１３６】
【０１３７】
【０１３８】
【０１３９】
【０１４０】
【０１４１】
【０１４２】
【０１４３】
【０１４４】
【０１４５】
【０１４６】
【０１４７】
【０１４８】
【０１４９】
【０１５０】
【０１５１】
【０１５２】
【０１５３】
【０１５４】
【０１５５】
【０１５６】
【０１５７】
【０１５８】
【０１５９】
【０１６０】
【０１６１】
【表３】
【０１６２】
【０１６３】
【０１６４】
【０１６５】
【０１６６】
【０１６７】
【０１６８】
【０１６９】
【０１７０】
【０１７１】
【０１７２】
【０１７３】
【０１７４】
【０１７５】
【０１７６】
【０１７７】
【０１７８】
【０１７９】
【０１８０】
【０１８１】
【０１８２】
【０１８３】
【０１８４】
【０１８５】
【０１８６】
【０１８７】
【表４】
【０１８８】
【０１８９】
【０１９０】
【０１９１】
【０１９２】
【０１９３】
【０１９４】
【０１９５】
【０１９６】
【０１９７】
【０１９８】
【０１９９】
【０２００】
【０２０１】
【０２０２】
【０２０３】
【０２０４】
【０２０５】
【０２０６】
【０２０７】
【０２０８】
【０２０９】
【０２１０】
【０２１１】
【０２１２】
【０２１３】
【０２１４】
【０２１５】
【０２１６】
【０２１７】
【０２１８】
【０２１９】
【０２２０】
【０２２１】
【０２２２】
【０２２３】
【０２２４】
【０２２５】
【０２２６】
【０２２７】
【０２２８】
【０２２９】
【表５】
【０２３０】
【０２３１】
【０２３２】
【０２３３】
【０２３４】次に、本発明化合物のうちのいくつかにつ
いて、その物性値〔融点（ m.p.)または 1Ｈ−ＮＭＲ
（250M Hz または300M Hz, CDCl 3 ,TMS, δ(ppm））デ
ータ〕を示す。尚、本発明化合物は表１から表５の化合
物番号で示す。 １−332 m.p. 97.0 ℃ １−335 m.p. 80.8 ℃ １−337 m.p. 91.5 ℃ １−338 m.p. 86.1 ℃ １−344 m.p. 94.2 ℃ １−347 m.p. 80.7 ℃ １−350 2.41(3H,q, J＝1.8Hz)、4.05-4.35(2H,b)
、6.87-6.94(1H,m) 、7.03(1H,d, J＝2.4Hz)、7.33(1
H,d, J＝8.5Hz)、7.98(1H,s) １−353 m.p. 124.0 ℃ １−367 2.44(3H,q, J＝1.9Hz)、3.04(3H,s)、6.88
(1H,s)、7.37(1H,d, J＝9.0Hz)、7.79(1H,d, J＝7.0H
z)、8.01(1H,s) １−369 2.44(3H,q, J＝2.0Hz)、4.57(2H,s)、7.06
(1H,s)、7.38(1H,d, J＝9.0Hz)、7.83(1H,d, J＝6.9H
z)、8.01(1H,s) １−391 m.p. 177.6 ℃ １−392 m.p. 172.5 ℃ １−398 m.p. 133.1 ℃ １−420 1.25(3H,t, J＝7.5Hz)、1.51(3H,d, J＝7.
0Hz)、2.42(3H,q, J＝1.8Hz)、4.0-4.18(3H,m)、4.82(1
H,d, J＝7.9Hz)、6.59(1H,d, J＝6.3Hz)、7.23(1H,d, J
＝9.3Hz)、7.97(1H,s) １−429 1.40(6H,d, J＝6.3Hz)、2.43(3H,q, J＝2.
4Hz)、4.52-4.63(1H,m)、7.14(0.5H,d, J＝2.4Hz)、7.1
7(0.5H,d, J＝2.4Hz)、7.24(1H,d, J＝3.6Hz)、7.29(1
H,s)、7.46(1H,d, J＝8.4Hz) １−439 m.p. 110.6 ℃ １−449 1.29(3H,t, J＝7.5Hz)、2.42(3H,q, J＝2.
4Hz)、4.28(2H,q, J＝7.5Hz)、4.73(2H, s) 、7.20〜7.
32(2H,m)、7.49(1H,d, J＝10.4Hz) 、8.00(1H,s) １−456 1.70(3H,d, J＝6.9Hz)、2.41(3H,q, J＝2.
1Hz)、3.77(3H,s)、4.81(1H,q, J＝6.9Hz)、7.21-7.28
(2H,m) 、7.47(1H,d, J＝8.7Hz)、7.99(1H,s) １−474 m.p. 110.6 ℃ １−475 1.46(3H,t, J＝5.8Hz)、2.44(3H,q, J＝1.
5Hz)、4.07(2H,q, J＝5.8Hz)、6.94(1H,d, J＝5.0Hz)、
7.29(1H,d, J＝7.5Hz)、8.01(1H,s) １−476 1.38(6H,d, J＝6.3Hz)、2.43(3H,q, J＝
2.0Hz) 、4.47(1H,m)、6.99(1H,d, J＝5.0Hz)、7.29(1
H,d, J＝9.5Hz)、8.00(1H,s) １−482 m.p. 79.8 ℃ １−483 m.p. 132.7 ℃ １−486 m.p. 140.7 ℃（分解） １−487 m.p. 114.1 ℃ １−491 m.p. 82.9℃ １−495 m.p. 80.4℃ １−496 m.p. 102.0 ℃ １−497 m.p. 82.9℃ １−498 m.p. 75.6℃ １−499 0.88(3H,t, J＝7Hz)、1.2-1.4(4H,m) 、1.
55-1.70(2H,m) 、2.43(3H,q,J ＝2Hz)、4.19(2H,t, J＝
7Hz)、4.68(2H,s)、6.98(1H,d, J＝7Hz)、7.33(1H,d, J
＝8Hz)、7.99(1H,s) １−500 1.26(6H,d, J＝6.3Hz)、2.43(3H,q, J＝2H
z)、4.65(2H,s)、5.05-5.18(1H,m) 、6.98(1H,d, J＝7H
z)、7.33(1H,d, J＝8Hz)、7.98(1H,s) １−501 1.5-1.9(8H,m) 、2.43(3H,q, J＝2Hz)、4.
65(2H,s)、5.2-5.4(1H,m) 、6.97(1H,d, J＝7Hz)、7.33
(1H,d, J＝8Hz)、7.98(1H,s) １−503 1.68(3H,d, J＝7Hz)、2.43(3H,q, J＝2H
z)、3.76(3H,s)、4.73(1H,q, J＝7Hz)、6.98(1H,d, J＝
7Hz)、7.32(1H,d, J＝8Hz)、7.99(1H,s) １−504 1.25(3H,t, J＝7.3Hz)、1.68(3H,d, J＝
6.8Hz) 、2.42(3H,q, J＝2.0Hz)、4.21(2H,q, J＝7.3H
z)、4.70(1H,q, J＝6.8Hz)、6.99(1H,d, J＝6.8Hz)、7.
32(1H,d, J＝9.3Hz)、7.98(1H,s) １−511 m.p. 110.7 ℃ １−518 m.p. 131.2 ℃（分解） １−576 2.43(3H,q, J＝1.8Hz)、3.67(2H,s)、3.72
(3H,s)、7.32(1H,d, J＝8.5Hz)、7.59(1H,d, J=7.1Hz)
、8.2(1H,s) １−577 1.15(3H,t, J＝7.5Hz)、2.36(3H,q, J＝1.
8Hz)、3.58(2H,s)、4.09(2H,q, J＝7.5Hz)、7.28(1H,d,
J＝ 8.6Hz) 、7.52(1H,d, J＝7.1Hz)、7.93(1H,s)
【０２３５】１−579 m.p. 71.6 ℃ １−581 m.p. 97.5 ℃ １−584 1.53(3H,d, J＝7.2Hz)、2.43(3H,q, J＝1.
8Hz)、3.66(3H,s)、3.88(1H,q, J＝7.2Hz)、7.38(1H,d,
J＝9.6Hz)、7.66(1H,d, J＝7.5Hz)、7.99(1H,s) １−585 1.17(3H,t, J＝6.9Hz)、1.53(3H,d, J＝7.
2Hz)、2.43(3H,q, J＝1.8Hz)、3.89(1H,q, J＝7.2Hz)、
4.11(2H,q, J＝6.9Hz)、7.37(1H,d, J＝9.6Hz)、7.67(1
H,d, J＝9.0Hz)、7.99(1H,s) １−586 0.85(3H,t, J＝6.8Hz)、1.51-1.62(5H,m)
、2.43(3H,q, J＝1.8Hz)、3.89(1H,q, J＝7.2Hz)、4.0
2(2H,t, J＝6.8Hz)、7.33(1H,d, J＝9.5Hz)、7.66(1H,
d, J＝7.5Hz)、7.98(1H,s) １−587 0.88(3H,t, J＝7.2Hz)、1.30-1.40(2H,m)
、1.47-1.55(5H,m) 、2.43(3H,q, J＝1.8Hz)、3.89(1
H,q, J＝7.1Hz)、4.02-4.08(2H,m) 、7.36(1H,d, J＝9.
4Hz)、7.66(1H,d, J＝7.5Hz)、7.99(1H,s) １−619 2.45(3H,q, J＝1.6Hz)、7.60(1H,d, J＝8.
6Hz)、7.80-7.86(1H,m)、8.04(1H,s)、8.36(1H,d, J＝
2.5Hz) １−621 1.40(3H,t, J＝7.1Hz)、2.43(3H,q, J＝1.
8Hz)、4.41(2H,q, J＝7.1Hz)、7.56(1H,d, J＝8.6Hz)、
7.72-7.78(1H,m) 、8.02(1H,s)、8.16(1H,d, J＝2.7Hz) １−625 1.39(6H,d, J＝6.2Hz)、2.43(3H,q, J＝1.
6Hz)、5.23-5.28(1H,m)、7.54(1H,d, J＝8.7Hz)、7.70-
7.76(1H,m) 、8.02(1H,s)、8.10(1H,d, J＝2.6Hz) １−632 m.p. 76.1 ℃ １−637 m.p. 102.8 ℃ １−641 2.43(3H,q, J＝2.0Hz)、3.92(3H,s)、7.39
(1H,d, J＝9.5Hz)、8.02(1H,s)、8.07(1H,d, J＝7.7Hz) １−642 1.39(3H,t, J＝7.2Hz)、2.44(3H,q, J＝1.
9Hz)、4.40(2H,q, J＝7.2Hz)、7.38(1H,d, J＝9.5Hz)、
8.00〜8.06(2H,m) １−981 m.p. 87.1 ℃ １−987 4.0-4.4(2H,b) 、6.8-6.9(1H,m) 、7.04(1
H,d, J＝2.4Hz)、7.28(1H,q, J＝1.2Hz)、7.35(1H,d, J
＝8.6Hz)、8.02(1H,d, J＝2.2Hz) １−1025 5.92(1H,s)、7.16(0.5H,d, J＝2.4Hz)、7.
19(0.5H,d, J＝2.4Hz)、7.30(1H,q, J＝1.1Hz)、7.34(1
H,d, J＝5.7Hz)、7.43(1H,d, J＝9.0Hz)、8.04(1H,q, J
＝3.0Hz) １−1028 5.65-5.9(1H,br) 、7.09(1H,d,J ＝7Hz)、
7.27-7.30(2H,m) 、8.10(1H,q, J＝2.2Hz)、m.p. 18
0.2 ℃ １−1029 7.09(1H,d, J＝6.4Hz)、7.31(1H,q, J＝1.
1Hz)、7.42(1H,d, J＝8.8Hz)、8.04(1H,q, J＝2.2Hz) １−1035 m.p. 61.1 ℃ １−1057 m.p. 158 ℃ １−1066 m.p. 89.1 ℃ １−1076 m.p. 113.5 ℃ １−1086 m.p. 83.9 ℃ １−1093 m.p. 83.1 ℃ １−1113 m.p. 68.6℃ １−1123 m.p. 147.4 ℃ １−1124 m.p. 117.2 ℃ １−1133 m.p. 149.2 ℃（分解） １−1140 m.p. 99.1 ℃ １−1141 m.p. 80.2 ℃ １−1213 m.p. 85.8 ℃ １−1214 m.p. 65.1 ℃ １−1221 1.54(3H,d, J＝7.2Hz)、3.66(3H,s)、3.90
(1H,q, J＝7.2Hz)、7.31(1H,s)、7.39(1H,d, J＝9.0H
z)、7.67(1H,d, J＝8.7Hz)、8.04(1H,d, J＝3.6Hz) １−1222 1.16(3H,t, J＝5.1Hz)、1.53(3H,d, J＝7.
2Hz)、3.89(1H,q, J＝7.2Hz)、4.10(2H,q, J＝5.1Hz)、
7.30(1H,q, J＝1.1Hz)、7.38(1H,d, J＝9.0Hz)、7.68(1
H,d, J＝7.5Hz)、8.04(1H,q, J＝2.2Hz) １−1226 1.12(3H,d, J＝6.0Hz)、1.21(3H,d, J＝6.
0Hz)、1.52(3H,d, J＝3.0Hz)、3.88(1H,q, J＝3.0Hz)、
4.85-5.03(1H,m) 、7.30(1H,q, J＝1.8HZ)、7.37(1H,d,
J＝9.0Hz)、7.67(1H,d, J＝7.5Hz)、8.02(1H,q, J＝2.
1Hz) １−1256 7.35(1H,q, J＝1.1HZ)、7.62(1H,d, J＝8.
7Hz)、7.82-7.88(1H,m)、8.09(1H,d, J＝2.2Hz)、8.35
(1H,d, J＝2.6Hz) １−1258 1.41(3H,t, J＝7.1Hz)、4.42(2H,q, J＝7.
1Hz)、7.31(1H,s)、7.57(1H,d, J＝8.7HZ)、7.74-7.79
(1H,m) 、8.07(1H,q, J＝2.1Hz)、8.16(1H,d, J＝2.6H
z) １−1269 m.p. 89.7 ℃ １−1274 m.p. 154.2 ℃ １−1278 m.p. 128.6 ℃
【０２３６】１−1279 1.40(3H,t, J＝7.1Hz)、4.40
(2H,q, J＝7.1Hz)、7.33(1H,q, J＝1.1Hz)、7.39(1H,d,
J＝9.4Hz)、8.05(1H,d, J＝8.3Hz)、8.07(1H,s) １−1346 2.48(3H,s)、5.66(1H,s)、7.08(1H,d, J＝
7.8Hz)、7.28(1H,d, J＝9.0Hz)、7.32(1H,s) １−1431 m.p. 74.5 ℃ １−1441 m.p. 128.2 ℃ １−1442 1.73(3H,d, J＝6.6Hz)、2.49(3H,q, J＝1.
3Hz)、2.54(1H,d, J＝2.0Hz)、4.84(1H,m)、7.22(1H,d,
J＝6.5Hz)、7.28〜7.34(2H,m) １−1451 1.29(3H,t, J＝7.0Hz)、2.47(3H,q, J＝1.
4Hz)、4.27(2H,q, J＝7.0Hz)、4.68(2H,s)、6.99(1H,d,
J＝7.1Hz)、7.32(1H,s)、7.34(1H,d, J＝7.2Hz) １−1458 1.69(3H,d, J＝6.8Hz)、2.48(3H,q, J＝1.
3Hz)、3.76(3H,s)、4.74(1H,q, J＝6.8Hz)、7.01(1H,d,
J＝6.5Hz)、7.29〜7.34(2H,m) １−1540 1.17(3H,t, J＝7.0Hz)、1.54(3H,d, J＝7.
3Hz)、2.48(3H,q, J＝1.4Hz)、3.89(1H,q, J＝7.3Hz)、
4.11(2H,q, J＝7.0Hz)、7.31(1H,s)、7.37(1H,d,J＝9.5
Hz)、7.67(1H,d, J＝7.5Hz) １−1617 m.p. 105.7 ℃ １−1622 1.27(3H,t, J＝7.0Hz)、2.42(3H,q, J＝2.
0Hz)、3.26(0.3H,d, J＝7.6Hz)、3.32(0.7H,d, J＝7.6H
z)、3.49(0.7H,d, J＝7.6Hz)、3.54(0.3H,d, J＝7.6H
z)、4.23(2H,q, J＝7.0Hz)、4.54(0.5H,d, J＝7.6Hz)、
4.57(0.5H,d, J＝7.6Hz)、7.34(1H,d, J＝9.3Hz)、7.40
(1H,d, J＝7.5Hz)、8.00(1H,s) １−1627 m.p. 182.2 ℃ １−1638 3.66(2H,s)、7.31(1H,s)、7.34(1H,d, J＝
9.3Hz)、7.62(1H,d, J＝7.2Hz)、8.08(1H,s) １−1639 m.p. 158.9 ℃（分解） １−1641 1.55(3H,d, J＝7.2Hz)、3.88(1H,q, J＝7.
2Hz)、7.32(1H,s)、7.37(1H,d, J＝9.2Hz)、7.69(1H,d,
J＝7.1Hz)、8.03(1H,s) １−1650 1.11(3H,t, J＝7.5Hz)、2.03-2.12(2H,m)
、2.43(3H,q, J＝1.8Hz)、3.75(3H,s)、4.58(1H,t, J
＝7.5Hz)、6.92(1H,d, J＝8.2Hz)、7.32(1H,d, J＝9.3H
z)、8.00(1H,s) １−1655 1.29(3H,t, J＝7.1Hz)、2.43(3H,q, J＝1.
8Hz)、4.26(2H,q, J＝7.1Hz)、4.68(2H,s)、6.91(1H,
s)、7.60(1H,s)、7.99(1H,s) m.p. 119.7℃ １−1663 2.44(3H,q, J＝1.8Hz)、2.58(1H,t, J＝2.
3Hz)、4.78(2H,d, J＝2.3Hz)、7.12(1H,s)、7.59(1H,
s)、8.01(1H,s) m.p. 136.2℃ １−1665 1.23(3H,t, J＝6.9Hz)、1.68(3H,d, J＝6.
8Hz)、2.42(3H,q, J＝1.8Hz)、4.1-4.3(2H,m) 、4.72(1
H,q, J＝6.8Hz) 、6.90(1H,s)、7.58(1H,s)、7.97(1H,
s) １−1670 m.p. 118.1 ℃ １−1673 m.p. 107.2 ℃ １−1678 m.p. 164.7 ℃ １−1679 1.73(3H,d, J＝6.9Hz)、2.54(1H,d, J＝2.
1Hz)、4.73〜4.90(1H,m)、7.20(1H,d, J＝6.3Hz)、7.30
(1H,s)、7.49(1H,d, J＝8.7Hz)、8.00(1H,s)１−1680
m.p. 90.1 ℃ １−1681 m.p. 148.1 ℃ １−1682 m.p. 107.0 ℃ １−1683 1.25(3H,t, J＝7.2Hz)、1.68(3H,d, J＝6.
8Hz)、2.42(3H,q, J＝1.5Hz)、4.13〜4.26(2H,m)、4.70
(1H,q, J＝6.8Hz)、6.96(1H,d, J＝6.3Hz)、7.48(1H,d,
J＝9.0Hz)、7.97(1H,s) １−1687 m.p. 200.1 ℃ １−1689 m.p. 76.3 ℃ １−1690 m.p. 196.1 ℃ １−1691 3.06(3H,s)、7.10〜7.30(1H,b)、7.30(1H,
s)、7.64(1H,s)、7.74(1H,s)、8.06(1H,q, J＝2.1Hz) １−1701 1.39(3H,t, J＝7.1Hz)、4.40(2H,q, J＝7.
1Hz)、7.33(1H,q, J＝1.1Hz)、7.69(1H,s)、7.97(1H,
s)、8.06(1H,q, J＝2.2Hz) １−1718 m.p. 63.9 ℃ １−1719 m.p. 189.5 ℃ １−1720 m.p. 117.3 ℃ １−1721 m.p. 156.1 ℃ １−1722 2.47(3H,q, J＝1.8Hz)、3.05(3H,s)、7.15
-7.30(1H,b) 、7.66(1H,s)、7.78(1H,s)、8.03(1H,s) １−1732 1.38(3H,t, J＝7.1Hz)、2.44(3H,q, J＝1.
8Hz)、4.39(2H,q, J＝7.1Hz)、7.68(1H,s)、7.96(1H,
s)、8.02(1H,s) １−1748 1.38(6H,d, J＝6.0Hz)、2.44(3H,q, J＝1.
9Hz)、4.40-4.59(1H,m)、6.95(1H,s)、7.55(1H,s)、8.0
0(1H,s) １−1780 m.p. 76.4 ℃ １−1781 3.51(3H,s)、3.51(3H,s)、7.30(1H,q,J ＝
1.2Hz)、7.59(1H,d,J ＝6.7Hz)、7.65(1H,d,J ＝9.0H
z)、8.06(1H,d,J ＝2.1Hz) １−1782 3.03(3H,s)、7.09(1H,s)、7.32(1H,q,J ＝
1.0Hz)、7.53(1H,d,J ＝8.7Hz)、7.77(1H,d,J ＝6.8H
z)、8.07(1H,q,J ＝2.2Hz) １−1783 1.38(6H,d, J＝6.1Hz)、2.43(3H,q, J＝1.
7Hz)、4.4-4.6(1H,m) 、6.95(1H,d, J＝6.4Hz)、7.47(1
H,d, J＝8.9Hzs) 、8.00(1H,s) １−1785 2.43(3H,q, J＝1.9Hz)、3.03(3H,s)、7.03
(1H,s)、7.52(1H,d, J＝8.8Hz)、7.76(1H,d, J＝6.9H
z)、8.02(1H,s) １−1789 m.p. 78.3 ℃ １−1790 m.p. 63.2 ℃ １−1879 2.42(3H,q, J＝1.8Hz)、5.38(2H,s)、7.28
-7.47(5H,m) 、7.56(1H,,d, J ＝8.7Hz)、7.72-7.79(1
H,m) 、8.00(1H,s)、8.18(1H,d, J＝2.5Hz) １−1881 2.20(0.75H,s) 、2.24(2.25H,s) 、2.42(3
H,q, J＝1.9Hz)、3.82(0.75H,s) 、3.98(2.25H,s) 、7.
47-7.68(3H,m) 、8.00(1H,s) １−1901 m.p. 99.2℃ １−1908 m.p. 77.6 ℃ １−1910 m.p. 75.3 ℃ １−1930 m.p. 139.7 ℃ １−2051 1.25(3H,t, J＝7.2Hz)、2.42(3H,q, J＝1.
9Hz)、4.17(2H,q, J＝7.2Hz)、4.71(2H,s)、4.82(2H,
s)、7.10(1H,d, J＝6.3Hz)、7.33(1H,d, J＝9.1Hz)、7.
99(1H,s) １−2054 1.24(3H,t, J＝7.1Hz)、1.51(3H,d, J＝7.
2Hz)、2.42(3H,q, J＝1.8Hz)、4.15(2H,q, J＝7.1Hz)、
4.78(2H,s)、5.19(1H,q, J＝7.2Hz)、7.08(1H,d,J＝6.3
Hz)、7.32(1H,d, J＝9.1Hz)、7.98(1H,s) ２−203 2.3-2.4(1H,m) 、2.35(3H,q, J＝1.9Hz)、
4.5-4.7(4H,m) 、7.00(1H,d, J＝6.5Hz)、7.19(1H,m)、
7.39(1H,d, J＝2.5Hz)、7.95(1H,s) ２−251 m.p. 168.3 ℃ ２−328 0.90(3H,t, J＝7.3Hz)、1.54(3H,d, J＝7.
0Hz)、1.70-1.90(2H,m)、2.46(3H,m)、4.50(1H,m)、7.1
8(1H,d, J＝5.75Hz) 、7.35(1H,d, J＝8.8Hz)、8.04(1
H,s) ２−583 m.p. 149.1 ℃ ２−631 m.p. 168.3 ℃ ２−708 0.90(3H,t, J＝7.3Hz)、1.55(3H,d, J＝7.
0Hz)、1.75-1.95(2H,m)、4.50(1H,m)、7.22(1H,d, J＝
5.8Hz)、7.30-7.40(2H,m) 、8.08(1H,q, J＝2.2Hz) ２−821 m.p. 162.7 ℃ ３−139 m.p. 88.2 ℃ ４−434 1.67(3H,s)、2.35(3H,q, J＝1.7Hz)、3.0-
3.2(1H,m) 、3.4-3.7(1H,m) 、3.71(3H,s)、7.03(1H,d,
J＝5.0Hz)、7.97(1H,q, J＝3.3Hz) ４−451 1.53(6H,s)、2.43(3H,q, J＝1.9Hz)、2.96
(1H,d, J＝16.2Hz) 、3.08(1H,d, J＝16.2Hz) 、7.07(1
H,d, J＝9.9Hz)、7.99(1H,s) ４−452 1.4-1.5(3H,m) 、2.43(3H,q, J＝2.0Hz)、
2.7-3.0(1H,m) 、3.1-3.5(1H,m) 、3.5-3.8(2H,m) 、7.
07(1H,d, J＝10.0Hz) 、8.00(1H,q, J＝2.5Hz)
【０２３７】次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は
表１〜表５の化合物番号で示す。部は重量部である。 製剤例１ 本発明化合物１−１〜１−2157、２−１〜２−950 、３
−１〜３−582 、４−１〜４−936 および５−１〜５−
87の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、
ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水酸化珪素４
５部をよく粉砕混合して各々の水和剤を得る。 製剤例２ 本発明化合物１−１〜１−2157、２−１〜２−950 、３
−１〜３−582 、４−１〜４−936 および５−１〜５−
87の各々１０部、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウ
ム６部、キシレン３５部およびシクロヘキサノン３５部
をよく混合して各々の乳剤を得る。 製剤例３ 本発明化合物１−１〜１−2157、２−１〜２−950 、３
−１〜３−582 、４−１〜４−936 および５−１〜５−
87の各々２部、合成含水酸化珪素２部、リグニンスルホ
ン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部およびカオリ
ンクレー６４部をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り
合わせた後、造粒乾燥して各々の粒剤を得る。 製剤例４ 本発明化合物１−１〜１−2157、２−１〜２−950 、３
−１〜３−582 、４−１〜４−936 および５−１〜５−
87の各々２５部、ポリビニルアルコール１０％水溶液５
０部および水２５部を混合し、平均粒径が５マイクロメ
ートル以下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得
る。 製剤例５ ポリビニルアルコール１０％水溶液４０部中に、本発明
化合物１−1650 ５部を加え、ホモジナイザーにて平均
粒径が１０マイクロメートル以下になるまで乳化分散
し、次いで５５部の水を加え、各々の濃厚エマルジョン
を得る。
【０２３８】次に、本発明化合物が除草剤の有効成分と
して有用であることを試験例で示す。なお、本発明化合
物は表１〜表５の化合物番号で示す。除草効力および薬
害の評価は、調査時の供試植物（雑草および作物）の出
芽または生育の状態が無処理のそれと比較して全くない
しほとんど違いがないものを「０」とし、供試植物が完
全枯死または出芽もしくは生育が完全に抑制されている
ものを「５」として、０〜５の６段階に区分し、０、
１、２、３、４、５で示す。除草効力の評価「４」およ
び「５」は優れた除草効力を意味し、評価「３」以下は
不十分な除草効力を意味する。薬害の評価「０」および
「１」は薬害が実用上問題とならないことを意味し、評
価「２」以上は薬害が許容されないことを意味する。
【０２３９】試験例１ 畑地茎葉処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
土壌を詰め、マルバアメリカアサガオ、イチビを播種
し、温室内で１９日間育成した。その後、製剤例２に準
じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタール
あたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈
し、噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理
した。処理後、１９日間温室内で育成し、除草効力を調
査した。その結果を表６に示す。
【表６】
【０２４０】
【０２４１】
【０２４２】試験例２ 畑地茎葉処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
土壌を詰め、イヌビエ、マルバアメリカアカザオ、イチ
ビを播種し、温室内で１９日間育成した。その後、製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘ
クタールあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水
で希釈し、噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一
に処理した。処理後、１９日間温室内で育成し、除草効
力を調査した。その結果を表７に示す。
【表７】
【０２４３】
【０２４４】試験例３ 畑地土壌表面処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
土壌を詰め、マルバアメリカアサガオ、イチビを播種し
た。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定
量を１ヘクタールあたり１０００リットル相当の水で希
釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に処理した。処理
後、１９日温室内で育成し、除草効力を調査した。その
結果を表８に示す。
【表８】
【０２４５】
【０２４６】
【０２４７】試験例４ 水田湛水処理試験 直径９cm、深さ１１cmの円筒型プラスチックポットに土
壌を詰め、タイヌビエを播種した。湛水して水田状態に
した後、温室内で育成した。７日後に製剤例２に準じて
供試化合物を乳剤にし、その所定量を水で希釈し、１ヘ
クタールあたり５０リットルを水面に処理した。処理後
１９日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を表９に示す。
【表９】
【０２４８】
【０２４９】
【０２５０】試験例５ 畑地茎葉処理試験 面積２５×１８cm2 、深さ７cmのプラスチックポットに
土壌を詰め、トウモロコシ、ダイズ、マルバアメリカア
サガオ、オナモミ、ブタクサ、シロザを播種し、１６日
間育成した。その後、製剤例２に準じて供試化合物を乳
剤にし、その所定量を１ヘクタールあたり１０００リッ
トル相当の水で希釈し、噴霧器で植物体の上方から茎葉
部全面に均一に処理した。このとき雑草および作物の生
育状況は草種により異なるが、１〜４葉期で、草丈は５
〜２０cmであった。処理１８日後に除草効力および薬害
を調査した。その結果を表１０に示す。なお、本試験
は、全期間を通して温室内で行った。
【表１０】
【０２５１】試験例６ 畑地茎葉処理試験 面積１６×１１cm2 、深さ７cmのプラスチックポットに
土壌を詰め、コムギ、サナエタデ、ヤエムグラ、ハコベ
を播種し、２９日間育成した。その後、製剤例２に準じ
て供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタールあ
たり１０００リットル相当の水で希釈し、噴霧器で植物
体の上方から茎葉部全面に均一に処理した。このとき雑
草および作物の生育状況は草種により異なるが、１〜４
葉期で、草丈は５〜１５cmであった。処理２５日後に除
草効力および薬害を調査した。その結果を表１１に示
す。なお、本試験は、全期間を通して温室内で行った。
【表１１】
【０２５２】試験例７ 畑地土壌表面処理試験 面積２５×１８cm2 、深さ７cmのプラスチックポットに
土壌を詰め、トウモロコシ、ダイズ、シロザ、アオビ
ユ、サナエタデを播種した。その後、製剤例２に準じて
供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタールあた
り１０００リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表
面全面に均一に処理した。処理後１９日間温室で育成
し、除草効力および薬害を調査した。その結果を表１２
に示す。
【表１２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 43/84 １０１ Ａ０１Ｎ 43/84 １０１ 47/20 47/20 Ａ Ｃ０７Ｃ 251/74 9451−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 251/74 Ｃ０７Ｄ 403/04 ２３７ Ｃ０７Ｄ 403/04 ２３７ 405/04 ２３７ 405/04 ２３７ 413/04 ２３７ 413/04 ２３７ 417/04 ２３７ 417/04 ２３７ (72)発明者 実光 穣 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内

Claims (57)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒ1 はＣ１−Ｃ３ハロアルキル基を表し、Ｒ2
    およびＲ3 は同一または相異なり、水素原子、Ｃ１−Ｃ
    ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基またはＣ１−
    Ｃ３アルコキシＣ１−Ｃ３アルキル基を表わし、Ｑは一
    般式 化２ 【化２】 ｛式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を表し、 Ｙはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはトリフル
    オロメチル基を表し、 Ｚ1 は酸素原子、硫黄原子またはＮＨ基を表し、 Ｚ2 は酸素原子または硫黄原子を表し、 ｎは０又は１を表し、 Ｂは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ク
    ロロスルホニル基、−ＯＲ10基、−ＳＲ10基、−ＳＯ2
    ＯＲ10基、−Ｎ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＳＯ2 Ｎ（Ｒ11）Ｒ
    12基、−ＮＲ11（ＣＯＲ13）基、−ＮＲ11（ＳＯ
    2 Ｒ14）基、−Ｎ（ＳＯ2 Ｒ14）（ＳＯ2 Ｒ15）基、−
    Ｎ（ＳＯ2 Ｒ14）（ＣＯＲ13）基、−ＮＨＣＯＯＲ
    13基、−ＣＯＯＲ10基、−ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−Ｃ
    ＳＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＯＲ16基、−ＣＲ17＝ＣＲ18
    ＣＯＲ16基、−ＣＲ17＝ＣＲ18ＣＯＯＲ13基、ＣＲ17＝
    ＣＲ18ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ2 ＣＨＷＣＯＯＲ
    13基、−ＣＨ2 ＣＨＷＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＲ17
    ＝ＮＯＲ33基、−ＣＲ17＝ＮＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＲ
    17（Ｚ2 Ｒ34）2 基、−ＯＣＯ2 Ｒ19基、または−ＯＣ
    ＯＲ18基を表し、（ここで、Ｗは水素原子、塩素原子ま
    たは臭素原子を表し、 Ｒ10は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハ
    ロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル
    基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニ
    ル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキ
    ニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ８アル
    コキシアルキル基、Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキル
    基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８ア
    ルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−
    Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
    基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキ
    シ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シ
    クロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
    （Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
    基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６
    アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４ア
    ルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ
    ８シクロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
    −ＣＨ2 ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ2 ＣＯＯＮ（Ｒ
    11）Ｒ12基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ
    11）Ｒ12基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ
    （Ｒ11）Ｒ12基、｛（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニ
    ルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカルボニルＣ１−Ｃ６ア
    ルキル基、またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表
    し、 Ｒ11とＲ12はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６ア
    ルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アル
    ケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６
    アルキル基、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル基、Ｃ２−
    Ｃ８アルキルチオアルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６ア
    ルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−
    Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カル
    ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基または、｛（Ｃ１−Ｃ４ア
    ルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ
    ６アルキル基を表すか、あるいは、Ｒ11とＲ12とで、テ
    トラメチレン、ペンタメチレンまたはエチレンオキシエ
    チレンを表し、 Ｒ13は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハ
    ロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基またはＣ３
    −Ｃ６アルケニル基を表し、 Ｒ14とＲ15はそれぞれ独立してＣ１−Ｃ６アルキル基ま
    たはＣ１−Ｃ６ハロアルキル基を表わすか、あるいはメ
    チル基もしくはニトロ基で置換されてもよいフェニル基
    を表し、 Ｒ16は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハ
    ロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハ
    ロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６
    ハロアルキニル基、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル基ま
    たはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、 Ｒ17およびＲ18はそれぞれ独立して、水素原子またはＣ
    １−Ｃ６アルキル基を表し、 Ｒ19はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、 Ｒ33は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハ
    ロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ
    ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−
    Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シア
    ノＣ１−Ｃ６アルキル基、または、（Ｃ１−Ｃ６アルコ
    キシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、 Ｒ34はＣ１−Ｃ６アルキル基、あるいは、Ｒ34２つが結
    合してエチレンまたはトリメチレンを表す。） Ｒ4 は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、 Ｒ5 は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハ
    ロアルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）アルキル
    基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニ
    ル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキ
    ニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ８アル
    コキシアルキル基、Ｃ３−Ｃ８アルコキシアルコキシア
    ルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−
    Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
    ｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カ
    ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロア
    ルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ2
    ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、−ＣＨ2 ＣＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ12
    基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12
    基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ
    12基（ここで、Ｒ11およびＲ12は前記と同じ意味を表
    す。）、Ｃ２−Ｃ８アルキルチオアルキル基、またはヒ
    ドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、 Ｒ6 はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル
    基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキ
    シＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−
    Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アル
    コキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）
    カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６
    ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル
    基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基または（Ｃ
    １−Ｃ６アルキル）カルボニル基を表し、 Ｒ7 は水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、 Ｒ8 はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル
    基、Ｃ１−Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ２−Ｃ８アル
    コキシアルキル基、Ｃ３−Ｃ10アルコキシアルコキシア
    ルキル基、（Ｃ１−Ｃ５アルキル）カルボニルオキシＣ
    １−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カル
    ボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、カルボキシル基、
    カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコ
    キシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カ
    ルボニル基、（Ｃ３−Ｃ10シクロアルコキシ）カルボニ
    ル基、（Ｃ３−Ｃ８アルケニルオキシ）カルボニル基、
    （Ｃ３−Ｃ８アルキニルオキシ）カルボニル基、アミノ
    カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニ
    ル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、
    （Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−
    Ｃ６アルキル基または、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミ
    ノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。｝で
    示されるＱ−１、Ｑ−２、Ｑ−３、Ｑ−４またはＱ−５
    を表わす。〕で示されるピリダジン−３−オン誘導体。
  2. 【請求項２】Ｒ1 がトリフルオロメチル基である請求項
    １記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  3. 【請求項３】Ｒ2 が水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル
    基であり、Ｒ3 が水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基
    である請求項１記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  4. 【請求項４】Ｒ1 がトリフルオロメチル基であり、Ｒ2
    が水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ3 が
    水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基である請求項１記
    載のピリダジン−３−オン誘導体。
  5. 【請求項５】ＱがＱ−１である請求項１、２、３または
    ４記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  6. 【請求項６】ＱがＱ−２である請求項１、２、３または
    ４記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  7. 【請求項７】ＱがＱ−３である請求項１、２、３または
    ４記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  8. 【請求項８】ＱがＱ−４である請求項１、２、３または
    ４記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  9. 【請求項９】ＱがＱ−５である請求項１、２、３または
    ４記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  10. 【請求項１０】Ｂが−ＯＲ10基である請求項５記載のピ
    リダジン−３−オン誘導体。
  11. 【請求項１１】Ｂが−ＳＲ10基である請求項５記載のピ
    リダジン−３−オン誘導体。
  12. 【請求項１２】Ｂが−Ｎ（Ｒ11）Ｒ12基である請求項５
    記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  13. 【請求項１３】Ｂが−ＮＲ11（ＳＯ2 Ｒ14）基である請
    求項５記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  14. 【請求項１４】Ｂが−ＣＯＯＲ10基である請求項５記載
    のピリダジン−３−オン誘導体。
  15. 【請求項１５】Ｘがフッ素原子であり、Ｙが塩素原子で
    ある請求項５記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  16. 【請求項１６】Ｘがフッ素原子であり、Ｙが塩素原子で
    あり、ＢがＯＲ10基である請求項５記載のピリダジン−
    ３−オン誘導体。
  17. 【請求項１７】Ｚ1 が酸素原子であり、ｎが１である請
    求項６記載のピリダジン−３−オン誘導体。
  18. 【請求項１８】７−フルオロ−６−（５−トリフルオロ
    メチル−３−ピリダジノン−２−イル）−４−プロパル
    ギル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン
  19. 【請求項１９】７−フルオロ−６−（４−メチル−５−
    トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）−
    ４−プロパルギル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−
    ３−オン
  20. 【請求項２０】６−（５−トリフルオロメチル−３−ピ
    リダジノン−２−イル）−４−プロパルギル−２Ｈ−
    １，４−ベンゾオキサジン−３−オン
  21. 【請求項２１】６−（４−メチル−５−トリフルオロメ
    チル−３−ピリダジノン−２−イル）−４−プロパルギ
    ル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン
  22. 【請求項２２】２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−
    イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフル
    オロメチルピリダジン−３−オン
  23. 【請求項２３】２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−
    メトキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメ
    チルピリダジン−３−オン
  24. 【請求項２４】２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−
    エトキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメ
    チルピリダジン−３−オン
  25. 【請求項２５】２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−
    プロパルギルオキシフェニル）−４−メチル−５−トリ
    フルオロメチルピリダジン−３−オン
  26. 【請求項２６】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェノキシ酢酸メチル
  27. 【請求項２７】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェノキシ酢酸エチル
  28. 【請求項２８】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェノキシ酢酸プロピル
  29. 【請求項２９】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェノキシ酢酸イソプロピル
  30. 【請求項３０】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェノキシ酢酸ブチル
  31. 【請求項３１】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェノキシ酢酸ペンチル
  32. 【請求項３２】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェノキシ酢酸シクロペンチル
  33. 【請求項３３】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （４−メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジ
    ノン−２−イル）フェノキシ｝プロピオン酸エチル
  34. 【請求項３４】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （４−メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジ
    ノン−２−イル）フェノキシ｝プロピオン酸メチル
  35. 【請求項３５】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェニルチオ酢酸エチル
  36. 【請求項３６】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）フェニルチオ酢酸メチル
  37. 【請求項３７】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （４−メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジ
    ノン−２−イル）フェニルチオ｝プロピオン酸エチル
  38. 【請求項３８】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （４−メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジ
    ノン−２−イル）フェニルチオ｝プロピオン酸メチル
  39. 【請求項３９】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
    ル）フェノキシ｝プロピオン酸メチル
  40. 【請求項４０】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
    ル）フェノキシ｝プロピオン酸エチル
  41. 【請求項４１】２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−
    トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フ
    ェニルチオ酢酸エチル
  42. 【請求項４２】２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−
    トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）フ
    ェニルチオ酢酸メチル
  43. 【請求項４３】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
    ル）フェニルチオ｝プロピオン酸エチル
  44. 【請求項４４】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
    ル）フェニルチオ｝プロピオン酸メチル
  45. 【請求項４５】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
    ル）フェニルチオ｝プロピオン酸イソプロピル
  46. 【請求項４６】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （４−メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジ
    ノン−２−イル）フェニルアミノ｝プロピオン酸エチル
  47. 【請求項４７】２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
    ル）フェニルアミノ｝プロピオン酸エチル
  48. 【請求項４８】Ｎ−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （４−メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジ
    ノン−２−イル）フェニル｝メタンスルフォンアミド
  49. 【請求項４９】Ｎ−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−
    （４−メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジ
    ノン−２−イル）フェニル｝クロロメタンスルフォンア
    ミド
  50. 【請求項５０】Ｎ−｛２−クロロ−５−（４−メチル−
    ５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イ
    ル）フェニル｝メタンスルフォンアミド
  51. 【請求項５１】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）安息香酸メチル
  52. 【請求項５２】２−クロロ−４−フルオロ−５−（４−
    メチル−５−トリフルオロメチル−３−ピリダジノン−
    ２−イル）安息香酸エチル
  53. 【請求項５３】２−クロロ−５−（４−メチル−５−ト
    リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）安息
    香酸エチル
  54. 【請求項５４】２−クロロ−５−（４−メチル−５−ト
    リフルオロメチル−３−ピリダジノン−２−イル）安息
    香酸イソプロピル
  55. 【請求項５５】２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−
    プロパルギルオキシフェニル）−６−メチル−５−トリ
    フルオロメチルピリダジン−３−オン
  56. 【請求項５６】請求項１〜５５のいずれかに記載のピリ
    ダジン−３−オン誘導体を有効成分として含有すること
    を特徴とする除草剤。
  57. 【請求項５７】一般式 化３ 【化３】 〔式中、Ｒ3 は請求項１に記載の意味を表わし、 Ｑ1 は一般式 化４ 【化４】 ｛式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ1 、Ｚ2 、ｎ、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ7 お
    よびＲ8 は請求項１記載の意味を表わし、 Ｒ9 は請求項１記載のＲ6 のうちホルミル基以外を表わ
    し、 Ｂ1 は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、
    ＯＲ27基、ＳＲ27基、ＳＯ2 ＯＲ27基、Ｎ（Ｒ11）Ｒ12
    基、ＳＯ2 Ｎ（Ｒ11）Ｒ12基、ＮＲ11（ＣＯＲ13）基、
    ＮＲ11（ＳＯ2 Ｒ14）基、Ｎ（ＳＯ2 Ｒ14）（ＳＯ2 Ｒ
    15）基、Ｎ（ＳＯ2 Ｒ14）（ＣＯＲ13）基、ＮＨＣＯＯ
    Ｒ13基、ＣＯＯＲ27基、ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＳＮ
    （Ｒ11）Ｒ12基、ＣＲ17＝ＣＲ18ＣＯＯＲ13基、ＣＲ17
    ＝ＣＲ18ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＨ2 ＣＨＷＣＯＯＲ
    13基、ＣＨ2 ＣＨＷＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＲ17＝Ｎ
    ＯＲ33基、ＣＲ17＝ＮＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＲ17（Ｚ2
    Ｒ34）2 基、ＯＣＯ2 Ｒ19基、またはＯＣＯＲ19基を表
    わす。〕（ここで、Ｗ、Ｚ2 、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、
    Ｒ14、Ｒ15、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ33およびＲ34は請求
    項１に記載の意味を表わし、Ｒ27は水素原子、Ｃ１−Ｃ
    ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８
    シクロアルキル基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル
    基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニ
    ル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６
    アルキル基、Ｃ２−Ｃ８アルコキシアルキル基、Ｃ２−
    Ｃ８アルキルチオアルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６ア
    ルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−
    Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボ
    ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキ
    シ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アル
    キル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ
    １−Ｃ６アルキル基、ＣＨ2 ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、Ｃ
    Ｈ2 ＣＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキ
    ル）ＣＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基、ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキ
    ル）ＣＯＯＮ（Ｒ11）Ｒ12基（ここで、Ｒ11およびＲ12
    は前記と同じ意味を表す。）、｛（Ｃ１−Ｃ６アルコキ
    シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカルボニル
    Ｃ１−Ｃ６アルキル基、またはヒドロキシＣ１−Ｃ６ア
    ルキル基を表わす。）｝で示されるＱ1 −１、Ｑ−２、
    Ｑ1 −３、Ｑ−４またはＱ−５を表わす。〕で示される
    ヒドラゾン類。
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JP2000154170A (ja) * 1998-11-18 2000-06-06 Sumitomo Chem Co Ltd フェニルヒドラジン類の製造法
JP2001233715A (ja) * 2000-02-24 2001-08-28 Sumitomo Chem Co Ltd 除草剤組成物

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