JP2001214159A - 発光性有機化合物およびそれを用いたel表示装置 - Google Patents
発光性有機化合物およびそれを用いたel表示装置Info
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
施すことにより該発光性有機化合物からなる薄膜は、イ
オン性不純物の濃度が0.01ppm以下で、かつ、体
積抵抗率が3×1010Ωcm以上となる。このような薄膜
をEL素子の発光層とすることでキャリアの再結合に起
因する電流以外の電流を抑制でき、発熱による劣化を抑
制することができる。
Description
センス(EL:Electro Luminescence)が得られる発光
性有機化合物(分子式に金属を含む錯体も含む)及びそ
れを用いたEL表示装置に関する。代表的には、高分子
化合物からなる発光性有機化合物を用いた高分子系EL
表示装置に関する。
する電子装置に関する。尚、上記EL表示装置はOLE
D(Organic Light Emitting Diodes)ともいう。
してEL層を用いた表示装置(EL表示装置)の開発が
進んでいる。EL表示装置は自発光型であるため、液晶
表示装置のようなバックライトが不要であり、さらに視
野角が広いため、屋外で使用する携帯型機器の表示部と
して有望である。
質であり、発光層を挟む陰極及び陽極に電圧をかけるこ
とで発光層中にキャリア(電子及び正孔)を注入し、キ
ャリアの再結合により発光を得る。即ち、発光層を流れ
る電流は、キャリアの再結合に起因する電流である。E
L表示装置に用いることのできるEL材料としては、例
えば特開平2−311591号公報に記載の材料があ
る。
を形成した発光素子において、可動イオンとして問題と
なるNa(ナトリウム)は発光層の抵抗値を下げること
になるため、キャリアの再結合に起因する電流以外の電
流を流す要因になりうる。そのような必要外の電流が流
れてしまうと発熱量が多くなり、発光層の劣化が促進さ
れてしまう。EL素子においても同様なことが問題とな
り得る。しかしながら、現状ではEL材料において、そ
のような可動イオンに対する対策は十分とは言えない。
いEL表示装置を提供することを課題とする。そして、
そのようなEL表示装置を表示部として用いることによ
り表示部の信頼性が高い電子装置を提供することを課題
とする。
再結合に起因する電流以外の電流が流れないようにする
ために、EL素子に含まれる発光性有機化合物からなる
薄膜の体積抵抗率を1×1011〜1×1012Ωcm(好ま
しくは1×1012〜1×1013Ωcm)とする。また、こ
のような体積抵抗率を達成するために、発光性有機化合
物からなる薄膜中のイオン性不純物の濃度を0.1pp
m以下(好ましくは0.01ppm以下)とする。な
お、イオン性不純物とは周期表の1族もしくは2族に属
する元素、代表的にはナトリウム(Na)もしくはカリ
ウム(K)を指す。
まれるイオン性不純物が0.1ppm以下(好ましくは
0.01ppm以下)である発光性有機化合物を用いる
必要がある。
すると、7×1017atoms/cm3以下(好ましくは7×
1016atoms/cm3以下)となる。しかし、イオン性不
純物の濃度はすべてのイオン性不純物の合計の濃度とす
るのが妥当である。
子化合物からなる発光性有機化合物(以下、低分子系E
L化合物という)を用いるならば、該低分子系EL化合
物をゾーン精製法、昇華精製法、再結晶法、蒸留法、濾
過法、カラムクロマトグラフィもしくは再沈殿法で精製
すれば良い。
化合物(以下、高分子系EL化合物という)を用いる場
合には重合度の制御を完全に行うことができないので分
子量に幅が生じてしまい融点が一義的に決まらないので
精製が困難となる。この場合には透析法または高速液体
クロマトグラフィ法が適している。特に、透析法におい
てイオン性不純物を効率良く取り除くには電気透析法が
適している。
ても、イオン性不純物を0.1ppm以下に低減するた
めには、精製工程を複数回繰り返し行う必要がある。少
なくとも3回以上、好ましくは5回以上が望ましい。勿
論、同じ精製方法を繰り返すだけでなく、二つ以上の精
製方法を用いても構わない。
ーとして0.1μmの孔径(除粒子孔径ともいう)、好
ましくは0.05μmの孔径を有するものが好ましい。
即ち、0.1μmの孔径であれば径が0.1μm以上の物
質を通さない。また、0.05μmの孔径であれば径が
0.05μm以上の物質を通さない。
性不純物の濃度が0.1ppm以下(好ましくは0.0
1ppm以下)である発光性有機化合物を作製し、それ
を用いて体積抵抗率が1×1011〜1×1012Ωcm(好
ましくは1×1012〜1×1013Ωcm)である発光性有
機化合物からなる薄膜を含むEL素子を形成してEL表
示装置を作製することに特徴がある。
は、低分子系EL化合物としては分子量が1×102〜
8×102g/mol(典型的には3×102〜5×10
2g/mol)のものを、高分子系EL化合物としては
分子量が8×102〜2×106g/mol(典型的には
1×104〜1×105g/mol)のものを用いれば良
い。
子系EL化合物としてはAlq3(トリス−8−キノリ
ノラトアルミニウム錯体)が挙げられる。分子式は以下
のようになる。
体)にアミノ置換DSAを添加したジスチルアリーレン
アミン誘導体を用いても良い。DSAは以下のような分
子式で表される。
な高分子系EL化合物としてはPPV(ポリフェニレン
ビニレン)が挙げられるが、様々な型のものがある。例
えば、以下のような分子式が発表されている。(「H. S
henk,H.Becker,O.Gelsen,E.Kluge,W.Kreuder,and H.Spr
eitzer,“Polymers for Light Emitting Diodes”,Euro
Display,Proceedings,1999,p.33-37」)
載された分子式のポリフェニルビニルを用いることもで
きる。分子式は以下のようになる。
膜を形成する方法は様々あるが、スピンコート法は作業
の簡便さにおいて好ましい方法である。スピンコート法
とは、薄膜を形成する溶質を溶媒に溶かし、その溶液を
スピナー等で塗布した後に、溶媒をベーク処理(焼成処
理)により揮発させて薄膜を形成する手段である。
媒をスピナーで塗布し、高分子系EL化合物が結晶化し
ない温度以下(具体的にはガラス転移温度以下)で熱処
理を加えて溶媒を揮発させる。その結果、基板上には高
分子系EL化合物からなる薄膜が形成される。
光性有機化合物からなる薄膜を形成した後に設ける導電
膜は、発光性有機化合物からなる薄膜が水分や酸素を含
む環境に晒されないように形成することが望ましい。従
って、発光性有機化合物からなる薄膜の形成と陰極もし
くは陽極となる導電膜の形成とは同一の薄膜形成装置で
行われることが望ましいと言える。
バー方式の薄膜形成装置を用いることが適している。本
発明においては、そのような薄膜形成装置を用いて信頼
性の高いEL表示装置を作製することが好ましい。
含まれる発光性有機化合物からなる薄膜の部分において
キャリアの再結合に起因する電流以外の電流が流れるこ
とを防ぎ、不必要な発熱による劣化を防ぐことができ
る。従って、信頼性の高いEL表示装置を得ることが可
能である。また、そのようなEL表示装置を電子装置の
表示部に用いることで表示部の信頼性の高い電子装置が
得られる。
を用いて説明する。図1において、101は絶縁表面を
有する基板であり、石英基板などの絶縁基板または表面
に絶縁膜を設けたガラス基板、セラミックス基板、結晶
化ガラス基板、金属基板(好ましくはステンレス基板)
もしくはプラスチック基板を用いることができる。
る。尚、図1では三つの画素を図しているが、実際には
さらに多くの画素がマトリクス状に配置される。例え
ば、VGAクラスとすると640×480個、XGAク
ラスであれば1024×768個となる。画素102に
は各々スイッチング用TFT103と電流制御用TFT
104の二つのTFTが形成される。このとき、スイッ
チング用TFT103のドレインは電流制御用TFT1
04のゲートに電気的に接続されている。さらに、電流
制御用TFT104のドレインには画素電極(この場
合、EL素子の陰極を兼ねる)105が電気的に接続さ
れる。こうして画素102が形成される。
属膜を用いて形成すれば良い。ここではアルミニウム合
金膜を用いると良い。また、TFTとしては如何なる構
造のTFTを用いても良い。勿論、公知の構造であって
も良い。
素電極の上に仕事関数の低い金属を含む化合物(陰極層
とも言える)106が形成される。これは数nm程度と
膜厚が薄いため層状に形成されているのか島状に点在し
ているのか不明のため、輪郭を点線で示している。
料としては、フッ化リチウム(LiF)、酸化リチウム
(Li2O)、フッ化バリウム(BaF2)、酸化バリウ
ム(BaO)、フッ化カルシウム(CaF2)、酸化カ
ルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)ま
たは酸化セシウム(Cs2O)を用いることができる。
これらは絶縁性であるため、層状に形成されたとしても
画素電極間のショート(短絡)を招くようなことはな
い。
を有する材料を化合物の代わりに用いることも可能であ
るが、画素電極同士が短絡しないように選択的に設ける
か、パターニングを行う必要がある。
上にはEL層(発光性有機化合物からなる薄膜)107
が形成される。EL層107は公知の材料や構造を用い
ることができるが本発明では白色発光の可能な材料を用
いる。構造としては、再結合の場を提供する発光層(発
光性有機化合物からなる薄膜)だけでEL層としても良
いし、必要に応じて電子注入層、電子輸送層、正孔輸送
層、電子阻止層、正孔素子層もしくは正孔注入層を積層
しても良い。本明細書中では、キャリアの注入、輸送ま
たは再結合が行われる層をすべて含めてEL層と呼ぶ。
合物は低分子系EL化合物であってもポリマー系(高分
子系)EL化合物であっても良い。しかし、スピンコー
ト法や印刷法など容易な成膜方法で形成できるポリマー
系EL化合物を用いることが望ましい。なお、図1の構
造は白色発光のEL層とカラーフィルターとを組み合わ
せたカラー表示方式である。また、青色又は青緑発光の
EL層と蛍光体(蛍光性の色変換層:CCM)とを組み
合わせたカラー表示方式、RGBに対応したEL層を重
ねることでカラー表示を行う方式も採用できる。
て高い純度にまで精製された発光性有機化合物を用いる
点にある。精製方法としては公知のあらゆる精製方法を
用いることができる。例えば、低分子系EL化合物であ
れば、ゾーン精製法、昇華精製法、再結晶法、蒸留法、
カラムクロマトグラフィまたは再沈殿法を用いれば良
い。また、高分子系EL化合物であれば、透析法または
高速液体クロマトグラフィを用いれば良い。なお、高分
子系EL化合物の場合は、重合させる前に低分子系EL
化合物と同様の精製を行い、その上で重合させるという
手段もとれる。
精製する場合、イオン性不純物を取り除くには特に電気
透析法を用いると良い。
ロース等の半透膜(semi-permeablemembrane)に入れ、
溶媒(例えば純水)の中に入れておく。半透膜は通常細
かい金網の仕切の間に支えたり、半融ガラスの円板のよ
うな多孔性の支持体に付着させて固定している。電気透
析法は半透膜を支える金網の仕切の間に電圧をかけるも
ので、イオン性不純物の移動が速くなり効率良く精製を
することができる。
性有機化合物からなる薄膜に含まれるイオン性不純物を
0.1ppm以下(好ましくは0.01ppm以下)と
なるようにする。上記濃度範囲とすることで、発光層と
して機能する発光性有機化合物からなる薄膜の体積抵抗
率が1×1011〜1×1012Ωcm(好ましくは1×10
12〜1×1013Ωcm)となる。これによりキャリアの再
結合以外の要因に起因する電流が流れないようにするこ
とができる。
ち、単層の発光性有機化合物からなる薄膜だけである場
合は、イオン性不純物の濃度が0.1ppm以下(好ま
しくは0.01ppm以下)で、かつ、体積抵抗率が1
×1011〜1×1012Ωcm(好ましくは1×1012〜1
×1013Ωcm)という条件を発光層が満たせば良い。
を精製する段階及びそれを成膜する段階において、外部
の雰囲気からイオン性不純物が混入しないように細心の
注意を払う必要がある。
上には、陽極108として透明導電膜が形成される。透
明導電膜としては、酸化インジウムと酸化スズとの化合
物(ITOと呼ばれる)、酸化インジウムと酸化亜鉛と
の化合物、酸化スズ(SnO 2)または酸化亜鉛(Zn
O)などを用いることが可能である。
ン膜109として絶縁膜が設けられる。パッシベーショ
ン膜109としては、窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜(S
iOxNyで表される)を用いることが好ましい。
ティブマトリクス基板と呼ぶ。即ちTFTと該TFTに
電気的に接続された画素電極及びその画素電極を陰極と
するEL素子(陰極層、EL層及び陽極からなるコンデ
ンサ)の形成された基板をアクティブマトリクス基板と
呼ぶ。
EL素子を封入するようにして対向基板110が貼り付
けられ、その対向基板110には遮光膜112及びカラ
ーフィルター113a〜113cが設けられる。このとき
観測者の視線方向(対向基板の法線方向)から見て画素
電極105のなす隙間111が隠されるように遮光膜1
12を設ける、即ち、対向基板の法線方向から見て遮光
膜112と画素の縁とが一致するように設ける。これ
は、その部分が非発光部であることと、画素電極の端部
では電界が複雑になり所望の輝度もしくは色度で発光さ
せることができないからである。
(端部)及び隙間111に対応した位置に設けることで
画素間の輪郭を明瞭なものとすることができる。尚、本
発明では画素電極の輪郭が画素の輪郭に一致するため、
遮光膜112は画素の縁に対応した位置に設けられてい
るとも言える。また、画素の縁に対応した位置とは、前
述の対向基板の法線方向に沿って画素の縁と一致する位
置を指す。
は、113aが赤色、113bが緑色、113cが青色の
光を抽出するカラーフィルターである。これらのカラー
フィルターは、画素102に対応する位置に形成され、
これにより画素ごとに取り出す光の色を変えることがで
きる。原理的にはカラーフィルターを用いた液晶表示装
置のカラー化方式と同様である。尚、画素に対応した位
置とは、前述の対向基板の法線方向に沿って画素と一致
する位置を指す。即ち、対向基板の法線方向から見てカ
ラーフィルター113a〜113cとそれに対応する各画
素とが一致するように設ける。
を抽出することで透過した光の色純度を向上させるフィ
ルターである。従って、取り出すべき波長の光成分が少
ない場合には、その波長の光の輝度が極端に小さかった
り、色純度が悪かったりという不具合を生じうる。従っ
て、本発明で用いることのできる白色発光のEL層に限
定はないが、白色発光のスペクトル成分の中に、可能な
限り純度の高い赤色、緑色及び青色の発光スペクトルを
含むことが望ましい。
13cに遮光膜112と同様に酸化バリウム等の乾燥剤
を含有させることもできる。この場合、赤色、緑色また
は青色の顔料と乾燥剤とを含有させた樹脂膜をカラーフ
ィルターとすれば良い。
基板110はシール剤によってアクティブマトリクス基
板に貼り付けられており、114で示される空間は密閉
空間となっている。この密閉空間114は不活性ガス
(希ガスや窒素ガス)を充填しても良いし、不活性液体
を充填しても良い。また、透光性の接着剤を充填して、
基板全体を接着させても構わない。さらに、この密閉空
間114には酸化バリウム等の乾燥剤を設けておくこと
が好ましい。EL層107は水分に極めて弱いため、密
閉空間114には極力水分が侵入しないようにすること
が望ましい。さらに、クラウンエーテルまたはクリプタ
ンドが含まれる不活性液体で充填することは有効であ
る。クラウンエーテルはナトリウムと結合して捕獲する
能力があるためゲッタリング効果が期待できる。
ないように透光性の基板を用いる必要がある。例えば、
ガラス基板、石英基板またはプラスチック基板が好まし
い。また、遮光膜112としては、黒色顔料やカーボン
を含む樹脂やチタン膜などの遮光性の高い薄膜を用いれ
ば良い。また、遮光膜112として乾燥剤を含有した樹
脂を用いることも有効である。
装置は、発光性有機化合物からなる薄膜中のイオン性不
純物の濃度が0.1ppm以下(好ましくは0.01p
pm以下)であり、かつ、体積抵抗率が1×1011〜1
×1012Ωcm(好ましくは1×1012〜1×1013Ωc
m)である。従って、キャリアの再結合に起因する電流
以外は流れず、余計な発熱による劣化が抑えられるので
信頼性が高い。
頼性の高いEL表示装置が得られる。そして、そのよう
なEL表示装置を表示部として用いることにより信頼性
の高い電子装置が得られる。
ら発した光が対向基板を透過して放射されて観測者の目
に入る。そのため観測者は対向基板側から画像を認識す
ることができる。このとき、本発明のEL表示装置の特
徴は、まず、EL素子と観測者との間に、画素電極10
5の隙間111を隠すように遮光膜112を設ける点で
ある。これにより画素間の輪郭が明瞭なものとなり、高
精細な画像表示が可能となる。
113は対向基板110に設けられ、且つ、対向基板1
10はEL素子の劣化を抑制するシーリング材としての
機能をも兼ねる。遮光膜112やカラーフィルター11
3をアクティブマトリクス基板側に設けると、成膜工程
とパターニング工程が増え、その分歩留まりは低下する
が、対向基板に設けることによりアクティブマトリクス
基板の歩留まり低下を抑えることができる。
遮光膜112やカラーフィルター113を設けて、さら
に対向基板とアクティブマトリクス基板とをシール剤で
接着するという構造は、液晶表示装置の構造に共通する
点がある。即ち、現存する液晶表示装置の殆どの製造ラ
インを転用して本発明のEL表示装置を作製することが
可能であり、設備投資を大幅に削減することで総合的な
製造コストの低減が可能である。
る。ここでは、画素部とその周辺に設けられる駆動回路
のTFTを同時に作製する方法について説明する。但
し、説明を簡単にするために、駆動回路に関しては基本
回路であるCMOS回路を図示することとする。
板300上に下地膜301を300nmの厚さに形成す
る。本実施例では下地膜302として窒化酸化珪素膜を
積層して用いる。この時、ガラス基板300に接する方
の窒素濃度を10〜25wt%としておくと良い。
非晶質珪素膜(図示せず)を公知の成膜法で形成する。
尚、非晶質珪素膜に限定する必要はなく、非晶質構造を
含む半導体膜(微結晶半導体膜を含む)であれば良い。
さらに非晶質シリコンゲルマニウム膜などの非晶質構造
を含む化合物半導体膜でも良い。また、膜厚は20〜1
00nmの厚さであれば良い。
結晶化し、結晶質珪素膜(多結晶シリコン膜若しくはポ
リシリコン膜ともいう)302を形成する。公知の結晶
化方法としては、電熱炉を使用した熱結晶化方法、レー
ザー光を用いたレーザーアニール結晶化法、赤外光を用
いたランプアニール結晶化法がある。本実施例では、X
eClガスを用いたエキシマレーザー光を用いて結晶化
する。尚、本実施例では線状に加工したパルス発振型の
エキシマレーザー光を用いるが、矩形であっても良い
し、連続発振型のアルゴンレーザー光や連続発振型のエ
キシマレーザー光を用いることもできる。
6μm)を用いる場合には、第2高調波または第3高調
波を利用し、光学系により線状または矩形状にしたビー
ムを100〜500mJ/cm2のエネルギー密度で上記半導
体膜に照射して結晶化させることができる。
層として用いるが、非晶質珪素膜を用いることも可能で
ある。また、オフ電流を低減する必要のあるスイッチン
グ用TFTの活性層を非晶質珪素膜で形成し、電流制御
用TFTの活性層を結晶質珪素膜で形成することも可能
である。非晶質珪素膜はキャリア移動度が低いため電流
を流しにくくオフ電流が流れにくい。即ち、電流を流し
にくい非晶質珪素膜と電流を流しやすい結晶質珪素膜の
両者の利点を生かすことができる。
素膜302上に酸化珪素膜でなる保護膜303を130
nmの厚さに形成する。この厚さは100〜200nm
(好ましくは130〜170nm)の範囲で選べば良
い。また、珪素を含む絶縁膜であれば他の膜でも良い。
この保護膜303は不純物を添加する際に結晶質珪素膜
が直接プラズマに曝されないようにするためと、微妙な
濃度制御を可能にするために設ける。
a、304bを形成し、保護膜303を介してn型を付与
する不純物元素(以下、n型不純物元素という)を添加
する。尚、n型不純物元素としては、代表的には15族
に属する元素、典型的にはリン又は砒素を用いることが
できる。本実施例ではフォスフィン(PH3)を質量分
離しないでプラズマ励起したプラズマドーピング法を用
い、リンを1×1018atoms/cm3の濃度で添加する。勿
論、質量分離を行うイオンインプランテーション法を用
いても良い。この工程により形成されるn型不純物領域
305、306には、n型不純物元素が2×1016〜5
×1019atoms/cm3(代表的には5×101 7〜5×10
18atoms/cm3)の濃度で含まれるようにドーズ量を調節
する。
03を除去し、添加した15族に属する元素の活性化を
行う。活性化手段は公知の技術を用いれば良いが、本実
施例ではエキシマレーザー光の照射により活性化する。
勿論、パルス発振型でも連続発振型でも良いし、エキシ
マレーザー光に限定する必要はない。但し、添加された
不純物元素の活性化が目的であるので、結晶質珪素膜が
溶融しない程度のエネルギーで照射することが好まし
い。尚、保護膜303をつけたままレーザー光を照射し
ても良い。
性化に際して、熱処理による活性化を併用しても構わな
い。熱処理による活性化を行う場合は、基板の耐熱性を
考慮して450〜550℃程度の熱処理を行えば良い。
06の端部、即ち、n型不純物領域305、306の周
囲に存在するn型不純物元素を添加していない領域との
境界部(接合部)が明確になる。このことは、後にTF
Tが完成した時点において、LDD領域とチャネル形成
領域とが非常に良好な接合部を形成しうることを意味す
る。
素膜の不要な部分を除去して、島状の半導体膜(以下、
活性層という)307〜310を形成する。そして、図
2(E)に示すように、活性層307〜310を覆って
ゲート絶縁膜311を形成する。ゲート絶縁膜311と
しては、10〜200nm、好ましくは50〜150n
mの厚さの珪素を含む絶縁膜を用いれば良い。これは単
層構造でも積層構造でも良い。本実施例では110nm
厚の窒化酸化珪素膜を用いる。
成し、パターニングしてゲート電極312〜316を形
成する。このゲート電極312〜316の端部をテーパ
ー状にすることもできる。尚、本実施例ではゲート電極
と、ゲート電極に電気的に接続された引き回しのための
配線(以下、ゲート配線という)とを別の材料で形成す
る。具体的にはゲート電極よりも低抵抗な材料をゲート
配線として用いる。これは、ゲート電極としては微細加
工が可能な材料を用い、ゲート配線には微細加工はでき
なくとも配線抵抗が小さい材料を用いるためである。勿
論、ゲート電極とゲート配線とを同一材料で形成してし
まっても構わない。
ても良いが、必要に応じて二層、三層といった積層膜と
することが好ましい。ゲート電極の材料としては公知の
あらゆる導電膜を用いることができる。ただし、上述の
ように微細加工が可能、具体的には2μm以下の線幅に
パターニング可能な材料が好ましい。代表的には、タン
タル(Ta)、チタン(Ti)、モリブデン(Mo)、
タングステン(W)、クロム(Cr)、シリコン(S
i)から選ばれた元素でなる膜、または前記元素の窒化
物膜(代表的には窒化タンタル膜、窒化タングステン
膜、窒化チタン膜)、または前記元素を組み合わせた合
金膜(代表的にはMo−W合金、Mo−Ta合金)、ま
たは前記元素のシリサイド膜(代表的にはタングステン
シリサイド膜、チタンシリサイド膜)を用いることがで
きる。勿論、単層で用いても積層して用いても良い。
テン(WN)膜と、350nm厚のタングステン(W)
膜とでなる積層膜を用いる。これはスパッタ法で形成す
れば良い。また、スパッタガスとしてXe、Ne等の不
活性ガスを添加すると応力による膜はがれを防止するこ
とができる。
ぞれn型不純物領域305、306の一部とゲート絶縁
膜311を介して重なるように形成する。この重なった
部分が後にゲート電極と重なったLDD領域となる。
極312〜316をマスクとして自己整合的にn型不純
物元素(本実施例ではリン)を添加する。こうして形成
される不純物領域317〜323にはn型不純物領域3
05、306の1/2〜1/10(代表的には1/3〜
1/4)の濃度でリンが添加されるように調節する。具
体的には、1×1016〜5×1018atoms/cm3(典型的
には3×1017〜3×1018atoms/cm3)の濃度が好ま
しい。
極等を覆う形でレジストマスク324a〜324dを形
成し、n型不純物元素(本実施例ではリン)を添加して
高濃度にリンを含む不純物領域325〜331を形成す
る。ここでもフォスフィン(PH3)を用いたイオンド
ープ法で行い、この領域のリンの濃度は1×1020〜1
×1021atoms/cm3(代表的には2×1020〜5×10
21atoms/cm3)となるように調節する。
ース領域若しくはドレイン領域が形成されるが、スイッ
チング用TFTでは、図3(A)の工程で形成したn型
不純物領域320〜322の一部を残す。
マスク324a〜324dを除去し、新たにレジストマ
スク332を形成する。そして、p型不純物元素(本実
施例ではボロン)を添加し、高濃度にボロンを含む不純
物領域333、334を形成する。ここではジボラン
(B2H6)を用いたイオンドープ法により3×1020〜
3×1021atoms/cm3(代表的には5×1020〜1×1
021atoms/cm3ノ)濃度となるようにボロンを添加する。
×1020〜1×1021atoms/cm3の濃度でリンが添加さ
れているが、ここで添加されるボロンはその少なくとも
3倍以上の濃度で添加される。そのため、予め形成され
ていたn型の不純物領域は完全にP型に反転し、P型の
不純物領域として機能する。
後、それぞれの濃度で添加されたn型またはp型不純物
元素を活性化する。活性化手段としては、ファーネスア
ニール法、レーザーアニール法、またはランプアニール
法で行うことができる。本実施例では電熱炉において窒
素雰囲気中、550℃、4時間の熱処理を行う。
とが重要である。なぜならば酸素が少しでも存在してい
ると露呈したゲート電極の表面が酸化され、抵抗の増加
を招くと共に後にオーミックコンタクトを取りにくくな
るからである。従って、上記活性化工程における処理雰
囲気中の酸素濃度は1ppm以下、好ましくは0.1p
pm以下とすることが望ましい。
厚のゲート配線335を形成する。ゲート配線335の
材料としては、アルミニウム(Al)又は銅(Cu)を
主成分(組成として50〜100%を占める。)とする
金属膜を用いれば良い。配置としてはスイッチング用T
FTのゲート電極314、315を電気的に接続するよ
うに形成する。(図3(D))
配線抵抗を非常に小さくすることができるため、面積の
大きい画像表示領域(画素部)を形成することができ
る。即ち、画面の大きさが対角10インチ以上(さらに
は30インチ以上)のEL表示装置を実現する上で、本
実施例の画素構造は極めて有効である。
絶縁膜336を形成する。第1層間絶縁膜336として
は、珪素を含む絶縁膜を単層で用いるか、その中で組み
合わせた積層膜を用いれば良い。また、膜厚は400n
m〜1.5μmとすれば良い。本実施例では、200n
m厚の窒化酸化珪素膜の上に800nm厚の酸化珪素膜
を積層した構造とする。
中で、300〜450℃で1〜12時間の熱処理を行い
水素化処理を行う。この工程は熱的に励起された水素に
より半導体膜の不対結合手を水素終端する工程である。
水素化の他の手段として、プラズマ水素化(プラズマに
より生成された水素を用いる)を行っても良い。尚、水
素化処理は第1層間絶縁膜336を形成する間に入れて
も良い。即ち、200nm厚の窒化酸化珪素膜を形成し
た後で上記のように水素化処理を行い、その後で残り8
00nm厚の酸化珪素膜を形成しても構わない。
タクトホールを形成し、ソース配線337〜340と、
ドレイン配線341〜343を形成する。尚、本実施例
ではこの電極を、Ti膜を100nm、Tiを含むアル
ミニウム膜を300nm、Ti膜150nmをスパッタ
法で連続形成した3層構造の積層膜とする。勿論、他の
導電膜でも良い。
0〜300nm)の厚さで第1パッシベーション膜34
4を形成する。本実施例では第1パッシベーション膜3
44として300nm厚の窒化酸化珪素膜を用いる。こ
れは窒化珪素膜で代用しても良い。
H2、NH3等水素を含むガスを用いてプラズマ処理を行
うことは有効である。この前処理により励起された水素
が第1層間絶縁膜336に供給され、熱処理を行うこと
で、第1パッシベーション膜344の膜質が改善され
る。それと同時に、第1層間絶縁膜336に添加された
水素が下層側に拡散するため、効果的に活性層を水素化
することができる。
らなる第2層間絶縁膜345を形成する。有機樹脂とし
てはポリイミド、ポリアミド、アクリル、BCB(ベン
ゾシクロブテン)等を使用することができる。特に、第
2層間絶縁膜345は平坦化の意味合いが強いので、平
坦性に優れたアクリルが好ましい。本実施例ではTFT
によって形成される段差を十分に平坦化しうる膜厚でア
クリル膜を形成する。好ましくは1〜5μm(さらに好
ましくは2〜4μm)とすれば良い。
シベーション膜344にドレイン配線343に達するコ
ンタクトホールを形成し、画素電極346を形成する。
本実施例では画素電極346として300nm厚のアル
ミニウム合金膜(1wt%のチタンを含有したアルミニウ
ム膜)を形成する。尚、347は隣接する画素電極の端
部である。
成装置の一例は図10に示されている。図10に示した
のは陽極として透明導電膜、発光層として高分子系EL
層、陰極層として周期律表の1族若しくは2族に属する
元素を含む金属膜、第2パッシベーション層として窒化
珪素膜や窒化酸化珪素膜を連続して形成する装置であ
る。
は搬出を行う搬送室であり、ロード・アンロード室とも
呼ばれる。ここに基板をセットしたキャリア402が配
置される。尚、搬送室401は基板搬入用と基板搬出用
と区別されていても良い。また、403は基板404を
搬送する機構(以下、搬送機構という)405を含む共
通室である。基板のハンドリングを行うロボットアーム
などは搬送機構405の一種である。
〜406fを介して複数の処理室(407〜411で示
される)が連結されている。図10の構成では共通室4
03を数mTorrから数十mTorrに減圧し、各処
理室はゲート406a〜406fによって共通室403と
は遮断されている。この場合、溶液塗布用処理室408
は不活性ガスを満たした常圧で行われるため、共通室4
03と溶液塗布用処理室408との間に、真空排気用処
理室401を設けた構成となっている。
とで真空下での処理を行うことが可能となる。排気ポン
プとしては、油回転ポンプ、メカニカルブースターポン
プ、ターボ分子ポンプ若しくはクライオポンプを用いる
ことが可能であるが、水分の除去に効果的なクライオポ
ンプが好ましい。
ための処理室(以下、第3成膜用処理室という)であ
る。ここでは陰極を補助するための補助電極の形成が行
われる。また、蒸着法又はスパッタ法が用いられるが、
蒸着法の方がダメージを与えにくいので好ましい。いず
れにしてもゲート406bによって共通室403と遮断
され、真空下で成膜が行われる。
は、蒸着源を設ける必要がある。陰極層として良く用い
られる金属膜は、周期律表の1族若しくは2族に属する
元素を含む金属膜であるが、これらの金属膜は酸化しや
すいので表面を保護しておくことが望ましい。また、必
要な膜厚も薄いため、抵抗率の低い導電膜を補助的に設
けて陰極の抵抗を下げ、加えて陰極の保護を図る。抵抗
率の低い導電膜としてはアルミニウム、銅又は銀を主成
分とする金属膜が用いられる。ここでは、図4(C)に
示す電子注入層348にフッ化リチウムを用い、真空蒸
着法で5nmの厚さに形成する。
ト法により高分子系EL材料を含む溶液を塗布する処理
室(以下、溶液塗布用処理室という)である。前述のよ
うにEL材料は水分に極めて弱いため、溶液塗布用処理
室408は常に不活性雰囲気に保持しておくこと必要が
ある。
2を共通室403と同じ圧力まで減圧しておき、その状
態でゲート406dを開けて基板を搬送する。そして、
ゲート406dを閉めた後、真空排気用処理室412内
を不活性ガスでパージし、常圧に戻った時点でゲート4
13を開けて溶液塗布用処理室408へと基板を搬送す
る。この搬送はステージ毎行っても良いし、専用の搬送
手段で行っても良い。
て回転させる固定ヘッド及び高分子系EL化合物を含有
する溶媒を基板上に適量供給する手段が設けられてい
る。固定ヘッドは簡便な構成として真空チャック方式が
採用されるが、吸引口の形状に沿って基板が歪み、塗布
されるEL層の厚さに斑ができてしまう。EL層は10
0〜200nmの厚さで形成するが、膜厚のバラツキは
発光強度のバラツキなど表示品位の低下をもたらす。
ヘッドの構成を示す。吸引口の形状は、同心円の溝或い
は複数の開孔を設けた形状であり、吸引口の下に設けた
連結口から真空引をして2次元的に吸引力を分散させて
いる。このような固定ヘッドは上板と下板が一体となっ
て構成される。
の上面図であり同心円状の開孔1103が形成されてい
る。同図(B)は下板1102であり、十字状の共通溝
1104と排気口1105が形成されている。同図
(C)は上板1101と下板1102とを重ね合わせ、
A−A'線に沿った断面図を示す。また、図11(D)
は他の例であり、固定ヘッドの上板1106に開孔11
08が複数個形成されている。同図(E)は下板110
7であり、円状の共通溝1109と排気口1110が形
成されている。同図(F)は上板1106と下板110
7とを重ね合わせ、B−B'線に沿った断面図を示す。
ゾール)、Bu−PBD(2−(4'−tert−ブチルフ
ェニル)−5−(4''−ビフェニル)−1,3,4−オ
キサジアゾール)、クマリン6、DCM1(4−ジシア
ノメチレン−2−メチル−6−p−ジメチルアミノスチ
リル−4H−ピラン)、TPB(テトラフェニルブタジ
エン)、ナイルレッドを1,2−ジクロロメタンまたは
クロロホルムに溶解し、スピンコート法により塗布す
る。回転数は500〜1000rpm程度とし、20〜6
0秒間回転させ均一な塗布膜を形成する。
以上、好ましくは5回以上の精製(典型的には透析法)
を施し、含まれるイオン性不純物の濃度を0.1ppm
以下(好ましくは0.01ppm以下)にしてから成膜
する。こうすることで図4(C)に示す発光層349中
に含まれるイオン性不純物の濃度は0.1ppm以下
(好ましくは0.01ppm以下)となり、かつ、体積
抵抗値は1×1011〜1×1012Ωcm(好ましくは1×
1012〜1×1013Ωcm)となる。
ト413を開けて真空排気用処理室412へ基板を搬送
し、ゲート413及びゲート406dを閉めた状態で真
空排気を行う。真空排気用処理室412が共通室403
と同じ減圧状態にまで達したら、ゲート406dを開け
て基板を共通室へと搬送する。
いるが、真空排気用処理室412のサセプターを加熱で
きるようにして、ここで焼成工程を行っても良い。焼成
後に真空排気することで、脱ガスを抑えることが可能で
ある。
するための処理室(以下、第1成膜用処理室という)で
ある。成膜法としては蒸着法又はスパッタ法が好適な手
法として挙げられるが、ここでは発光層349の上に陽
極350を形成する目的で使用されるため、ダメージを
与えないことが要求される。スパッタ法では前述のIT
O、酸化インジウムと酸化亜鉛との化合物、SnO2ま
たはZnOなどのターゲットを用いて行う。膜の厚さは
30〜300nmとする。
被膜形成面(発光層が形成された面)は、上向き(フェ
イスアップ方式)であっても下向き(フェイスダウン方
式)であっても良い。フェイスアップ方式の場合、共通
室403から搬送された基板をそのままサセプターに設
置すれば良いため非常に簡易である。フェイスダウン方
式の場合、搬送機構405若しくは第1気相成膜用処理
室410に、基板を反転させるための機構を備えておく
必要が生じるため、搬送機構が複雑になるが、ゴミの付
着が少ないという利点が得られる。
処理を行う場合には、蒸着源を具備しておく必要があ
る。蒸着源は複数設けても良い。また、抵抗加熱方式の
蒸着源としても良いし、EB(電子ビーム)方式の蒸着
源としても良い。
ベーション膜を形成するための処理室(以下、第2成膜
用処理室という)である。第2パッシベーション膜は窒
化珪素膜、窒化酸化珪素膜をプラズマCVD法で形成す
る。従って、図示していないが、SiH4、N2O、NH
3などのガス供給系、13.56〜60MHzの高周波
電源を用いたプラズマ発生手段、基板加熱手段などが設
けられている。EL層は水分または湿気に弱いので、E
L層を形成後大気雰囲気に晒すことなく連続してこのよ
うなパッシベーション膜を設けると良い。
示す電子注入層348および発光層349からなる積層
構造を用いるが、必要に応じて電子輸送層、正孔輸送
層、正孔注入層、電子阻止層もしくは正孔阻止層を設け
ても良い。
素膜でなる第2パッシベーション膜351は100nm
の厚さに形成する。この第2パッシベーション膜351
は発光層349を水分等から保護する。また、発光層3
49で発生した熱を逃がす役割も果たす。放熱効果をさ
らに高めるために、窒化珪素膜と炭素膜(好ましくはダ
イヤモンドライクカーボン膜)を積層して第2パッシベ
ーション膜とすることも有効である。
クティブマトリクス型EL表示装置が完成する。ところ
で、本実施例のアクティブマトリクス型EL表示装置
は、画素部だけでなく駆動回路部にも最適な構造のTF
Tを配置することにより、非常に高い信頼性を示し、動
作特性も向上しうる。
ットキャリア注入を低減させる構造を有するTFTを、
駆動回路を形成するCMOS回路のnチャネル型TFT
205として用いる。尚、ここでいう駆動回路として
は、シフトレジスタ、バッファ、レベルシフタ、サンプ
リング回路(サンプル及びホールド回路)などが含まれ
る。デジタル駆動を行う場合には、D/Aコンバータな
どの信号変換回路も含まれうる。
に、nチャネル型205の活性層は、ソース領域35
5、ドレイン領域356、LDD領域357及びチャネ
ル形成領域358を含み、LDD領域357はゲート絶
縁膜311を介してゲート電極313と重なっている。
ているのは、動作速度を落とさないための配慮である。
また、このnチャネル型TFT205はオフ電流値をあ
まり気にする必要はなく、それよりも動作速度を重視し
た方が良い。従って、LDD領域357は完全にゲート
電極に重ねてしまい、極力抵抗成分を少なくすることが
望ましい。即ち、いわゆるオフセットはなくした方がよ
い。
206は、ホットキャリア注入による劣化が殆ど気にな
らないので、特にLDD領域を設けなくても良い。勿
論、nチャネル型TFT205と同様にLDD領域を設
け、ホットキャリア対策を講じることも可能である。
図1で説明したように遮光膜を有する対向基板を用いて
EL層を密閉空間に封入する。その際、密閉空間の内部
を不活性雰囲気にしたり、内部に吸湿性材料(例えば酸
化バリウム)を配置することでEL層の信頼性(寿命)
が向上する。このEL層の封入処理は、液晶表示装置の
セル組み工程に用いられる技術を転用しても良い。
板上に形成された素子又は回路から引き回された端子と
外部信号端子とを接続するためのコネクター(フレキシ
ブルプリントサーキット:FPC)を取り付けて製品と
して完成する。
L表示装置の構成を図5の斜視図を用いて説明する。本
実施例のアクティブマトリクス型EL表示装置は、ガラ
ス基板601上に形成された、画素部602と、ゲート
側駆動回路603と、ソース側駆動回路604で構成さ
れる。画素部のスイッチング用TFT605はnチャネ
ル型TFTであり、ゲート側駆動回路603に接続され
たゲート配線606、ソース側駆動回路604に接続さ
れたソース配線607の交点に配置されている。また、
スイッチング用TFT605のドレインは電流制御用T
FT608のゲートに接続されている。
は電源供給線609に接続される。本実施例のような構
造では、電源供給線609には所定の電圧が与えられて
いる。また、電流制御用TFT608のドレインにはE
L素子610が接続されている。また、EL素子610
の陰極がドレインに接続されているので、電流制御用T
FT608としては、nチャネル型TFTを用いること
が望ましい。
1には駆動回路まで信号を伝達するための接続配線61
2、613、及び電源供給線609に接続された接続配
線614が設けられている。
図6(A)、(B)を用いて説明する。基板1000は
アクティブマトリクス基板であり、基板上に画素部10
01、ソース側駆動回路1002、ゲート側駆動回路1
003が形成されている。それぞれの駆動回路からの各
種配線は、接続配線612〜614を経てFPC611
に至り外部機器へと接続される。
動回路及び画素部を囲むようにして対向基板1004を
設ける。尚、対向基板1004は接着剤(シール剤)1
005によって、アクティブマトリクス基板1000と
共同して密閉空間1006を形成するように接着され
る。このとき、EL素子は完全に前記密閉空間1006
に封入された状態となり、外気から遮断される。
光硬化性のエポキシ系樹脂を用いるが、アクリレート系
樹脂等の接着剤を用いることも可能である。また、EL
層の耐熱性が許せば熱硬化性樹脂を用いることもでき
る。但し、可能な限り酸素、水分を透過しない材質であ
ることが必要である。接着剤1005はディスペンサー
等の塗布装置を用いて形成すれば良い。
アクティブマトリクス基板1000との間の密閉空間1
006には窒素ガスを充填しておく。さらに、対向基板
1004の内側(密閉空間側)には図1で説明したよう
に遮光膜1007及びカラーフィルター1008が設け
られており、本実施例では遮光膜1007として酸化バ
リウムと黒色の顔料を含有させた樹脂膜を、カラーフィ
ルター1008として赤色、緑色または青色の顔料を含
有させた樹脂膜を用いている。
は個々に孤立したEL素子を有する複数の画素が設けら
れ、それらは全て陽極1009を共通電極としている。
このとき、EL層は画素部のみ設ければよく、駆動回路
の上に設ける必要はない。EL層を選択的に設けるに
は、シャドーマスクを用いた蒸着法、リフトオフ法、ド
ライエッチング法もしくはレーザースクライブ法を用い
れば良い。
的に接続される。接続配線1010は陽極1009に所
定の電圧を与えるための電源供給線であり、導電性ペー
スト材料1011を介してFPC611に電気的に接続
される。尚、ここでは接続配線1010について説明し
たが、他の接続配線612〜614も同様にしてFPC
611に電気的に接続される。
PC611を外部機器の端子に接続することで画素部に
画像を表示することができる。本明細書中では、FPC
を取り付けることで画像表示が可能な状態となる物品、
即ち、アクティブマトリクス基板と対向基板とを貼り合
わせた物品(FPCが取り付けられている状態を含む)
を含むモジュールをEL表示装置と定義している。
トリクス型EL表示装置に実施した場合の例について図
7に示す。図7において、701はプラスチック基板、
702はアルミニウム膜とフッ化リチウム膜の積層構造
(EL層に接する部分がフッ化リチウム膜)でなる陰極
である。本実施例では、陰極702を蒸着法により形成
する。尚、図7では図示されていないが、複数本の陰極
が紙面に垂直な方向へストライプ状に配列されている。
らなるEL層(発光層のみ)703が印刷法により形成
される。本実施例では、PVK(ポリビニルカルバゾー
ル)、Bu−PBD(2−(4'−tert−ブチルフェニ
ル)−5−(4''−ビフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール)、クマリン6、DCM1(4−ジシアノメ
チレン−2−メチル−6−p−ジメチルアミノスチリル
−4H−ピラン)、TPB(テトラフェニルブタジエ
ン)、ナイルレッドを1,2−ジクロロメタンに溶解
し、印刷法により陰極702上に転写した後、焼成して
白色発光のEL層703を形成する。
も3回以上、好ましくは5回以上の精製(典型的には透
析法)を施し、含まれるイオン性不純物の濃度を0.1
ppm以下(好ましくは0.01ppm以下)にしてか
ら成膜する。こうすることでEL層703中に含まれる
イオン性不純物の濃度は0.1ppm以下(好ましくは
0.01ppm以下)となり、かつ、体積抵抗値は1×
1011〜1×1012Ωcm(好ましくは1×1012〜1×
1013Ωcm)となる。
層のみの単層構造とするが、必要に応じて電子注入層、
電子輸送層、正孔輸送層、正孔注入層、電子阻止層もし
くは正孔素子層を設けても良い。
なる陽極704を形成する。本実施例では、透明導電膜
として酸化インジウムと酸化亜鉛との化合物を蒸着法に
より形成する。尚、図7では図示されていないが、複数
本の陽極が紙面に垂直な方向が長手方向となり、且つ、
陰極と直交するようにストライプ状に配列されている。
また、図示されないが陽極704は所定の電圧が加えら
れるように、後にFPCが取り付けられる部分まで配線
が引き出されている。
ン膜705として100nm厚の窒化珪素膜を形成す
る。これは、後にカバー材等を接着する際に、EL層7
04が外気に触れないようにするための保護膜である。
を形成する。次に、カバー材706としてプラスチック
板を用意し、その表面に遮光膜707及びカラーフィル
ター708を形成する。遮光膜707はカーボンを含む
樹脂を用い、カラーフィルター708は赤色、緑色また
は青色の各々に対応した顔料を含む樹脂を用いる。成膜
方法はインクジェット法、スピンコート法または印刷法
を用いれば良い。
した光がカバー材706を透過して観測者の目に入るた
め、カバー材706は透光性である。本実施例ではプラ
スチック板を用いているが、ガラス板、PVFフィルム
などの透光性基板(または透光性フィルム)を用いれば
良い。
燥剤709を添加した充填材(接着剤として機能する)
710を介してカバー材706を貼り合わせる。貼り合
わせ工程は太陽電池の作製に用いられる二重真空方式の
貼り合わせ装置を用いれば良い。その後、紫外線硬化樹
脂でなるシール材711を用いてフレーム材712を取
り付ける。本実施例ではフレーム材712としてステン
レス材を用いる。最後にFPC713を取り付けてEL
表示装置が完成する。
L表示装置は、自発光型であるため液晶表示装置に比べ
て明るい場所での視認性に優れ、しかも視野角が広い。
従って、様々な電子装置の表示部として用いることがで
きる。例えば、TV放送等を大画面で鑑賞するには対角
30インチ以上(典型的には40インチ以上)のELデ
ィスプレイ(EL表示装置を筐体に組み込んだディスプ
レイ)の表示部として本発明のEL表示装置を用いると
よい。
ィスプレイ、TV放送受信用ディスプレイ、広告表示用
ディスプレイ等の全ての情報表示用ディスプレイが含ま
れる。また、その他にも様々な電子装置の表示部として
本発明のEL表示装置を用いることができる。
ラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ(ヘッド
マウントディスプレイ)、カーナビゲーションシステ
ム、音響再生装置(オーディオ)、ノート型パーソナル
コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコ
ンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍
等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはコン
パクトディスク(CD)、レーザーディスク(登録商
標)(LD)又はデジタルビデオディスク(DVD)等
の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレ
イを備えた装置)などが挙げられる。特に、斜め方向か
ら見ることの多い携帯情報端末は視野角の広さが重要視
されるため、EL表示装置を用いることが望ましい。そ
れら電子装置の具体例を図8に示す。
体2001、支持台2002、表示部2003等を含
む。本発明は表示部2003に用いることができる。E
Lディスプレイは自発光型であるためバックライトが必
要なく、液晶ディスプレイよりも薄い表示部とすること
ができる。
101、表示部2102、音声入力部2103、操作ス
イッチ2104、バッテリー2105、受像部2106
等を含む。本発明のEL表示装置は表示部2102に用
いることができる。
プレイの一部(右片側)であり、本体2201、信号ケ
ーブル2202、頭部固定バンド2203、表示部22
04、光学系2205、EL表示装置2206等を含
む。本発明はEL表示装置2206に用いることができ
る。
置(具体的にはDVD再生装置)であり、本体230
1、記録媒体(CD、LDまたはDVD等)2302、
操作スイッチ2303、表示部(a)2304、表示部
(b)2305等を含む。表示部(a)は主として画像
情報を表示し、表示部(b)は主として文字情報を表示
するが、本発明のEL表示装置はこれら表示部(a)、
(b)に用いることができる。尚、記録媒体を備えた画
像再生装置には、CD再生装置、ゲーム機器なども含ま
れうる。
ータであり、本体2401、カメラ部2402、受像部
2403、操作スイッチ2404、表示部2405等を
含む。本発明のEL表示装置は表示部2405に用いる
ことができる。
り、本体2501、筐体2502、表示部2503、キ
ーボード2504等を含む。本発明のEL表示装置は表
示部2503に用いることができる。
れば、出力した画像情報を含む光をレンズ等で拡大投影
してフロント型若しくはリア型のプロジェクターに用い
ることも可能となる。
ATV(ケーブルテレビ)などの電子通信回線を通じて
配信された情報を表示することが多くなり、特に動画情
報を表示する機会が増してきている。EL材料の応答速
度は非常に高いため、EL表示装置は動画表示に好まし
いが、画素間の輪郭がぼやけてしまっては動画全体もぼ
けてしまう。従って、画素間の輪郭を明瞭にするという
本発明のEL表示装置を電子装置の表示部として用いる
ことは極めて有効である。
電力を消費するため、発光部分が極力少なくなるように
情報を表示することが望ましい。従って、携帯情報端
末、特に携帯電話やカーオーディオのような文字情報を
主とする表示部にEL表示装置を用いる場合には、非発
光部分を背景として文字情報を発光部分で形成するよう
に駆動することが望ましい。
2601、音声出力部2602、音声入力部2603、
表示部2604、操作スイッチ2605、アンテナ26
06を含む。本発明のEL表示装置は表示部2604に
用いることができる。尚、表示部2604は黒色の背景
に白色の文字を表示することで携帯電話の消費電力を抑
えることができる。
にはカーオーディオであり、本体2701、表示部27
02、操作スイッチ2703、2704を含む。本発明
のEL表示装置は表示部2702に用いることができ
る。また、本実施例では車載用カーオーディオを示す
が、据え置き型のオーディオに用いても良い。尚、表示
部2704は黒色の背景に白色の文字を表示することで
消費電力を抑えられる。これは携帯型のオーディオにお
いて特に有効である。
く、あらゆる分野の電子装置に用いることが可能であ
る。また、本実施例の電子装置には実施例1〜3に示し
たいずれの構成のEL表示装置を用いても良い。
を抑制することができ、EL表示装置の信頼性を高める
ことができる。また、本発明のEL表示装置を電子装置
の表示部として用いることで、電子装置の信頼性を高め
ることができる。
製工程を示す図。
製工程を示す図。
製工程を示す図。
構成を示す図。
適した形状を示す図。
Claims (14)
- 【請求項1】含まれるイオン性不純物の濃度が0.1p
pm以下であることを特徴とする発光性有機化合物。 - 【請求項2】含まれるイオン性不純物の濃度が0.01
ppm以下であることを特徴とする発光性有機化合物。 - 【請求項3】請求項1または請求項2において、前記イ
オン性不純物とはナトリウムもしくはカリウムであるこ
とを特徴とする発光性有機化合物。 - 【請求項4】含まれるイオン性不純物の濃度が0.1p
pm以下となるまで精製することを特徴とする発光性有
機化合物の作製方法。 - 【請求項5】含まれるイオン性不純物の濃度が0.01
ppm以下となるまで精製することを特徴とする発光性
有機化合物の作製方法。 - 【請求項6】請求項4または請求項5において、前記発
光性有機化合物は、ゾーン精製法、再結晶法、再沈殿
法、昇華精製法、濾過法、カラムクロマトグラフィ、高
速液体クロマトグラフィもしくは透析法により精製され
ることを特徴とする発光性有機化合物の作製方法。 - 【請求項7】請求項4乃至請求項6のいずれか一におい
て、前記発光性有機化合物は高分子化合物であり、透析
法により精製されることを特徴とする発光性有機化合物
の作製方法。 - 【請求項8】請求項4乃至請求項7のいずれか一におい
て、前記イオン性不純物とはナトリウムもしくはカリウ
ムであることを特徴とする発光性有機化合物の作製方
法。 - 【請求項9】画素にEL素子を含むEL表示装置におい
て、 前記EL素子は発光性有機化合物からなる薄膜を含み、
該薄膜に含まれるイオン性不純物の濃度は0.1ppm
以下であり、かつ、体積抵抗率は3×1010Ωcm以上で
あることを特徴とするEL表示装置。 - 【請求項10】TFT及び該TFTに電気的に接続され
たEL素子を含む画素を有したEL表示装置において、 前記EL素子は発光性有機化合物からなる薄膜を含み、
該薄膜に含まれるイオン性不純物の濃度は0.1ppm
以下であり、かつ、体積抵抗率は3×1010Ωcm以上で
あることを特徴とするEL表示装置。 - 【請求項11】ストライプ状に配列された陽極、前記陽
極と直交するようにストライプ状に配列された陰極及び
前記陽極と前記陰極との間の発光性有機化合物からなる
EL素子を含む画素を有したEL表示装置において、 前記EL素子は発光性有機化合物からなる薄膜を含み、
該薄膜に含まれるイオン性不純物の濃度は0.1ppm
以下であり、かつ、体積抵抗率は3×1010Ωcm以上で
あることを特徴とするEL表示装置。 - 【請求項12】請求項9乃至請求項11のいずれか一に
おいて、前記イオン性不純物とはナトリウムもしくはカ
リウムであることを特徴とするEL表示装置。 - 【請求項13】請求項9乃至請求項12に記載のEL表
示装置を表示部として用いたことを特徴とする電子装
置。 - 【請求項14】画素にEL素子を含むEL表示装置の作
製方法において、 イオン性不純物の濃度が0.1ppm以下であり、か
つ、体積抵抗率が3×1010Ωcm以上である発光性有機
化合物からなる薄膜を成膜する工程を含むことを特徴と
するEL表示装置の作製方法。
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