JP2001170547A - 塗布膜の乾燥方法及び装置 - Google Patents
塗布膜の乾燥方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】塗布液の粘度等の物性や溶媒の種類を変更する
ことなく塗布膜を均一に乾燥できる。 【解決手段】塗布直後に乾燥ゾーン１４を設け、乾燥ゾ
ーン１４外からの強さや方向の不均一な風が塗布膜面に
直接当たらないようにし、塗布膜面から蒸発した有機溶
剤が塗布膜面を覆う乾燥環境が形成される。そして、こ
の乾燥環境下で、乾燥ゾーン１４にウエブ１２幅方向の
一方端から他方端に流れる１方向流れの規則的な乾燥風
を発生させる。
ことなく塗布膜を均一に乾燥できる。 【解決手段】塗布直後に乾燥ゾーン１４を設け、乾燥ゾ
ーン１４外からの強さや方向の不均一な風が塗布膜面に
直接当たらないようにし、塗布膜面から蒸発した有機溶
剤が塗布膜面を覆う乾燥環境が形成される。そして、こ
の乾燥環境下で、乾燥ゾーン１４にウエブ１２幅方向の
一方端から他方端に流れる１方向流れの規則的な乾燥風
を発生させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は塗布膜の乾燥方法及
び装置に係り、特に、光学補償シート等の製造におい
て、長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形
成した長尺で広幅な塗布膜面を乾燥する乾燥方法及び装
置に関する。
び装置に係り、特に、光学補償シート等の製造におい
て、長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形
成した長尺で広幅な塗布膜面を乾燥する乾燥方法及び装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置において視野角特性を改善
するために、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差板
として光学補償シートを設けている。長尺状の光学補償
シートの製造法は特開平９−７３０８１号公報に開示さ
れており、長尺状の透明フィルムの表面に配向膜形成用
樹脂を含む塗布液を塗布してからラビング処理を行なっ
て配向膜を形成し、その配向膜の上に液晶性ディスコテ
ィック化合物を含む塗布液を塗布し、塗布した塗布膜を
乾燥する方法が開示されている。
するために、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差板
として光学補償シートを設けている。長尺状の光学補償
シートの製造法は特開平９−７３０８１号公報に開示さ
れており、長尺状の透明フィルムの表面に配向膜形成用
樹脂を含む塗布液を塗布してからラビング処理を行なっ
て配向膜を形成し、その配向膜の上に液晶性ディスコテ
ィック化合物を含む塗布液を塗布し、塗布した塗布膜を
乾燥する方法が開示されている。
【０００３】特開平９−７３０８１号公報に開示されて
いる液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液の乾燥
方法は、該配向膜上に液晶性ディスコティック化合物を
含む塗布液を塗布してから正規の乾燥装置で乾燥するま
で室内空調条件下で初期乾燥を行なって主として塗布液
中の有機溶剤を蒸発させるようにしている。
いる液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液の乾燥
方法は、該配向膜上に液晶性ディスコティック化合物を
含む塗布液を塗布してから正規の乾燥装置で乾燥するま
で室内空調条件下で初期乾燥を行なって主として塗布液
中の有機溶剤を蒸発させるようにしている。
【０００４】この方法で製造された光学補償シートに
は、塗布膜１面上に乾燥過程において、図４に示したよ
うなブロードな斑Ａ（細い線で示す）とシャープな斑Ｂ
（太い線で示す）の２種類の斑（ムラ）Ａ、Ｂが発生
し、場合によって製品の得率を下げるという問題があ
る。
は、塗布膜１面上に乾燥過程において、図４に示したよ
うなブロードな斑Ａ（細い線で示す）とシャープな斑Ｂ
（太い線で示す）の２種類の斑（ムラ）Ａ、Ｂが発生
し、場合によって製品の得率を下げるという問題があ
る。
【０００５】この２種類の斑Ａ、Ｂについて解析を行な
った結果、ブロードな斑Ａは図５に示すように液晶性デ
ィスコティック化合物を含む塗布液膜２の層の厚みが薄
くなっていることが分かった。図５の符号３は長尺状支
持体、４は配向膜層である。一方、シャープな斑Ｂが発
生している配向部５（濃色部）の配向方向６は、図６に
示すように、他の正常な配向方向７の配向部８と比べて
ずれていることが分かった。
った結果、ブロードな斑Ａは図５に示すように液晶性デ
ィスコティック化合物を含む塗布液膜２の層の厚みが薄
くなっていることが分かった。図５の符号３は長尺状支
持体、４は配向膜層である。一方、シャープな斑Ｂが発
生している配向部５（濃色部）の配向方向６は、図６に
示すように、他の正常な配向方向７の配向部８と比べて
ずれていることが分かった。
【０００６】このような初期乾燥で発生する斑（ムラ）
Ａ、Ｂに対して、有効な対策として一般的に行なわれて
いる方法としては、塗布液を高濃度化したり、増粘剤を
添加したりすることで塗布液の粘度を増加させ、これに
より、塗布直後の塗布膜面の乾燥風による流動を抑制す
ることで斑の発生を防止する方法がある。別の方法とし
ては、高沸点溶媒を用いることにより、塗布直後の塗膜
面の乾燥風による流動が発生してもレベリング効果が生
じることで斑の発生を防止する方法がある。
Ａ、Ｂに対して、有効な対策として一般的に行なわれて
いる方法としては、塗布液を高濃度化したり、増粘剤を
添加したりすることで塗布液の粘度を増加させ、これに
より、塗布直後の塗布膜面の乾燥風による流動を抑制す
ることで斑の発生を防止する方法がある。別の方法とし
ては、高沸点溶媒を用いることにより、塗布直後の塗膜
面の乾燥風による流動が発生してもレベリング効果が生
じることで斑の発生を防止する方法がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塗布液
の濃度を高濃度化したり、増粘剤を添加したりすること
で塗布液の粘度を増加する方法は、高速塗布により超薄
層な塗布膜を形成する超薄層精密塗布を行なうことがで
きないという欠点がある。また、塗布液粘度が増加する
ほど限界塗布速度（安定塗布できる塗布速度の限界）が
低下するので、粘度の増加と共に高速塗布が不可能にな
るので、生産効率が極端に悪化するという欠点がある。
の濃度を高濃度化したり、増粘剤を添加したりすること
で塗布液の粘度を増加する方法は、高速塗布により超薄
層な塗布膜を形成する超薄層精密塗布を行なうことがで
きないという欠点がある。また、塗布液粘度が増加する
ほど限界塗布速度（安定塗布できる塗布速度の限界）が
低下するので、粘度の増加と共に高速塗布が不可能にな
るので、生産効率が極端に悪化するという欠点がある。
【０００８】一方、高沸点溶媒を用いる方法は、乾燥時
間の増大、及び塗布膜中に残留する残留溶剤量の増大を
もたらし、それだけ乾燥時間がかかるので生産効率が悪
化するという欠点がある。
間の増大、及び塗布膜中に残留する残留溶剤量の増大を
もたらし、それだけ乾燥時間がかかるので生産効率が悪
化するという欠点がある。
【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、塗布液の粘度等の物性や溶媒の種類を変更す
ることなく塗布膜を均一に乾燥できる乾燥方法及び装置
を提供することを目的とする。
たもので、塗布液の粘度等の物性や溶媒の種類を変更す
ることなく塗布膜を均一に乾燥できる乾燥方法及び装置
を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む
塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、
前記塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺
状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に前記乾燥ゾ
ーンに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側
に流れる一方向流れの乾燥風を発生させたことを特徴と
する。
成するために、走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む
塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、
前記塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺
状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に前記乾燥ゾ
ーンに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側
に流れる一方向流れの乾燥風を発生させたことを特徴と
する。
【００１１】また、本発明は、前記目的を達成するため
に、走行する長尺状支持体に塗布機により有機溶剤を含
む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥装置におい
て、前記塗布機の直後に設けられ、前記走行する長尺状
支持体の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーンを形成す
る乾燥装置本体と、前記乾燥ゾーン内に前記長尺状支持
体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの
乾燥風を発生させる一方向気流発生手段と、を備えたこ
とを特徴とする。
に、走行する長尺状支持体に塗布機により有機溶剤を含
む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥装置におい
て、前記塗布機の直後に設けられ、前記走行する長尺状
支持体の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーンを形成す
る乾燥装置本体と、前記乾燥ゾーン内に前記長尺状支持
体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの
乾燥風を発生させる一方向気流発生手段と、を備えたこ
とを特徴とする。
【００１２】本発明によれば、塗布後、好ましくは塗布
直後に乾燥ゾーンを設けたことで、乾燥ゾーン外からの
強さや方向の不均一な風が、有機溶剤を多く含み塗布液
が流動し易い状態の塗布膜面に当たらないようにできる
と共に、塗布膜面から蒸発した有機溶剤が塗布膜面を覆
う乾燥環境が形成される。この乾燥環境下で、長尺状支
持体幅方向の一方端から他方端に流れる１方向流れの規
則的な乾燥風を発生させると、塗布膜面近傍の有機溶剤
濃度を常に一定に維持した状態で塗布膜の乾燥を行なう
ことができるので、乾燥時における上記した２種類の斑
（ムラ）の発生を防止でき、均一な乾燥を行なうことが
できる。
直後に乾燥ゾーンを設けたことで、乾燥ゾーン外からの
強さや方向の不均一な風が、有機溶剤を多く含み塗布液
が流動し易い状態の塗布膜面に当たらないようにできる
と共に、塗布膜面から蒸発した有機溶剤が塗布膜面を覆
う乾燥環境が形成される。この乾燥環境下で、長尺状支
持体幅方向の一方端から他方端に流れる１方向流れの規
則的な乾燥風を発生させると、塗布膜面近傍の有機溶剤
濃度を常に一定に維持した状態で塗布膜の乾燥を行なう
ことができるので、乾燥時における上記した２種類の斑
（ムラ）の発生を防止でき、均一な乾燥を行なうことが
できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、添付図面により本発明の塗
布膜の乾燥方法及び装置の好ましい実施の形態について
詳説する。
布膜の乾燥方法及び装置の好ましい実施の形態について
詳説する。
【００１４】図１は、本発明の塗布膜の乾燥装置の側面
図であり、また、図２は図１を上方から見た平面図であ
る。
図であり、また、図２は図１を上方から見た平面図であ
る。
【００１５】図１及び図２に示すように本発明の塗布膜
の乾燥装置１０は、主として、走行する長尺状支持体１
２（以下、「ウエブ１２」と言う）を通過させて塗布膜
の乾燥が行なわれる乾燥ゾーン１４を形成する乾燥装置
本体１６と、乾燥ゾーン１４内にウエブ１２幅方向の一
方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生
させる一方向気流発生手段１８とで構成される。この乾
燥装置１０は、走行するウエブ１２に有機溶剤を含む塗
布液を塗布する塗布機２０の直後に設けられる。
の乾燥装置１０は、主として、走行する長尺状支持体１
２（以下、「ウエブ１２」と言う）を通過させて塗布膜
の乾燥が行なわれる乾燥ゾーン１４を形成する乾燥装置
本体１６と、乾燥ゾーン１４内にウエブ１２幅方向の一
方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生
させる一方向気流発生手段１８とで構成される。この乾
燥装置１０は、走行するウエブ１２に有機溶剤を含む塗
布液を塗布する塗布機２０の直後に設けられる。
【００１６】塗布機２０としては、例えば、ワイヤーバ
ー２０Ａを備えたバー塗布装置を使用することができ、
複数のバックアップローラ２２、２４、２６に支持され
て走行するウエブ１２の下面に塗布液が塗布されて塗布
膜が形成される。
ー２０Ａを備えたバー塗布装置を使用することができ、
複数のバックアップローラ２２、２４、２６に支持され
て走行するウエブ１２の下面に塗布液が塗布されて塗布
膜が形成される。
【００１７】乾燥装置本体１６は、塗布機２０の直後に
設けられ、走行するウエブ１２の塗布膜面側（ウエブの
下面側）に沿った長四角な箱体状に形成され、箱体の各
辺のうちの塗布膜面側の辺（箱体の上辺）が切除されて
いる。これにより、走行するウエブ１２の乾燥される塗
布膜面を囲む乾燥ゾーン１４が形成される。乾燥ゾーン
１４は、乾燥装置本体１６を、ウエブ１２の走行方向に
直交した複数の仕切板２８、２８…で仕切ることによ
り、複数の分割ゾーン１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ、１４
Ｄ、１４Ｅ、１４Ｆ、１４Ｇ（本実施例では７つの分割
ゾーン）に分割される。この場合、乾燥ゾーン１４を分
割する仕切板２８の上端と、ウエブ１２に形成された塗
布膜面との距離は、０．５ｍｍ〜１２ｍｍの範囲が好ま
しく、更に好ましくは１ｍｍ〜１０ｍｍの範囲である。
また、乾燥ゾーン１４には一方向気流発生手段１８（図
２参照）が設けられる。
設けられ、走行するウエブ１２の塗布膜面側（ウエブの
下面側）に沿った長四角な箱体状に形成され、箱体の各
辺のうちの塗布膜面側の辺（箱体の上辺）が切除されて
いる。これにより、走行するウエブ１２の乾燥される塗
布膜面を囲む乾燥ゾーン１４が形成される。乾燥ゾーン
１４は、乾燥装置本体１６を、ウエブ１２の走行方向に
直交した複数の仕切板２８、２８…で仕切ることによ
り、複数の分割ゾーン１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ、１４
Ｄ、１４Ｅ、１４Ｆ、１４Ｇ（本実施例では７つの分割
ゾーン）に分割される。この場合、乾燥ゾーン１４を分
割する仕切板２８の上端と、ウエブ１２に形成された塗
布膜面との距離は、０．５ｍｍ〜１２ｍｍの範囲が好ま
しく、更に好ましくは１ｍｍ〜１０ｍｍの範囲である。
また、乾燥ゾーン１４には一方向気流発生手段１８（図
２参照）が設けられる。
【００１８】一方向気流発生手段１８は、主として、乾
燥装置本体１６の両側辺の一方側に形成された吸込口１
８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ、１８Ｅ、１８Ｆ、１８
Ｇと、他方側に吸込口１８Ａ〜１８Ｇに対向して形成さ
れた排気口１８Ｈ、１８Ｉ、１８Ｊ、１８Ｋ、１８Ｌ、
１８Ｍ、１８Ｎと、排気口１８Ｈ〜１８Ｎに接続された
排気手段１８Ｐ、１８Ｑ、１８Ｒ、１８Ｓ、１８Ｔ、１
８Ｕ、１８Ｗとで構成される。これにより、排気手段１
８Ｐ〜１８Ｗを駆動させることにより、吸込口１８Ａ〜
１８Ｇから分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇに吸い込まれたエ
アが排気口１８Ｈ〜１８Ｎから排気されるので、各分割
ゾーン１４Ａ〜１４Ｇには、ウエブ１２幅方向の一方端
側（吸込口側）から他方端側（排気口側）に向けて一方
向に流れる乾燥風が発生する。この一方向気流発生手段
１８は、排気手段１８Ｐ〜１８Ｗにより、分割ゾーン１
４Ａ〜１４Ｇごとに個々に排気量を制御できるようにな
っている。吸込口１８Ａ〜１８Ｇから吸い込まれる乾燥
風としては、温度・湿度が空調された空調風が好まし
い。
燥装置本体１６の両側辺の一方側に形成された吸込口１
８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ、１８Ｅ、１８Ｆ、１８
Ｇと、他方側に吸込口１８Ａ〜１８Ｇに対向して形成さ
れた排気口１８Ｈ、１８Ｉ、１８Ｊ、１８Ｋ、１８Ｌ、
１８Ｍ、１８Ｎと、排気口１８Ｈ〜１８Ｎに接続された
排気手段１８Ｐ、１８Ｑ、１８Ｒ、１８Ｓ、１８Ｔ、１
８Ｕ、１８Ｗとで構成される。これにより、排気手段１
８Ｐ〜１８Ｗを駆動させることにより、吸込口１８Ａ〜
１８Ｇから分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇに吸い込まれたエ
アが排気口１８Ｈ〜１８Ｎから排気されるので、各分割
ゾーン１４Ａ〜１４Ｇには、ウエブ１２幅方向の一方端
側（吸込口側）から他方端側（排気口側）に向けて一方
向に流れる乾燥風が発生する。この一方向気流発生手段
１８は、排気手段１８Ｐ〜１８Ｗにより、分割ゾーン１
４Ａ〜１４Ｇごとに個々に排気量を制御できるようにな
っている。吸込口１８Ａ〜１８Ｇから吸い込まれる乾燥
風としては、温度・湿度が空調された空調風が好まし
い。
【００１９】また、乾燥装置本体１６の幅はウエブ１２
の幅よりも大きくなるように形成して、乾燥ゾーン１４
の両側の開放部分を整風板３２で蓋をした整風部分を設
けるようにした。この整風部分は、吸込口１８Ａ〜１８
Ｇから塗布膜端までの距離と、塗布膜端から排気口１８
Ｈ〜１８Ｎまでの距離を確保すると共に、乾燥風が吸込
口１８Ａ〜１８Ｇのみから乾燥ゾーン１４内に吸い込ま
れ易くするもので、乾燥ゾーン１４に急激な乾燥風の流
れを作らないようにしたものである。この整風部分、即
ち整風板３２の長さとしては、吸込口側及び排気口側と
もに、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲が好ましい。
の幅よりも大きくなるように形成して、乾燥ゾーン１４
の両側の開放部分を整風板３２で蓋をした整風部分を設
けるようにした。この整風部分は、吸込口１８Ａ〜１８
Ｇから塗布膜端までの距離と、塗布膜端から排気口１８
Ｈ〜１８Ｎまでの距離を確保すると共に、乾燥風が吸込
口１８Ａ〜１８Ｇのみから乾燥ゾーン１４内に吸い込ま
れ易くするもので、乾燥ゾーン１４に急激な乾燥風の流
れを作らないようにしたものである。この整風部分、即
ち整風板３２の長さとしては、吸込口側及び排気口側と
もに、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲が好ましい。
【００２０】各分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇのうち、特に
塗布機に一番近い分割ゾーン１４Ａは、ウエブ１２に塗
布液が塗布された直後に、乾燥ゾーン１４外の新鮮な空
気、例えば上記した空調風が乾燥ゾーン１４に入り込み
にくくすることが重要である。この為には、塗布機２０
に隣接するように分割ゾーン１４Ａを配置することや前
記した整風板３２の他に、塗布機２０のワイヤーバー２
０Ａの位置と、バックアップローラ２４の位置を調整
し、ウエブ１２が分割ゾーン１４Ａの直近を走行するよ
うにして、ウエブ１２で分割ゾーン１４Ａの開放部をあ
たかも蓋をするように構成することが好ましい。
塗布機に一番近い分割ゾーン１４Ａは、ウエブ１２に塗
布液が塗布された直後に、乾燥ゾーン１４外の新鮮な空
気、例えば上記した空調風が乾燥ゾーン１４に入り込み
にくくすることが重要である。この為には、塗布機２０
に隣接するように分割ゾーン１４Ａを配置することや前
記した整風板３２の他に、塗布機２０のワイヤーバー２
０Ａの位置と、バックアップローラ２４の位置を調整
し、ウエブ１２が分割ゾーン１４Ａの直近を走行するよ
うにして、ウエブ１２で分割ゾーン１４Ａの開放部をあ
たかも蓋をするように構成することが好ましい。
【００２１】また、ウエブ１２を挟んで、乾燥装置本体
１６の反対側位置には、前記空調風等の風により、ウエ
ブ１２の安定走行が阻害されないように遮蔽板３４が設
けられる。
１６の反対側位置には、前記空調風等の風により、ウエ
ブ１２の安定走行が阻害されないように遮蔽板３４が設
けられる。
【００２２】次に、上記の如く構成された乾燥装置１０
の作用を説明する。
の作用を説明する。
【００２３】尚、ウエブ１２は、予め塗布された配向膜
形成用樹脂をラビング処理して配向膜となる層を有する
ものであると共に、塗布液は液晶性ディスコティック化
合物を含む有機溶剤性塗布液の例で説明する。
形成用樹脂をラビング処理して配向膜となる層を有する
ものであると共に、塗布液は液晶性ディスコティック化
合物を含む有機溶剤性塗布液の例で説明する。
【００２４】バックアップローラ２２、２４、２６に支
持され走行するウエブ１２に塗布機２０のワイヤーバー
２０Ａで塗布液を塗布した直後、乾燥装置１０によって
塗布膜面の初期乾燥が行なわれる。この初期乾燥は、塗
布直後、遅くとも５秒以内の塗布直後に乾燥風による乾
燥を開始することが好ましい。
持され走行するウエブ１２に塗布機２０のワイヤーバー
２０Ａで塗布液を塗布した直後、乾燥装置１０によって
塗布膜面の初期乾燥が行なわれる。この初期乾燥は、塗
布直後、遅くとも５秒以内の塗布直後に乾燥風による乾
燥を開始することが好ましい。
【００２５】この初期乾燥において、塗布直後の塗布膜
面は有機溶剤が十分に含まれた状態にあり、特に有機溶
剤を溶媒とする塗布液を塗布した直後の初期乾燥では有
機溶剤の蒸発の分布（ゆらぎ）によって塗布膜面に温度
分布が発生する。これが原因で表面張力の分布が発生
し、塗布膜面内で塗布液の流動が起き、乾燥の遅い部分
の塗布膜が薄くなり、ブロードな斑（ムラ）Ａとなる。
面は有機溶剤が十分に含まれた状態にあり、特に有機溶
剤を溶媒とする塗布液を塗布した直後の初期乾燥では有
機溶剤の蒸発の分布（ゆらぎ）によって塗布膜面に温度
分布が発生する。これが原因で表面張力の分布が発生
し、塗布膜面内で塗布液の流動が起き、乾燥の遅い部分
の塗布膜が薄くなり、ブロードな斑（ムラ）Ａとなる。
【００２６】また、液晶性ディスコティック化合物の配
向方向は、配向膜形成用樹脂の表面をラビング処理して
決めているが、初期乾燥においてラビング方向と異なる
風向きの風速が速い場合、風が合流する場合、風の渦が
発生している場合等の風が塗布膜面に当たることで塗布
膜面の一部に配向方向のずれを生じさせ、これがシャー
プな斑（ムラ）Ｂの原因となる。
向方向は、配向膜形成用樹脂の表面をラビング処理して
決めているが、初期乾燥においてラビング方向と異なる
風向きの風速が速い場合、風が合流する場合、風の渦が
発生している場合等の風が塗布膜面に当たることで塗布
膜面の一部に配向方向のずれを生じさせ、これがシャー
プな斑（ムラ）Ｂの原因となる。
【００２７】このことから、初期乾燥時における塗布膜
面の斑（ムラ）Ａ、Ｂを防止するためには、塗布してか
ら塗布膜面における塗膜液の流動が停止するまでの初期
乾燥の間、外部からの不均一な風が塗布膜面に当たるの
を阻止すると共に、塗布膜面近傍の有機溶剤濃度を常に
一定に保つことが重要になる。
面の斑（ムラ）Ａ、Ｂを防止するためには、塗布してか
ら塗布膜面における塗膜液の流動が停止するまでの初期
乾燥の間、外部からの不均一な風が塗布膜面に当たるの
を阻止すると共に、塗布膜面近傍の有機溶剤濃度を常に
一定に保つことが重要になる。
【００２８】そこで、本発明では、ウエブ１２に塗布液
を塗布した直後、初期乾燥を行なうために上記構成の乾
燥装置１０を設けた。即ち、塗布直後に乾燥ゾーン１４
を形成したことで、乾燥ゾーン１４外の強さや方向の不
均一な風が、有機溶剤を多く含み塗布液が流動し易い状
態の塗布膜面に当たらないようにできる。これにより、
塗布膜面に当たった風の勢いで塗布膜面の配向方向がず
れることが原因で発生するシャープな斑（ムラ）Ｂを防
止し、均一な乾燥を行なうことができる。
を塗布した直後、初期乾燥を行なうために上記構成の乾
燥装置１０を設けた。即ち、塗布直後に乾燥ゾーン１４
を形成したことで、乾燥ゾーン１４外の強さや方向の不
均一な風が、有機溶剤を多く含み塗布液が流動し易い状
態の塗布膜面に当たらないようにできる。これにより、
塗布膜面に当たった風の勢いで塗布膜面の配向方向がず
れることが原因で発生するシャープな斑（ムラ）Ｂを防
止し、均一な乾燥を行なうことができる。
【００２９】また、乾燥ゾーン１４を設けたことで、塗
布膜面から蒸発した有機溶剤が塗布膜面を覆う乾燥環境
が形成される。この乾燥環境下で、排気手段１８Ｐ〜１
８Ｗを駆動させると、吸込口１８Ａ〜１８Ｇから分割ゾ
ーン１４Ａ〜１４Ｇに吸い込まれたエアが排気口１８Ｈ
〜１８Ｎから排気されるので、各分割ゾーン１４Ａ〜１
４Ｇには、ウエブ幅方向の一方端側（吸込口側）から他
方端側（排気口側）に向けて一方向に流れる乾燥風が発
生する。これにより、塗布膜面が有機溶剤で覆われた状
態のまま、蒸発した有機溶剤を含む乾燥エアが排気口１
８Ｈ〜１８Ｎから排気されて次第に乾燥される。この場
合、排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量が大き過ぎると、
塗布膜面を有機溶剤が均等に覆わなくなるので、排気手
段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量を調整して、排気量が大きく
なりすぎないようにする必要がある。これにより、塗布
膜面近傍における有機溶剤濃度を均等にできるので、塗
布膜面の各部分から有機溶剤を均等に蒸発させることが
できる。従って、塗布膜面からの有機溶剤の蒸発分布が
原因で発生するブロードな斑（ムラ）Ａを防止し、均一
な乾燥を行なうことができる。
布膜面から蒸発した有機溶剤が塗布膜面を覆う乾燥環境
が形成される。この乾燥環境下で、排気手段１８Ｐ〜１
８Ｗを駆動させると、吸込口１８Ａ〜１８Ｇから分割ゾ
ーン１４Ａ〜１４Ｇに吸い込まれたエアが排気口１８Ｈ
〜１８Ｎから排気されるので、各分割ゾーン１４Ａ〜１
４Ｇには、ウエブ幅方向の一方端側（吸込口側）から他
方端側（排気口側）に向けて一方向に流れる乾燥風が発
生する。これにより、塗布膜面が有機溶剤で覆われた状
態のまま、蒸発した有機溶剤を含む乾燥エアが排気口１
８Ｈ〜１８Ｎから排気されて次第に乾燥される。この場
合、排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量が大き過ぎると、
塗布膜面を有機溶剤が均等に覆わなくなるので、排気手
段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量を調整して、排気量が大きく
なりすぎないようにする必要がある。これにより、塗布
膜面近傍における有機溶剤濃度を均等にできるので、塗
布膜面の各部分から有機溶剤を均等に蒸発させることが
できる。従って、塗布膜面からの有機溶剤の蒸発分布が
原因で発生するブロードな斑（ムラ）Ａを防止し、均一
な乾燥を行なうことができる。
【００３０】この場合、ウエブ１２が乾燥ゾーン１４を
走行することで、乾燥ゾーン１４の入口側と出口側にお
ける塗布膜面近傍の有機溶剤濃度が異なる場合がある
が、乾燥ゾーン１４を、複数の分割ゾーン１４Ａ〜１４
Ｇに分割したことで解消することができる。即ち、７分
割された各分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇに設けた各排気手
段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量を制御して、各分割ゾーン１
４Ａ〜１４Ｇを流れる乾燥風の風速を調整することによ
り、乾燥ゾーン１４の入口側と出口側における塗布膜面
近傍の有機溶剤濃度の異なりを解消することができる。
これにより、塗布膜面には、ブロードな斑（ムラ）Ａも
シャープな斑（ムラ）Ｂもともに発生しない良好な乾燥
を行なうことができる。
走行することで、乾燥ゾーン１４の入口側と出口側にお
ける塗布膜面近傍の有機溶剤濃度が異なる場合がある
が、乾燥ゾーン１４を、複数の分割ゾーン１４Ａ〜１４
Ｇに分割したことで解消することができる。即ち、７分
割された各分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇに設けた各排気手
段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量を制御して、各分割ゾーン１
４Ａ〜１４Ｇを流れる乾燥風の風速を調整することによ
り、乾燥ゾーン１４の入口側と出口側における塗布膜面
近傍の有機溶剤濃度の異なりを解消することができる。
これにより、塗布膜面には、ブロードな斑（ムラ）Ａも
シャープな斑（ムラ）Ｂもともに発生しない良好な乾燥
を行なうことができる。
【００３１】更に、乾燥風の流れをコントロールするた
めに仕切板２８の上端と塗布膜面との間隔を０．５ｍｍ
〜１２ｍｍとし、塗布膜面が仕切板２８に当たらない範
囲においてできるだけ狭くすることにより各分割ゾーン
１４Ａ〜１４Ｇに設けた各排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの個
々の排気精度をアップさせることができる。また、乾燥
ゾーン１４の両側部のウエブの下に整風板３２を設けて
吸込口１８Ａ〜１８Ｇから流入してくる風、及び排気口
１８Ｈ〜１８Ｎから排気される風を整流することで塗布
膜面を流れる溶剤を含んだ風の流れが一様になるように
した。尚、乾燥風としては、乾燥装置１０が設置され
た、例えば空調室等の空調風を使用することができる
が、塗布液に含有される有機溶剤と同じ溶剤を含む風
を、乾燥装置本体１６の吸込口１８Ａ〜１８Ｇから吸い
込ませるようにしてもよい。或いは、排気手段１８Ｐ〜
１８Ｗにより排気される乾燥風の一部を吸込口１８Ａ〜
１８Ｇから吸い込ませてもよい。
めに仕切板２８の上端と塗布膜面との間隔を０．５ｍｍ
〜１２ｍｍとし、塗布膜面が仕切板２８に当たらない範
囲においてできるだけ狭くすることにより各分割ゾーン
１４Ａ〜１４Ｇに設けた各排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの個
々の排気精度をアップさせることができる。また、乾燥
ゾーン１４の両側部のウエブの下に整風板３２を設けて
吸込口１８Ａ〜１８Ｇから流入してくる風、及び排気口
１８Ｈ〜１８Ｎから排気される風を整流することで塗布
膜面を流れる溶剤を含んだ風の流れが一様になるように
した。尚、乾燥風としては、乾燥装置１０が設置され
た、例えば空調室等の空調風を使用することができる
が、塗布液に含有される有機溶剤と同じ溶剤を含む風
を、乾燥装置本体１６の吸込口１８Ａ〜１８Ｇから吸い
込ませるようにしてもよい。或いは、排気手段１８Ｐ〜
１８Ｗにより排気される乾燥風の一部を吸込口１８Ａ〜
１８Ｇから吸い込ませてもよい。
【００３２】本発明で使用されるウエブ１２としては、
一般に幅０．３〜５ｍ、長さ４５〜１００００ｍ、厚さ
５〜２００μｍのポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン−２，６ナフタレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
プロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプ
ラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα
−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙、アル
ミニウム、銅、錫等の金属箔等、或いは帯状基材の表面
に予備的な加工層を形成させたものが含まれる。更に、
前記したウエブ１２には、光学補償シート塗布液、磁性
塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるい
は滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された
後、所望する長さ及び幅に裁断されるものも含まれ、こ
れらの代表例としては、光学補償シート、各種写真フィ
ルム、印画紙、磁気テープ等が挙げられる。
一般に幅０．３〜５ｍ、長さ４５〜１００００ｍ、厚さ
５〜２００μｍのポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン−２，６ナフタレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
プロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプ
ラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα
−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙、アル
ミニウム、銅、錫等の金属箔等、或いは帯状基材の表面
に予備的な加工層を形成させたものが含まれる。更に、
前記したウエブ１２には、光学補償シート塗布液、磁性
塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるい
は滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された
後、所望する長さ及び幅に裁断されるものも含まれ、こ
れらの代表例としては、光学補償シート、各種写真フィ
ルム、印画紙、磁気テープ等が挙げられる。
【００３３】塗布液の塗布方法として、上記したバーコ
ーティング法の他、カーテンコーティング法、エクスト
ルージョンコーティング法、ロールコーティング法、デ
ィップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コ
ーティング法、スプレーコーティング法及びスライドコ
ーティング法を使用することができる。特にバーコーテ
ィング法、エクストルージョンコーティング法、スライ
ドコーティング法が好適に使用できる。
ーティング法の他、カーテンコーティング法、エクスト
ルージョンコーティング法、ロールコーティング法、デ
ィップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コ
ーティング法、スプレーコーティング法及びスライドコ
ーティング法を使用することができる。特にバーコーテ
ィング法、エクストルージョンコーティング法、スライ
ドコーティング法が好適に使用できる。
【００３４】また、本発明において同時に塗布される塗
布液の塗布層の数は単層に限定されるものではなく、必
要に応じて同時多層塗布方法にも適用できる。
布液の塗布層の数は単層に限定されるものではなく、必
要に応じて同時多層塗布方法にも適用できる。
【００３５】
【実施例】図３は、光学補償シートの製造工程に、本発
明の乾燥装置１０を組み込んだものであり、乾燥装置１
０の各排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量を調整した場合
の効果を、製造された光学補償シートの斑（ムラ）の発
生状況との関係で調べた。
明の乾燥装置１０を組み込んだものであり、乾燥装置１
０の各排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量を調整した場合
の効果を、製造された光学補償シートの斑（ムラ）の発
生状況との関係で調べた。
【００３６】乾燥装置１０の各排気手段１８Ｐ〜１８Ｗ
の排気量については、表１の１〜３の３実施例について
行い、各実施例において各分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇを
流れる乾燥風の風速を表１に示した。
の排気量については、表１の１〜３の３実施例について
行い、各実施例において各分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇを
流れる乾燥風の風速を表１に示した。
【００３７】先ず、光学補償シートの製造工程について
説明すると、図３のように送出機４０で送り出されたウ
エブ１２は複数のガイドローラ４２、４２…によって支
持されながらラビング処理装置４４、塗布機２０そし
て、初期乾燥を行なう本発明の乾燥装置１０、本乾燥を
行なう乾燥ゾーン４６、加熱ゾーン４８、紫外線ランプ
５０を通過して巻取機５２で巻き取られる。
説明すると、図３のように送出機４０で送り出されたウ
エブ１２は複数のガイドローラ４２、４２…によって支
持されながらラビング処理装置４４、塗布機２０そし
て、初期乾燥を行なう本発明の乾燥装置１０、本乾燥を
行なう乾燥ゾーン４６、加熱ゾーン４８、紫外線ランプ
５０を通過して巻取機５２で巻き取られる。
【００３８】ウエブ１２としては、厚さ１００μｍのト
リアセチルセルロース（フジタック、富士写真フイルム
（株）製）を使用した。そして、ウエブ１２の表面に、
長鎖アルキル変性ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ
（株）製）の２重量パーセント溶液をフィルム１ｍ2 当
り２５ｍｌ塗布後、６０°Ｃで１分間乾燥させて造られ
た配向膜用樹脂層を形成したウエブ１２を、１８ｍ／分
で搬送走行させながら、樹脂層表面にラビング処理を行
って配向膜を形成した。ラビング処理におけるラビング
ローラ５４の押しつけ圧力は、配向膜樹脂層の１ｃｍ2
当たり９８Ｐａ（１０k ｇｆ／ｃｍ2 ）とすると共に、
回転周速を５．０ｍ／秒とした。
リアセチルセルロース（フジタック、富士写真フイルム
（株）製）を使用した。そして、ウエブ１２の表面に、
長鎖アルキル変性ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ
（株）製）の２重量パーセント溶液をフィルム１ｍ2 当
り２５ｍｌ塗布後、６０°Ｃで１分間乾燥させて造られ
た配向膜用樹脂層を形成したウエブ１２を、１８ｍ／分
で搬送走行させながら、樹脂層表面にラビング処理を行
って配向膜を形成した。ラビング処理におけるラビング
ローラ５４の押しつけ圧力は、配向膜樹脂層の１ｃｍ2
当たり９８Ｐａ（１０k ｇｆ／ｃｍ2 ）とすると共に、
回転周速を５．０ｍ／秒とした。
【００３９】そして、配向膜用樹脂層をラビング処理し
て得られた配向膜上に、塗布液としては、ディスコティ
ック化合物ＴＥ−８の（３）とＴＥ−８の（５）の重量
比で４：１の混合物に、光重合開始剤（イルガキュア９
０７、日本チバガイギー（株）製造）を前記混合物に対
して１重量パーセント添加した混合物の４０重量％メチ
ルエチルケトン溶液とする液晶性化合物を含む塗布液を
使用した。ウエブ１２を走行速度１８ｍ／分で走行させ
ながら、この塗布液を配向膜上に、塗布液量がウエブ１
ｍ2 当り５ｍｌになるようにワイヤーバー２０Ａで塗布
した。そして、塗布直後に、本発明の乾燥装置１０を使
用して初期乾燥を行なった。
て得られた配向膜上に、塗布液としては、ディスコティ
ック化合物ＴＥ−８の（３）とＴＥ−８の（５）の重量
比で４：１の混合物に、光重合開始剤（イルガキュア９
０７、日本チバガイギー（株）製造）を前記混合物に対
して１重量パーセント添加した混合物の４０重量％メチ
ルエチルケトン溶液とする液晶性化合物を含む塗布液を
使用した。ウエブ１２を走行速度１８ｍ／分で走行させ
ながら、この塗布液を配向膜上に、塗布液量がウエブ１
ｍ2 当り５ｍｌになるようにワイヤーバー２０Ａで塗布
した。そして、塗布直後に、本発明の乾燥装置１０を使
用して初期乾燥を行なった。
【００４０】また、乾燥ゾーン１４を７分割する仕切板
２８の上端と塗布膜面との間隔は５〜９mmの範囲に設定
して行なった。また、本発明の乾燥装置１０で初期乾燥
されたウエブ１２は、１００°Ｃに調整された乾燥ゾー
ン４６及び、１３０°Ｃに調整された加熱ゾーン４８を
通過させてネマチック相を形成した後、この配向膜及び
液晶性化合物が塗布されたウエブ１２を連続搬送しなが
ら、液晶層の表面に紫外線ランプ５０により紫外線を照
射した。
２８の上端と塗布膜面との間隔は５〜９mmの範囲に設定
して行なった。また、本発明の乾燥装置１０で初期乾燥
されたウエブ１２は、１００°Ｃに調整された乾燥ゾー
ン４６及び、１３０°Ｃに調整された加熱ゾーン４８を
通過させてネマチック相を形成した後、この配向膜及び
液晶性化合物が塗布されたウエブ１２を連続搬送しなが
ら、液晶層の表面に紫外線ランプ５０により紫外線を照
射した。
【００４１】尚、表１の、斑の発生状況において、×は
斑が発生したことを示し、○は斑が発生しなかったこと
を示す。
斑が発生したことを示し、○は斑が発生しなかったこと
を示す。
【００４２】
【表１】 その結果、表１から分かるように、各分割ゾーンの風速
を全て同じ０．５ｍ／秒とした実施例１では、ブロード
斑Ａが発生し、シャープ斑Ｂは発生しなかった。また、
塗布機２０に近い分割ゾーン１４Ａの風速を１．０ｍ／
秒、次の分割ゾーン１４Ｂの風速を１．５ｍ／秒とし、
それ以後の分割ゾーン１４Ｃ〜１４Ｇの風速を０．５ｍ
／秒とした実施例２は、ブロード斑Ａ及びシャープ斑Ｂ
ともに発生せず、良好な結果であった。また、分割ゾー
ン１４Ａの風速を１．０ｍ／秒、次の分割ゾーン１４Ｂ
の風速を１．５ｍ／秒とし、分割ゾーン１４Ｃ、Ｄの風
速を０．５ｍ／秒とし、分割ゾーン１４Ｅ、Ｆ、Ｇとし
た実施例３は、ブロード斑Ａ及びシャープ斑Ｂともに発
生し、最も悪い結果であった。
を全て同じ０．５ｍ／秒とした実施例１では、ブロード
斑Ａが発生し、シャープ斑Ｂは発生しなかった。また、
塗布機２０に近い分割ゾーン１４Ａの風速を１．０ｍ／
秒、次の分割ゾーン１４Ｂの風速を１．５ｍ／秒とし、
それ以後の分割ゾーン１４Ｃ〜１４Ｇの風速を０．５ｍ
／秒とした実施例２は、ブロード斑Ａ及びシャープ斑Ｂ
ともに発生せず、良好な結果であった。また、分割ゾー
ン１４Ａの風速を１．０ｍ／秒、次の分割ゾーン１４Ｂ
の風速を１．５ｍ／秒とし、分割ゾーン１４Ｃ、Ｄの風
速を０．５ｍ／秒とし、分割ゾーン１４Ｅ、Ｆ、Ｇとし
た実施例３は、ブロード斑Ａ及びシャープ斑Ｂともに発
生し、最も悪い結果であった。
【００４３】このように、塗布直後に乾燥装置１０を設
置すると共に、乾燥ゾーンを分割し個々の排気手段で最
適風速に設定することは、初期乾燥過程で発生する斑
（ムラ）を抑制するために効果的であることが分かっ
た。
置すると共に、乾燥ゾーンを分割し個々の排気手段で最
適風速に設定することは、初期乾燥過程で発生する斑
（ムラ）を抑制するために効果的であることが分かっ
た。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の塗布膜の
乾燥方法及び装置によれば、塗布直後の初期乾燥過程で
発生する斑（ムラ）を抑制でき、均一な乾燥ができる。
従って、従来のように、塗布液の粘度等の物性や溶媒の
種類を変更する必要がないので、使用できる塗布液の種
類の幅や溶剤の種類の幅を広げることができる。
乾燥方法及び装置によれば、塗布直後の初期乾燥過程で
発生する斑（ムラ）を抑制でき、均一な乾燥ができる。
従って、従来のように、塗布液の粘度等の物性や溶媒の
種類を変更する必要がないので、使用できる塗布液の種
類の幅や溶剤の種類の幅を広げることができる。
【図１】本発明の乾燥装置の側面図
【図２】本発明の乾燥装置の平面図
【図３】光学補償シートの製造工程に、本発明の乾燥装
置を組み込んだ工程図
置を組み込んだ工程図
【図４】従来の乾燥方式で発生した斑（ムラ）発生状況
図
図
【図５】ブロードな斑（ムラ）を説明する説明図
【図６】シャープな斑（ムラ）を説明する説明図
１０…乾燥装置、１２…ウエブ、１４…乾燥ゾーン、１
４Ａ〜１４Ｇ…分割ゾーン、１６…乾燥装置本体、１８
…一方向気流発生手段、１８Ａ〜１８Ｇ…吸込口、１８
Ｈ〜１８Ｎ…排気口、１８Ｐ〜１８Ｗ…排気手段、２０
…塗布機、２２、２４、２６…バックアップローラ、２
８…仕切板、３２…整風板、Ａ…ブロードな斑、Ｂ…シ
ャープな斑
４Ａ〜１４Ｇ…分割ゾーン、１６…乾燥装置本体、１８
…一方向気流発生手段、１８Ａ〜１８Ｇ…吸込口、１８
Ｈ〜１８Ｎ…排気口、１８Ｐ〜１８Ｗ…排気手段、２０
…塗布機、２２、２４、２６…バックアップローラ、２
８…仕切板、３２…整風板、Ａ…ブロードな斑、Ｂ…シ
ャープな斑
フロントページの続き (72)発明者 小林 寛修 神奈川県小田原市扇町１丁目２番１号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 柴田 敏夫 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BA42 BC04 BC09 BC22 3L113 AA02 AB02 AC31 BA26 CB40 DA24 4D075 BB24Z BB33Z DA04 DC24 4F042 AA22 DB02 DB25 DB36 DB37
Claims (10)
- 【請求項１】走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む塗
布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、 前記塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺
状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に前記乾燥ゾ
ーンに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側
に流れる一方向流れの乾燥風を発生させたことを特徴と
する塗布膜の乾燥方法。 - 【請求項２】前記乾燥ゾーンを前記長尺状支持体の走行
方向において複数の分割ゾーンに分割し、分割した各分
割ゾーンごとに前記一方向に流れる乾燥風の風速を調整
することを特徴とする請求項１に記載の塗布膜の乾燥方
法。 - 【請求項３】前記乾燥風は、前記有機溶剤と同一の溶剤
ガスを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の塗
布膜の乾燥方法。 - 【請求項４】前記長尺状支持体は、予め塗布された配向
膜形成用樹脂をラビング処理して配向膜となる層を有す
るものであると共に、前記塗布液は液晶性ディスコティ
ック化合物を含むものであることを特徴とする請求項１
〜３の何れか１の塗布膜の乾燥方法。 - 【請求項５】走行する長尺状支持体に塗布機により有機
溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥装置
において、 前記塗布機の直後に設けられ、前記走行する長尺状支持
体の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーンを形成する乾
燥装置本体と、 前記乾燥ゾーン内に前記長尺状支持体幅方向の一方端側
から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させる
一方向気流発生手段と、 を備えたことを特徴とする塗布膜の乾燥装置。 - 【請求項６】前記一方向気流発生手段は、 前記乾燥装置本体の側面に形成され、前記長尺状支持体
幅方向の前記一方端側と前記他方端側にそれぞれ形成さ
れた開口部と、 前記他方端側開口部に接続された排気手段と、 を備えたことを特徴とする請求項５の塗布膜の乾燥装
置。 - 【請求項７】前記乾燥ゾーンを、前記長尺状支持体の走
行方向に直交する仕切板で仕切って複数の分割ゾーンを
形成し、各分割ゾーンごとに前記一方向気流発生手段を
設けると共に、各一方向気流発生手段の排気量を個別に
制御可能としたことを特徴とする請求項５又は６記載の
塗布膜の乾燥装置。 - 【請求項８】前記乾燥ゾーンは、前記塗布膜の面を囲む
ように形成されると共に、該乾燥ゾーンに配設された前
記仕切板の上端と前記塗布膜面との間隔は０．５〜１２
ｍｍの範囲に設定されていることを特徴とする請求項７
の塗布膜の乾燥装置。 - 【請求項９】前記乾燥ゾーンの前記一方端側開口部から
は前記有機溶剤と同一の溶剤ガスを含む乾燥風が吸い込
まれることを特徴とする請求項６〜８の何れか１記載の
塗布膜の乾燥装置。 - 【請求項１０】前記長尺状支持体は、予め塗布された配
向膜形成用樹脂をラビング処理して配向膜となる層を有
するものであると共に、前記塗布液は液晶性ディスコテ
ィック化合物を含むものであることを特徴とする請求項
５〜９の何れか１記載の塗布膜の乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35939299A JP4147370B2 (ja) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35939299A JP4147370B2 (ja) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001170547A true JP2001170547A (ja) | 2001-06-26 |
| JP4147370B2 JP4147370B2 (ja) | 2008-09-10 |
Family
ID=18464281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35939299A Expired - Fee Related JP4147370B2 (ja) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4147370B2 (ja) |
Cited By (19)
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