JP2001160584A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2001160584A5
JP2001160584A5 JP2000316685A JP2000316685A JP2001160584A5 JP 2001160584 A5 JP2001160584 A5 JP 2001160584A5 JP 2000316685 A JP2000316685 A JP 2000316685A JP 2000316685 A JP2000316685 A JP 2000316685A JP 2001160584 A5 JP2001160584 A5 JP 2001160584A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
support
semiconductor processing
substrates
transfer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000316685A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001160584A (ja
JP3554534B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2000316685A priority Critical patent/JP3554534B2/ja
Priority claimed from JP2000316685A external-priority patent/JP3554534B2/ja
Publication of JP2001160584A publication Critical patent/JP2001160584A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3554534B2 publication Critical patent/JP3554534B2/ja
Publication of JP2001160584A5 publication Critical patent/JP2001160584A5/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Claims (15)

  1. 半導体処理装置において被処理基板を支持するための機構であって、
    前記基板の1つを載置すると共に搬送部材により前記基板の交換が行われるように配設された載置台と、
    前記搬送部材と協働して前記基板の交換を行うように、進退可能で且つ前記基板の1つを前記載置台上方の第1の位置で支持可能に配設された複数の第1の支持部材と、
    前記搬送部材と協働して前記基板の交換を行うように、進退可能で且つ、前記第1の支持部材により前記基板の1つが前記第1の位置で支持された状態において、前記基板の他の1つを前記載置台上方で且つ前記第1の位置に対して上下に重なる第2の位置で支持可能に配設された複数の第2の支持部材と、
    を具備することを特徴とする半導体処理装置の基板支持機構。
  2. 前記第1の支持部材は前記載置台の外側に配設されることを特徴とする請求項1に記載の半導体処理装置の基板支持機構。
  3. 前記第1の支持部材の夫々は、退避状態において蓋によりカバーされた状態でシールド部材中に収容されることを特徴とする請求項2に記載の半導体処理装置の基板支持機構。
  4. 前記第1の支持部材は、夫々が進退可能な支持棒と前記支持棒の先端に配設された張出し部材とからなり、複数の前記張出し部材は前記載置台の上方に張出す位置において協働して前記基板の1つを支持することを特徴とする請求項2に記載の半導体処理装置の基板支持機構。
  5. 前記張出し部材は、前記支持棒の回転により、前記載置台の上方に張出す位置と前記載置台の上方から退避する位置との間で移動されることを特徴とする請求項4に記載の半導体処理装置の基板支持機構。
  6. 前記支持棒は、退避状態において前記張出し部材によりカバーされた状態でシールド部材中に収容されることを特徴とする請求項4または5に記載の半導体処理装置の基板支持機構。
  7. 前記第2の支持部材は前記載置台の内側に配設されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体処理装置の基板支持機構。
  8. 前記第1の位置は前記第2の位置よりも上方にあり、前記第1及び第2の位置には夫々未処理及び処理済みの基板が支持されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の半導体処理装置の基板支持機構。
  9. 請求項1乃至8のいずれかに記載の基板支持機構を使用した基板交換方法であって、
    前記基板の1つである第1の基板を前記搬送部材に保持する一方、前記第1の支持部材を進出位置に配置する工程と、
    前記搬送部材を前記載置台の上方の所定位置に進出させた後、前記第1の基板を前記搬送部材から前記第1の支持部材上に移載する第1の移載工程と、
    前記第1の支持部材により前記第1の基板を前記第1の位置に支持した状態において、前記基板の別の1つである第2の基板を前記第2の支持部材により前記第2の位置に支持する工程と、
    前記搬送部材を前記載置台の上方の所定位置に進出させた後、前記第2の基板を前記第2の支持部材から前記搬送部材上に移載する第2の移載工程と、
    を具備することを特徴とする半導体処理装置の基板交換方法。
  10. 前記搬送部材は第1及び第2の保持部を有し、前記第1及び第2の移載工程を同時に行うことを特徴とする請求項9に記載の半導体処理装置の基板交換方法。
  11. 被処理基板に対して半導体処理を施すための装置であって、
    ゲートを介して前記基板を搬出入可能で且つ減圧雰囲気に設定可能なロードロック室と、
    前記ロードロック室にゲートを介して接続され且つ減圧雰囲気に設定可能な搬送室と、
    前記搬送室にゲートを介して接続され且つ減圧雰囲気で前記半導体処理を行うための処理室と、
    前記ロードロック室と前記処理室との間で前記基板を搬送するために前記搬送室内に配設された搬送部材と、
    を具備し、前記ロードロック室は、前記基板の1つを夫々支持可能で且つ上下に重なる第1及び第2の支持レベルを有すると共に、前記第1及び第2の支持レベルを貫通して上下に移動可能で且つ前記基板を支持可能な複数の支持ピンを具備することを特徴とする半導体処理装置。
  12. 前記第1及び第2の支持レベルの夫々は、前記基板を支持する開閉可能な一対のフィンガにより規定され、前記フィンガは閉状態において前記基板を支持し、開状態において前記基板が前記一つのフィンガ間を上下に通過することを許容することを特徴とする請求項11に記載の半導体処理装置。
  13. 被処理基板に対して半導体処理を施すための装置であって、
    ゲートを介して前記基板を搬出入可能で且つ減圧雰囲気に設定可能な第1のロードロック室と、
    ゲートを介して前記基板を搬出入可能で且つ減圧雰囲気に設定可能であると共に、前記第1のロードロック室に対して上下に重なるように配設された第2のロードロック室と、
    前記第1及び第2のロードロック室にゲートを介して接続され且つ減圧雰囲気に設定可能な搬送室と、
    前記搬送室にゲートを介して接続され且つ減圧雰囲気で前記半導体処理を行うための処理室と、
    前記第1及び第2のロードロック室と前記処理室との間で前記基板を搬送するために前記搬送室内に配設された搬送部材と、
    を具備することを特徴とする半導体処理装置。
  14. 前記搬送部材が上下動可能であることを特徴とする請求項13に記載の半導体処理装置。
  15. 複数の被処理基板を収納するカセットと半導体処理装置との間で前記基板を搬送するための装置であって、
    前記基板の1つを載置する上フィンガを有する上フォークと、
    前記基板の1つを載置する下フィンガを有する下フォークと、
    前記上下フォークを駆動するための駆動部と、
    を具備し、前記駆動部は、前記上下フォークを一体的に上下動可能且つ回転可能且つ水平に直線摺動可能に駆動すると共に、前記上下フィンガが同一平面上に位置する状態と同一平面上に位置しない状態との間で前記上下フォークを相対的に上下動可能に駆動することを特徴とする基板搬送装置。
JP2000316685A 1995-12-12 2000-10-17 半導体処理装置の基板支持機構及び基板交換方法、並びに半導体処理装置及び基板搬送装置 Expired - Fee Related JP3554534B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000316685A JP3554534B2 (ja) 1995-12-12 2000-10-17 半導体処理装置の基板支持機構及び基板交換方法、並びに半導体処理装置及び基板搬送装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32309495 1995-12-12
JP7-323094 1995-12-12
JP2000316685A JP3554534B2 (ja) 1995-12-12 2000-10-17 半導体処理装置の基板支持機構及び基板交換方法、並びに半導体処理装置及び基板搬送装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31342096A Division JP3650495B2 (ja) 1995-12-12 1996-11-25 半導体処理装置、その基板交換機構及び基板交換方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004062576A Division JP3816929B2 (ja) 1995-12-12 2004-03-05 半導体処理装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2001160584A JP2001160584A (ja) 2001-06-12
JP3554534B2 JP3554534B2 (ja) 2004-08-18
JP2001160584A5 true JP2001160584A5 (ja) 2004-10-28

Family

ID=26571057

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000316685A Expired - Fee Related JP3554534B2 (ja) 1995-12-12 2000-10-17 半導体処理装置の基板支持機構及び基板交換方法、並びに半導体処理装置及び基板搬送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3554534B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100980024B1 (ko) * 2003-06-19 2010-09-03 삼성전자주식회사 기판지지장치
JP4908771B2 (ja) * 2005-04-27 2012-04-04 東京エレクトロン株式会社 処理装置システム
KR20100031681A (ko) 2007-05-18 2010-03-24 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 빠른 교환 로봇을 가진 컴팩트 기판 운송 시스템
KR101226954B1 (ko) * 2008-08-06 2013-01-28 세메스 주식회사 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법
JP5037551B2 (ja) 2009-03-24 2012-09-26 東京エレクトロン株式会社 基板交換機構及び基板交換方法
JP4707749B2 (ja) * 2009-04-01 2011-06-22 東京エレクトロン株式会社 基板交換方法及び基板処理装置
US11684999B2 (en) 2017-08-25 2023-06-27 Jsw Aktina System Co., Ltd Laser irradiation apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3664897B2 (ja) 縦型熱処理装置
JP3650495B2 (ja) 半導体処理装置、その基板交換機構及び基板交換方法
JP4821756B2 (ja) 被処理体の移載機構、被処理体の移載方法及び被処理体の処理システム
US3874525A (en) Method and apparatus for handling workpieces
KR20110128149A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP2007095831A (ja) 基板処理装置および基板搬送方法
JP5249098B2 (ja) 基板処理システム及び基板処理方法
JP2020109785A (ja) 基板処理装置および基板搬送方法
TW202043121A (zh) 基板處理裝置、載具搬送方法及載具緩衝裝置
JP4227623B2 (ja) 半導体処理装置
JP2001160584A5 (ja)
JP2006026892A (ja) 工作機械用工作物交換装置
JPH07335717A (ja) 被処理体のバッファ装置、これを用いた処理装置及びその搬送方法
KR101186545B1 (ko) 기판 교환 기구 및 기판 교환 방법
JP3554534B2 (ja) 半導体処理装置の基板支持機構及び基板交換方法、並びに半導体処理装置及び基板搬送装置
US20120257948A1 (en) Loading unit and processing system
JP5279554B2 (ja) 基板処理装置
JP3816929B2 (ja) 半導体処理装置
TWI632630B (zh) 立式熱處理裝置
JP5330031B2 (ja) 基板処理装置
JP2002231787A (ja) 被処理体の移載装置及び移載方法
JP3958613B2 (ja) 基板搬送方法、基板搬送装置および基板搬送アーム
JP2022160211A (ja) 基板処理装置および基板搬送方法
JPH07164273A (ja) 2層テーブルを有する搬出入装置
JP2007053203A (ja) 基板処理装置および基板搬送方法