JP2001149749A - Ｐｆｃガスの処理方法及び処理装置 - Google Patents
Ｐｆｃガスの処理方法及び処理装置Info
- Publication number
- JP2001149749A JP2001149749A JP33546899A JP33546899A JP2001149749A JP 2001149749 A JP2001149749 A JP 2001149749A JP 33546899 A JP33546899 A JP 33546899A JP 33546899 A JP33546899 A JP 33546899A JP 2001149749 A JP2001149749 A JP 2001149749A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- pfc
- mist
- decomposition
- tower
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
- B01D53/8662—Organic halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
- B01D53/70—Organic halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ＰＦＣ分解ガスの洗浄後のガスを排気する排気
ラインの腐食を抑制する。 【解決手段】ＰＦＣの分解ガスを洗浄する洗浄塔の後段
にミスト分離装置を設ける。洗浄ガス中からミストを除
去することにより、排気ラインの腐食を抑制できる。
ラインの腐食を抑制する。 【解決手段】ＰＦＣの分解ガスを洗浄する洗浄塔の後段
にミスト分離装置を設ける。洗浄ガス中からミストを除
去することにより、排気ラインの腐食を抑制できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＰＦＣ（Perfluor
ocompounds）ガスの処理方法及び処理装置に関する。
ocompounds）ガスの処理方法及び処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＰＦＣ（Perfluorocompounds）は、ＣＦ
4 ，Ｃ2Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＳＦ6 ，ＮＦ3などの総称であ
る。ＰＦＣガスは、半導体エッチング用ガス，半導体ク
リーニング用ガス或いは絶縁ガスなどに使用されてい
る。このＰＦＣガスは、地球温暖化ガスであり、大気放
出の規制対象になっている。このため、種々の分解方法
が検討されている。その一つとして、特開平11−70322
号公報には、ＰＦＣガスを加水分解したのち、水或いは
アルカリ水溶液で洗浄して排気することが記載されてい
る。
4 ，Ｃ2Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＳＦ6 ，ＮＦ3などの総称であ
る。ＰＦＣガスは、半導体エッチング用ガス，半導体ク
リーニング用ガス或いは絶縁ガスなどに使用されてい
る。このＰＦＣガスは、地球温暖化ガスであり、大気放
出の規制対象になっている。このため、種々の分解方法
が検討されている。その一つとして、特開平11−70322
号公報には、ＰＦＣガスを加水分解したのち、水或いは
アルカリ水溶液で洗浄して排気することが記載されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、ＰＦＣガ
スを分解し、分解ガスを洗浄したのち排気するＰＦＣ処
理方法について研究しているなかで、洗浄ガスを排気す
る排気ブロア或いは排気管が洗浄ガスによって腐食され
ることを知った。
スを分解し、分解ガスを洗浄したのち排気するＰＦＣ処
理方法について研究しているなかで、洗浄ガスを排気す
る排気ブロア或いは排気管が洗浄ガスによって腐食され
ることを知った。
【０００４】本発明は、ＰＦＣガスの処理方法及び処理
装置において、ＰＦＣ分解ガスを洗浄した後のガスによ
って、排気ブロア及び排気管が腐食されるのを抑制する
ことにある。
装置において、ＰＦＣ分解ガスを洗浄した後のガスによ
って、排気ブロア及び排気管が腐食されるのを抑制する
ことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、ＰＦＣの分解
ガスを洗浄したのち、ガス中に含まれるミストを分離し
てから排気するようにしたことにある。
ガスを洗浄したのち、ガス中に含まれるミストを分離し
てから排気するようにしたことにある。
【０００６】本発明者は、排気管及び排気ブロアの腐食
の原因が、洗浄工程で洗浄されなかったＰＦＣ分解ガス
が、ミストに同伴して洗浄塔の塔外に流れ、ブロア或い
は排気管に付着するためであることを究明した。そし
て、ミストを分離することにより、排気管及び排気ブロ
アの腐食を抑制することに成功した。
の原因が、洗浄工程で洗浄されなかったＰＦＣ分解ガス
が、ミストに同伴して洗浄塔の塔外に流れ、ブロア或い
は排気管に付着するためであることを究明した。そし
て、ミストを分離することにより、排気管及び排気ブロ
アの腐食を抑制することに成功した。
【０００７】洗浄後のガスに含まれるミストは、粒径１
０μｍ以上のものが大部分占めており、粒径１μｍ以下
のものはせいぜい数十％にすぎない。このような粒径分
布をもつミストを除去するには、サイクロン式の分離装
置，フィルタ式の分離装置，電気集塵装置，活性炭吸着
装置などが適する。特にサイクロン式の分離装置とフィ
ルタ式の分離装置が、装置を小型化できるので望まし
い。フィルタ式の分離装置を用いる場合には、孔径の異
なる複数枚のフィルタを重ね合わせて、孔径の大きいフ
ィルタで粒径の大きいミストを分離し、孔径の小さいフ
ィルタで粒径の小さいミストを分離するようにするのが
望ましい。孔径の小さいフィルタだけを用いると、ガス
の通りが悪くなり、圧力損失が大きくなって、大型のブ
ロアを使用しなければならなくなるので、あまり好まし
くない。孔径の異なる複数枚のフィルタを組み合わせる
ことにより、圧損を小さく抑えることが可能になる。
０μｍ以上のものが大部分占めており、粒径１μｍ以下
のものはせいぜい数十％にすぎない。このような粒径分
布をもつミストを除去するには、サイクロン式の分離装
置，フィルタ式の分離装置，電気集塵装置，活性炭吸着
装置などが適する。特にサイクロン式の分離装置とフィ
ルタ式の分離装置が、装置を小型化できるので望まし
い。フィルタ式の分離装置を用いる場合には、孔径の異
なる複数枚のフィルタを重ね合わせて、孔径の大きいフ
ィルタで粒径の大きいミストを分離し、孔径の小さいフ
ィルタで粒径の小さいミストを分離するようにするのが
望ましい。孔径の小さいフィルタだけを用いると、ガス
の通りが悪くなり、圧力損失が大きくなって、大型のブ
ロアを使用しなければならなくなるので、あまり好まし
くない。孔径の異なる複数枚のフィルタを組み合わせる
ことにより、圧損を小さく抑えることが可能になる。
【０００８】本発明は、ＰＦＣガスを加水分解，酸化分
解，燃焼或いは熱分解等により弗化水素を含むガスに分
解してから洗浄して排気する方法に対して適用すること
ができる。これらの方法以外でも、ＰＦＣを弗化水素を
含むガスに分解する方法であれば、本発明の処理方法を
適用することができる。ＰＦＣを弗化水素に転換するこ
とにより、水或いはアルカリ水溶液で洗浄することによ
って弗化水素を溶液中に吸収し、ガス中より除くことが
可能になり、洗浄塔から排気されるガスを実質的に弗化
物を含まないガスにすることができる。
解，燃焼或いは熱分解等により弗化水素を含むガスに分
解してから洗浄して排気する方法に対して適用すること
ができる。これらの方法以外でも、ＰＦＣを弗化水素を
含むガスに分解する方法であれば、本発明の処理方法を
適用することができる。ＰＦＣを弗化水素に転換するこ
とにより、水或いはアルカリ水溶液で洗浄することによ
って弗化水素を溶液中に吸収し、ガス中より除くことが
可能になり、洗浄塔から排気されるガスを実質的に弗化
物を含まないガスにすることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】ＳＦ6 或いはＮＦ3 を加水分解す
る場合、理論的には式（１）及び式（２）の反応が進行
する。
る場合、理論的には式（１）及び式（２）の反応が進行
する。
【００１０】 ＳＦ6 ＋３Ｈ2Ｏ → ＳＯ3 ＋６ＨＦ （式１） ２ＮＦ3 ＋３Ｈ2Ｏ → ＮＯ＋ＮＯ2 ＋６ＨＦ （式２） 分解生成物であるＳＯ3 ，ＨＦ，ＮＦ3 ，Ｈ2Ｏ は、洗
浄塔で、水あるいはアルカリ水溶液により洗浄されるこ
とによってガス中より除去される。しかし、除去できな
かった一部のＨＦ，ＳＯ3 ，ＮＯ2 などは、Ｈ2Ｏ を同
伴してミストとなって洗浄塔を通過する。例えばＳＯ3
１molはＨ2Ｏ を約２５０mol同伴することが分かった。
これらのミストが排気ラインに排出されると、排気ガス
の温度が露点以下となった所で凝縮し、排気管の内面に
固着して閉塞を引き起こす。また、排気ブロアの内部に
付着してブロアを使用不可能にする。ＮＦ3 を処理する
場合にも、洗浄時に硝酸のミストが生成して、これが排
気ラインに流れて排気管等を腐食させることがある。炭
素系のＰＦＣガスを処理する場合は、排気管或いは排気
ブロアを腐食するガスは、主としてＨＦである。
浄塔で、水あるいはアルカリ水溶液により洗浄されるこ
とによってガス中より除去される。しかし、除去できな
かった一部のＨＦ，ＳＯ3 ，ＮＯ2 などは、Ｈ2Ｏ を同
伴してミストとなって洗浄塔を通過する。例えばＳＯ3
１molはＨ2Ｏ を約２５０mol同伴することが分かった。
これらのミストが排気ラインに排出されると、排気ガス
の温度が露点以下となった所で凝縮し、排気管の内面に
固着して閉塞を引き起こす。また、排気ブロアの内部に
付着してブロアを使用不可能にする。ＮＦ3 を処理する
場合にも、洗浄時に硝酸のミストが生成して、これが排
気ラインに流れて排気管等を腐食させることがある。炭
素系のＰＦＣガスを処理する場合は、排気管或いは排気
ブロアを腐食するガスは、主としてＨＦである。
【００１１】洗浄塔を通過した排ガスに含まれるミスト
はどのくらいの粒径になっているのかを、インパクター
方式の粒径測定器を用いて調べた。その結果、ミストの
粒径は１１μｍ以上のものが約６０％であり、１μｍ以
下のものが約３０％であった。残りは、１−１０μｍの
ものであった。
はどのくらいの粒径になっているのかを、インパクター
方式の粒径測定器を用いて調べた。その結果、ミストの
粒径は１１μｍ以上のものが約６０％であり、１μｍ以
下のものが約３０％であった。残りは、１−１０μｍの
ものであった。
【００１２】サイクロン式のミスト分離装置は、遠心力
を用いて気流中の小さな固体粒子や液滴を除去する装置
である。サイクロン式の分離装置の概略図を図２Ａと図
２Ｂに示す。図２Ａは平面図、図２Ｂは側面の断面図で
ある。このサイクロン式のミスト分離装置２１は、ミス
トを含んだ気体がガス入口２２から高速度でサイクロン
内部に導入される。サイクロン内部に導入されたミスト
は遠心力により外側に放出されて円筒の内壁２３にあた
る。内壁２３にあたったミストは下部の液排出口２４か
ら排出される。ミストが除かれた気体は上昇し内筒２６
を通って上部のガス排出口から抜ける。内筒２６を通り
抜けたガスに含まれる液は、液排出口２５から排出され
る。サイクロンの大きさ（内壁２３の最大径部分の大き
さ）は、除去する液滴の粒径によって決めるのがよい。
ガス入口２２の内径が小さく、ガスの入口速度が大きい
と遠心力が大きくなり、小さいミストを除去できる。例
えば１μｍ程度のミストを捕集するには、ガス入口の半
径を１cm程度、入口ガス速度を２０ｍ／sec 程度にする
のがよい。サイクロンの入口ガス流速は１０〜３０ｍ／
sec にすることが望ましい。この範囲にすれば、高いミ
スト除去率が得られる。入口速度が大きくなるほどミス
ト除去率は増大するが圧損は大きくなる。サイクロンの
材質としては、耐食性が優れた塩化ビニル，アクリルな
どが好ましい。
を用いて気流中の小さな固体粒子や液滴を除去する装置
である。サイクロン式の分離装置の概略図を図２Ａと図
２Ｂに示す。図２Ａは平面図、図２Ｂは側面の断面図で
ある。このサイクロン式のミスト分離装置２１は、ミス
トを含んだ気体がガス入口２２から高速度でサイクロン
内部に導入される。サイクロン内部に導入されたミスト
は遠心力により外側に放出されて円筒の内壁２３にあた
る。内壁２３にあたったミストは下部の液排出口２４か
ら排出される。ミストが除かれた気体は上昇し内筒２６
を通って上部のガス排出口から抜ける。内筒２６を通り
抜けたガスに含まれる液は、液排出口２５から排出され
る。サイクロンの大きさ（内壁２３の最大径部分の大き
さ）は、除去する液滴の粒径によって決めるのがよい。
ガス入口２２の内径が小さく、ガスの入口速度が大きい
と遠心力が大きくなり、小さいミストを除去できる。例
えば１μｍ程度のミストを捕集するには、ガス入口の半
径を１cm程度、入口ガス速度を２０ｍ／sec 程度にする
のがよい。サイクロンの入口ガス流速は１０〜３０ｍ／
sec にすることが望ましい。この範囲にすれば、高いミ
スト除去率が得られる。入口速度が大きくなるほどミス
ト除去率は増大するが圧損は大きくなる。サイクロンの
材質としては、耐食性が優れた塩化ビニル，アクリルな
どが好ましい。
【００１３】フィルタ式のミスト分離装置は、細かい細
孔（ポア）を有するフィルタを用いることによってガス
流れ中のミストを捕獲するものである。フィルタ式ミス
ト分離装置の概略図を図３に示す。図３は、孔径が異な
る２枚のフィルタ３２，３３を重ね合せた例を示してい
る。このフィルタ式ミスト分離装置３０は、筒内のほぼ
中央部にフィルタ３２，３３を設け、ガスを下部より導
入し、上部から排出するようにしたものである。フィル
タ３２，３３はパッキン３４，フランジ３５によって筒
に固定されている。フィルタを通り抜けたガスに同伴す
る液は、液排出口３６から筒外へ排出される。
孔（ポア）を有するフィルタを用いることによってガス
流れ中のミストを捕獲するものである。フィルタ式ミス
ト分離装置の概略図を図３に示す。図３は、孔径が異な
る２枚のフィルタ３２，３３を重ね合せた例を示してい
る。このフィルタ式ミスト分離装置３０は、筒内のほぼ
中央部にフィルタ３２，３３を設け、ガスを下部より導
入し、上部から排出するようにしたものである。フィル
タ３２，３３はパッキン３４，フランジ３５によって筒
に固定されている。フィルタを通り抜けたガスに同伴す
る液は、液排出口３６から筒外へ排出される。
【００１４】フィルタでのガス速度が５〜２５cm／sec
の場合、１μｍのミストを除去するには２５０μｍ以下
のポアサイズのフィルタを使用することが好ましく、特
に１６０μｍ以下のフィルタを使用することが好まし
い。フィルタを用いる場合でも、ポアサイズが大きいと
ミストの除去率が低下し、小さいと除去率は高いが圧損
が大きくなる。フィルタの材質は、市販されているガラ
ス製のものでよいが、ガス中にＨＦなどの酸性ガスが含
まれる場合には、セラミックス製のものが好ましい。フ
ィルタを使用する場合は、排ガス洗浄塔内に設置するこ
ともできる。たとえばスプレー式洗浄塔のスプレーノズ
ルよりも上方にフィルタを設置し、洗浄されたガスに含
まれるミストを除去する。
の場合、１μｍのミストを除去するには２５０μｍ以下
のポアサイズのフィルタを使用することが好ましく、特
に１６０μｍ以下のフィルタを使用することが好まし
い。フィルタを用いる場合でも、ポアサイズが大きいと
ミストの除去率が低下し、小さいと除去率は高いが圧損
が大きくなる。フィルタの材質は、市販されているガラ
ス製のものでよいが、ガス中にＨＦなどの酸性ガスが含
まれる場合には、セラミックス製のものが好ましい。フ
ィルタを使用する場合は、排ガス洗浄塔内に設置するこ
ともできる。たとえばスプレー式洗浄塔のスプレーノズ
ルよりも上方にフィルタを設置し、洗浄されたガスに含
まれるミストを除去する。
【００１５】電気集塵装置は、ガスを強度の電場中に流
し帯電させて反対の電極部分にミストを集める装置であ
る。電気集塵装置の概略図を図４に示す。この電気集塵
装置４０は、上下に配置された放電極支持棒４１，４２
によって放電極４４を支持し、放電極に対向して円筒状
の集塵極４３を設けたものである。放電極と集塵極は高
電圧電源４５に接続されている。被処理ガスは、下部の
ガス入口から入り上部へ抜ける。又、ガス中より分離さ
れた液は液排出口４６から排出される。電気集塵装置の
場合、８ｋＶ以上の電圧をかけることが望ましい。ま
た、電極部にミストが付着しないように空気等を流すこ
とが望ましい。ミストが電極に付着すると、短絡によっ
て電圧が上がらない。電気集塵の電極にはタングステン
線，ＳＵＳ線などが使用可能である。
し帯電させて反対の電極部分にミストを集める装置であ
る。電気集塵装置の概略図を図４に示す。この電気集塵
装置４０は、上下に配置された放電極支持棒４１，４２
によって放電極４４を支持し、放電極に対向して円筒状
の集塵極４３を設けたものである。放電極と集塵極は高
電圧電源４５に接続されている。被処理ガスは、下部の
ガス入口から入り上部へ抜ける。又、ガス中より分離さ
れた液は液排出口４６から排出される。電気集塵装置の
場合、８ｋＶ以上の電圧をかけることが望ましい。ま
た、電極部にミストが付着しないように空気等を流すこ
とが望ましい。ミストが電極に付着すると、短絡によっ
て電圧が上がらない。電気集塵の電極にはタングステン
線，ＳＵＳ線などが使用可能である。
【００１６】活性炭吸着装置は、ミストを活性炭上へ吸
着させる方式である。活性炭吸着装置の概略図を図５に
示す。図５の活性炭吸着装置は、活性炭５９を充填した
２つの吸着・再生塔５１，５２を有し、一方が吸着過程
にあるときに他方が再生過程にあるようにされる。吸着
時には、ガスは活性炭５９の下方から吸着・再生塔内に
入り、活性炭を通り抜けて上部へ抜ける。再生時には、
水１０を注入口５３より塔内に供給し、活性炭に附着し
ているミストを洗い流して液排出口５４より塔外に排出
する。その後、活性炭を乾燥するために、吸気口５５か
ら空気を塔内に供給し、吸気ブロア５７により排気口５
６から抜き出して排気５８する。活性炭層でのガスの空
間速度は、３００〜４００ｈ-1が好ましい。処理ガス流
量が７５ｌ／min 程度の場合、１０〜１５Ｌ程度の活性
炭で十分である。活性炭の再生のために流す水は、常に
流しておいてもよいし、或いは塔内に水を溜めておいて
活性炭の再生時に流すようにしてもよい。ミストがＳＯ
3 等を含む場合は、活性炭上に硫酸が吸着する。この活
性炭の再生処理で使用した水には硫酸が溶け込むが、Ｓ
Ｏ2 を吸収することができるため、排ガス洗浄塔へ戻す
ことができる。ただし、ｐＨが下がるとＳＯ2 を吸収で
きなくなるので、ｐＨの管理が要求される。サイクロ
ン，フィルタ等のミスト除去装置によってミストを除去
する場合には、ミスト除去装置に導入されるガスの流量
管理も重要である。ＰＦＣ分解装置に導入されるガス量
が減少し、その結果、ミスト除去装置に導入されるガス
の流量が減少する場合には、インリークガスを加えるな
どしてガス流量を所定流量（ミスト分解装置の設計時に
使用した設定流量）に合わせることが望ましい。活性炭
吸着装置の場合は、ガス流量が減っても、接触時間が長
くなるためミスト除去性能は下がらないので、流量管理
は必要ない。
着させる方式である。活性炭吸着装置の概略図を図５に
示す。図５の活性炭吸着装置は、活性炭５９を充填した
２つの吸着・再生塔５１，５２を有し、一方が吸着過程
にあるときに他方が再生過程にあるようにされる。吸着
時には、ガスは活性炭５９の下方から吸着・再生塔内に
入り、活性炭を通り抜けて上部へ抜ける。再生時には、
水１０を注入口５３より塔内に供給し、活性炭に附着し
ているミストを洗い流して液排出口５４より塔外に排出
する。その後、活性炭を乾燥するために、吸気口５５か
ら空気を塔内に供給し、吸気ブロア５７により排気口５
６から抜き出して排気５８する。活性炭層でのガスの空
間速度は、３００〜４００ｈ-1が好ましい。処理ガス流
量が７５ｌ／min 程度の場合、１０〜１５Ｌ程度の活性
炭で十分である。活性炭の再生のために流す水は、常に
流しておいてもよいし、或いは塔内に水を溜めておいて
活性炭の再生時に流すようにしてもよい。ミストがＳＯ
3 等を含む場合は、活性炭上に硫酸が吸着する。この活
性炭の再生処理で使用した水には硫酸が溶け込むが、Ｓ
Ｏ2 を吸収することができるため、排ガス洗浄塔へ戻す
ことができる。ただし、ｐＨが下がるとＳＯ2 を吸収で
きなくなるので、ｐＨの管理が要求される。サイクロ
ン，フィルタ等のミスト除去装置によってミストを除去
する場合には、ミスト除去装置に導入されるガスの流量
管理も重要である。ＰＦＣ分解装置に導入されるガス量
が減少し、その結果、ミスト除去装置に導入されるガス
の流量が減少する場合には、インリークガスを加えるな
どしてガス流量を所定流量（ミスト分解装置の設計時に
使用した設定流量）に合わせることが望ましい。活性炭
吸着装置の場合は、ガス流量が減っても、接触時間が長
くなるためミスト除去性能は下がらないので、流量管理
は必要ない。
【００１７】以下、図面を用いて、本発明の実施態様を
説明する。但し、本発明は、以下に述べるものに限定さ
れるわけではない。
説明する。但し、本発明は、以下に述べるものに限定さ
れるわけではない。
【００１８】図１は、半導体のエッチング炉に本発明の
処理装置を敷設した例を示している。
処理装置を敷設した例を示している。
【００１９】エッチング炉９９では、減圧したエッチン
グ炉内でＳＦ6 などのＰＦＣガス１００によって半導体
ウェハのエッチングが行われる。エッチングが終了した
ならば、炉内を真空ポンプ（図示せず）で吸引してＰＦ
Ｃが排出される。このときに、ポンプの保護のためにポ
ンプにＮ2 を流し、ＰＦＣの濃度を数％に希釈する。
グ炉内でＳＦ6 などのＰＦＣガス１００によって半導体
ウェハのエッチングが行われる。エッチングが終了した
ならば、炉内を真空ポンプ（図示せず）で吸引してＰＦ
Ｃが排出される。このときに、ポンプの保護のためにポ
ンプにＮ2 を流し、ＰＦＣの濃度を数％に希釈する。
【００２０】エッチング炉の排出ガスは、ＰＦＣ分解塔
１に導入する前に、プラスチック等の粒を充填した充填
塔１０１で固形物を除去し、スプレー塔１０２で水溶成
分を除去する。スプレー塔１０２を通過したガスは、予
熱器２でＰＦＣ分解温度まで加熱する。本実施例のＰＦ
Ｃ分解塔１は、ＰＦＣを加水分解する方式のものである
ので、予熱器２には、空気３とイオン交換樹脂１０３を
通した水１０が供給される。水１０は予熱器２で気化さ
れる。予熱器２出口でのＰＦＣの濃度は約0.1〜１％が
望ましく、水蒸気はフッ素化合物のmol 数に対し、２５
〜１００倍となるよう調節されるのが望ましい。空気３
は、反応ガス中における酸素濃度が４％程度になるよう
に添加されるのがよい。これらの混合ガスすなわち反応
ガスは、予熱器２の出口に設置されたＰＦＣ分解塔１に
導入される。本実施例では、PFCがＳＦ6或いはＳＦ6を
含むガスであることを想定して、ＰＦＣ分解塔１にＰＦ
Ｃ分解触媒８と有害成分除去触媒９とが充填してある。
ここでの有害成分とは、ＣＯ，ＳＯ2Ｆ2などである。混
合ガスは、たとえば空間速度１,０００ｈ-1 、反応温度
６５０〜８５０℃の条件で触媒と接触される。なお、空
間速度（ｈ-1）は、反応ガス流量（ｍｌ／ｈ）／触媒量
（ｍｌ）で求められる値である。ＰＦＣ分解塔では、電
気炉などのヒーター６により触媒或いは反応ガスを加熱
するとよい。ＰＦＣ分解塔１を出た分解ガスは、冷却室
１１に導入され、スプレーノズルから噴霧される水１０
によって冷却される。冷却室を通過したガスは、排ガス
洗浄塔１３でＨＦ及び水溶成分を水１０に吸収させるこ
とによって除去し、その後、ミスト除去装置に導入され
る。本実施例では、排ガス洗浄塔１３に吸着剤などの充
填材１２を入れて、ガスと水との接触効率を高めてい
る。また、サイクロン式のミスト分離装置２１を備えて
いる。ミストが除去されたガスは、ブロワ１６で吸引し
て排ガス１７として大気中に放出する。排ガス洗浄塔１
３でＨＦなどを吸収した排水２０は排水タンク１８に溜
められたのち、排水ポンプ１９によって排出される。排
水２０は半導体工場に既設の排液処理設備で無害化して
もよい。また、サイクロンで分離したミストも、排水タ
ンクに溜めるようにするとよい。
１に導入する前に、プラスチック等の粒を充填した充填
塔１０１で固形物を除去し、スプレー塔１０２で水溶成
分を除去する。スプレー塔１０２を通過したガスは、予
熱器２でＰＦＣ分解温度まで加熱する。本実施例のＰＦ
Ｃ分解塔１は、ＰＦＣを加水分解する方式のものである
ので、予熱器２には、空気３とイオン交換樹脂１０３を
通した水１０が供給される。水１０は予熱器２で気化さ
れる。予熱器２出口でのＰＦＣの濃度は約0.1〜１％が
望ましく、水蒸気はフッ素化合物のmol 数に対し、２５
〜１００倍となるよう調節されるのが望ましい。空気３
は、反応ガス中における酸素濃度が４％程度になるよう
に添加されるのがよい。これらの混合ガスすなわち反応
ガスは、予熱器２の出口に設置されたＰＦＣ分解塔１に
導入される。本実施例では、PFCがＳＦ6或いはＳＦ6を
含むガスであることを想定して、ＰＦＣ分解塔１にＰＦ
Ｃ分解触媒８と有害成分除去触媒９とが充填してある。
ここでの有害成分とは、ＣＯ，ＳＯ2Ｆ2などである。混
合ガスは、たとえば空間速度１,０００ｈ-1 、反応温度
６５０〜８５０℃の条件で触媒と接触される。なお、空
間速度（ｈ-1）は、反応ガス流量（ｍｌ／ｈ）／触媒量
（ｍｌ）で求められる値である。ＰＦＣ分解塔では、電
気炉などのヒーター６により触媒或いは反応ガスを加熱
するとよい。ＰＦＣ分解塔１を出た分解ガスは、冷却室
１１に導入され、スプレーノズルから噴霧される水１０
によって冷却される。冷却室を通過したガスは、排ガス
洗浄塔１３でＨＦ及び水溶成分を水１０に吸収させるこ
とによって除去し、その後、ミスト除去装置に導入され
る。本実施例では、排ガス洗浄塔１３に吸着剤などの充
填材１２を入れて、ガスと水との接触効率を高めてい
る。また、サイクロン式のミスト分離装置２１を備えて
いる。ミストが除去されたガスは、ブロワ１６で吸引し
て排ガス１７として大気中に放出する。排ガス洗浄塔１
３でＨＦなどを吸収した排水２０は排水タンク１８に溜
められたのち、排水ポンプ１９によって排出される。排
水２０は半導体工場に既設の排液処理設備で無害化して
もよい。また、サイクロンで分離したミストも、排水タ
ンクに溜めるようにするとよい。
【００２１】ＰＦＣ分解触媒８には、例えばＡｌと、Ｚ
ｎ，Ｎｉ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｚｒ，Ｃｅ，Ｓ
ｉ，Ｐｔ，Ｐｄのうちから選ばれた少なくとも１種とを
含む触媒を用いることができるが、これらに限定される
ものではない。これらのＰＦＣ分解触媒は、酸化物，金
属，複合酸化物等の形で用いることができる。Ａｌ2Ｏ3
と、Ｎｉ，Ｚｎ，Ｔｉの少なくとも１種とからなる触媒
は、高い分解性能を有しており、非常に好ましい。
ｎ，Ｎｉ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｚｒ，Ｃｅ，Ｓ
ｉ，Ｐｔ，Ｐｄのうちから選ばれた少なくとも１種とを
含む触媒を用いることができるが、これらに限定される
ものではない。これらのＰＦＣ分解触媒は、酸化物，金
属，複合酸化物等の形で用いることができる。Ａｌ2Ｏ3
と、Ｎｉ，Ｚｎ，Ｔｉの少なくとも１種とからなる触媒
は、高い分解性能を有しており、非常に好ましい。
【００２２】洗浄塔としては、水あるいはアルカリ水溶
液をスプレーする方式、これらの液中に分解生成ガスを
バブリングする方式或いは洗浄塔内に吸着剤或いはＫＯ
Ｈ，ＮａＯＨ，Ｃａ(ＯＨ)2，Ｍｇ(ＯＨ)2などのアルカ
リ性の固体を充填して分解ガスを補足する方式のものな
どがいずれも適用可能である。これらの中では、スプレ
ー方式の洗浄塔が、効率が高く、洗浄塔内で結晶析出な
どによる閉塞が起こりにくいので最も好ましい。
液をスプレーする方式、これらの液中に分解生成ガスを
バブリングする方式或いは洗浄塔内に吸着剤或いはＫＯ
Ｈ，ＮａＯＨ，Ｃａ(ＯＨ)2，Ｍｇ(ＯＨ)2などのアルカ
リ性の固体を充填して分解ガスを補足する方式のものな
どがいずれも適用可能である。これらの中では、スプレ
ー方式の洗浄塔が、効率が高く、洗浄塔内で結晶析出な
どによる閉塞が起こりにくいので最も好ましい。
【００２３】洗浄塔からの排気ラインには、腐食性ガス
が流れるので、塩化ビニール或いはアクリル樹脂などの
ように耐食性が高い材質の物で作るか、或いはこれらの
材質を内面にコーテイングしたもので作ることが望まし
い。排気ブロアも同様である。
が流れるので、塩化ビニール或いはアクリル樹脂などの
ように耐食性が高い材質の物で作るか、或いはこれらの
材質を内面にコーテイングしたもので作ることが望まし
い。排気ブロアも同様である。
【００２４】（実施例１）図１のＰＦＣ処理装置から、
エッチング炉９９，充填塔１０１，スプレー塔１０２を
除いたもので、ＳＦ6 の処理を行った。ＳＦ6 に窒素を
添加してＳＦ6の濃度を約５０００ppm に希釈した。こ
の希釈ガスに、空気３を添加し、予熱器２で加温した。
水蒸気はイオン交換水を理論量の３３〜３７倍となるよ
う予熱器２に導入して気化させた。このようにして調整
した反応ガスを、ヒーター６により加熱されているＰＦ
Ｃ分解塔１に導入し、ＳＦ6 分解触媒及びＳＯ2Ｆ2分解
触媒と接触させた。ＳＦ6 分解触媒には、ＮｉとＡｌ2
Ｏ3からなる触媒を用い、ＳＯ2Ｆ2分解触媒にはＰｄと
Ｌａ及びＡｌ2Ｏ3からなる触媒を用いた。これらの触媒
の温度は７００〜８００℃に保持した。反応ガスの空間
速度は１０００ｈ-1とした。排ガス洗浄塔を出たガス
は、入口速度が約２０ｍ／sec の条件で、内径（最大径
部分）２４mm，高さ１１１mmのサイクロン式のミスト分
離装置２１に導入した。サイクロン式ミスト分離装置に
は、図２Ａ及び図２Ｂに示す構造のものを使用した。液
排出口２４の内径は１４mmである。排気ブロワのインペ
ラ部分はエポキシ系の耐食性材質でコーティングした。
エッチング炉９９，充填塔１０１，スプレー塔１０２を
除いたもので、ＳＦ6 の処理を行った。ＳＦ6 に窒素を
添加してＳＦ6の濃度を約５０００ppm に希釈した。こ
の希釈ガスに、空気３を添加し、予熱器２で加温した。
水蒸気はイオン交換水を理論量の３３〜３７倍となるよ
う予熱器２に導入して気化させた。このようにして調整
した反応ガスを、ヒーター６により加熱されているＰＦ
Ｃ分解塔１に導入し、ＳＦ6 分解触媒及びＳＯ2Ｆ2分解
触媒と接触させた。ＳＦ6 分解触媒には、ＮｉとＡｌ2
Ｏ3からなる触媒を用い、ＳＯ2Ｆ2分解触媒にはＰｄと
Ｌａ及びＡｌ2Ｏ3からなる触媒を用いた。これらの触媒
の温度は７００〜８００℃に保持した。反応ガスの空間
速度は１０００ｈ-1とした。排ガス洗浄塔を出たガス
は、入口速度が約２０ｍ／sec の条件で、内径（最大径
部分）２４mm，高さ１１１mmのサイクロン式のミスト分
離装置２１に導入した。サイクロン式ミスト分離装置に
は、図２Ａ及び図２Ｂに示す構造のものを使用した。液
排出口２４の内径は１４mmである。排気ブロワのインペ
ラ部分はエポキシ系の耐食性材質でコーティングした。
【００２５】サイクロン式ミスト分離装置の前後におけ
るガス中のＳＯ3 濃度を測定し、ミスト除去率を算出し
た。なお、ＳＯ3 濃度は、液体捕集法で測定したＳＯｘ
濃度から、ガスクロマトグラフで測定したＳＯ2 濃度を
差し引いた値とした。その結果、ミスト分離装置の手前
ではＳＯ3 濃度が１５３ppm であったものが、ミスト分
離装置通過後は３０ppm になり、８０％のミストが除去
された。試験後１日放置して排気ブロワ１６を解体した
が腐食は認められなかった。
るガス中のＳＯ3 濃度を測定し、ミスト除去率を算出し
た。なお、ＳＯ3 濃度は、液体捕集法で測定したＳＯｘ
濃度から、ガスクロマトグラフで測定したＳＯ2 濃度を
差し引いた値とした。その結果、ミスト分離装置の手前
ではＳＯ3 濃度が１５３ppm であったものが、ミスト分
離装置通過後は３０ppm になり、８０％のミストが除去
された。試験後１日放置して排気ブロワ１６を解体した
が腐食は認められなかった。
【００２６】試験に供した触媒の調製法は、以下のとお
りである。
りである。
【００２７】Ｎｉ含有Ａｌ2Ｏ3触媒：市販のベーマイト
粉末を１２０℃で１時間乾燥した。この乾燥粉末２００
ｇに、硝酸ニッケル６水和物２１０.８２ｇ を溶かした
水溶液を添加し、混練した。混練後、２５０〜３００℃
で約２時間乾燥し、７００℃で２時間焼成した。焼成物
を粉砕、篩い分けして０.５−１mm粒径とした。完成後
の触媒組成は原子比でＡｌ：Ｎｉ＝８０：２０（mol
％）であった。
粉末を１２０℃で１時間乾燥した。この乾燥粉末２００
ｇに、硝酸ニッケル６水和物２１０.８２ｇ を溶かした
水溶液を添加し、混練した。混練後、２５０〜３００℃
で約２時間乾燥し、７００℃で２時間焼成した。焼成物
を粉砕、篩い分けして０.５−１mm粒径とした。完成後
の触媒組成は原子比でＡｌ：Ｎｉ＝８０：２０（mol
％）であった。
【００２８】Ｐｄ，Ｌａ含有Ａｌ2Ｏ3触媒：市販の２−
４mm粒径の粒状Ａｌ2Ｏ3(住友化学製，ＮＫＨＤ−２
４）を０.５−１mmに破砕し、１２０℃で１ｈ乾燥し
た。その後、硝酸ランタン６水和物を溶かした水溶液を
Ｌａ2Ｏ3重量が１０ｗｔ％となるよう含浸した。即ち、
Ａｌ2Ｏ3１００ｇに、硝酸ランタン６水和物２６.８４
ｇ を純水に溶かして含浸した後、１２０℃で２時間乾
燥し、焼成した。これをＬａ含有Ａｌ2Ｏ3とする。焼成
後のＬａ含有Ａｌ2Ｏ3に、硝酸パラジウム溶液をＰｄ重
量が０.５ｗｔ％ となるよう含浸した。具体的には、Ｌ
ａ含有Ａｌ2Ｏ3１００ｇに対し、４.４３９ｗｔ％ 硝酸
パラジウム溶液１１.２６ｇ を純水に溶かして含浸し
た。含浸後、１２０℃で２時間乾燥し、焼成した。
４mm粒径の粒状Ａｌ2Ｏ3(住友化学製，ＮＫＨＤ−２
４）を０.５−１mmに破砕し、１２０℃で１ｈ乾燥し
た。その後、硝酸ランタン６水和物を溶かした水溶液を
Ｌａ2Ｏ3重量が１０ｗｔ％となるよう含浸した。即ち、
Ａｌ2Ｏ3１００ｇに、硝酸ランタン６水和物２６.８４
ｇ を純水に溶かして含浸した後、１２０℃で２時間乾
燥し、焼成した。これをＬａ含有Ａｌ2Ｏ3とする。焼成
後のＬａ含有Ａｌ2Ｏ3に、硝酸パラジウム溶液をＰｄ重
量が０.５ｗｔ％ となるよう含浸した。具体的には、Ｌ
ａ含有Ａｌ2Ｏ3１００ｇに対し、４.４３９ｗｔ％ 硝酸
パラジウム溶液１１.２６ｇ を純水に溶かして含浸し
た。含浸後、１２０℃で２時間乾燥し、焼成した。
【００２９】［比較例］実施例１においてミスト分離装
置を用いず、またブロワのコーティングを除いた状態で
同様の実験を行った。その結果、ブロワ内にミストが入
り、吸排気口にＳＯ3 が溶け込んだ酸性水が溜まった。
試験を終了し、１日放置したところ、ブロワに腐食生成
物が発生し、ガス流路の閉塞が見られた。また腐食生成
物が固着しブロワが起動しなくなった。
置を用いず、またブロワのコーティングを除いた状態で
同様の実験を行った。その結果、ブロワ内にミストが入
り、吸排気口にＳＯ3 が溶け込んだ酸性水が溜まった。
試験を終了し、１日放置したところ、ブロワに腐食生成
物が発生し、ガス流路の閉塞が見られた。また腐食生成
物が固着しブロワが起動しなくなった。
【００３０】（実施例２）実施例１において、ミスト分
離装置に図３に示すフィルター式のものを用いて同様の
実験を行った。フィルタ式ミスト分離装置は、筒の内径
が７９mm，高さが５００mmの円筒型のものであり、その
ほぼ中心（２５０mmの高さ）にフランジを設けフィルタ
３２，３３を設置した。使用したフィルタは市販のガラ
ス製で、細孔の径が１００〜１６０μｍのフィルタ３２
と孔径が１６０〜２５０μｍのフィルタ３３の２枚を重
ねた。フィルタの厚さは２枚合わせて１０mmである。フ
ィルタ部のガス速度は２４cm／sec とした。この結果、
ミスト分離装置に入る前のＳＯ3 濃度は１３８ppmであ
ったものが、ミスト分離装置通過後は１６ppmになり、
ミスト除去率は８８％になった。試験後、１日放置して
排気ブロワを解体したが、腐食は認められなかった。
離装置に図３に示すフィルター式のものを用いて同様の
実験を行った。フィルタ式ミスト分離装置は、筒の内径
が７９mm，高さが５００mmの円筒型のものであり、その
ほぼ中心（２５０mmの高さ）にフランジを設けフィルタ
３２，３３を設置した。使用したフィルタは市販のガラ
ス製で、細孔の径が１００〜１６０μｍのフィルタ３２
と孔径が１６０〜２５０μｍのフィルタ３３の２枚を重
ねた。フィルタの厚さは２枚合わせて１０mmである。フ
ィルタ部のガス速度は２４cm／sec とした。この結果、
ミスト分離装置に入る前のＳＯ3 濃度は１３８ppmであ
ったものが、ミスト分離装置通過後は１６ppmになり、
ミスト除去率は８８％になった。試験後、１日放置して
排気ブロワを解体したが、腐食は認められなかった。
【００３１】（実施例３）ミスト除去装置に図４に示す
構造の電気集塵装置を用いて、実施例１と同様の実験を
行った。
構造の電気集塵装置を用いて、実施例１と同様の実験を
行った。
【００３２】電気集塵装置は、内径４５mmの塩化ビニル
製円筒内に、内径３５mm，長さ110mmのパイプ状のＳＵ
Ｓ製集塵極を置いた。また、直径０.１４８mm のタング
ステン製放電極を円筒の中心に設置した。放電極は、直
径３mmのＳＵＳ製放電極支持棒を用いて上下で支えた。
直流高電圧電源（１０ｋＶ，１００μＡ）を、放電極及
び集塵極につないだ。
製円筒内に、内径３５mm，長さ110mmのパイプ状のＳＵ
Ｓ製集塵極を置いた。また、直径０.１４８mm のタング
ステン製放電極を円筒の中心に設置した。放電極は、直
径３mmのＳＵＳ製放電極支持棒を用いて上下で支えた。
直流高電圧電源（１０ｋＶ，１００μＡ）を、放電極及
び集塵極につないだ。
【００３３】電圧を８ｋＶとして、実施例１と同様にＳ
Ｆ6 の分解処理を行った結果、洗浄塔出口のＳＯ3 濃度
は１４０ppmであったものが、電気集塵装置出口では４
２ppmになり、ミスト除去率は７０％であった。試験
後、１日放置して排気ブロワを解体したが、腐食は認め
られなかった。
Ｆ6 の分解処理を行った結果、洗浄塔出口のＳＯ3 濃度
は１４０ppmであったものが、電気集塵装置出口では４
２ppmになり、ミスト除去率は７０％であった。試験
後、１日放置して排気ブロワを解体したが、腐食は認め
られなかった。
【００３４】（実施例４）ミスト除去装置に図５に示す
２塔式の活性炭吸着装置を使用して実施例１と同様の実
験を行った。
２塔式の活性炭吸着装置を使用して実施例１と同様の実
験を行った。
【００３５】吸着・再生塔は、円筒型で内径が２００m
m，高さが１０００ｍのものである。活性炭層での空間
速度は４５０ｈ-1とした。この結果、洗浄塔出口のＳＯ
3 濃度は１４８ppmであったものが、吸着装置出口では
３３ppmになり、ミスト除去率は７８％であった。試験
後、１日放置して排気ブロワを解体したが、腐食は認め
られなかった。
m，高さが１０００ｍのものである。活性炭層での空間
速度は４５０ｈ-1とした。この結果、洗浄塔出口のＳＯ
3 濃度は１４８ppmであったものが、吸着装置出口では
３３ppmになり、ミスト除去率は７８％であった。試験
後、１日放置して排気ブロワを解体したが、腐食は認め
られなかった。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、ＰＦＣガスの処理にお
いて、分解ガス洗浄塔の後流に設けられた排気管或いは
排気ブロアが腐食されるのを抑制することができる。
いて、分解ガス洗浄塔の後流に設けられた排気管或いは
排気ブロアが腐食されるのを抑制することができる。
【図１】本発明のＰＦＣ処理装置を半導体エッチング炉
に敷設した例を示す概略図。
に敷設した例を示す概略図。
【図２】サイクロン式ミスト分離装置を示すもので、図
２Ａは平面図、図２Ｂは側面の断面図。
２Ａは平面図、図２Ｂは側面の断面図。
【図３】フィルタ式ミスト分離装置の概略断面図。
【図４】ミスト分離に使用される電気集塵装置の概略
図。
図。
【図５】ミスト分離に使用される活性炭吸着装置の概略
図。
図。
１…ＰＦＣ分解塔、１３…排ガス洗浄塔、２１…サイク
ロン式ミスト分離装置、３０…フィルタ式ミスト分離装
置、４０…電気集塵装置、５１…吸着・再生塔。
ロン式ミスト分離装置、３０…フィルタ式ミスト分離装
置、４０…電気集塵装置、５１…吸着・再生塔。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 23/755 (72)発明者 宮本 知彦 茨城県日立市大みか町七丁目２番１号 株 式会社日立製作所電力・電機開発研究所内 (72)発明者 玉田 慎 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所日立事業所内 (72)発明者 芝野 芳樹 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所日立事業所内 (72)発明者 小室 武勇 茨城県日立市大みか町七丁目２番１号 株 式会社日立製作所電力・電機開発研究所内 (72)発明者 雪竹 次太 茨城県日立市大みか町七丁目２番１号 株 式会社日立製作所電力・電機開発研究所内 (72)発明者 河崎 照文 茨城県日立市大みか町七丁目２番１号 株 式会社日立製作所電力・電機開発研究所内 Ｆターム(参考） 4D002 AA22 AB03 AC07 AC10 DA70 EA05 4D048 AA11 AB01 AB03 BA03X BA03Y BA06Y BA07Y BA08Y BA16Y BA18X BA19Y BA21Y BA30Y BA31X BA31Y BA36Y BA37Y BA38X BA38Y BA39X BA39Y BA41X BA41Y BA42Y BB01 BD01 CA03 CC38 CC46 CC52 CD02 CD05 CD08 CD10 EA07 4G069 AA03 BA01B BB02B BB04B BC16B BC42B BC68B BC72B CA02 CA10 CA19 DA06 EA01Y
Claims (10)
- 【請求項１】ＰＦＣガスの分解により生じたガスを洗浄
したのち排気するようにしたＰＦＣガスの処理方法にお
いて、前記洗浄後のガスに含まれるミストを分離したの
ち排気するようにしたことを特徴とするＰＦＣガスの処
理方法。 - 【請求項２】ＰＦＣガスを分解し、分解により生じたガ
スを洗浄したのち排気するようにしたＰＦＣガスの処理
方法において、前記洗浄後のガス中からミストを除去し
たのち排気するようにしたことを特徴とするＰＦＣガス
の処理方法。 - 【請求項３】ＰＦＣを加水分解，酸化分解，燃焼及び熱
分解から選ばれた何れかの方法によって分解するＰＦＣ
分解工程と、該ＰＦＣ分解工程で生じたガスに水とアル
カリ水溶液の少なくとも一方を接触させて該ガスを洗浄
する洗浄工程とを有するPFCガスの処理方法において、
前記洗浄後のガス中に含まれるミストを除去するミスト
除去工程を有することを特徴とするＰＦＣガスの処理方
法。 - 【請求項４】ＰＦＣを窒素で希釈した希釈ガスを空気と
水の存在下で分解触媒に接触させて該ＰＦＣを分解する
ＰＦＣ分解工程と、該分解工程で得られたガスに水とア
ルカリ水溶液の少なくとも一方を接触させて該ガスを洗
浄する洗浄工程とを有するＰＦＣガスの処理方法におい
て、前記洗浄後のガス中からミストを分離するミスト分
離工程を有することを特徴とするＰＦＣガスの処理方
法。 - 【請求項５】ＰＦＣの分解ガスに水とアルカリ水溶液の
少なくとも一方を散布するガス洗浄塔と、該ガス洗浄塔
で洗浄されたガスを排気する排気ブロアとを有するＰＦ
Ｃガスの処理装置において、前記洗浄塔で洗浄されたガ
スよりミストを分離するミスト分離装置を備えたことを
特徴とするＰＦＣガスの処理装置。 - 【請求項６】ＰＦＣを弗化水素を含むガスに分解する分
解装置と、該分解装置で得られたガスに水とアルカリ水
溶液の少なくとも一方を接触させる分解ガス洗浄装置と
を具備するＰＦＣガスの処理装置において、前記洗浄装
置で洗浄されたガスからミストを分離するミスト除去装
置を備えたことを特徴とするＰＦＣ処理装置。 - 【請求項７】ＰＦＣを加水分解と酸化分解と燃焼及び熱
分解のいずれかによって分解する方式の分解塔と、該分
解塔で得られたガスに水とアルカリ水溶液の少なくとも
一方を接触させるガス洗浄塔と、該ガス洗浄塔で洗浄さ
れたガスを塔外に排気するブロアとを具備するＰＦＣガ
スの処理装置において、前記洗浄塔で洗浄されたガスが
前記ブロアに到達する前の位置に該ガスからミストを分
離するミスト除去装置を設けたことを特徴とするＰＦＣ
ガスの処理装置。 - 【請求項８】ＰＦＣ分解触媒が充填された反応塔を有
し、該反応塔に窒素によって希釈されたＰＦＣ含有ガス
と水と空気とが導入されてＰＦＣの加水分解反応が生じ
るようにされた触媒反応塔と、 該触媒反応塔でＰＦＣが分解されることによって生じた
ガスに水とアルカリ水溶液の少なくとも一方を接触させ
るガス洗浄塔と、 該ガス洗浄塔で洗浄されたガスを塔外に排気する排気ブ
ロワとを備えたＰＦＣガスの処理装置において、 前記ガス洗浄塔で洗浄されたガスからミストを分離する
ミスト分離装置を前記排気ブロワよりも前段に備えたこ
とを特徴とするＰＦＣガスの処理装置。 - 【請求項９】請求項５に記載のＰＦＣガスの処理装置に
おいて、前記ミスト分離装置が、ガス中に含まれるミス
トが遠心力によって分離されるように構成されたサイク
ロン式のミスト分離装置よりなることを特徴とするＰＦ
Ｃガスの処理装置。 - 【請求項１０】請求項５に記載のＰＦＣガスの処理装置
において、前記ミスト分離装置が、孔径の異なる複数枚
のフィルタが重ね合わされ、該フィルタによりガス中に
含まれるミストが分離されるようにしたフィルタ式分離
装置からなることを特徴とするＰＦＣガスの処理装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33546899A JP3994605B2 (ja) | 1999-11-26 | 1999-11-26 | Ｐｆｃガスの処理方法及び処理装置 |
| KR1020000047087A KR100821452B1 (ko) | 1999-11-26 | 2000-08-16 | Ｐｆｃ 가스의 처리 방법 및 처리 장치 |
| EP00125243A EP1103297B1 (en) | 1999-11-26 | 2000-11-23 | Method and apparatus for treating perfluorocompound gas |
| EP06014586A EP1775012A3 (en) | 1999-11-26 | 2000-11-23 | Method and apparatus for treating perflourocompound gas |
| DE60033486T DE60033486T2 (de) | 1999-11-26 | 2000-11-23 | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Perfluorverbindungen enthaltenden Gasen |
| US10/137,449 US7285250B2 (en) | 1999-11-26 | 2002-05-03 | Apparatus for treating perfluorocompound gas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33546899A JP3994605B2 (ja) | 1999-11-26 | 1999-11-26 | Ｐｆｃガスの処理方法及び処理装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007147612A Division JP2007307556A (ja) | 2007-06-04 | 2007-06-04 | Ｐｆｃガスの処理方法及び処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001149749A true JP2001149749A (ja) | 2001-06-05 |
| JP3994605B2 JP3994605B2 (ja) | 2007-10-24 |
Family
ID=18288908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33546899A Expired - Fee Related JP3994605B2 (ja) | 1999-11-26 | 1999-11-26 | Ｐｆｃガスの処理方法及び処理装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7285250B2 (ja) |
| EP (2) | EP1103297B1 (ja) |
| JP (1) | JP3994605B2 (ja) |
| KR (1) | KR100821452B1 (ja) |
| DE (1) | DE60033486T2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006130499A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-05-25 | Japan Pionics Co Ltd | 排ガスの処理方法及び処理装置 |
| JP2008246485A (ja) * | 2008-06-10 | 2008-10-16 | Hitachi Ltd | 過弗化物処理装置 |
| KR100978350B1 (ko) | 2008-04-08 | 2010-08-26 | (주)이에이앤지 | 과불화화합물 가스 처리용 고온 스크러버 |
| JP2019527129A (ja) * | 2016-08-02 | 2019-09-26 | 株式会社エコプロＥｃｏｐｒｏ Ｃｏ． Ｌｔｄ． | 窒素酸化物、クロロフルオロカーボン類、ヒドロクロロフルオロカーボン類、ヒドロフルオロカーボン類、及び過フッ化化合物を含む複合廃ガスの統合処理システム |
| JP7191056B2 (ja) | 2017-07-07 | 2022-12-16 | 鑑鋒國際股▲ふん▼有限公司 | ガス状汚染物の分解・酸化をコントロールする装置及びシステム |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6602323B2 (en) | 2001-03-21 | 2003-08-05 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for reducing PFC emission during semiconductor manufacture |
| JP4454176B2 (ja) * | 2001-04-20 | 2010-04-21 | Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 | Ｐｆｃガス燃焼除害装置及びｐｆｃガス燃焼除害方法 |
| WO2002087732A2 (de) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Infineon Technologies Ag | Zentrale verbrennungsanlage zur behandlung pfc-haltiger abluft |
| JP4112845B2 (ja) * | 2001-11-13 | 2008-07-02 | 日本パイオニクス株式会社 | フッ化硫黄の分解処理剤及び分解処理方法 |
| JP4214717B2 (ja) | 2002-05-31 | 2009-01-28 | 株式会社日立製作所 | 過弗化物処理装置 |
| GB0416385D0 (en) * | 2004-07-22 | 2004-08-25 | Boc Group Plc | Gas abatement |
| TWI251301B (en) * | 2004-11-29 | 2006-03-11 | Unimicron Technology Corp | Substrate core and method for fabricating the same |
| US20090155154A1 (en) * | 2007-12-13 | 2009-06-18 | Industrial Technology Research Institute | Apparatus for decomposing suflur-fluorine-containing compound and method thereof |
| US8500888B2 (en) * | 2009-03-16 | 2013-08-06 | J-Power Entech, Inc. | Regeneration tower and dry apparatus for exhaust-gas treatment |
| US8518165B2 (en) * | 2009-03-16 | 2013-08-27 | J—Power Entech, Inc. | Dry exhaust-gas treating apparatus |
| KR20130086925A (ko) * | 2010-06-21 | 2013-08-05 | 에드워즈 가부시키가이샤 | 가스 처리 시스템 |
| CN102151425B (zh) * | 2010-12-08 | 2013-03-27 | 云南大红山管道有限公司 | 一种浓缩池排水操作系统及其控制方法 |
| CN102151415B (zh) * | 2011-01-18 | 2013-07-10 | 大连理工大学 | 低温多效蒸发结晶过滤工艺 |
| CN102151452A (zh) * | 2011-01-27 | 2011-08-17 | 江苏宇达电站辅机阀门制造有限公司 | 静电凝聚型滤袋除尘工艺及设备 |
| CN102151454B (zh) * | 2011-04-09 | 2012-12-05 | 江苏天目环保科技有限公司 | 垃圾焚烧烟气的预处理装置 |
| KR101443346B1 (ko) * | 2013-02-27 | 2014-09-22 | 현대제철 주식회사 | 배가스 처리 장치 |
| CN103207818B (zh) * | 2013-04-23 | 2016-01-13 | 互动在线（北京）科技有限公司 | 一种基于草稿箱的词条编辑备份方法和草稿箱系统 |
| GB2515017B (en) * | 2013-06-10 | 2017-09-20 | Edwards Ltd | Process gas abatement |
| CN104248908B (zh) * | 2014-09-27 | 2017-05-31 | 深圳市鑫鸿发环保设备有限公司 | 一种浓酸雾净化装置 |
| US10375901B2 (en) | 2014-12-09 | 2019-08-13 | Mtd Products Inc | Blower/vacuum |
| TWI589343B (zh) * | 2015-11-26 | 2017-07-01 | Orient Service Co Ltd | Dust filters installed in semiconductor exhaust gas treatment equipment |
| CN105688619A (zh) * | 2016-03-18 | 2016-06-22 | 浙江工业大学 | 一种有害物去除装置及其去除气流中有害物的方法 |
| KR102332213B1 (ko) * | 2019-08-22 | 2021-12-01 | 한국전력공사 | 플라즈마를 이용한 고농도 육불화황(sf6)의 분해 및 후처리 시스템 |
| KR102349738B1 (ko) * | 2020-03-10 | 2022-01-12 | 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 | 니켈계 활성 촉매 제조방법 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4022593A (en) * | 1975-05-05 | 1977-05-10 | Lerner Bernard J | Mist elimination |
| JPS57197023A (en) | 1981-05-28 | 1982-12-03 | Toho Titanium Co Ltd | Treatment of waste gas from chlorinating furnace |
| EP0382986A1 (en) * | 1989-02-13 | 1990-08-22 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Method and apparatus for detoxicating halide of nitrogen or carbon |
| JPH0710334B2 (ja) * | 1991-03-19 | 1995-02-08 | 荏原インフィルコ株式会社 | Ｎｆ３ 排ガス処理方法および装置 |
| GB9116020D0 (en) * | 1991-07-25 | 1991-09-11 | Serck Baker Ltd | Separator |
| JP3278453B2 (ja) | 1992-03-06 | 2002-04-30 | 日本無機株式会社 | ミストフィルタ並びにミスト捕集装置 |
| JPH05277332A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-26 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 吸収塔 |
| JPH08318122A (ja) | 1995-05-25 | 1996-12-03 | Hitachi Ltd | フロン分解排ガスの処理方法 |
| JP3486022B2 (ja) * | 1995-10-16 | 2004-01-13 | ジャパン・エア・ガシズ株式会社 | 排ガス処理装置 |
| JPH10137544A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | Hitachi Ltd | フッ素を含む有機ハロゲン化合物排ガスの処理方法及び装置 |
| US5955037A (en) * | 1996-12-31 | 1999-09-21 | Atmi Ecosys Corporation | Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases |
| JPH10286434A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Ube Ind Ltd | フッ素含有化合物の分解方法 |
| EP1340533B1 (en) * | 1997-06-20 | 2010-06-16 | Hitachi, Ltd. | A method of treatment for decomposing fluorine compounds, and catalyst and apparatus therefor |
| JP3269456B2 (ja) | 1997-06-20 | 2002-03-25 | 株式会社日立製作所 | フッ素含有化合物の分解処理方法、触媒及び分解処理装置 |
| TW550112B (en) * | 1997-11-14 | 2003-09-01 | Hitachi Ltd | Method for processing perfluorocarbon, and apparatus therefor |
| JPH11216455A (ja) | 1998-02-04 | 1999-08-10 | Hitachi Ltd | 廃プリント基板処理装置及びその処理方法 |
| JP3976459B2 (ja) * | 1999-11-18 | 2007-09-19 | 株式会社荏原製作所 | フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置 |
| JP4211227B2 (ja) * | 2001-03-16 | 2009-01-21 | 株式会社日立製作所 | 過弗化物の処理方法及びその処理装置 |
-
1999
- 1999-11-26 JP JP33546899A patent/JP3994605B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-08-16 KR KR1020000047087A patent/KR100821452B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-11-23 EP EP00125243A patent/EP1103297B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-23 DE DE60033486T patent/DE60033486T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-23 EP EP06014586A patent/EP1775012A3/en not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-05-03 US US10/137,449 patent/US7285250B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006130499A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-05-25 | Japan Pionics Co Ltd | 排ガスの処理方法及び処理装置 |
| KR100978350B1 (ko) | 2008-04-08 | 2010-08-26 | (주)이에이앤지 | 과불화화합물 가스 처리용 고온 스크러버 |
| JP2008246485A (ja) * | 2008-06-10 | 2008-10-16 | Hitachi Ltd | 過弗化物処理装置 |
| JP2019527129A (ja) * | 2016-08-02 | 2019-09-26 | 株式会社エコプロＥｃｏｐｒｏ Ｃｏ． Ｌｔｄ． | 窒素酸化物、クロロフルオロカーボン類、ヒドロクロロフルオロカーボン類、ヒドロフルオロカーボン類、及び過フッ化化合物を含む複合廃ガスの統合処理システム |
| JP7191056B2 (ja) | 2017-07-07 | 2022-12-16 | 鑑鋒國際股▲ふん▼有限公司 | ガス状汚染物の分解・酸化をコントロールする装置及びシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE60033486T2 (de) | 2007-06-21 |
| US7285250B2 (en) | 2007-10-23 |
| DE60033486D1 (de) | 2007-04-05 |
| EP1775012A2 (en) | 2007-04-18 |
| EP1103297B1 (en) | 2007-02-21 |
| JP3994605B2 (ja) | 2007-10-24 |
| KR100821452B1 (ko) | 2008-04-10 |
| EP1775012A3 (en) | 2007-07-04 |
| EP1103297A1 (en) | 2001-05-30 |
| US20020122750A1 (en) | 2002-09-05 |
| KR20010067078A (ko) | 2001-07-12 |
| EP1103297A4 (en) | 2001-03-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3994605B2 (ja) | Ｐｆｃガスの処理方法及び処理装置 | |
| US6468490B1 (en) | Abatement of fluorine gas from effluent | |
| JP2002273172A (ja) | 過弗化物の処理方法及びその処理装置 | |
| KR20060053164A (ko) | 배기가스 분해처리장치 | |
| CN109772124A (zh) | 一种烟气脱硫脱硝脱白设备 | |
| JP5017071B2 (ja) | 排ガス処理装置 | |
| US11448409B2 (en) | Device and method for purifying air purification device and method | |
| JP2007307556A (ja) | Ｐｆｃガスの処理方法及び処理装置 | |
| JP2003021315A (ja) | 排ガス除害装置及び方法 | |
| CN110841477A (zh) | 一种煅烧脱硝催化剂的隧道窑的逃逸氨处理装置及其方法 | |
| TW478961B (en) | Method and apparatus for treating perfluorocompound gas | |
| TW201036689A (en) | An apparatus for purifying suspended particles and inorganic gases in gas | |
| KR102392905B1 (ko) | 가스상 오염물질 처리공정 및 이를 이용한 가스상 오염물질 처리방법 | |
| JP4344536B2 (ja) | フッ素回収方法及び装置 | |
| JP4228870B2 (ja) | 触媒式ｐｆｃ分解処理方法及び装置 | |
| CN210845867U (zh) | 一种医药行业有机废气处理系统 | |
| CN112473310A (zh) | 一种废气高效收集装置 | |
| JP3393211B2 (ja) | 空気清浄化方法とその装置 | |
| JPH10156126A (ja) | 排気ガス処理装置 | |
| JP3855158B2 (ja) | プラズマ式ｐｆｃ分解システムおよびｐｆｃ分解方法 | |
| JP2000354733A (ja) | 排ガスの処理方法およびそれを用いた装置 | |
| CN211246083U (zh) | 一种具有废气液分离和静电除尘效果的废气处理设备 | |
| EP4393568A1 (en) | Waste gas treatment apparatus for semiconductor and display processes | |
| JP2006095486A (ja) | フッ素化合物含有ガスの処理方法及び処理装置 | |
| CN214415966U (zh) | 一种沥青防水卷材的涂油净化系统 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050413 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050419 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050620 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060417 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070403 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070604 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070710 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070723 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100810 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100810 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100810 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110810 Year of fee payment: 4 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110810 Year of fee payment: 4 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |