TWI589343B - Dust filters installed in semiconductor exhaust gas treatment equipment - Google Patents

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Description

裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器
本發明涉及粉塵過濾器的結構技術，特別是有關於一種裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器。
周知，在半導體製程中會生成有害廢氣例如單矽烷(SiH4)、氯氣(Cl2)、全氟化合物(PFC)等，為了避免該廢氣對環境造成污染與公害，必須先將該廢氣中之有害物質予以淨化去除，才能夠排放至外界大氣中。
傳統之半導體製程廢氣的處理方式，是將該廢氣注入廢氣處理設備內，先接受廢氣處理設備內高溫火焰燃燒或與高溫氣體結合，而形成高溫廢氣，迫使廢氣中的有害物質接受高溫催化，進而分解成無害的物質，隨後藉由廢氣處理設備內之灑水裝置將廢氣中可溶於水的有害物質例如氟、氯碳化合物等溶於水中，而使廢氣轉換成為無害的氣體，同時冷卻該氣體，以利於排放至外界大氣中，而不會造成環境的污染。通常，在該氣體排放至外界大氣前，還需要透過粉塵過濾器來過濾該氣體，藉此將該氣體中所包含的水分子及粉塵加以除去。
在現有技術中，上述的粉塵過濾器通常是指旋風式過濾器，該旋風式過濾器是透過氣體在過濾器內渦動旋轉所生成之離心力及慣性，且藉由氣體中所含水分子與粉塵兩者之比重均大於氣體之比重的原理，使氣體中的水分子及粉塵與氣體分離，進而達到除去氣體中水分子及粉塵的目的。
然而，由於旋風式過濾器為了取得過濾氣體中水 分子及粉塵的較佳效果，必須配備有鼓風機，並且建構出較具結構複雜度的渦流式導氣通道，以便於利用鼓風機強制驅動氣體迂迴於渦流式導氣通道內，進而過濾氣體中的水分子及粉塵；惟，卻存在旋風式過濾器結構複雜且不易清洗的缺點。
有鑑於此，本發明之目的，旨在改善傳統粉塵過濾器結構過於複雜且不易清洗的問題。
為了解決上述問題，本發明提供一種裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，其技術手段包括：一器殼，其內部形成一提供含藏有水分子及粉塵之氣體通過的腔室；及至少一過濾箱，以能抽取方式植入該腔室內，所述過濾箱內設有用來過濾氣體中水分子及粉塵的多數捕集環及一過濾棉，該氣體依序通過捕集環及過濾棉。
在進一步實施中，本發明還包括：所述捕集環呈環圈狀，且具有一軸心線。其中所述捕集環的環壁向其軸心方向延伸形成有多數舌片。所述舌片係呈波浪狀。
所述多數捕集環係呈交錯之陣列狀排列，且所述多數捕集環的軸心線相互平行。其中所述多數捕集環為雙層式構造，且所述多數捕集環的軸心線排除重疊。
所述過濾箱包含一第一過濾箱及一第二過濾箱，該第一過濾箱及第二過濾箱係間隔配置於腔室內。其中該腔室內還固設有一隔板，該隔板係坐落於第一過濾箱及第二過濾箱之間。
根據上述技術方案，本發明的技術效果在於：使廢氣處理設備內已溶於水中去除有害物質的無害氣體，能直接接受廢氣處理設備內氣體自然排放壓力的導引而通過粉塵過濾器，不需要另外使用鼓風機來強制推動廢氣體流動，並 且能有效的簡化粉塵過濾器的結構；此外，本發明的過濾箱採用可抽取式設計，以便於取出過濾箱，對捕集環及過濾棉進行除塵清潔及清洗的作業，隨後再將已清洗完成的過濾箱植入器殼內，以提升清洗過濾器之方便性。
以上所述之方法與裝置之技術手段及其產生效能的具體實施細節，請參照下列實施例及圖式加以說明。
10‧‧‧器殼
11‧‧‧腔室
12‧‧‧進氣端
13‧‧‧出氣端
14‧‧‧排水口
15‧‧‧開口
16‧‧‧滑軌
17‧‧‧潔淨乾燥空氣噴頭
18‧‧‧壓力偵測計
20‧‧‧過濾箱
21‧‧‧第一過濾箱
22‧‧‧第二過濾箱
23‧‧‧隔板
24‧‧‧蓋板
25‧‧‧導槽
30‧‧‧捕集環
31‧‧‧軸心線
32‧‧‧環壁
33‧‧‧舌片
40‧‧‧過濾棉
50‧‧‧廢氣處理設備
51‧‧‧進氣口
52‧‧‧排氣口
53‧‧‧加熱分解區
54‧‧‧第一水洗區
55‧‧‧第二水洗區
61‧‧‧廢氣
62‧‧‧水
63‧‧‧氣體
圖1是本發明之一較佳實施例的立體分解圖；圖2是圖1組合後的剖示圖；圖3是本發明中捕集環的立體示意圖；圖4是圖3中捕集環堆疊時的立體示意圖；圖5是本發明應用於半導體廢氣處理設備時的剖示圖。
首先，請合併參閱圖1及圖2，揭露本發明之一較佳實施例的態樣，說明本新型所提供裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，包括一器殼10及至少一過濾箱20；其中：該器殼10可以是由金屬板(如不銹鋼板)螺組或焊接而成，該器殼10內形成有一腔室11，而器殼10表面分別形成有連通腔室11的進氣端12與出氣端13，使氣體能經由進氣端12進入腔室11內，然後由出氣端13離開。在本發明中所述氣體係指半導體製程廢氣在接受過加熱及水洗處理後所產生的無害氣體。
所述過濾箱20是植入器殼10的腔室11內，進一步的說，該器殼10一側形成有一開口15，所述過濾箱20能由開口15處植入腔室11內，在具體實施上，該器殼10由開口15處可以設置向腔室11內延伸的滑軌16，所述過濾箱20雙側分別形成有對應滑軌16的導槽25，所述過濾箱20經 由導槽25接受滑軌16的導引而由開口15處植入腔室11內，換句話說，透過上述設計，能便於所述過濾箱20可抽取式的植入腔室11內或由腔室11內取出。
所述過濾箱20一側固定有一蓋板24，該蓋板24 的面域是大於開口15的面域，當過濾箱20植入腔室11內時，透過蓋板24蓋合於開口15，能避免氣體通過開口15與過濾箱20之間所形成的縫隙向外流出，該蓋板24在實施上可以設有把手(未繪示)，能藉由握持該把手便於將過濾箱20植入腔室11內或由腔室11內取出。
所述過濾箱20內在實施上配置有多數個捕集環 30及一過濾棉40，所述捕集環30與過濾棉40在過濾箱20內形成兩道用來過濾氣體中水分子及粉塵的濾材，當該氣體通過過濾箱20時，能透過捕集環30及過濾棉40來除去氣體中的水分子及粉塵。
請合併參閱圖2及圖3，說明所述捕集環30可以 是金屬製的片體彎曲形成，所述捕集環30具有一軸心線31，所述捕集環40內沿其軸心線31形成有能提供氣體通過的流道。在具體實施上，所述捕集環30的環壁32上形成有向軸心方向延伸的多數舌片33，所述舌片33能增加捕集環30與氣體的接觸面，所述舌片33在實施上是呈現出波浪狀的外型。更具體的說，所述舌片33在實施上是由捕集環30的環壁32冲製成型，所述舌片33是藉由水分子會附著於金屬表面的特性，來捕捉氣體中的水分子及粉塵。
請合併參閱圖1及圖2，說明所述多數捕集環30 於過濾箱20內是呈交錯之陣列狀排列，而使所述多數捕集環30的軸心線31相互平行，也就是說捕集環30內的流道是朝同一方向，能使氣體順暢的通過捕集環30。更進一步的說，請參閱圖4，說明所述多數捕集環30可以是雙層式構造，且所述多數捕集環30的軸心線31之間排除重疊，使捕集環30 呈現出交錯狀，進而提升捕集環30內舌片33與氣體的接觸面，進而提升捕集環30在捕集氣體中水分子及粉塵的效果。
所述過濾箱20在實施上包含一第一過濾箱21及 一第二過濾箱22，該第一過濾箱21及第二過濾箱22係間隔配置於腔室11內，透過在腔室11內配置第一過濾箱21及第二過濾箱22來提升過濾氣體中水分子及粉塵的效果。在具體實施上，該腔室11內於第一過濾箱21及第二過濾箱22之間還固設有一隔板23，該隔板23能增加氣體在通過腔室11內時的移動路徑及時間，且該隔板23上可以設有過濾棉，能有效的提升過濾氣體中水分子及粉塵時的效果。
另外，由於捕集環30及過濾棉40在過濾掉氣體 中水分子及粉塵後，聚集於捕集環30及過濾棉40上的水分子會凝結為水而掉落至腔室11底部，為避免水因累積過多而溢流至其他位置(例如廢氣處理設備)，所以需要在器殼10底部設有一排水口14來進行排水作業。該器殼10於鄰近出氣端13設有一潔淨乾燥空氣(clean dry air,CDA)噴頭17及一壓力偵測計18，該潔淨乾燥空氣噴頭17能釋放潔淨乾燥空氣與流至出氣端13的氣體混合，該壓力偵測計18是用來偵測氣體通過出氣端13時的壓力值。
請參閱圖5，說明將器殼10連接一半導體製程廢 氣處理設備50的排氣口52，該廢氣處理設備50內依序設置有加熱分解區53、第一水洗區54及第二水洗區55，廢氣61先經由進氣口51注入廢氣處理設備50內，當廢氣61通過加熱分解區53時，藉由火燄或熱空氣來迫使廢氣61中有害物質接受高溫催化，進而分解成無害之物質，接著，廢氣61依序進入第一水洗區54及第二水洗區55，藉由水62呈水幕狀均勻分佈噴灑，使水62與廢氣61進行充分的接觸，將廢氣61中可溶於水62的有害物質溶於水62中，而使廢氣61轉換成為無害的氣體63，然後通過排氣口52進入器殼10內，透 過器殼10內過濾箱20來減少氣體63中所含的水分子及粉塵，最後排放至外界大氣中。
以上實施例僅為表達了本發明的較佳實施方式，但並不能因此而理解為對本發明專利範圍的限制。因此，本發明應以申請專利範圍中限定的請求項內容為準。
10‧‧‧器殼
13‧‧‧出氣端
15‧‧‧開口
16‧‧‧滑軌
17‧‧‧潔淨乾燥空氣噴頭
18‧‧‧壓力偵測計
20‧‧‧過濾箱
21‧‧‧第一過濾箱
22‧‧‧第二過濾箱
23‧‧‧隔板
24‧‧‧蓋板
25‧‧‧導槽
30‧‧‧捕集環
40‧‧‧過濾棉

Claims (7)

  1. 一種裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，包括：一器殼，其內部形成一提供含藏有水分子及粉塵之氣體通過的腔室，該器殼形成有連通該腔室的一進氣端與一出氣端，該進氣端係連接於半導體廢氣處理設備之一排氣口，該排氣口位於廢氣處理設備內至少一水洗區的最後端；及至少一過濾箱，以能抽取方式植入於該腔室內，所述過濾箱內設有用來過濾氣體中水分子及粉塵的多數捕集環及一過濾棉，該氣體依序通過捕集環及過濾棉；其中，該器殼的出氣端設有一潔淨乾燥空氣噴頭，且所述多數捕集環為雙層式交錯之陣列狀排列。
  2. 如申請專利範圍第1項所述裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，其中所述捕集環呈環圈狀，且具有一軸心線。
  3. 如申請專利範圍第2項所述裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，其中所述捕集環的環壁向其軸心方向延伸形成有多數舌片。
  4. 如申請專利範圍第3項所述裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，其中所述舌片係呈波浪狀。
  5. 如申請專利範圍第2項所述裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，其中所述多數捕集環的軸心線相互平行。
  6. 如申請專利範圍第1項所述裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，其中所述過濾箱包含一第一過濾箱及一第二過濾箱，該第一過濾箱及第二過濾箱係間隔配置於腔室內。
  7. 如申請專利範圍第6項所述裝設於半導體廢氣處理設備中的粉塵過濾器，其中該腔室內還固設有一隔板，該隔板係坐落於第一過濾箱及第二過濾箱之間。
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