TW202337544A - 酸霧捕集器 - Google Patents
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Abstract
本申請案係關於一種用於一濕式洗滌器減量系統之酸霧捕集器。該酸霧捕集器包括:一除霧室,其具有用於自該濕式洗滌器減量系統接收含酸霧廢氣之一氣體入口;一液體捕獲表面,酸霧液滴可聚結於其上以形成一液體;及一氣體出口,相對乾燥氣體可透過其離開該室。該酸霧捕集器經構形使得所捕獲之液體之至少一第一部分經由該氣體入口離開該室以返回至該濕式洗滌器減量系統。本申請案亦係關於一種集水擋板、一種減量系統及一種緩和一排氣抽取放大裝置之一主流道中之顆粒積累之方法。
Description
本發明係關於一種酸霧捕集器且特定言之,本發明係關於一種用於一氣體減量系統之酸霧捕集器。本發明進一步提供一種用於一酸霧捕集器之集水擋板、一種包括一酸霧捕集器之減量系統及一種緩和一排氣抽取放大裝置之一主流道中之顆粒積累之方法。
減量設備移除一程序氣流之成分(例如一半導體或平板顯示器製造程序之化合物),使得減量氣流能夠更安全地釋放至環境中。
術語濕式洗滌器描述自一熔爐煙道氣或自其他氣流移除污染物之多種減量裝置。在一濕式洗滌器中,藉由使用液體噴灑被污染之氣流、藉由迫使被污染之氣流通過液體之一池或藉由某種其他接觸方法,使被污染之氣流與洗滌液體(諸如水)接觸以移除污染物。濕式洗滌器亦可藉由將固體顆粒捕獲於液體中來移除固體顆粒。
在離開濕式洗滌器之前,藉由稱為一酸霧消除器之子組件(諸如一酸霧過濾器或一旋風分離器)分離洗滌廢氣流中之液滴。在工廠內進行任何最終排放或再循環之前,處理剩餘洗滌液體及挾帶污染物。
圖1提供一填充塔設計濕式洗滌器(1)之一簡化示意圖。例示酸霧過濾器(2)位於填充塔之主室(3)內。酸霧過濾器(2)位於填充(5)與填充塔主室(3)之出口(4)之間。因此,在廢氣流(6)離開填充塔(1)之主室(3)之前,實質上所有酸霧均可自廢氣流(6)移除。
在一些例項中,在一填充塔濕式洗滌器之下游採用一排氣抽取放大裝置(EDAD)。如其名稱所建議,一排氣抽取放大裝置增加濕式洗滌器之出口處之氣流速度以沿進一步管道引導排氣進行處理及/或釋放至大氣中。
參考圖2,一廢氣抽取放大裝置(10)之一典型實例包含廢氣透過其流動之一主流道(11),其由具有引導至氣流中之端口(8、9)之一充氣室(7)包圍。此等端口(8、9)允許將高速壓縮乾燥空氣之射流引入氣流中以提高氣體之總速度。
在領域中,已報導排氣抽取放大裝置可展現一未令人滿意之平均清潔間隔時間(MTBC)。在一些例項中,排氣抽取放大裝置可在其主流道及/或射流端口之內壁上累積粉末。此粉末通常係減量之一副產物且通常呈矽石或二氧化矽之形式。當粉末累積時,其改變裝置之幾何形狀且可降低排氣抽取放大裝置之效率,特定言之在氣流速度增加時。事實上,已報導粉末可累積至一程度使得系統可歸因於不良壓力條件而觸發一警報及/或自動關閉。
本發明至少部分地解決先前技術之此等及其他問題。
因此,在一第一態樣中,本發明提供一種用於一濕式洗滌器減量系統之酸霧捕集器。該酸霧捕集器包括:一除霧室,其具有用於自該濕式洗滌器減量系統接收含酸霧廢氣之一氣體入口;一液體捕獲表面,酸霧液滴可聚結於其上以形成一液體;及一氣體出口,相對乾燥氣體可透過其離開該室。該酸霧捕集器經構形使得所捕獲之液體之至少一第一部分經由氣體入口離開該室以返回至濕式洗滌器減量系統。較佳地,該液體經由該氣體入口流出該室。
在調查上述問題之後,發現含有少量粉末之相對乾燥氣體可自該濕式洗滌器流出且通過該排氣抽取放大裝置。在不受任何特定理論約束之情況下,據信將壓縮氣體引入該排氣抽取放大裝置可接著使粉末快乾以將其沈積於該排氣抽取放大裝置之該內壁上,其中粉末可穩定積累且最終引起堵塞。已通過一酸霧過濾器之氣體之低水分含量意謂所運輸之粉末不夠濕而無法以由留在廢氣中之任何酸霧沖走。此外,氣體不夠潮濕而無法潤濕EDAD之表面且藉此防止蒸發粉末黏附於該等表面。
藉由提供一獨立酸霧捕集器,可在氣流已通過該排氣抽取放大裝置之後(而非之前)將酸霧自氣流移除。該酸霧捕集器可捕獲一些此酸霧且將其作為液體重新引導回朝向濕式洗滌器以允許清洗該濕式洗滌器與該酸霧捕集器之間的管道/管件,包含該排氣抽取放大裝置之內表面(諸如該主流道) ,減少其上之粉末累積。
因此,該酸霧捕集器可與一排氣抽取放大裝置流體連通且經構形使得將經由該氣體入口離開該室之液體引導回該排氣抽取放大裝置。藉此,該酸霧捕集器可防止進一步粉末黏著。
該除霧室可包括所捕獲之液體之一第二部分透過其離開該室之至少一個排水出口。該除酸室可包括兩個或兩個以上此等排水出口。較佳地,該至少一個排水出口與一液體儲存槽(較佳地用於將液體饋送至該減量系統中(諸如饋送至一濕式洗滌器之該填充塔中)之一液體儲存槽)流體連通。
含酸霧空氣可由該濕式洗滌器提供,特別言之由位於該濕式洗滌器之一填充塔減量室內之一霧化器提供。通常,該酸霧捕集器與不包含一酸霧消除器之一氣體減量系統之該濕式洗滌器組合使用。含酸霧空氣可離開該濕式洗滌器且通過該排氣抽取放大裝置。有利地,此允許該含酸霧氣體在其自該填充塔通過該排氣抽取放大裝置到達該酸霧捕集器時清洗該排氣抽取放大裝置之側壁。此清洗動作可為所回收之液體在一反向上自該酸霧捕集器流動至該濕式洗滌器、較佳地流動至該填充床減量室之額外清洗動作。
因此,在一進一步態樣中,本發明提供在使用時使用一含水酸霧來清潔來自一氣體減量系統之一排氣抽取放大裝置之粉末沈積物,較佳地,其中該含水酸霧自該氣體減量系統之一填充塔濕式洗滌器排出。
在本發明之一進一步態樣中,提供一種減量系統,其包括一排氣抽取放大裝置及一酸霧捕集器,該排氣抽取放大裝置經構形以將含酸霧氣體引導至該酸霧捕集器中且該酸霧捕集器經構形以自含酸霧氣體移除液體。該酸霧捕集器經進一步構形使得自該含酸霧氣體移除之該液體之至少一部分引導回該排氣抽取放大裝置中,較佳地,透過該排氣抽取放大裝置且進入一濕式洗滌器減量室中。較佳地,該含酸霧空氣由該濕式洗滌器提供。較佳地,該濕式洗滌器包括不包含一酸霧消除器之一填充塔。
在實施例中,該減量系統可包括根據先前態樣之一酸霧捕集器。
通常,該酸霧捕集器位於該排氣抽取放大裝置及/或填充床減量室之垂直上方使得由該酸霧捕集器收集之液體可在重力之影響下透過該排氣抽取放大裝置回流及/或進入該填充塔減量室中。
在一進一步態樣中,本發明提供一種緩和一氣體減量系統之一排氣抽取放大裝置之一主流道中之顆粒積累之方法。該程序包括以下步驟:引導來自氣體減量程序之含酸霧空氣通過該排氣抽取放大裝置之該主流道;自已離開該排氣抽取放大裝置之含酸霧氣體移除液體;及在一反向上將該移除液體引導回該排氣抽取放大裝置之該主流道。
該方法可使用根據第一態樣之一酸霧捕集器及/或根據前述態樣之該減量系統執行。
在所有態樣中,該液體捕獲表面可由一擋板提供以至少部分地阻隔(較佳地完全阻隔)該酸霧捕集器之該氣體出口與該酸霧捕集器之該氣體入口。較佳地,該廢氣必須在其自該氣體入口至該氣體出口之路徑上圍繞該擋板流動。該擋板可界定用於提供自該入口至該出口之一流動路徑之一或多個孔徑。通常,在使用中,由該擋板界定之該一或多個孔徑提供自該氣體入口至該氣體出口之唯一路線。
在實施例中,該擋板可具有一或多個裙部,較佳地,其中由該擋板界定之該一或多個孔徑由該一或多個裙部提供。通常,該或各裙部均係呈齒形。當呈齒形時,該等開口(凹槽)可提供該等孔徑。然而,應瞭解該一或多個孔徑不一定受限於任何特定形狀或幾何形狀。
因此,在又一態樣中,本發明提供一種用於一氣體減量系統之一酸霧捕集器之集水擋板,該擋板包括一大體上平面主體及自該主體在鄰近於該主體之一外周邊延伸之一裙部,該裙部界定經構形以允許氣體在使用期間圍繞該擋板流動之一或多個孔徑,其中該裙部自其延伸之該平面本體之該側經構形以提供酸霧液滴可在其上聚結之一液體捕獲表面。
在所有含有擋板之實施例中,該或各孔徑之大小均可調整。
在實施例中,該擋板可包括一第一部分,其包括一裙部,該第一部分嵌套於亦包括一裙部之一第二部分內。各該裙部可界定該擋板之該一或多個孔徑且該第一及第二部分可相對於彼此移動以變動該一或多個孔徑之大小。較佳地,該第一部分及第二部分具有一圓形外圓周,例如其等可為圓盤狀及/或環形。較佳地,該等裙部係呈齒形。較佳地,該第一本體可相對於該第二本體旋轉,較佳地,以便變動該一或多個孔徑之大小。
在實施例中,該擋板可經構形使得在使用中,該(等)裙部之該等尖端(例如該等最下邊緣)浸沒於由該擋板回收之液體中。
本態樣之該擋板可用於該(等)前述態樣之含有擋板之實施例之任何者中。
為避免疑義,所有態樣及實施例可作必要修改而組合。
參考圖3,本發明提供一種用於一氣體減量系統之酸霧捕集器(12)。圖中所繪示之酸霧捕集器(12)包括用於接收來自一減量系統(諸如一濕式洗滌器之填充塔)之含酸霧廢氣之一氣體入口(13)。
酸霧捕集器(12)進一步包括由一外殼(15)界定之一主室(14)及一氣體出口(16),相對乾燥氣體可透過該氣體出口(16)離開主室(14)。氣體相對乾燥,因為一些、較佳地實質上所有酸霧可已由酸霧捕集器自氣體移除。然而,相對乾燥氣體仍可具有一相對高相對濕度,儘管並非必要。
外殼(15)及/或酸霧捕集器(12)整體通常係聚合物構造,且較佳地氣密。較佳地,整個廢氣流通過酸霧捕集器(12)。
酸霧捕集器(12)進一步包括所收集之液體之一部分可透過其離開酸霧捕集器(12)之主室(14)之一或多個排水出口(17、18)。如圖4中最佳繪示,酸霧捕集器(12)可包括兩個或兩個以上此等排水出口(17、18)。液體可在重力及/或壓力之影響下自排水出口(17、18)流出。通常,排水出口(17、18)位於酸霧捕集器(12)之基座中。較佳地,排水出口(17、18)位於酸霧捕集器主室(14)中之最低處。如圖4中所展示,為輔助排水,酸霧捕集器(12)之基座(19)可經構形以將液體引向排水出口(17、18)。再者,當使用時,氣體入口(13)之開口(20)可相對於排水孔(17、18)升高。在圖中所繪示實例中,酸霧捕集器(12)之基座(19)呈一圓錐台之形式。排水孔(17、18)位於錐體(19)之足部之一溝槽(21)中。錐體(19)之頂部包含氣體入口(13)之開口(20)。
有利地,此配置允許在液體開始在一反向上朝向排氣抽取放大裝置(10)及/或引導回填充塔室之管道沿氣體入口(13)回流之前,液體於室(14)內積累(池化)。
如圖6中最佳展示,排水出口(17、18)通常連接至一收集貯槽(22)或槽,因此收集於酸霧捕集器(12)中之液體可在減量程序中重複使用。通常,採用一(聚合物)管(排洩管線)(23、24)將該或各排水出口連接至收集貯槽(22)。排洩管線(23、24)之一第一端(25)可連接至酸霧捕集器之排水出口且相同排洩管線之一第二端(26)可連接至收集貯槽(22),較佳地在貯槽(22)中之液位(例如水線)下方。較佳地,排洩管線(23、24)在一較低液位開關下方連接至收集貯槽(22)。通常,液體在重力及/或壓力之影響下沿排洩管線(23、24)移動且進入收集貯槽(22)中。隨著更多流量添加至系統中之一排氣抽取放大裝置(10),自酸霧捕集器(10)流動至槽(22)之排洩管線(23、24)中之壓力越高。有利地,挾帶於所收集之液體中之粉末亦可經由(若干)排水出口(17、18)沿(若干)排洩管線(23、24)返回至收集貯槽(22)。收集貯槽可為濕式洗滌器之液體饋送貯槽。
酸霧捕集器(12)進一步包括一集水擋板(27)。擋板(27)包括一大體上平面之主體(28)(例如,一圓盤狀主體)及自主體(28)附近、較佳地在主體(28)之一外圓周處延伸之一裙部(29)。較佳地,裙部(29)自主體(28)之最外邊緣延伸。如圖5中最佳可見,裙部(29)界定一系列孔徑(30)。在使用中,廢氣可流動通過孔徑(30)、圍繞擋板(27)且流向氣體出口(16)。較佳地,液體在擋板(27)之一底側(31)上聚結。
較佳地,裙部(29)經構形使得在使用中至少部分浸沒於室(14)之基座(21、19)處之液體池中。殼體(15)內之液體池將對廢氣流產生進一步阻力,藉此自廢氣移除更多酸霧。
例示性酸霧捕集器(12)之一計算流體動力學研究表明在捕集器內產生低速及高壓區以在廢氣流中產生渦流。此等速度及流量之擾動引起酸霧與氣流分離且允許其形成太重而無法在氣流中運輸之較大液滴。此等較大液滴組合於(例如)擋板之一底側上,且在捕集器之基座聚集。水池對氣流產生進一步阻力,藉此分離更多酸霧。
較佳地,孔徑(30)之大小可變動。即,通過擋板(27)之流動路徑之總橫截面積可變動。孔徑(30)之大小可手動變動(即,回應於使用者輸入),及/或回應於減量系統及/或酸霧捕集器中之條件而自動變動。增加孔之大小可減少酸霧捕集器中之壓降,而減小孔徑之大小可增加酸霧捕集器內之酸霧聚結及捕獲之速率。
在實施例中,一窗口(例如透明管路)可提供於酸霧捕集器(12)下游之導管(44)中。若液滴出現在窗口上,則並非所有酸霧均被捕獲。因此,可減小孔徑(30)之大小直至液滴不再出現在窗口上。在一替代實施例中,一FTIR光譜儀可用於分析廢氣以判定是否正在實現令人滿意之除霧位準。
另外,或替代地,若減量系統內之壓力升高,則可期望打開孔徑(30)以減少通過酸霧捕集器(12)之壓降。
在實施例中,此等判定及孔徑大小調整可自動執行(即,無需使用者輸入)。例如,一處理器可連續監測離開防霧器之酸霧量及/或系統壓力、作出孔徑之較佳大小之一判定且指示一控制器回應於該判定而調整孔徑之大小。
擋板(27)可經構形使得在使用中,裙部(29)之最下邊緣(32)浸沒於收集在主室之基座(21、19)上之液體中。在實施例中,擋板(27)相對於主室(14)之基座(19)之位置可變動。因此,裙部(29)之最下邊緣(32)浸沒之深度可變動及/或孔徑(30)之大小可變動。擋板(27)相對於室(14)之基座(19)之移動可手動及/或自動控制。在實施例中,定位擋板(27)可形成先前所討論之自動判定及孔徑大小調整之一部分。
在圖中所繪示之實例中,擋板(27)具有一兩部分構造。特定言之,圖中所繪示之擋板(27)包括一第一部分(33),其包括嵌套於亦包括一裙部(29)之一第二部分(34)內之一裙部(35)。圖中所繪示之裙部(29、35)係呈齒形以提供一系列裙部片段(29、35)。在例示性實例中,兩個裙部(29、35)界定擋板(27)之孔徑(30)。第一部分(33)及第二部分(34)可相對於彼此移動(例如可旋轉)以變動孔徑(30)之大小。特定言之,第二部分(34)之裙部片段(29)可在第一部分(33)之裙部部分(35)上滑動。因此,裙部片段(35、29)可不同地並排、重疊及徑向對準構形,藉此更改擋板(27)之孔徑(30)之大小。
在圖中所繪示之實例中,第一部分(33)之本體(36)實質上係圓盤狀,且第二部分(34)之本體(37)實質上係環形,儘管其亦可為圓盤狀。有利地,圖中所繪示之配置在擋板(27)之一上表面上提供一凹部(39),其中粉末顆粒可經捕獲進行後續移除。
如圖4中所繪示,擋板(27)自酸霧捕集器主室(14)之頂壁(40)懸出。在實例中,複數個支柱(41)將擋板(27)連接至室頂壁(40)。在例示性實施例中,採用一環形固定板(38)以將支柱(41)耦合至頂壁(40)。廢氣在透過氣體出口(16)離開室(14)之前繞過支柱(41)。在圖中所繪示之實例中,第一部分(33)固定至室(14)之頂壁(40)。第二部分(34)可相對於第一部分(33)及室壁(42)移動。撞擊支柱(41)之粉末顆粒可收集在擋板(27)之向上側(39)上。
在使用中,含酸霧空氣透過氣體入口(13)開口(20)進入室(14)。含酸霧氣體與擋板(27)之底側(31)撞擊且來自酸霧之液體在擋板(27)之該底側表面(31)上聚結。接著,液體可沿擋板裙部(29、35)向下流動且收集於室(14)之基座(地板)(21、19)上,及/或滴落至主室之基座(19)上及/或直接沿氣體入口(13)向下流動。酸霧液滴亦可在其他表面上與酸霧捕集器(12)聚結且類似地朝向酸霧捕集器(12)之基座(19、21)流動。當液體開始積累於主室(14)之基座(19、21)上時,一些液體將流入一或多個排水出口(17、18)中。
液體亦將在與廢氣之流動方向相反之一方向上自氣體入口(13)流出。廢氣之流動方向由箭頭A指示。液體將沿位於酸霧捕集器(12)上游之管道之內表面流動(例如朝向填充塔(43)返回),在實施例中,填充塔將包含一排氣抽取放大裝置(10)。液體可挾帶其在沿管道/管件之路徑中遭遇之粉末或其他碎屑。液體可繼續流動直至其重新進入減量系統之填充塔(43)。因此,自導管/管件(包含排氣抽取放大裝置(10))清洗粉末且避免有問題之粉末積累。
圖2展示適合用於本發明之一排氣抽取放大裝置(10)。排氣抽取放大裝置包含廢氣流動通過其之一主流道(11),該主流道由具有引導至廢氣流之端口(8、9)之一充氣室(7)包圍。此等端口(8、9)允許將高速壓縮乾燥空氣之射流引入氣流中以提高氣體之總速度。
在實施例中,排氣抽取放大裝置之主流道(11)與酸霧捕集器(12)之氣體入口(13)軸向對準。較佳地,酸霧捕集器(12)之入口道(13)及EDAD (10)之主流道(11)經配置使得其等提供一連續向內表面。
如圖6中所繪示,在一較佳配置中,酸霧捕集器(12)緊鄰減量系統中之排氣抽取放大裝置(10),較佳地酸霧捕集器(12)位於排氣抽取放大裝置(10)之正上方。較佳地,由酸霧捕集器(12)收集之液體較佳地在重力之影響下立即流入排氣抽取放大裝置(10)中。
在一替代配置中,一酸霧過濾器可位於排氣抽取放大裝置之間及/或酸霧捕集器內。已發現此配置進一步增加廢氣之乾燥,同時又清洗廢氣抽取放大裝置。
在實施例中,在使用期間,可將額外液體泵入酸霧捕集器中,較佳地,使得該液體在擋板上、較佳地以一堰之形式級聯,使得所有廢氣必須通過該液體之一簾。另外,或替代地,液體可由一或多個噴嘴在一反向上噴灑至進入氣流中作為一氣溶膠噴灑至擋板之底側上。酸霧捕集器可主動或被動冷卻,較佳地冷卻至實質上低於進入酸霧捕集器之氣體之溫度之一溫度。較佳地,引入酸霧捕集器中之液體比進入酸霧捕集器之廢氣冷。此一配置可有利地清洗酸霧捕集器、進一步冷卻氣流以降低相對濕度且自氣流移除更多粉末。有利地,在包含一酸霧過濾器之配置中,泵入酸霧捕集器中之液體可額外清洗酸霧過濾器。
氣體出口(16)通常連接至管道。除霧(相對乾燥)之廢氣可沿管道傳遞以進行進一步處理,或更典型地,排入大氣中。
為了本發明之目的,一酸霧係一種氣體中含液體之氣溶膠。通常,氣溶膠將具有(例如)使用雷射繞射量側之約1000 µm或更小、較佳地自約2.5 µm至約450 µm、較佳地至約250 µm之一直徑。液體通常係水性,例如水。廢氣通常將包括空氣。酸霧通常在濕式洗滌器之填充塔(43)內產生,例如由一霧化器產生,且沿管道抽取至酸霧捕集器。酸霧捕集器中之溫度通常係週遭條件下之溫度或以下。溫度可較佳地自約5°C至約30°C,更佳地自約15°C至約25°C,例如20°C。較佳地,溫度使得在酸霧捕集器下游之管道中不發生顯著冷凝。通常,填充塔室內之水溫將自約10°C至約20°C,諸如自約14°C至約17°C。通常,氣體溫度自約10°C至約20°C,諸如自約14°C至約15°C。
熟習技術者將瞭解酸霧捕集器之尺寸可取決於減量設備(特定言之排氣抽取放大裝置)之剩餘部分之大小、需要移除之酸霧量、現場體積約束及其類似者而變動。
酸霧捕集器通常將具有大於氣體入口及/或氣體出口之直徑之一直徑。通常,酸霧捕集器之主室將具有小於約100 cm、較佳地小於約50 cm之一內徑。主室之直徑通常將大於約15 cm,較佳地大於約25 cm。擋板通常將具有大於氣體出口及/或氣體入口之直徑之一直徑。擋板之直徑與氣體入口及/或氣體出口之直徑之比可為自約1:1至約5:1,較佳地自約2:1至約3:1。
參考圖7,本發明提供一種緩和一氣體減量系統之一排氣抽取放大裝置之一主流道中之顆粒積累之方法。
該方法包括以下步驟:將來自一氣體減量程序之含酸霧空氣引導通過排氣抽取放大裝置之主流道(45),自已離開排氣抽取放大裝置之含酸霧空氣移除液體(46)及在一反向上將該移除液體之至少一部分引導回通過排氣抽取放大裝置之主流道(47)。在步驟(47)之後,視情況允許液體隨後傳遞至一濕式洗滌器之一填充塔(48)。較佳地,其中步驟(45)中使用之含酸霧空氣源自濕式洗滌器之填充塔。該方法視情況包含將移除液體之一部分引導至濕式洗滌器而不通過排氣抽取放大裝置之步驟。
應瞭解本發明之方法可使用本文所揭示之裝置執行。
本發明將藉由意欲非限制性之以下實例進一步繪示。
實例
測試1
藉由移除酸霧過濾器,修改具有EDAD之一Y35 Atlas 1200減量設備。此允許酸霧自填充塔中產生之霧化噴霧向下游遷移。將一透明檢查管引入EDAD上方之導管中。在使用期間,透明管上出現水滴,確認酸霧正在通過EDAD。需要來自排氣抽取導管之一排洩管線移除過量水。
在運轉修改裝置時,記錄與未修改之裝置相比之EDAD堵塞顯著減少及歸因於EDAD堵塞之MTBC顯著增加。
測試2
如圖3至圖5中所繪示之一酸霧捕集器直接連接至EDAD之下游之一位置中之一Y35 Atlas 1200減量裝置之EDAD。減量裝置已藉由移除其酸霧過濾器再次修改。此允許酸霧自填充塔中產生之霧化噴霧將粉末自EDAD清洗出去且行進至酸霧捕集器。
安裝聚合物排洩管線,自酸霧捕集器之排水出口流至減量設備之填充塔下方之排洩槽。一透明檢查管連接至酸霧捕集器之出口及下游排氣導管。
當酸霧捕集器擋板設定為完全打開時,在透明聚合物管上未觀察到液滴,指示酸霧捕集器正在移除所有酸霧。觀察到液體沿聚合物排洩管線自酸霧捕集器流向排洩槽。
在運轉與酸霧捕集器組合之修改裝置時,記錄與未修改之裝置相比之EDAD堵塞顯著減少及歸因於EDAD堵塞之MTBC顯著增加。
1:填充塔濕式洗滌器
2:酸霧過濾器
3:填充塔主室
4:填充
5:填充塔主室之出口
6:廢氣流
7:充氣室
8:端口
9:端口
10:排氣抽取放大裝置(EDAD)
11:主流道
12:酸霧捕集器
13:氣體入口
14:酸霧捕集器主室
15:外殼
16:氣體出口
17:排水出口
18:排水出口
19:基座
20:氣體入口之開口
21:溝槽
22:收集貯槽
23:排洩管線
24:排洩管線
25: 排洩管線之第一端
26: 排洩管線之第二端
27:酸霧捕集器擋板
28:擋板主體
29:擋板裙部
30:擋板孔徑
31:擋板底側
32:裙部最下邊緣
33:擋板第一部分
34:擋板第二部分
35:第一部分裙部
36:第一部分之本體
37:第二部分之本體
38:環形固定板
39:擋板頂側凹部
40:主室之頂壁
41:支柱
42:主室壁
43:填充塔
44:導管
45:將來自一氣體減量程序之含酸霧空氣引導通過排氣抽取放大裝置之主道
46:自已離開排氣抽取放大裝置之含酸霧氣體移除液體
47:在一反向上透過排氣抽取放大裝置之主道引導回該移除液體之至少一部分
48:允許液體隨後傳遞至一濕式洗滌器之一填充塔
A:箭頭
現將參考以下附圖來描述本發明,附圖意欲係非限制性。
圖1展示一先前技術濕式洗滌器。
圖2展示一排氣抽取放大裝置(EDAD)。
圖3展示根據本發明之一酸霧捕集器之一外部視圖。
圖4展示貫穿根據本發明之一酸霧捕集器的一貫穿截面之一截面。
圖5展示根據本發明之一擋板總成。
圖6展示包括一填充塔濕式洗滌器之減量系統中之原位酸霧捕集器及EDAD。
圖7展示根據本發明之一方法。
12:酸霧捕集器
13:氣體入口
14:酸霧捕集器主室
15:外殼
16:氣體出口
17:排水出口
18:排水出口
19:基座
20:氣體入口之開口
21:溝槽
27:酸霧捕集器擋板
28:擋板主體
29:擋板裙部
30:擋板孔徑
31:擋板底側
32:裙部最下邊緣
40:主室之頂壁
41:支柱
42:主室壁
A:箭頭
Claims (16)
- 一種用於一濕式洗滌器減量系統之酸霧捕集器,該酸霧捕集器包括:一除霧室,其具有用於自該濕式洗滌器減量系統接收含酸霧廢氣之一氣體入口;一液體捕獲表面,酸霧液滴可聚結於其上以形成一液體;及一氣體出口,相對乾燥氣體可透過其離開該室;且 其中該酸霧捕集器經構形使得所捕獲之液體之至少一第一部分經由氣體入口離開該室以返回至濕式洗滌器減量系統。
- 如請求項1之酸霧捕集器,其中該液體捕獲表面由一擋板提供以至少部分地阻隔該氣體出口與該氣體入口。
- 如請求項2之酸霧捕集器,其中該擋板界定用於提供自該氣體入口至該氣體出口之一流動路徑之一或多個孔徑。
- 如請求項2或請求項3之酸霧捕集器,其中該擋板具有一或多個裙部,較佳地其中該擋板之該一或多個孔徑由該一或多個裙部提供。
- 如前述請求項中任一項之酸霧捕集器,其中該除霧室包括所捕獲之液體之一第二部分透過其離開該室之至少一個排水出口。
- 一種用於一氣體減量系統之一酸霧捕集器之集水擋板,該擋板包括一大體上平面主體及自該主體在鄰近於該主體之一外周邊延伸之一裙部,該裙部界定經構形以允許氣體在使用期間圍繞該擋板流動之一或多個孔徑,其中該裙部自其延伸之該平面本體之該側經構形以提供酸霧液滴可在其上聚結之一液體捕獲表面。
- 如請求項3至5中任一項之酸霧捕集器或如請求項6之擋板,其中該或各孔徑之大小均可調整。
- 如請求項4或5或7之酸霧捕集器或如請求項6或7之擋板,其中該或各裙部係呈齒形。
- 如請求項1至5或7或8之酸霧捕集器,其中該酸霧捕集器與一排氣抽取放大裝置流體連通且經構形使得將經由該氣體入口離開該室之液體引導回該排氣抽取放大裝置。
- 一種減量系統,其包括一排氣抽取放大裝置及一酸霧捕集器,該排氣抽取放大裝置經構形以將含酸霧氣體引導至該酸霧捕集器中且該酸霧捕集器經構形以自含酸霧氣體移除液體,且其中酸霧捕集器經進一步構形使得自該含酸霧氣體移除之該液體之至少一部分引導回該排氣抽取放大裝置中。
- 如請求項10之減量系統,其中該酸霧捕集器係如請求項1至5或7或8中任一項。
- 如請求項9之酸霧捕集器或如請求項10或11之減量系統,其中引導通過該排氣抽取放大裝置之液體返回至一填充床減量室。
- 如請求項1至5或7至9之酸霧捕集器或如請求項10至12之減量系統,其包括如請求項6至8之一酸霧捕集器擋板。
- 一種緩和一氣體減量系統之一排氣抽取放大裝置之一主流道中之顆粒積累之方法,該方法包括以下步驟: a.引導來自氣體減量程序之含酸霧空氣通過該排氣抽取放大裝置之該主流道, b.自已離開該排氣抽取放大裝置之含酸霧氣體移除液體;及 c.在一反向上將該移除液體之至少一部分引導回通過該排氣抽取放大裝置之該主流道。
- 如請求項14之方法,其使用如請求項1至5或7至9中任一項之一酸霧捕集器或如請求項10至12之減量系統執行。
- 一種含水酸霧之用途,當使用時,用以清潔來自一氣體減量系統之一排氣抽取放大裝置之粉末沈積物,較佳地,其中該含水酸霧自該氣體減量系統之一填充塔濕式洗滌器排出。
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