JP2001110712A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001110712A5 JP2001110712A5 JP1999289697A JP28969799A JP2001110712A5 JP 2001110712 A5 JP2001110712 A5 JP 2001110712A5 JP 1999289697 A JP1999289697 A JP 1999289697A JP 28969799 A JP28969799 A JP 28969799A JP 2001110712 A5 JP2001110712 A5 JP 2001110712A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- substrate
- outer edge
- liquid discharge
- discharge unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28969799A JP2001110712A (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 塗布膜除去装置及び塗布膜除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28969799A JP2001110712A (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 塗布膜除去装置及び塗布膜除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001110712A JP2001110712A (ja) | 2001-04-20 |
| JP2001110712A5 true JP2001110712A5 (enExample) | 2005-07-21 |
Family
ID=17746584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28969799A Pending JP2001110712A (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 塗布膜除去装置及び塗布膜除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001110712A (enExample) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100592468C (zh) * | 2006-02-02 | 2010-02-24 | 株式会社迅动 | 基板处理装置 |
| JP5132108B2 (ja) * | 2006-02-02 | 2013-01-30 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP2008060302A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Sokudo:Kk | 基板処理装置 |
| JP4923936B2 (ja) * | 2006-10-13 | 2012-04-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及び塗布、現像方法 |
| JP5166802B2 (ja) * | 2007-09-13 | 2013-03-21 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP5283714B2 (ja) * | 2011-01-12 | 2013-09-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜除去方法及びその装置 |
| JP5691767B2 (ja) * | 2011-04-12 | 2015-04-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、基板処理装置及び基板処理システム |
| JP2012220896A (ja) * | 2011-04-13 | 2012-11-12 | Tokyo Electron Ltd | 周辺露光方法及び周辺露光装置 |
| JP5835188B2 (ja) * | 2012-11-06 | 2015-12-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板周縁部の塗布膜除去方法、基板処理装置及び記憶媒体 |
| JP6498006B2 (ja) * | 2015-03-25 | 2019-04-10 | 株式会社Screenホールディングス | 塗布方法 |
| JP6475071B2 (ja) | 2015-04-24 | 2019-02-27 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP6754247B2 (ja) * | 2016-08-25 | 2020-09-09 | 株式会社Screenホールディングス | 周縁部処理装置および周縁部処理方法 |
| JP6842952B2 (ja) * | 2017-02-28 | 2021-03-17 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP6923344B2 (ja) | 2017-04-13 | 2021-08-18 | 株式会社Screenホールディングス | 周縁処理装置および周縁処理方法 |
| JP2019021747A (ja) | 2017-07-14 | 2019-02-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板位置調整方法、記憶媒体及び基板処理システム |
| KR102746436B1 (ko) * | 2019-02-28 | 2024-12-24 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 |
| JP7304737B2 (ja) * | 2019-05-14 | 2023-07-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP7667035B2 (ja) | 2021-08-27 | 2025-04-22 | キオクシア株式会社 | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 |
-
1999
- 1999-10-12 JP JP28969799A patent/JP2001110712A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001110712A5 (enExample) | ||
| KR100237761B1 (ko) | 기판세정장치 및 방법 | |
| JP3613586B2 (ja) | フォトレジストコーティング装置及び方法 | |
| JP3245812B2 (ja) | 液処理方法及びその装置 | |
| KR960030343A (ko) | 세정장치 및 세정방법 | |
| EP0893819A3 (en) | Apparatus and method for washing substrate | |
| JP4717782B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| WO2000034992A1 (en) | Method and apparatus for processing wafer | |
| KR101048828B1 (ko) | 기판세정장치 및 그 기판세정장치의 브러시유닛의 이물질 제거방법 | |
| JP3699293B2 (ja) | 剥離装置および剥離方法 | |
| TWI750579B (zh) | 處理液供給裝置及處理液供給裝置之控制方法 | |
| JP2000188272A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2005322873A5 (enExample) | ||
| JP4116132B2 (ja) | 液体塗布装置及び塗布体の製造方法 | |
| KR20190004451A (ko) | 펄스신호를 이용하는 유체 분사 장치 | |
| JP2009117422A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JP2538918Y2 (ja) | スピンコート装置 | |
| JPH09162145A (ja) | ウエハ洗浄装置 | |
| JP4057367B2 (ja) | スピン処理装置及びスピン処理方法 | |
| KR20060009467A (ko) | 반도체 코팅설비의 웨이퍼 사이드 린스장치 | |
| KR100786627B1 (ko) | 웨이퍼의 회전 감지장치 | |
| JP2780090B2 (ja) | レジスト吐出方法 | |
| DE50200952D1 (de) | Verfahren zum Betrieb einer Waschmaschine | |
| JPH10335197A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2001176793A (ja) | 塗布や現像のための工程システム |