JP2001100365A - ハロゲン化銀写真感光材料用支持体及びハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料用支持体及びハロゲン化銀写真感光材料Info
- Publication number
- JP2001100365A JP2001100365A JP27483799A JP27483799A JP2001100365A JP 2001100365 A JP2001100365 A JP 2001100365A JP 27483799 A JP27483799 A JP 27483799A JP 27483799 A JP27483799 A JP 27483799A JP 2001100365 A JP2001100365 A JP 2001100365A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- support
- silver halide
- compound
- carboxyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 下引層塗設後、あるいは更にバック層を塗設
後、ハロゲン化銀乳剤層構成層を設けるまで、ロール状
に巻かれた状態で接触した経時変化により、その後にハ
ロゲン化銀写真感光材料と仕上げた製品が現像処理によ
るバック層の現像汚れや磁気記録入出力の際の磁気ヘッ
ドの汚れの発生がなく、ハロゲン化銀乳剤層構成層やバ
ック層の接着性に優れたハロゲン化銀写真感光材料を提
供する。 【解決手段】 ポリエステル支持体の少なくとも一方の
面に下引層として支持体に近い側から順に疎水性ポリマ
ー層及び親水性ポリマー層を有し、該疎水性ポリマー層
がアジリジン及び／またはオキサゾリン基を有する化合
物を含有し、且つ該親水性ポリマー層がカルボキシル基
を有する化合物を含有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料用支持体。
後、ハロゲン化銀乳剤層構成層を設けるまで、ロール状
に巻かれた状態で接触した経時変化により、その後にハ
ロゲン化銀写真感光材料と仕上げた製品が現像処理によ
るバック層の現像汚れや磁気記録入出力の際の磁気ヘッ
ドの汚れの発生がなく、ハロゲン化銀乳剤層構成層やバ
ック層の接着性に優れたハロゲン化銀写真感光材料を提
供する。 【解決手段】 ポリエステル支持体の少なくとも一方の
面に下引層として支持体に近い側から順に疎水性ポリマ
ー層及び親水性ポリマー層を有し、該疎水性ポリマー層
がアジリジン及び／またはオキサゾリン基を有する化合
物を含有し、且つ該親水性ポリマー層がカルボキシル基
を有する化合物を含有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料用支持体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カルボキシル基を
有する化合物を含有する層を有するポリエステル支持
体、詳しくは、下引層塗設後、磁気記録層及び／または
滑り層を塗設しロール状に巻いて保存し、ハロゲン化銀
乳剤層及び／または磁気記録層を設けるまでの経時中に
塗布層に変化を生じないハロゲン化銀写真感光材料用支
持体及び磁気記録媒体用のポリエステル支持体に関す
る。
有する化合物を含有する層を有するポリエステル支持
体、詳しくは、下引層塗設後、磁気記録層及び／または
滑り層を塗設しロール状に巻いて保存し、ハロゲン化銀
乳剤層及び／または磁気記録層を設けるまでの経時中に
塗布層に変化を生じないハロゲン化銀写真感光材料用支
持体及び磁気記録媒体用のポリエステル支持体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に疎水的なポリエステル支持体に、
親水的なハロゲン化銀写真感光材料の構成層、例えば、
ハロゲン化銀乳剤層、中間層、保護層、ハレーション防
止層、バック層、導電性層、滑り層等（以下、総称して
ハロゲン化銀乳剤層構成層と略すことがある）やバック
層の構成層、例えば、磁気記録層、滑り層、導電性層等
のバック層（以下、総称してバック層と略すことがあ
る）を接着させることは難しい。そのため接着層として
下引層を設けることが行われている。下引層は支持体と
接着のよい下引層下層を設け、さらに、写真層や磁気層
と接着がよい下引層上層を設ける重層法や、両方の性質
を持った層を単層で設ける方法、更に、支持体表面処理
を行い、表面処理と上記の下引層を組み合わせる方法な
どが知られている（例えば公開技報９４−６０２３、頁
１８〜頁２０）。下引層下層としては例えば疎水的なポ
リマー層を、下引層上層としては親水性ポリマー層を塗
設することがよく知られている。
親水的なハロゲン化銀写真感光材料の構成層、例えば、
ハロゲン化銀乳剤層、中間層、保護層、ハレーション防
止層、バック層、導電性層、滑り層等（以下、総称して
ハロゲン化銀乳剤層構成層と略すことがある）やバック
層の構成層、例えば、磁気記録層、滑り層、導電性層等
のバック層（以下、総称してバック層と略すことがあ
る）を接着させることは難しい。そのため接着層として
下引層を設けることが行われている。下引層は支持体と
接着のよい下引層下層を設け、さらに、写真層や磁気層
と接着がよい下引層上層を設ける重層法や、両方の性質
を持った層を単層で設ける方法、更に、支持体表面処理
を行い、表面処理と上記の下引層を組み合わせる方法な
どが知られている（例えば公開技報９４−６０２３、頁
１８〜頁２０）。下引層下層としては例えば疎水的なポ
リマー層を、下引層上層としては親水性ポリマー層を塗
設することがよく知られている。
【０００３】また、表面処理としては、特開昭５３−１
３６７２号、特開平７−２２３７６１号公報などに記載
された真空グロー放電や特願平１０−９４４６８号、同
１０−２３７１２３号、同１０−２４５１５１号等に記
載されたガス中放電プラズマ処理などは下引層下層を設
けずに下引層上層を直接支持体に接着させることも出
来、特に、ガス中放電プラズマ処理は大気圧近傍のガス
で処理をするため、大がかりな装置を不用としている。
３６７２号、特開平７−２２３７６１号公報などに記載
された真空グロー放電や特願平１０−９４４６８号、同
１０−２３７１２３号、同１０−２４５１５１号等に記
載されたガス中放電プラズマ処理などは下引層下層を設
けずに下引層上層を直接支持体に接着させることも出
来、特に、ガス中放電プラズマ処理は大気圧近傍のガス
で処理をするため、大がかりな装置を不用としている。
【０００４】近年、ＡＰＳ（アドバンスド フォト シ
ステム）用の支持体として、ポリエチレンナフタレート
が用いられるようになり、ハロゲン化銀写真感光材料の
巻癖を低減させるために、例えば特開昭５１−１６３５
８号、特開平６−１７５２８５号公報に記載されている
ようなアニール処理を施した支持体が使用されるように
なって来た。このようなアニール処理の効果は、支持体
がそのガラス転移点以上の温度に暴露されると消失す
る。しかしながら、こうしたアニール処理を施したポリ
エチレンナフタレート支持体はハロゲン化銀乳剤層構成
層やバック層を接着させるのが、従来の支持体より困難
であり、強固に接着させるためには、下引塗布乾燥工程
において、充分熱をかける必要があるが、上記のように
アニール処理温度より高いポリエチレンナフタレートの
ガラス転移点温度以上の熱をかけることが出来ないとい
う問題がある。
ステム）用の支持体として、ポリエチレンナフタレート
が用いられるようになり、ハロゲン化銀写真感光材料の
巻癖を低減させるために、例えば特開昭５１−１６３５
８号、特開平６−１７５２８５号公報に記載されている
ようなアニール処理を施した支持体が使用されるように
なって来た。このようなアニール処理の効果は、支持体
がそのガラス転移点以上の温度に暴露されると消失す
る。しかしながら、こうしたアニール処理を施したポリ
エチレンナフタレート支持体はハロゲン化銀乳剤層構成
層やバック層を接着させるのが、従来の支持体より困難
であり、強固に接着させるためには、下引塗布乾燥工程
において、充分熱をかける必要があるが、上記のように
アニール処理温度より高いポリエチレンナフタレートの
ガラス転移点温度以上の熱をかけることが出来ないとい
う問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】下引層に、アジリジン
基を有する化合物やオキサゾリン基を有する化合物の架
橋剤を含有させることによって接着性を向上させること
が出来る。しかしながら、これらの架橋剤の反応を促進
させるためには加熱が必要であるが、前記の如きアニー
リング効果を保つためには、この温度以上（支持体のガ
ラス転移点以上）の加熱が出来ないためか、ハロゲン化
銀乳剤層側の下引層塗設後、あるいは更に種々のバック
層（透明な磁気記録層や滑り剤を含有する層等）を塗設
後、ハロゲン化銀乳剤層構成層を塗設するまでの間、ロ
ール状に巻かれて経時した場合、ハロゲン化銀乳剤層側
の下引層とハロゲン化銀乳剤層との層間の接着性の劣
化、磁気記録層とその下の層の接着性の劣化、製品化後
の磁気ヘッドの汚れ、滑り剤を含有する層表面の現像処
理時の処理汚れ等が起こり易くなる。
基を有する化合物やオキサゾリン基を有する化合物の架
橋剤を含有させることによって接着性を向上させること
が出来る。しかしながら、これらの架橋剤の反応を促進
させるためには加熱が必要であるが、前記の如きアニー
リング効果を保つためには、この温度以上（支持体のガ
ラス転移点以上）の加熱が出来ないためか、ハロゲン化
銀乳剤層側の下引層塗設後、あるいは更に種々のバック
層（透明な磁気記録層や滑り剤を含有する層等）を塗設
後、ハロゲン化銀乳剤層構成層を塗設するまでの間、ロ
ール状に巻かれて経時した場合、ハロゲン化銀乳剤層側
の下引層とハロゲン化銀乳剤層との層間の接着性の劣
化、磁気記録層とその下の層の接着性の劣化、製品化後
の磁気ヘッドの汚れ、滑り剤を含有する層表面の現像処
理時の処理汚れ等が起こり易くなる。
【０００６】一方、ガス中放電プラズマ処理は大気圧近
傍のガスで処理が出来るため、大がかりな装置がいら
ず、処理も至って簡単であり、ポリエステル支持体にハ
ロゲン化銀乳剤層の構成層を容易に接着させることの出
来る望ましい方法である。しかしながら、ロール状に巻
かれて経時した場合、上記のような同様な現象が起こり
易くなる。
傍のガスで処理が出来るため、大がかりな装置がいら
ず、処理も至って簡単であり、ポリエステル支持体にハ
ロゲン化銀乳剤層の構成層を容易に接着させることの出
来る望ましい方法である。しかしながら、ロール状に巻
かれて経時した場合、上記のような同様な現象が起こり
易くなる。
【０００７】これらのメカニズムについてはよく分かっ
ていないが、本来、下引後の熱処理により支持体表面あ
るいは下引層中で架橋反応してしまうはずの下引層に含
有させたアジリジン基を有する化合物やオキサゾリン基
を有する化合物の架橋剤の一部が、熱処理の不足により
未反応であったり、あるいは開環し失活した状態で残
り、これらが経時で下引層上層の表面にまで拡散して、
ロール状で保存された場合、互いに接した層に未反応物
や失活した物質が転写し、様々な現象を引き起こすと本
発明者らはこの現象を推定した。また、ガス中放電プラ
ズマ処理を行った場合にも、アジリジン基を有する化合
物やオキサゾリン基を有する化合物の架橋剤を使用して
いないのに、類似した現象が起こることから、ガス中放
電プラズマ処理によって発現した何らかの似たような物
質が上記と同様な現象を引き起こすとも推察した。特に
ガス中放電プラズマ処理の処理ガスが、窒素ガス及び／
またはアンモニアガスを混合したアルゴンガスを主成分
とする場合、またポリエステル支持体に変性ポリエステ
ルフィルムを使用した場合に顕著であった。
ていないが、本来、下引後の熱処理により支持体表面あ
るいは下引層中で架橋反応してしまうはずの下引層に含
有させたアジリジン基を有する化合物やオキサゾリン基
を有する化合物の架橋剤の一部が、熱処理の不足により
未反応であったり、あるいは開環し失活した状態で残
り、これらが経時で下引層上層の表面にまで拡散して、
ロール状で保存された場合、互いに接した層に未反応物
や失活した物質が転写し、様々な現象を引き起こすと本
発明者らはこの現象を推定した。また、ガス中放電プラ
ズマ処理を行った場合にも、アジリジン基を有する化合
物やオキサゾリン基を有する化合物の架橋剤を使用して
いないのに、類似した現象が起こることから、ガス中放
電プラズマ処理によって発現した何らかの似たような物
質が上記と同様な現象を引き起こすとも推察した。特に
ガス中放電プラズマ処理の処理ガスが、窒素ガス及び／
またはアンモニアガスを混合したアルゴンガスを主成分
とする場合、またポリエステル支持体に変性ポリエステ
ルフィルムを使用した場合に顕著であった。
【０００８】本発明は上記事情によりなされたものであ
り、本発明の第１の目的は、ポリエステル支持体に、ア
ジリジン基及び／またはオキサゾリン基を含有する疎水
性ポリマー層の下引層を塗設後、その反対側に種々のバ
ック層（透明磁気記録層、滑り剤を含有する層等）を塗
設し、ロール状に巻いて保管中に経時変化により、その
後下引層の上に塗設されるハロゲン化銀乳剤層構成層の
接着性の劣化がなく、ハロゲン化銀写真感光材料の現像
時の現像汚れを起こさない、またハロゲン化銀乳剤層と
反対側の透明磁気記録層の接着性の劣化もなく、磁気記
録層付きのハロゲン化銀写真感光材料が使用時に磁気ヘ
ッドの汚れを起こさないハロゲン化銀写真感光材料用支
持体を提供することにある。本発明の第２の目的は、ガ
ス中放電プラズマ処理を行ったポリエステル支持体に、
種々任意の層を塗設後、その反対側に種々のバック層
（透明磁気記録層、滑り剤を含有する層等）を塗設し、
ロール状に巻いて保管中に経時変化により、その後塗設
されるハロゲン化銀乳剤層構成層の接着性の劣化がな
く、ハロゲン化銀写真感光材料の現像時の現像汚れを起
こさない、またハロゲン化銀乳剤層と反対側の透明磁気
記録層の接着性の劣化もなく、磁気記録層付きのハロゲ
ン化銀写真感光材料が使用時に磁気ヘッドの汚れを起こ
さないハロゲン化銀写真感光材料用支持体を提供するこ
とにある。更に、第３の目的はこれらのハロゲン化銀写
真感光材料用支持体にハロゲン化銀乳剤層を塗設した安
定したハロゲン化銀写真感光材料を提供することにあ
る。
り、本発明の第１の目的は、ポリエステル支持体に、ア
ジリジン基及び／またはオキサゾリン基を含有する疎水
性ポリマー層の下引層を塗設後、その反対側に種々のバ
ック層（透明磁気記録層、滑り剤を含有する層等）を塗
設し、ロール状に巻いて保管中に経時変化により、その
後下引層の上に塗設されるハロゲン化銀乳剤層構成層の
接着性の劣化がなく、ハロゲン化銀写真感光材料の現像
時の現像汚れを起こさない、またハロゲン化銀乳剤層と
反対側の透明磁気記録層の接着性の劣化もなく、磁気記
録層付きのハロゲン化銀写真感光材料が使用時に磁気ヘ
ッドの汚れを起こさないハロゲン化銀写真感光材料用支
持体を提供することにある。本発明の第２の目的は、ガ
ス中放電プラズマ処理を行ったポリエステル支持体に、
種々任意の層を塗設後、その反対側に種々のバック層
（透明磁気記録層、滑り剤を含有する層等）を塗設し、
ロール状に巻いて保管中に経時変化により、その後塗設
されるハロゲン化銀乳剤層構成層の接着性の劣化がな
く、ハロゲン化銀写真感光材料の現像時の現像汚れを起
こさない、またハロゲン化銀乳剤層と反対側の透明磁気
記録層の接着性の劣化もなく、磁気記録層付きのハロゲ
ン化銀写真感光材料が使用時に磁気ヘッドの汚れを起こ
さないハロゲン化銀写真感光材料用支持体を提供するこ
とにある。更に、第３の目的はこれらのハロゲン化銀写
真感光材料用支持体にハロゲン化銀乳剤層を塗設した安
定したハロゲン化銀写真感光材料を提供することにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題に
ついて、検討した結果、ポリエステル支持体上に下引層
として、アジリジン基及び／またはオキサゾリン基を有
する架橋剤を含有する疎水性ポリマー層、その上に、カ
ルボキシル基を有する化合物を含有する親水性ポリマー
層を設けることにより、下引層塗設時の加熱温度を使用
する支持体のガラス転移点以下で行っても、経時変化も
なく、ハロゲン化銀乳剤層構成層の接着性の劣化、現像
汚れ、磁気記録層の接着性の劣化、磁気ヘッドの汚れ等
が起こらないハロゲン化銀写真感光材料用支持体を得る
ことが出来た。このことについて本発明者は、本発明の
カルボキシル基を有する化合物を含有する層を設けるこ
とにより、使用架橋剤のうちの未反応物、あるいは失活
物質が、カルボン酸に捕捉されるため、このような未反
応物や失活物質のような物質が経時中に、親水性ポリマ
ー層から他の層に移動や転写することがなくなり、経時
変化が起こらなくなると推測した。
ついて、検討した結果、ポリエステル支持体上に下引層
として、アジリジン基及び／またはオキサゾリン基を有
する架橋剤を含有する疎水性ポリマー層、その上に、カ
ルボキシル基を有する化合物を含有する親水性ポリマー
層を設けることにより、下引層塗設時の加熱温度を使用
する支持体のガラス転移点以下で行っても、経時変化も
なく、ハロゲン化銀乳剤層構成層の接着性の劣化、現像
汚れ、磁気記録層の接着性の劣化、磁気ヘッドの汚れ等
が起こらないハロゲン化銀写真感光材料用支持体を得る
ことが出来た。このことについて本発明者は、本発明の
カルボキシル基を有する化合物を含有する層を設けるこ
とにより、使用架橋剤のうちの未反応物、あるいは失活
物質が、カルボン酸に捕捉されるため、このような未反
応物や失活物質のような物質が経時中に、親水性ポリマ
ー層から他の層に移動や転写することがなくなり、経時
変化が起こらなくなると推測した。
【００１０】また、同様に、ポリエステル支持体をガス
中放電プラズマ処理して、その上にカルボキシル基を有
する化合物を含有する親水性ポリマー層を有するもので
あり、これにより課題を解決することが出来た。これに
ついても本発明者は、処理ガスとして、特に窒素ガス及
び／またはアンモニアガスを使用してガス中放電プラズ
マ処理することにより発生する上記架橋剤の失活物質に
類似するものがカルボン酸に捕捉されるため、上記と同
様に他の層に移動したり、転写したりすることによる同
様なトラブルが起こらなくなると、推測した。
中放電プラズマ処理して、その上にカルボキシル基を有
する化合物を含有する親水性ポリマー層を有するもので
あり、これにより課題を解決することが出来た。これに
ついても本発明者は、処理ガスとして、特に窒素ガス及
び／またはアンモニアガスを使用してガス中放電プラズ
マ処理することにより発生する上記架橋剤の失活物質に
類似するものがカルボン酸に捕捉されるため、上記と同
様に他の層に移動したり、転写したりすることによる同
様なトラブルが起こらなくなると、推測した。
【００１１】本発明は下記構成よりなる。
【００１２】（１） ポリエステル支持体の少なくとも
一方の面に下引層として支持体に近い側から順に疎水性
ポリマー層及び親水性ポリマー層を有し、該疎水性ポリ
マー層がアジリジン及び／またはオキサゾリン基を有す
る化合物を含有し、且つ該親水性ポリマー層がカルボキ
シル基を有する化合物を含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体。
一方の面に下引層として支持体に近い側から順に疎水性
ポリマー層及び親水性ポリマー層を有し、該疎水性ポリ
マー層がアジリジン及び／またはオキサゾリン基を有す
る化合物を含有し、且つ該親水性ポリマー層がカルボキ
シル基を有する化合物を含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００１３】（２） ポリエステル支持体の一方の面に
支持体から最も遠い位置に滑り剤を含有する層を有し、
その反対側の面に少なくとも１層の下引層としての疎水
性ポリマー層を有し、且つ、該疎水性ポリマー層側の面
の支持体から最も遠い位置に親水性ポリマー層を有し、
該疎水性ポリマー層がアジリジン及び／またはオキサゾ
リン基を有する化合物を含有し、該親水性ポリマー層が
カルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
支持体から最も遠い位置に滑り剤を含有する層を有し、
その反対側の面に少なくとも１層の下引層としての疎水
性ポリマー層を有し、且つ、該疎水性ポリマー層側の面
の支持体から最も遠い位置に親水性ポリマー層を有し、
該疎水性ポリマー層がアジリジン及び／またはオキサゾ
リン基を有する化合物を含有し、該親水性ポリマー層が
カルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００１４】（３） 滑り剤を含有する層が、カルボキ
シル基を有する化合物を含有することを特徴とする
（２）に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
シル基を有する化合物を含有することを特徴とする
（２）に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００１５】（４） ポリエステル支持体の一方の面に
透明磁気記録層を有し、その反対側の面に少なくとも一
層の疎水性ポリマー層を有し、且つ、疎水性ポリマー層
側の面の支持体から最も遠い位置に親水性ポリマー層を
有し、該疎水性ポリマー層がアジリジン及び／またはオ
キサゾリン基を有する化合物を含有し、該親水性ポリマ
ー層がカルボキシル基を有する化合物を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
透明磁気記録層を有し、その反対側の面に少なくとも一
層の疎水性ポリマー層を有し、且つ、疎水性ポリマー層
側の面の支持体から最も遠い位置に親水性ポリマー層を
有し、該疎水性ポリマー層がアジリジン及び／またはオ
キサゾリン基を有する化合物を含有し、該親水性ポリマ
ー層がカルボキシル基を有する化合物を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００１６】（５） 透明磁気記録層が、カルボキシル
基を含有する化合物を含有することを特徴とする（４）
に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
基を含有する化合物を含有することを特徴とする（４）
に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００１７】（６） ポリエステル支持体の少なくとも
一方の面にアルゴンガスを主成分とするガス中放電プラ
ズマ処理が施された処理面を有し、該処理面上に下引層
としての親水性ポリマー層を有し、且つ該親水性ポリマ
ー層がカルボキシル基を有する化合物を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
一方の面にアルゴンガスを主成分とするガス中放電プラ
ズマ処理が施された処理面を有し、該処理面上に下引層
としての親水性ポリマー層を有し、且つ該親水性ポリマ
ー層がカルボキシル基を有する化合物を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００１８】（７） ポリエステル支持体の一方の面に
支持体から最も遠い層に滑り剤を含有する層を有し、そ
の反対側の面にアルゴンガスを主成分とするガス中放電
プラズマ処理が施された処理面を有し、該処理面側の支
持体から最も遠い位置に親水性ポリマー層を有し、該親
水性ポリマー層がカルボキシル基を有する化合物を含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用支持
体。
支持体から最も遠い層に滑り剤を含有する層を有し、そ
の反対側の面にアルゴンガスを主成分とするガス中放電
プラズマ処理が施された処理面を有し、該処理面側の支
持体から最も遠い位置に親水性ポリマー層を有し、該親
水性ポリマー層がカルボキシル基を有する化合物を含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用支持
体。
【００１９】（８） 滑り剤を含有する層が、カルボキ
シル基を有する化合物を含有することを特徴とする
（７）に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
シル基を有する化合物を含有することを特徴とする
（７）に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００２０】（９） ポリエステル支持体の一方の面に
透明磁気記録層を有し、その反対側の面に、アルゴンガ
スを主成分とするガス中放電プラズマ処理が施された処
理面を有し、該処理面側の支持体から最も遠い位置に親
水性ポリマー層を有し、該親水性ポリマー層がカルボキ
シル基を有する化合物を含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体。
透明磁気記録層を有し、その反対側の面に、アルゴンガ
スを主成分とするガス中放電プラズマ処理が施された処
理面を有し、該処理面側の支持体から最も遠い位置に親
水性ポリマー層を有し、該親水性ポリマー層がカルボキ
シル基を有する化合物を含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００２１】（１０） 透明磁気記録層が、カルボキシ
ル基を含有する化合物を含有することを特徴とする
（９）に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
ル基を含有する化合物を含有することを特徴とする
（９）に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００２２】（１１） ガス中放電プラズマ処理が窒素
ガス及び／またはアンモニアガスを混合したアルゴンガ
スを主成分とするガス組成で行ったものであることを特
徴とする（６）乃至（１０）の何れか１項に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体。
ガス及び／またはアンモニアガスを混合したアルゴンガ
スを主成分とするガス組成で行ったものであることを特
徴とする（６）乃至（１０）の何れか１項に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００２３】（１２） カルボキシル基を有する化合物
が、低分子のカルボキシル基含有酸化合物、カルボキシ
ル基含有合成ポリマー、ゼラチン以外のカルボキシル基
含有天然ポリマー及び天然ポリマーにカルボキシル基を
導入した半合成ポリマーから選ばれる少なくとも一つで
あることを特徴とする（１）乃至（１１）の何れか１項
に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
が、低分子のカルボキシル基含有酸化合物、カルボキシ
ル基含有合成ポリマー、ゼラチン以外のカルボキシル基
含有天然ポリマー及び天然ポリマーにカルボキシル基を
導入した半合成ポリマーから選ばれる少なくとも一つで
あることを特徴とする（１）乃至（１１）の何れか１項
に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００２４】（１３） 親水性ポリマー層のバインダー
の５０％以上がゼラチンであることを特徴とする（１）
乃至（１２）の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料用支持体。
の５０％以上がゼラチンであることを特徴とする（１）
乃至（１２）の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料用支持体。
【００２５】（１４） 親水性ポリマー層が金属酸化物
粒子を含有する導電性層であることを特徴とする（１）
乃至（１３）の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料用支持体。
粒子を含有する導電性層であることを特徴とする（１）
乃至（１３）の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料用支持体。
【００２６】（１５） カルボキシル基を有する化合物
の含有量が、それを含有する層のバインダーの３重量％
以上であることを（１）乃至（１４）の何れか１項に記
載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
の含有量が、それを含有する層のバインダーの３重量％
以上であることを（１）乃至（１４）の何れか１項に記
載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００２７】（１６） カルボキシル基を有する化合物
が、導電性ポリマーであることを特徴とする（１）乃至
（１５）の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感光材
料用支持体。
が、導電性ポリマーであることを特徴とする（１）乃至
（１５）の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感光材
料用支持体。
【００２８】（１７） ポリエステル支持体が、アニー
ル処理が施されたポリエチレンナフタレート支持体であ
ることを特徴とする（１）乃至（１６）の何れか１項に
記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
ル処理が施されたポリエチレンナフタレート支持体であ
ることを特徴とする（１）乃至（１６）の何れか１項に
記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００２９】（１８） ポリエステル支持体のポリエス
テルが、ジカルボン酸成分としてスルホン酸基またはそ
の塩及び／またはジオール成分としてポリアルキレング
リコール単位を含有するものであることを特徴とする
（１）乃至（１７）の何れか１項に記載のハロゲン化銀
写真感光材料用支持体。
テルが、ジカルボン酸成分としてスルホン酸基またはそ
の塩及び／またはジオール成分としてポリアルキレング
リコール単位を含有するものであることを特徴とする
（１）乃至（１７）の何れか１項に記載のハロゲン化銀
写真感光材料用支持体。
【００３０】（１９） ポリエステル支持体が２層以上
のポリエステルを積層したものであり、その少なくとも
一層が、ジカルボン酸成分としてスルホン酸基またはそ
の塩及び／またはジオール成分としてポリアルキレング
リコール単位を含有するものであることを特徴とする
（１）乃至（１８）の何れか１項に記載のハロゲン化銀
写真感光材料用支持体。
のポリエステルを積層したものであり、その少なくとも
一層が、ジカルボン酸成分としてスルホン酸基またはそ
の塩及び／またはジオール成分としてポリアルキレング
リコール単位を含有するものであることを特徴とする
（１）乃至（１８）の何れか１項に記載のハロゲン化銀
写真感光材料用支持体。
【００３１】（２０） カルボキシル基を有する化合物
を含有する層が、ポリエステル支持体上に塗設され、該
支持体のガラス転移点以下の温度で加熱して形成された
ものであることを特徴とする（１）乃至（１９）の何れ
か１項に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
を含有する層が、ポリエステル支持体上に塗設され、該
支持体のガラス転移点以下の温度で加熱して形成された
ものであることを特徴とする（１）乃至（１９）の何れ
か１項に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
【００３２】（２１） （１）乃至（２０）の何れか１
項に記載のカルボキシル基を有する化合物を含有する親
水性ポリマー層の上にハロゲン化銀乳剤層構成層を塗設
したことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
項に記載のカルボキシル基を有する化合物を含有する親
水性ポリマー層の上にハロゲン化銀乳剤層構成層を塗設
したことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【００３３】本発明を詳述する。
【００３４】本発明における下引層は、ポリエステル支
持体にハロゲン化銀写真感光材料の構成層を強固に接着
させるための支持体上に設けられた層であって、本発明
において、ポリエステル支持体面に直接設けられる疎水
性ポリマー層とその上に設けられる親水性ポリマー層が
ある。この場合、ポリエステル支持体側にある疎水性ポ
リマー層の下引層を下引層下層といい、その上にある親
水性ポリマー層の下引層を下引層上層ということもあ
る。また、ガス中放電プラズマ処理を施した上に塗設さ
れる親水性ポリマー層は単に下引層ということもある。
持体にハロゲン化銀写真感光材料の構成層を強固に接着
させるための支持体上に設けられた層であって、本発明
において、ポリエステル支持体面に直接設けられる疎水
性ポリマー層とその上に設けられる親水性ポリマー層が
ある。この場合、ポリエステル支持体側にある疎水性ポ
リマー層の下引層を下引層下層といい、その上にある親
水性ポリマー層の下引層を下引層上層ということもあ
る。また、ガス中放電プラズマ処理を施した上に塗設さ
れる親水性ポリマー層は単に下引層ということもある。
【００３５】本発明において、下引層下層、あるいは下
引層上層が、何れかがなくとも、１層ずつでも、何れか
が２層以上あってもよく、ポリエステル支持体に接着さ
せる上物（ハロゲン化銀乳剤層等の構成層の種類）によ
って適宜層構成を選択すればよい。また、ポリエステル
支持体表面及び／または下引層下層の表面に、コロナ放
電処理、真空グロー放電処理、紫外線処理、火炎処理等
の表面処理を施してからこれらの親水性ポリマー層やハ
ロゲン化銀乳剤層の構成層を塗設してもよい。
引層上層が、何れかがなくとも、１層ずつでも、何れか
が２層以上あってもよく、ポリエステル支持体に接着さ
せる上物（ハロゲン化銀乳剤層等の構成層の種類）によ
って適宜層構成を選択すればよい。また、ポリエステル
支持体表面及び／または下引層下層の表面に、コロナ放
電処理、真空グロー放電処理、紫外線処理、火炎処理等
の表面処理を施してからこれらの親水性ポリマー層やハ
ロゲン化銀乳剤層の構成層を塗設してもよい。
【００３６】本発明の下引層下層としての疎水性ポリマ
ー層の素材としては、造膜性が優れ、支持体のポリエス
テルと親和性のある疎水性ポリマーであれば特に限定さ
れるものではないが、例えば、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共
重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、
エポキシ系共重合体などを挙げることが出来、これらを
混合して用いてもよい。上記疎水性ポリマーを構成する
モノマーあるいはポリマー構成成分を下記の如く挙げる
ことが出来る。
ー層の素材としては、造膜性が優れ、支持体のポリエス
テルと親和性のある疎水性ポリマーであれば特に限定さ
れるものではないが、例えば、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共
重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、
エポキシ系共重合体などを挙げることが出来、これらを
混合して用いてもよい。上記疎水性ポリマーを構成する
モノマーあるいはポリマー構成成分を下記の如く挙げる
ことが出来る。
【００３７】付加重合のエチレン性不飽和モノマーとし
ては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸−２−ヒドロキ
シエチル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸エステル
類；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ア
ミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸グリシ
ジル等のメタクリル酸エステル類；エチレン、プロピレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィンまたはジオ
レフィン類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエー
テル等のビニルエーテル類；酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、ピバル酸ビニル等のビニルエステル類；メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン等のビニルケトン類；スチレン、ビニルトルエン、
α−メチルスチレン等のスチレン類；アクリルアミド、
Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミ
ド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアクリルアミド、Ｎ−モルホリノアクリルアミド、Ｎ
−ベンジルアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メ
チルメタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ
−プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルメタクリルアミド、Ｎ−モルホリノメタクリルアミ
ド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド等のアクリルアミド
類、塩化ビニル、塩化ビニリデン、クロロプレン等のハ
ロゲン化ビニルまたはオレフィン類等を挙げることが出
来る。なお、ここではノルマル（ｎ）、イソ（ｉ）、セ
カンダリー（ｓ）、ターシャリー（ｔ）については省略
したが、何れの異性体も使用し得る。
ては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸−２−ヒドロキ
シエチル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸エステル
類；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ア
ミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸グリシ
ジル等のメタクリル酸エステル類；エチレン、プロピレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィンまたはジオ
レフィン類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエー
テル等のビニルエーテル類；酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、ピバル酸ビニル等のビニルエステル類；メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン等のビニルケトン類；スチレン、ビニルトルエン、
α−メチルスチレン等のスチレン類；アクリルアミド、
Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミ
ド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアクリルアミド、Ｎ−モルホリノアクリルアミド、Ｎ
−ベンジルアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メ
チルメタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ
−プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルメタクリルアミド、Ｎ−モルホリノメタクリルアミ
ド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド等のアクリルアミド
類、塩化ビニル、塩化ビニリデン、クロロプレン等のハ
ロゲン化ビニルまたはオレフィン類等を挙げることが出
来る。なお、ここではノルマル（ｎ）、イソ（ｉ）、セ
カンダリー（ｓ）、ターシャリー（ｔ）については省略
したが、何れの異性体も使用し得る。
【００３８】縮合重合系では、ポリエステルのジカルボ
ン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル
酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタ
レンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、
ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジ
カルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニル
ジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、
ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカ
ルボン酸等を、ジオール成分として、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）スルホン、９，９−ビス（４，４′−
ジ−β−ヒドロキシエチル）フルオレフィン、ジエチレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノ
ン、シクロヘキサンジオール等を挙げることが出来る。
またカルボキシグリコール、多官能性アルコール、アミ
ンおよびアミノアルコールも使用出来る。なお、これら
のモノマーの詳細については「高分子データハンドブッ
ク［基礎編］」高分子学会編（培風館）を参考に出来
る。
ン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル
酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタ
レンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、
ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジ
カルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニル
ジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、
ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカ
ルボン酸等を、ジオール成分として、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）スルホン、９，９−ビス（４，４′−
ジ−β−ヒドロキシエチル）フルオレフィン、ジエチレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノ
ン、シクロヘキサンジオール等を挙げることが出来る。
またカルボキシグリコール、多官能性アルコール、アミ
ンおよびアミノアルコールも使用出来る。なお、これら
のモノマーの詳細については「高分子データハンドブッ
ク［基礎編］」高分子学会編（培風館）を参考に出来
る。
【００３９】本発明においては、疎水性ポリマー層に、
架橋剤として、アジリジン基を有する化合物及び／また
はオキサゾリン基を有する化合物を添加する。本発明の
疎水性ポリマー層（下引層下層）に添加するアジリジン
基を有する化合物及び／またはオキサゾリン基を有する
化合物は、ポリエステル支持体と該支持体に隣接する下
引層（下引層下層及び／または下引層上層）との接着性
を向上させるためのものである。
架橋剤として、アジリジン基を有する化合物及び／また
はオキサゾリン基を有する化合物を添加する。本発明の
疎水性ポリマー層（下引層下層）に添加するアジリジン
基を有する化合物及び／またはオキサゾリン基を有する
化合物は、ポリエステル支持体と該支持体に隣接する下
引層（下引層下層及び／または下引層上層）との接着性
を向上させるためのものである。
【００４０】本発明に係るアジリジン基を有する化合物
またはオキサゾリン基を有する化合物は、同一分子内に
２個以上のアジリジン環またはオキサゾリン環を有する
もので、それら官能基を２個以上のを有するものであれ
ばその構造は特に制限されない。アジリジン基を有する
架橋剤としては、例えば、ＰＢレポート、１９９２１、
米国特許第２，９５０，１９７号、同２，９６４，４０
４号、同２，９８３，６１１号及び同３，２７１，１７
５号の各明細書、特公昭４６−４０８９８号及び特開昭
５０−９１３１５号の各公報に記載のもの、また、オキ
サゾリン基を有する架橋剤としては、例えば、特開平２
−９９５３７号、同５−２９５２７５号、同９−１１４
２７号公報に記載のもの等を使用することが出来る。こ
のようなアジリジン基を有する化合物またはオキサゾリ
ン基を有する化合物は、低分子タイプのものと高分子タ
イプのものがある。低分子タイプのものは高分子タイプ
に比べ経時による移動や転写が起こり易いため本発明が
有効である。
またはオキサゾリン基を有する化合物は、同一分子内に
２個以上のアジリジン環またはオキサゾリン環を有する
もので、それら官能基を２個以上のを有するものであれ
ばその構造は特に制限されない。アジリジン基を有する
架橋剤としては、例えば、ＰＢレポート、１９９２１、
米国特許第２，９５０，１９７号、同２，９６４，４０
４号、同２，９８３，６１１号及び同３，２７１，１７
５号の各明細書、特公昭４６−４０８９８号及び特開昭
５０−９１３１５号の各公報に記載のもの、また、オキ
サゾリン基を有する架橋剤としては、例えば、特開平２
−９９５３７号、同５−２９５２７５号、同９−１１４
２７号公報に記載のもの等を使用することが出来る。こ
のようなアジリジン基を有する化合物またはオキサゾリ
ン基を有する化合物は、低分子タイプのものと高分子タ
イプのものがある。低分子タイプのものは高分子タイプ
に比べ経時による移動や転写が起こり易いため本発明が
有効である。
【００４１】本発明に係る低分子タイプのアジリジン基
を有する化合物またはオキサゾリン基を有する化合物の
数平均分子量は１０００以下のものである。また、それ
らの疎水性ポリマー層中の含有量は、疎水性ポリマーバ
インダーに対して０．１〜３０重量％であることが好ま
しく、更に好ましくは１〜２０重量％である。
を有する化合物またはオキサゾリン基を有する化合物の
数平均分子量は１０００以下のものである。また、それ
らの疎水性ポリマー層中の含有量は、疎水性ポリマーバ
インダーに対して０．１〜３０重量％であることが好ま
しく、更に好ましくは１〜２０重量％である。
【００４２】以下にアジリジン基を有する化合物及びオ
キサゾリン基を有する化合物の具体例を挙げるが、これ
らに限定されるものではない。
キサゾリン基を有する化合物の具体例を挙げるが、これ
らに限定されるものではない。
【００４３】アジリジン基を有する化合物としては、
【００４４】
【化１】
【００４５】
【化２】
【００４６】
【化３】
【００４７】等を挙げることが出来る。
【００４８】また、オキサゾリン基を有する化合物とし
ては、
ては、
【００４９】
【化４】
【００５０】本発明における親水性ポリマー層のバイン
ダーとしては、ゼラチン、アルブミン、カゼイン、ポリ
−Ｎ−ビニルピロリドン、ヒドロキシメチルセルロー
ス、ポリアクリルアミド等を挙げることが出来るが、こ
れらの中でもゼラチンを有する親水性ポリマー層が、ハ
ロゲン化銀乳剤層構成層や磁気記録層との接着性が優れ
たものとするため好ましい。本発明において、バインダ
ーの５０重量％以上がゼラチンであることが好ましく、
より好ましくは７０重量％以上である。ゼラチンにはア
ルカリ処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、脱イオン化ゼラ
チン等の他に、アセチル化ゼラチン等のゼラチン誘導体
もあるが、本発明においてはいずれも使用出来る。
ダーとしては、ゼラチン、アルブミン、カゼイン、ポリ
−Ｎ−ビニルピロリドン、ヒドロキシメチルセルロー
ス、ポリアクリルアミド等を挙げることが出来るが、こ
れらの中でもゼラチンを有する親水性ポリマー層が、ハ
ロゲン化銀乳剤層構成層や磁気記録層との接着性が優れ
たものとするため好ましい。本発明において、バインダ
ーの５０重量％以上がゼラチンであることが好ましく、
より好ましくは７０重量％以上である。ゼラチンにはア
ルカリ処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、脱イオン化ゼラ
チン等の他に、アセチル化ゼラチン等のゼラチン誘導体
もあるが、本発明においてはいずれも使用出来る。
【００５１】本発明のカルボキシル基を有する化合物と
しては、カルボキシル基を有する化合物であれば制限な
く使用出来るが、低分子のカルボキシル基を有する化合
物、カルボキシル基を有する合成ポリマー、カルボキシ
ル基を有する天然ポリマー、また天然ポリマーにカルボ
キシル基を導入した半合成ポリマー等と挙げることが出
来る。なお、親水性ポリマー相への添加量は全バインダ
ーに対して５０重量％未満とすることが好ましく、３〜
３０重量％の範囲とすることがより好ましい。
しては、カルボキシル基を有する化合物であれば制限な
く使用出来るが、低分子のカルボキシル基を有する化合
物、カルボキシル基を有する合成ポリマー、カルボキシ
ル基を有する天然ポリマー、また天然ポリマーにカルボ
キシル基を導入した半合成ポリマー等と挙げることが出
来る。なお、親水性ポリマー相への添加量は全バインダ
ーに対して５０重量％未満とすることが好ましく、３〜
３０重量％の範囲とすることがより好ましい。
【００５２】低分子のカルボキシル基を有する化合物と
しては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、イソ吉草
酸、トリメチル酢酸、、シュウ酸、マロン酸、琥珀酸、
グルタル酸、アジピン酸、フマル酸、フタル酸、安息香
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、スペリン
酸、サリチル酸、ｍ−オキシ安息香酸、ｐ−オキシ安息
香酸、グリコール酸、β−オキシアクリル酸等を挙げる
ことが出来、炭素原子数が２０以下の化合物が好まし
い。本発明において、これらの低分子カルボキシル基を
有する化合物はアルカリ金属やアンモニウム等の塩を形
成していてもよく、塗布液に水溶液として添加する場
合、全部中和して添加しても、中和半ばで添加してもよ
い。また低分子カルボキシル基を有する化合物をアルコ
ールに溶解して塗布液に添加してもよい。
しては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、イソ吉草
酸、トリメチル酢酸、、シュウ酸、マロン酸、琥珀酸、
グルタル酸、アジピン酸、フマル酸、フタル酸、安息香
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、スペリン
酸、サリチル酸、ｍ−オキシ安息香酸、ｐ−オキシ安息
香酸、グリコール酸、β−オキシアクリル酸等を挙げる
ことが出来、炭素原子数が２０以下の化合物が好まし
い。本発明において、これらの低分子カルボキシル基を
有する化合物はアルカリ金属やアンモニウム等の塩を形
成していてもよく、塗布液に水溶液として添加する場
合、全部中和して添加しても、中和半ばで添加してもよ
い。また低分子カルボキシル基を有する化合物をアルコ
ールに溶解して塗布液に添加してもよい。
【００５３】本発明のカルボキシル基を有する合成ポリ
マーとしては、カルボキシル基を有するエチレン性不飽
和モノマーを繰り返し単位とするホモポリマー及び／ま
たはカルボキシル基を有するエチレン性不飽和モノマー
単位とカルボキシル基を有しないエチレン性不飽和モノ
マー単位とのコポリマーである。本発明において、これ
らを総称してカルボキシル基を有する合成ポリマーとす
る。
マーとしては、カルボキシル基を有するエチレン性不飽
和モノマーを繰り返し単位とするホモポリマー及び／ま
たはカルボキシル基を有するエチレン性不飽和モノマー
単位とカルボキシル基を有しないエチレン性不飽和モノ
マー単位とのコポリマーである。本発明において、これ
らを総称してカルボキシル基を有する合成ポリマーとす
る。
【００５４】本発明に有用なカルボキシル基を有する合
成ポリマーのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和
モノマー単位としては、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、マレイン酸、フマル酸、２−オキシカルボニ
ルエチルアクリレート、２−オキシカルボニルメタクリ
レート、２−（２′−オキシカルボニルエチルカルボキ
シ）エチルアクリレート、２−（２′−オキシカルボニ
ルエチルカルボキシ）エチルメタクリレート、２−（ｍ
−オキシカルボニルベンゾイルオキシ）エチルアクリレ
ート、２−オキシカルボニルエチルカルボオキシエチレ
ン、ｍ−オキシカルボニルベンゾイルオキシエチレン、
４−オキシカルボニルスチレン等を挙げることが出来る
が、これらに限定されない。本発明において、上記モノ
マー単位のうち、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン
酸、イタコン酸が好ましく用いられる。
成ポリマーのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和
モノマー単位としては、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、マレイン酸、フマル酸、２−オキシカルボニ
ルエチルアクリレート、２−オキシカルボニルメタクリ
レート、２−（２′−オキシカルボニルエチルカルボキ
シ）エチルアクリレート、２−（２′−オキシカルボニ
ルエチルカルボキシ）エチルメタクリレート、２−（ｍ
−オキシカルボニルベンゾイルオキシ）エチルアクリレ
ート、２−オキシカルボニルエチルカルボオキシエチレ
ン、ｍ−オキシカルボニルベンゾイルオキシエチレン、
４−オキシカルボニルスチレン等を挙げることが出来る
が、これらに限定されない。本発明において、上記モノ
マー単位のうち、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン
酸、イタコン酸が好ましく用いられる。
【００５５】本発明に有用なカルボキシル基を有する合
成ポリマーのカルボキシル基を有しないモノマー単位と
しては、前記付加重合で記載したエチレン性不飽和モノ
マーを同様に挙げることが出来る（省略）。
成ポリマーのカルボキシル基を有しないモノマー単位と
しては、前記付加重合で記載したエチレン性不飽和モノ
マーを同様に挙げることが出来る（省略）。
【００５６】本発明のカルボキシル基を有する合成ポリ
マーのうちのカルボキシル基を有するモノマー単位の含
有量は５モル％以上が好ましく、より１０モル％以上が
好ましい。カルボキシル基を有する合成ポリマーは、カ
ルボキシル基を有しないモノマー単位がスルホン酸金属
塩を有するエチレン性不飽和モノマー単位を有したポリ
マー（下記に例を記載）が導電性を有し、それが添加さ
れた層は帯電防止層を兼ねることが出来る。また本発明
のカルボキシル基を有する合成ポリマーは、水溶性、水
及びアルコール混合液に溶解性あるいは水に対する分散
性（ラテックスの場合）を有している。また、本発明に
おいて、カルボキシル基を有する合成ポリマーのカルボ
ン酸をアルカリ金属またはアンモニウムで中和したもの
を用いてもよく、カルボン酸を溶液中で完全に中和して
添加しても、中和を途中で止めた部分中和したものを添
加してもかまわない。親水性ポリマー層のカルボキシル
基を有する化合物として、単独で使用してもよいし、２
種以上併用してもよい。
マーのうちのカルボキシル基を有するモノマー単位の含
有量は５モル％以上が好ましく、より１０モル％以上が
好ましい。カルボキシル基を有する合成ポリマーは、カ
ルボキシル基を有しないモノマー単位がスルホン酸金属
塩を有するエチレン性不飽和モノマー単位を有したポリ
マー（下記に例を記載）が導電性を有し、それが添加さ
れた層は帯電防止層を兼ねることが出来る。また本発明
のカルボキシル基を有する合成ポリマーは、水溶性、水
及びアルコール混合液に溶解性あるいは水に対する分散
性（ラテックスの場合）を有している。また、本発明に
おいて、カルボキシル基を有する合成ポリマーのカルボ
ン酸をアルカリ金属またはアンモニウムで中和したもの
を用いてもよく、カルボン酸を溶液中で完全に中和して
添加しても、中和を途中で止めた部分中和したものを添
加してもかまわない。親水性ポリマー層のカルボキシル
基を有する化合物として、単独で使用してもよいし、２
種以上併用してもよい。
【００５７】本発明のカルボキシル基を有する合成ポリ
マーの重合は、乳化重合を行ってもよいし、有機溶媒中
あるいは水中で溶液重合を行ってもよい。またラテック
スのかたちより水溶液として用いる方が好ましい。重合
方法については、大津隆行、木下雅悦共著、「高分子合
成の実験法」（化学同人）及びＷ．Ｒ．Ｓｏｒｅｎｓｏ
ｎ、Ｔ．Ｗ．Ｃａｍｐｂｅｌｌ共著、星野敏雄、依田直
也共訳「高分子合成実験法」（東京化学同人）に記載さ
れている方法を参考にして合成出来る。
マーの重合は、乳化重合を行ってもよいし、有機溶媒中
あるいは水中で溶液重合を行ってもよい。またラテック
スのかたちより水溶液として用いる方が好ましい。重合
方法については、大津隆行、木下雅悦共著、「高分子合
成の実験法」（化学同人）及びＷ．Ｒ．Ｓｏｒｅｎｓｏ
ｎ、Ｔ．Ｗ．Ｃａｍｐｂｅｌｌ共著、星野敏雄、依田直
也共訳「高分子合成実験法」（東京化学同人）に記載さ
れている方法を参考にして合成出来る。
【００５８】本発明のカルボキシル基を有する合成ポリ
マーの具体例を以下に示すが、これらに限定されない。
マーの具体例を以下に示すが、これらに限定されない。
【００５９】
【化５】
【００６０】
【化６】
【００６１】
【化７】
【００６２】
【化８】
【００６３】
【化９】
【００６４】本発明のカルボキシル基を有する合成ポリ
マーの親水性ポリマー層への添加量は全バインダーに対
して５０重量％未満含有することが好ましい。
マーの親水性ポリマー層への添加量は全バインダーに対
して５０重量％未満含有することが好ましい。
【００６５】本発明のカルボキシル基を有する化合物を
含有する親水性ポリマー層は、前記疎水性ポリマー層
（下引層下層）の上に設ける下引層上層として、後述の
ガス中放電プラズマ処理面に設ける下引層として、更
に、疎水性ポリマー層（下引層下層）の上の、あるいは
後述のガス中放電プラズマ処理面の上の、ポリエステル
支持体から最も遠い位置にある層としてあってもよい。
このポリエステル支持体から最も遠い位置の親水性ポリ
マー層というのは、ハロゲン化銀乳剤層の構成層を塗設
する前のロール状に巻いて保存する際のバック層と面同
士で相対する層のことで、それが下引層上層であった
り、ガス中放電プラズマ処理面上の下引層であっても、
更にもっと遠くの親水性ポリマー層であってもよいとい
うことである。
含有する親水性ポリマー層は、前記疎水性ポリマー層
（下引層下層）の上に設ける下引層上層として、後述の
ガス中放電プラズマ処理面に設ける下引層として、更
に、疎水性ポリマー層（下引層下層）の上の、あるいは
後述のガス中放電プラズマ処理面の上の、ポリエステル
支持体から最も遠い位置にある層としてあってもよい。
このポリエステル支持体から最も遠い位置の親水性ポリ
マー層というのは、ハロゲン化銀乳剤層の構成層を塗設
する前のロール状に巻いて保存する際のバック層と面同
士で相対する層のことで、それが下引層上層であった
り、ガス中放電プラズマ処理面上の下引層であっても、
更にもっと遠くの親水性ポリマー層であってもよいとい
うことである。
【００６６】本発明の親水性ポリマー層に、バインダー
を架橋する架橋剤を含有させてもよい。例えばゼラチン
をバインダーとして用いた場合、ゼラチンと反応して架
橋する架橋剤（硬膜剤と呼ばれることもある）であれば
制限なく使用できるが、それら代表的なものとしては、
アルデヒド系、イソオキサゾール系（例えば、米国特許
第３，３３１，６０９号明細書に記載のあるもの）、エ
ポキシ系（例えば、米国特許第３，０４７，３９４号、
西独特許第１，０８５，６６３号及び英国特許第１，０
３３，５１８号の各明細書、更に特公昭４８−３５４９
５号公報に記載のもの）、ビニルスルホン系（例えば、
ＰＢレポート１９，９２０、西独特許第１，１００，９
４２号、同２，３３７，４１２号、同２，５４５，７２
２号、同２，６３５，５１８号、同２，７４２，３０８
号、同２，７４９，２６０号及び英国特許第１，２５
１，０９１号の各明細書、また特公昭４９−１３５６３
号及び同４８−１１０９９６号、更に、米国特許第３，
５３９，６４４号及び同３，４９１，９１１号の各明細
書に記載のもの）、アクリロイル系（例えば、特公昭５
３−７７８号公報及び米国特許第３，６４０，７２０号
明細書に記載のもの）、カルボジイミド系（例えば、米
国特許第２，９３８，８９２号、同４，０４３，８１８
号及び同４，０６１，４９９号各明細書に記載のも
の）、トリアジン系（例えば、西独特許第２，４１０，
９７３号、同２，５５３，９１５号及び米国特許第３，
３２５，２８７号の各明細書、更に特開昭５２−１２７
２２号公報に記載のもの）、イソシアネート系、ポリア
ミド−エピクロルヒドリン樹脂（例えば、特開昭５１−
３６１９号記載のもの）、反応性のハロゲンを有する化
合物、その他マレイミド系、アセチレン系、メタンスル
ホン酸エステル系、Ｎ−メチロール系の硬膜剤を挙げる
ことが出来る。
を架橋する架橋剤を含有させてもよい。例えばゼラチン
をバインダーとして用いた場合、ゼラチンと反応して架
橋する架橋剤（硬膜剤と呼ばれることもある）であれば
制限なく使用できるが、それら代表的なものとしては、
アルデヒド系、イソオキサゾール系（例えば、米国特許
第３，３３１，６０９号明細書に記載のあるもの）、エ
ポキシ系（例えば、米国特許第３，０４７，３９４号、
西独特許第１，０８５，６６３号及び英国特許第１，０
３３，５１８号の各明細書、更に特公昭４８−３５４９
５号公報に記載のもの）、ビニルスルホン系（例えば、
ＰＢレポート１９，９２０、西独特許第１，１００，９
４２号、同２，３３７，４１２号、同２，５４５，７２
２号、同２，６３５，５１８号、同２，７４２，３０８
号、同２，７４９，２６０号及び英国特許第１，２５
１，０９１号の各明細書、また特公昭４９−１３５６３
号及び同４８−１１０９９６号、更に、米国特許第３，
５３９，６４４号及び同３，４９１，９１１号の各明細
書に記載のもの）、アクリロイル系（例えば、特公昭５
３−７７８号公報及び米国特許第３，６４０，７２０号
明細書に記載のもの）、カルボジイミド系（例えば、米
国特許第２，９３８，８９２号、同４，０４３，８１８
号及び同４，０６１，４９９号各明細書に記載のも
の）、トリアジン系（例えば、西独特許第２，４１０，
９７３号、同２，５５３，９１５号及び米国特許第３，
３２５，２８７号の各明細書、更に特開昭５２−１２７
２２号公報に記載のもの）、イソシアネート系、ポリア
ミド−エピクロルヒドリン樹脂（例えば、特開昭５１−
３６１９号記載のもの）、反応性のハロゲンを有する化
合物、その他マレイミド系、アセチレン系、メタンスル
ホン酸エステル系、Ｎ−メチロール系の硬膜剤を挙げる
ことが出来る。
【００６７】本発明において、ガス中放電プラズマ処理
した処理面上の親水性層、あるいはポリエステル支持体
から最も遠い位置の親水性層に本発明に係わるアジリジ
ン基を有する架橋剤及び／またはオキサゾリン基を有す
る架橋剤をカルボキシル基を有する化合物と共に含有さ
せてもよい。
した処理面上の親水性層、あるいはポリエステル支持体
から最も遠い位置の親水性層に本発明に係わるアジリジ
ン基を有する架橋剤及び／またはオキサゾリン基を有す
る架橋剤をカルボキシル基を有する化合物と共に含有さ
せてもよい。
【００６８】また、本発明の下引層（下引層上層、下引
層下層何れか）に必要に応じて、上記素材に加えてマッ
ト剤、界面活性剤、無機微粒子、ｐＨ調整剤、染料、可
塑剤、オイル、架橋剤等を加えてもよい。
層下層何れか）に必要に応じて、上記素材に加えてマッ
ト剤、界面活性剤、無機微粒子、ｐＨ調整剤、染料、可
塑剤、オイル、架橋剤等を加えてもよい。
【００６９】更に、下引層が導電性素材を混合して導電
性層を兼ねてもよい。前記のようにエチレン性不飽和モ
ノマーが導電性基を有していてもよいし、導電性素材を
添加してもよい。導電性素材としては、例えば特開昭５
７−１０４９３１号記載のＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、
Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、Ｍｏ
Ｏ3、ＺｉＯ2等の微粒子金属酸化物は、高い導電性が得
られることから好ましい。
性層を兼ねてもよい。前記のようにエチレン性不飽和モ
ノマーが導電性基を有していてもよいし、導電性素材を
添加してもよい。導電性素材としては、例えば特開昭５
７−１０４９３１号記載のＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、
Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、Ｍｏ
Ｏ3、ＺｉＯ2等の微粒子金属酸化物は、高い導電性が得
られることから好ましい。
【００７０】本発明の下引層を塗設する手段について
は、特に制限はなく公知の方法を用いることが出来る。
また、下引層を塗設するタイミングは支持体製膜中延伸
前あるいは延伸後が一般的であるが、本発明において
は、下引塗布後に熱のかかる機会が少ない延伸後に塗設
することが好ましい。
は、特に制限はなく公知の方法を用いることが出来る。
また、下引層を塗設するタイミングは支持体製膜中延伸
前あるいは延伸後が一般的であるが、本発明において
は、下引塗布後に熱のかかる機会が少ない延伸後に塗設
することが好ましい。
【００７１】次に、本発明に用いられるポリエステル支
持体について説明する。
持体について説明する。
【００７２】本発明に用いられるポリエステル支持体は
ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とす
るポリエステルである。主要な構成成分のジカルボン酸
成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル
酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタ
レンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、
ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジ
カルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニル
ジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、
ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカ
ルボン酸などを挙げることが出来る。また、ジオール成
分としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタ
ノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニ
ル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ン、９，９−ビス（４，４′−ジ−β−ヒドロキシエチ
ル）フルオレン、ジエチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオール
等を挙げることが出来る。
ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とす
るポリエステルである。主要な構成成分のジカルボン酸
成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル
酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタ
レンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、
ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジ
カルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニル
ジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、
ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカ
ルボン酸などを挙げることが出来る。また、ジオール成
分としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタ
ノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニ
ル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ン、９，９−ビス（４，４′−ジ−β−ヒドロキシエチ
ル）フルオレン、ジエチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオール
等を挙げることが出来る。
【００７３】これらを主要な構成成分とするポリエステ
ルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点か
ら、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び／また
は２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分とし
て、エチレングリコール及び／または１，４−シクロヘ
キサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステ
ルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートユ
ニット、ポリエチレン−２，６−ナフタレートユニット
を含有するポリエステルが好ましい。ポリエステルに対
してエチレンテレフタレートユニット又はエチレン−
２，６−ナフタレートユニットを７０重量％以上含有す
ることにより、透明性、機械的強度、寸法安定性等を有
する優れたフィルムが得られるので特に好ましい。中で
も、現在使用されているポリエチレン−２，６−ナフタ
レートフィルムが本発明のポリエステルフィルムとして
は好ましい。
ルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点か
ら、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び／また
は２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分とし
て、エチレングリコール及び／または１，４−シクロヘ
キサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステ
ルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートユ
ニット、ポリエチレン−２，６−ナフタレートユニット
を含有するポリエステルが好ましい。ポリエステルに対
してエチレンテレフタレートユニット又はエチレン−
２，６−ナフタレートユニットを７０重量％以上含有す
ることにより、透明性、機械的強度、寸法安定性等を有
する優れたフィルムが得られるので特に好ましい。中で
も、現在使用されているポリエチレン−２，６−ナフタ
レートフィルムが本発明のポリエステルフィルムとして
は好ましい。
【００７４】また、特開平４−２３４０３９号、同５−
２１０１９９号、同６−８２９６９号公報に記載のスル
ホン酸基またはその塩を有する芳香族ジカルボン酸及び
／またはポリアルキレングリコールを共重合成分として
含有するポリエステルフィルム及び特開平６−１１７９
５号、特開平６−２０２２８０号、特開平６−２４００
２０号、特開平６−１１０１５４号公報に記載のポリエ
ステルを２層以上積層したポリエステルフィルムが開示
されており、これらのポリエステルフィルムは巻き癖低
減性や現像後の巻き癖解消性を有し、本発明においても
好ましく使用出来る。スルホン酸基またはその塩を有す
るジカルボン酸としては、５−ナトリウムスルホイソフ
タル酸、２−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ナト
リウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホ−
２，６−ナフタレンジカルボン酸もしくはそのエステル
形成性誘導体、及びこれらのナトリウムを他の金属（例
えばカリウム、リチウムなど）で置換した化合物が用い
られる。金属スルホネート基を有するジカルボン酸成分
の共重合割合は、全エステル結合単位に対して１〜１０
モル％であり、この範囲が巻癖解消性、延伸性、機械的
強度を満足することが出来る。ポリアルキレングリコー
ルとしては、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコールなどが用いられるが、このうちポリエチ
レングリコールが好ましく、分子量としては特に限定さ
れないが３００〜２００００が好ましく、更に好ましく
は６００〜１００００、特に１０００〜５０００のもの
が好ましく用いられる。ポリアルキレングリコールは反
応生成物のポリエステルの全重量に対して０．１〜１０
重量％含有されることが好ましく、更に好ましくは０．
２〜８重量％であり、この範囲で巻癖解消性、水中浸漬
直後の弾性率、機械的強度を満足することが出来る。本
発明に用いられる共重合ポリエステルには、本発明の効
果を阻害しない範囲で、更に他の成分を共重合したもの
でもよいし、他のポリマーをブレンドしたものでもよ
い。
２１０１９９号、同６−８２９６９号公報に記載のスル
ホン酸基またはその塩を有する芳香族ジカルボン酸及び
／またはポリアルキレングリコールを共重合成分として
含有するポリエステルフィルム及び特開平６−１１７９
５号、特開平６−２０２２８０号、特開平６−２４００
２０号、特開平６−１１０１５４号公報に記載のポリエ
ステルを２層以上積層したポリエステルフィルムが開示
されており、これらのポリエステルフィルムは巻き癖低
減性や現像後の巻き癖解消性を有し、本発明においても
好ましく使用出来る。スルホン酸基またはその塩を有す
るジカルボン酸としては、５−ナトリウムスルホイソフ
タル酸、２−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ナト
リウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホ−
２，６−ナフタレンジカルボン酸もしくはそのエステル
形成性誘導体、及びこれらのナトリウムを他の金属（例
えばカリウム、リチウムなど）で置換した化合物が用い
られる。金属スルホネート基を有するジカルボン酸成分
の共重合割合は、全エステル結合単位に対して１〜１０
モル％であり、この範囲が巻癖解消性、延伸性、機械的
強度を満足することが出来る。ポリアルキレングリコー
ルとしては、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコールなどが用いられるが、このうちポリエチ
レングリコールが好ましく、分子量としては特に限定さ
れないが３００〜２００００が好ましく、更に好ましく
は６００〜１００００、特に１０００〜５０００のもの
が好ましく用いられる。ポリアルキレングリコールは反
応生成物のポリエステルの全重量に対して０．１〜１０
重量％含有されることが好ましく、更に好ましくは０．
２〜８重量％であり、この範囲で巻癖解消性、水中浸漬
直後の弾性率、機械的強度を満足することが出来る。本
発明に用いられる共重合ポリエステルには、本発明の効
果を阻害しない範囲で、更に他の成分を共重合したもの
でもよいし、他のポリマーをブレンドしたものでもよ
い。
【００７５】共重合ポリエステルの重合は、通常の公知
の方法で行うことが出来る。すなわちジカルボン酸成分
とグリコール成分をエステル交換後、高温、減圧下にて
重縮合せしめて共重合ポリエステルを得ることが出来
る。
の方法で行うことが出来る。すなわちジカルボン酸成分
とグリコール成分をエステル交換後、高温、減圧下にて
重縮合せしめて共重合ポリエステルを得ることが出来
る。
【００７６】ポリエステル支持体が、二層以上のポリエ
ステル樹脂を積層してなる場合、支持体を構成する層は
二層以上であれば何層積層してもかまわないが製造設備
が複雑化する等の点から一般的には２層又は３層が好ま
しい。更に、ポリエステル支持体が、二層以上のポリエ
ステル樹脂を積層してなる場合、厚みを二等分する位置
を中心として、その両側の積層構造が互いに非対称であ
ることが好ましい。ここでいう非対称とは物理的、機械
的あるいは化学的に相違することを意味し、例えば、構
成する層の厚さが異なる、ポリエステルを構成する主構
成成分やその量が異なる、ポリエステルの共重合成分や
その量が異なる、あるいは固有粘度が異なる、更には吸
水率、弾性率が異なる等のことも含まれる。積層ポリエ
ステル支持体の製造方法としては、例えば積層する各層
のポリエステルを別々の押出機から溶融押出した後、溶
融ポリマーの導管内または押出口金内において層流状で
接合せしめて押出し、冷却ドラム上で冷却固化し、未延
伸フィルムを得た後二軸延伸し、熱固定する共押出し方
法、もしくはポリエステルを押出機から溶融押出し、冷
却ドラム上で冷却固化した未延伸フィルムまたは該未延
伸フィルムを一軸延伸した一軸配向フィルムの面に、必
要に応じてアンカー剤、接着剤等をコーティングした後
その上に共重合ポリエステルをエクストルージョンラミ
ネートし、次いで二軸延伸を完了した後熱固定するエク
ストルージョンラミネート方法などがあるが、工程の簡
便性から共押出し方法が好ましい。
ステル樹脂を積層してなる場合、支持体を構成する層は
二層以上であれば何層積層してもかまわないが製造設備
が複雑化する等の点から一般的には２層又は３層が好ま
しい。更に、ポリエステル支持体が、二層以上のポリエ
ステル樹脂を積層してなる場合、厚みを二等分する位置
を中心として、その両側の積層構造が互いに非対称であ
ることが好ましい。ここでいう非対称とは物理的、機械
的あるいは化学的に相違することを意味し、例えば、構
成する層の厚さが異なる、ポリエステルを構成する主構
成成分やその量が異なる、ポリエステルの共重合成分や
その量が異なる、あるいは固有粘度が異なる、更には吸
水率、弾性率が異なる等のことも含まれる。積層ポリエ
ステル支持体の製造方法としては、例えば積層する各層
のポリエステルを別々の押出機から溶融押出した後、溶
融ポリマーの導管内または押出口金内において層流状で
接合せしめて押出し、冷却ドラム上で冷却固化し、未延
伸フィルムを得た後二軸延伸し、熱固定する共押出し方
法、もしくはポリエステルを押出機から溶融押出し、冷
却ドラム上で冷却固化した未延伸フィルムまたは該未延
伸フィルムを一軸延伸した一軸配向フィルムの面に、必
要に応じてアンカー剤、接着剤等をコーティングした後
その上に共重合ポリエステルをエクストルージョンラミ
ネートし、次いで二軸延伸を完了した後熱固定するエク
ストルージョンラミネート方法などがあるが、工程の簡
便性から共押出し方法が好ましい。
【００７７】本発明に用いられるポリエステル支持体に
は、ライトパイピング現象を防止する目的で、染料を含
有させることが好ましい。このような目的で配合される
染料としては、その種類に特に限定があるわけではない
が、フィルムの製造上、耐熱性に優れていることが必要
であり、アンスラキノン系やペリノン系の染料が挙げら
れる。また、色調としては、一般の写真感光材料に見ら
れるようにグレー染色が好ましい。
は、ライトパイピング現象を防止する目的で、染料を含
有させることが好ましい。このような目的で配合される
染料としては、その種類に特に限定があるわけではない
が、フィルムの製造上、耐熱性に優れていることが必要
であり、アンスラキノン系やペリノン系の染料が挙げら
れる。また、色調としては、一般の写真感光材料に見ら
れるようにグレー染色が好ましい。
【００７８】本発明において、ポリエステル支持体の厚
みは特に限定がある訳ではないが、２０〜１２５μｍで
あることが好ましい。また、ポリエステル支持体は、ヘ
ーズが３％以下であることが好ましい。更に好ましくは
１％以下である。上記ヘーズは、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３
−５２に従って測定したものである。
みは特に限定がある訳ではないが、２０〜１２５μｍで
あることが好ましい。また、ポリエステル支持体は、ヘ
ーズが３％以下であることが好ましい。更に好ましくは
１％以下である。上記ヘーズは、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３
−５２に従って測定したものである。
【００７９】次に本発明に使用するアニール処理を施し
たポリエステル支持体について説明する。アニール処理
はポリエステル支持体の巻癖を低減するために、ポリエ
ステル支持体に施す熱処理である。熱処理により巻癖が
効果的に付きにくするためには、支持体は、ガラス転移
点が９０〜２００℃のものがよい。これは、ガラス転移
点を越える温度に曝されるとこの熱処理の効果が消失す
るため、一般ユーザーが使用する際に曝される最も高温
（夏季の車中の温度は、８０℃を越える場合もある）を
基準として、９０℃以上のガラス転移点を有することが
好ましいからである。この条件を満たすポリエステル支
持体としてはポリエチレンナフタレート支持体、特にポ
リエチレン−２，６−ナフタレート支持体を挙げること
が出来る。ポリエチレンナフタレート支持体はかかる処
理をすることにより、巻癖を低減出来る理想的な支持体
となる。ポリエチレンナフタレート支持体のガラス転移
点は１２０℃前後である。熱処理温度は、５０℃以上、
ガラス転移点温度以下の温度で、０．１〜１５００時間
以下行うことが必要である。このうち特に好ましい熱処
理方法は、１１９℃以下の温度で０．２〜７２時間熱処
理することが好ましく、更に好ましいのは１１５℃以下
で２４時間程度熱処理することである。特に短時間で熱
処理をするために、ガラス転移点以上に一度昇温し、ガ
ラス転移点近辺で徐々に冷却する方法が非常に効率的で
好ましい。一例として、一度１３０℃以上２００℃の間
の温度に保った後、１２５℃まで冷却し、その後１００
℃まで４０分間で徐冷することで熱処理時間を著しく短
縮出来る。このような熱処理を行った支持体を示差熱分
析計で測定すると、ガラス転移点近傍に吸熱ピークが出
現し、この吸熱ピークが大きいほど巻癖は付きにくいと
いうことがわかっている。また１００ｍｃａｌ／ｇ以
上、更には２００ｍｃａｌ／ｇ以上となるように熱処理
するのが好ましい。
たポリエステル支持体について説明する。アニール処理
はポリエステル支持体の巻癖を低減するために、ポリエ
ステル支持体に施す熱処理である。熱処理により巻癖が
効果的に付きにくするためには、支持体は、ガラス転移
点が９０〜２００℃のものがよい。これは、ガラス転移
点を越える温度に曝されるとこの熱処理の効果が消失す
るため、一般ユーザーが使用する際に曝される最も高温
（夏季の車中の温度は、８０℃を越える場合もある）を
基準として、９０℃以上のガラス転移点を有することが
好ましいからである。この条件を満たすポリエステル支
持体としてはポリエチレンナフタレート支持体、特にポ
リエチレン−２，６−ナフタレート支持体を挙げること
が出来る。ポリエチレンナフタレート支持体はかかる処
理をすることにより、巻癖を低減出来る理想的な支持体
となる。ポリエチレンナフタレート支持体のガラス転移
点は１２０℃前後である。熱処理温度は、５０℃以上、
ガラス転移点温度以下の温度で、０．１〜１５００時間
以下行うことが必要である。このうち特に好ましい熱処
理方法は、１１９℃以下の温度で０．２〜７２時間熱処
理することが好ましく、更に好ましいのは１１５℃以下
で２４時間程度熱処理することである。特に短時間で熱
処理をするために、ガラス転移点以上に一度昇温し、ガ
ラス転移点近辺で徐々に冷却する方法が非常に効率的で
好ましい。一例として、一度１３０℃以上２００℃の間
の温度に保った後、１２５℃まで冷却し、その後１００
℃まで４０分間で徐冷することで熱処理時間を著しく短
縮出来る。このような熱処理を行った支持体を示差熱分
析計で測定すると、ガラス転移点近傍に吸熱ピークが出
現し、この吸熱ピークが大きいほど巻癖は付きにくいと
いうことがわかっている。また１００ｍｃａｌ／ｇ以
上、更には２００ｍｃａｌ／ｇ以上となるように熱処理
するのが好ましい。
【００８０】次に本発明で使用するガス中放電プラズマ
処理について説明する。
処理について説明する。
【００８１】ガス中放電プラズマ処理は、大気圧近傍下
で処理を行うため、真空グロー放電のような大がかりな
設備が必要なく、かつ、親水性ポリマー層を直接支持体
に接着させることが出来る有効な表面処理である。
で処理を行うため、真空グロー放電のような大がかりな
設備が必要なく、かつ、親水性ポリマー層を直接支持体
に接着させることが出来る有効な表面処理である。
【００８２】本発明に係るガス中放電プラズマ処理の基
本的な事柄、条件、方法等については、特願平１０−２
４５１５１号に記載されていることを参考にして説明す
るが、これらの基本的な事項、条件、方法等は以下に示
す全ての本発明においても共通するものである。
本的な事柄、条件、方法等については、特願平１０−２
４５１５１号に記載されていることを参考にして説明す
るが、これらの基本的な事項、条件、方法等は以下に示
す全ての本発明においても共通するものである。
【００８３】図１は表面処理装置の概略構成図である。
図１は、ここでは平型電極を基とした装置を示すがその
形状、方式等はこれに限るものではない。図１を説明す
る。大気圧もしくはその近傍の圧力となっている処理室
２に不活性ガスの５０％以上をアルゴンガスとして、他
の反応性ガスや不活性ガス等と混合して処理ガスを形成
して、導入口から導入し、処理室２内に充満させること
によって、一対の電極６と７の間にも処理ガスの雰囲気
となる。この電極間で移送している（搬送して来る）支
持体５をガス中放電プラズマ処理を行うが、その際、支
持体５が同伴して来る空気によって表面処理の効率が低
下するのを防ぐために、これを遮断する必要があり、こ
の表面処理装置１には、表面処理を施す処理室２と、支
持体５の搬送方向上流側に処理室２に隣接した予備室３
ａと、必要に応じて支持体５の搬送方向下流側に処理室
２に隣接した予備室３ｂが設けられている。処理室に隣
接する予備室３ａまたは３ｂに例えば図示してないガス
導入口のような手段から処理ガスの少なくとも１成分を
導入することによって、予備室３ａが導入されたガスで
満たされ、処理室２への搬送して来る支持体５が同伴し
て持ち込む空気を遮断することが出来るが、予備室３ａ
に導入するガスは処理ガスと全く同一組成のものとする
のが好ましく、ガス中放電プラズマ処理がより安定して
得られる。ガスの導入は、処理室からガスを隙間を通し
て流れ出させる方法でもよい。予備室３ａまたは３ｂの
うち、同伴空気を遮断するという目的からは、上流側の
予備室３ａの方が効果的である。従って、下流側の予備
室３ｂは必要に応じて設ければよい。各予備室３ａ、３
ｂと室外及び処理室２との間には、それぞれ間仕切り手
段（例えばニップロールのような）９が設けられてい
る。この間仕切り手段９や図示してない搬送手段によ
り、支持体５が、処理室２内の一対の電極６と７の隙間
を連続搬送される。一対の電極６と７は、処理室２内に
設けられた平板電極である。この電極６と７は、導電性
の金属（例えば、ステンレス、アルミニウム、銅など）
の電極部材６Ａ、７Ａと、電極部材６Ａ、７Ａの一部を
被覆した誘電体（例えば、ゴム、ガラス、セラミックな
ど）６Ｂ、７Ｂとから構成されている（被覆は全部でも
一部でもよい）。また、図１では一対の電極６、７のよ
うに平板電極を用いてあるが、一方もしくは双方の電極
を円筒電極もしくは一方をロール状電極としてもよい。
この一対の電極６、７のうち一方の電極６に高周波電源
１０が接続され、他方の電極７はアース１０Ｅにより接
地されており、一対の電極６、７間に放電を生じせしめ
るように構成されている。なお、８は支持体を表面処理
装置１へ、または表面処理装置１から搬送するガイドロ
ールである。
図１は、ここでは平型電極を基とした装置を示すがその
形状、方式等はこれに限るものではない。図１を説明す
る。大気圧もしくはその近傍の圧力となっている処理室
２に不活性ガスの５０％以上をアルゴンガスとして、他
の反応性ガスや不活性ガス等と混合して処理ガスを形成
して、導入口から導入し、処理室２内に充満させること
によって、一対の電極６と７の間にも処理ガスの雰囲気
となる。この電極間で移送している（搬送して来る）支
持体５をガス中放電プラズマ処理を行うが、その際、支
持体５が同伴して来る空気によって表面処理の効率が低
下するのを防ぐために、これを遮断する必要があり、こ
の表面処理装置１には、表面処理を施す処理室２と、支
持体５の搬送方向上流側に処理室２に隣接した予備室３
ａと、必要に応じて支持体５の搬送方向下流側に処理室
２に隣接した予備室３ｂが設けられている。処理室に隣
接する予備室３ａまたは３ｂに例えば図示してないガス
導入口のような手段から処理ガスの少なくとも１成分を
導入することによって、予備室３ａが導入されたガスで
満たされ、処理室２への搬送して来る支持体５が同伴し
て持ち込む空気を遮断することが出来るが、予備室３ａ
に導入するガスは処理ガスと全く同一組成のものとする
のが好ましく、ガス中放電プラズマ処理がより安定して
得られる。ガスの導入は、処理室からガスを隙間を通し
て流れ出させる方法でもよい。予備室３ａまたは３ｂの
うち、同伴空気を遮断するという目的からは、上流側の
予備室３ａの方が効果的である。従って、下流側の予備
室３ｂは必要に応じて設ければよい。各予備室３ａ、３
ｂと室外及び処理室２との間には、それぞれ間仕切り手
段（例えばニップロールのような）９が設けられてい
る。この間仕切り手段９や図示してない搬送手段によ
り、支持体５が、処理室２内の一対の電極６と７の隙間
を連続搬送される。一対の電極６と７は、処理室２内に
設けられた平板電極である。この電極６と７は、導電性
の金属（例えば、ステンレス、アルミニウム、銅など）
の電極部材６Ａ、７Ａと、電極部材６Ａ、７Ａの一部を
被覆した誘電体（例えば、ゴム、ガラス、セラミックな
ど）６Ｂ、７Ｂとから構成されている（被覆は全部でも
一部でもよい）。また、図１では一対の電極６、７のよ
うに平板電極を用いてあるが、一方もしくは双方の電極
を円筒電極もしくは一方をロール状電極としてもよい。
この一対の電極６、７のうち一方の電極６に高周波電源
１０が接続され、他方の電極７はアース１０Ｅにより接
地されており、一対の電極６、７間に放電を生じせしめ
るように構成されている。なお、８は支持体を表面処理
装置１へ、または表面処理装置１から搬送するガイドロ
ールである。
【００８４】次に本発明で使用する処理ガスに関するこ
とについて説明する。
とについて説明する。
【００８５】処理室２に導入する不活性ガスの５０圧力
％以上をアルゴン（Ａｒ）ガスとしてガス中放電プラズ
マ処理する。他の不活性ガスとして、ネオン（Ｎｅ）ガ
ス、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、クリプトン（Ｋｒ）ガス、
キセノン（Ｘｅ）ガスなどがあるが、各種不活性ガスも
不活性ガスの５０圧力％未満に用いることが出来るが、
アルゴン（Ａｒ）ガスを主成分として用い、アルゴンガ
スを６０圧力％以上とすることが、効率的な改質効果を
得るために好ましい。
％以上をアルゴン（Ａｒ）ガスとしてガス中放電プラズ
マ処理する。他の不活性ガスとして、ネオン（Ｎｅ）ガ
ス、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、クリプトン（Ｋｒ）ガス、
キセノン（Ｘｅ）ガスなどがあるが、各種不活性ガスも
不活性ガスの５０圧力％未満に用いることが出来るが、
アルゴン（Ａｒ）ガスを主成分として用い、アルゴンガ
スを６０圧力％以上とすることが、効率的な改質効果を
得るために好ましい。
【００８６】ガス中放電プラズマ処理における処理効果
は、アルゴンガスが、ヘリウムガスより原子量が大き
く、一原子気体としての大きさも大きく、処理の際、プ
ラスティック支持体５の表面にアルゴンが叩きつけられ
た時エッチングが起こり表面に凹凸を生じ、ヘリウムガ
スでは見られない処理として有効な効果がアルゴンガス
にはある。また、他の不活性ガスに比してアルゴンガス
は安価であり、しかも、格段の改質効果を得ることが出
来る。他の不活性ガス、例えば、クリプトンガスやキセ
ノンガスは、これらを使用してプラズマを発生させるた
めには、高出力、高周波数が必要になり表面処理が強す
ぎ、支持体５にダメージを与えてしまう。
は、アルゴンガスが、ヘリウムガスより原子量が大き
く、一原子気体としての大きさも大きく、処理の際、プ
ラスティック支持体５の表面にアルゴンが叩きつけられ
た時エッチングが起こり表面に凹凸を生じ、ヘリウムガ
スでは見られない処理として有効な効果がアルゴンガス
にはある。また、他の不活性ガスに比してアルゴンガス
は安価であり、しかも、格段の改質効果を得ることが出
来る。他の不活性ガス、例えば、クリプトンガスやキセ
ノンガスは、これらを使用してプラズマを発生させるた
めには、高出力、高周波数が必要になり表面処理が強す
ぎ、支持体５にダメージを与えてしまう。
【００８７】導入する不活性ガスの５０圧力％以上をア
ルゴンガスとするということは、導入不活性ガスの５０
圧力％以上がアルゴンガスで、残りの５０圧力％未満に
他の不活性ガスを混合して使用してもよく、更にその他
に下記反応性ガスを混合して処理ガスとすることが好ま
しい。反応性ガスの不活性ガスに対する比率は０〜３０
圧力％とするのがよく、好ましくは１〜２０圧力％であ
る。
ルゴンガスとするということは、導入不活性ガスの５０
圧力％以上がアルゴンガスで、残りの５０圧力％未満に
他の不活性ガスを混合して使用してもよく、更にその他
に下記反応性ガスを混合して処理ガスとすることが好ま
しい。反応性ガスの不活性ガスに対する比率は０〜３０
圧力％とするのがよく、好ましくは１〜２０圧力％であ
る。
【００８８】本発明において、処理ガスに使用される不
活性ガス以外のガスとして、窒素（Ｎ2）ガス、水素
（Ｈ2）ガス、アンモニア（ＮＨ3）ガス、水蒸気等の反
応性ガスを含有させてガス中放電プラズマ処理が行われ
るが、窒素ガス及び／またはアンモニアガスを用いるの
が好ましい。ガス中放電プラズマ処理によって、分離
（遊離）した反応性の分子が支持体表面に反応し、−Ｎ
Ｈ2基、−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基等のような化学的活性
基が発現し、支持体５の化学的改質を行うことが出来、
接着性の増強に寄与する。
活性ガス以外のガスとして、窒素（Ｎ2）ガス、水素
（Ｈ2）ガス、アンモニア（ＮＨ3）ガス、水蒸気等の反
応性ガスを含有させてガス中放電プラズマ処理が行われ
るが、窒素ガス及び／またはアンモニアガスを用いるの
が好ましい。ガス中放電プラズマ処理によって、分離
（遊離）した反応性の分子が支持体表面に反応し、−Ｎ
Ｈ2基、−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基等のような化学的活性
基が発現し、支持体５の化学的改質を行うことが出来、
接着性の増強に寄与する。
【００８９】本発明において、処理室２内に導入するに
先立ち、予め不活性ガスと反応性ガスとを混合した処理
ガスを使用することが好ましいが、各ガスを独立して導
入しても、処理室２内の電極６と７の間の雰囲気が、上
述した処理ガスの成分になっていればよい。
先立ち、予め不活性ガスと反応性ガスとを混合した処理
ガスを使用することが好ましいが、各ガスを独立して導
入しても、処理室２内の電極６と７の間の雰囲気が、上
述した処理ガスの成分になっていればよい。
【００９０】本発明のガス中放電プラズマ処理の放電状
態は、真空下で起こるグロー放電に似た放電状態となっ
ているが、支持体が同伴して来る空気を遮断することに
よって、本発明の表面処理をするにより適したガス中放
電プラズマ処理の放電状態となる。
態は、真空下で起こるグロー放電に似た放電状態となっ
ているが、支持体が同伴して来る空気を遮断することに
よって、本発明の表面処理をするにより適したガス中放
電プラズマ処理の放電状態となる。
【００９１】本発明のガス中放電プラズマ処理の放電強
度は、アーク放電も起こらず安定した効果的な処理を行
うには、５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2以上５００Ｗ・ｍｉｎ／
ｍ2未満が好ましい。この範囲でガス中放電プラズマ処
理を行うことにより、処理の均一性を有し、ダメージも
なく仕上げることが出来、しかも優れた接着性を得るこ
とが出来る。
度は、アーク放電も起こらず安定した効果的な処理を行
うには、５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2以上５００Ｗ・ｍｉｎ／
ｍ2未満が好ましい。この範囲でガス中放電プラズマ処
理を行うことにより、処理の均一性を有し、ダメージも
なく仕上げることが出来、しかも優れた接着性を得るこ
とが出来る。
【００９２】本発明において、ガス中放電プラズマ処理
したポリエステル支持体面に、親水性ポリマー層を設
け、該親水性ポリマー層にカルボキシル基を有する化合
物を含有させることが特徴である。その親水性ポリマー
層の位置が処理面に接した層であっても、更にポリエス
テル支持体から最も遠い層であってもよい。
したポリエステル支持体面に、親水性ポリマー層を設
け、該親水性ポリマー層にカルボキシル基を有する化合
物を含有させることが特徴である。その親水性ポリマー
層の位置が処理面に接した層であっても、更にポリエス
テル支持体から最も遠い層であってもよい。
【００９３】本発明において、その他の表面処理を、ポ
リエステル支持体及び／または疎水性ポリマー層（下引
層下層）に施してもよい。他の表面処理としては、コロ
ナ放電処理、真空グロー放電処理、紫外線照射処理、火
炎処理などを挙げることが出来る。これらの表面処理の
うちでコロナ放電処理は最もよく知られている方法であ
り、例えば特公昭４８−５０４３号、同４７−５１９０
５号、特開昭４７−２８０６７号、同４９−８３７６９
号、同５１−４１７７０号、同５１−１３１５７６号公
報等に開示された方法により行うことが出来る。放電周
波数は５０Ｈｚ〜５０００ｋＨｚ、好ましくは５ｋＨｚ
〜数１００ｋＨｚが適当である。放電周波数が小さすぎ
ると、安定な放電が得られずかつ被処理物にピンホール
が生じ、好ましくない。また周波数が高すぎると、イン
ピーダンスマッチングのための特別な装置が必要とな
り、装置の価格が大となり、好ましくない。被処理物の
処理強度に関しては、０．００１〜５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ
／ｍ2、好ましくは０．０１〜１ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ2
が適当である。電極と誘電体ロールのギャップクリアラ
ンスは０．５〜２．５ｍｍ、好ましくは１．０〜２．０
ｍｍが適当である。
リエステル支持体及び／または疎水性ポリマー層（下引
層下層）に施してもよい。他の表面処理としては、コロ
ナ放電処理、真空グロー放電処理、紫外線照射処理、火
炎処理などを挙げることが出来る。これらの表面処理の
うちでコロナ放電処理は最もよく知られている方法であ
り、例えば特公昭４８−５０４３号、同４７−５１９０
５号、特開昭４７−２８０６７号、同４９−８３７６９
号、同５１−４１７７０号、同５１−１３１５７６号公
報等に開示された方法により行うことが出来る。放電周
波数は５０Ｈｚ〜５０００ｋＨｚ、好ましくは５ｋＨｚ
〜数１００ｋＨｚが適当である。放電周波数が小さすぎ
ると、安定な放電が得られずかつ被処理物にピンホール
が生じ、好ましくない。また周波数が高すぎると、イン
ピーダンスマッチングのための特別な装置が必要とな
り、装置の価格が大となり、好ましくない。被処理物の
処理強度に関しては、０．００１〜５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ
／ｍ2、好ましくは０．０１〜１ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ2
が適当である。電極と誘電体ロールのギャップクリアラ
ンスは０．５〜２．５ｍｍ、好ましくは１．０〜２．０
ｍｍが適当である。
【００９４】多くの場合、最も効果的な表面処理である
真空グロー放電処理は、従来知られている何れの方法、
例えば特公昭３５−７５７８号、同３６−１０３３６
号、同４５−２２００４号、同４５−２２００５号、同
４５−２４０４０号、同４６−４３４８０号公報、米国
特許３，０５７，７９２号、同３，０５７，７９５号、
同３，１７９，４８２号、同３，２８８，６３８号、同
３，３０９，２９９号、同３，４２４，７３５号、同
３，４６２，３３５号、同３，４７５，３０７号、同
３，７６１，２９９号、英国特許９９７，０９３号明細
書、特開昭５３−１２９２６２号公報等に記載されてい
る事項を用いることが出来る。
真空グロー放電処理は、従来知られている何れの方法、
例えば特公昭３５−７５７８号、同３６−１０３３６
号、同４５−２２００４号、同４５−２２００５号、同
４５−２４０４０号、同４６−４３４８０号公報、米国
特許３，０５７，７９２号、同３，０５７，７９５号、
同３，１７９，４８２号、同３，２８８，６３８号、同
３，３０９，２９９号、同３，４２４，７３５号、同
３，４６２，３３５号、同３，４７５，３０７号、同
３，７６１，２９９号、英国特許９９７，０９３号明細
書、特開昭５３−１２９２６２号公報等に記載されてい
る事項を用いることが出来る。
【００９５】真空グロー放電処理条件は、一般に圧力は
０．００５〜２０Ｔｏｒｒ、好ましくは０．０２〜２Ｔ
ｏｒｒが適当である。圧力が低すぎると表面処理効果が
低下し、また圧力が高すぎると過大電流が流れ、スパー
クが起こりやすく、危険でもあるし、被処理物を破壊す
る恐れもある。放電は、真空タンク中で１対以上の空間
を置いて配置された金属板或いは金属棒間に高電圧を印
加することにより生じる。この電圧は、雰囲気気体の組
成、圧力により色々な値をとり得るものであるが、通常
上記圧力範囲内では、５００〜５０００Ｖの間で安定な
定常グロー放電が起こる。接着性を向上せしめるのに特
に好適な電圧範囲は、２０００〜４０００Ｖである。ま
た、放電周波数として、従来技術に見られるように、直
流から数１０００ＭＨｚ、好ましくは５０Ｈｚ〜２０Ｍ
Ｈｚが適当である。放電処理強度に関しては、所望の接
着性能が得られることから０．０１〜５ｋＶ・Ａ・ｍｉ
ｎ／ｍ2、好ましくは０．１５〜１ｋＶ・Ａ・分／ｍ2が
適当である。
０．００５〜２０Ｔｏｒｒ、好ましくは０．０２〜２Ｔ
ｏｒｒが適当である。圧力が低すぎると表面処理効果が
低下し、また圧力が高すぎると過大電流が流れ、スパー
クが起こりやすく、危険でもあるし、被処理物を破壊す
る恐れもある。放電は、真空タンク中で１対以上の空間
を置いて配置された金属板或いは金属棒間に高電圧を印
加することにより生じる。この電圧は、雰囲気気体の組
成、圧力により色々な値をとり得るものであるが、通常
上記圧力範囲内では、５００〜５０００Ｖの間で安定な
定常グロー放電が起こる。接着性を向上せしめるのに特
に好適な電圧範囲は、２０００〜４０００Ｖである。ま
た、放電周波数として、従来技術に見られるように、直
流から数１０００ＭＨｚ、好ましくは５０Ｈｚ〜２０Ｍ
Ｈｚが適当である。放電処理強度に関しては、所望の接
着性能が得られることから０．０１〜５ｋＶ・Ａ・ｍｉ
ｎ／ｍ2、好ましくは０．１５〜１ｋＶ・Ａ・分／ｍ2が
適当である。
【００９６】紫外線照射処理は、例えば特公昭４３−２
６０３号、同４３−２６０４号、同４５−３８２８号公
報記載の方法により行うことが出来る。紫外線照射の方
法については、光源は被支持体の表面温度が１５０℃前
後にまで上昇することが支持体性能上問題なければ、主
波長が３６５ｎｍの高圧水銀灯ランプを使用することが
出来る。低温処理が必要とされる場合には主波長が２５
４ｎｍの低圧水銀灯が好ましい。またオゾンレスタイプ
の高圧水銀ランプ、及び低圧水銀ランプを使用する事も
可能である。処理光量に関しては処理光量が多いほど支
持体とその隣接層との接着力は向上するが、光量の増加
に伴い支持体が着色し、また支持体が脆くなるという問
題が発生する。従って、通常のポリエステル支持体に
は、３６５ｎｍを主波長とする高圧水銀ランプで、照射
光量２０〜１００００（ｍＪ／ｃｍ2）がよく、より好
ましくは５０〜２０００（ｍＪ／ｃｍ2）である。２５
４ｎｍを主波長とする低圧水銀ランプの場合には、照射
光量１００〜１００００（ｍＪ／ｃｍ2）がよく、より
好ましくは３００〜１５００（ｍＪ／ｃｍ2）である。
６０３号、同４３−２６０４号、同４５−３８２８号公
報記載の方法により行うことが出来る。紫外線照射の方
法については、光源は被支持体の表面温度が１５０℃前
後にまで上昇することが支持体性能上問題なければ、主
波長が３６５ｎｍの高圧水銀灯ランプを使用することが
出来る。低温処理が必要とされる場合には主波長が２５
４ｎｍの低圧水銀灯が好ましい。またオゾンレスタイプ
の高圧水銀ランプ、及び低圧水銀ランプを使用する事も
可能である。処理光量に関しては処理光量が多いほど支
持体とその隣接層との接着力は向上するが、光量の増加
に伴い支持体が着色し、また支持体が脆くなるという問
題が発生する。従って、通常のポリエステル支持体に
は、３６５ｎｍを主波長とする高圧水銀ランプで、照射
光量２０〜１００００（ｍＪ／ｃｍ2）がよく、より好
ましくは５０〜２０００（ｍＪ／ｃｍ2）である。２５
４ｎｍを主波長とする低圧水銀ランプの場合には、照射
光量１００〜１００００（ｍＪ／ｃｍ2）がよく、より
好ましくは３００〜１５００（ｍＪ／ｃｍ2）である。
【００９７】火災処理について説明する。火災処理に用
いるガスは天然ガス、液化プロパンガス、都市ガスの何
れでも構わないが、空気との混合比が重要である。何故
なら、火災処理による表面処理の効果は活性な酸素を含
むプラズマによって、もたらされると考えられるからで
あり、火災の重要な性質であるプラズマの活性（温度）
と酸素がどれだけ多くあるかがポイントである。このふ
たつを決めているのはガス／酸素比であり、過不足なく
反応する場合がエネルギー密度が最も高くなりプラズマ
の活性が高くなる。具体的には、天然ガス／空気の好ま
しい混合比は容積比で１／６〜１／１０、好ましくは１
／７〜１／９である。また、液化プロパンガス／空気の
場合は１／１４〜１／２２、好ましくは１／１６〜／１
９、都市ガス／空気の場合は１／２〜１／８、好ましく
は１／３〜１／７である。
いるガスは天然ガス、液化プロパンガス、都市ガスの何
れでも構わないが、空気との混合比が重要である。何故
なら、火災処理による表面処理の効果は活性な酸素を含
むプラズマによって、もたらされると考えられるからで
あり、火災の重要な性質であるプラズマの活性（温度）
と酸素がどれだけ多くあるかがポイントである。このふ
たつを決めているのはガス／酸素比であり、過不足なく
反応する場合がエネルギー密度が最も高くなりプラズマ
の活性が高くなる。具体的には、天然ガス／空気の好ま
しい混合比は容積比で１／６〜１／１０、好ましくは１
／７〜１／９である。また、液化プロパンガス／空気の
場合は１／１４〜１／２２、好ましくは１／１６〜／１
９、都市ガス／空気の場合は１／２〜１／８、好ましく
は１／３〜１／７である。
【００９８】また、火災処理量は１〜５０ｋｃａｌ／ｍ
2、より好ましくは３〜２０ｋｃａｌ／ｍ2の範囲で行う
とよい。またバーナーの内炎の先端と支持体の距離は３
〜７ｃｍ、より好ましくは４〜６ｃｍにするとよい。バ
ーナーのノズル形状は、フリンバーナー社（米国）のリ
ボン式、ワイズ社（米国）の多穴式、エアロジェン（英
国）のリボン式、春日電機（日本）の千鳥型多穴式、小
池酸素（日本）の千鳥型多穴式が好ましい。火災処理に
支持体を支えるバックアップロールは中空型ロールであ
り、冷却水を通して水冷し、常に２０〜５０℃の一定で
処理するのがよい。
2、より好ましくは３〜２０ｋｃａｌ／ｍ2の範囲で行う
とよい。またバーナーの内炎の先端と支持体の距離は３
〜７ｃｍ、より好ましくは４〜６ｃｍにするとよい。バ
ーナーのノズル形状は、フリンバーナー社（米国）のリ
ボン式、ワイズ社（米国）の多穴式、エアロジェン（英
国）のリボン式、春日電機（日本）の千鳥型多穴式、小
池酸素（日本）の千鳥型多穴式が好ましい。火災処理に
支持体を支えるバックアップロールは中空型ロールであ
り、冷却水を通して水冷し、常に２０〜５０℃の一定で
処理するのがよい。
【００９９】本発明に係わる滑り層について説明する。
【０１００】本発明に適した滑り層は、バック層の最上
層（支持体から最も遠い層）として塗設される。
層（支持体から最も遠い層）として塗設される。
【０１０１】本発明においては、公知の滑り剤をいずれ
も使用することが出来る。公知の滑り剤としては、大別
して、シリコーン化合物および、高級脂肪酸もしくはそ
の誘導体を挙げることが出来る。本発明では後者の高級
脂肪酸もしくはその誘導体の使用が本発明の目的に好ま
しい。高級脂肪酸もしくはその誘導体としては、例え
ば、米国特許第４，２７５，１４６号明細書に開示され
ているような高級脂肪酸アミド、特公昭５８−３３５４
１号公報、英国特許第９２７，４４６号明細書、あるい
は特開昭５５−１２６２３８号及び同５８−９０６３３
号公報に開示されているような高級脂肪酸エステル、そ
して、米国特許第３，９３３，５１６号明細書に開示さ
れているような高級脂肪酸金属塩、また、特開昭５８−
５０５３４号公報に開示されているような直鎖高級脂肪
酸と直鎖高級アルコールのエステル、世界公開９０１０
８１１５．８に開示されているような分岐アルキル基を
含む高級脂肪酸−高級アルコールエステル等を用いるこ
とが出来る。また天然物である油脂ワックスやオイルも
使用出来、例えばモンタン酸エステル、カルナウバワッ
クス、密蝋などは、高級脂肪酸エステルを多量に含有し
ていて本発明に有用である。特にカルナウバワックスは
特に有用である。更に高級アルコール、高級脂肪酸及び
それらの誘導体も使用することが出来る。また弗化脂肪
酸あるいは弗化アルコールの脂肪酸エステルあるいはア
ルコールエステル等も使用出来る。
も使用することが出来る。公知の滑り剤としては、大別
して、シリコーン化合物および、高級脂肪酸もしくはそ
の誘導体を挙げることが出来る。本発明では後者の高級
脂肪酸もしくはその誘導体の使用が本発明の目的に好ま
しい。高級脂肪酸もしくはその誘導体としては、例え
ば、米国特許第４，２７５，１４６号明細書に開示され
ているような高級脂肪酸アミド、特公昭５８−３３５４
１号公報、英国特許第９２７，４４６号明細書、あるい
は特開昭５５−１２６２３８号及び同５８−９０６３３
号公報に開示されているような高級脂肪酸エステル、そ
して、米国特許第３，９３３，５１６号明細書に開示さ
れているような高級脂肪酸金属塩、また、特開昭５８−
５０５３４号公報に開示されているような直鎖高級脂肪
酸と直鎖高級アルコールのエステル、世界公開９０１０
８１１５．８に開示されているような分岐アルキル基を
含む高級脂肪酸−高級アルコールエステル等を用いるこ
とが出来る。また天然物である油脂ワックスやオイルも
使用出来、例えばモンタン酸エステル、カルナウバワッ
クス、密蝋などは、高級脂肪酸エステルを多量に含有し
ていて本発明に有用である。特にカルナウバワックスは
特に有用である。更に高級アルコール、高級脂肪酸及び
それらの誘導体も使用することが出来る。また弗化脂肪
酸あるいは弗化アルコールの脂肪酸エステルあるいはア
ルコールエステル等も使用出来る。
【０１０２】本発明において、特に好ましい滑り剤は高
級脂肪酸エステルである。高級脂肪酸部分の炭素原子数
は８〜１００が好ましく、更に１０〜８０が好ましい。
高級脂肪酸エステルのアルコール部分が高級アルコール
の場合には、高級脂肪酸部分の炭素原子数は若干小さく
ともよい。アルコール部分の炭素原子数は１〜８０が好
ましく、より好ましくは４〜６０である。また、アルコ
ール部分がエチレングリコール、グリセリン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリスリトールのようなポリオ
ールの場合には、それらにエステル化する脂肪酸部分
は、同じ炭素原子数のカルボン酸であってもよいし、そ
れぞれが異なっていてもよい。またペンタエリスリトー
ルの場合には１つのＯＨ基がエステル化されないで、残
っていてもよい。更にこのような多官能のアルコールの
場合には、高級脂肪酸ばかりでなく、少なくとも１つが
炭素原子数が最低２の脂肪酸であってもよい。本発明に
おいては、これらを総称して高級脂肪酸エステルと言う
こととする。本発明では１種または２種以上の高級脂肪
酸の高級アルコールエステルの使用が好ましい。
級脂肪酸エステルである。高級脂肪酸部分の炭素原子数
は８〜１００が好ましく、更に１０〜８０が好ましい。
高級脂肪酸エステルのアルコール部分が高級アルコール
の場合には、高級脂肪酸部分の炭素原子数は若干小さく
ともよい。アルコール部分の炭素原子数は１〜８０が好
ましく、より好ましくは４〜６０である。また、アルコ
ール部分がエチレングリコール、グリセリン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリスリトールのようなポリオ
ールの場合には、それらにエステル化する脂肪酸部分
は、同じ炭素原子数のカルボン酸であってもよいし、そ
れぞれが異なっていてもよい。またペンタエリスリトー
ルの場合には１つのＯＨ基がエステル化されないで、残
っていてもよい。更にこのような多官能のアルコールの
場合には、高級脂肪酸ばかりでなく、少なくとも１つが
炭素原子数が最低２の脂肪酸であってもよい。本発明に
おいては、これらを総称して高級脂肪酸エステルと言う
こととする。本発明では１種または２種以上の高級脂肪
酸の高級アルコールエステルの使用が好ましい。
【０１０３】上記滑り剤の代表的化合物例を下記に示
す。
す。
【０１０４】
【化１０】
【０１０５】
【化１１】
【０１０６】
【化１２】
【０１０７】
【化１３】
【０１０８】また、ポリエチレンの低重合物も使用出来
る。ポリエチレンの重合度が３０以上のものが好まし
い。
る。ポリエチレンの重合度が３０以上のものが好まし
い。
【０１０９】シリコーン化合物としては、市販または合
成によって入手可能なシリコーン化合物であれば特に制
限ない。シリコーン化合物としてはポリオルガノシロキ
サン類が好ましい。分子量は特に制限ないが、１０００
乃至２００００００の範囲が好ましい。これらの化合物
の合成については、独国特許第１，９３８，９５９号、
米国特許第２，６９４，６３７号、米国特許第３，０４
２，５２２号明細書、特公昭５１−３３６００号、同５
２−２２０４０号、特開昭５９−３１５４３号、同６２
−２０３１５２号、同６２−２６９１３９号、同６０−
５４０１５号、特開平２−３０１７５０号、同２−１１
５８３６号、特公平３−２２８５号、特開平６−１０２
６１５号公報等に詳しい記載がある。
成によって入手可能なシリコーン化合物であれば特に制
限ない。シリコーン化合物としてはポリオルガノシロキ
サン類が好ましい。分子量は特に制限ないが、１０００
乃至２００００００の範囲が好ましい。これらの化合物
の合成については、独国特許第１，９３８，９５９号、
米国特許第２，６９４，６３７号、米国特許第３，０４
２，５２２号明細書、特公昭５１−３３６００号、同５
２−２２０４０号、特開昭５９−３１５４３号、同６２
−２０３１５２号、同６２−２６９１３９号、同６０−
５４０１５号、特開平２−３０１７５０号、同２−１１
５８３６号、特公平３−２２８５号、特開平６−１０２
６１５号公報等に詳しい記載がある。
【０１１０】滑り剤としてのシリコーン化合物は、米国
ダウコーニング社、独国ＢＹＫケモー社、信越化学
（株）、東芝シリコーン（株）、東レシリコーン
（株）、日本ユニカー（株）、チッソ（株）より種々の
構造のものが市販の化成品として容易に入手可能であ
る。また、これらの市販のシリコーンを原料として通常
の化学反応により容易に誘導体化も可能である。誘導体
化反応については、例えば、Ｅ．Ｇ．Ｒｏｃｈｏｗ著
「Ａｎ Ｉｎｔｒｏｄｕｃｉｏｎ ｔｏ ｔｈｅ Ｓｉ
ｌｌｉｃｏｎｓ」（信越化学中央研究所訳、丸善）等多
くの成書や論文の記載を見つけることが出来る。
ダウコーニング社、独国ＢＹＫケモー社、信越化学
（株）、東芝シリコーン（株）、東レシリコーン
（株）、日本ユニカー（株）、チッソ（株）より種々の
構造のものが市販の化成品として容易に入手可能であ
る。また、これらの市販のシリコーンを原料として通常
の化学反応により容易に誘導体化も可能である。誘導体
化反応については、例えば、Ｅ．Ｇ．Ｒｏｃｈｏｗ著
「Ａｎ Ｉｎｔｒｏｄｕｃｉｏｎ ｔｏ ｔｈｅ Ｓｉ
ｌｌｉｃｏｎｓ」（信越化学中央研究所訳、丸善）等多
くの成書や論文の記載を見つけることが出来る。
【０１１１】本発明に使用する高級脂肪酸またはその誘
導体の滑り剤は、メタノール、エタノール等のアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メ
チレンクロライド、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、１，３−ジオキソラン、ジオキサン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン等芳香族炭化水素等の溶媒に溶
解して用いられるか、または水分散物、あるいは水と水
混和性有機溶媒との混合液の分散物として用いられる。
これらの分散物は、高級脂肪酸またはその誘導体を分散
操作の前に予め加熱溶融した後、または水非混和性有機
溶媒（例えば、トルエン等の炭化水素類）に溶解した
後、水に乳化分散して、これに水を、あるいは水と水混
和性有機溶媒との混合液を、添加混合することによって
得られる。
導体の滑り剤は、メタノール、エタノール等のアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メ
チレンクロライド、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、１，３−ジオキソラン、ジオキサン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン等芳香族炭化水素等の溶媒に溶
解して用いられるか、または水分散物、あるいは水と水
混和性有機溶媒との混合液の分散物として用いられる。
これらの分散物は、高級脂肪酸またはその誘導体を分散
操作の前に予め加熱溶融した後、または水非混和性有機
溶媒（例えば、トルエン等の炭化水素類）に溶解した
後、水に乳化分散して、これに水を、あるいは水と水混
和性有機溶媒との混合液を、添加混合することによって
得られる。
【０１１２】分散物の調製方法としては、一般に公知の
いろいろな方法を用いることが出来るが、例えば辻薦著
「乳化・可溶化の技術」（工学図書株式会社版）に記載
された方法を用いることが出来る。分散物として用いる
場合は、高級脂肪酸またはその誘導体を１〜１０００ｎ
ｍ程度の大きさの粒子の形態にして、水と水混和性の有
機溶媒との混合液中に分散させたものが好ましい。
いろいろな方法を用いることが出来るが、例えば辻薦著
「乳化・可溶化の技術」（工学図書株式会社版）に記載
された方法を用いることが出来る。分散物として用いる
場合は、高級脂肪酸またはその誘導体を１〜１０００ｎ
ｍ程度の大きさの粒子の形態にして、水と水混和性の有
機溶媒との混合液中に分散させたものが好ましい。
【０１１３】本発明において、滑り剤を含有する層は、
バインダーを共存させずに、滑り剤のみで構成してもよ
いが、滑り剤をバインダーと共存させてもよい。
バインダーを共存させずに、滑り剤のみで構成してもよ
いが、滑り剤をバインダーと共存させてもよい。
【０１１４】使用するバインダーとしては、熱可塑性樹
脂、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、その他反応性樹
脂であって、これらを単独又は混合して使用することが
出来る。熱可塑性樹脂としては、セルロース系樹脂（セ
ルロースアセテート、セルロースナイトレート等のセル
ロース誘導体）、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル部分加水分解
物、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコ
ール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化
ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、マレ
イン酸−アクリル酸共重合体、アクリル酸（メタクリル
酸も含む）エステル重合体あるいは共重合体、ポリビニ
ルブチラール樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂等を挙
げることが出来る。上記放射性硬化性樹脂は、電子線や
紫外線等の放射線によって硬化される樹脂で、無水マレ
イン酸タイプ、ウレタンアクリルタイプ、エーテルアク
リルタイプ等のものが挙げられる。また熱硬化性樹脂、
またはその他の反応型樹脂としては、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン系硬化型樹脂、ユリア樹
脂、アルキッド樹脂、シリコーン系硬化型樹脂等を挙げ
ることが出来る。上記に列挙したバインダーは、その分
子中に極性基を有していてもよい。極性基としては、エ
ポキシ基、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−Ｎ（Ｒ）2、−Ｎ
（Ｒ）3Ｘ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3Ｍ2及び
−ＯＰＯ3Ｍ（Ｍ及びＭ2はそれぞれ水素原子、アルカリ
金属原子、アンモニウムを、Ｘはアミン塩を形成する酸
を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す。）を挙げること
が出来る。上記バインダーのうち、好ましくはセルロー
スエステルである。セルロースエステルとしては、セル
ロースジアセテート、セルローストリアセテート、セル
ロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテー
トブチレート、セルロースアセテートベンゾエートであ
る。特にセルロースジアセテートは成膜性、他の物質と
の相溶性、透明性、柔軟性等の観点から好ましい。これ
らのバインダーに使用する樹脂は、水系エマルジョンあ
るいは水系ポリマー液として使用することも出来る。
脂、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、その他反応性樹
脂であって、これらを単独又は混合して使用することが
出来る。熱可塑性樹脂としては、セルロース系樹脂（セ
ルロースアセテート、セルロースナイトレート等のセル
ロース誘導体）、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル部分加水分解
物、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコ
ール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化
ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、マレ
イン酸−アクリル酸共重合体、アクリル酸（メタクリル
酸も含む）エステル重合体あるいは共重合体、ポリビニ
ルブチラール樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂等を挙
げることが出来る。上記放射性硬化性樹脂は、電子線や
紫外線等の放射線によって硬化される樹脂で、無水マレ
イン酸タイプ、ウレタンアクリルタイプ、エーテルアク
リルタイプ等のものが挙げられる。また熱硬化性樹脂、
またはその他の反応型樹脂としては、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン系硬化型樹脂、ユリア樹
脂、アルキッド樹脂、シリコーン系硬化型樹脂等を挙げ
ることが出来る。上記に列挙したバインダーは、その分
子中に極性基を有していてもよい。極性基としては、エ
ポキシ基、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−Ｎ（Ｒ）2、−Ｎ
（Ｒ）3Ｘ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3Ｍ2及び
−ＯＰＯ3Ｍ（Ｍ及びＭ2はそれぞれ水素原子、アルカリ
金属原子、アンモニウムを、Ｘはアミン塩を形成する酸
を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す。）を挙げること
が出来る。上記バインダーのうち、好ましくはセルロー
スエステルである。セルロースエステルとしては、セル
ロースジアセテート、セルローストリアセテート、セル
ロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテー
トブチレート、セルロースアセテートベンゾエートであ
る。特にセルロースジアセテートは成膜性、他の物質と
の相溶性、透明性、柔軟性等の観点から好ましい。これ
らのバインダーに使用する樹脂は、水系エマルジョンあ
るいは水系ポリマー液として使用することも出来る。
【０１１５】この他、滑り剤水分散物のバインダーとし
て、親水性バインダーも本発明に好ましく使用し得る。
親水性バインダーとしては、例えば、リサーチ・ディス
クロージャー（以降ＲＤと略す）Ｎｏ．１７６４３、２
６頁、及び同Ｎｏ．１８７１６、６５１頁（以降Ｎｏ．
を略し、ＲＤ１７６４３のように記載する）に記載され
ている水溶性ポリマー、セルロースエーテル、ラテック
スポリマー、水溶性ポリエステルを挙げることが出来
る。水溶性ポリマーとしては、前述の他にゼラチン、ゼ
ラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱
粉、ポリビニールアルコール、アクリル酸系共重合体、
無水マレイン酸共重合体等が挙げられ、セルロースエー
テルとしては、メチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロース等を挙げることが出来る。セルロース
エーテル類としては、エチルセルロース、プロピルセル
ロース、２−ヒドロキシエチルセルロース、３−ヒドロ
キシプロピルセルロース、４−ヒドロキシブチルセルロ
ース、２−ヒドロキシエチルセルロースアセテート、２
−（２−ヒドロキシエトキシエチル）セルロース、２−
ヒドロキシエチル−３−ヒドロキシプロピルセルロース
等を挙げることが出来る。これら水溶性ポリマーのうち
本発明で好ましいものの一つとしてはゼラチンがある。
ゼラチンには、オセイン、ピグスキン、カーフスキン等
の原料から、アルカリ処理、酸処理、酵素処理などの処
理により作製されたものがあり、これらで作られたゼラ
チンは本発明では何れも使用し得る。また、上記セルロ
ースエーテル類も滑り剤水分散物の場合に本発明に好ま
しく用いられる。ラテックスポリマーとしては、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル、Ｎ−置換アクリ
ルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル、ブタジエ
ン類等のホモポリマーあるいはコポリマーとして、水中
に乳化分散されたいわゆる乳化重合物ならば制限なく使
用出来る。
て、親水性バインダーも本発明に好ましく使用し得る。
親水性バインダーとしては、例えば、リサーチ・ディス
クロージャー（以降ＲＤと略す）Ｎｏ．１７６４３、２
６頁、及び同Ｎｏ．１８７１６、６５１頁（以降Ｎｏ．
を略し、ＲＤ１７６４３のように記載する）に記載され
ている水溶性ポリマー、セルロースエーテル、ラテック
スポリマー、水溶性ポリエステルを挙げることが出来
る。水溶性ポリマーとしては、前述の他にゼラチン、ゼ
ラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱
粉、ポリビニールアルコール、アクリル酸系共重合体、
無水マレイン酸共重合体等が挙げられ、セルロースエー
テルとしては、メチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロース等を挙げることが出来る。セルロース
エーテル類としては、エチルセルロース、プロピルセル
ロース、２−ヒドロキシエチルセルロース、３−ヒドロ
キシプロピルセルロース、４−ヒドロキシブチルセルロ
ース、２−ヒドロキシエチルセルロースアセテート、２
−（２−ヒドロキシエトキシエチル）セルロース、２−
ヒドロキシエチル−３−ヒドロキシプロピルセルロース
等を挙げることが出来る。これら水溶性ポリマーのうち
本発明で好ましいものの一つとしてはゼラチンがある。
ゼラチンには、オセイン、ピグスキン、カーフスキン等
の原料から、アルカリ処理、酸処理、酵素処理などの処
理により作製されたものがあり、これらで作られたゼラ
チンは本発明では何れも使用し得る。また、上記セルロ
ースエーテル類も滑り剤水分散物の場合に本発明に好ま
しく用いられる。ラテックスポリマーとしては、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル、Ｎ−置換アクリ
ルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル、ブタジエ
ン類等のホモポリマーあるいはコポリマーとして、水中
に乳化分散されたいわゆる乳化重合物ならば制限なく使
用出来る。
【０１１６】水溶性（または水分散性）ポリエステルと
しては、テレフタル酸、フタル酸、イソフタル酸等の芳
香族ジカルボン酸類、またはアジピン酸等の脂肪族ジカ
ルボン酸類と、５−スルホフタル酸金属塩等のスルホ置
換の芳香族ジカルボン酸と、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ポリエチレングリコール（重合度５
００位）、１，４−シクロヘキサンジメタノール、シク
ロヘキサンジメタノール等のジオールとのコポリエステ
ルが好ましい。
しては、テレフタル酸、フタル酸、イソフタル酸等の芳
香族ジカルボン酸類、またはアジピン酸等の脂肪族ジカ
ルボン酸類と、５−スルホフタル酸金属塩等のスルホ置
換の芳香族ジカルボン酸と、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ポリエチレングリコール（重合度５
００位）、１，４−シクロヘキサンジメタノール、シク
ロヘキサンジメタノール等のジオールとのコポリエステ
ルが好ましい。
【０１１７】本発明に使用する滑り剤が高級脂肪酸エス
テルの場合には、粒子状になっていることが好ましい。
層中で滑り剤が粒子状として存在するには、バインダー
が共存して、しかも滑り層を塗布したあとの工程の温度
を、滑り剤の融点未満にすること等が重要なことであ
る。融点未満にすることによって、滑り剤が熱によって
溶融せず、該層内部に、また隣接層中にしみ込ませない
ようにすることによって、滑り剤の効果が得やすいもの
と発明者らは推察している。水に分散した滑り剤を使用
することは、更に好ましい粒子状態を形成し、粒子とし
て保持され易く、滑り剤の効果をより発揮し易い。粒状
滑り剤の粒径はＣＯＵＬＴＥＲ ｍｏｄｅｌ Ｎ４（コ
ールター社製）の粒径測定装置で測定することが出来
る。
テルの場合には、粒子状になっていることが好ましい。
層中で滑り剤が粒子状として存在するには、バインダー
が共存して、しかも滑り層を塗布したあとの工程の温度
を、滑り剤の融点未満にすること等が重要なことであ
る。融点未満にすることによって、滑り剤が熱によって
溶融せず、該層内部に、また隣接層中にしみ込ませない
ようにすることによって、滑り剤の効果が得やすいもの
と発明者らは推察している。水に分散した滑り剤を使用
することは、更に好ましい粒子状態を形成し、粒子とし
て保持され易く、滑り剤の効果をより発揮し易い。粒状
滑り剤の粒径はＣＯＵＬＴＥＲ ｍｏｄｅｌ Ｎ４（コ
ールター社製）の粒径測定装置で測定することが出来
る。
【０１１８】滑り層に親水性バインダーを使用する場合
には、架橋剤を使用するのが好ましい。使用し得る架橋
剤としては、前記架橋剤を使用することが出来、親水性
バインダー固形分に対して０．０１〜６０重量％が好ま
しく、より好ましくは０．０５〜５０重量％である。
には、架橋剤を使用するのが好ましい。使用し得る架橋
剤としては、前記架橋剤を使用することが出来、親水性
バインダー固形分に対して０．０１〜６０重量％が好ま
しく、より好ましくは０．０５〜５０重量％である。
【０１１９】滑り剤を含有し、バインダーを含有する最
外層塗布液を調製するには、滑り剤を溶解した溶液を他
の上記各成分と共に有機溶剤中に溶解させて滑り剤の溶
液とする方法と、滑り剤を分散した分散液を、水または
水と混和性の有機溶媒との混合液に均一に分散させて調
製する方法とがある。分散液に使用した有機溶媒、水ま
たは、水と混和性のある有機溶媒と、別の有機溶媒とを
任意に混合して使用してもよい。これらの有機溶媒とし
てはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコー
ルモノメチルエーテル、１，３−ジオキソラン、ジオキ
サン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンク
ロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロル
ヒドリン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ホルムアミド等ホルムアミド類、ヘキサン、
シクロヘキサン等の炭化水素類または水等を挙げること
が出来る。滑り層の塗布液の塗布量は、滑り性、耐擦り
傷性、クッツキ、転写、脱離等の観点から１〜１００ｍ
ｇ／ｍ2が好ましく、１０〜５０ｍｇ／ｍ2がより好まし
い。また滑り層が滑り剤単独の場合には、滑り剤の塗布
量は０．１〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、１〜８０ｍ
ｇ／ｍ2がより好ましい。本発明においては滑り剤単独
よりもバインダーと共に該層を形成した方がより好まし
い結果が得られる。
外層塗布液を調製するには、滑り剤を溶解した溶液を他
の上記各成分と共に有機溶剤中に溶解させて滑り剤の溶
液とする方法と、滑り剤を分散した分散液を、水または
水と混和性の有機溶媒との混合液に均一に分散させて調
製する方法とがある。分散液に使用した有機溶媒、水ま
たは、水と混和性のある有機溶媒と、別の有機溶媒とを
任意に混合して使用してもよい。これらの有機溶媒とし
てはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコー
ルモノメチルエーテル、１，３−ジオキソラン、ジオキ
サン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンク
ロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロル
ヒドリン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ホルムアミド等ホルムアミド類、ヘキサン、
シクロヘキサン等の炭化水素類または水等を挙げること
が出来る。滑り層の塗布液の塗布量は、滑り性、耐擦り
傷性、クッツキ、転写、脱離等の観点から１〜１００ｍ
ｇ／ｍ2が好ましく、１０〜５０ｍｇ／ｍ2がより好まし
い。また滑り層が滑り剤単独の場合には、滑り剤の塗布
量は０．１〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、１〜８０ｍ
ｇ／ｍ2がより好ましい。本発明においては滑り剤単独
よりもバインダーと共に該層を形成した方がより好まし
い結果が得られる。
【０１２０】本発明において滑り層はポリエステル支持
体から最も遠い最外層とすることが好ましい。また、本
発明において、滑り層がハロゲン化銀写真感光材料のバ
ック層側のポリエステル支持体から最も遠い層にある場
合、ハロゲン化銀乳剤層の構成層を塗設する前のロール
状に巻いて保存している間に、下引下層中のアジリジン
基を有する化合物またはオキサゾリン基を有する化合物
からの、またはガス中放電プラズマ処理面からのある物
質が滑り層に析出し、ハロゲン化銀写真感光材料として
現像する際、現像汚れを起こさせるのを防ぐ意味で、滑
り層にカルボキシル基を有する化合物を含有させること
が好ましい。
体から最も遠い最外層とすることが好ましい。また、本
発明において、滑り層がハロゲン化銀写真感光材料のバ
ック層側のポリエステル支持体から最も遠い層にある場
合、ハロゲン化銀乳剤層の構成層を塗設する前のロール
状に巻いて保存している間に、下引下層中のアジリジン
基を有する化合物またはオキサゾリン基を有する化合物
からの、またはガス中放電プラズマ処理面からのある物
質が滑り層に析出し、ハロゲン化銀写真感光材料として
現像する際、現像汚れを起こさせるのを防ぐ意味で、滑
り層にカルボキシル基を有する化合物を含有させること
が好ましい。
【０１２１】本発明において、滑り剤とバインダーとの
重量比は、バインダーに対して滑り剤が０．０５以上が
好ましい。バインダーを併用する際は１ｇ／ｍ2以下が
好ましく、５００ｍｇ／ｍ2以下がより好ましい。
重量比は、バインダーに対して滑り剤が０．０５以上が
好ましい。バインダーを併用する際は１ｇ／ｍ2以下が
好ましく、５００ｍｇ／ｍ2以下がより好ましい。
【０１２２】滑り剤を含有する層を塗布する方法として
は、イクストルージョンコーティング、エアードクター
コーティング、ブレードコーティング、エアーナイフコ
ーティング、スクイーズコーティング、含浸コーティン
グ、リバースロールコーティング、トランスファーロー
ルコーティング、グラビアコーティング、キスコーティ
ング、キャストコーティング、スプレイコーティング等
の方式を使用出来る。滑り層を塗布する際、その下の隣
接層と同時に重層してもよい。通常滑り層を塗布する場
合には、既に形成されている隣接層となるべき層の乾い
た表面に塗布する、いわゆる逐次塗布（ウエット・オン
・ドライ塗布）方法が一般的であるが、ウエット・オン
・ウエット塗布方式といって、隣接すべき層と同時に液
状層のまま重層する方法で塗布する方法も本発明では使
用し得る。これを同時重層方式ともいう。ウエット・オ
ン・ウエット塗布方式としては、特開昭６１−１３９９
２９号公報に記載されている磁気記録媒体塗布方法を好
ましく使用出来る。またウエット・オン・ウエット塗布
方式に使用する装置としては、特開平２−２５１２６５
号、同３−１５３号、同３−１６１号、同３−１６２及
び同３−１６３号公報を参考に出来る。
は、イクストルージョンコーティング、エアードクター
コーティング、ブレードコーティング、エアーナイフコ
ーティング、スクイーズコーティング、含浸コーティン
グ、リバースロールコーティング、トランスファーロー
ルコーティング、グラビアコーティング、キスコーティ
ング、キャストコーティング、スプレイコーティング等
の方式を使用出来る。滑り層を塗布する際、その下の隣
接層と同時に重層してもよい。通常滑り層を塗布する場
合には、既に形成されている隣接層となるべき層の乾い
た表面に塗布する、いわゆる逐次塗布（ウエット・オン
・ドライ塗布）方法が一般的であるが、ウエット・オン
・ウエット塗布方式といって、隣接すべき層と同時に液
状層のまま重層する方法で塗布する方法も本発明では使
用し得る。これを同時重層方式ともいう。ウエット・オ
ン・ウエット塗布方式としては、特開昭６１−１３９９
２９号公報に記載されている磁気記録媒体塗布方法を好
ましく使用出来る。またウエット・オン・ウエット塗布
方式に使用する装置としては、特開平２−２５１２６５
号、同３−１５３号、同３−１６１号、同３−１６２及
び同３−１６３号公報を参考に出来る。
【０１２３】本発明のハロゲン化銀写真感光材料用支持
体を用いたハロゲン化銀乳剤層の構成層としてはハロゲ
ン化銀乳剤層、中間層、保護層、ハレーション防止層、
紫外線防止層等、またバック層としては帯電防止層、磁
気記録層、導電性層、滑り層等を挙げることが出来る。
これらについては従来公知のものが使用出来る。
体を用いたハロゲン化銀乳剤層の構成層としてはハロゲ
ン化銀乳剤層、中間層、保護層、ハレーション防止層、
紫外線防止層等、またバック層としては帯電防止層、磁
気記録層、導電性層、滑り層等を挙げることが出来る。
これらについては従来公知のものが使用出来る。
【０１２４】近年、米国特許第３，７８２，９４７号、
同４，２７９，９４５号、同４，３０２，５２３号明細
書に記載されているように、ハロゲン化銀写真感光材料
のバック面に透明な磁気記録層を設けることが提案され
ているが、本発明のハロゲン化銀写真感光材料用支持体
は、このような透明磁気記録層とハロゲン化銀感光材料
の構成層を合わせ持った媒体にも使用出来る。本発明の
ハロゲン化銀写真感光材料用支持体に磁気記録層を塗設
し、巻き取ってロール状で保管している間の経時でも変
化せず、特に磁気記録入出力の際の磁気ヘッドの汚れを
防止することが出来る。また、磁気記録層にカルボキシ
ル基を有する化合物を含有させてもよく、同様な効果が
得られる。
同４，２７９，９４５号、同４，３０２，５２３号明細
書に記載されているように、ハロゲン化銀写真感光材料
のバック面に透明な磁気記録層を設けることが提案され
ているが、本発明のハロゲン化銀写真感光材料用支持体
は、このような透明磁気記録層とハロゲン化銀感光材料
の構成層を合わせ持った媒体にも使用出来る。本発明の
ハロゲン化銀写真感光材料用支持体に磁気記録層を塗設
し、巻き取ってロール状で保管している間の経時でも変
化せず、特に磁気記録入出力の際の磁気ヘッドの汚れを
防止することが出来る。また、磁気記録層にカルボキシ
ル基を有する化合物を含有させてもよく、同様な効果が
得られる。
【０１２５】本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロ
ゲン化銀乳剤は、例えばリサーチ・ディスクロージャー
（以下「ＲＤ」と略記する）Ｎｏ．１７６４３、２２〜
２３頁（１９７８年１２月）“Ｉ．乳剤製造（Ｅｍｕｌ
ｓｉｏｎ ｐｒｅｐａｒａ−ｔｉｏｎ ａｎｄｔｙｐｅ
ｓ）”及び同Ｎｏ．１８７１６、６４８頁、グラフキデ
著『写真の物理と化学』ポールモンテル社刊（Ｐ．Ｇｌ
ａｆｋｉｄｅｓ，Ｃｈｅｍｉｃ ｅｔＰｈｉｓｉｑｕｅ
Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ，ＰａｕｌＭｏｎｔｅ
ｌ，１９６７）、ダフィン著『写真乳剤化学』フォーカ
ルプレス社刊（Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ，Ｐｈｏｔｏｇｒ
ａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，
Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ １９６６）、ゼリクマンら著
『写真乳剤製造と塗布』フォーカルプレス社刊（Ｖ．
Ｌ．Ｚｅｌｉｋｍａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｋｉｎｇ ａ
ｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅ
ｍｕｌｓｉｏｎ，Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ，１９６４）
などに記載された方法を用いて調製することが出来る。
ゲン化銀乳剤は、例えばリサーチ・ディスクロージャー
（以下「ＲＤ」と略記する）Ｎｏ．１７６４３、２２〜
２３頁（１９７８年１２月）“Ｉ．乳剤製造（Ｅｍｕｌ
ｓｉｏｎ ｐｒｅｐａｒａ−ｔｉｏｎ ａｎｄｔｙｐｅ
ｓ）”及び同Ｎｏ．１８７１６、６４８頁、グラフキデ
著『写真の物理と化学』ポールモンテル社刊（Ｐ．Ｇｌ
ａｆｋｉｄｅｓ，Ｃｈｅｍｉｃ ｅｔＰｈｉｓｉｑｕｅ
Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ，ＰａｕｌＭｏｎｔｅ
ｌ，１９６７）、ダフィン著『写真乳剤化学』フォーカ
ルプレス社刊（Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ，Ｐｈｏｔｏｇｒ
ａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，
Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ １９６６）、ゼリクマンら著
『写真乳剤製造と塗布』フォーカルプレス社刊（Ｖ．
Ｌ．Ｚｅｌｉｋｍａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｋｉｎｇ ａ
ｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅ
ｍｕｌｓｉｏｎ，Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ，１９６４）
などに記載された方法を用いて調製することが出来る。
【０１２６】乳剤は米国特許３，５７４，６２８号明細
書、同３，６６５，３９４号明細書及び英国特許１，４
１３，７４８号明細書に記載された単分散乳剤も好まし
い。
書、同３，６６５，３９４号明細書及び英国特許１，４
１３，７４８号明細書に記載された単分散乳剤も好まし
い。
【０１２７】ハロゲン化銀乳剤には、物理熟成、化学熟
成及び分光増感を行うことが出来る。このような工程で
使用される添加剤は、ＲＤ１７６４３，ＲＤ１８７１６
及びＲＤ３０８１１９に記載されている。
成及び分光増感を行うことが出来る。このような工程で
使用される添加剤は、ＲＤ１７６４３，ＲＤ１８７１６
及びＲＤ３０８１１９に記載されている。
【０１２８】本発明のハロゲン化銀写真感光材料が、カ
ラー写真感光材料である場合、使用することが出来るハ
ロゲン化銀写真感光材料用添加剤も上記ＲＤに記載され
ている。また、種々のカプラーを使用することが出来、
その具体例もＲＤ１７６４３及びＲＤ３０８１１９に記
載されている。また、これら添加剤は、ＲＤ３０８１１
９ １００７頁 XIV項に記載されている分散法などに
より、写真感光層に添加することが出来る。カラー写真
感光材料には、前述のＲＤ３０８１１９ II−Ｋ項に記
載されているフィルター層や中間層などの補助層を設け
ることが出来る。カラー写真感光材料を構成する場合、
前述のＲＤ３０８１１９ VII−Ｋ項に記載されている
順層、逆層、ユニット構成などの様々な層構成をとるこ
とが出来る。
ラー写真感光材料である場合、使用することが出来るハ
ロゲン化銀写真感光材料用添加剤も上記ＲＤに記載され
ている。また、種々のカプラーを使用することが出来、
その具体例もＲＤ１７６４３及びＲＤ３０８１１９に記
載されている。また、これら添加剤は、ＲＤ３０８１１
９ １００７頁 XIV項に記載されている分散法などに
より、写真感光層に添加することが出来る。カラー写真
感光材料には、前述のＲＤ３０８１１９ II−Ｋ項に記
載されているフィルター層や中間層などの補助層を設け
ることが出来る。カラー写真感光材料を構成する場合、
前述のＲＤ３０８１１９ VII−Ｋ項に記載されている
順層、逆層、ユニット構成などの様々な層構成をとるこ
とが出来る。
【０１２９】ハロゲン化銀写真感光材料を現像処理する
には、例えばＴ．Ｈ．ジェームズ著、セオリイオブザホ
トグラフィックプロセス第４版（Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ
ｏｆ Ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｆｉｃ Ｐｒｏｃｅ
ｓｓ ＦｏｒｔｈＥｄｉｔｉｏｎ）第２９１頁〜第３３
４頁及びジャーナルオブザアメリカンケミカルソサエテ
ィ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ
ＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙ）第７３巻、第３，
１００頁（１９５１）に記載されている、それ自体公知
の現像剤を使用することが出来る。また、カラー写真感
光材料は前述のＲＤ１７６４３ ２８〜２９頁，ＲＤ１
８７１６ ６１５頁及びＲＤ３０８１１９ XIXに記載
された通常の方法によって、現像処理することが出来
る。
には、例えばＴ．Ｈ．ジェームズ著、セオリイオブザホ
トグラフィックプロセス第４版（Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ
ｏｆ Ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｆｉｃ Ｐｒｏｃｅ
ｓｓ ＦｏｒｔｈＥｄｉｔｉｏｎ）第２９１頁〜第３３
４頁及びジャーナルオブザアメリカンケミカルソサエテ
ィ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ
ＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙ）第７３巻、第３，
１００頁（１９５１）に記載されている、それ自体公知
の現像剤を使用することが出来る。また、カラー写真感
光材料は前述のＲＤ１７６４３ ２８〜２９頁，ＲＤ１
８７１６ ６１５頁及びＲＤ３０８１１９ XIXに記載
された通常の方法によって、現像処理することが出来
る。
【０１３０】次に、磁気記録層について説明する。磁気
記録層に用いられる磁性体微粉末としては、金属磁性体
粉末、酸化鉄磁性体粉末、Ｃｏドープ酸化鉄磁性体粉
末、二酸化クロム磁性体粉末、バリウムフェライト磁性
体粉末などが使用出来る。これらの磁性体粉末の製法は
既知でり、本発明で用いられる磁性体粉末についても公
知の方法に従って製造することが出来る。磁性体粉末の
形状・サイズは特に制限はなく、広く用いることが出来
る。形状としては針状、米粒状、球状、立方体状、板状
など何れの形状を有するものであってもよいが、針状、
板状であることが電磁変換特性上好ましい。結晶子サイ
ズ、比表面積ともに特に制限はない。磁性体粉末は表面
処理されたものであってもよい。例えば、チタン、珪
素、アルミニウムなどの元素を含む物質で表面処理され
たものでもよいし、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エス
テル、ホスホン酸、燐酸エステル、ベンゾトリアゾール
などの含チッ素複素環をもつ吸着性化合物のような有機
化合物で処理されていてもよい。磁性体粉末のｐＨも特
に制限はないが、５〜１０の範囲にあることが好まし
い。磁性体粒子のサイズについては、そのサイズと透明
性との間に相関があることが「テレビジョン」第２０
巻、第２号「超微粒子半透明磁気記録媒体の特性とその
応用」に記載されている。例えば、γ−Ｆｅ2Ｏ3の針状
粉末においては粒子サイズを小さくすると光透過率が向
上する。米国特許第２，９５０，９７１号明細書には、
バインダー中に分散された磁性酸化鉄からなる磁気層が
赤外線を透過させることが記載されており、米国特許第
４，２７９，９４５号明細書には、磁気層中における磁
性体粒子の濃度が比較的多い場合にも粒子サイズを小さ
くすると波長６３２．８ｎｍのヘリウム・ネオンレーザ
ー光の透過性がよくなることが記載されている。しかし
ながら、ハロゲン化銀カラー写真感光材料の画像形成領
域に磁気記録層を設ける場合、赤色領域だけでなく、緑
色領域及び青色領域の光透過率も高くなければならな
い。このため磁性体粒子の粒径を小さくすると共に、磁
性体粒子の塗設量も制限される。磁性体粒子は、ある程
度以上に粒径を小さくすると必要な磁気特性が得られな
くなる。従って、磁性体粉末の粒径は必要な磁気特性が
得られる範囲で小さくすることが好ましい。また、磁性
体粒子の塗設量も、ある程度以上に少なくすると必要な
磁気特性が得られなくなるので、必要な磁気特性が得ら
れる範囲で少なくすることが好ましい。実用的には、磁
性体粉末の塗設量は０．００１〜３ｇ／ｍ2であり、よ
り好ましくは０．０１〜１ｇ／ｍ2である。
記録層に用いられる磁性体微粉末としては、金属磁性体
粉末、酸化鉄磁性体粉末、Ｃｏドープ酸化鉄磁性体粉
末、二酸化クロム磁性体粉末、バリウムフェライト磁性
体粉末などが使用出来る。これらの磁性体粉末の製法は
既知でり、本発明で用いられる磁性体粉末についても公
知の方法に従って製造することが出来る。磁性体粉末の
形状・サイズは特に制限はなく、広く用いることが出来
る。形状としては針状、米粒状、球状、立方体状、板状
など何れの形状を有するものであってもよいが、針状、
板状であることが電磁変換特性上好ましい。結晶子サイ
ズ、比表面積ともに特に制限はない。磁性体粉末は表面
処理されたものであってもよい。例えば、チタン、珪
素、アルミニウムなどの元素を含む物質で表面処理され
たものでもよいし、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エス
テル、ホスホン酸、燐酸エステル、ベンゾトリアゾール
などの含チッ素複素環をもつ吸着性化合物のような有機
化合物で処理されていてもよい。磁性体粉末のｐＨも特
に制限はないが、５〜１０の範囲にあることが好まし
い。磁性体粒子のサイズについては、そのサイズと透明
性との間に相関があることが「テレビジョン」第２０
巻、第２号「超微粒子半透明磁気記録媒体の特性とその
応用」に記載されている。例えば、γ−Ｆｅ2Ｏ3の針状
粉末においては粒子サイズを小さくすると光透過率が向
上する。米国特許第２，９５０，９７１号明細書には、
バインダー中に分散された磁性酸化鉄からなる磁気層が
赤外線を透過させることが記載されており、米国特許第
４，２７９，９４５号明細書には、磁気層中における磁
性体粒子の濃度が比較的多い場合にも粒子サイズを小さ
くすると波長６３２．８ｎｍのヘリウム・ネオンレーザ
ー光の透過性がよくなることが記載されている。しかし
ながら、ハロゲン化銀カラー写真感光材料の画像形成領
域に磁気記録層を設ける場合、赤色領域だけでなく、緑
色領域及び青色領域の光透過率も高くなければならな
い。このため磁性体粒子の粒径を小さくすると共に、磁
性体粒子の塗設量も制限される。磁性体粒子は、ある程
度以上に粒径を小さくすると必要な磁気特性が得られな
くなる。従って、磁性体粉末の粒径は必要な磁気特性が
得られる範囲で小さくすることが好ましい。また、磁性
体粒子の塗設量も、ある程度以上に少なくすると必要な
磁気特性が得られなくなるので、必要な磁気特性が得ら
れる範囲で少なくすることが好ましい。実用的には、磁
性体粉末の塗設量は０．００１〜３ｇ／ｍ2であり、よ
り好ましくは０．０１〜１ｇ／ｍ2である。
【０１３１】磁気記録層に用いるバインダーとしては、
従来、磁気記録媒体用として使用されている公知の熱可
塑性樹脂，放射線硬化性樹脂，熱硬化性樹脂，その他の
反応型樹脂及びこれらの混合物を使用することが出来
る。熱可塑性樹脂は、ガラス転移点が−４０℃〜１６０
℃、好ましくは６０℃〜１５０℃であるものであり、重
量平均分子量は１００００〜３０００００であるものが
好ましく、更に好ましくは、重量平均分子量が５０００
０〜２０００００のものである。
従来、磁気記録媒体用として使用されている公知の熱可
塑性樹脂，放射線硬化性樹脂，熱硬化性樹脂，その他の
反応型樹脂及びこれらの混合物を使用することが出来
る。熱可塑性樹脂は、ガラス転移点が−４０℃〜１６０
℃、好ましくは６０℃〜１５０℃であるものであり、重
量平均分子量は１００００〜３０００００であるものが
好ましく、更に好ましくは、重量平均分子量が５０００
０〜２０００００のものである。
【０１３２】本発明における磁気記録層のバインダーは
セルロースエステルを主成分とすることが好ましく、具
体的には、セルロースジアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート
等のセルロースアセテート系、硝酸セルロース系、硫酸
セルロース系、及びそれらの混合エステル系等があり、
好ましくはセルロースジアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネー
ト、特にはセルロースジアセテートである。
セルロースエステルを主成分とすることが好ましく、具
体的には、セルロースジアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート
等のセルロースアセテート系、硝酸セルロース系、硫酸
セルロース系、及びそれらの混合エステル系等があり、
好ましくはセルロースジアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネー
ト、特にはセルロースジアセテートである。
【０１３３】バインダーは硬膜してもよい。使用出来る
架橋剤としては、前記の架橋剤を挙げることが出来る。
架橋剤は、通常、バインダーに対して０．０１〜３０重
量％用いられ、好ましくは０．０５〜２０重量％であ
る。
架橋剤としては、前記の架橋剤を挙げることが出来る。
架橋剤は、通常、バインダーに対して０．０１〜３０重
量％用いられ、好ましくは０．０５〜２０重量％であ
る。
【０１３４】磁性体粉末は、必要に応じ溶剤を用いて結
合剤中に分散され、塗布液が形成される。磁性体粉末の
分散にはボールミル、ホモミキサー、サンドミルなどを
用いることが出来る。この場合、磁性体粒子を破損する
ことなく、出来るだけ磁性体粒子一個一個をバラバラに
して分散することが好ましい。光学的に透明な磁気記録
層を形成する場合には、結合剤は、磁性体粉末１重量部
に対して１〜２０重量部用いるのが好ましい。更に好ま
しくは、磁性体粉末１重量部に対して２〜１５重量部で
ある。また、溶剤は塗布が容易に行えるような量で用い
られる。
合剤中に分散され、塗布液が形成される。磁性体粉末の
分散にはボールミル、ホモミキサー、サンドミルなどを
用いることが出来る。この場合、磁性体粒子を破損する
ことなく、出来るだけ磁性体粒子一個一個をバラバラに
して分散することが好ましい。光学的に透明な磁気記録
層を形成する場合には、結合剤は、磁性体粉末１重量部
に対して１〜２０重量部用いるのが好ましい。更に好ま
しくは、磁性体粉末１重量部に対して２〜１５重量部で
ある。また、溶剤は塗布が容易に行えるような量で用い
られる。
【０１３５】磁気記録層の厚みは、０．１〜１０μｍが
好ましく、より好ましくは０．２〜５μｍ、更に好まし
くは０．５〜３μｍである。
好ましく、より好ましくは０．２〜５μｍ、更に好まし
くは０．５〜３μｍである。
【０１３６】磁気記録層を形成する塗布液には、磁気記
録層に、潤滑性の付与，帯電防止，接着防止，摩擦・磨
粍特性向上などの機能を持たせるために、潤滑剤，帯電
防止剤など種々の添加剤を添加することが出来る。ま
た、塗布液には他に、例えば、磁気記録層に柔軟性を与
えるために可塑剤を、塗布液中での磁性体の分散を助け
るために分散剤を、磁気ヘッドの目づまりを防止するた
めの研磨剤を添加することが出来る。
録層に、潤滑性の付与，帯電防止，接着防止，摩擦・磨
粍特性向上などの機能を持たせるために、潤滑剤，帯電
防止剤など種々の添加剤を添加することが出来る。ま
た、塗布液には他に、例えば、磁気記録層に柔軟性を与
えるために可塑剤を、塗布液中での磁性体の分散を助け
るために分散剤を、磁気ヘッドの目づまりを防止するた
めの研磨剤を添加することが出来る。
【０１３７】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【０１３８】［評価方法］ 〈ハロゲン化銀乳剤層構成層の接着性〉各試料を２３
℃、５５％ＲＨの環境下で１２時間以上調湿した後、同
じ環境下で、次のような手順で試験を行う。各試料の塗
布面にカミソリで平面に対して約４５度の角度で切れ目
を支持体厚の５％以上の深さまで支持体に入るように
し、長さ約２０ｃｍ、幅２４．５ｍｍのセロハンテープ
をこの切れ目上に切れ目とは垂直の方向に約５ｃｍ、５
ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力で密着させ、切れ目と反対方向
にほぼ平面と平行にすばやくセロハンテープを引き剥が
す。テープを貼った先端から切れ目までの面積に対する
剥離が生じた面積の割合から接着のレベルを以下の６段
階で評価する。
℃、５５％ＲＨの環境下で１２時間以上調湿した後、同
じ環境下で、次のような手順で試験を行う。各試料の塗
布面にカミソリで平面に対して約４５度の角度で切れ目
を支持体厚の５％以上の深さまで支持体に入るように
し、長さ約２０ｃｍ、幅２４．５ｍｍのセロハンテープ
をこの切れ目上に切れ目とは垂直の方向に約５ｃｍ、５
ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力で密着させ、切れ目と反対方向
にほぼ平面と平行にすばやくセロハンテープを引き剥が
す。テープを貼った先端から切れ目までの面積に対する
剥離が生じた面積の割合から接着のレベルを以下の６段
階で評価する。
【０１３９】Ａ：全く剥離がない Ｂ：剥離面積が５％未満 Ｃ：剥離面積が５％以上１０％未満 Ｄ：剥離面積が１０％以上５０％未満 Ｅ：剥離面積が５０％以上１００％未満 Ｆ：剥離面積が１００％以上。
【０１４０】〈磁気記録層の接着性〉磁気記録媒体の接
着性を、磁気記録層に対する耐傷性で評価する。ＨＥＩ
ＤＯＮ Ｎ−１４ＤＲ（新東科学（株）製）を用いて、
ヘッド荷重３００ｇ、速度１００ｍｍ／秒でフィルム上
を１００回パスさせる。その後、傷の状態を観察し下記
の６段階で評価した。
着性を、磁気記録層に対する耐傷性で評価する。ＨＥＩ
ＤＯＮ Ｎ−１４ＤＲ（新東科学（株）製）を用いて、
ヘッド荷重３００ｇ、速度１００ｍｍ／秒でフィルム上
を１００回パスさせる。その後、傷の状態を観察し下記
の６段階で評価した。
【０１４１】Ａ：全く傷はなかった Ｂ：非常に弱い傷がかすかについた Ｃ：弱い傷が若干ついた Ｄ：やや強い傷がかなりついた Ｅ：強い傷が多くついた Ｆ：膜が剥がれた。
【０１４２】〈現像汚れ〉各試料を３５ｍｍカラーフィ
ルム３６枚撮りに加工し、後述の現像処理条件で自動現
像機でハンガー現像し、処理後のバック面の表面を目視
観察し、以下の基準で現像汚れを評価した。
ルム３６枚撮りに加工し、後述の現像処理条件で自動現
像機でハンガー現像し、処理後のバック面の表面を目視
観察し、以下の基準で現像汚れを評価した。
【０１４３】Ａ：全く汚れがない Ｂ：通常の観察では汚れは分からないが、息を吹きかけ
ると弱い汚れが見られる Ｃ：通常の目視観察でもやや弱い汚れがわかる Ｄ：汚れがはっきりとわかるが、それほど強くない Ｅ：強い汚れが若干見られる Ｆ：強い汚れが多く見られる。
ると弱い汚れが見られる Ｃ：通常の目視観察でもやや弱い汚れがわかる Ｄ：汚れがはっきりとわかるが、それほど強くない Ｅ：強い汚れが若干見られる Ｆ：強い汚れが多く見られる。
【０１４４】 《現像処理条件》 カラー現像 ３分１５秒 ３８．０±０．１℃ 漂白 ６分３０秒 ３８．０±３．０℃ 水洗 ３分１５秒 ２４〜４１℃ 定着 ６分３０秒 ３８．０±３．０℃ 水洗 ３分１５秒 ２４〜４１℃ 安定 ３分１５秒 ３８．０±３．０℃ 乾燥 ５０℃以下 各工程に用いる処理液組成を以下に示す。
【０１４５】 （発色現像液） ４−アミノ・３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル） アニリン・硫酸塩 ４．７５ｇ 無水亜硫酸ナトリウム ４．２５ｇ ヒドロキシルアミン・１／２硫酸塩 ２．０ｇ 無水炭酸カリウム ３７．５ｇ 臭化ナトリウム １．３ｇ ニトリロ三酢酸・ナトリウム塩（１水塩） ２．５ｇ 水酸化カリウム １．０ｇ 水を加えて１０００ｍｌとする（ｐＨ＝１０．１）。
【０１４６】 （漂白液） エチレンジアミン四酢酸鉄（III）アンモニウム塩 １００．０ｇ エチレンジアミン四酢酸２アンモニウム塩 １０．０ｇ 臭化アンモニウム １５０．０ｇ 氷酢酸 １０．０ｇ 水を加えて１０００ｍｌとし、アンモニア水を用いてｐＨ６．０に調整する。
【０１４７】 （定着液） チオ硫酸アンモニウム １７５．０ｇ 無水亜硫酸ナトリウム ８．５ｇ メタ亜硫酸ナトリウム ２．３ｇ 水を加えて１０００ｍｌとし、酢酸を用いてｐＨ６．０に調整する。
【０１４８】 （安定液） ホルマリン（３７％水溶液） １．５ｍｌ コニダックス（コニカ（株）製） ７．５ｍｌ 水を加えて１０００ｍｌとする。
【０１４９】〈磁気ヘッド汚れ〉各試料を３５ｍｍカラ
ーフィルム３６枚撮りに加工し、磁気ヘッド上を１試料
１００本通過させ、その後のヘッド表面を顕微鏡で観察
し、以下の基準でヘッド汚れのレベルを評価した。
ーフィルム３６枚撮りに加工し、磁気ヘッド上を１試料
１００本通過させ、その後のヘッド表面を顕微鏡で観察
し、以下の基準でヘッド汚れのレベルを評価した。
【０１５０】Ａ：全く汚れがない Ｂ：コンタクトライン周辺に極僅かに汚れがみられる Ｃ：コンタクトライン周辺に若干の汚れがみられる Ｄ：ヘッド面にかなりの汚れが見られる Ｅ：ヘッド全面的に汚れが多く発生している Ｆ：ヘッド全面的に汚れが非常に発生している。
【０１５１】〔ポリエステル支持体の作製〕 〈ポリエステル支持体１〉２，６−ナフタレンジカルボ
ン酸ジメチル１００重量部、エチレングリコール６０重
量部にエステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物
０．１重量部を添加し、常法に従ってエステル交換反応
を行った。得られた生成物に、三酸化アンチモン０．０
５重量部、リン酸トリメチルエステル０．０３重量部を
添加した。次いで徐々に昇温、減圧にし、２９０℃、
０．０５ｍｍＨｇの条件で重合を行ない固有粘度０．６
０のポリエチレン−２，６−ナフタレートを得た。これ
を、１５０℃で８時間真空乾燥した後、３００℃でＴダ
イから層状に溶融押出し、５０℃の冷却ドラム上に静電
印加しながら密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを
得た。この未延伸シートをロール式縦延伸機を用いて、
１３５℃で縦方向に３．３倍延伸した。得られた一軸延
伸フィルムをテンター式横延伸機を用いて、第一延伸ゾ
ーン１４５℃で総横延伸倍率の５０％延伸し、更に第二
延伸ゾーン１５５℃で総横延伸倍率３．３倍となるよう
に延伸した。次いで、１００℃で２秒間熱処理し、更に
第一熱固定ゾーン２００℃で５秒間熱固定し、第二熱固
定ゾーン２４０℃で１５秒間熱固定した。次いで、横方
向に５％弛緩処理しながら室温まで３０秒かけて徐冷し
て、厚さ８５μｍのポリエチレンナフタレートフィルム
を得た。これをステンレス製のコアに巻き付け、１１０
℃で４８時間熱処理（アニール処理）してアニール処理
済のポリエステル支持体１を作製した。
ン酸ジメチル１００重量部、エチレングリコール６０重
量部にエステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物
０．１重量部を添加し、常法に従ってエステル交換反応
を行った。得られた生成物に、三酸化アンチモン０．０
５重量部、リン酸トリメチルエステル０．０３重量部を
添加した。次いで徐々に昇温、減圧にし、２９０℃、
０．０５ｍｍＨｇの条件で重合を行ない固有粘度０．６
０のポリエチレン−２，６−ナフタレートを得た。これ
を、１５０℃で８時間真空乾燥した後、３００℃でＴダ
イから層状に溶融押出し、５０℃の冷却ドラム上に静電
印加しながら密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを
得た。この未延伸シートをロール式縦延伸機を用いて、
１３５℃で縦方向に３．３倍延伸した。得られた一軸延
伸フィルムをテンター式横延伸機を用いて、第一延伸ゾ
ーン１４５℃で総横延伸倍率の５０％延伸し、更に第二
延伸ゾーン１５５℃で総横延伸倍率３．３倍となるよう
に延伸した。次いで、１００℃で２秒間熱処理し、更に
第一熱固定ゾーン２００℃で５秒間熱固定し、第二熱固
定ゾーン２４０℃で１５秒間熱固定した。次いで、横方
向に５％弛緩処理しながら室温まで３０秒かけて徐冷し
て、厚さ８５μｍのポリエチレンナフタレートフィルム
を得た。これをステンレス製のコアに巻き付け、１１０
℃で４８時間熱処理（アニール処理）してアニール処理
済のポリエステル支持体１を作製した。
【０１５２】〈ポリエステル支持体２〉テレフタル酸ジ
メチル１００重量部、エチレングリコール６４重量部に
酢酸カルシウム水和物０．１重量部を添加し、常法によ
りエステル交換反応を行なった。得られた生成物に５−
ナトリウムスルホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフタ
ル酸のエチレングリコール溶液（濃度３５重量％）３９
重量部（７モル％／全酸成分）、ポリエチレングリコー
ル（数平均分子量３０００）５．８重量部（５重量％／
ポリマー）、三酸化アンチモン０．０５重量部、リン酸
トリメチルエステル０．１３重量部を添加した。次いで
徐々に昇温、減圧にし、２８０℃，０．５ｍｍＨｇで重
合を行ない共重合ポリエステルＡを得た。含水率は４．
５％、固有粘度は０．４１であった。次に、添加量を５
−ナトリウムスルホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフ
タル酸のエチレングリコール溶液（濃度３５重量％）２
２重量部（４モル％／全酸成分）、ポリエチレングリコ
ール（数平均分子量３０００）０．６重量部（０．５重
量％／ポリマー）に変更した以外は共重合ポリエステル
Ａと同様にして、共重合ポリエステルＢを得た。含水率
は２．８％、固有粘度は０．４５であった。
メチル１００重量部、エチレングリコール６４重量部に
酢酸カルシウム水和物０．１重量部を添加し、常法によ
りエステル交換反応を行なった。得られた生成物に５−
ナトリウムスルホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフタ
ル酸のエチレングリコール溶液（濃度３５重量％）３９
重量部（７モル％／全酸成分）、ポリエチレングリコー
ル（数平均分子量３０００）５．８重量部（５重量％／
ポリマー）、三酸化アンチモン０．０５重量部、リン酸
トリメチルエステル０．１３重量部を添加した。次いで
徐々に昇温、減圧にし、２８０℃，０．５ｍｍＨｇで重
合を行ない共重合ポリエステルＡを得た。含水率は４．
５％、固有粘度は０．４１であった。次に、添加量を５
−ナトリウムスルホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフ
タル酸のエチレングリコール溶液（濃度３５重量％）２
２重量部（４モル％／全酸成分）、ポリエチレングリコ
ール（数平均分子量３０００）０．６重量部（０．５重
量％／ポリマー）に変更した以外は共重合ポリエステル
Ａと同様にして、共重合ポリエステルＢを得た。含水率
は２．８％、固有粘度は０．４５であった。
【０１５３】これらの共重合ポリエステルＡ及びＢを、
各々１５０℃で真空乾燥した後、３台の押出機を用いて
２８５℃で溶融押出し、各層をＡ／Ｂ／Ａ（共重合ポリ
エステルＡ／共重合ポリエステルＢ／共重合ポリエステ
ルＡ）の積層となるようにＴダイ内で層状に接合し、冷
却ドラム上で急冷固化させ、積層未延伸フィルムを得
た。この時、延伸後の各層の厚さが１５／６０／４５μ
ｍ、トータル膜厚１２０μｍとなるように各素材の押出
量を調整した。次いで８５℃でタテ方向に３．５倍延伸
し、更に９５℃でヨコ方向に３．５倍延伸した後、２０
０℃で熱固定して二軸延伸変性積層のポリエステル支持
体２を得た。
各々１５０℃で真空乾燥した後、３台の押出機を用いて
２８５℃で溶融押出し、各層をＡ／Ｂ／Ａ（共重合ポリ
エステルＡ／共重合ポリエステルＢ／共重合ポリエステ
ルＡ）の積層となるようにＴダイ内で層状に接合し、冷
却ドラム上で急冷固化させ、積層未延伸フィルムを得
た。この時、延伸後の各層の厚さが１５／６０／４５μ
ｍ、トータル膜厚１２０μｍとなるように各素材の押出
量を調整した。次いで８５℃でタテ方向に３．５倍延伸
し、更に９５℃でヨコ方向に３．５倍延伸した後、２０
０℃で熱固定して二軸延伸変性積層のポリエステル支持
体２を得た。
【０１５４】〈ポリエステル支持体３〉市販（帝人製）
の１００μｍポリエチレンテレフタレートフィルムを準
備し、ポリエステル支持体３とした。
の１００μｍポリエチレンテレフタレートフィルムを準
備し、ポリエステル支持体３とした。
【０１５５】〔ポリエステル支持体の表面処理〕 〈表面処理１〉ポリエステル支持体の一方の面に、該支
持体を搬送しながら図１の装置を用いて、圧力７６０Ｔ
ｏｒｒ、ガスの成分アルゴン／水素／窒素＝９６／２／
２（圧力％）の混合ガスを導入し、３５０Ｗ・ｍｉｎ／
ｍ2のガス中放電プラズマ処理を施す処理を表面処理１
とした。
持体を搬送しながら図１の装置を用いて、圧力７６０Ｔ
ｏｒｒ、ガスの成分アルゴン／水素／窒素＝９６／２／
２（圧力％）の混合ガスを導入し、３５０Ｗ・ｍｉｎ／
ｍ2のガス中放電プラズマ処理を施す処理を表面処理１
とした。
【０１５６】〈表面処理２〉ポリエステル支持体の一方
の面に、該支持体を搬送しながら図１の装置を用いて、
圧力７８０Ｔｏｒｒ、ガスの成分アルゴン／窒素＝９４
／６（圧力％）の混合ガスを導入し、３５０Ｗ・ｍｉｎ
／ｍ2のガス中放電プラズマ処理を施す処理を表面処理
２とした。
の面に、該支持体を搬送しながら図１の装置を用いて、
圧力７８０Ｔｏｒｒ、ガスの成分アルゴン／窒素＝９４
／６（圧力％）の混合ガスを導入し、３５０Ｗ・ｍｉｎ
／ｍ2のガス中放電プラズマ処理を施す処理を表面処理
２とした。
【０１５７】〈表面処理３〉ポリエステル支持体の一方
の面に、該支持体を搬送しながら図１の装置を用いて、
圧力７９０Ｔｏｒｒ、ガスの成分アルゴン／二酸化炭素
／アンモニア＝９２／３／５（圧力％）の混合ガスを導
入し、４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のガス中放電プラズマ処
理を施す処理を表面処理３とした。
の面に、該支持体を搬送しながら図１の装置を用いて、
圧力７９０Ｔｏｒｒ、ガスの成分アルゴン／二酸化炭素
／アンモニア＝９２／３／５（圧力％）の混合ガスを導
入し、４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のガス中放電プラズマ処
理を施す処理を表面処理３とした。
【０１５８】〈表面処理４〉ポリエステル支持体の一方
の面に、該支持体を搬送しながら図１の装置を用いて、
圧力７２０Ｔｏｒｒ、ガスの成分アルゴン／二酸化炭素
／窒素＝９０／３／７（圧力％）の混合ガスを導入し、
４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のガス中放電プラズマ処理を施
す処理を表面処理４とした。
の面に、該支持体を搬送しながら図１の装置を用いて、
圧力７２０Ｔｏｒｒ、ガスの成分アルゴン／二酸化炭素
／窒素＝９０／３／７（圧力％）の混合ガスを導入し、
４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のガス中放電プラズマ処理を施
す処理を表面処理４とした。
【０１５９】〈表面処理５〉ポリエステル支持体の一方
の面に、該支持体を搬送しながら１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2
のコロナ放電処理を施し、この処理を表面処理５とし
た。
の面に、該支持体を搬送しながら１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2
のコロナ放電処理を施し、この処理を表面処理５とし
た。
【０１６０】実施例１ ポリエステル支持体１〜３に、表面処理５を施し、下記
下引層下層塗布液ｕ−１（架橋剤種類及び添加量は表１
に記載）を乾燥膜厚０．４μｍになるように塗布し、下
引層下層Ｕ−１とした。ｕ−１乾燥後Ｕ−１上に表面処
理５を再び施し、下記下引層上層塗布液ｕ−２（カルボ
キシル基を有する化合物種類及び添加量は表１に記載）
を乾燥膜厚０．１μｍになるように塗布し、下引層上層
Ｕ−２とした。ｕ−２乾燥後、引き続いて表１記載の熱
処理を実施し、下引層塗布済み支持体試料１０１〜１２
４を作製した。これら試料の下引層の塗布をした日か
ら、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気中に１週間保管した後
（以降、経時保管条件１とすることもある）、２３℃、
５５％ＲＨの雰囲気中に１年間保管した後（以下、経時
保管条件２とすることもある）、また４０℃、２０％Ｒ
Ｈの雰囲気中に１ヶ月保管した後（以下、経時保管条件
３とすることもある）、それぞれの下引層Ｕ−２の面に
市販されているコニカ（株）製カラーネガフィルム「コ
ニカカラーＪＸ４００」と同一のハロゲン化銀乳剤層構
成層を塗設し、ハロゲン化銀乳剤層構成層塗布済み試料
と、磁気記録層塗布液ｍ−１を調製し、ボールミルで混
合分散した後、コロネートＬ（ポリイソシアネート型硬
化剤；日本ポリウレタン社）を５重量部加え、この磁気
記録層塗布液ｍ−１を、２０００ガウスの磁場を印加し
つつ乾燥膜厚が５μｍになるように塗布、乾燥し磁気記
録層（Ｍ−１）塗布済み試料を得た。
下引層下層塗布液ｕ−１（架橋剤種類及び添加量は表１
に記載）を乾燥膜厚０．４μｍになるように塗布し、下
引層下層Ｕ−１とした。ｕ−１乾燥後Ｕ−１上に表面処
理５を再び施し、下記下引層上層塗布液ｕ−２（カルボ
キシル基を有する化合物種類及び添加量は表１に記載）
を乾燥膜厚０．１μｍになるように塗布し、下引層上層
Ｕ−２とした。ｕ−２乾燥後、引き続いて表１記載の熱
処理を実施し、下引層塗布済み支持体試料１０１〜１２
４を作製した。これら試料の下引層の塗布をした日か
ら、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気中に１週間保管した後
（以降、経時保管条件１とすることもある）、２３℃、
５５％ＲＨの雰囲気中に１年間保管した後（以下、経時
保管条件２とすることもある）、また４０℃、２０％Ｒ
Ｈの雰囲気中に１ヶ月保管した後（以下、経時保管条件
３とすることもある）、それぞれの下引層Ｕ−２の面に
市販されているコニカ（株）製カラーネガフィルム「コ
ニカカラーＪＸ４００」と同一のハロゲン化銀乳剤層構
成層を塗設し、ハロゲン化銀乳剤層構成層塗布済み試料
と、磁気記録層塗布液ｍ−１を調製し、ボールミルで混
合分散した後、コロネートＬ（ポリイソシアネート型硬
化剤；日本ポリウレタン社）を５重量部加え、この磁気
記録層塗布液ｍ−１を、２０００ガウスの磁場を印加し
つつ乾燥膜厚が５μｍになるように塗布、乾燥し磁気記
録層（Ｍ−１）塗布済み試料を得た。
【０１６１】 〈下引層下層塗布液ｕ−１〉 ブチルアクリレート／ｔ−ブチルアクリレート／スチレン／２−ヒドロキシ エチルアクリレート（３０重量％／２０重量％／２５重量％／２５重量％） の共重合体ラテックス液（固形分３０％） １２５ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．４ｇ 架橋剤（種類、添加量（バインダーに対する重量％）は表１に記載） １０００ｍｌの水で仕上げる。
【０１６２】 〈下引層上層塗布液ｕ−２〉 ゼラチン １０ｇ カルボキシル基を有する化合物（種類、添加量（バインダーに対する重量 ％）は表１に記載） 化合物（ＵＬ−１） ０．２ｇ 架橋剤（ＵＬ−２） ０．２ｇ シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ １０００ｍｌの水で仕上げる。
【０１６３】
【化１４】
【０１６４】 〈磁気記録層塗布液ｍ−１〉 コバルト含有γ酸化鉄磁性体 ６０重量部 ウレタン樹脂バインダー（クリスポン４２１６、大日本インキ（株）製） １６重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（ＶＡＧＨ、ＵＣＣ社製） ４重量部 レシチン ２重量部 ＭＥＫ ８０重量部 トルエン ８０重量部 テトラヒドロフラン ８０重量部 得られた試料につき、接着性を評価し、結果を表１に示
す。
す。
【０１６５】
【表１】
【０１６６】表中、ＣＭＣ−Ｎａはカルボキシルメチル
セルロースナトリウム塩である。
セルロースナトリウム塩である。
【０１６７】（結果）この結果からわかるように、ハロ
ゲン化銀乳剤層構成層塗布済み試料、磁気記録層塗布済
み試料とも、下引層上層にカルボキシル基を有する化合
物を含まない場合、下引層塗設後の熱処理が不十分だ
と、ハロゲン化銀乳剤層構成層あるいは磁気記録層の塗
布までの経時で、ハロゲン化銀乳剤層構成層あるいは磁
気記録層の接着性が劣化する。しかしながら、本発明の
カルボキシル基を有する化合物含有層を有する支持体の
場合は、接着性の劣化を防ぐことが出来る。特に、アニ
ール処理したＰＥＮ支持体を使用した場合は、下引層塗
設後に高い温度をかけられないというハンデキャップを
克服出来、本発明は有効であることがわかった。なお、
剥離箇所は、何れも下引層上層とハロゲン化銀乳剤層構
成層あるいは磁気記録層との界面であった。
ゲン化銀乳剤層構成層塗布済み試料、磁気記録層塗布済
み試料とも、下引層上層にカルボキシル基を有する化合
物を含まない場合、下引層塗設後の熱処理が不十分だ
と、ハロゲン化銀乳剤層構成層あるいは磁気記録層の塗
布までの経時で、ハロゲン化銀乳剤層構成層あるいは磁
気記録層の接着性が劣化する。しかしながら、本発明の
カルボキシル基を有する化合物含有層を有する支持体の
場合は、接着性の劣化を防ぐことが出来る。特に、アニ
ール処理したＰＥＮ支持体を使用した場合は、下引層塗
設後に高い温度をかけられないというハンデキャップを
克服出来、本発明は有効であることがわかった。なお、
剥離箇所は、何れも下引層上層とハロゲン化銀乳剤層構
成層あるいは磁気記録層との界面であった。
【０１６８】実施例２ ポリエステル支持体１〜３に、表２に示した表面処理１
〜４を施し、下記下引層塗布液ｕ−３（カルボキシル基
を有する化合物の種類及び添加量については表２に記
載）を表面処理面上に直接、乾燥膜厚０．１μｍになる
ように塗布した後、乾燥して下引層Ｕ−３とした。引き
続いてポリエステル支持体２あるいは３のｕ−３を塗設
したＵ−３層済み支持体については１３０℃で２分の熱
処理を、またポリエステル支持体１にＵ−３層済み支持
体については１１０℃で２分の熱処理を行い、下引層塗
布済み支持体試料２０１〜２１３を作製した。これらの
支持体を実施例１と同様な経時保管条件１、２及び３の
経時処理を施し、同様にハロゲン化銀乳剤層構成層及び
磁気記録層Ｍ−１を塗設した。
〜４を施し、下記下引層塗布液ｕ−３（カルボキシル基
を有する化合物の種類及び添加量については表２に記
載）を表面処理面上に直接、乾燥膜厚０．１μｍになる
ように塗布した後、乾燥して下引層Ｕ−３とした。引き
続いてポリエステル支持体２あるいは３のｕ−３を塗設
したＵ−３層済み支持体については１３０℃で２分の熱
処理を、またポリエステル支持体１にＵ−３層済み支持
体については１１０℃で２分の熱処理を行い、下引層塗
布済み支持体試料２０１〜２１３を作製した。これらの
支持体を実施例１と同様な経時保管条件１、２及び３の
経時処理を施し、同様にハロゲン化銀乳剤層構成層及び
磁気記録層Ｍ−１を塗設した。
【０１６９】 〈下引層塗布液ｕ−３〉 ゼラチン １０ｇ カルボキシル基含ポリマー（種類、添加量（バインダーに対して）は表２に 記載） 化合物（ＵＬ−１） ０．２ｇ 架橋剤（ＵＬ−２） ０．３ｇ シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ １０００ｍｌに水で仕上げる。
【０１７０】得られた試料の接着性を評価し、結果を表
２に示す。
２に示す。
【０１７１】
【表２】
【０１７２】（結果）これらの結果からガス中放電プラ
ズマ処理（混合ガスに窒素やアンモニアガスを含む）を
施したポリエステル支持体は、経時でハロゲン化銀乳剤
層構成層や磁気記録層との接着が劣化することがわか
る。これに対して、下引層Ｕ−３（親水性ポリマー層）
にカルボキシル基を有する化合物を含有させることで、
こうした経時劣化が防げることがわかる。
ズマ処理（混合ガスに窒素やアンモニアガスを含む）を
施したポリエステル支持体は、経時でハロゲン化銀乳剤
層構成層や磁気記録層との接着が劣化することがわか
る。これに対して、下引層Ｕ−３（親水性ポリマー層）
にカルボキシル基を有する化合物を含有させることで、
こうした経時劣化が防げることがわかる。
【０１７３】実施例３ ポリエステル支持体１両面に表面処理５を施し、片面に
下引層下層塗布液ｕ−１（架橋剤種類及び添加量は表３
に記載）を塗布し、反対面（バック層面）に下記下引層
下層塗布液ｕ−４を塗布し、それぞれを乾燥して下引層
下層Ｕ−１及びＵ−４とし、次に再びＵ−１面に表面処
理５を施し、下引層下層Ｕ−１の上に表３に記載のよう
にカルボキシル基を有する化合物（種類、添加量）を含
むか含まない下引層上層塗布液ｕ−２を施し、Ｕ−４面
には表面処理５を施した後、下記帯電防止層塗布液ａｓ
−２を塗布し、乾燥して、下引層上層Ｕ−２または帯電
防止層Ａｓ−２とし、これらに１１０℃で２分の熱処理
を行った。次にＡｓ−２の上に下記保護層下層塗布液ｂ
−１または下記磁気記録層塗布液ｍ−２を塗布後乾燥し
てそれぞれ保護層下層Ｂ−１または磁気記録層Ｍ−２と
した。更にＢ−１の上に下記滑り層塗布液ｏ−１を、ま
たＭ−２の上に下記保護層上層塗布液ｂ−２を塗布し後
乾燥して、それぞれを滑り層Ｏ−１または保護層上層Ｂ
−２とした。表３のようにＯ−１を塗設したものを下引
層塗布済み支持体試料３０１及び３０２とし、Ｂ−２を
塗設したものを下引層塗布済み支持体試料３０７及び３
０８とした。
下引層下層塗布液ｕ−１（架橋剤種類及び添加量は表３
に記載）を塗布し、反対面（バック層面）に下記下引層
下層塗布液ｕ−４を塗布し、それぞれを乾燥して下引層
下層Ｕ−１及びＵ−４とし、次に再びＵ−１面に表面処
理５を施し、下引層下層Ｕ−１の上に表３に記載のよう
にカルボキシル基を有する化合物（種類、添加量）を含
むか含まない下引層上層塗布液ｕ−２を施し、Ｕ−４面
には表面処理５を施した後、下記帯電防止層塗布液ａｓ
−２を塗布し、乾燥して、下引層上層Ｕ−２または帯電
防止層Ａｓ−２とし、これらに１１０℃で２分の熱処理
を行った。次にＡｓ−２の上に下記保護層下層塗布液ｂ
−１または下記磁気記録層塗布液ｍ−２を塗布後乾燥し
てそれぞれ保護層下層Ｂ−１または磁気記録層Ｍ−２と
した。更にＢ−１の上に下記滑り層塗布液ｏ−１を、ま
たＭ−２の上に下記保護層上層塗布液ｂ−２を塗布し後
乾燥して、それぞれを滑り層Ｏ−１または保護層上層Ｂ
−２とした。表３のようにＯ−１を塗設したものを下引
層塗布済み支持体試料３０１及び３０２とし、Ｂ−２を
塗設したものを下引層塗布済み支持体試料３０７及び３
０８とした。
【０１７４】またポリエステル支持体２及び３に対して
は、表３のように両面を表面処理１または４を施し、片
面の処理面に直接、下引層ｕ−３（カルボキシル基を有
する合成ポリマーの種類と添加量、及び有無を表３に記
載）を塗布後乾燥し、下引層Ｕ−３とし、反対面（バッ
ク層面）には直接、下記帯電防止層塗布液ａｓ−２を塗
布後乾燥し、帯電防止層Ａｓ−２とし、１３０℃で２分
の熱処理を行った。次に、Ａｓ−２面の上に下記保護層
下層塗布液ｂ−１を塗布後乾燥し、保護層下層Ｂ−１と
し、またはＡｓ−２の上に磁気記録層塗布液ｍ−２を塗
布後乾燥し、磁気記録層Ｍ−２とし、更にＢ−１の上に
滑り層塗布液ｏ−２またはｏ−３を塗布後乾燥し、滑り
層Ｏ−２及び３とし、Ｍ−２の上に下記保護層上層塗布
液ｂ−２を塗布後乾燥し、保護層上層Ｂ−２とした。表
３のように、滑り層を有するものを下引層塗布済み支持
体試料３０３〜３０６とし、保護層上層を有するものを
下引層塗布済み支持体試料３０９〜３１２とした。
は、表３のように両面を表面処理１または４を施し、片
面の処理面に直接、下引層ｕ−３（カルボキシル基を有
する合成ポリマーの種類と添加量、及び有無を表３に記
載）を塗布後乾燥し、下引層Ｕ−３とし、反対面（バッ
ク層面）には直接、下記帯電防止層塗布液ａｓ−２を塗
布後乾燥し、帯電防止層Ａｓ−２とし、１３０℃で２分
の熱処理を行った。次に、Ａｓ−２面の上に下記保護層
下層塗布液ｂ−１を塗布後乾燥し、保護層下層Ｂ−１と
し、またはＡｓ−２の上に磁気記録層塗布液ｍ−２を塗
布後乾燥し、磁気記録層Ｍ−２とし、更にＢ−１の上に
滑り層塗布液ｏ−２またはｏ−３を塗布後乾燥し、滑り
層Ｏ−２及び３とし、Ｍ−２の上に下記保護層上層塗布
液ｂ−２を塗布後乾燥し、保護層上層Ｂ−２とした。表
３のように、滑り層を有するものを下引層塗布済み支持
体試料３０３〜３０６とし、保護層上層を有するものを
下引層塗布済み支持体試料３０９〜３１２とした。
【０１７５】上記試料３０１〜３１２それぞれをロール
状に巻き取り、経時保管条件１、２及び３を行い、Ｕ−
２またはＵ−３の上に、市販されているコニカ（株）製
カラーネガフィルム「コニカカラーＪＸ４００」と同一
のハロゲン化銀乳剤層構成層を塗設した。
状に巻き取り、経時保管条件１、２及び３を行い、Ｕ−
２またはＵ−３の上に、市販されているコニカ（株）製
カラーネガフィルム「コニカカラーＪＸ４００」と同一
のハロゲン化銀乳剤層構成層を塗設した。
【０１７６】
【表３】
【０１７７】 〈下引層下層塗布液ｕ−４〉（下引層下層Ｕ−４の乾燥膜厚０．１μｍ） 日本触媒エポクロスＫ２０２０Ｅ（固形分４０％） １００ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．４ｇ アンモニア水溶液（１％） ０．５ｇ １０００ｍｌに水で仕上げる。
【０１７８】 〈帯電防止層塗布液ａｓ−２〉（帯電防止層Ａｓ−２の乾燥膜厚０．２μｍ） ゼラチン １０ｇ アンチモンドープ酸化スズ微粒子（平均粒径２０ｎｍ） ４０ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．４ｇ 架橋剤（ＵＬ−２） ７．５ｇ １０００ｍｌに水で仕上げる。 〈磁気記録層塗布液ｍ−２〉（磁気記録層Ｍ−２の乾燥膜厚１．２μｍ） 磁性体（Ｃｏ−被着γ−Ｆｅ2Ｏ3、抗磁力９００ Ｏｅ、表面積４０ｍ2 ／ｇ、単軸０．０３μｍ） ４．８重量部 セルロースジアセテート（酢化度５５％、重量平均分子量１８０，０００） １００重量部 トリレンジイソシアネート １７．０重量部 研磨粒子（Ａｌ2Ｏ3、中心粒径０．８μｍ） １．２重量部 架橋性ＰＭＭＡ粒子（綜研化学（株）ＭＸ−１５０） ０．２重量部 アセトン １１３０重量部 シクロヘキサノン ２８０重量部 を混合し、ディゾルバーで１時間混和し、その後サンドミルで２時間分散して塗 布液とした。
【０１７９】 〈保護層下層塗布液ｂ−１〉（保護層下層Ｂ−１の乾燥膜厚１．０μｍ） セルロースジアセテート（酢化度５５％、重量平均分子量１８０，０００） １００重量部 トリレンジイソシアネート １７．０重量部 架橋性ＰＭＭＡ粒子（綜研化学（株）ＭＸ−１５０） ０．２重量部 アセトン １１３０重量部 シクロヘキサノン ２８０重量部 〈滑り層塗布液ｏ−１〉（滑り層Ｏ−１の乾燥膜厚０．０２μｍ） カルナウバワックス ７ｇ トルエン ７００ｇ メチルエチルケトン ３００ｇ 〈滑り層塗布液ｏ−２〉（滑り層Ｏ−２の乾燥膜厚０．０２μｍ） ポリエチレンワックス（融点１２０℃） ７ｇ トルエン ７００ｇ メチルエチルケトン ３００ｇ 〈滑り層塗布液ｏ−３〉（滑り層Ｏ−３の乾燥膜厚０．０２μｍ） カルナウバワックス ７ｇ トルエン ７００ｇ メチルエチルケトン ３００ｇ セルロースジアセテート ７ｇ 〈保護層上層塗布液ｂ−２〉（保護層上層Ｂ−２の乾燥膜厚０．０２μｍ） セルロースジアセテート（酢化度５５％、重量平均分子量１８０，０００） １０重量部 トリレンジイソシアネート １．７重量部 アセトン １１３０重量部 シクロヘキサノン ２８０重量部 上記試料を用いて現像汚れと磁気ヘッド汚れの試験を行
った。その結果を表４に示す。
った。その結果を表４に示す。
【０１８０】
【表４】
【０１８１】（結果）これらの結果から、本発明のカル
ボキシル基を有する合成ポリマーを含有する層を有する
支持体は、ハロゲン化銀乳剤層塗布の直前まで、ロール
状で経時保管しておいても、滑り層表面や磁気記録層表
面（保護層上層）に汚染物質が出て来ず、現像処理汚れ
や磁気の入出力の際のヘッド汚れがないことがわかっ
た。これに対して、カルボキシル基を有する合成ポリマ
ーを含まないものは、現像汚れ及び磁気ヘッドの汚れが
ひどかった。
ボキシル基を有する合成ポリマーを含有する層を有する
支持体は、ハロゲン化銀乳剤層塗布の直前まで、ロール
状で経時保管しておいても、滑り層表面や磁気記録層表
面（保護層上層）に汚染物質が出て来ず、現像処理汚れ
や磁気の入出力の際のヘッド汚れがないことがわかっ
た。これに対して、カルボキシル基を有する合成ポリマ
ーを含まないものは、現像汚れ及び磁気ヘッドの汚れが
ひどかった。
【０１８２】実施例４ ポリエステル支持体１の片面に表面処理５を施し、その
面に下引層下層塗布液ｕ−１（架橋剤の種類と添加量表
５に記載）を塗布後乾燥し、下引層下層Ｕ−１とし、次
に再びＵ−１面に表面処理５を施し、その上に下引層上
層塗布液ｕ−２（カルボキシル基を有する化合物の種
類、添加量及び添加有無を表５に記載）を塗布後乾燥
し、下引層上層Ｕ−２とした。反対面に表面処理１を施
し、次いでその上に帯電防止層Ａｓ−２を塗設、 １１
０℃、２分の熱処理を行った。Ａｓ−２の上に磁気記録
層Ｍ−２、またその上に滑り層Ｏ−１を塗設し、試料４
０１〜４０３、４１２〜４１４及び４１７を作製した。
面に下引層下層塗布液ｕ−１（架橋剤の種類と添加量表
５に記載）を塗布後乾燥し、下引層下層Ｕ−１とし、次
に再びＵ−１面に表面処理５を施し、その上に下引層上
層塗布液ｕ−２（カルボキシル基を有する化合物の種
類、添加量及び添加有無を表５に記載）を塗布後乾燥
し、下引層上層Ｕ−２とした。反対面に表面処理１を施
し、次いでその上に帯電防止層Ａｓ−２を塗設、 １１
０℃、２分の熱処理を行った。Ａｓ−２の上に磁気記録
層Ｍ−２、またその上に滑り層Ｏ−１を塗設し、試料４
０１〜４０３、４１２〜４１４及び４１７を作製した。
【０１８３】ポリエステル支持体２または３に、表４の
ように表面処理１、３または４を行い、それぞれの表面
処理面上に、下引層塗布液ｕ−３（カルボキシル基を有
する化合物の種類、添加量または有無を表５に記載）、
または帯電防止層塗布液ａｓ−１をそれぞれ塗布後乾燥
し、下引層Ｕ−３または帯電防止層Ａｓ−１とし、また
支持体の反対面のバック層側に、表面処理１を行い、そ
の面に帯電防止層Ａｓ−２を塗設し、１３０℃で２分の
熱処理を行った。Ａｓ−２の上に磁気記録層Ｍ−２を塗
設し、更にその上に滑り層Ｏ−１を塗設し、下引層塗布
済み支持体試料４０４〜４１１、４１５及び４１６を作
製した。
ように表面処理１、３または４を行い、それぞれの表面
処理面上に、下引層塗布液ｕ−３（カルボキシル基を有
する化合物の種類、添加量または有無を表５に記載）、
または帯電防止層塗布液ａｓ−１をそれぞれ塗布後乾燥
し、下引層Ｕ−３または帯電防止層Ａｓ−１とし、また
支持体の反対面のバック層側に、表面処理１を行い、そ
の面に帯電防止層Ａｓ−２を塗設し、１３０℃で２分の
熱処理を行った。Ａｓ−２の上に磁気記録層Ｍ−２を塗
設し、更にその上に滑り層Ｏ−１を塗設し、下引層塗布
済み支持体試料４０４〜４１１、４１５及び４１６を作
製した。
【０１８４】上記試料をロール状に巻き取り、条件１、
２及び３で保管後、Ｕ−２、Ｕ−３、またはＡｓ−１の
上に、市販されているコニカ（株）製カラーネガフィル
ム「コニカカラーＪＸ４００」と同一のハロゲン化銀乳
剤層構成層を塗設た。
２及び３で保管後、Ｕ−２、Ｕ−３、またはＡｓ−１の
上に、市販されているコニカ（株）製カラーネガフィル
ム「コニカカラーＪＸ４００」と同一のハロゲン化銀乳
剤層構成層を塗設た。
【０１８５】 〈帯電防止層塗布液Ａｓ−１、帯電防止層ＡＳ−１〉 ゼラチン １０ｇ アンチモンドープ酸化スズ微粒子（平均粒径２０ｎｍ） ４０ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．４ｇ 架橋剤（種類、量は表５に記載） カルボキシル基含ポリマー（種類、量は表５に記載） １０００ｍｌに水で仕上げる。
【０１８６】
【表５】
【０１８７】上記の試料を用い、ハロゲン化銀乳剤層構
成層の接着性、滑り層の現像汚れ、及び磁気ヘッドの汚
れの評価を行い、結果を表６に示す。
成層の接着性、滑り層の現像汚れ、及び磁気ヘッドの汚
れの評価を行い、結果を表６に示す。
【０１８８】
【表６】
【０１８９】（結果）これらの結果から、下引層上層ま
たは下引層（親水性ポリマー層）のバインダー中のゼラ
チンの割合が５０重量％未満になると経時劣化を防ぐ効
果はあっても、ハロゲン化銀乳剤層構成層または磁気記
録層とのもともとの接着性が劣化して来ることがわか
る。また、カルボキシル基を有する化合物が全バインダ
ーに対して３重量％以上、また、カルボキシル基を有す
る化合物中のカルボキシル基を有するモノマー単位が１
０モル％以上である場合の方が劣化防止効果が大きいこ
とがわかる。更に、下引層上層（親水性ポリマー層）が
金属酸化物を含有する帯電防止層の場合や、カルボキシ
ル基を有する合成ポリマーが導電性ポリマーである場合
のような帯電防止層でも、本発明は有効であることがわ
かる。
たは下引層（親水性ポリマー層）のバインダー中のゼラ
チンの割合が５０重量％未満になると経時劣化を防ぐ効
果はあっても、ハロゲン化銀乳剤層構成層または磁気記
録層とのもともとの接着性が劣化して来ることがわか
る。また、カルボキシル基を有する化合物が全バインダ
ーに対して３重量％以上、また、カルボキシル基を有す
る化合物中のカルボキシル基を有するモノマー単位が１
０モル％以上である場合の方が劣化防止効果が大きいこ
とがわかる。更に、下引層上層（親水性ポリマー層）が
金属酸化物を含有する帯電防止層の場合や、カルボキシ
ル基を有する合成ポリマーが導電性ポリマーである場合
のような帯電防止層でも、本発明は有効であることがわ
かる。
【０１９０】
【発明の効果】下引層等を塗設後、その後のハロゲン化
銀乳剤層等を塗設するまでの間、保存しておいても、ハ
ロゲン化銀写真感光材料の接着性の劣化、現像汚れや磁
気ヘッドの汚れが起こらないハロゲン化銀写真感光材料
を提供する。
銀乳剤層等を塗設するまでの間、保存しておいても、ハ
ロゲン化銀写真感光材料の接着性の劣化、現像汚れや磁
気ヘッドの汚れが起こらないハロゲン化銀写真感光材料
を提供する。
【図１】表面処理装置の概略構成図である。
１ 表面処理装置 ２ 処理室 ５ 支持体 ６ 電極 ７ 電極 １０ 高周波電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｃ 1/85 Ｇ０３Ｃ 1/85 1/89 1/89 1/93 1/93
Claims (21)
- 【請求項１】 ポリエステル支持体の少なくとも一方の
面に下引層として支持体に近い側から順に疎水性ポリマ
ー層及び親水性ポリマー層を有し、該疎水性ポリマー層
がアジリジン及び／またはオキサゾリン基を有する化合
物を含有し、且つ該親水性ポリマー層がカルボキシル基
を有する化合物を含有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項２】 ポリエステル支持体の一方の面に支持体
から最も遠い位置に滑り剤を含有する層を有し、その反
対側の面に少なくとも１層の下引層としての疎水性ポリ
マー層を有し、且つ、該疎水性ポリマー層側の面の支持
体から最も遠い位置に親水性ポリマー層を有し、該疎水
性ポリマー層がアジリジン及び／またはオキサゾリン基
を有する化合物を含有し、該親水性ポリマー層がカルボ
キシル基を有する化合物を含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項３】 滑り剤を含有する層が、カルボキシル基
を有する化合物を含有することを特徴とする請求項２に
記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項４】 ポリエステル支持体の一方の面に透明磁
気記録層を有し、その反対側の面に少なくとも一層の疎
水性ポリマー層を有し、且つ、疎水性ポリマー層側の面
の支持体から最も遠い位置に親水性ポリマー層を有し、
該疎水性ポリマー層がアジリジン及び／またはオキサゾ
リン基を有する化合物を含有し、該親水性ポリマー層が
カルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項５】 透明磁気記録層が、カルボキシル基を含
有する化合物を含有することを特徴とする請求項４に記
載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項６】 ポリエステル支持体の少なくとも一方の
面にアルゴンガスを主成分とするガス中放電プラズマ処
理が施された処理面を有し、該処理面上に下引層として
の親水性ポリマー層を有し、且つ該親水性ポリマー層が
カルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項７】 ポリエステル支持体の一方の面に支持体
から最も遠い層に滑り剤を含有する層を有し、その反対
側の面にアルゴンガスを主成分とするガス中放電プラズ
マ処理が施された処理面を有し、該処理面側の支持体か
ら最も遠い位置に親水性ポリマー層を有し、該親水性ポ
リマー層がカルボキシル基を有する化合物を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項８】 滑り剤を含有する層が、カルボキシル基
を有する化合物を含有することを特徴とする請求項７に
記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項９】 ポリエステル支持体の一方の面に透明磁
気記録層を有し、その反対側の面に、アルゴンガスを主
成分とするガス中放電プラズマ処理が施された処理面を
有し、該処理面側の支持体から最も遠い位置に親水性ポ
リマー層を有し、該親水性ポリマー層がカルボキシル基
を有する化合物を含有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項１０】 透明磁気記録層が、カルボキシル基を
含有する化合物を含有することを特徴とする請求項９に
記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項１１】 ガス中放電プラズマ処理が窒素ガス及
び／またはアンモニアガスを混合したアルゴンガスを主
成分とするガス組成で行ったものであることを特徴とす
る請求項６乃至１０の何れか１項に記載のハロゲン化銀
写真感光材料用支持体。 - 【請求項１２】 カルボキシル基を有する化合物が、低
分子のカルボキシル基含有酸化合物、カルボキシル基含
有合成ポリマー、ゼラチン以外のカルボキシル基含有天
然ポリマー及び天然ポリマーにカルボキシル基を導入し
た半合成ポリマーから選ばれる少なくとも一つであるこ
とを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項１３】 親水性ポリマー層のバインダーの５０
％以上がゼラチンであることを特徴とする請求項１乃至
１２の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感光材料用
支持体。 - 【請求項１４】 親水性ポリマー層が金属酸化物粒子を
含有する導電性層であることを特徴とする請求項１乃至
１３の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感光材料用
支持体。 - 【請求項１５】 カルボキシル基を有する化合物の含有
量が、それを含有する層のバインダーの３重量％以上で
あることを請求項１乃至１４の何れか１項に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項１６】 カルボキシル基を有する化合物が、導
電性ポリマーであることを特徴とする請求項１乃至１５
の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持
体。 - 【請求項１７】 ポリエステル支持体が、アニール処理
が施されたポリエチレンナフタレート支持体であること
を特徴とする請求項１乃至１６の何れか１項に記載のハ
ロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項１８】 ポリエステル支持体のポリエステル
が、ジカルボン酸成分としてスルホン酸基またはその塩
及び／またはジオール成分としてポリアルキレングリコ
ール単位を含有するものであることを特徴とする請求項
１乃至１７の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感光
材料用支持体。 - 【請求項１９】 ポリエステル支持体が２層以上のポリ
エステルを積層したものであり、その少なくとも一層
が、ジカルボン酸成分としてスルホン酸基またはその塩
及び／またはジオール成分としてポリアルキレングリコ
ール単位を含有するものであることを特徴とする請求項
１乃至１８の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真感光
材料用支持体。 - 【請求項２０】 カルボキシル基を有する化合物を含有
する層が、ポリエステル支持体上に塗設され、該支持体
のガラス転移点以下の温度で加熱して形成されたもので
あることを特徴とする請求項１乃至１９の何れか１項に
記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。 - 【請求項２１】 請求項１乃至２０の何れか１項に記載
のカルボキシル基を有する化合物を含有する親水性ポリ
マー層の上にハロゲン化銀乳剤層構成層を塗設したこと
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27483799A JP2001100365A (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | ハロゲン化銀写真感光材料用支持体及びハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27483799A JP2001100365A (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | ハロゲン化銀写真感光材料用支持体及びハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001100365A true JP2001100365A (ja) | 2001-04-13 |
Family
ID=17547286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27483799A Pending JP2001100365A (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | ハロゲン化銀写真感光材料用支持体及びハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001100365A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002284751A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Nagase Kasei Kogyo Kk | 新規化合物ならびにそれを用いた吸水性樹脂用架橋剤および吸水性樹脂 |
-
1999
- 1999-09-28 JP JP27483799A patent/JP2001100365A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002284751A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Nagase Kasei Kogyo Kk | 新規化合物ならびにそれを用いた吸水性樹脂用架橋剤および吸水性樹脂 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003050304A (ja) | 半透過反射ポリエステルフィルムおよび製造方法 | |
| JP2003048291A (ja) | 半透過反射積層ポリエステルフィルムおよび製造方法 | |
| JP3765190B2 (ja) | ポリエステル支持体の表面処理方法、ポリエステル支持体、それを用いたハロゲン化銀写真感光材料及び磁気記録媒体 | |
| JP2001100365A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料用支持体及びハロゲン化銀写真感光材料 | |
| US5955251A (en) | Method for producing information recording medium | |
| JP2000063548A (ja) | プラスティック支持体の表面処理方法、磁気記録媒体及びハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP3653830B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH117103A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び磁気記録媒体 | |
| JP2864074B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその製造方法 | |
| JPH0990552A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| US5587278A (en) | Polyester photographic support | |
| JPH08194284A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH1152514A (ja) | 写真印画紙用微細気泡含有積層ポリエステルフィルム | |
| JP2000063547A (ja) | プラスティック支持体、それを用いたハロゲン化銀写真感光材料及び磁気記録媒体 | |
| JPH0980683A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP3517797B2 (ja) | 写真用支持体 | |
| JP3528061B2 (ja) | 写真用支持体 | |
| JPH0980685A (ja) | 写真用支持体の製造方法 | |
| JPH08201963A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP3458206B2 (ja) | 写真用支持体 | |
| JPH08328198A (ja) | 写真用支持体 | |
| JPH1073902A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び磁気記録媒体 | |
| JP3496166B2 (ja) | 写真用支持体及びそれを用いた写真感光材料 | |
| JPH1039447A (ja) | 写真用支持体、その製造方法及びハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH09230537A (ja) | 写真用支持体 |