JPH0980683A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JPH0980683A JPH0980683A JP7236927A JP23692795A JPH0980683A JP H0980683 A JPH0980683 A JP H0980683A JP 7236927 A JP7236927 A JP 7236927A JP 23692795 A JP23692795 A JP 23692795A JP H0980683 A JPH0980683 A JP H0980683A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐傷性、帯電防止性及び磁気特性に優れる磁
気記録層を有するハロゲン化銀写真感光材料を提供す
る。 【構成】 ポリエステル支持体の一方の側に感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を、他方の側に磁気記録層を有する写
真感光材料において、該磁気記録層の該支持体に近い側
の隣接層が塩化ビニリデン共重合体を含む。上記に
おいて、磁気記録層がセルロースアセテートを含む。
上記又はにおいて、磁気記録層の支持体に近い側の
隣接層が帯電防止層である。上記〜において、帯
電防止層の導電性材料が金属酸化物を主成分とする。
上記〜において、ポリエステル支持体がポリエチレ
ンナフタレートを主成分とする。上記〜におい
て、ポリエステル支持体の下引層がアルカリ水溶液で加
水分解しうるポリマーを主成分とする。
気記録層を有するハロゲン化銀写真感光材料を提供す
る。 【構成】 ポリエステル支持体の一方の側に感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を、他方の側に磁気記録層を有する写
真感光材料において、該磁気記録層の該支持体に近い側
の隣接層が塩化ビニリデン共重合体を含む。上記に
おいて、磁気記録層がセルロースアセテートを含む。
上記又はにおいて、磁気記録層の支持体に近い側の
隣接層が帯電防止層である。上記〜において、帯
電防止層の導電性材料が金属酸化物を主成分とする。
上記〜において、ポリエステル支持体がポリエチレ
ンナフタレートを主成分とする。上記〜におい
て、ポリエステル支持体の下引層がアルカリ水溶液で加
水分解しうるポリマーを主成分とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料に関するものであり、特に帯電
防止性及び耐傷性に優れたハロゲン化銀写真感光材料に
関するものである。
ロゲン化銀写真感光材料に関するものであり、特に帯電
防止性及び耐傷性に優れたハロゲン化銀写真感光材料に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ハロゲン化銀写真感光材料(以
下、感光材料とも言う。)への撮影時に、撮影日時・絞
り・露光時間等の情報を光学的に入力していた。一方、
このような情報の記録手段として、米国特許第3,78
2,947号、同4,279,945号及び同4,30
2,523号各明細書等には、感光材料の裏面に透明な
磁気記録層を設けることによって、例えば感光材料の種
類・製造番号・メーカー名・乳剤No.等の各種情報
や、撮影日時・天候・絞り・露出時間・照明の条件・使
用フィルター・撮影枠の大きさ等の撮影時の各種情報、
及びプリント枚数・トリミング枠の大きさ・メッセージ
・現像やプリント条件等を該磁気層に入力することが提
案されている。
下、感光材料とも言う。)への撮影時に、撮影日時・絞
り・露光時間等の情報を光学的に入力していた。一方、
このような情報の記録手段として、米国特許第3,78
2,947号、同4,279,945号及び同4,30
2,523号各明細書等には、感光材料の裏面に透明な
磁気記録層を設けることによって、例えば感光材料の種
類・製造番号・メーカー名・乳剤No.等の各種情報
や、撮影日時・天候・絞り・露出時間・照明の条件・使
用フィルター・撮影枠の大きさ等の撮影時の各種情報、
及びプリント枚数・トリミング枠の大きさ・メッセージ
・現像やプリント条件等を該磁気層に入力することが提
案されている。
【0003】ところが、該磁気記録層は通常裏面に設け
られるために、搬送時や磁気ヘッドで擦られる時に傷が
付くと、プリント画像に映ってしまったり、磁気情報再
生時にエラーを発生するという問題がある。従って、該
磁気記録層は傷が付きにくい性質が必要であり、そのた
め、特開平6−59357号公報等に記載されている様
に、セルロースエステルに代表される非水系の熱可塑性
樹脂を有機溶媒に溶解し磁性粉を分散した液を塗設して
形成した磁気記録層が知られており、また、特開平6−
59357号公報には、帯電防止層を塗設した上に上記
磁気記録層を塗設した感光材料が開示されている。しか
しながら、上記磁気記録層とその隣接層である帯電防止
層との間の接着が十分でなく、現像やプリント時の搬送
や、磁気の書き込みや読み取りの際に、裏面層が剥がれ
るという致命的な欠陥を生じることがあった。
られるために、搬送時や磁気ヘッドで擦られる時に傷が
付くと、プリント画像に映ってしまったり、磁気情報再
生時にエラーを発生するという問題がある。従って、該
磁気記録層は傷が付きにくい性質が必要であり、そのた
め、特開平6−59357号公報等に記載されている様
に、セルロースエステルに代表される非水系の熱可塑性
樹脂を有機溶媒に溶解し磁性粉を分散した液を塗設して
形成した磁気記録層が知られており、また、特開平6−
59357号公報には、帯電防止層を塗設した上に上記
磁気記録層を塗設した感光材料が開示されている。しか
しながら、上記磁気記録層とその隣接層である帯電防止
層との間の接着が十分でなく、現像やプリント時の搬送
や、磁気の書き込みや読み取りの際に、裏面層が剥がれ
るという致命的な欠陥を生じることがあった。
【0004】そこで、上記隣接層を溶解または膨潤しう
る溶媒を上記磁気記録層の塗設に用いる有機溶媒に含有
させて磁気記録層とその隣接層との界面の接着性を向上
させる慣用手段を適用することが考えられるが、そうす
ると、隣接する帯電防止層の溶解または膨潤溶剤によっ
て、磁気記録層よりも支持体に近い側に存在する帯電防
止層の破壊が起こり、導電性を損ねてスタチックや、さ
らには、磁気記録時のエラーの発生が起こる場合があっ
た。
る溶媒を上記磁気記録層の塗設に用いる有機溶媒に含有
させて磁気記録層とその隣接層との界面の接着性を向上
させる慣用手段を適用することが考えられるが、そうす
ると、隣接する帯電防止層の溶解または膨潤溶剤によっ
て、磁気記録層よりも支持体に近い側に存在する帯電防
止層の破壊が起こり、導電性を損ねてスタチックや、さ
らには、磁気記録時のエラーの発生が起こる場合があっ
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
よりなされたものであり、その目的は、耐傷性、帯電防
止性及び磁気特性に優れる磁気記録層を有するハロゲン
化銀写真感光材料を提供することにある。
よりなされたものであり、その目的は、耐傷性、帯電防
止性及び磁気特性に優れる磁気記録層を有するハロゲン
化銀写真感光材料を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記(1)ないし(6)のいずれかによって達成される。
記(1)ないし(6)のいずれかによって達成される。
【0007】(1)ポリエステル支持体の一方の側に感
光性ハロゲン化銀乳剤層を、他方の側に磁気記録層を少
なくとも一層有する写真感光材料において、該磁気記録
層の該支持体に近い側の隣接層が塩化ビニリデン共重合
体を含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
光性ハロゲン化銀乳剤層を、他方の側に磁気記録層を少
なくとも一層有する写真感光材料において、該磁気記録
層の該支持体に近い側の隣接層が塩化ビニリデン共重合
体を含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0008】(2)前記磁気記録層がセルロースアセテ
ートを含む上記(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
ートを含む上記(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
【0009】(3)前記磁気記録層の該支持体に近い側
の隣接層が帯電防止層である上記(1)又は(2)に記
載のハロゲン化銀写真感光材料。
の隣接層が帯電防止層である上記(1)又は(2)に記
載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0010】(4)前記帯電防止層の導電性材料が金属
酸化物を主成分とする上記(1)、(2)又は(3)に
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
酸化物を主成分とする上記(1)、(2)又は(3)に
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0011】(5)前記ポリエステル支持体がポリエチ
レンナフタレートを主成分とする上記(1)、(2)、
(3)又は(4)に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
レンナフタレートを主成分とする上記(1)、(2)、
(3)又は(4)に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0012】(6)前記ポリエステル支持体の下引層が
アルカリ水溶液で加水分解しうるポリマーを主成分とす
ることを特徴とする上記(1)、(2)、(3)、
(4)又は(5)に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
アルカリ水溶液で加水分解しうるポリマーを主成分とす
ることを特徴とする上記(1)、(2)、(3)、
(4)又は(5)に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0013】以下、本発明について詳述する。
【0014】本発明において塩化ビニリデン共重合体と
は、塩化ビニリデンを主成分として含む共重合体であ
り、ラテックスや粉体の形態で市販されているが、ラテ
ックスが好ましい。
は、塩化ビニリデンを主成分として含む共重合体であ
り、ラテックスや粉体の形態で市販されているが、ラテ
ックスが好ましい。
【0015】この様なラテックスは、例えば、旭化成株
式会社、呉羽化学株式会社等より市販されている。市販
の塩化ビニリデン共重合体として以下の例示化合物を示
す。
式会社、呉羽化学株式会社等より市販されている。市販
の塩化ビニリデン共重合体として以下の例示化合物を示
す。
【0016】例示化合物 V−1 サランラテックス L−502(商品名、旭化
成(株)製) V−2 サランラテックス L−302(商品名、旭化
成(株)製) V−3 クレハロンラテックス DOA・X−1(商品
名、呉羽化学(株)製) V−4 クレハロンラテックス DOA・X−2(商品
名、呉羽化学(株)製) 本発明では、塩化ビニリデン共重合体を磁気記録層に隣
接する帯電防止層に含むことが好ましい。帯電防止層に
含まれる導電性材料は特に制限は無いが、金属酸化物を
主成分とすることが好ましい。
成(株)製) V−2 サランラテックス L−302(商品名、旭化
成(株)製) V−3 クレハロンラテックス DOA・X−1(商品
名、呉羽化学(株)製) V−4 クレハロンラテックス DOA・X−2(商品
名、呉羽化学(株)製) 本発明では、塩化ビニリデン共重合体を磁気記録層に隣
接する帯電防止層に含むことが好ましい。帯電防止層に
含まれる導電性材料は特に制限は無いが、金属酸化物を
主成分とすることが好ましい。
【0017】金属酸化物の例としては、Nb2O5+xのよ
うな酸素過剰な酸化物、RhO2-x,Ir2O3-x等の酸
素欠損酸化物、あるいはNi(OH)xのような不定比
水酸化物、HfO2,ThO2,ZrO2,CeO2,Zn
O,TiO2,SnO2,Al2O3,In2O3,Si
O2,MgO,BaO,MoO2 ,V2O5等、或はこれ
らの複合酸化物が好ましく、特にZnO,TiO2及び
SnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例え
ばZnOに対してはAl,In等の添加、TiO2に対
してはNb,Ta等の添加、又SnO2に対しては、S
b,Nb,ハロゲン元素等の添加が効果的である。これ
ら異種原子の添加量は0.01mol%〜25mol%
の範囲が好ましいが、0.1mol%〜15mol%の
範囲が特に好ましい。
うな酸素過剰な酸化物、RhO2-x,Ir2O3-x等の酸
素欠損酸化物、あるいはNi(OH)xのような不定比
水酸化物、HfO2,ThO2,ZrO2,CeO2,Zn
O,TiO2,SnO2,Al2O3,In2O3,Si
O2,MgO,BaO,MoO2 ,V2O5等、或はこれ
らの複合酸化物が好ましく、特にZnO,TiO2及び
SnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例え
ばZnOに対してはAl,In等の添加、TiO2に対
してはNb,Ta等の添加、又SnO2に対しては、S
b,Nb,ハロゲン元素等の添加が効果的である。これ
ら異種原子の添加量は0.01mol%〜25mol%
の範囲が好ましいが、0.1mol%〜15mol%の
範囲が特に好ましい。
【0018】金属酸化物の粒子サイズは特に制限はない
が、1次粒子の大きさが10μm以下が好ましく、更に
好ましくは5μm以下、特に1μm以下が好ましい。
が、1次粒子の大きさが10μm以下が好ましく、更に
好ましくは5μm以下、特に1μm以下が好ましい。
【0019】粒子サイズに関しては、沈降法、レーザー
回折法などによる粒度分布計の測定により求められた平
均粒子径を採用するのが好ましいが、電子顕微鏡写真よ
り粒子径を決定してもよい。しかし電子顕微鏡を採用し
た場合には、視野内において高次構造を形成している場
合には、高次構造の単位で計測する。
回折法などによる粒度分布計の測定により求められた平
均粒子径を採用するのが好ましいが、電子顕微鏡写真よ
り粒子径を決定してもよい。しかし電子顕微鏡を採用し
た場合には、視野内において高次構造を形成している場
合には、高次構造の単位で計測する。
【0020】金属酸化物粒子のバインダーに対する添加
量は特に制限はないが、50vol%以下が好ましく、
更に好ましくは40vol%以下、更には30vol%
以下が好適である。
量は特に制限はないが、50vol%以下が好ましく、
更に好ましくは40vol%以下、更には30vol%
以下が好適である。
【0021】また、これらの金属酸化物粒子の体積抵抗
率は1010Ωcm以下であることが好ましく、より好ま
しくは107Ωcm以下、特に105Ωcm以下であるこ
とが好ましい。
率は1010Ωcm以下であることが好ましく、より好ま
しくは107Ωcm以下、特に105Ωcm以下であるこ
とが好ましい。
【0022】体積抵抗率の値に関しては、大きな単結晶
の得られる酸化物の場合には、単結晶の体積固有抵抗の
値を意味し、大きな単結晶の得られない場合は、粉体を
成形して得られた焼結体の体積固有抵抗を意味する。こ
れらの値が未知の場合には、粉体の状態で一定圧力をか
けて得られた成形体の体積固有抵抗を102で除した値
を採用する。上記一定圧力については、特に制限をしな
いが、好ましくは10mg/cm2以上の圧力が良く、
さらに好ましくは、100kg/cm2以上の圧力をか
けて成形した材料の体積固有抵抗を102で除した値を
採用する。一般に粉体にかけられた圧力とその成形体の
体積固有抵抗に関しては、圧力が高くなると、体積固有
抵抗が低くなる傾向にある。しかし、静水圧加圧装置で
3t/cm2の等方圧をかけた場合でも、単結晶で得ら
れる体積固有抵抗値よりも低い値は得られず、100倍
程度高い値となる。ゆえに、粉体の状態で一定圧力をか
けて得られた成形体の体積固有抵抗を102で除した値
を採用する。
の得られる酸化物の場合には、単結晶の体積固有抵抗の
値を意味し、大きな単結晶の得られない場合は、粉体を
成形して得られた焼結体の体積固有抵抗を意味する。こ
れらの値が未知の場合には、粉体の状態で一定圧力をか
けて得られた成形体の体積固有抵抗を102で除した値
を採用する。上記一定圧力については、特に制限をしな
いが、好ましくは10mg/cm2以上の圧力が良く、
さらに好ましくは、100kg/cm2以上の圧力をか
けて成形した材料の体積固有抵抗を102で除した値を
採用する。一般に粉体にかけられた圧力とその成形体の
体積固有抵抗に関しては、圧力が高くなると、体積固有
抵抗が低くなる傾向にある。しかし、静水圧加圧装置で
3t/cm2の等方圧をかけた場合でも、単結晶で得ら
れる体積固有抵抗値よりも低い値は得られず、100倍
程度高い値となる。ゆえに、粉体の状態で一定圧力をか
けて得られた成形体の体積固有抵抗を102で除した値
を採用する。
【0023】これらの帯電防止剤は感光材料構成層の少
なくとも1層に存在させればよく、帯電防止剤を存在さ
せる層として、例えば裏面側の下引層又は裏面層を挙げ
ることができる。
なくとも1層に存在させればよく、帯電防止剤を存在さ
せる層として、例えば裏面側の下引層又は裏面層を挙げ
ることができる。
【0024】金属酸化物はバインダーに対して50vo
l%以下、好ましくは30vol%以下とすると隣接層
との接着性を損なわずに好ましい。
l%以下、好ましくは30vol%以下とすると隣接層
との接着性を損なわずに好ましい。
【0025】塩化ビニリデン共重合体を磁気記録層に隣
接する帯電防止層に含む本発明の好ましい態様におい
て、該帯電防止層には、塩化ビニリデン共重合体以外の
バインダーを混合してもよい。該バインダーとしては、
水溶性ポリマー、セルロースエステル、ラテックスポリ
マー、水溶性ポリエステルなどの親水性バインダーが好
ましい。水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン
誘導体、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合
体、無水マレイン酸共重合体などがあり、セルロースエ
ステルとしては、カルボキシメチルセルロース、ヒドロ
キシメチルセルロースなどがある。ラテックスポリマー
としては、塩化ビニル共重合体、アクリル酸エステル共
重合体、酢酸ビニル共重合体、ブタジエン共重合体など
がある。
接する帯電防止層に含む本発明の好ましい態様におい
て、該帯電防止層には、塩化ビニリデン共重合体以外の
バインダーを混合してもよい。該バインダーとしては、
水溶性ポリマー、セルロースエステル、ラテックスポリ
マー、水溶性ポリエステルなどの親水性バインダーが好
ましい。水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン
誘導体、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合
体、無水マレイン酸共重合体などがあり、セルロースエ
ステルとしては、カルボキシメチルセルロース、ヒドロ
キシメチルセルロースなどがある。ラテックスポリマー
としては、塩化ビニル共重合体、アクリル酸エステル共
重合体、酢酸ビニル共重合体、ブタジエン共重合体など
がある。
【0026】上記帯電防止層は硬膜することができる。
使用できる硬膜剤としては、アルデヒド系化合物類、ケ
トン化合物類、反応性のハロゲンを有する化合物類、反
応性のオレフィンを持つ化合物類、N-ヒドロキシメチル
フタルイミド、N-メチロール化合物、イソシアナート
類、アジリジン化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物
類、ハロゲンカルボキシアルデヒド類及び無機化合物系
硬膜剤を挙げることができる。
使用できる硬膜剤としては、アルデヒド系化合物類、ケ
トン化合物類、反応性のハロゲンを有する化合物類、反
応性のオレフィンを持つ化合物類、N-ヒドロキシメチル
フタルイミド、N-メチロール化合物、イソシアナート
類、アジリジン化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物
類、ハロゲンカルボキシアルデヒド類及び無機化合物系
硬膜剤を挙げることができる。
【0027】次に、磁気記録層について説明する。
【0028】本発明の磁気記録層に用いられる磁性体微
粉末としては、金属磁性体粉末,酸化鉄磁性体粉末,C
oドープ酸化鉄磁性体粉末,二酸化クロム磁性体粉末,
バリウムフェライト磁性体粉末などが使用できる。これ
らの磁性体粉末の製法は既知であり、本発明で用いられ
る磁性体粉末についても公知の方法にしたがって製造す
ることができる。
粉末としては、金属磁性体粉末,酸化鉄磁性体粉末,C
oドープ酸化鉄磁性体粉末,二酸化クロム磁性体粉末,
バリウムフェライト磁性体粉末などが使用できる。これ
らの磁性体粉末の製法は既知であり、本発明で用いられ
る磁性体粉末についても公知の方法にしたがって製造す
ることができる。
【0029】磁性体粉末の形状・サイズは特に制限はな
く、広く用いることができる。形状としては針状,米粒
状,球状,立方体状,板状などいずれの形状を有するも
のであってもよいが、針状,板状であることが電磁変換
特性上好ましい。結晶子サイズ,比表面積ともに特に制
限はない。磁性体粉末は表面処理されたものであっても
よい。例えば、チタン,珪素,アルミニウムなどの元素
を含む物質で表面処理されたものでもよいし、カルボン
酸,スルホン酸,硫酸エステル,ホスホン酸,燐酸エス
テル,ベンゾトリアゾールなどの含チッ素複素環をもつ
吸着性化合物のような有機化合物で処理されていてもよ
い。磁性体粉末のpHも特に制限はないが、5〜10の
範囲にあることが好ましい。
く、広く用いることができる。形状としては針状,米粒
状,球状,立方体状,板状などいずれの形状を有するも
のであってもよいが、針状,板状であることが電磁変換
特性上好ましい。結晶子サイズ,比表面積ともに特に制
限はない。磁性体粉末は表面処理されたものであっても
よい。例えば、チタン,珪素,アルミニウムなどの元素
を含む物質で表面処理されたものでもよいし、カルボン
酸,スルホン酸,硫酸エステル,ホスホン酸,燐酸エス
テル,ベンゾトリアゾールなどの含チッ素複素環をもつ
吸着性化合物のような有機化合物で処理されていてもよ
い。磁性体粉末のpHも特に制限はないが、5〜10の
範囲にあることが好ましい。
【0030】磁性体粒子のサイズについては、そのサイ
ズと透明性との間に相関があることが「テレビジョン」
第20巻、第2号「超微粒子半透明磁気記録媒体の特性
とその応用」に記載されている。例えば、γ−Fe2O3
の針状粉末においては粒子サイズを小さくすると光透過
率が向上する。
ズと透明性との間に相関があることが「テレビジョン」
第20巻、第2号「超微粒子半透明磁気記録媒体の特性
とその応用」に記載されている。例えば、γ−Fe2O3
の針状粉末においては粒子サイズを小さくすると光透過
率が向上する。
【0031】米国特許第2,950,971号明細書に
は、バインダー中に分散された磁性酸化鉄からなる磁気
層が赤外線を透過させることが記載されており、米国特
許第4,279,945号明細書には、磁気層中におけ
る磁性体粒子の濃度が比較的多い場合にも粒子サイズを
小さくすると波長632.8nmのヘリウム・ネオンレ
ーザー光の透過性がよくなることが記載されている。
は、バインダー中に分散された磁性酸化鉄からなる磁気
層が赤外線を透過させることが記載されており、米国特
許第4,279,945号明細書には、磁気層中におけ
る磁性体粒子の濃度が比較的多い場合にも粒子サイズを
小さくすると波長632.8nmのヘリウム・ネオンレ
ーザー光の透過性がよくなることが記載されている。
【0032】しかしながら、ハロゲン化銀カラー写真感
光材料の画像形成領域に磁気記録層を設ける場合、赤色
領域だけでなく、緑色領域及び青色領域の光透過率も高
くなければならない。
光材料の画像形成領域に磁気記録層を設ける場合、赤色
領域だけでなく、緑色領域及び青色領域の光透過率も高
くなければならない。
【0033】赤色領域,緑色領域及び青色領域の光透過
率を高くするためには、磁性体粒子の粒径を小さくする
と共に、磁性体粒子の塗設量も制限される。
率を高くするためには、磁性体粒子の粒径を小さくする
と共に、磁性体粒子の塗設量も制限される。
【0034】磁性体粒子は、ある程度以上に粒径を小さ
くすると必要な磁気特性が得られなくなる。したがっ
て、磁性体粉末の粒径は必要な磁気特性が得られる範囲
で小さくすることが好ましい。また、磁性体粒子の塗設
量も、ある程度以上に少なくすると必要な磁気特性が得
られなくなるので、必要な磁気特性が得られる範囲で少
なくすることが好ましい。
くすると必要な磁気特性が得られなくなる。したがっ
て、磁性体粉末の粒径は必要な磁気特性が得られる範囲
で小さくすることが好ましい。また、磁性体粒子の塗設
量も、ある程度以上に少なくすると必要な磁気特性が得
られなくなるので、必要な磁気特性が得られる範囲で少
なくすることが好ましい。
【0035】実用的には、磁性体粉末の塗設量は0.0
01〜3g/m2であり、より好ましくは0.01〜1
g/m2である。
01〜3g/m2であり、より好ましくは0.01〜1
g/m2である。
【0036】磁気記録層に用いるバインダーとしては、
従来、磁気記録媒体用として使用されている公知の熱可
塑性樹脂,放射線硬化性樹脂,熱硬化性樹脂,その他の
反応型樹脂及びこれらの混合物を使用することができ
る。
従来、磁気記録媒体用として使用されている公知の熱可
塑性樹脂,放射線硬化性樹脂,熱硬化性樹脂,その他の
反応型樹脂及びこれらの混合物を使用することができ
る。
【0037】熱可塑性樹脂は、ガラス転移点Tgが−4
0℃〜150℃、好ましくは60℃〜120℃であるも
のであり、重量平均分子量は10000〜300000
であるものが好ましく、さらに好ましくは、重量平均分
子量が50000〜200000のものである。
0℃〜150℃、好ましくは60℃〜120℃であるも
のであり、重量平均分子量は10000〜300000
であるものが好ましく、さらに好ましくは、重量平均分
子量が50000〜200000のものである。
【0038】本発明における磁気記録層のバインダーは
セルロースエステルを主成分とすることが好ましく、具
体的には、セルロースジアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート
等のセルロースアセテート系;硝酸セルロース;硫酸セ
ルロース、及びそれらの混合エステル等があり、好まし
くはセルロースジアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、セルロースアセテートプロピオネート、特に
はセルロースジアセテートである。
セルロースエステルを主成分とすることが好ましく、具
体的には、セルロースジアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート
等のセルロースアセテート系;硝酸セルロース;硫酸セ
ルロース、及びそれらの混合エステル等があり、好まし
くはセルロースジアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、セルロースアセテートプロピオネート、特に
はセルロースジアセテートである。
【0039】バインダーは硬膜してもよい。使用できる
硬膜剤としては、アルデヒド系化合物類,ケトン化合物
類,反応性のハロゲンを有する化合物類、反応性のオレ
フィンを持つ化合物類、N−ヒドロキシメチルフタルイ
ミド、N−メチロール化合物、イソシアナート類、アジ
リジン化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物類,ハロ
ゲンカルボキシアルデヒド類及び無機化合物系硬膜剤を
挙げることができる。
硬膜剤としては、アルデヒド系化合物類,ケトン化合物
類,反応性のハロゲンを有する化合物類、反応性のオレ
フィンを持つ化合物類、N−ヒドロキシメチルフタルイ
ミド、N−メチロール化合物、イソシアナート類、アジ
リジン化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物類,ハロ
ゲンカルボキシアルデヒド類及び無機化合物系硬膜剤を
挙げることができる。
【0040】硬膜剤は、通常、バインダーに対して0.
01〜30重量%用いられ、好ましくは0.05〜20
重量%である。
01〜30重量%用いられ、好ましくは0.05〜20
重量%である。
【0041】磁性体粉末は、必要に応じ溶剤を用いて結
合剤中に分散され、塗布液が形成される。磁性体粉末の
分散にはボールミル,ホモミキサー,サンドミルなどを
用いることができる。この場合、磁性体粒子を破損する
ことなく、できるだけ磁性体粒子一個一個をバラバラに
して分散することが好ましい。
合剤中に分散され、塗布液が形成される。磁性体粉末の
分散にはボールミル,ホモミキサー,サンドミルなどを
用いることができる。この場合、磁性体粒子を破損する
ことなく、できるだけ磁性体粒子一個一個をバラバラに
して分散することが好ましい。
【0042】光学的に透明な磁気記録層を形成する場合
には、結合剤は、磁性体粉末1重量部に対して1〜20
重量部用いるのが好ましい。さらには好ましくは、磁性
体粉末1重量部に対して2〜15重量部である。また、
溶剤は塗布が容易に行えるような量で用いられる。
には、結合剤は、磁性体粉末1重量部に対して1〜20
重量部用いるのが好ましい。さらには好ましくは、磁性
体粉末1重量部に対して2〜15重量部である。また、
溶剤は塗布が容易に行えるような量で用いられる。
【0043】磁気記録層の厚みは、0.1〜10μmが
好ましく、より好ましくは0.2〜5μm、さらに好ま
しくは0.5〜3μmである。
好ましく、より好ましくは0.2〜5μm、さらに好ま
しくは0.5〜3μmである。
【0044】磁気記録層を形成する塗布液には、磁気記
録層に、潤滑性の付与,帯電防止,接着防止,摩擦・磨
粍特性向上などの機能を持たせるために、潤滑剤,帯電
防止剤など種々の添加剤を添加することができる。ま
た、塗布液には他に、例えば、磁気記録層に柔軟性を与
えるために可塑剤を、塗布液中での磁性体の分散を助け
るために分散剤を、磁気ヘッドの目づまりを防止するた
めの研磨剤を添加することができる。
録層に、潤滑性の付与,帯電防止,接着防止,摩擦・磨
粍特性向上などの機能を持たせるために、潤滑剤,帯電
防止剤など種々の添加剤を添加することができる。ま
た、塗布液には他に、例えば、磁気記録層に柔軟性を与
えるために可塑剤を、塗布液中での磁性体の分散を助け
るために分散剤を、磁気ヘッドの目づまりを防止するた
めの研磨剤を添加することができる。
【0045】必要に応じて磁気記録層に隣接する最外層
に保護層を設けて耐傷性を向上させてもよい。耐傷性の
付与のためには、一般的に滑り剤として知られる化合物
を用いることができるが、好ましくは高級脂肪酸エステ
ルが挙げられる。また、磁気記録層をストライプ状に設
ける場合、この上に磁性体を含有しない透明なポリマー
層を設けて、磁気記録層による段差をなくしてもよい。
この場合、この透明なポリマー層に上記の各種の機能を
持たせてもよい。
に保護層を設けて耐傷性を向上させてもよい。耐傷性の
付与のためには、一般的に滑り剤として知られる化合物
を用いることができるが、好ましくは高級脂肪酸エステ
ルが挙げられる。また、磁気記録層をストライプ状に設
ける場合、この上に磁性体を含有しない透明なポリマー
層を設けて、磁気記録層による段差をなくしてもよい。
この場合、この透明なポリマー層に上記の各種の機能を
持たせてもよい。
【0046】次に、本発明に係るポリエステル支持体に
ついて説明する。
ついて説明する。
【0047】本発明の支持体はジカルボン酸成分とジオ
ール成分を主要な構成成分とするポリエステルである。
ール成分を主要な構成成分とするポリエステルである。
【0048】主要な構成成分のジカルボン酸成分として
は、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−
ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボ
ン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、
シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン
酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニル
ケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸な
どを挙げることができる。また、ジオール成分として
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、テト
ラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロ
パン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス
フェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジ
エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイド
ロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることが
できる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの
中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、
ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び/又は2,
6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エ
チレングリコール及び/又は1,4−シクロヘキサンジ
メタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ま
しい。中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レン−2,6−ナフタレート、テレフタル酸及び2,6
−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからな
るポリエステルおよびこれらのポリエステルの二種以上
の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好まし
い。ポリエステルに対してエチレンテレフタレートユニ
ット及び/又はエチレン−2,6−ナフタレートユニッ
トが70重量%以上含有されていると、透明性、機械的
強度、寸法安定性などに高度に優れたフィルムが得られ
る。
は、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−
ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボ
ン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、
シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン
酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニル
ケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸な
どを挙げることができる。また、ジオール成分として
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、テト
ラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロ
パン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス
フェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジ
エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイド
ロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることが
できる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの
中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、
ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び/又は2,
6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エ
チレングリコール及び/又は1,4−シクロヘキサンジ
メタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ま
しい。中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レン−2,6−ナフタレート、テレフタル酸及び2,6
−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからな
るポリエステルおよびこれらのポリエステルの二種以上
の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好まし
い。ポリエステルに対してエチレンテレフタレートユニ
ット及び/又はエチレン−2,6−ナフタレートユニッ
トが70重量%以上含有されていると、透明性、機械的
強度、寸法安定性などに高度に優れたフィルムが得られ
る。
【0049】本発明に係るポリエステル支持体を構成す
るポリエステルは、本発明の効果を阻害しない範囲であ
れば、さらに他の共重合成分が共重合されていてもよい
し、他のポリエステルが混合されていてもよい。これら
の例としては、先に挙げたジカルボン酸成分やジオール
成分、又はポリエステルを挙げることができる。
るポリエステルは、本発明の効果を阻害しない範囲であ
れば、さらに他の共重合成分が共重合されていてもよい
し、他のポリエステルが混合されていてもよい。これら
の例としては、先に挙げたジカルボン酸成分やジオール
成分、又はポリエステルを挙げることができる。
【0050】本発明に用いられるポリエステルには、ラ
イトパイピング現象を防止する目的で、染料を含有させ
ることが好ましい。このような目的で配合される染料と
しては、その種類に特に限定があるわけではないが、フ
ィルムの製造上、耐熱性に優れていることが必要であ
り、アンスラキノン系やペリノン系の染料が挙げられ
る。また、色調としては、一般の写真感光材料に見られ
るようにグレー染色が好ましい。
イトパイピング現象を防止する目的で、染料を含有させ
ることが好ましい。このような目的で配合される染料と
しては、その種類に特に限定があるわけではないが、フ
ィルムの製造上、耐熱性に優れていることが必要であ
り、アンスラキノン系やペリノン系の染料が挙げられ
る。また、色調としては、一般の写真感光材料に見られ
るようにグレー染色が好ましい。
【0051】本発明のポリエステル支持体の厚みは特に
限定がある訳ではないが、20〜125μm、特に40
〜90μmであることが好ましい。
限定がある訳ではないが、20〜125μm、特に40
〜90μmであることが好ましい。
【0052】また、本発明のポリエステル支持体は、ヘ
ーズが3%以下であることが好ましく、さらに好ましく
は1%以下である。ヘーズが3%より大きいとフィルム
を写真感光材料用支持体として用いた場合、写真用印画
紙に焼付けた画像がぼけてしまい不鮮明になる。上記ヘ
ーズは、ASTM−D1003−52に従って測定した
ものである。
ーズが3%以下であることが好ましく、さらに好ましく
は1%以下である。ヘーズが3%より大きいとフィルム
を写真感光材料用支持体として用いた場合、写真用印画
紙に焼付けた画像がぼけてしまい不鮮明になる。上記ヘ
ーズは、ASTM−D1003−52に従って測定した
ものである。
【0053】本発明のポリエステル支持体のガラス転移
点Tgは、60℃以上が好ましく、さらに70℃以上1
50℃以下が好ましい。Tgは示差走査熱量計で測定す
ることによって求められる。Tgがこの範囲にあること
で、現像処理機の乾燥工程でのフィルムが変形がなく、
現像処理後の巻きぐせカールの小さい感光材料が得られ
る。
点Tgは、60℃以上が好ましく、さらに70℃以上1
50℃以下が好ましい。Tgは示差走査熱量計で測定す
ることによって求められる。Tgがこの範囲にあること
で、現像処理機の乾燥工程でのフィルムが変形がなく、
現像処理後の巻きぐせカールの小さい感光材料が得られ
る。
【0054】次に、本発明のポリエステル支持体の製造
方法について説明するが、特に限定される訳ではない。
方法について説明するが、特に限定される訳ではない。
【0055】未延伸シートを得る方法および縦方向に一
軸延伸する方法は、従来公知の方法で行うことができ
る。例えば、原料のポリエステルをペレット状に成型
し、熱風乾燥または真空乾燥した後、溶融押出し、Tダ
イよりシート状に押出して、静電印加法などにより冷却
ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得
る。次いで、得られた未延伸シートを複数のロール群及
び/又は赤外線ヒーターなどの加熱装置を介してポリエ
ステルのTgからTg+100℃の範囲内に加熱し、一
段または多段縦延伸する方法である。延伸倍率は、通常
2.5倍〜6倍の範囲で、続く横延伸が可能な範囲とす
る必要がある。
軸延伸する方法は、従来公知の方法で行うことができ
る。例えば、原料のポリエステルをペレット状に成型
し、熱風乾燥または真空乾燥した後、溶融押出し、Tダ
イよりシート状に押出して、静電印加法などにより冷却
ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得
る。次いで、得られた未延伸シートを複数のロール群及
び/又は赤外線ヒーターなどの加熱装置を介してポリエ
ステルのTgからTg+100℃の範囲内に加熱し、一
段または多段縦延伸する方法である。延伸倍率は、通常
2.5倍〜6倍の範囲で、続く横延伸が可能な範囲とす
る必要がある。
【0056】上記の様にして得られた縦方向に一軸延伸
されたポリエステルフィルムを、Tg〜Tm(融点)−
20℃の温度範囲内で、横延伸し、次いで熱固定する。
横延伸倍率は通常3〜6倍であり、また、縦、横延伸倍
率の比は、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、
好ましい特性を有するように適宜調整する。一般には巾
方向と長手方向の物性をバランスさせることが好ましい
が、使用目的に応じて変化させてもよい。この時、2つ
以上に分割された延伸領域で温度差を1〜50℃の範囲
で順次昇温しながら横延伸すると巾方向の物性の分布が
低減でき好ましい。さらに横延伸後、フィルムを、その
最終横延伸温度以下でTg−40℃以上の範囲に0.0
1〜5分間保持すると巾方向の物性の分布がさらに低減
でき好ましい。
されたポリエステルフィルムを、Tg〜Tm(融点)−
20℃の温度範囲内で、横延伸し、次いで熱固定する。
横延伸倍率は通常3〜6倍であり、また、縦、横延伸倍
率の比は、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、
好ましい特性を有するように適宜調整する。一般には巾
方向と長手方向の物性をバランスさせることが好ましい
が、使用目的に応じて変化させてもよい。この時、2つ
以上に分割された延伸領域で温度差を1〜50℃の範囲
で順次昇温しながら横延伸すると巾方向の物性の分布が
低減でき好ましい。さらに横延伸後、フィルムを、その
最終横延伸温度以下でTg−40℃以上の範囲に0.0
1〜5分間保持すると巾方向の物性の分布がさらに低減
でき好ましい。
【0057】熱固定は、その最終横延伸温度より高温
で、Tm−20℃以下の温度範囲内で通常0.5〜30
0秒間熱固定する。この際、2つ以上に分割された領域
で温度差を1〜100℃の範囲で順次昇温しながら熱固
定することが好ましい。
で、Tm−20℃以下の温度範囲内で通常0.5〜30
0秒間熱固定する。この際、2つ以上に分割された領域
で温度差を1〜100℃の範囲で順次昇温しながら熱固
定することが好ましい。
【0058】熱固定されたフィルムは通常Tg以下まで冷
却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻
き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Tg以上の
温度範囲内で、巾方向及び/又は長手方向に0.1〜1
0%弛緩処理することが好ましい。また、冷却は、最終
熱固定温度からTgまでを、毎秒100℃以下の冷却速
度で徐冷することが好ましい。
却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻
き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Tg以上の
温度範囲内で、巾方向及び/又は長手方向に0.1〜1
0%弛緩処理することが好ましい。また、冷却は、最終
熱固定温度からTgまでを、毎秒100℃以下の冷却速
度で徐冷することが好ましい。
【0059】これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件の
より最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルに
より異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物性を測
定し、好ましい特性を有するように適宜調整することに
より決定すればよい。
より最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルに
より異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物性を測
定し、好ましい特性を有するように適宜調整することに
より決定すればよい。
【0060】ポリエステルフィルムについては、巻癖を
低減するため種々の方法がとられる。例えば特開昭51
−16358号に記載されている様に、ポリエステルフ
ィルムのガラス転移点Tgを30℃乃至5℃下回る温度
で熱処理する方法がある。また、特開平1−13155
0号には、逐次2軸延伸工程において、縦延伸と横延伸
の間でフィルム表裏に温度勾配をつけることで結晶性、
配向性の差を持たせて永久カールをつける方法が記載さ
れている。又、製品として巻き取るときにカールと逆向
きに巻き取り製品貯蔵時につく経時カールと相殺する方
法や、延伸時に温度差を持たせて製膜したポリエステル
フィルムをガラス転移点以下50℃以上の温度で熱処理
する方法も知られている。熱処理で効果的に巻癖が付き
にくくなる支持体は、ガラス転移点が90℃以上200
℃以下のポリエステルである。これは、この熱処理の効
果がガラス転移点を越える温度にさらされると消失する
ため、一般ユーザーが使用する際にさらされる最も高温
(夏季の車中の温度、80℃を越える場合もある。)を
基準として、90℃以上のガラス転移点を有することが
必要だからである。又、透明性を有しガラス転移点20
0℃を越える汎用ポリエステルフィルムは今のところ存
在しない。このようなポリエステルとして特に好ましい
ものはポリエチレンナフタレートを主成分とする支持体
である。該支持体はポリエチレンナフタレート若しくは
その共重合物からなるフィルム又はこれらを原料とする
組成物からなるフィルムである。該支持体は、2軸延伸
後、熱固定処理して用いるのが好ましく、必要により熱
弛緩させてもよい。
低減するため種々の方法がとられる。例えば特開昭51
−16358号に記載されている様に、ポリエステルフ
ィルムのガラス転移点Tgを30℃乃至5℃下回る温度
で熱処理する方法がある。また、特開平1−13155
0号には、逐次2軸延伸工程において、縦延伸と横延伸
の間でフィルム表裏に温度勾配をつけることで結晶性、
配向性の差を持たせて永久カールをつける方法が記載さ
れている。又、製品として巻き取るときにカールと逆向
きに巻き取り製品貯蔵時につく経時カールと相殺する方
法や、延伸時に温度差を持たせて製膜したポリエステル
フィルムをガラス転移点以下50℃以上の温度で熱処理
する方法も知られている。熱処理で効果的に巻癖が付き
にくくなる支持体は、ガラス転移点が90℃以上200
℃以下のポリエステルである。これは、この熱処理の効
果がガラス転移点を越える温度にさらされると消失する
ため、一般ユーザーが使用する際にさらされる最も高温
(夏季の車中の温度、80℃を越える場合もある。)を
基準として、90℃以上のガラス転移点を有することが
必要だからである。又、透明性を有しガラス転移点20
0℃を越える汎用ポリエステルフィルムは今のところ存
在しない。このようなポリエステルとして特に好ましい
ものはポリエチレンナフタレートを主成分とする支持体
である。該支持体はポリエチレンナフタレート若しくは
その共重合物からなるフィルム又はこれらを原料とする
組成物からなるフィルムである。該支持体は、2軸延伸
後、熱固定処理して用いるのが好ましく、必要により熱
弛緩させてもよい。
【0061】この場合、熱処理は、50℃以上、ガラス
転移点温度以下の温度で0.1時間以上1500時間以
下行うことが必要である。このうち特に好ましい熱処理
方法は、例えば、ポリエチレンナフタレートの場合はT
gが約120℃であり、従って119℃以下の温度で
0.2〜72時間熱処理することが好ましく、更に好ま
しいのは115℃以下で24時間程度熱処理することで
ある。特に短時間で熱処理をするために、Tg以上に一
度昇温し、Tg近辺で徐々に冷却することが非常に効率
的で好ましい。ポリエチレンナフタレートの場合、一例
として、一度130℃以上200℃の間の温度に保った
後125℃まで冷却し、その後100℃まで40分間で
徐冷することで熱処理時間を著しく短縮できる。このよ
うな熱処理を行った支持体を示差熱分析計で測定する
と、Tg近傍に吸熱ピークが出現し、この吸熱ピークが
大きいほど巻癖は付きにくい。又、100mcal/g
以上、更には200mcal/g以上となるように熱処
理するのが好ましい。
転移点温度以下の温度で0.1時間以上1500時間以
下行うことが必要である。このうち特に好ましい熱処理
方法は、例えば、ポリエチレンナフタレートの場合はT
gが約120℃であり、従って119℃以下の温度で
0.2〜72時間熱処理することが好ましく、更に好ま
しいのは115℃以下で24時間程度熱処理することで
ある。特に短時間で熱処理をするために、Tg以上に一
度昇温し、Tg近辺で徐々に冷却することが非常に効率
的で好ましい。ポリエチレンナフタレートの場合、一例
として、一度130℃以上200℃の間の温度に保った
後125℃まで冷却し、その後100℃まで40分間で
徐冷することで熱処理時間を著しく短縮できる。このよ
うな熱処理を行った支持体を示差熱分析計で測定する
と、Tg近傍に吸熱ピークが出現し、この吸熱ピークが
大きいほど巻癖は付きにくい。又、100mcal/g
以上、更には200mcal/g以上となるように熱処
理するのが好ましい。
【0062】本発明のポリエステル支持体に対しては、
該支持体とハロゲン化銀乳剤層や、親水性コロイド層
や、裏面層との間の接着層として下引層を設けることが
できる。本発明では、磁気記録層の隣接層に塩化ビニリ
デン共重合体を含むが、塩化ビニリデン共重合体は耐水
性が高く支持体の回収を困難にする。そこで、本発明に
おいて、該下引層を、アルカリ水溶液で加水分解しうる
ポリマーを主成分とする層とすることが好ましい。この
態様により、下引層がアルカリ水溶液中で溶解し支持体
の回収が容易になる。
該支持体とハロゲン化銀乳剤層や、親水性コロイド層
や、裏面層との間の接着層として下引層を設けることが
できる。本発明では、磁気記録層の隣接層に塩化ビニリ
デン共重合体を含むが、塩化ビニリデン共重合体は耐水
性が高く支持体の回収を困難にする。そこで、本発明に
おいて、該下引層を、アルカリ水溶液で加水分解しうる
ポリマーを主成分とする層とすることが好ましい。この
態様により、下引層がアルカリ水溶液中で溶解し支持体
の回収が容易になる。
【0063】アルカリ水溶液で加水分解しうるポリマー
としては、ゼラチンやゼラチン誘導体、ポリアクリル酸
エステル、ポリエステル、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースヘキサハイドロフタレート、セルロースアセテ
ートヘキサハイドロフタレート、ヒドロキシプロピルメ
チルセルロースアセチルフタレートなどがある。
としては、ゼラチンやゼラチン誘導体、ポリアクリル酸
エステル、ポリエステル、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースヘキサハイドロフタレート、セルロースアセテ
ートヘキサハイドロフタレート、ヒドロキシプロピルメ
チルセルロースアセチルフタレートなどがある。
【0064】上記下引層には他のバインダーを添加して
もよく、このようなバインダーに制限はないが、支持体
の回収を容易にするには、アルカリ水溶液で加水分解し
うるポリマーを全バインダーの10wt%以上とするの
が好ましく、30wt%以上とすることがより好まし
い。
もよく、このようなバインダーに制限はないが、支持体
の回収を容易にするには、アルカリ水溶液で加水分解し
うるポリマーを全バインダーの10wt%以上とするの
が好ましく、30wt%以上とすることがより好まし
い。
【0065】該下引層の厚みは好ましくは0.001〜
5μmの範囲、より好ましくは0.01〜0.5μmで
ある。
5μmの範囲、より好ましくは0.01〜0.5μmで
ある。
【0066】また、上記下引層中には導電性物質、アン
チハレーション剤、クロスオーバーカット剤、着色染
料、顔料、塗布助剤、カブリ防止剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、紫外線安定剤、エッチング処理剤、マット剤
などの各種添加剤を1種または2種以上含有しても構わ
ない。
チハレーション剤、クロスオーバーカット剤、着色染
料、顔料、塗布助剤、カブリ防止剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、紫外線安定剤、エッチング処理剤、マット剤
などの各種添加剤を1種または2種以上含有しても構わ
ない。
【0067】また、本発明に係るポリエステルフィルム
支持体は、その表面が疎水性であるため、通常は下引層
を設けることだけでなく、各種表面処理を予め行うこと
によってその接着性を補うことが好ましい。このような
表面処理として、コロナ放電処理、火陥処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などの表面活性化処理の他、レゾルシン、
フェノール類、アルカリ、アミン、トリクロル酢酸など
の薬品でエッチング処理する方法が挙げられる。
支持体は、その表面が疎水性であるため、通常は下引層
を設けることだけでなく、各種表面処理を予め行うこと
によってその接着性を補うことが好ましい。このような
表面処理として、コロナ放電処理、火陥処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などの表面活性化処理の他、レゾルシン、
フェノール類、アルカリ、アミン、トリクロル酢酸など
の薬品でエッチング処理する方法が挙げられる。
【0068】表面活性化処理のうち、コロナ放電処理
は、最もよく知られている方法であり、従来公知のいず
れの方法、例えば特公昭48−5043号、同47−5
1905号、特開昭47−28067号、同49−83
769号、同51−41770号、同51−13157
6号等に開示された方法により達成することができる。
は、最もよく知られている方法であり、従来公知のいず
れの方法、例えば特公昭48−5043号、同47−5
1905号、特開昭47−28067号、同49−83
769号、同51−41770号、同51−13157
6号等に開示された方法により達成することができる。
【0069】放電周波数は50Hz〜5000kHz、
好ましくは5kHz〜数100kHzが適当である。放
電周波数が小さすぎると、安定な放電が得られずかつ被
処理物にピンホールが生じ、好ましくない。また周波数
が高すぎると、インピーダンスマッチングのための特別
な装置が必要となり、装置の価格が大となり、好ましく
ない。被処理物の処理強度に関しては、通常のポリエス
テル、ポリオレフィン等のプラスチックフィルムの濡れ
性改良のためには、0.001kV・A・分/m2〜5
kV・A・分/m2、好ましくは0.01kV・A・分
/m2〜1kV・A・分/m2、が適当である。電極と誘
電体ロールのギャップクリアランスは0.5〜2.5m
m、好ましくは1.0〜2.0mmが適当である。
好ましくは5kHz〜数100kHzが適当である。放
電周波数が小さすぎると、安定な放電が得られずかつ被
処理物にピンホールが生じ、好ましくない。また周波数
が高すぎると、インピーダンスマッチングのための特別
な装置が必要となり、装置の価格が大となり、好ましく
ない。被処理物の処理強度に関しては、通常のポリエス
テル、ポリオレフィン等のプラスチックフィルムの濡れ
性改良のためには、0.001kV・A・分/m2〜5
kV・A・分/m2、好ましくは0.01kV・A・分
/m2〜1kV・A・分/m2、が適当である。電極と誘
電体ロールのギャップクリアランスは0.5〜2.5m
m、好ましくは1.0〜2.0mmが適当である。
【0070】多くの場合、最も効果的な表面処理である
グロー放電処理は、従来知られているいずれの方法、例
えば特公昭35−7578号、同36−10336号、
同45−22004号、同45−22005号、同45
−24040号、同46−43480号、米国特許3,
057,792号、同3,057,795号、同3,1
79,482号、同3,288,638号、同3,30
9,299号、同3,424,735号、同3,46
2,335号、同3,475,307号、同3,76
1,299号、英国特許997,093号、特開昭53
−129262号等に記載の手段を用いることができ
る。グロー放電処理条件は、一般に圧力は0.005〜
20Torr、好ましくは0.02〜2Torrが適当
である。圧力が低すぎると表面処理効果が低下し、また
圧力が高すぎると過大電流が流れ、スパークが起こりや
すく、危険でもあるし、被処理物を破壊する恐れもあ
る。放電は、真空タンク中で1対以上の空間を置いて配
置された金属板あるいは金属棒間に高電圧を印加するこ
とにより生じる。この電圧は、雰囲気気体の組成、圧力
により色々な値をとり得るものであるが、通常上記圧力
範囲内では、500〜5000Vの間で安定な定常グロ
ー放電が起こる。接着性を向上せしめるのに特に好適な
電圧範囲は、2000〜4000Vである。また、放電
周波数として、従来技術に見られるように、直流から数
1000MHz、好ましくは50Hz〜20MHzが適
当である。放電処理強度に関しては、所望の接着性能が
得られることから0.01kV・A・分/m2〜5kV
・A・分/m2、好ましくは0.15kV・A・分/m2
〜1kV・A・分/m2が適当である。
グロー放電処理は、従来知られているいずれの方法、例
えば特公昭35−7578号、同36−10336号、
同45−22004号、同45−22005号、同45
−24040号、同46−43480号、米国特許3,
057,792号、同3,057,795号、同3,1
79,482号、同3,288,638号、同3,30
9,299号、同3,424,735号、同3,46
2,335号、同3,475,307号、同3,76
1,299号、英国特許997,093号、特開昭53
−129262号等に記載の手段を用いることができ
る。グロー放電処理条件は、一般に圧力は0.005〜
20Torr、好ましくは0.02〜2Torrが適当
である。圧力が低すぎると表面処理効果が低下し、また
圧力が高すぎると過大電流が流れ、スパークが起こりや
すく、危険でもあるし、被処理物を破壊する恐れもあ
る。放電は、真空タンク中で1対以上の空間を置いて配
置された金属板あるいは金属棒間に高電圧を印加するこ
とにより生じる。この電圧は、雰囲気気体の組成、圧力
により色々な値をとり得るものであるが、通常上記圧力
範囲内では、500〜5000Vの間で安定な定常グロ
ー放電が起こる。接着性を向上せしめるのに特に好適な
電圧範囲は、2000〜4000Vである。また、放電
周波数として、従来技術に見られるように、直流から数
1000MHz、好ましくは50Hz〜20MHzが適
当である。放電処理強度に関しては、所望の接着性能が
得られることから0.01kV・A・分/m2〜5kV
・A・分/m2、好ましくは0.15kV・A・分/m2
〜1kV・A・分/m2が適当である。
【0071】本発明の感光材料のハロゲン化銀乳剤は、
例えばリサーチ・ディスクロージャー(以下「RD」と
略記する)No.17643、22〜23頁(1978
年12月)“I.乳剤製造(Emulsion pre
para−tion andtypes)”及び同N
o.18716、648頁、グラフキデ著『写真の物理
と化学』ポールモンテル社刊(P.Glafkide
s,Chemic etPhisique Photo
graphique,Paul Montel,196
7)、ダフィン著『写真乳剤化学』フォーカルプレス社
刊(G.F.Duffin,Photographic
Emulsion Chemistry,Focal
Press 1966)、ゼリクマンら著『写真乳剤
製造と塗布』フォーカルプレス社刊(V.L.Zeli
kman et al,Making and Coa
ting Photographic Emulsio
n,Focal Press,1964)などに記載さ
れた方法を用いて調製することができる。
例えばリサーチ・ディスクロージャー(以下「RD」と
略記する)No.17643、22〜23頁(1978
年12月)“I.乳剤製造(Emulsion pre
para−tion andtypes)”及び同N
o.18716、648頁、グラフキデ著『写真の物理
と化学』ポールモンテル社刊(P.Glafkide
s,Chemic etPhisique Photo
graphique,Paul Montel,196
7)、ダフィン著『写真乳剤化学』フォーカルプレス社
刊(G.F.Duffin,Photographic
Emulsion Chemistry,Focal
Press 1966)、ゼリクマンら著『写真乳剤
製造と塗布』フォーカルプレス社刊(V.L.Zeli
kman et al,Making and Coa
ting Photographic Emulsio
n,Focal Press,1964)などに記載さ
れた方法を用いて調製することができる。
【0072】乳剤は米国特許3,574,628号明細
書、同3,665,394号明細書及び英国特許1,4
13,748号明細書に記載された単分散乳剤も好まし
い。
書、同3,665,394号明細書及び英国特許1,4
13,748号明細書に記載された単分散乳剤も好まし
い。
【0073】ハロゲン化銀乳剤には、物理熟成、化学熟
成及び分光増感を行うことができる。このような工程で
使用される添加剤は、RDNo.17643,同No.
18716及び同No.308119(それぞれ、以下
RD17643、RD18716及びRD308119
と略す)に記載されている。
成及び分光増感を行うことができる。このような工程で
使用される添加剤は、RDNo.17643,同No.
18716及び同No.308119(それぞれ、以下
RD17643、RD18716及びRD308119
と略す)に記載されている。
【0074】本発明の感光材料がカラー写真感光材料で
ある場合、使用することができる写真用添加剤も上記R
Dに記載されている。また、種々のカプラーを使用する
ことができ、その具体例もRD17643及びRD30
8119に記載されている。
ある場合、使用することができる写真用添加剤も上記R
Dに記載されている。また、種々のカプラーを使用する
ことができ、その具体例もRD17643及びRD30
8119に記載されている。
【0075】また、これら添加剤は、RD308119
1007頁 XIV項に記載されている分散法などによ
り、写真感光層に添加することができる。
1007頁 XIV項に記載されている分散法などによ
り、写真感光層に添加することができる。
【0076】カラー写真感光材料には、前述のRD30
8119 VII−K項に記載されているフィルター層や中
間層などの補助層を設けることができる。
8119 VII−K項に記載されているフィルター層や中
間層などの補助層を設けることができる。
【0077】カラー写真感光材料を構成する場合、前述
のRD308119 VII−K項に記載されている順層,
逆層,ユニット構成などの様々な層構成をとることがで
きる。
のRD308119 VII−K項に記載されている順層,
逆層,ユニット構成などの様々な層構成をとることがで
きる。
【0078】この発明のハロゲン化銀写真感光材料を現
像処理するには、例えばT.H.ジェームズ著、セオリ
イオブザホトグラフィックプロセス第4版(The T
heory of The Photografic
Process ForthEdition)第291
頁〜第334頁及びジャーナルオブザアメリカンケミカ
ルソサエティ(Journal of the Ame
rican Chemical Society)第7
3巻、第3,100頁(1951)に記載されている、
それ自体公知の現像剤を使用することができる。また、
カラー写真感光材料は前述のRD17643 28〜2
9頁,RD18716 615頁及びRD308119
XIXに記載された通常の方法によって、現像処理するこ
とができる。
像処理するには、例えばT.H.ジェームズ著、セオリ
イオブザホトグラフィックプロセス第4版(The T
heory of The Photografic
Process ForthEdition)第291
頁〜第334頁及びジャーナルオブザアメリカンケミカ
ルソサエティ(Journal of the Ame
rican Chemical Society)第7
3巻、第3,100頁(1951)に記載されている、
それ自体公知の現像剤を使用することができる。また、
カラー写真感光材料は前述のRD17643 28〜2
9頁,RD18716 615頁及びRD308119
XIXに記載された通常の方法によって、現像処理するこ
とができる。
【0079】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0080】実施例1 《支持体の作成》2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チル100重量部、エチレングリコール60重量部にエ
ステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物0.1重量
部を添加し、常法に従ってエステル交換反応を行った。
得られた生成物に、三酸化アンチモン0.05重量部、
リン酸トリメチルエステル0.03重量部を添加した。
次いで徐々に昇温、減圧にし、290℃、0.05mm
Hgの条件で重合を行ない固有粘度0.60のポリエチ
レン−2,6−ナフタレートを得た。
チル100重量部、エチレングリコール60重量部にエ
ステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物0.1重量
部を添加し、常法に従ってエステル交換反応を行った。
得られた生成物に、三酸化アンチモン0.05重量部、
リン酸トリメチルエステル0.03重量部を添加した。
次いで徐々に昇温、減圧にし、290℃、0.05mm
Hgの条件で重合を行ない固有粘度0.60のポリエチ
レン−2,6−ナフタレートを得た。
【0081】これを、150℃で8時間真空乾燥した
後、300℃でTダイから層状に溶融押出し、50℃の
冷却ドラム上に静電印加しながら密着させ、冷却固化さ
せ、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式
縦延伸機を用いて、135℃で縦方向に3.3倍延伸し
た。
後、300℃でTダイから層状に溶融押出し、50℃の
冷却ドラム上に静電印加しながら密着させ、冷却固化さ
せ、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式
縦延伸機を用いて、135℃で縦方向に3.3倍延伸し
た。
【0082】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、第一延伸ゾーン145℃で総横延伸倍
率の50%延伸し、さらに第二延伸ゾーン155℃で総
横延伸倍率3.3倍となるように延伸した。次いで、1
00℃で2秒間熱処理し、さらに第一熱固定ゾーン20
0℃で5秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン240℃で1
5秒間熱固定した。次いで、横方向に5%弛緩処理しな
がら室温まで30秒かけて徐冷して、厚さ85μmのポ
リエチレンナフタレートフィルムを得た。
延伸機を用いて、第一延伸ゾーン145℃で総横延伸倍
率の50%延伸し、さらに第二延伸ゾーン155℃で総
横延伸倍率3.3倍となるように延伸した。次いで、1
00℃で2秒間熱処理し、さらに第一熱固定ゾーン20
0℃で5秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン240℃で1
5秒間熱固定した。次いで、横方向に5%弛緩処理しな
がら室温まで30秒かけて徐冷して、厚さ85μmのポ
リエチレンナフタレートフィルムを得た。
【0083】これをステンレス製のコアに巻き付け、1
10℃で48時間熱処理して支持体を作成した。
10℃で48時間熱処理して支持体を作成した。
【0084】この支持体の両面に12W/m2/min
のコロナ放電処理を施し、一方の面に下引塗布液B−1
を乾燥膜厚0.4μmになるように塗布し、その上に1
2W/m2/minのコロナ放電処理を施し、下引塗布
液B−2を乾燥膜厚0.06μmになるように塗布し
た。
のコロナ放電処理を施し、一方の面に下引塗布液B−1
を乾燥膜厚0.4μmになるように塗布し、その上に1
2W/m2/minのコロナ放電処理を施し、下引塗布
液B−2を乾燥膜厚0.06μmになるように塗布し
た。
【0085】12W/m2/minのコロナ放電処理を
施した他方の面には、下引塗布液B−1又はB−3を乾
燥膜厚0.2μmになるように塗布し(第1層)、その
上に12W/m2/minのコロナ放電処理を施し、水
分散性塗布液R−1からR−7のいずれかを乾燥膜厚
0.2μmになるように塗布し(第2層)、比較として
B−1又はB−3の上に第2層を塗布しないものも用意
した。
施した他方の面には、下引塗布液B−1又はB−3を乾
燥膜厚0.2μmになるように塗布し(第1層)、その
上に12W/m2/minのコロナ放電処理を施し、水
分散性塗布液R−1からR−7のいずれかを乾燥膜厚
0.2μmになるように塗布し(第2層)、比較として
B−1又はB−3の上に第2層を塗布しないものも用意
した。
【0086】各層はそれぞれ塗布後90℃で10秒間乾
燥し、上記の層の塗布後引き続いて110℃で2分間熱
処理を行った後、50℃で30秒間冷却処理を行った。
燥し、上記の層の塗布後引き続いて110℃で2分間熱
処理を行った後、50℃で30秒間冷却処理を行った。
【0087】 〈下引塗布液B−1〉 ブチルアクリレート30重量%、t−ブチルアクリレート20重量%、スチレ ン25重量%、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート25重量%の共重合体 ラテックス液(固形分30%) 125g 化合物(UL−1) 0.4g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレン尿素) 1.0g 水で仕上げる 1000ml 〈下引塗布液B−2〉 ゼラチン 10g 化合物(UL−1) 0.2g 化合物(UL−2) 0.2g 化合物(UL−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径:3μm) 0.1g 水で仕上げる 1000ml
【0088】
【化1】
【0089】 〈下引塗布液B−3〉 酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子(平均粒径0.2μm)の水分散液(固 形分40重量%) 100g ゼラチン 10g 水 270g メタノール 600g p−クロロフェノール 1g レゾルシン 20g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.1g 〈塗布液R−1〉 酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子(平均粒径0.2μm)の水分散液(固 形分40重量%) 109g 例示化合物V−1(固形分50重量%) 58g 水で仕上げる 1000ml 〈塗布液R−2〉 酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子(平均粒径0.2μm)の水分散液(固 形分40重量%) 109g 例示化合物V−4(固形分48重量%) 60g 水で仕上げる 1000ml 〈塗布液R−3〉ジカルボン酸成分としてテレフタル酸
ジメチル60モル%、イソフタル酸ジメチル30モル
%、5−スルホイソフタル酸ジメチルのナトリウム塩1
0モル%、グリコール成分としてエチレングリコール5
0モル%、ジエチレングリコール50モル%を常法によ
り共重合した。この共重合体を95℃の熱水中で3時間
撹拌し、15重量%の水分散液Aとした。
ジメチル60モル%、イソフタル酸ジメチル30モル
%、5−スルホイソフタル酸ジメチルのナトリウム塩1
0モル%、グリコール成分としてエチレングリコール5
0モル%、ジエチレングリコール50モル%を常法によ
り共重合した。この共重合体を95℃の熱水中で3時間
撹拌し、15重量%の水分散液Aとした。
【0090】 酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子(平均粒径0.2μm) の水分散液(固形分40重量%) 109g 例示化合物V−1(固形分50重量%) 48g 水分散液A 33g 水で仕上げる 1000ml 〈塗布液R−4〉 例示化合物V−1(固形分50重量%) 140g 水で仕上げる 1000ml 〈塗布液R−5〉 例示化合物V−1(固形分50重量%) 140g 触媒化成工業(株)スフェリカスラリー300(平均粒径0.27μm、固形 分20重量%) 7g 水で仕上げる 1000ml 〈塗布液R−6〉 例示化合物V−4(固形分48重量%) 146g 水で仕上げる 1000ml 〈塗布液R−7〉 水分散液A 467g 水で仕上げる 1000ml 次に、水分散性塗布液の塗布面上に下記磁気記録層塗布
液M−1またはM−2のいずれかを乾燥膜厚0.8μm
になるように塗布し(第3層)、その上に滑り層O−1
を乾燥膜厚0.02μmになるように塗布した。各層は
それぞれ塗布後80℃で10秒間乾燥し、引き続いて1
00℃で2分間熱処理を行った。
液M−1またはM−2のいずれかを乾燥膜厚0.8μm
になるように塗布し(第3層)、その上に滑り層O−1
を乾燥膜厚0.02μmになるように塗布した。各層は
それぞれ塗布後80℃で10秒間乾燥し、引き続いて1
00℃で2分間熱処理を行った。
【0091】〈塗布液M−1〉ジアセチルセルロース8
2g、Co被着γ−Fe2O3(長軸0.8μm、Fe2+
/Fe3+=0.2、Hc=600エルステッド)6.6
g及びα−アルミナ(平均粒径0.5μm)4g、アセ
トン990g及びシクロヘキサノン110gを混合し、
ディゾルバーで1時間混和し、その後サンドミルで2時
間分散して分散液とした。
2g、Co被着γ−Fe2O3(長軸0.8μm、Fe2+
/Fe3+=0.2、Hc=600エルステッド)6.6
g及びα−アルミナ(平均粒径0.5μm)4g、アセ
トン990g及びシクロヘキサノン110gを混合し、
ディゾルバーで1時間混和し、その後サンドミルで2時
間分散して分散液とした。
【0092】〈塗布液M−2〉酢酸ブチルと塩化ビニル
の共重合体(酢酸ブチル/塩化ビニル=50/50)8
2g、Co被着γ−Fe2O3 6.6g及びα−アルミ
ナ(平均粒径0.5μm)4g、メチルエチルケトン5
00g、トルエン400g及びシクロヘキサノン100
gを混合し、ディゾルバーで1時間混和し、その後サン
ドミルで2時間分散して分散液とした。
の共重合体(酢酸ブチル/塩化ビニル=50/50)8
2g、Co被着γ−Fe2O3 6.6g及びα−アルミ
ナ(平均粒径0.5μm)4g、メチルエチルケトン5
00g、トルエン400g及びシクロヘキサノン100
gを混合し、ディゾルバーで1時間混和し、その後サン
ドミルで2時間分散して分散液とした。
【0093】 〈塗布液O−1〉 カルナウバワックス 7g トルエン 700g メチルエチルケトン 300g 《感光材料の調製》市販されているコニカ(株)製カラ
ーネガフィルムコニカカラーLV400と同一の写真乳
剤層を下引塗布液B−2塗布面にコロナ放電した後に塗
設し試料(No.1〜10)を作成した。各試料No.
の第1層ないし第3層の塗布液を表1に示す。
ーネガフィルムコニカカラーLV400と同一の写真乳
剤層を下引塗布液B−2塗布面にコロナ放電した後に塗
設し試料(No.1〜10)を作成した。各試料No.
の第1層ないし第3層の塗布液を表1に示す。
【0094】得られた各試料の処理を以下の様に行っ
た。
た。
【0095】 〈現像処理〉 1. カラー現像 3分15秒 38.0±0.1℃ 2. 漂 白 6分30秒 38.0±3.0℃ 3. 水 洗 3分15秒 24〜41℃ 4. 定 着 6分30秒 38.0±3.0℃ 5. 水 洗 3分15秒 24〜41℃ 6. 安 定 3分15秒 38.0±3.0℃ 7. 乾 燥 50℃以下 各工程に用いた処理液組成を以下に示す。
【0096】 〈発色現像液〉 4−アミノ・3−メチル−N−エチル−N−(β−ヒドロキシエチル) アニリン・硫酸塩 4.75g 無水亜硫酸ナトリウム 4.25g ヒドロキシルアミン・1/2硫酸塩 2.0g 無水炭酸カリウム 37.5g 臭化ナトリウム 1.3g ニトリロ三酢酸・ナトリウム塩(1水塩) 2.5g 水酸化カリウム 1.0g 水を加えて1リットルとする(pH=10.1) 〈漂白液〉 エチレンジアミン四酢酸鉄(III)アンモニウム塩 100.0g エチレンジアミン四酢酸2アンモニウム塩 10.0g 臭化アンモニウム 150.0g 氷酢酸 10.0g 水を加えて1リットルとし、アンモニア水を用いてpH6.0に調整する。
【0097】 〈定着液〉 チオ硫酸アンモニウム 175.0g 無水亜硫酸ナトリウム 8.5g メタ亜硫酸ナトリウム 2.3g 水を加えて1リットルとし、酢酸を用いてpH6.0に調整する。
【0098】 〈安定液〉 ホルマリン(37%水溶液) 1.5ml コニダックス(コニカ株式会社製) 7.5ml 水を加えて1リットルとする。
【0099】得られたカラーネガフィルムの現像処理後
のゴミ付着性及び耐傷性を以下の方法で評価した。
のゴミ付着性及び耐傷性を以下の方法で評価した。
【0100】(ゴミ付着性)現像処理後の35mm幅、
24枚撮りの各試料1本ずつを24駒全てプリントを行
い、プリント上で目視観察されるゴミの数を計測した。
24枚撮りの各試料1本ずつを24駒全てプリントを行
い、プリント上で目視観察されるゴミの数を計測した。
【0101】(耐傷性)現像処理後の試料を23℃、5
5%RHで12時間放置した後、裏面に先端の直径が2
5μmのサファイア針を垂直に当て、連続荷重0〜50
gをかけて10mm/秒の速度で引っ掻く。引っ掻き後
の試料をシャーカステンにのせ透過で傷が見え始める耐
荷重強度を耐傷性とした。数値が大きい程耐傷性は良好
である。
5%RHで12時間放置した後、裏面に先端の直径が2
5μmのサファイア針を垂直に当て、連続荷重0〜50
gをかけて10mm/秒の速度で引っ掻く。引っ掻き後
の試料をシャーカステンにのせ透過で傷が見え始める耐
荷重強度を耐傷性とした。数値が大きい程耐傷性は良好
である。
【0102】以上の結果を表1に示す。
【0103】
【表1】
【0104】表1の結果から明らかなように、本発明の
構成を用いた場合、現像処理後の耐傷性及び帯電防止性
に優れており、ゴミや傷などの欠陥が無い。また、本発
明の場合、磁気特性も問題無かったが、比較例の場合、
現像処理後に磁気ヘッドを通過する際に、バック層の剥
がれが生じた。
構成を用いた場合、現像処理後の耐傷性及び帯電防止性
に優れており、ゴミや傷などの欠陥が無い。また、本発
明の場合、磁気特性も問題無かったが、比較例の場合、
現像処理後に磁気ヘッドを通過する際に、バック層の剥
がれが生じた。
【0105】実施例2 バック層の第1層目の塗布液を表2に示す塗布液に変え
た以外は、実施例1の試料No.4と同様の試料を作成
した。
た以外は、実施例1の試料No.4と同様の試料を作成
した。
【0106】〈塗布液B−4〉ジカルボン酸成分として
テレフタル酸ジメチル40モル%、イソフタル酸ジメチ
ル30モル%、5−スルホイソフタル酸ジメチルのナト
リウム塩10モル%及び1,4−シクロヘキサンジカル
ボン酸20モル%、グリコール成分としてエチレングリ
コール70モル%、1,4−シクロヘキサンジカルボン
酸30モル%を常法により共重合した。この共重合体を
95℃の熱水中で3時間撹拌し、15重量%の水分散液
Bとした。
テレフタル酸ジメチル40モル%、イソフタル酸ジメチ
ル30モル%、5−スルホイソフタル酸ジメチルのナト
リウム塩10モル%及び1,4−シクロヘキサンジカル
ボン酸20モル%、グリコール成分としてエチレングリ
コール70モル%、1,4−シクロヘキサンジカルボン
酸30モル%を常法により共重合した。この共重合体を
95℃の熱水中で3時間撹拌し、15重量%の水分散液
Bとした。
【0107】この水分散液Bを130gと、化合物(U
L−1)を0.4gを混合し、水で1000mlにうす
めた。
L−1)を0.4gを混合し、水で1000mlにうす
めた。
【0108】〈塗布液B−5〉ジカルボン酸成分として
テレフタル酸ジメチル50モル%、イソフタル酸ジメチ
ル50モル%、グリコール成分としてエチレングリコー
ル50モル%及びジエチレングリコール50モル%を常
法により共重合した。この共重合体を95℃の熱水中で
3時間撹拌し、15重量%の水分散液Bとした。
テレフタル酸ジメチル50モル%、イソフタル酸ジメチ
ル50モル%、グリコール成分としてエチレングリコー
ル50モル%及びジエチレングリコール50モル%を常
法により共重合した。この共重合体を95℃の熱水中で
3時間撹拌し、15重量%の水分散液Bとした。
【0109】この水分散液Bを130gと、化合物(U
L−1)を0.4gを混合し、水で1000mlにうす
めた。
L−1)を0.4gを混合し、水で1000mlにうす
めた。
【0110】 〈塗布液B−6〉 ゼラチン 10g 水 10g 酢酸 10g メタノール 50g エチレンジクロライド 50g p−クロロフェノール 4g 得られた各試料について、実施例1と同様な方法で現像
処理前の耐傷性を、更に回収性を以下の方法で評価し
た。
処理前の耐傷性を、更に回収性を以下の方法で評価し
た。
【0111】(回収性)フィルム試料を5%の水酸化ナ
トリウム水溶液(1.32規定)に浸漬し、1時間加
熱、撹拌を行った。下記の3段階に評価する。
トリウム水溶液(1.32規定)に浸漬し、1時間加
熱、撹拌を行った。下記の3段階に評価する。
【0112】評価3:自然に支持体から塗布層が剥離す
る。
る。
【0113】評価2:こすれば支持体から塗布層が剥離
する。
する。
【0114】評価1:塗布層は剥離しない。
【0115】以上の結果を表2に示す。
【0116】
【表2】
【0117】表2に示すように、本発明の構成では、耐
傷性に優れ、かつ支持体の回収性にも優れている。
傷性に優れ、かつ支持体の回収性にも優れている。
【0118】
【発明の効果】請求項1ないし6に係る発明によれば、
耐傷性、帯電防止性及び磁気特性に優れる磁気記録層を
有するハロゲン化銀写真感光材料が提供される。
耐傷性、帯電防止性及び磁気特性に優れる磁気記録層を
有するハロゲン化銀写真感光材料が提供される。
【0119】請求項6に係る発明によれば更に、下引層
の除去性の向上による支持体の回収が容易であるという
効果が得られる。
の除去性の向上による支持体の回収が容易であるという
効果が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 1/93 G03C 1/93
Claims (6)
- 【請求項1】 ポリエステル支持体の一方の側に感光性
ハロゲン化銀乳剤層を、他方の側に磁気記録層を少なく
とも1層有する写真感光材料において、該磁気記録層の
該支持体に近い側の隣接層が塩化ビニリデン共重合体を
含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項2】 前記磁気記録層がセルロースアセテート
を含む請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項3】 前記磁気記録層の前記支持体に近い側の
隣接層が帯電防止層である請求項1又は2記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。 - 【請求項4】 前記帯電防止層の導電性材料が金属酸化
物を主成分とする請求項1、2又は3記載のハロゲン化
銀写真感光材料。 - 【請求項5】 前記ポリエステル支持体がポリエチレン
ナフタレートを主成分とする請求項1、2、3又は4記
載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項6】 前記ポリエステル支持体の下引層がアル
カリ水溶液で加水分解しうるポリマーを主成分とする請
求項1、2、3、4又は5記載のハロゲン化銀写真感光
材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7236927A JPH0980683A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7236927A JPH0980683A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0980683A true JPH0980683A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=17007822
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7236927A Pending JPH0980683A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0980683A (ja) |
-
1995
- 1995-09-14 JP JP7236927A patent/JPH0980683A/ja active Pending
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