JP2001087643A - プラズマ処理装置 - Google Patents

プラズマ処理装置

Info

Publication number
JP2001087643A
JP2001087643A JP26921199A JP26921199A JP2001087643A JP 2001087643 A JP2001087643 A JP 2001087643A JP 26921199 A JP26921199 A JP 26921199A JP 26921199 A JP26921199 A JP 26921199A JP 2001087643 A JP2001087643 A JP 2001087643A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage electrode
sides
electrode
plasma processing
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP26921199A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3399887B2 (ja
Inventor
Noboru Saeki
登 佐伯
Yoshihiro Masui
義廣 増井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pearl Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Pearl Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pearl Kogyo Co Ltd filed Critical Pearl Kogyo Co Ltd
Priority to JP26921199A priority Critical patent/JP3399887B2/ja
Publication of JP2001087643A publication Critical patent/JP2001087643A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3399887B2 publication Critical patent/JP3399887B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置全体の小型化、多種多様な被処理物に対
する適用性の拡充及び生産プロセスのインラインへの組
込みの容易性だけでなく、電極部構成を簡単にして製作
コストの大幅な低減が図れ、しかも、所定の表面処理を
適正均一にかつ非常に効率よく行なえるようにする。 【解決手段】 中実帯板状に形成された高圧電極1とそ
れの厚み方向の両側に絶縁板2,2を挟んで対向配置さ
れた一対の接地電極3,3とを備え、高圧電極1の短辺
方向の一端部分1Aを先端部ほど漸次接近するような傾
斜面1a.1aを持つ略二等辺三角形状に形成する一
方、中実内部に反応ガス供給通路6が形成されている接
地電極3,3の幅方向一端部3A,3A側に、高圧電極
1側の両側傾斜面1a,1aに対向させて放電ギャップ
15,15及び放電ブラズマにより生成される化学的に
活性な励起種を含むガス流の吹出し通路16,16を構
成する傾斜面3a´,3a´が形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマ処理装置に
関するもので、詳しくは、主としてポリエチレンやポリ
プロピレン、PTFE(ポリ四フッ化エチレン)などの
撥水性を有する樹脂に塗料を塗布するとか水性インクで
印刷を施す際にその表面を親水性に改質したり、プラス
チックの表面に酸素のプラズマ処理によって濡れ性を付
与したり、ガラス、セラミックス、金属、半導体等の疎
水性表面を親水化したり、表面に付着した有機物を洗浄
したりするなどの表面処理を行なう場合に用いられるプ
ラズマ処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】上記のような表面改質や有機物洗浄等の
表面処理に用いられるプラズマ処理装置として、ヘリウ
ムや水素等の不活性ガスと酸素やフルオロカーボン系の
含フッ素化合物ガス等の反応性気体とを混合してなる反
応ガスを大気圧もしくは大気圧近傍(弱減圧または弱加
圧)圧力下で高圧電極と接地電極との間に形成される放
電部に導入し通過させるとともに両電極に高周波電圧を
印加することにより放電部にグロー放電プラズマを発生
させて該プラズマにより生成される化学的に活性な励起
種を含むガス流を被処理物の表面に向け噴出させて所定
の表面処理を行なうように構成された大気圧プラズマ処
理装置として、例えば特許第2589599号公報や特
許第2934852号公報に開示されたような構成のも
のが従来より既に提案されている。
【0003】これら従来より提案されているプラズマ処
理装置は大気圧下での表面処理が実現可能であって、そ
れ以前から採用されていた低圧グロー放電プラズマによ
る処理装置、例えば真空容器内に互いに対向状態に配置
した高圧電極と接地電極との間の放電部に酸素等の放電
用反応ガスを導入させて両電極に高周波電圧を印加する
ことにより低圧グロー放電プラズマを発生させ、該プラ
ズマにより生成される化学的に活性な励起種を含むガス
によって接地電極上に設置保持させた被処理物の表面を
処理するように構成されていたプラスマ処理装置に比べ
て、真空系を形成するための装置及び設備が不要である
ことから、装置全体の小型化および低コスト化が図れる
とともに、被処理物を電極上に設置する必要もないの
で、被処理物の面積や厚み、形状に対応させやすく、多
種多様な被処理物に対する表面処理に適用可能であり、
また、生産プロセスのインラインへの組込みも容易で生
産性の向上も図れるといった利点を有している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来提案されているプ
ラズマ処理装置のうち、前者の特許第2589599号
公報に開示されている大気圧プラズマ処理装置は、一端
が閉塞された箱状の放電部内に二重ダクト構造の反応ガ
ス供給通路を形成するとともに、箱状放電部内の開放下
端部側に細板状の一対の高圧電極と接地電極とを絶縁材
セパレータを介して複数対向配置してその電極間に上記
反応ガス供給通路が開口接続される筒状の放電空間を形
成させてなるもので、電極部の構成が非常に複雑に入り
込んだものであることから、製作組立が非常に困難で、
装置全体のコストが高価になるばかりでなく、スパーク
やアーク放電などの異常放電を発生しやすく、この異常
放電に伴う電力ロスにより大気圧下でのグロー放電プラ
ズマの発生が不安定になりやすいという問題がある。
【0005】一方、後者の特許第2934852号公報
に開示されている大気圧プラズマ処理装置は、単一の中
実帯板状高圧電極を用い、その中実内部への孔明け加工
及びその厚み方向の両側面へのスリット加工という汎用
の加工手段と、高圧電極の厚み方向の両側に絶縁板を挟
んで一対の接地電極を重ね合わせるという簡易な組立手
段で混合反応ガスの供給機能及び略直線状のガス流噴出
機能を備えた電極部を構成することが可能であり、前者
の大気圧プラズマ処理装置に比べて、電極部全体の構成
が非常に簡単で、製作コストの低減が図れるとともに、
スパークなどの異常放電に伴う電力ロスも抑制可能であ
る。
【0006】しかしながら、後者の特許第293485
2号公報に開示されている大気圧プラズマ処理装置で
は、中実帯板状高圧電極の厚み方向の両側面それぞれ
に、略半円形状の複数個のスリット状ガス吹出し穴を高
圧電極の長辺方向に沿って断片的に形成し、これら厚み
方向両側面のスリット状ガス吹出し穴を、長手方向に沿
って互い違いに位置するように配置することで、放電プ
ラズマの発生に伴い生成された化学的に活性な励起種を
含むガス流を被処理物の表面に略直線状に噴出するよう
に構成されたものであり、高圧電極の厚み方向両側面そ
れぞれに複数個の略半円形状のスリット状ガス吹出し穴
を両側の穴が長辺方向に沿って互い違いに位置するよう
に形成するといった具合に、汎用の加工手段といえども
多大かつ高精度な製作加工技術を要し、製作コストの低
減にも限界がある。また、全体的には被処理物の表面に
対してガス流が略直線状に噴出されるものの、実際には
高圧電極の厚み方向両側面に断片的に略半円形状に形成
されているスリット状ガス吹出し穴から噴出されるもの
であるために、各吹出し穴から噴出されるガス流を途切
れなく一直線状に形成させることが難しくて被処理物の
表面処理にばらつきを発生しやすい。そのようなばらつ
きをなくするためには、被処理物の送り速度を遅くする
必要があり、処理効率の面で改良の余地が残されてい
る。
【0007】本発明は上記のような実情に鑑みてなされ
たもので、装置全体の小型化、多種多様な被処理物に対
する適用性の拡充及び生産プロセスのインラインへの組
込みの容易性を図ることができるのはもとより、電極部
の構成が非常に簡単で製作コストの大幅な低減を達成で
きるとともに、異常放電による電力ロスも抑制でき、し
かも、噴出ガス流を被処理物表面に確実に一直線に形成
させて所定の表面処理を均一に、かつ非常に効率よく行
なうことができるプラズマ処理装置を提供することを目
的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るプラズマ処理装置は、中実帯板状に形
成されている高圧電極(1)の厚み方向(x−x方向)
の両側にそれぞれ絶縁板(2),(2)を挟んで一対の
接地電極(3),(3)が対向配置され、上記帯板状高
圧電極(1)の短辺方向(z−z方向)の一端側部分
(1A)は、その両側面が先端部に近付くほど漸次接近
するような傾斜面(1a),(1a)となる略二等辺三
角形状に形成されている一方、上記一対の接地電極
(3),(3)の内部には、その長辺方向(y−y方
向)に沿わせて少なくともヘリウムまたは水素を含む不
活性ガスと酸素またはフルオロカーボン系の含フッ素化
合物ガスを含む反応性気体との混合反応ガスの供給通路
(6)が形成されているとともに、これら一対の接地電
極(3),(3)の短辺方向(z−z方向)の一端部側
にはそれぞれ、上記高圧電極(1)の略二等辺三角形状
部分(1A)の両側傾斜面(1a),(1a)に対向さ
せて放電ギャップ(15)及び混合反応ガス吹出し通路
(16)を構成する傾斜面(3a),(3a)が形成さ
れ、かつ、それら一対の接地電極(3),(3)の傾斜
面(3a),(3a)には上記反応ガス供給通路(6)
に連通接続するように各接地電極(3),(3)の長辺
方向(y−y方向)に間隔を隔てて形成した複数個の混
合ガス吹出孔(10)が開口され、また、上記高圧電極
(1)の略二等辺三角形状部分(1A)の両側傾斜面
(1a),(1a)を含む全面及び一対の接地電極
(3),(3)の傾斜面(3a),(3a)を含む全面
のうちの少なくとも一方が絶縁体(9)で被覆されてお
り、上記複数個のガス吹出孔(10)から上記両電極
(1)、(3),(3)の傾斜面(1a),(3a)間
に形成の両側放電ギャップ(15)及び混合反応ガス吹
出し通路(16)に上記混合反応ガスを大気圧もしくは
大気圧近傍圧力下で導入し通過させるとともに、上記両
電極(1)、(3),(3)に高周波電圧を印加するこ
とにより、上記両側放電ギャップ(15)にグロー放電
プラズマを発生させて該プラズマにより生成される化学
的に活性な励起種を含むガス流を両側吹出し通路(1
6)の下流側に設けた吹出し部(17)から被処理物
(13)の表面に直線状に噴出するように構成している
ことを特徴とするものである。
【0009】上記構成の本発明によれば、帯板状高圧電
極の厚み方向の両側に絶縁板を挟んで一対の接地電極を
重ね合わせるという簡易な組立手段で混合反応ガスの供
給機能及び一直線状のガス流噴出機能を備えた電極部を
構成することが可能である。これによって、低圧グロー
放電プラズマによる処理装置に比べて装置全体の小型
化、面積や厚み、形状などが多種多様な被処理物に対す
る適用性の拡充及び生産プロセスのインラインへの組込
みの容易性はもちろん、従来より提案の大気圧プラズマ
処理装置に比べて、電極部全体の構成が非常に簡単であ
るとともに、加工工程の削減及び高精度な加工技術の不
要化によって全体の製作コストの大幅な低減が図れる。
また、スパークやアーク放電などの異常放電に伴う電力
ロスが生じにくい構成であるから、大気圧下でのグロー
放電プラズマの発生を安定化しやすい。
【0010】さらに、高圧電極の短辺方向の一端側の略
二等辺三角形状部分の両側傾斜面に沿って形成される両
放電ギャップ及び吹出し通路に導入され通過してグロー
放電プラズマにより生成された化学的に活性な励起種を
含むガス流同士を吹出し通路下流側の吹出し部から被処
理物の表面に向けて噴出させることによって、それら噴
出ガス流同士の衝突により途切れのない一直線状のガス
流を被処理物の表面全域に均等に作用させることが可能
で、所定の表面処理を常に適正均一に、かつ、非常に効
率よく行なわせることができる。
【0011】上述のように動作するプラズマ処理装置に
おいて、上記帯板状高圧電極の短辺方向一端側の略二等
辺三角形部分の両側傾斜面を含む全面及び一対の接地電
極の傾斜面を含む全面のうちの少なくとも一方を被覆す
る絶縁体として、請求項2に記載のように、セラミック
コーティングにより形成する手段を採用する場合は、両
電極の対向傾斜面に対しスパークの発生原因が発生しな
いような確実な絶縁被覆を容易に行なえ、電極の保護効
果を高めて耐久性の向上を図ることができる。
【0012】また、上記構成のプラズマ処理装置におい
て、請求項3に記載のように、一対の接地電極及び中実
帯板状高圧電極の内部にそれぞれ、それらの長辺方向に
沿わせて冷却水循環用通路を形成する場合は、二重ダク
トなどの特別な構成を採用しなくても、反応ガス供給通
路の場合と同様に孔明け加工によって冷却水循環用通路
を各電極自体に形成することが可能で、電極部構成をよ
り簡単にして製作コストの一層の低減を図りつつ、長時
間に亘って表面処理を行なう際の電極過熱を防いで所定
の表面処理を連続的に効率よく実行することが可能であ
る。
【0013】また、上記構成のプラズマ処理装置におい
て、請求項4に記載のように、上記帯板状高圧電極の短
辺方向一端側の略二等辺三角形状部分の両側傾斜面の交
差角度を、両側放電ギャップ及び吹出し通路をを通過し
て噴出されるガス流同士が上記吹出し部よりも噴出方向
下流位置で衝突し合流する角度に設定することによっ
て、ガス流同士を被処理物の表面上で衝突合流させて表
面処理の均一化及び処理効率の一段の向上を達成するこ
とができる。
【0014】さらに、上記構成のプラズマ処理装置にお
いて、請求項5に記載のように、上記高圧電極、接地電
極及び絶縁体を包囲するカバーケーシングを設け、この
カバーケーシング内に、高周波電源と高圧電極とを整合
させる整合器を一体に組み込んだ構成とすることによっ
て、整合器と電極の給電端子とを電気的にも物理的にも
直付けすることが可能で、特に、高周波(100KHz
以上)高電力使用態様での電力ロスを低減しプラズマ処
理の安定化が図れるとともに、両者間に亘る接続用配線
が外部に露出することによる他物との引掛りなどのトラ
ブル発生を防止でき、かつ、装置全体をコンパクトに一
体化してロボットへの装着使用も可能となるといったよ
うに、該プラズマ処理装置の使用形態に自由性を持たせ
ることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
にもとづいて説明する。図1は本発明に係るプラズマ処
理装置の第1の実施形態を示す側面図、図2はその底面
図、図3は図1のA−A線に沿った縦断正面図、図4は
図3の要部の拡大図である。
【0016】この第1の実施形態における大気圧プラズ
マ処理装置20は、基本的に、中実帯板状に形成された
高圧電極1と、この高圧電極1の厚み方向(図3のx−
x方向)の両側にそれぞれ、四弗化樹脂板など帯状の絶
縁板2,2を挟んで対向配置することで上記高圧電極1
に対し電気的に隔離してアース接地された表裏一対の帯
板状の接地電極3,3と、これら高圧電極1、接地電極
3,3及び絶縁板2,2のうち短辺方向(図3及び図5
のz−z方向)の一端部側で高圧電極1と接地電極3,
3との間に形成される後述の放電ギャップ15,15及
び混合反応ガス吹出し通路16,16を除く全体を包囲
するように角U字形状に形成されたアルミニウム製等の
カバーケーシング4とからなる。
【0017】上記高圧電極1の短辺方向(図3のz−z
方向)の一端部分1Aは、図3及び図4に示すように、
その両側面1a,1aが先端部に近付くほど漸次接近す
るような傾斜面となる略二等辺三角形状に形成され、そ
の先端部は円弧状の湾曲面1bに形成されている。この
略二等辺三角形状部分1Aの両側傾斜面1a,1a及び
先端湾曲面1bは、セラミックコーティングにより形成
される絶縁体9で被覆されている。
【0018】一方、上記一対の接地電極3,3の各中実
内部には、図5に示すように、電極長辺方向(図5のy
−y方向)の全長に亘る孔明け加工及びその孔両端部へ
の栓5の圧入固定(図6参照)によってヘリウムガスま
たは水素を含む不活性ガスと酸素またはフルオロカーボ
ン系の含フッ素化合物ガスを含む反応性気体との混合反
応ガスを大気圧下で供給する反応ガス供給通路6,6が
電極長辺方向に沿わせて形成されているとともに、該反
応ガス供給通路6,6よりも上部の中実内部には、電極
長辺方向の全長に亘る孔明け加工及びその孔両端部への
栓7の圧入固定(図6参照)によって上記反応ガス供給
通路6,6に並行する状態の冷却水循環用通路8,8が
形成されている。なお、上記高圧電極1の中実内部にも
上記接地電極3の冷却水循環用通路8と同様にして冷却
水循環用通路18が形成されている。
【0019】また、上記一対の接地電極3,3の短辺方
向(z−z方向)の一端部3A,3A側にはそれぞれ、
図3、図4及び図6に示すように、上記高圧電極1の略
二等辺三角形状部分1Aの両側傾斜面1a,1aに平行
状態で対向する傾斜面3a,3aが形成されている。こ
れら傾斜面3a,3aのうち、基端部及び長辺方向の両
端部を除く部分に切り込みが設けられており、その切り
込まれた傾斜面部分3a´,3a´と上記高圧電極1の
略二等辺三角形状部分1Aの両側傾斜面1a,1aとの
間にそれぞれ放電ギャップ15,15及び混合反応ガス
吹出し通路16,16が形成され、かつ、これら吹出し
通路16,16の下流側に被処理物表面に向けての吹出
し部17が形成されている。なお、高圧電極1の短辺方
向一端側の略二等辺三角形状部分1Aの両側傾斜面1
a,1aの交差角度θは、両側放電ギャップ15,15
及び吹出し通路16,16を通過して噴出されるガス流
同士が吹出し部17よりも噴出方向(図4の矢印w方
向)の下流位置で衝突し合流する角度に設定されてい
る。
【0020】さらに、上記接地電極3,3の短辺方向の
一端部3A,3Aの内部にはそれぞれ、電極長辺方向に
等間隔を隔てて、一端が上記反応ガス供給通路6に連通
接続し他端が傾斜面部分3a´,3a´に開口する複数
個の混合反応ガス吹出孔10…,10…が形成されてお
り、これら吹出孔10…,10…から上記高圧電極1の
傾斜面1a,1aと一対の接地電極3,3の傾斜面部分
3a´,3a´間に形成される両側放電ギャップ15,
15及び吹出し通路16,16に混合反応ガスを導入し
通過させるとともに、高圧電極1に高周波電圧を印加す
ることにより、放電ギャップ15,15でのグロー放電
プラズマの発生に伴い生成される化学的に活性な励起種
を含むガス流(以下、プラズマフレアと称するものも含
む)を両側吹出し通路16,16を通して吹出し部17
から被処理物の表面に直線状に噴出するように構成され
ている。
【0021】次に、上記のように構成された第1の実施
形態による大気圧プラズマ処理装置20の使用形態及び
動作について説明する。図7に示すように、被処理物の
一例であるPTFEなどの樹脂シート材13を水平姿勢
に載置して連続搬送可能なコンベア14の搬送経路中間
位置の上部に大気圧プラズマ処理装置20を横断状態に
設置固定して使用される。そして、上記コンベア14に
よって樹脂シート材13を水平搬送させつつ、大気圧も
しくは大気圧近傍(弱減圧または弱加圧)圧力下で上記
反応ガス供給通路6,6に混合反応ガスを供給し、この
混合反応ガスを複数個のガス吹出し孔10…,10…を
通して高圧電極1と接地電極3,3との間に形成される
放電ギャップ部15,15に導入するとともに上記高圧
電極1に高周波電圧(10KHz〜500MHz)を印
加することによって、上記放電ギャップ15,15に大
気圧下でグロー放電プラズマを発生させ、該プラズマに
より生成されるイオン、ラジカルなどの化学的に活性な
励起種を含む反応性ガス流、すなわち、プラズマフレア
を両側吹出し通路16,16を通して吹出し部17に向
けて流し、この吹出し部17から樹脂シート材13の表
面に向け直線状に噴出させることによって、それら噴出
プラズマフレア同士を樹脂シート材13の表面上で互い
に衝突合流させて途切れのない一直線状のプラズマフレ
アを樹脂シート材13の表面全域に均等に作用させるこ
とが可能となり、これによって、樹脂シート材13の表
面を親水性に改質して樹脂シート材13に対する塗料や
インクののり具合や接着性を著しく改善することができ
る。
【0022】以上のような表面処理動作を行なうプラズ
処理装置20を構成するに際して、本発明では、単一の
中実帯板状高圧電極1と、混合反応ガスの供給通路6,
6及び複数個の混合反応ガス吹出孔10…,10…が形
成され、かつ、短辺方向の一端部側にはそれぞれ高圧電
極1の略二等辺三角形状部分1Aの両側傾斜面1a,1
aに対向する傾斜面3a,3aが形成された一対の接地
電極3,3とを絶縁板2,2を挟んで重ね合わせるだけ
で、両側に薄い平面状で直線状の放電ギャップ15,1
5及び混合反応ガス吹出し通路16,16が形成された
電極部を構成することが可能となり、このように電極部
全体の構成が非常に簡単であることから、製作コストの
大幅な低減が図れる。また、大気圧もしくは大気圧近傍
圧力下においてもスパークやアーク放電などの異常放電
に伴う電力ロスが生じにくい構成であるから、放電ギャ
ップ15,15に安定よくグロー放電プラズマを発生さ
せることが可能であるとともに、両側の吹出し通路1
6,16から噴出されるプラズマフレアが衝突合流され
て一直線で、かつ、その長手方向に均一なプラズマフレ
アラインを形成することが可能であるために、プラズマ
による所定の表面処理を常に適正均一にかつ非常に効率
よく行なわせることができる。
【0023】特に、一対の接地電極3,3及び帯板状高
圧電極1の中実内部への孔明け加工によって冷却水の循
環用通路8,8及び18が形成されているので、電極部
構成を簡単にして製作コスト低減効果を保ちつつも、長
時間に亘って表面処理を行なう時の各電極3,3、1の
過熱を防いで連続処理による効率向上を図ることができ
る。
【0024】図8は本発明に係るブラズマ処理装置の第
2の実施形態を示す一部切欠き側面図であり、この第2
の実施形態における大気圧プラズマ処理装置30の基本
的な構成は第1の実施形態と同様であり、第1の実施形
態と同一もしくは相当部分に同一の符号を付してそれら
の詳しい説明を省略し、以下、相違点についてのみ説明
を加える。
【0025】この第2の実施形態では、整合回路を構成
するために、高圧電極1側に設けられた給電端子19か
ら高圧電極1に至る給電経路に高周波電圧を任意に調整
可能とするバリコン11及びコイル12が設けられてお
り、これらバリコン11及びコイル12からなり、高周
波電源と高圧電極1とをマッチングさせるための整合器
がプラズマ処理装置30に一体化されている。
【0026】上記第2の実施形態による大気圧プラズマ
処理装置30においては、カバーケーシング4内に図示
省略している高周波電源と高圧電極1とのマッチングの
ための整合器が一体に組込まれた構成であるために、整
合器と高圧電極1の給電端子19とを電気的にも物理的
にも直付けすることが可能で、特に、高周波(100K
Hz以上)高電力使用態様での電力ロスを低減しプラズ
マ処理の安定化が図れるとともに、両者間に亘る接続用
配線が外部に露出することによる他物との引掛りや電波
漏洩などのトラブル発生を防止でき、かつ、装置全体を
一層コンパクトに一体化してロボットへの装着使用も可
能となるといったように、該プラズマ処理装置の使用形
態の自由度を広げることができる。
【0027】図9は本発明に係るブラズマ処理装置の第
3の実施形態を示す要部の拡大縦断正面図であり、この
第3の実施形態における大気圧プラズマ処理装置30の
基本的な構成は第1の実施形態と同様で、相違する点
は、一対の接地電極3,3における傾斜面3a,3a、
吹出し部17の両側面3b,3b及び先端外面3c,3
cの全面も、高圧電極1における両側傾斜面1a,1a
及び先端湾曲面1bと同様にセラミックコーティングに
より形成される絶縁体9´で被覆させてる点であり、そ
の他の構成で第1の実施形態と同一もしくは相当部分に
は同一の符号を付してそれらの詳しい説明を省略する。
【0028】上記第3の実施形態による大気圧プラズマ
処理装置30においては、高圧電極1と一対の接地電極
3,3との間でスパークが発生しないように絶縁被覆を
確実にして、電極の保護効果を一層高めることが可能で
ある。
【0029】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、大気圧
もしくは大気圧近傍の圧力下でも安定なグロー放電プラ
ズマを発生させることができるとともに、このプラズマ
により生成される化学的に活性な励起種を含むガス流同
士を、先端側ほど近接するように形成された傾斜姿勢の
二つの吹出し通路下流側の吹出し部から被処理物の表面
に向けて噴出させ、それら噴出ガス流同士の衝突により
途切れのない一直線状のガス流を被処理物の表面全域に
均等に作用させることができるので、所定の表面処理を
常に適正均一に、かつ、非常に効率よく行なわせること
ができる。
【0030】そのうえ、構造的には、単一の中実帯板状
高圧電極と、混合反応ガスの供給通路及び複数個の混合
反応ガス吹出孔が形成され、かつ、短辺方向の一端部側
にはそれぞれ高圧電極の略二等辺三角形状部分の両側傾
斜面に対向する傾斜面が形成された一対の接地電極とを
絶縁板を挟んで重ね合わせるだけで、放電ギャップ並び
に反応ガス供給機能及び直線状のガス流噴出機能を備え
た電極部を構成することが可能でるから、低圧グロー放
電プラズマによる処理装置に比べて、装置全体の著しい
小型軽量化および低コスト化、面積や厚み、形状などが
多種多様な被処理物に対する適用性の拡充及び生産プロ
セスのインラインへの組込みの容易性を図ることができ
るのはもとより、ガス流を被処理物の表面に向けて略直
線状に噴出させる形態のものとして従来より既に提案さ
れている大気圧プラズマ処理装置に比べても、電極部全
体の構成が非常に簡単で、製作コストの大幅な低減を図
ることができる。しかも、スパークやアーク放電などの
異常放電に伴う電力ロスが生じにくい構成であるから、
大気圧下でのグロー放電プラズマの発生を安定化しやす
く、プラズマによる所定の表面処理の効率を一段と向上
させることができるという効果を奏する。
【0031】また、請求項2に記載のような構成を採用
することにより上記効果に加えて、電極にスパークの発
生原因が生じない確実な絶縁被覆を行なえ、電極の保護
効果を高めて耐久性の向上を図ることができ、また、請
求項3に記載のような構成を採用することで、長時間に
亘って表面処理を行なう時の電極の過熱を防いで所定の
表面処理を連続的に効率よく実行することができる。
【0032】さらに、上記構成のプラズマ処理装置にお
いて、請求項4に記載のような構成を採用する場合は、
ガス流同士を被処理物の表面で衝突合流させて表面処理
の均一化及び処理効率の一段の向上を達成することがで
き、さらにまた、請求項5に記載のように、カバーケー
シング内に整合器を一体に組み込んだ構成とする場合
は、整合器と電極の給電端子とを電気的にも物理的にも
直付けすることが可能で、特に、高周波(100KHz
以上)高電力使用態様での電力ロスを低減しプラズマ処
理の安定化が図れるとともに、両者間に亘る接続用配線
が外部に露出することによる他物との引掛りや電波漏洩
などのトラブル発生を防止でき、かつ、装置全体をコン
パクトに一体化してロボットへの装着使用も可能となる
といったように、該プラズマ処理装置の使用形態に自由
性を持たせることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るプラズマ処理装置の第1の実施形
態による大気圧プラズマ装置の側面図である。
【図2】図1の底面図である。
【図3】図1のA−A線に沿った縦断正面図である。
【図4】図3の要部の拡大図である。
【図5】図2のB−B線に沿った縦断側面図である。
【図6】第1の実施形態による大気圧プラズマ処理装置
における接地電極の要部拡大斜視図である。
【図7】同上大気圧プラズマ処理装置の使用形態を示す
概略斜視図である。
【図8】本発明に係るプラズマ処理装置の第2の実施形
態による大気圧プラズマ処理装置の一部切欠き側面図で
ある。
【図9】本発明に係るプラズマ処理装置の第3の実施形
態による大気圧プラズマ処理装置の要部の拡大縦断正面
図である。
【符号の説明】
1 高圧電極 1A 略二等辺三角形状部分 1a,1a 傾斜面 2,2 絶縁板 3 接地電極 3A 幅方向一端部 3a,3a´ 傾斜面 4 カバーケーシング 6 反応ガス供給通路 8,18 冷却水循環用通路 9,9´ セラミックコーティングによる絶縁体 10 混合反応ガス流吹出孔 13 樹脂シート材(被処理物) 15 放電ギャップ 16 ガス流吹出し通路 17 吹出し部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G075 AA22 AA30 CA47 EB41 FB04 4K057 DA16 DD01 DE06 DE14 DG16 DM02 DM09 DM37 5F004 AA14 AA16 BA20 BB13 BB28 BC08 CA09 DA01 DA22 DA24 DA26 DB23 EB08

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中実帯板状に形成されている高圧電極の
    厚み方向の両側にそれぞれ絶縁板を挟んで一対の接地電
    極が対向配置され、 上記帯板状高圧電極の短辺方向の一端側部分は、その両
    側面が先端部に近付くほど漸次接近するような傾斜面と
    なる略二等辺三角形状に形成されている一方、 上記一対の接地電極の内部には、その長辺方向に沿わせ
    て少なくともヘリウムまたは水素を含む不活性ガスと酸
    素またはフルオロカーボン系の含フッ素化合物ガスを含
    む反応性気体との混合反応ガスの供給通路が形成されて
    いるとともに、これら一対の接地電極の短辺方向の一端
    部側にはそれぞれ、上記高圧電極の略二等辺三角形状部
    分の両側傾斜面に対向させて放電ギャップ及び混合反応
    ガス吹出し通路を構成する傾斜面が形成され、かつ、そ
    れら一対の接地電極の傾斜面には上記反応ガス供給通路
    に連通接続するように各接地電極の長辺方向に間隔を隔
    てて形成した複数個の混合反応ガス吹出孔が開口され、 また、上記高圧電極の略二等辺三角形状部分の両側傾斜
    面を含む全面及び一対の接地電極の傾斜面を含む全面の
    うちの少なくとも一方が絶縁体で被覆されており、 上記複数個のガス吹出孔から上記両電極の傾斜面間に形
    成の両側放電ギャップ及び混合反応ガス吹出し通路に上
    記混合反応ガスを大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で導
    入し通過させるとともに、上記両電極に高周波電圧を印
    加することにより、上記両側放電ギャップにグロー放電
    プラズマを発生させて該プラズマにより生成される化学
    的に活性な励起種を含むガス流を両側吹出し通路の下流
    側に設けた吹出し部から被処理物の表面に直線状に噴出
    するように構成していることを特徴とするプラズマ処理
    装置。
  2. 【請求項2】 上記帯板状高圧電極の短辺方向の一端側
    の略二等辺三角形状部分の両側傾斜面を含む全面及び一
    対の接地電極の傾斜面を含む全面のうちの少なくとも一
    方を被覆する絶縁体は、セラミックコーティングにより
    形成されている請求項1に記載のプラズマ処理装置。
  3. 【請求項3】 上記一対の接地電極及び中実帯板状高圧
    電極の内部にはそれぞれ、それらの長辺方向に沿わせて
    冷却水循環用通路が形成されている請求項1または2に
    記載のプラズマ処理装置。
  4. 【請求項4】 上記帯板状高圧電極の短辺方向の一端側
    の略二等辺三角形状部分の両側傾斜面の交差角度は、両
    側放電ギャップ及び吹出し通路を通過して噴出されるガ
    ス流同士が上記吹出し部よりも噴出方向下流位置で衝突
    し合流する角度に設定されている請求項1ないし3のい
    ずれかに記載のプラズマ処理装置。
  5. 【請求項5】 上記高圧電極、接地電極及び絶縁体を包
    囲するカバーケーシングが設けられ、このカバーケーシ
    ング内には、高周波電源と高圧電極とを整合させる整合
    器が一体に組み込まれている請求項1ないし4のいずれ
    かに記載のプラズマ処理装置。
JP26921199A 1999-09-22 1999-09-22 プラズマ処理装置 Expired - Fee Related JP3399887B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26921199A JP3399887B2 (ja) 1999-09-22 1999-09-22 プラズマ処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26921199A JP3399887B2 (ja) 1999-09-22 1999-09-22 プラズマ処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001087643A true JP2001087643A (ja) 2001-04-03
JP3399887B2 JP3399887B2 (ja) 2003-04-21

Family

ID=17469230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26921199A Expired - Fee Related JP3399887B2 (ja) 1999-09-22 1999-09-22 プラズマ処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3399887B2 (ja)

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020078804A (ko) * 2001-04-10 2002-10-19 주식회사 싸일렌테크놀로지 상압 플라즈마 발생기
JP2003100646A (ja) * 2001-09-27 2003-04-04 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理装置
JP2003338399A (ja) * 2002-05-21 2003-11-28 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理装置
KR20030091438A (ko) * 2002-05-28 2003-12-03 (주)플라젠 플라즈마 분사장치 및 그 장치를 이용한 표면처리방법
JP2004006211A (ja) * 2001-09-27 2004-01-08 Sekisui Chem Co Ltd プラズマ処理装置
JP2004014630A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Ulvac Japan Ltd 大気圧プラズマ処理装置
JP2004319285A (ja) * 2003-04-16 2004-11-11 Matsushita Electric Works Ltd プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP2005032797A (ja) * 2003-07-08 2005-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマ処理方法および装置
JP2005522824A (ja) * 2002-04-10 2005-07-28 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド 大気圧プラズマ発生アセンブリ
JP2005302525A (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理装置及びその処理方法
KR100662210B1 (ko) 2006-01-24 2006-12-28 주식회사 셈테크놀러지 노즐타입 대기압 플라즈마 표면처리 장치
JP2007042503A (ja) * 2005-08-04 2007-02-15 Sharp Corp 大気圧プラズマ処理装置および大気圧プラズマ処理方法
JP2007048661A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Sharp Corp プラズマ生成電極、プラズマ処理装置、および、プラズマ処理方法
WO2008038901A1 (en) * 2006-09-25 2008-04-03 Cmtech Co., Ltd Plasma generator
WO2008132901A1 (ja) * 2007-04-19 2008-11-06 Sekisui Chemical Co., Ltd. プラズマ処理装置
US7455892B2 (en) 2000-10-04 2008-11-25 Dow Corning Ireland Limited Method and apparatus for forming a coating
US7678429B2 (en) 2002-04-10 2010-03-16 Dow Corning Corporation Protective coating composition
JP2010518555A (ja) * 2007-02-02 2010-05-27 バンクォン カン 均一な常圧プラズマ発生装置
JP2010539336A (ja) * 2007-09-20 2010-12-16 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード 大気圧下における超高周波プラズマ補助cvdのための装置および方法、並びにその応用
KR101030712B1 (ko) 2009-08-25 2011-04-26 글로벌텍 주식회사 플라즈마 처리 장치
US8859056B2 (en) 2005-05-12 2014-10-14 Dow Corning Ireland, Ltd. Bonding an adherent to a substrate via a primer
WO2017135571A1 (en) * 2016-02-02 2017-08-10 Plasmapp Co., Ltd. Linear plasma generator for selective surface treatment
KR101771667B1 (ko) * 2015-12-18 2017-08-28 한국과학기술원 유전체 장벽 방전용 전극 조립체 및 이를 이용한 플라즈마 처리장치
KR101933318B1 (ko) * 2017-09-04 2018-12-27 한국기초과학지원연구원 듀얼 타입 플라즈마 토출부를 구비하는 플라즈마 장치

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7455892B2 (en) 2000-10-04 2008-11-25 Dow Corning Ireland Limited Method and apparatus for forming a coating
KR20020078804A (ko) * 2001-04-10 2002-10-19 주식회사 싸일렌테크놀로지 상압 플라즈마 발생기
JP2003100646A (ja) * 2001-09-27 2003-04-04 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理装置
JP2004006211A (ja) * 2001-09-27 2004-01-08 Sekisui Chem Co Ltd プラズマ処理装置
JP2005522824A (ja) * 2002-04-10 2005-07-28 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド 大気圧プラズマ発生アセンブリ
US7678429B2 (en) 2002-04-10 2010-03-16 Dow Corning Corporation Protective coating composition
JP2003338399A (ja) * 2002-05-21 2003-11-28 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理装置
KR20030091438A (ko) * 2002-05-28 2003-12-03 (주)플라젠 플라즈마 분사장치 및 그 장치를 이용한 표면처리방법
JP2004014630A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Ulvac Japan Ltd 大気圧プラズマ処理装置
JP2004319285A (ja) * 2003-04-16 2004-11-11 Matsushita Electric Works Ltd プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP2005032797A (ja) * 2003-07-08 2005-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマ処理方法および装置
JP2005302525A (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理装置及びその処理方法
JP4504723B2 (ja) * 2004-04-12 2010-07-14 積水化学工業株式会社 放電プラズマ処理装置及び放電プラズマ処理方法
US8859056B2 (en) 2005-05-12 2014-10-14 Dow Corning Ireland, Ltd. Bonding an adherent to a substrate via a primer
JP2007042503A (ja) * 2005-08-04 2007-02-15 Sharp Corp 大気圧プラズマ処理装置および大気圧プラズマ処理方法
JP2007048661A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Sharp Corp プラズマ生成電極、プラズマ処理装置、および、プラズマ処理方法
JP4693544B2 (ja) * 2005-08-11 2011-06-01 シャープ株式会社 プラズマ生成電極、プラズマ処理装置、および、プラズマ処理方法
KR100662210B1 (ko) 2006-01-24 2006-12-28 주식회사 셈테크놀러지 노즐타입 대기압 플라즈마 표면처리 장치
WO2008038901A1 (en) * 2006-09-25 2008-04-03 Cmtech Co., Ltd Plasma generator
JP2010518555A (ja) * 2007-02-02 2010-05-27 バンクォン カン 均一な常圧プラズマ発生装置
WO2008132901A1 (ja) * 2007-04-19 2008-11-06 Sekisui Chemical Co., Ltd. プラズマ処理装置
JP4647705B2 (ja) * 2007-04-19 2011-03-09 積水化学工業株式会社 プラズマ処理装置
JPWO2008132901A1 (ja) * 2007-04-19 2010-07-22 積水化学工業株式会社 プラズマ処理装置
JP2010539336A (ja) * 2007-09-20 2010-12-16 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード 大気圧下における超高周波プラズマ補助cvdのための装置および方法、並びにその応用
KR101030712B1 (ko) 2009-08-25 2011-04-26 글로벌텍 주식회사 플라즈마 처리 장치
KR101771667B1 (ko) * 2015-12-18 2017-08-28 한국과학기술원 유전체 장벽 방전용 전극 조립체 및 이를 이용한 플라즈마 처리장치
WO2017135571A1 (en) * 2016-02-02 2017-08-10 Plasmapp Co., Ltd. Linear plasma generator for selective surface treatment
KR101933318B1 (ko) * 2017-09-04 2018-12-27 한국기초과학지원연구원 듀얼 타입 플라즈마 토출부를 구비하는 플라즈마 장치
JP2019075364A (ja) * 2017-09-04 2019-05-16 コリア ベーシック サイエンス インスティテュート デュアルタイプのプラズマ吐出部を備えているプラズマ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3399887B2 (ja) 2003-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001087643A (ja) プラズマ処理装置
JP2002018276A (ja) 大気圧プラズマ処理装置
US11049698B2 (en) Dual-channel showerhead with improved profile
US20180366351A1 (en) Oxygen compatible plasma source
US7408562B2 (en) Ion generating apparatus
WO2020021831A1 (ja) プラズマ発生装置
KR20070087207A (ko) 플라즈마 처리 장치 및 방법
JPWO2008123142A1 (ja) プラズマ処理装置
JP4630874B2 (ja) 大気圧大面積グロープラズマ発生装置
KR101098083B1 (ko) 플라스마 처리 장치 및 그 제조 방법
JP3723794B2 (ja) プラズマ表面処理装置の電極構造
TW202001984A (zh) 活性氣體生成裝置及成膜處理裝置
JP2934852B1 (ja) プラズマ処理装置
WO2008038901A1 (en) Plasma generator
JP2005216763A (ja) イオン化気流発生装置
JP6482014B2 (ja) プラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理システム
WO2007046151A1 (ja) 半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置
WO2006112020A1 (ja) 除電装置
WO2002103770A1 (en) Apparatus and method for cleaning the surface of a substrate
JP4110062B2 (ja) プラズマ処理方法及び装置
JP3154058B2 (ja) 旋回流型大気圧プラズマ処理装置
KR100420129B1 (ko) 다중전극 배열을 이용한 플라즈마 표면처리장치
JP3686662B1 (ja) プラズマ処理装置
KR20060024846A (ko) 연면 방전형 공기정화장치
JP5677328B2 (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090221

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090221

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100221

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100221

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110221

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120221

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120221

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130221

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140221

Year of fee payment: 11

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees