JP2934852B1 - プラズマ処理装置 - Google Patents

Abstract

【要約】 【課題】 装置全体の小型化、多種多様な被処理物に対
する適用性の拡充及び生産プロセスのインラインへの組
込みの容易性だけでなく、電極部構成を簡単にして製作
コストの大幅な低減が図れ、かつ、異常放電による電力
ロスを無くし大気圧下でも常に安定したグロー放電プラ
ズマを発生させて所定の表面処理を確実、かつ効率よく
行なえるようにする。 【解決手段】 中実帯板状に形成された高圧電極１とそ
れの厚み方向の両側に絶縁体２，２を挟んで対向配置さ
れた接地電極３，３とを備え、高圧電極１の中実内部に
は反応ガス供給通路６が孔明け加工により形成されてい
るとともに、高圧電極１の幅方向一端側の表裏両面に、
複数個のスリット状ガス吹出し穴１０ａ，１０ｂが長手
方向に沿って断片的に、かつ、表裏互い違いに配置して
形成されており、これら複数個のスリット状ガス吹出し
穴１０ａ，１０ｂから構成されるガス流吹出し部１０か
ら被処理物の表面に対して略直線状にガス流を噴出可能
に構成している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマ処理装置に
関するもので、詳しくは、主としてポリエチレンやポリ
プロピレン、ＰＴＦＥ（ポリ四フッ化エチレン）などの
撥水性を有する樹脂に塗料を塗布するとか水性インクで
印刷を施す際にその表面を親水性に改質したり、プラス
チックの表面に酸素のプラズマ処理によって濡れ性を付
与したり、ガラス、セラミックス、金属、半導体等の疎
水性表面を親水化したり、表面に付着した有機物を洗浄
したりするなどの表面処理を行なう場合に用いられるプ
ラズマ処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】上記のような表面改質や有機物洗浄等の
表面処理に用いられるプラズマ処理装置として、ヘリウ
ムや水素等の不活性ガスと酸素や含フッ素化合物（フル
オロカーボン系）ガス等の反応性気体とを混合してなる
反応ガスを大気圧もしくは大気圧近傍（弱減圧または弱
加圧）圧力下で高圧電極と接地電極との間に形成される
放電部に導入し通過させるとともに両電極に高周波電圧
を印加することにより放電部にグロー放電プラズマを発
生させて該プラズマにより生成される化学的に活性な励
起種を含むガス流を被処理物の表面に向け噴出させて所
定の表面処理を行なうように構成された大気圧プラズマ
処理装置が、例えば特許第２５８９５９９号公報などに
開示されているように従来より既に提案されている。

【０００３】この従来より提案されているプラズマ処理
装置は大気圧下での表面処理が実現可能であって、それ
以前から採用されていた低圧グロー放電プラズマによる
処理装置、例えば真空容器内に互いに対向状態に配置し
た高圧電極と接地電極との間の放電部に酸素等の放電用
反応ガスを導入させて両電極に高周波電圧を印加するこ
とにより低圧グロー放電プラズマを発生させ、該プラズ
マにより生成される化学的に活性な励起種を含むガスに
よって接地電極上に設置保持させた被処理物の表面を処
理するように構成されていたプラスマ処理装置に比べ
て、真空系を形成するための装置及び設備が不要である
ことから、装置全体の小型化および低コスト化が図れる
とともに、被処理物を電極上に設置する必要もないの
で、被処理物の面積や厚み、形状に対応させやすく、多
種多様な被処理物に対する表面処理に適用可能であり、
また、生産プロセスのインラインへの組込みも容易で生
産性の向上も図れるといった利点を有している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特許第２
５８９５９９号公報に代表される従来より提案の大気圧
プラズマ処理装置は、一端が閉塞された箱状の放電部内
に二重ダクト構造の反応ガス供給通路を形成するととも
に、箱状放電部内の開放下端部側に細板状の一対の高圧
電極と接地電極とを絶縁材セパレータを介して複数対向
配置してその電極間に上記反応ガス供給通路が開口接続
される筒状の放電空間を形成させてなるもので、電極部
の構成が非常に複雑に入り込んだものであることから、
製作組立が非常に困難で、装置全体のコストが高価にな
るばかりでなく、スパークやアーク放電などの異常放電
を発生しやすく、この異常放電に伴う電力ロスにより大
気圧下でのグロー放電プラズマの発生が不安定になりや
すいという問題があった。

【０００５】本発明は上記のような実情に鑑みてなされ
たもので、装置全体の小型化、多種多様な被処理物に対
する適用性の拡充及び生産プロセスのインラインへの組
込みの容易性を図ることができるだけでなく、電極部の
構成が簡単で製作コストの大幅な低減を達成できるとと
もに、異常放電による電力ロスを無くし大気圧下でも常
に安定したグロー放電プラズマを発生させて所定の表面
処理を確実、かつ効率よく行なうことができるプラズマ
処理装置を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るプラズマ処理装置は、高圧電極と接地
電極との間に形成される放電部に少なくともヘリウムま
たは水素を含む不活性ガスと酸素または含フッ素化合物
（フルオロカーボン系）ガスを含む反応性気体との混合
反応ガスを大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で導入し通
過させるとともに上記両電極に高周波電圧を印加するこ
とにより、上記放電部にグロー放電プラズマを発生させ
て該プラズマにより生成される化学的に活性な励起種を
含むガス流を上記放電部の下流側に設けた吹出し部から
被処理物の表面に噴出するように構成されているプラズ
マ処理装置であって、上記高圧電極が中実帯板状に形成
されているとともに、この帯板状高圧電極の厚み方向の
両側にそれぞれ絶縁体を挟んで上記接地電極が対向配置
され、上記帯板状高圧電極の中実内部にはその長手方向
に沿わせて上記反応ガスの供給通路が形成されていると
ともに、該帯板状高圧電極の厚み方向の両側面にはそれ
ぞれ、上記反応ガス供給通路に連通接続する複数個のス
リット状ガス吹出し穴が上記長手方向に沿って断片的に
形成され、かつ、上記厚み方向の両側面のスリット状ガ
ス吹出し穴が上記長手方向に沿い互い違いに位置するよ
うに配置されており、これら複数個のスリット状ガス吹
出し穴により構成される上記吹出し部から上記励起種を
含むガス流を被処理物表面に対して略直線状に噴出可能
に構成していることを特徴とするものである。

【０００７】上記構成の本発明によれば、単一の中実帯
板状の高圧電極を用いて、その中実内部への孔明け加工
及びその厚み方向の両側面へのスリット加工という汎用
の加工手段によって反応ガス供給通路及びガス吹出し穴
を簡単に形成することが可能である上、該高圧電極の厚
み方向の両側に絶縁体を挟んで接地電極を重ね合わせる
という非常に簡易な組立手段をもって反応ガス供給機能
及び略直線状のガス流噴出機能を備えた電極部を構成す
ることが可能である。これによって、低圧グロー放電プ
ラズマによる処理装置に比べて装置全体の小型化、面積
や厚み、形状などが多種多様な被処理物に対する適用性
の拡充及び生産プロセスのインラインへの組込みの容易
性はもちろん、箱状放電部内に二重ダクト構造の反応ガ
ス供給通路を形成するとともに細板状の一対の高圧電極
と接地電極とを複数対向配置してそれら電極間に筒状放
電空間を形成してなる従来より提案の大気圧プラズマ処
理装置に比べて、電極部全体の構成が非常に簡単で、製
作コストの大幅な低減が図れる。また、スパークやアー
ク放電などの異常放電に伴う電力ロスが生じにくい構成
であるから、大気圧下でのグロー放電プラズマの発生を
安定化しやすく、プラズマによる所定の表面処理を常に
適正かつ効率よく行なわせることが可能である。

【０００８】上述のように動作するプラズマ処理装置に
おいて、請求項２に記載のように、上記帯板状高圧電極
の中実内部に上記反応ガス供給通路に並行して冷却水の
循環用通路を形成する場合は、二重ダクトなど特別な構
成を採用しなくても、反応ガス供給通路の場合と同様に
孔明け加工によって冷却水循環用通路を高圧電極自体に
形成することが可能で、電極部構成を簡単にして製作コ
ストの低減を図りつつ、長時間に亘って表面処理を行な
う時の高圧電極の過熱を防いで所定の表面処理を連続的
に効率よく実行することが可能である。

【０００９】また、上記構成のプラズマ処理装置におい
て、請求項３に記載のように、上記中実帯板状高圧電極
のうち、厚み方向の両側面に上記複数個のスリット状ガ
ス吹出し穴が形成されている部分は、その両側面が上記
吹出し部に近付くにつれて互いに接近するような傾斜面
を持つ略三角形状に形成する場合は、厚み方向の両側面
に形成されているスリット状ガス吹出し穴同士を可能な
限り相互に近接させてこれら穴から噴出されるガス流の
直線度を高めることができるだけでなく、両傾斜面に沿
わせて絶縁体を配置することで高圧電極の露出をなくす
る、または非常に少なくすることが可能であるため、両
電極間に形成される放電部とカバーケーシングとの間で
のスパーク等の異常放電に伴う電力ロスを抑制し、大気
圧下でのグロー放電プラズマの発生を安定化させて所定
の表面処理を一層適正に、かつ効率的に行なうことがで
きる。

【００１０】また、上記構成のプラズマ処理装置におい
て、請求項４に記載のように、上記中実帯板状高圧電極
の厚み方向の両側面に形成された複数個のスリット状ガ
ス吹出し穴を、上記長手方向に沿い互い違いに位置する
スリット状ガス吹出し穴の一部が互いにラップするよう
に配置させる構成を採用する場合は、噴出ガス流を一直
線状に確実に形成させ被処理物の表面全域をもれなく均
一に処理することができる。

【００１１】さらに、上記構成のプラズマ処理装置にお
いて、請求項５に記載のように、上記高圧電極、接地電
極及び絶縁体を包囲するカバーケーシング内に整合器を
一体に組み込んだ構成とする場合は、整合器と電極の給
電端子とを電気的にも物理的にも直付けすることが可能
で、特に、高周波（１００ＫＨｚ以上）高電力使用態様
での電力ロスを低減しプラズマ処理の安定化が図れると
ともに、両者間に亘る接続用配線が外部に露出すること
による他物との引掛りなどのトラブル発生を防止でき、
かつ、装置全体をコンパクトに一体化してロボットへの
装着使用も可能となるといったように、該プラズマ処理
装置の使用形態に自由性を持たせることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
にもとづいて説明する。図１は本発明に係るプラズマ処
理装置の第１の実施形態を示す側面図、図２はその底面
図、図３は図１のＡ−Ａ線に沿った縦断正面図、図４は
図２のＢ−Ｂ線に沿った縦断側面図である。

【００１３】この第１の実施形態における大気圧プラズ
マ処理装置２０は、基本的に、中実帯板状に形成された
高圧電極１と、この高圧電極１の厚み方向の両側にそれ
ぞれ帯状の絶縁体２，２を挟んで対向配置することで上
記高圧電極１に対し電気的に隔離してアース接地された
一対の帯板状の接地電極３，３と、これら高圧電極１、
接地電極３，３及び絶縁物２，２のうち、上記高圧電極
１と接地電極３，３との間に形成される放電部１５，１
５を除く全体を包囲するように角Ｕ字形状に形成された
アルミニウム製等のカバーケーシング４とからなる。

【００１４】上記高圧電極１の中実内部には、図４に示
すように、電極長手方向の全長に亘る孔明け加工及びそ
の孔両端部への栓５の圧入固定（図５参照）によってヘ
リウムガスまたは水素を含む不活性ガスと酸素または含
フッ素化合物（フルオロカーボン系）ガスを含む反応性
気体との混合反応ガスを大気圧下で供給する反応ガス供
給通路６が電極長手方向に沿わせて形成されているとと
もに、該反応ガス供給通路６よりも上部の中実内部に
は、電極長手方向の全長に亘る孔明け加工及びその孔両
端部への栓７の圧入固定（図５参照）によって上記反応
ガス供給通路６に並行する状態の冷却水循環用通路８が
形成されており、かつ、上記高圧電極１の帯幅方向の一
端側（上端側）には給電端子９が設けられている。

【００１５】また、上記中実帯板状の高圧電極１の厚み
方向の両側面１ａ，１ｂで、その帯幅方向の他端側（下
端側）にはそれぞれ、図５に明示するように、略半円形
状の複数個のスリット状ガス吹出し穴１０ａ…，１０ｂ
…が電極長手方向に沿って断片的に形成されている。中
実帯板状の高圧電極１の厚み方向の一側面１ａに形成さ
れたスリット状ガス吹出し穴１０ａ…と厚み方向の他側
面１ｂに形成されたスリット状ガス吹出し穴１０ｂ…と
は上記電極長手方向に沿って互い違いに位置し、かつ、
それら互い違いに位置するスリット状ガス吹出し穴１０
ａ，１０ｂの一部が互いにラップするように配置されて
いるとともに、それぞれ細孔１１ａ…，１１ｂ…を介し
て上記反応ガス供給通路６に連通接続されており、これ
ら複数個のスリット状ガス吹出し穴１０ａ…，１０ｂ…
により上記放電部１５，１５でのグロー放電プラズマの
発生に伴い生成される化学的に活性な励起種を含むガス
流（以下、プラズマフレアと称するものも含む）を被処
理物の表面に対して略直線状に噴出可能な吹出し部１０
が構成されている。

【００１６】なお、図１中の１２は、上記カバーケーシ
ング４の長手方向の両端に上下位置調整可能に装着され
た大気圧プラズマ処理装置２０の設置用ブラケットであ
る。また、図１の仮想線で示すように、大気圧プラズマ
処理装置２０における吹出し部１０から被処理物の表面
に噴出されて反応した後の排気ガスを回収する排気ダク
ト１６などを設置する場合は、作業環境を良好に保てる
だけでなく、不活性ガスの再生使用も可能である。ま
た、この第１の実施形態による大気圧プラズマ処理装置
２０において、高圧電極１の表面に、例えばテフロン系
の絶縁テープを貼って該電極１の露出を少なくしてもよ
い。

【００１７】次に、上記のように構成された第１の実施
形態による大気圧プラズマ処理装置２０の使用形態及び
動作について説明する。図６に示すように、被処理物の
一例であるＰＴＦＥなどの樹脂シート材１３を水平姿勢
に載置して連続搬送可能なコンベア１４の搬送経路中間
位置の上部に大気圧プラズマ処理装置２０を横断状態に
設置固定して使用される。そして、上記コンベア１４に
よって樹脂シート材１３を水平搬送させつつ、大気圧も
しくは大気圧近傍（弱減圧または弱加圧）圧力下で上記
反応ガス供給通路６に反応ガスを供給し、この反応ガス
を複数個の細孔１１ａ…，１１ｂ…及びスリット状ガス
吹出し穴１０ａ…，１０ｂ…を通して高圧電極１と接地
電極３，３との間に形成される放電部１５，１５に導入
するとともに上記高圧電極１に高周波電圧（１０ＫＨｚ
〜５００ＭＨｚ）を印加することによって、上記放電部
１５，１５に大気圧下でグロー放電プラズマを発生さ
せ、該プラズマにより生成されるイオン、ラジカルなど
の化学的に活性な励起種を含む反応性ガス流、すなわ
ち、プラズマフレアを上記複数個のスリット状ガス吹出
し穴１０ａ…，１０ｂ…により構成される吹出し部１０
から樹脂シート材１３の表面に向け略直線状に噴出させ
ることによって、該樹脂シート材１３の表面を親水性に
改質して樹脂シート材１３に対する塗料やインクののり
具合や接着性を著しく改善することができる。

【００１８】以上のような表面処理動作を行なうプラズ
処理装置２０を構成するに際して、本発明では、単一の
中実帯板状の高圧電極１を用い、その中実内部への孔明
け加工及びその厚み方向の両側面へのスリット加工とい
う汎用の加工手段により反応ガス供給通路６及びガス吹
出し穴１０ａ…，１０ｂ…を簡単に形成することが可能
であるとともに、該高圧電極１の厚み方向の両側に絶縁
体２，２を挟んで接地電極３，３を重ね合わせるという
非常に簡易な組立手段をもって電極部を構成することが
可能となり、このように電極部全体の構成が非常に簡単
であることから、製作コストの大幅な低減が図れる。ま
た、もしくは大気圧近傍圧力下においてもスパークやア
ーク放電などの異常放電に伴う電力ロスが生じにくい構
成であるから、放電部１５，１５に安定よくグロー放電
プラズマを発生させてプラズマによる所定の表面処理を
常に適正かつ効率よく行なわせることができる。

【００１９】特に、帯板状高圧電極１の中実内部への孔
明け加工によって上記反応ガス供給通路６に並行して冷
却水の循環用通路８が形成されているので、電極部構成
を簡単にして製作コスト低減効果を保ちつつも、長時間
に亘って表面処理を行なう時の高圧電極１の過熱を防い
で連続処理による効率向上を図ることができる。

【００２０】また、上記中実帯板状高圧電極１の厚み方
向の両側面１ａ，１ｂに形成された複数個のスリット状
ガス吹出し穴１０ａ…，１０ｂ…を電極長手方向で隣接
するスリット状ガス吹出し穴１０ａ，１０ｂの一部が互
いにラップするように配置形成しているので、噴出プラ
ズマフレアを途切れなく確実に一直線状として被処理物
である樹脂シート材１３の表面全域をもれなく均一に親
水性に改質処理することができる。

【００２１】図７〜図９は本発明に係るプラズマ処理装
置の第２の実施形態を示す一部切欠き側面図、一部破断
の底面図及び一部を省略した正面図であり、この第２の
実施形態における大気圧プラズマ処理装置３０の基本的
な構成は、上記第１の実施形態と同様に、中実帯板状の
高圧電極１と、この高圧電極１の厚み方向の両側にそれ
ぞれ帯状の絶縁体２，２を挟んで対向配置された一対の
帯板状の接地電極３，３と、これら高圧電極１、接地電
極３，３及び絶縁体２，２のうち高圧電極１と接地電極
３，３との間に形成される放電部１５，１５を除く全体
を包囲するように角Ｕ字形状に形成されたアルミニウム
製等のカバーケーシング４とからなり、その他の構成で
上記第１の実施形態と同一もしくは相当部分には同一の
符号を付してそれらの詳しい説明を省略し、以下、相違
点のみについて説明する。

【００２２】この第２の実施形態においては、高圧電極
１の形状及びプラズマフレア吹出し部１０の構成が第１
の実施形態とは相違する。すなわち、中実帯板状の高圧
電極１の帯幅方向の一端側部分１Ａが下方を頂点とする
略二等辺三角形状に形成されており、この略二等辺三角
形状部分１Ａの両傾斜面１Ａａ，１Ａｂそれぞれに、略
半円形状の複数個のスリット状ガス吹出し穴１０ａ…，
１０ｂ…が電極長手方向に沿って断片的に、かつ、両傾
斜面１Ａａ，１Ａｂのスリット状ガス吹出し穴１０ａ
…，１０ｂ…が電極長手方向に沿い互い違いに位置し、
また、それら互い違いに位置するスリット状ガス吹出し
穴１０ａ，１０ｂの一部が互いにラップするように配置
して形成されている。また、上記高圧電極１の形状変更
に関連して上記略二等辺三角形状部分１Ａの両傾斜面１
Ａａ，１Ａｂに沿わせても傾斜絶縁体２´，２´が配置
されており、これによって高圧電極１の露出を非常に少
なくしている。さらに、この第２の実施形態では、整合
回路を構成するため、給電端子９から高圧電極１に至る
給電経路に高周波電圧を任意に調整可能とするバリコン
１７及びコイル１８が設けられており、整合器と一体化
されている。

【００２３】上記のような構成の第２の実施形態による
大気圧プラズマ処理装置３０の使用形態及び動作も基本
的には上記第１の実施形態による大気圧プラズマ処理装
置２０と同様であるが、それに加えて、該第２の実施形
態による大気圧プラズマ処理装置３０の場合は、略二等
辺三角形状部分１Ａの両傾斜面１Ａａ，１Ａｂに形成さ
れているスリット状ガス吹出し穴１０ａ…，１０ｂ…同
士を可能な限り近接させてこれら穴１０ａ…，１０ｂ…
から噴出されるプラズマフレアの直線度を高めることが
できるだけでなく、両傾斜面１Ａａ，１Ａｂに沿わせて
絶縁体２´，２´を配置することで高圧電極１の露出を
なくする、または非常に少なくすることが可能であるた
め、接地電極３との間に形成される放電部１５，１５と
カバーケーシング４との間でのスパーク等の異常放電に
伴う電力ロスを抑制し、大気圧下でのグロー放電プラズ
マの発生をより安定化させて所定の表面処理を一層適正
に、かつ効率的に行なうことができる。

【００２４】なお、上記第２の実施形態で説明している
ように、カバーケーシング４内に図示省略している高周
波電源と高圧電極１とのマッチングのための整合器を一
体に組込んだ構成とする場合は、整合器と電極１の給電
端子９とを電気的にも物理的にも直付けすることが可能
で、特に、高周波（１００ＫＨｚ以上）高電力使用態様
での電力ロスを低減しプラズマ処理の安定化が図れると
ともに、両者間に亘る接続用配線が外部に露出すること
による他物との引掛りや電波漏洩などのトラブル発生を
防止でき、かつ、装置全体を一層コンパクトに一体化し
てロボットへの装着使用も可能となるといったように、
該プラズマ処理装置の使用形態の自由度を広げることが
できる。

【００２５】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、大気圧
もしくは大気圧近傍の圧力下でも安定なグロー放電プラ
ズマを発生させることができるとともに、このプラズマ
により生成される化学的に活性な励起種を含むガス流を
被処理物の表面に向けて噴出させて所定の処理を行なう
ことが可能であるから、低圧グロー放電プラズマによる
処理装置に比べて、装置全体の著しい小型軽量化および
低コスト化、面積や厚み、形状などが多種多様な被処理
物に対する適用性の拡充及び生産プロセスのインライン
への組込みの容易性を図ることができるのはもとより、
ガス流を被処理物の表面に向けて噴出させる形態のもの
として従来より既に提案されている大気圧プラズマ処理
装置に比べても、電極部全体の構成が非常に簡単で、製
作コストを大幅に低減することができる。しかも、スパ
ークやアーク放電などの異常放電に伴う電力ロスが生じ
にくい構成であるから、大気圧下でのグロー放電プラズ
マの発生を安定化しやすく、プラズマによる所定の表面
処理を常に適正かつ効率よく行なわせることができると
いう効果を奏する。

【００２６】また、請求項２に記載のような構成を採用
することにより上記効果に加えて、長時間に亘って表面
処理を行なう時の高圧電極の過熱を防いで所定の表面処
理を連続的に効率よく実行することができ、また、請求
項３に記載のような構成を採用することにより噴出され
るガス流の直線度を高めることができるだけでなく、高
圧電極の露出をなくする、または非常に少なくすること
ができ、放電部とカバーケーシングとの間でのスパーク
等の異常放電に伴う電力ロスを抑制し、大気圧下でのグ
ロー放電プラズマの発生をより安定化させて所定の表面
処理を一層適正に、かつ効率的に行なうことができる。

【００２７】さらに、上記構成のプラズマ処理装置にお
いて、請求項４に記載のような構成を採用する場合は、
噴出ガス流を途切れなく確実に一直線状として被処理物
の表面全域をもれなく均一に処理することができ、さら
にまた、請求項５に記載のように、カバーケーシング内
に整合器を一体に組み込んだ構成とする場合は、整合器
と電極の給電端子とを電気的にも物理的にも直付けする
ことが可能で、特に、高周波（１００ＫＨｚ以上）高電
力使用態様での電力ロスを低減しプラズマ処理の安定化
が図れるとともに、両者間に亘る接続用配線が外部に露
出することによる他物との引掛りや電波漏洩などのトラ
ブル発生を防止でき、かつ、装置全体をコンパクトに一
体化してロボットへの装着使用も可能となるといったよ
うに、該プラズマ処理装置の使用形態に自由性を持たせ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るプラズマ処理装置の第１の実施形
態による大気圧プラズマ装置の側面図である。

【図２】図１の底面図である。

【図３】図１のＡ−Ａ線に沿った縦断正面図である。

【図４】図２のＢ−Ｂ線に沿った縦断側面図である。

【図５】第１の実施形態による大気圧プラズマ処理装置
における電極の要部拡大斜視図である。

【図６】同上大気圧プラズマ処理装置の使用形態を示す
概略斜視図である。

【図７】本発明に係るプラズマ処理装置の第２の実施形
態による大気圧プラズマ処理装置の一部切欠き側面図で
ある。

【図８】同上大気圧プラズマ処理装置の一部破断の底面
図である。

【図９】同上大気圧プラズマ処理装置の一部を省略した
正面図である。

【符号の説明】

１ 高圧電極１ａ，１ｂ 高圧電極の両側面 １Ａ 三角形状部分 ２，２´ 絶縁体 ３ 接地電極 ４ カバーケーシング ６ 反応ガス供給通路 ８ 冷却水循環用通路 １０ ガス流吹出し部 １０ａ，１０ｂ スリット状ガス吹出し穴 １３ 樹脂シート材（被処理物） １５ 放電部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C08J 7/00 - 7/00 306 H05H 1/24

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高圧電極と接地電極との間に形成される
   放電部に少なくともヘリウムまたは水素を含む不活性ガ
   スと酸素または含フッ素化合物（フルオロカーボン系）
   ガスを含む反応性気体との混合反応ガスを大気圧もしく
   は大気圧近傍圧力下で導入し通過させるとともに上記両
   電極に高周波電圧を印加することにより、上記放電部に
   グロー放電プラズマを発生させて該プラズマにより生成
   される化学的に活性な励起種を含むガス流を上記放電部
   の下流側に設けた吹出し部から被処理物の表面に噴出す
   るように構成されているプラズマ処理装置であって、 上記高圧電極が中実帯板状に形成されているとともに、
   この帯板状高圧電極の厚み方向の両側にそれぞれ絶縁体
   を挟んで上記接地電極が対向配置され、 上記帯板状高圧電極の中実内部にはその長手方向に沿わ
   せて上記反応ガスの供給通路が形成されているととも
   に、該帯板状高圧電極の厚み方向の両側面にはそれぞ
   れ、上記反応ガス供給通路に連通接続する複数個のスリ
   ット状ガス吹出し穴が上記長手方向に沿って断片的に形
   成され、かつ、上記厚み方向の両側面のスリット状ガス
   吹出し穴が上記長手方向に沿い互い違いに位置するよう
   に配置されており、 これら複数個のスリット状ガス吹出し穴により構成され
   る上記吹出し部から上記励起種を含むガス流を被処理物
   表面に対して略直線状に噴出可能に構成していることを
   特徴とするプラズマ処理装置。
2. 【請求項２】 上記帯板状高圧電極の中実内部に、上記
   反応ガス供給通路に並行して冷却水の循環用通路が形成
   されている請求項１に記載のプラズマ処理装置。
3. 【請求項３】 上記中実帯板状高圧電極のうち、厚み方
   向の両側面に上記複数個のスリット状ガス吹出し穴が形
   成されている部分は、その両側面が上記吹出し部に近付
   くにつれて互いに接近するような傾斜面を持つ略三角形
   状に形成されている請求項１または２に記載のプラズマ
   処理装置。
4. 【請求項４】 上記中実帯板状高圧電極の厚み方向の両
   側面に形成された複数個のスリット状ガス吹出し穴は、
   上記長手方向に沿い互い違いに位置するスリット状ガス
   吹出し穴の一部が互いにラップするように配置されてい
   る請求項１、２または３に記載のプラズマ処理装置。
5. 【請求項５】 上記高圧電極、接地電極及び絶縁体を包
   囲するカバーケーシング内には、整合器が一体に組み込
   まれている請求項１ないし４のいずれかに記載のプラズ
   マ処理装置。