JP3984609B2 - プラズマ処理装置の電極構造 - Google Patents

Description

この発明は、プラズマ処理装置の電極構造に関し、特に常圧下でプラズマ表面処理を行なうのに適した電極構造に関する。

例えば、特許文献１には常圧プラズマ処理装置が記載されている。この装置は、常圧環境に配置された上下一対の電極を備えている。これら電極間に電界が印加されるとともに処理ガスが導入される。これにより、グロー状の放電が起き、処理ガスがプラズマ化され、被処理物のプラズマ表面処理が常圧下で行なわれるようになっている。一方、電界印加によってアークが立つおそれがある。特に常圧下ではそのおそれが高い。そこで、下側電極の導電金属からなる電極本体の上面には、例えば石英ガラスからなる固体誘電体の板が設置されている。これによって、アークを防止でき、ひいては被処理物の損傷を防止できる。

特許第３０４０３５８号公報（第８図、第７頁）

上掲特許文献の固体誘電体板は、電極本体の上に単に載せただけであるので、不安定である。

上記問題点を解決するために、本発明に係るプラズマ処理装置の電極構造は、１の電極と、この１の電極の他の電極との対向面を覆う固体誘電体の板と、この固体誘電体板を支持する板支持部材とを備え、前記固体誘電体板の縁面が、前記他の電極側から前記１の電極側へ向かうにしたがって前記板支持部材の側へ突出するように傾斜され、前記板支持部材には、前記固体誘電体板の縁部を嵌め込む断面レ字状の溝が形成されていることを特徴とする。これによって、固体誘電体板を簡単に支持できる。
前記板支持部材が、前記１の電極の両側部に一対設けられ、これら板支持部材が、前記固体誘電体板の両縁部を支持していることが望ましい。

前記１の電極を含む電極本体部を有し、前記板支持部材が、前記電極本体部に前記対向方向へスライド可能かつ固定可能に設けられているのが望ましい。これによって、板支持部材を前記１の電極の側へスライドさせることによって固体誘電体板を前記１の電極に単に当てるに止まらず押し当てることができ、そうしながら板支持部材を電極本体部に固定することにより固体誘電体板の電極への押し当て状態を維持できる。これによって、固体誘電体板と電極との間に隙間が出来るのを確実に防止でき、ひいては固体誘電体板と電極との間でアークが発生するのを確実に防止することができる。

前記電極本体部と板支持部材の一方には、前記対向方向に延びるガイド溝が形成され、他方には、前記ガイド溝にスライド可能に嵌合する嵌合凸部が設けられていることが望ましい。
これによって、スライド構成を簡単化できる。

前記電極本体部と板支持部材がネジ部材により固定され、前記板支持部材のネジ部材を通す孔が、前記対向方向に長軸を向けた長孔であることが望ましい。
これによって、各構成部材の製造誤差などに関わらず、固体誘電体板を電極に押し当てた状態で、ネジ部材を板支持部材の長孔を通して電極本体部のネジ孔に確実にねじ込むことができ、板支持部材を電極本体部に確実かつ簡単に固定できる。

ネジ部材が、前記板支持部材を通して前記電極本体部の孔無しの部位にねじ込まれることにより、前記電極本体部と板支持部材が固定されるようにしてもよい。
これによって、各構成部材の製造誤差などに関わらず、固体誘電体板を電極に押し当てた状態で、ネジ部材を電極本体部の孔無しの部位にねじ込むことにより、板支持部材を電極本体部に確実かつ簡単に固定できる。

前記板支持部材が、前記電極本体部の両側部に一対設けられ、これら板支持部材が、前記固体誘電体板の両縁部を支持していることが望ましい。
これによって、板支持部材を電極本体部に安定的に設置できるとともに、固体誘電体板を安定的に支持できる。

一方の板支持部材の電極本体部とは逆の外側面が、電極間空間への処理ガスの導入路の画成面として提供されるとともに、他方の板支持部材の外側面が、電極間空間からのガスの導出路の画成面として提供され、これら板支持部材の外側面と他の電極側の面との角がＲ取りされ、さらに、板支持部材の他の電極側の面が、固体誘電体板の他の電極側の面と面一に連なっていることが望ましい。
これによって、処理ガスを導入部から電極間空間へスムーズに送り込むことができ、処理済みのガスを電極間空間から導出部へスムーズに流出させることができる。また、前記固体誘電体板の傾斜縁面付きの縁部を前記固体誘電体板の断面レ字状溝に嵌めた構成との組み合わせによって、固体誘電体板の縁面での異常放電を防止できることも確認できた。

本発明の電極構造は、電極間空間が略常圧であり、この略常圧の電極間空間に被処理物が配され、プラズマ処理が行なわれる所謂ダイレクト式の常圧プラズマ処理装置において、特に効果的である。
本発明における略常圧（大気圧近傍の圧力）とは、１．３３３×１０⁴〜１０．６６４
×１０⁴Ｐａの範囲を言う。特に９．３３１×１０⁴〜１０．３９７×１０⁴Ｐａの範囲は
、圧力調整が容易で装置構成が簡便になり、好ましい。

本発明によれば、固体誘電体板を板支持部材にて確実に支持できる。

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る常圧プラズマ処理装置Ｍ１を模式的に示したものである。装置Ｍ１は、上下に対をなす電極ユニット１０，２０と、ガス給排機構３０と、送り機構６０を備えている。上側のユニット１０の電極１１（図３）は、給電線４１を介して電界印加手段４０に接続され、下側ユニット２０の他の電極２１（図１０）は、接地線４２を介して接地されている。電界印加手段４０は、例えばパルス状の電圧を出力する。これにより電極ユニット１０，２０間の略常圧の電極間空間１ａが、プラズマ空間になる。このプラズマ空間１ａにガス給排機構３０によって処理ガスが導入され、プラズマ化される。そして、送り機構６０によって上側ユニット１０が、下側のユニット２０上のワークＷ（被処理物）をスキャンするように前後に水平移動される。（プラズマ空間１ａ内にワークＷが通される。）これによって、ワークＷのプラズマ表面処理が行なわれるように
なっている。勿論、送り機構は、ワークＷを移動させるようになっていてもよい。

図１および図１０に示すように、下側の接地電極ユニット２０の前記接地電極２１は、大きな平板状をなしている。接地電極２１の上面には、固体誘電体層２３が溶射にて被膜されている。

図１〜図３に示すように、上側の電界印加電極ユニット１０は、送り機構６０の送り方向すなわち前後方向に沿って４つ（複数）並べられている。各電極ユニット１０は、前記電界印加電極１１と、この電極１１のためのホルダ１２を備え、前記並び方向と直交する左右方向に長く延びている。
電極１１とホルダ１２とによって、「電極本体部」が構成されている。

電界印加電極１１は、ステンレスやアルミニウムなどの導電金属によって左右に細長い板状に形成されている。電極１１の前後方向に沿う幅は、０．１ｍｍ〜５０ｍｍであることが望ましい。５０ｍｍを超えると活性度の維持が難しく処理効率が低下することとなり、０．１ｍｍ未満だと異常放電を起こしやすくなる。４０ｍｍ以下１０ｍｍ以上であることがより望ましい。

なお、前後両端の電極１１は、相対的に幅広になり、内側の２つの電極１１は、相対的に幅狭になっている。ひいては、前後両端の電極ユニット１０は、相対的に幅広になり、内側の２つの電極ユニット１０は、相対的に幅狭になっている。
前記電界印加手段４０からの給電線４１は、各ユニット１０の電極１１にそれぞれ分岐して接続されている（図１参照）。

絶縁樹脂製のホルダ１２は、下面の開口された細長箱状をなして左右に延びている。ホルダ１２の前後の側面には、それぞれサイドプレート１４（板支持部材）が設けられ、左右端面には、それぞれエンドキャップ１５が設けられている。図３および図４に示すように、ホルダ１２内に、電極１１が収容されている。電極１１の露出された下面（接地電極２１との対向面）は、ホルダ１２の前後の下端面と面一をなしている。これら電極１１およびホルダ１２の下面に、例えば石英ガラスからなる固体誘電体板１３が当てられている。この固体誘電体板１３によって、プラズマ空間１ａでのアーク放電が防止されるようになっている。

図３および図９に示すように、ホルダ１２の前後のサイドプレート１４の外側面と上下の縁面との角は、それぞれＲ取りされている。サイドプレート１４の下側の縁面は、固体誘電体板１３の下面と面一に連なっている。

図４および図１０に示すように、ホルダ１２の左右両端の下端部には、ボトムホルダ１６がボルト９４にて取り付けられている。ボトムホルダ１６の下端面は、固体誘電体板１３より下に突出されている。このボトムホルダ１６の下端部には、左右内側へ向けて突出する凸片１６ａが形成されている。この凸片１６ａが、電極１１と協働して固体誘電体板１３の左右端部を挟み付け、支持している。
固体誘電体板１３の支持構造などに関する構成は、本発明の要旨を含むものであるので、追って更に詳述する。

図１０に示すように、ボトムホルダ１６の下端突出部と、接地電極ユニット２０との間の隙間は、非常に狭くなっている。これにより、そこから外気がプラズマ空間１ａ内へ入り込んだり、プラズマ空間１ａ内の処理ガスが外に漏れたりするのを抑制できるようになっている。

図２および図３に示すように、前後に並べられた４つの電極ユニット１０は、支持フレーム７０によって連ねられている。また、これら電極ユニット１０の前後外側には、電極ユニット１０と略同一形状の樹脂からなる擬似ユニット１９が設けられている。支持フレーム７０は、この擬似ユニット１９をも連ねている。これらユニット１０，１９とフレーム７０によって、電極装置１０Ｘが構成されている。前後に隣り合うユニット１０，１９どうしの間には、それぞれ隙間１０ａが形成されている。（すなわち、電極ユニット１０の前後のサイドプレート１４は、隙間１０ａを画成している。）

図２および図３に示すように、支持フレーム７０は、電極ユニット１０の左右両端部において前後方向に延びる棒状の上下一対のフレーム部材７１，７２を有している。上下のフレーム部材７１，７２の端部どうしは、短い角柱状のエンドブロック７３によって連ねられている。

左右の上フレーム部材７１の中間部は、左右に延びる梁部材７９によって連ねられている。この梁部材７９が、前記送り機構６０によって前後動されることにより、電極装置１０Ｘ全体が前後に送られるようになっている。

下側のフレーム部材７２は、６つのユニット１０，１９を串刺し状に貫いている。これによって、ユニット１０，１９がフレーム７０に支持されている。すなわち、図４および図５に示すように、各ユニット１０のホルダ１２とエンドキャップ１５の合せ面には、それぞれ凹部１２ｄ，１５ｄが形成され、これら凹部１２ｄ，１５ｄによって画成された貫通孔１１ｄにフレーム部材７２が通されている。
なお、擬似ユニット１９の左右両端部についても同様に構成されている。

ホルダ１２とエンドキャップ１５を接合するボルト９２を緩めることによって、ユニット１０，１９が、フレーム部材７２に沿って前後に位置調節可能になっている。これによって、隣り合うユニット１０，１９どうしの隙間１０ａが拡縮可能になっている。更には、エンドキャップ１５を外すことにより、ユニット１０，１９が、フレーム７０から取り外し可能になっている。

次に、常圧プラズマ処理装置Ｍ１のガス給排機構３０について説明する。
図１に示すように、常圧プラズマ処理装置Ｍ１のガス給排機構３０は、上側の電極ユニット１０に付設された二種類のユニット３１，５１と、処理ガス源３と、排気ポンプ５とを備えている。処理ガス源３からフレキシブルなガス供給管３ａが延び、これが分岐して３つ（複数）の吹出しユニット３１（処理ガス吹出し手段）にそれぞれ連なっている。２つ（複数）の吸込みユニット５１（ガス吸込み手段）からフレキシブルな排気管５ａがそれぞれ延び、これらが互いに合流して排気ポンプ５に連なっている。

図２および図３に示すように、吹出しユニット３１と吸込みユニット５１は、ユニット１０，１９の上側（接地電極２１側とは逆側の背部）において隙間１０ａにそれぞれ対応するように前後方向に交互に配置されている。各吹吸ユニット３１，５１は、隣り合うユニット１０，１９の上面間に跨っている。

すなわち、３つの吹出しユニット３１のうち両端の吹出しユニット３１は、それぞれ前後両端の幅広ユニット１０と擬似ユニット１９の上面間に跨るようにして配置されている。また、中央の吹出しユニット３１は、中央の２つの幅狭ユニット１０の上面間に跨るようにして配置されている。これら吹出しユニット３１に対応する隙間１０ａは、符号「１０ａ_１」にて示すことにする。

２つの吸込みユニット５１は、それぞれ前後両端の幅広ユニット１０とその隣りの幅狭
ユニット１０の上面間に跨るようにして配置されている。これら吸込みユニット５１に対応する隙間１０ａは、符号「１０ａ_２」にて示すことにする。

各吹出しユニット３１の具体構造を説明する。
図３、図５、図９に示すように、吹出しユニット３１は、左右に延びる二重のパイプ３３，３４と、この二重パイプ３３，３４を収容するケーシング３２とを有している。内パイプ３３の例えば右端部（一端部）に、前記ガス供給管３ａが接続されることにより、処理ガス源３の処理ガスが、管３ａを経てパイプ３３の内部に導入されるようになっている。内パイプ３３の上側部には、スポット状の小孔３３ａが長手方向に沿って短間隔置きに多数形成されている。処理ガスは、これら小孔３３ａを通って内外のパイプ３３，３４間の空間に入り込むようになっている。内パイプ３３は、外パイプ３４に対し上側に偏芯している。これにより、内外のパイプ３３，３４間の空間は、上側で狭く、下側で広くなっている。この空間を処理ガスが上から下に流れる。こうして、処理ガスが、左右長手方向に均一化されるようになっている。外パイプ３４の下側部には、略全長にわたるスリット３４ａが形成されている。このスリット３４ａが、上記の対応隙間１０ａ_１に連なっている。これにより、処理ガスが、スリット３４ａおよび対応隙間１０ａ_１を通り、プラズマ空間１ａへ吹出されるようになっている。

吹出しユニット対応隙間１０ａ_１は、「処理ガスの電極空間への導入路」として提供され、該隙間１０ａ_１を画成する電極サイドプレート１４の外側面（ホルダ１２とは逆側の面）は、「処理ガスの電極空間への導入路の画成面」として提供されている。

次に、吸込みユニット５１の具体構造を説明する。
図３、図６、図９に示すように、吸込みユニット５１は、左右に延びるケーシング５２と、このケーシング５２内を上下２つのチャンバー５２ａ，５２ｂに仕切る隔壁５３とを有している。ケーシング５２の底板５４には、略全長にわたるスリット５４ａが形成されている。このスリット５４ａを介して、下側のチャンバー５２ｂが、上記の対応隙間１０ａ_２に連なっている。隔壁５３には、左右に間隔を置いて複数の円孔５３ａが形成されている。この円孔５３ａを介して上下のチャンバー５２ａ，５２ｂが連なっている。ケーシング５２の天板の中央部には、上側のチャンバー５２ａに連なる排出筒５４が設けられている。この排出筒５４に前記排気ポンプ５への排気管５ａが接続されている。排気ポンプ５を駆動することにより、プラズマ空間１ａにおける処理済みのガス（処理により生じた副生成物を含む）が、長手方向に沿って均一に対応隙間１０ａ_２へ吸込まれ、ユニット５１のスリット５４ａ、下チャンバー５２ｂ、円孔５３ａ、上チャンバー５２ａ、および排出筒５４を順次経た後、管５ａを経て排気ポンプ５から排気されるようになっている。

吸込みユニット対応隙間１０ａ_２は、「電極間空間からのガスの導出路」として提供され、該隙間１０ａ_２を画成する電極サイドプレート１４の外側面は、「電極間空間からのガスの導出路の画成面」として提供されている。
したがって、各電極ユニット１０の前後両側のサイドプレート１４のうち一方のサイドプレート１４の外表面は、処理ガスのプラズマ空間１ａへの導入路の画成面として提供され、他方のサイドプレート１４の外表面は、プラズマ空間１ａからのガスの導出路の画成面として提供されている。

電極装置１０Ｘの両端の吹出しユニット３１からの処理ガスは、各ユニット３１の対応隙間１０ａ_１を経て、両端の幅広ユニット１０の下側の空間１ａを通ってプラズ化された後、該幅広ユニット１０の前後内側の隙間１０ａ_２から吸込みユニット５１に吸込まれるようになっている（図１の矢印参照）。また、中央の吹出しユニット３１からの処理ガスは、中央の隙間１０ａ_１を経て前後二手に分流し、前後２つの幅狭ユニット１０の下側の空間１ａを通ってプラズ化された後、それら幅狭ユニット１０の前後外側の隙間１０ａ_２
から吸込みユニット５１に吸込まれるようになっている（図１の矢印参照）。これによって、どのユニット１０の下側においても、大きな活性度を得ることのできる新鮮な処理ガスだけを流すことができ、プラズマ表面処理の効率を向上させることができる。

吹吸ユニット３１，５１のユニット１０，１９への取り付け構造について説明する。各ユニット３１，５１は、ユニット１０，１９に前後位置を調節可能かつ取り外し可能かつ配置換え可能に設けられている。

詳述すると、図２および図９に示すように、電極ユニット１０のホルダ１２の上面および擬似ユニット１９の上面には、ボルト孔１２ｅ，１９ｅがそれぞれ形成されている。一方、吹出しユニット３１のケーシング３２の前後両側部の底フランジには、挿通孔３２ａが形成されている。この挿通孔３２ａに通されたボルト９３が、ボルト孔１２ｅ，１９ｅにねじ込まれている。これによって、隣り合うユニット１０，１９どうしが、吹出しユニット３１を介して取り外し可能に固定されている。また、挿通孔３２ａは、長軸を前後方向へ向けた長孔になっている。これによって、ユニット１０，１９の前後位置を調節でき、ひいては隣り合うユニット１０，１９間の間隔（隙間１０ａ_１の幅）を調節できるようになっている。

さらに、ユニット１０の上面におけるボルト孔１２ｅは、吹出しユニット３１の取り付けられている側とは前後対称の位置にも設けられている。これによって、図９の仮想線で示すように、吸込みユニット５１の配置位置に、それに代えて吹出しユニット３１を取り付けることもできるようになっている。

なお、図３および図４に示すように、吹出しユニット３１の左右両端部は、上フレーム部材７１とユニット１０，１９との間に挟み付けられている。

図６に示すように、吸込みユニット５１の左右両端部には、板状の絶縁樹脂からなる挿入片５６が垂下されている。図２および図６に示すように、この挿入片５６が、隙間１０ａ_２の左右端部に差し入れられている。更に、図２、図５、図６に示すように、ユニット１０のサイドプレート１４の左右両端面と、エンドキャップ１５およびフレーム部材７２との間には、狭い隙間１０ｂが形成されている。この隙間１０ｂに挿入片５６の前後の側縁部が差し入れられている。そして、エンドキャップ１５のボルト締めにより、挿入片５６の側縁部が、エンドキャップ１５とサイドプレート１４とに挟み付けられている。これによって、隣り合うユニット１０どうしが、挿入片５６を介して固定されている。各吸込みユニット５１は、隙間１０ａ_２の幅調節を許容しつつユニット１０に固定可能になっている。また、挿入片５６によって隙間１０ａ_２の左右端部からの処理ガスの漏れや外の雰囲気の吸込みを防止できるようになっている。

なお、図２に示すように、挿入片５６用の隙間１０ｂは、吸込み対応隙間１０ａ_２にだけでなく吹出し対応隙間１０ａ_１にも設けられている。したがって、吹出しユニット３１の配置位置に、それに代えて吸込みユニット５１を取り付けることもできるようになっている。

本発明の最も特徴的な部分について説明する。
上述したように、各電極ユニット１０の下面には、固体誘電体板１３が設けられている。固体誘電体板１３は、電極１１とは別体をなして分離可能になるとともに、ホルダ１２の前後側面のサイドプレート１４によって支持されている。

固体誘電体板１３の支持構造について詳述する。図９に示すように、固体誘電体板１３の前後の縁面は、前後のサイドプレート１４へ向かって上に傾くように傾斜されている。
すなわち、下側（接地電極の側）から上側（電界印加電極の側）へ向かうにしたがってサイドプレート１４の側へ突出するように傾斜されている。これにより、固体誘電体板１３の前後縁部は、ナイフエッジ状に尖り、ナイフエッジ部１３ｃを形成している。

一方、前後のサイドプレート１４の内側面の下端部には、それぞれ断面レ字状の凹溝１４ｃが形成されている。この凹溝１４ｃに固体誘電体板１３のナイフエッジ部１３ｃが挿し入れられている。これによって、前後一対のサイドプレート１４により固体誘電体板１３の前後両縁が支持されている。

サイドプレート１４のホルダ１２への取り付け構造を説明する。図７および図９に示すように、ホルダ１２の前後側面には、上下に長い縦突起１２ａ（嵌合凸部）が設けられている。一方、図８および図９に示すように、サイドプレート１４の内側面には、上下に長い縦溝１４ａ（ガイド溝）が形成されている。この縦溝１４ａに縦突起１２ａが上下スライド可能に挿入されている。これにより、サイドプレート１４が、ホルダ１２に対し上下スライド可能になっている。

図８および図９に示すように、サイドプレート１４には、上下に延びる長孔状のボルト挿通孔１４ｂが形成されている。この孔１４ｂに通されたボルト９１（ネジ部材）が、ホルダ１２のネジ孔１２ｂにねじ込まれている。これによって、サイドプレート１４がホルダ１２に固定されている。

上記構成によれば、固体誘電体板１３のナイフエッジ部１３ｃをサイドプレート１４の断面レ字状の凹溝１４ｃに簡単に嵌め込むことができ、固体誘電体板１３の前後の縁を一対のサイドプレート１４で簡単に支持できる。

そして、ホルダ１２の縦突起１２ａとサイドプレート１４の縦溝１４ａのスライド嵌合を利用して、サイドプレート１４を押し上げることにより（図９の仮想線）、固体誘電体板１３を電極１１に単に当てるに止まらず押し当てることができる。この時、各構成部材に製造誤差などがあったとしても、サイドプレート１４の長孔１４ｂは、ホルダ１２のネジ孔１２ｂに確実に連通する。したがって、ボルト９１を、長孔１４を通してネジ孔１２ｂに簡単にねじ込むことができる。これによって、固体誘電体板１３を電極１１に押し当てた状態で、サイドプレート１４をホルダ１２に固定することができる。この結果、固体誘電体板１３と電極１１との間に隙間が出来るのを確実に防止でき、ひいては固体誘電体板１３と電極１１との間でアークが発生するのを確実に防止できる。

また、サイドプレート１４の上下の縁部がＲ取りされ、下端面が固体誘電体板１３と面一になることにより、処理ガスを隙間１０ａ_１からプラズマ空間１ａへスムーズに送り込むことができ、処理済みのガスを空間１ａから隙間１０ａ_２へスムーズに流出させることができる。

図１１は、サイドプレート１４のホルダ１２への固定手段の変形例を示したものである。
この変形例においても、サイドプレート１４とホルダ１２は、ボルト９５（ネジ部材）によって固定される。一方、サイドプレート１４のボルト９５挿通用の孔１４ｄは、長孔ではなく、通常の丸孔である。また、図１１（ａ）に示すように、サイドプレート１４を固定する前のホルダ１２には、ボルト９５用の孔がまったく形成されていない。

この変形例では、固体誘電体板１３を電極１１に押し当てた後、ボルト９５をサイドピレート１４の孔１４ｄを通してホルダ１２の前後側部（孔無しの部位）にねじ込む。これによって、図１１（ｂ）に示すように、各構成部材の製造誤差などに関わらす、固体誘電
体板１３の電極１１への押し当て状態を維持しながら、サイドプレート１４をホルダ１２に簡単に固定することができる。
ホルダ１２には、ボルト９５のねじ込みによってネジ孔１２ｇが形成されることになる。勿論、ホルダ１２は、ボルト９５をねじ込み可能な程度に軟質の樹脂にて構成され、ボルト９５は、ホルダ１２にねじ込み可能な程度に硬質の金属にて構成されている。

本発明は、前記実施形態に限定されず、種々の形態を採用可能である。
例えば、固体誘電体板１３の上面にアルミ箔などの導電体層を貼り付けておき、この導電体層が電極１１に押し当てられて導通するようにしてもよい。
電界印加電極（上側電極）に代えて、またはそれに加えて、接地電極（下側電極）に本発明を適用してもよい。
プラズマ処理装置の一対の電極を、円筒状電極と、この円筒状電極の円筒面に対応する部分円筒凹面を有する凹面電極とで構成し、この凹面電極に本発明を適用することもできる。この場合、固定誘電体板は、部分円筒凹面に対応する湾曲板形状をなす。
実施形態のように被処理物が電極間空間内に配置される所謂ダイレクト式の装置に限らず、被処理物が電極間空間の外に配置され、これに向けてプラズマ流を吹出す所謂リモート式の装置にも適用できる。
本発明は、略常圧下に限らず、減圧下でのプラズマ処理にも適用できる。
本発明は、洗浄、エッチング、成膜、表面改質、アッシング等の種々のプラズマ処理に遍く適用できる。

本発明の一実施形態に係る常圧プラズマ処理装置の基本構成を示す概略図である。 図３のII−II線に沿う前記常圧プラズマ処理装置の電界印加電極装置の平面図である。 図２のIII−III線に沿う前記電界印加電極装置の断面図である。 図３のIV−IV線に沿う前記電界印加電極装置の断面図である。 図３のV−V線に沿う前記電界印加電極装置の断面図である。 図３のVI−VI線に沿う前記電界印加電極装置の断面図である。 前記電界印加電極装置のホルダの前後側面の正面図である。 前記電界印加電極装置のサイドプレートのホルダ対向面の正面図である。 図３において電界印加電極装置の電極ユニットの１つを拡大して示す断面図である。 図４において電界印加電極ユニットの左端部を拡大して示す断面図である。 （ａ）サイドプレートのホルダへの固定手段の変形例を示し、これらを固定する前の状態の電界印加電極ユニットの断面図である。（ｂ）サイドプレートのホルダへの固定手段の変形例を示し、これらを固定した状態の電界印加電極ユニットの断面図である。

符号の説明

Ｍ１ 常圧プラズマ処理装置
Ｗ ワーク
１ａ プラズマ空間（電極間空間）
１０Ｘ 電界印加電極装置
１０ 電界印加電極ユニット
１０ａ_１ 吹出しユニット対応隙間（電極間空間への処理ガスの導入路）
１０ａ_２ 吸込みユニット対応隙間（電極間空間からのガスの導出路）
１１ 電界印加電極（１の電極、電極本体部の構成要素）
１２ ホルダ（電極本体部の構成要素）
１２ａ 縦突起（嵌合凸部）
１３ 固体誘電体板
１３ｃ ナイフエッジ部（固体誘電体板の傾斜された縁部）
１４ サイドプレート（板支持部材）
１４ａ 縦溝（ガイド溝）
１４ｂ 長孔
１４ｃ 凹溝（断面レ字状の溝）
２０ 接地電極ユニット
２１ 接地電極（他の電極）
９１ ボルト（長孔に通されるネジ部材）
９５ ボルト（電極本体部の孔無し部位にねじ込まれるネジ部材）

Claims (3)

1. １の電極と、この１の電極の他の電極との対向面を覆う固体誘電体の板と、前記１の電極の両側部に配置され、前記固体誘電体板を支持する一対の板支持部材とを備え、前記板支持部材が、前記他の電極との対向方向に沿ってスライド可能、かつ前記固体誘電体板を前記１の電極の前記対向面に当てた状態で前記１の電極に対し固定可能であることを特徴とするプラズマ処理装置の電極構造。
2. 前記板支持部材が、前記１の電極に対し側方からネジ部材によって固定されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置の電極構造。
3. 前記固体誘電体板の前記１の電極側の面に導電体層が設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置の電極構造。

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