JP2001054766A - 多段式洗浄槽 - Google Patents
多段式洗浄槽Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B30—PRESSES
- B30B—PRESSES IN GENERAL
- B30B1/00—Presses, using a press ram, characterised by the features of the drive therefor, pressure being transmitted directly, or through simple thrust or tension members only, to the press ram or platen
- B30B1/18—Presses, using a press ram, characterised by the features of the drive therefor, pressure being transmitted directly, or through simple thrust or tension members only, to the press ram or platen by screw means
-
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- B30B—PRESSES IN GENERAL
- B30B15/00—Details of, or accessories for, presses; Auxiliary measures in connection with pressing
- B30B15/04—Frames; Guides
- B30B15/047—C-shaped frames
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Press Drives And Press Lines (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多段式水洗槽とその構造
【構成】 洗浄水を供給するパイプをその内側に有する
第１の水洗槽と、第１の水洗槽に属する第１の仕切り板
の上をオーバーフローした洗浄水が流入する隣接して設
置された第２の水洗槽と、さらに下段へと同様に構成さ
れた清浄度の高い洗浄が順次可能となる多段式水洗槽で
あって、第２の水洗槽が流入領域と、洗浄領域とに第２
の仕切り板により隔てられ、その下側の貫通路から洗浄
水が貫流して流れ込み、洗浄槽の清浄度が均一になるよ
うに順次設置されていることを特徴とする多段式水洗
槽。
第１の水洗槽と、第１の水洗槽に属する第１の仕切り板
の上をオーバーフローした洗浄水が流入する隣接して設
置された第２の水洗槽と、さらに下段へと同様に構成さ
れた清浄度の高い洗浄が順次可能となる多段式水洗槽で
あって、第２の水洗槽が流入領域と、洗浄領域とに第２
の仕切り板により隔てられ、その下側の貫通路から洗浄
水が貫流して流れ込み、洗浄槽の清浄度が均一になるよ
うに順次設置されていることを特徴とする多段式水洗
槽。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、メッキ工程におけ
る金属部品の酸洗いや、レンズ研磨工程におけるレンズ
洗いや、カメラ等に使用される切削加工、プレス加工、
モールド成形加工等の諸加工により製造された精密加工
部品の洗浄、等々に使用される洗浄装置であって、下流
側から上流側になるに従い清浄度が高くなっている多段
の洗浄槽により、順次洗浄度を高めた洗浄が可能となる
ように構成された多段式洗浄槽とその構造に関する。
る金属部品の酸洗いや、レンズ研磨工程におけるレンズ
洗いや、カメラ等に使用される切削加工、プレス加工、
モールド成形加工等の諸加工により製造された精密加工
部品の洗浄、等々に使用される洗浄装置であって、下流
側から上流側になるに従い清浄度が高くなっている多段
の洗浄槽により、順次洗浄度を高めた洗浄が可能となる
ように構成された多段式洗浄槽とその構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、メッキ工程における金属部品の酸
洗いや、レンズ研磨工程におけるレンズ洗浄や、カメラ
等に使用される切削加工、プレス加工、モールド成形加
工等の諸加工により製造された精密加工部品の洗浄、等
々に使用される多段式洗浄装置が知られている。こうし
た洗浄装置は、洗浄水（液）を供給する給水管と、上流
側に位置する第一の洗浄槽と、前記第一の洗浄槽からオ
ーバーフローした洗浄水が流入するように隣接して設置
された下流側に位置する第二の洗浄槽と、必要に応じさ
らに第二の洗浄槽に続いて下流側に隣接して設置される
少なくとも二つの洗浄槽とを備えるととも、高位にある
洗浄槽から下流側に従って低くなるよう段差をもって隣
接配置される構成を採っている。こうした技術の一例と
して、図１０は従来の多段式洗浄槽の平面図で、図１１
は同じくＡ−Ａ断面図である。多段式洗浄装置の筐体１
は、外部の給水装置（ポンプ）Ｐから給水管２で洗浄の
ための水（液）が流入する第一の洗浄槽３と、第二の洗
浄槽４とを備えていて、これらの間には筐体の壁よりや
や低い仕切板５によりそれぞれ設けられ隔てられてい
る。Ｏはオーバーフローで、第一の仕切板５を超えて下
流側の第二の洗浄槽に至る洗浄水（液）の流れを示して
いる。こうした構成によれば、給水された洗浄水（液）
は、洗浄槽の水面近くの層のみが流れ、続く下流側に隣
接して設置される低位の洗浄槽へと流出し、さらに次段
へと繰り返し流れて順次下流側の洗浄槽へと流れるもの
の、洗浄水の更新が槽内で各槽間で不均一となってしま
い、十分な清浄度が得られ難いといった問題があった。
洗いや、レンズ研磨工程におけるレンズ洗浄や、カメラ
等に使用される切削加工、プレス加工、モールド成形加
工等の諸加工により製造された精密加工部品の洗浄、等
々に使用される多段式洗浄装置が知られている。こうし
た洗浄装置は、洗浄水（液）を供給する給水管と、上流
側に位置する第一の洗浄槽と、前記第一の洗浄槽からオ
ーバーフローした洗浄水が流入するように隣接して設置
された下流側に位置する第二の洗浄槽と、必要に応じさ
らに第二の洗浄槽に続いて下流側に隣接して設置される
少なくとも二つの洗浄槽とを備えるととも、高位にある
洗浄槽から下流側に従って低くなるよう段差をもって隣
接配置される構成を採っている。こうした技術の一例と
して、図１０は従来の多段式洗浄槽の平面図で、図１１
は同じくＡ−Ａ断面図である。多段式洗浄装置の筐体１
は、外部の給水装置（ポンプ）Ｐから給水管２で洗浄の
ための水（液）が流入する第一の洗浄槽３と、第二の洗
浄槽４とを備えていて、これらの間には筐体の壁よりや
や低い仕切板５によりそれぞれ設けられ隔てられてい
る。Ｏはオーバーフローで、第一の仕切板５を超えて下
流側の第二の洗浄槽に至る洗浄水（液）の流れを示して
いる。こうした構成によれば、給水された洗浄水（液）
は、洗浄槽の水面近くの層のみが流れ、続く下流側に隣
接して設置される低位の洗浄槽へと流出し、さらに次段
へと繰り返し流れて順次下流側の洗浄槽へと流れるもの
の、洗浄水の更新が槽内で各槽間で不均一となってしま
い、十分な清浄度が得られ難いといった問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来技術にあっては、
下流側になるに従って段差を有しながら低位側に隣接し
て順次設置される単純な構成による多段式洗浄装置によ
れば、第一の洗浄槽に流入する水も、第一の洗浄槽から
オーバーフローして前記第二の洗浄槽に流入する水も、
洗浄槽の表層を流れて流出するのみで、第二の洗浄槽の
水更新が十分に行われず清浄度の向上が出来なかった。
これはさらに複数の槽を下流側に設けた場合も同様であ
る。このように、本来、下流側から上流側になるに従い
清浄度が高くなるよう配置された多段の洗浄槽であるに
もかかわらず、順次清浄度を高めた洗浄を可能とする効
果が有効に働かず、装置の洗浄効率が著しく劣ることと
なっていた。
下流側になるに従って段差を有しながら低位側に隣接し
て順次設置される単純な構成による多段式洗浄装置によ
れば、第一の洗浄槽に流入する水も、第一の洗浄槽から
オーバーフローして前記第二の洗浄槽に流入する水も、
洗浄槽の表層を流れて流出するのみで、第二の洗浄槽の
水更新が十分に行われず清浄度の向上が出来なかった。
これはさらに複数の槽を下流側に設けた場合も同様であ
る。このように、本来、下流側から上流側になるに従い
清浄度が高くなるよう配置された多段の洗浄槽であるに
もかかわらず、順次清浄度を高めた洗浄を可能とする効
果が有効に働かず、装置の洗浄効率が著しく劣ることと
なっていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決し、目
的を達成するために本発明による多段式洗浄槽は、上流
側に配置された第一の洗浄槽と、前記第一の洗浄槽と段
差を有して下流側に隣接し、該槽からオーバーフローし
た洗浄水が流入する第二の洗浄槽と、前記第一の洗浄槽
と第二の洗浄槽とを隔てる第一の仕切板と、第二の洗浄
槽内にあって、前記第一の洗浄槽よりオーバーフローし
た洗浄水が流入する領域と洗浄に使用する領域とに隔て
る第二の仕切板とを備えた多段式洗浄槽であって、前記
第二の仕切板は、洗浄水が自由に通過できるよう下方側
に貫通路が配されている構成としたことにより達成され
る。
的を達成するために本発明による多段式洗浄槽は、上流
側に配置された第一の洗浄槽と、前記第一の洗浄槽と段
差を有して下流側に隣接し、該槽からオーバーフローし
た洗浄水が流入する第二の洗浄槽と、前記第一の洗浄槽
と第二の洗浄槽とを隔てる第一の仕切板と、第二の洗浄
槽内にあって、前記第一の洗浄槽よりオーバーフローし
た洗浄水が流入する領域と洗浄に使用する領域とに隔て
る第二の仕切板とを備えた多段式洗浄槽であって、前記
第二の仕切板は、洗浄水が自由に通過できるよう下方側
に貫通路が配されている構成としたことにより達成され
る。
【０００５】請求項２に記載の発明によれば、前記第二
の仕切板は、その上方側の高さが第一の仕切板のオーバ
ーフロー位置より低く、且つ前記下流側に位置する洗浄
槽に属する他の仕切板から次の下流側に位置する洗浄槽
へのオーバーフロー位置より高くなるようなされてい
る。
の仕切板は、その上方側の高さが第一の仕切板のオーバ
ーフロー位置より低く、且つ前記下流側に位置する洗浄
槽に属する他の仕切板から次の下流側に位置する洗浄槽
へのオーバーフロー位置より高くなるようなされてい
る。
【０００６】請求項３に記載の発明によれば、前記下流
側に位置する洗浄槽内の第二の仕切板の上方端側の一部
に低位部が設けられており、前記低位部の最下部位が前
記第一の仕切板のオーバーフロー位置より低く、且つ、
前記下流側に位置する洗浄槽に属する他の仕切板から次
の下流側に位置する洗浄槽へのオーバーフロー位置より
は高くなるようなされている。
側に位置する洗浄槽内の第二の仕切板の上方端側の一部
に低位部が設けられており、前記低位部の最下部位が前
記第一の仕切板のオーバーフロー位置より低く、且つ、
前記下流側に位置する洗浄槽に属する他の仕切板から次
の下流側に位置する洗浄槽へのオーバーフロー位置より
は高くなるようなされている。
【０００７】上述した構成とすることにより、前述し
た、上流側の洗浄槽からオーバーフローして下流側の洗
浄槽に流入する洗浄水が、該下流側の洗浄槽の表層のみ
を流れてさらに下流側の次段の洗浄槽に流出するのみで
はなく、また該下流側の洗浄槽の液更新が十分になされ
ないまま清浄度の向上が図れないということもなく、洗
浄効率に優れ、且つ下流側から上流側になるに従い清浄
度が高くなった多段式洗浄槽を提供することが出来る。
これにより、被洗浄物である加工部品を編み目状の容器
に入れ、比較的乱雑な取扱いである所謂ジャブ付け洗浄
を実施しても、洗浄効率を順次高めた洗浄が可能となっ
た。
た、上流側の洗浄槽からオーバーフローして下流側の洗
浄槽に流入する洗浄水が、該下流側の洗浄槽の表層のみ
を流れてさらに下流側の次段の洗浄槽に流出するのみで
はなく、また該下流側の洗浄槽の液更新が十分になされ
ないまま清浄度の向上が図れないということもなく、洗
浄効率に優れ、且つ下流側から上流側になるに従い清浄
度が高くなった多段式洗浄槽を提供することが出来る。
これにより、被洗浄物である加工部品を編み目状の容器
に入れ、比較的乱雑な取扱いである所謂ジャブ付け洗浄
を実施しても、洗浄効率を順次高めた洗浄が可能となっ
た。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施の形
態について図面を参照しながら説明する。図１は本発明
の第一の実施例にかかる多段式洗浄槽の平面図で、図２
は同じく多段式洗浄槽のＡ−Ａ断面図、図３は本発明の
第二の実施例にかかる多段式洗浄槽の平面図で、図４は
同じくＡ−Ａ断面図、図５は本発明にかかる第三の実施
例にかかる多段式洗浄槽の平面図で、図６は第三の実施
形態の溝付き第二の仕切板の平面図で、図７は本発明の
第四の実施例にかかる多段式洗浄槽の平面図で、図８は
同じく槽のＡ−Ａ断面図である。図９は同じく槽の断面
斜視図である。
態について図面を参照しながら説明する。図１は本発明
の第一の実施例にかかる多段式洗浄槽の平面図で、図２
は同じく多段式洗浄槽のＡ−Ａ断面図、図３は本発明の
第二の実施例にかかる多段式洗浄槽の平面図で、図４は
同じくＡ−Ａ断面図、図５は本発明にかかる第三の実施
例にかかる多段式洗浄槽の平面図で、図６は第三の実施
形態の溝付き第二の仕切板の平面図で、図７は本発明の
第四の実施例にかかる多段式洗浄槽の平面図で、図８は
同じく槽のＡ−Ａ断面図である。図９は同じく槽の断面
斜視図である。
【０００９】先ず、第一の実施例について説明する。図
１は多段式洗浄槽の平面図であって、図２は多段式洗浄
槽のＡ−Ａ断面図である。１は多段式洗浄装置の筐体。
２は給水管で、外部の給水装置（ポンプ）Ｐと接続され
ていて、洗浄のための水（液）を第一の洗浄槽３へと導
く。４は第二の洗浄槽で、第一の洗浄槽３とは筐体の壁
よりやや低い第一の仕切板５により隔てられている。６
は第二の仕切板で、下部側には貫通路６ａが形成され水
は貫流自由とされていて、第二の洗浄槽４を流入領域４
ａと洗浄領域４ｂとを分けるようにして溶接や接着ある
いは成形等により設けられている。７は編み目状容器
で、８は被洗浄物である加工部品である。９は第二の洗
浄槽４に属する他の仕切板である。Ｏはオーバーフロー
で、第一の仕切板５を超えて下流側の第二の洗浄槽に至
る洗浄水（液）の流れを示している。
１は多段式洗浄槽の平面図であって、図２は多段式洗浄
槽のＡ−Ａ断面図である。１は多段式洗浄装置の筐体。
２は給水管で、外部の給水装置（ポンプ）Ｐと接続され
ていて、洗浄のための水（液）を第一の洗浄槽３へと導
く。４は第二の洗浄槽で、第一の洗浄槽３とは筐体の壁
よりやや低い第一の仕切板５により隔てられている。６
は第二の仕切板で、下部側には貫通路６ａが形成され水
は貫流自由とされていて、第二の洗浄槽４を流入領域４
ａと洗浄領域４ｂとを分けるようにして溶接や接着ある
いは成形等により設けられている。７は編み目状容器
で、８は被洗浄物である加工部品である。９は第二の洗
浄槽４に属する他の仕切板である。Ｏはオーバーフロー
で、第一の仕切板５を超えて下流側の第二の洗浄槽に至
る洗浄水（液）の流れを示している。
【００１０】給水装置Ｐより洗浄水が給水管２を経由し
て、第一の洗浄槽３の底面側から図２の図中矢印の如く
供給される。やがて、第一の洗浄槽３を充満した洗浄水
は、筐体の壁よりやや低い第一の仕切板５の上方を超え
オーバーフローＯとして流出して、下流側に隣接して設
置される低位の第二の洗浄槽４の流入領域４ａへと流入
する。第二の仕切板６の下側には貫通路６ａが形成され
ており、第二の洗浄槽４の流入領域４ａに注ぎ込まれた
洗浄水が、第二の仕切板６の貫通路６ａを図２の矢印の
如く貫流して、第二の洗浄槽４の洗浄領域４ｂも合わせ
て充たしていく。やがて、第二の洗浄槽４を充満した洗
浄水は、前述の第一の洗浄槽３の場合と同様に、僅かに
低く設定されている他の仕切板９の上側からオーバーフ
ローＯに図示のように流出して、さらに下流側に隣接し
て設置される次の流入槽に注ぎ込む。これが順次下流側
に繰り返されて、本第一の実施形態の多段式洗浄槽を構
成することとなる。
て、第一の洗浄槽３の底面側から図２の図中矢印の如く
供給される。やがて、第一の洗浄槽３を充満した洗浄水
は、筐体の壁よりやや低い第一の仕切板５の上方を超え
オーバーフローＯとして流出して、下流側に隣接して設
置される低位の第二の洗浄槽４の流入領域４ａへと流入
する。第二の仕切板６の下側には貫通路６ａが形成され
ており、第二の洗浄槽４の流入領域４ａに注ぎ込まれた
洗浄水が、第二の仕切板６の貫通路６ａを図２の矢印の
如く貫流して、第二の洗浄槽４の洗浄領域４ｂも合わせ
て充たしていく。やがて、第二の洗浄槽４を充満した洗
浄水は、前述の第一の洗浄槽３の場合と同様に、僅かに
低く設定されている他の仕切板９の上側からオーバーフ
ローＯに図示のように流出して、さらに下流側に隣接し
て設置される次の流入槽に注ぎ込む。これが順次下流側
に繰り返されて、本第一の実施形態の多段式洗浄槽を構
成することとなる。
【００１１】第一の実施例においては、第一の洗浄槽３
における給水管２からの給水も、流入領域４ａから第二
の仕切板６の下側を貫流する洗浄領域４ｂへの給水も、
共に表層流となることもなく、洗浄槽の下側から液更新
を均一に実施して、洗浄水の清浄度を十分に保つ好適な
多段式洗浄槽を提供することができる。
における給水管２からの給水も、流入領域４ａから第二
の仕切板６の下側を貫流する洗浄領域４ｂへの給水も、
共に表層流となることもなく、洗浄槽の下側から液更新
を均一に実施して、洗浄水の清浄度を十分に保つ好適な
多段式洗浄槽を提供することができる。
【００１２】次に第二の実施例について説明する。前述
した第一の実施例によれば、図２に示されるように、編
み目状容器７に被洗浄物である加工部品８を入れて、比
較的乱雑な取扱いである所謂ジャブ付け洗浄をしようと
すると、第一の洗浄槽３からのオーバーフローＯの水量
が急激に多くなるため、洗浄領域４ｂと同水位であるべ
き流入領域４ａの水位も破線で示された位置から実線の
位置へ瞬間的に急上昇することとなった。被洗浄物がそ
れほど大きくない場合には何ら問題は生じないが、より
大きな被洗浄物である加工部品８を入れた編み目状容器
７を所謂ジャブ付け洗浄しようとすると、急上昇する現
象がさらに進展して、洗浄水が流入領域４ａから第一の
洗浄槽３へ瞬間的に逆流してしまう現象が発生すること
があった。この場合は、本来清浄度が高いはずの上位段
の第一の洗浄槽３も、下位段の第二の洗浄槽４と同じ清
浄度になり、下位段から清浄度を段々高めた最適な洗浄
ができないというおそれを生じる。こうした不都合は、
いずれも洗浄水の流れのための時間を十分にとることで
生じない。
した第一の実施例によれば、図２に示されるように、編
み目状容器７に被洗浄物である加工部品８を入れて、比
較的乱雑な取扱いである所謂ジャブ付け洗浄をしようと
すると、第一の洗浄槽３からのオーバーフローＯの水量
が急激に多くなるため、洗浄領域４ｂと同水位であるべ
き流入領域４ａの水位も破線で示された位置から実線の
位置へ瞬間的に急上昇することとなった。被洗浄物がそ
れほど大きくない場合には何ら問題は生じないが、より
大きな被洗浄物である加工部品８を入れた編み目状容器
７を所謂ジャブ付け洗浄しようとすると、急上昇する現
象がさらに進展して、洗浄水が流入領域４ａから第一の
洗浄槽３へ瞬間的に逆流してしまう現象が発生すること
があった。この場合は、本来清浄度が高いはずの上位段
の第一の洗浄槽３も、下位段の第二の洗浄槽４と同じ清
浄度になり、下位段から清浄度を段々高めた最適な洗浄
ができないというおそれを生じる。こうした不都合は、
いずれも洗浄水の流れのための時間を十分にとることで
生じない。
【００１３】図３は本発明の第二の実施例である多段式
洗浄装置の平面図で、図４は同じくＡ−Ａ断面図であ
る。本実施例の目的は、十分に時間のとれない場合に水
位の急上昇にも対処するものである。１６は低位置第二
の仕切板であって、その上側が他の仕切板９より高く
（δ2）、第一の仕切板５より低く（δ1 ）設定されて
いることにより達成される。ここでδ1 ＞δ2 の関係が
成立していることは言うまでもない。この構成をとるこ
とにより、前述のように大きな被洗浄物である加工部品
８を入れた編み目状容器７をジャブ付け洗浄した結果、
オーバーフローＯした洗浄水によって流入領域４ａの水
位が急激に上昇してもδ2 以上には上昇しないようにな
ったので、第一の仕切板５の高低差δ1 を越えて洗浄水
が逆流することはなく、上流側の清浄度の高い第一の洗
浄槽３を汚すこともない。さらにこの場合は、低位置第
二の仕切板１６を越えて層流となった洗浄水と、下側か
らの貫流とが合わさって、より均一な清浄度の洗浄水が
蓄えられた洗浄領域４ｂを提供できることとなる。
洗浄装置の平面図で、図４は同じくＡ−Ａ断面図であ
る。本実施例の目的は、十分に時間のとれない場合に水
位の急上昇にも対処するものである。１６は低位置第二
の仕切板であって、その上側が他の仕切板９より高く
（δ2）、第一の仕切板５より低く（δ1 ）設定されて
いることにより達成される。ここでδ1 ＞δ2 の関係が
成立していることは言うまでもない。この構成をとるこ
とにより、前述のように大きな被洗浄物である加工部品
８を入れた編み目状容器７をジャブ付け洗浄した結果、
オーバーフローＯした洗浄水によって流入領域４ａの水
位が急激に上昇してもδ2 以上には上昇しないようにな
ったので、第一の仕切板５の高低差δ1 を越えて洗浄水
が逆流することはなく、上流側の清浄度の高い第一の洗
浄槽３を汚すこともない。さらにこの場合は、低位置第
二の仕切板１６を越えて層流となった洗浄水と、下側か
らの貫流とが合わさって、より均一な清浄度の洗浄水が
蓄えられた洗浄領域４ｂを提供できることとなる。
【００１４】次に、本発明の第三の実施例について説明
する。図５は多段式洗浄槽のＡ−Ａ断面図で、図６は第
二の仕切板の種々の溝を示した正面図である。図６
（ａ）は溝２６ｂの形状が略Ｖ字形状として形成された
第二の仕切板２６であり、図６（ｂ）は溝３６ｂの形状
が角形状として形成された第二の仕切板３６であり、図
６（ｃ）は溝４６ａの形状が斜形状として形成された第
二の仕切板４６であり、各々その溝の最下部が前述の第
二の実施形態と同様の高さ関係（δ 1 ＞δ2 の関係）を
有している。これら仕切板の溝の有無、溝の形状は適
宜、組み合わせ選択すればよい。また、各貫通路２６
ａ、３６ａ、４６ａの形状も、多段式洗浄装置の筐体１
への取り付け高さによっては第二の仕切板に設けずと
も、底面との間に実質的に貫通路となることであっても
構わない。こうした構成をとることにより、流入領域４
ａの水位が急激に上昇しても、前述のＶ溝付第二の仕切
板２６の上を越えて層流となる洗浄水の量がＶ溝によっ
て調節され、下側からの貫流と合わさって、より均一な
清浄度の洗浄水が得られるようになっている。
する。図５は多段式洗浄槽のＡ−Ａ断面図で、図６は第
二の仕切板の種々の溝を示した正面図である。図６
（ａ）は溝２６ｂの形状が略Ｖ字形状として形成された
第二の仕切板２６であり、図６（ｂ）は溝３６ｂの形状
が角形状として形成された第二の仕切板３６であり、図
６（ｃ）は溝４６ａの形状が斜形状として形成された第
二の仕切板４６であり、各々その溝の最下部が前述の第
二の実施形態と同様の高さ関係（δ 1 ＞δ2 の関係）を
有している。これら仕切板の溝の有無、溝の形状は適
宜、組み合わせ選択すればよい。また、各貫通路２６
ａ、３６ａ、４６ａの形状も、多段式洗浄装置の筐体１
への取り付け高さによっては第二の仕切板に設けずと
も、底面との間に実質的に貫通路となることであっても
構わない。こうした構成をとることにより、流入領域４
ａの水位が急激に上昇しても、前述のＶ溝付第二の仕切
板２６の上を越えて層流となる洗浄水の量がＶ溝によっ
て調節され、下側からの貫流と合わさって、より均一な
清浄度の洗浄水が得られるようになっている。
【００１５】本発明の第四の実施例について、図面を参
照しながら説明する。図７は第四の実施例にかかる多段
式洗浄槽の平面図で、図８は同じく多段式洗浄槽のＡ−
Ａ断面図、図９は同じく多段式洗浄槽の断面斜視図であ
る。第一の洗浄槽３に属する角溝付第一の仕切板１５か
らオーバーフローＯした洗浄水は、隈付第二の仕切板５
６によって仕切られた隈付流入領域４ｃに流入し、隈付
第二の仕切板５６の下側から貫流して隈付洗浄領域４ｄ
を満たす。ここで、角溝付第一の仕切板１５の角溝１５
ａの幅は、隈付流入領域４ｃにオーバーフローＯした洗
浄水が全て流入するように設定されており、隈付第二の
仕切板５６の高さは、図８に図示のようにδ1 ＞δ2 の
関係で設定されているため、洗浄水の逆流もなく、順次
清浄度が増した多段式洗浄槽を提供することとなる。本
実施例においては、隈付洗浄領域４ｄが十分に取れるた
め、一度により大量の加工部品の洗浄が可能となる。
照しながら説明する。図７は第四の実施例にかかる多段
式洗浄槽の平面図で、図８は同じく多段式洗浄槽のＡ−
Ａ断面図、図９は同じく多段式洗浄槽の断面斜視図であ
る。第一の洗浄槽３に属する角溝付第一の仕切板１５か
らオーバーフローＯした洗浄水は、隈付第二の仕切板５
６によって仕切られた隈付流入領域４ｃに流入し、隈付
第二の仕切板５６の下側から貫流して隈付洗浄領域４ｄ
を満たす。ここで、角溝付第一の仕切板１５の角溝１５
ａの幅は、隈付流入領域４ｃにオーバーフローＯした洗
浄水が全て流入するように設定されており、隈付第二の
仕切板５６の高さは、図８に図示のようにδ1 ＞δ2 の
関係で設定されているため、洗浄水の逆流もなく、順次
清浄度が増した多段式洗浄槽を提供することとなる。本
実施例においては、隈付洗浄領域４ｄが十分に取れるた
め、一度により大量の加工部品の洗浄が可能となる。
【００１６】なお、本発明のいずれの実施例において
も、第一の洗浄槽と第二の洗浄槽との関係だけで説明を
しているが、この関係は他のどの洗浄槽の組み合わせで
あっても、すべての洗浄槽に適用出来ることは言うまで
もない。
も、第一の洗浄槽と第二の洗浄槽との関係だけで説明を
しているが、この関係は他のどの洗浄槽の組み合わせで
あっても、すべての洗浄槽に適用出来ることは言うまで
もない。
【００１７】
【発明の効果】以上の説明したように、本発明によれ
ば、第一の洗浄槽内に給水管を設けて給水し、第一の洗
浄槽に属する第一の仕切板からオーバーフローした洗浄
水が流入する流入槽と、洗浄槽とを隔てる第二の仕切板
を、第一の洗浄槽に隣接した第二の洗浄槽内に設け、そ
の下側が貫流する構成をとることにより、従来例の様
に、給水された後オーバーフローした洗浄水が洗浄槽の
表面のみを流れる層流となって均一な清浄度が得られな
いといった問題もなく、本来の下流から上流に向かって
順次均一に清浄度を高めた多段式洗浄を可能とする多段
式洗浄装置を提供することが出来る。さらに、第二の仕
切板の高さをδ1 ＞δ2 の関係が成立するように設定す
ることにより、比較的乱雑な取扱いである所謂ジャブ付
け洗浄をしても洗浄水が逆流することがなく、洗浄効率
が著しく劣ることもない多段式洗浄装置を提供すること
が出来る。
ば、第一の洗浄槽内に給水管を設けて給水し、第一の洗
浄槽に属する第一の仕切板からオーバーフローした洗浄
水が流入する流入槽と、洗浄槽とを隔てる第二の仕切板
を、第一の洗浄槽に隣接した第二の洗浄槽内に設け、そ
の下側が貫流する構成をとることにより、従来例の様
に、給水された後オーバーフローした洗浄水が洗浄槽の
表面のみを流れる層流となって均一な清浄度が得られな
いといった問題もなく、本来の下流から上流に向かって
順次均一に清浄度を高めた多段式洗浄を可能とする多段
式洗浄装置を提供することが出来る。さらに、第二の仕
切板の高さをδ1 ＞δ2 の関係が成立するように設定す
ることにより、比較的乱雑な取扱いである所謂ジャブ付
け洗浄をしても洗浄水が逆流することがなく、洗浄効率
が著しく劣ることもない多段式洗浄装置を提供すること
が出来る。
【図１】本発明に係る第一の実施形態の多段式洗浄装置
の平面図
の平面図
【図２】本発明に係る第一の実施形態の多段式洗浄装置
のＡ−Ａ断面図
のＡ−Ａ断面図
【図３】本発明に係る第二の実施形態の多段式洗浄装置
の平面図
の平面図
【図４】本発明に係る第二の実施形態の多段式洗浄装置
のＡ−Ａ断面図
のＡ−Ａ断面図
【図５】本発明に係る第三の実施形態の多段式洗浄装置
のＡ−Ａ断面図
のＡ−Ａ断面図
【図６】本発明に係る第三の実施形態の溝付第二の仕切
板の平面図
板の平面図
【図７】本発明に係る第四の実施形態の多段式洗浄装置
の平面図
の平面図
【図８】本発明に係る第四の実施形態の多段式洗浄装置
のＡ−Ａ断面図
のＡ−Ａ断面図
【図９】本発明に係る第四の実施形態の多段式洗浄装置
の断面斜視図
の断面斜視図
【図１０】従来技術を示した多段式洗浄装置の平面図
【図１１】従来技術を示した多段式洗浄装置のＡ−Ａ断
面図
面図
１ 多段式洗浄装置の筐体 ２ 給水管 ３ 第一の洗浄槽 ４ 第二の洗浄槽 ４ａ 流入領域 ４ｂ 洗浄領域 ４ｃ 隈付流入領域 ４ｄ 隈付洗浄領域 ５ 第一の洗浄槽に属する第一の仕切り板 ６ 第二の仕切り板 ６ａ 第二の仕切り板の貫通路 ７ 編み目状容器 ８ 加工部品（被洗浄物） ９ 第二の洗浄槽に属する他の仕切り板 １５ 角溝付第一の仕切り板 １５ａ 第一の仕切り板の角溝 １６ 低位置第二の仕切り板 １６ａ 低位置第二の仕切り板の貫通路 ２６ Ｖ溝付第二の仕切り板 ２６ａ Ｖ溝付第二の仕切り板の貫通路 ２６ｂ Ｖ溝付第二の仕切り板のＶ溝 ３６ 角溝付第二の仕切り板 ３６ａ 角溝付第二の仕切り板の貫通路 ３６ｂ 角溝付第二の仕切り板の角溝 ４６ 斜溝付第二の仕切り板 ４６ａ 斜溝付第二の仕切り板の貫通路 ４６ｂ 斜溝第二の仕切り板の斜溝 ５６ 隈付第二の仕切り板 ５６ａ 隈付第二の仕切り板の貫通路
Claims (3)
- 【請求項１】 上流側に配置された第一の洗浄槽と、 前記第一の洗浄槽と段差を有して下流側に隣接し、該槽
からオーバーフローした洗浄水が流入する第二の洗浄槽
と、 前記第一の洗浄槽と第二の洗浄槽とを隔てる第一の仕切
板と、 第二の洗浄槽内にあって、前記第一の洗浄槽よりオーバ
ーフローした洗浄水が流入する領域と洗浄に使用する領
域とに隔てる第二の仕切板とを備えた多段式洗浄槽であ
って、 前記第二の仕切板は、洗浄水が自由に通過できるよう下
方側に貫通路が配されていることを特徴とする多段式洗
浄槽。 - 【請求項２】 前記第二の仕切板は、その上方側の高さ
が第一の仕切板のオーバーフロー位置より低く、且つ前
記下流側に位置する洗浄槽に属する他の仕切板から次の
下流側に位置する洗浄槽へのオーバーフロー位置より高
くなるようなされていることを特徴とする請求項１に記
載の多段式洗浄槽。 - 【請求項３】 前記下流側に位置する洗浄槽内の第二の
仕切板の上方端側の一部に低位部が設けられており、 前記低位部の最下部位が前記第一の仕切板のオーバーフ
ロー位置より低く、且つ、前記下流側に位置する洗浄槽
に属する他の仕切板から次の下流側に位置する洗浄槽へ
のオーバーフロー位置よりは高くなるようなされている
ことを特徴とする請求項１に記載の多段式洗浄槽。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11231217A JP2001054766A (ja) | 1999-08-18 | 1999-08-18 | 多段式洗浄槽 |
| US09/635,536 US6520074B1 (en) | 1999-08-18 | 2000-08-09 | Pressing machine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11231217A JP2001054766A (ja) | 1999-08-18 | 1999-08-18 | 多段式洗浄槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001054766A true JP2001054766A (ja) | 2001-02-27 |
Family
ID=16920170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11231217A Pending JP2001054766A (ja) | 1999-08-18 | 1999-08-18 | 多段式洗浄槽 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6520074B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001054766A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003018217A1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-03-06 | Kabushiki Kaisha Sankyo Seiki Seisakusho | Systeme de nettoyage, laveuse par ultrasons, secheur a vide, dispositif de nettoyage, reservoir de nettoyage, reservoir de sechage et systeme de production |
| CN102580945A (zh) * | 2012-03-09 | 2012-07-18 | 昆山亿富达电子有限公司 | 溢流水洗装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002316298A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-29 | Komatsu Ltd | トランスファプレスおよびそのスライド駆動方法 |
| DE202005013912U1 (de) * | 2005-09-02 | 2005-12-08 | F. Post Gmbh | Stufen-Umformautomat |
| CN107639698A (zh) * | 2017-11-07 | 2018-01-30 | 安吉恒盛竹木有限公司 | 一种多功能冷压机 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE346947B (ja) * | 1967-10-28 | 1972-07-24 | Dieffenbacher Gmbh Maschf | |
| US3779155A (en) * | 1970-12-31 | 1973-12-18 | Komatsu Mfg Co Ltd | Plural-slide transfer pressing apparatus |
| US4910993A (en) * | 1988-05-04 | 1990-03-27 | The National Machinery Company | Progressive former and method of producing same |
| US5586495A (en) * | 1991-12-27 | 1996-12-24 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Transfer press |
| JP2723046B2 (ja) * | 1994-06-14 | 1998-03-09 | 村田機械株式会社 | トグル式パンチ駆動装置 |
| JP3690534B2 (ja) * | 1995-10-25 | 2005-08-31 | 株式会社小松製作所 | 高速液圧プレス |
| JP3821314B2 (ja) * | 1996-02-08 | 2006-09-13 | 株式会社小松製作所 | トランスファプレス |
| JP3773576B2 (ja) * | 1996-02-08 | 2006-05-10 | 株式会社小松製作所 | トランスファプレス |
| US6000322A (en) * | 1998-01-30 | 1999-12-14 | Verson | Transfer press die support |
-
1999
- 1999-08-18 JP JP11231217A patent/JP2001054766A/ja active Pending
-
2000
- 2000-08-09 US US09/635,536 patent/US6520074B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003018217A1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-03-06 | Kabushiki Kaisha Sankyo Seiki Seisakusho | Systeme de nettoyage, laveuse par ultrasons, secheur a vide, dispositif de nettoyage, reservoir de nettoyage, reservoir de sechage et systeme de production |
| CN102580945A (zh) * | 2012-03-09 | 2012-07-18 | 昆山亿富达电子有限公司 | 溢流水洗装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6520074B1 (en) | 2003-02-18 |
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