JP2001044619A

JP2001044619A - 連続熱処理炉

Info

Publication number: JP2001044619A
Application number: JP11221168A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Takeda; 洋幸武田
Original assignee: Koyo Thermo Systems Co Ltd
Current assignee: JTEKT Thermo Systems Corp
Priority date: 1999-08-04
Filing date: 1999-08-04
Publication date: 2001-02-16

Abstract

(57)【要約】【課題】基板を熱処理するための炉長の短い連続熱処理
炉を提供する。【解決手段】幅寄せ機構３のリニアシャフト３３およ
びネジシャフト３１を、支持プレート２のガイドレール
１２よりも上方に配置し、支持プレート２のガイドレー
ル１２よりも下方部分に切欠部２１ａを設け、この切欠
部２１ａに落下基板回収機構５のトレー５２の少なくと
も一部を導入して、その導入量分だけ炉長を短縮する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、連続熱処理炉に
関する。詳しくは、電子部品の実装基板やその他各種の
基板を搬送するチェーンコンベアを有する連続熱処理炉
に関する。

【０００２】

【従来の技術】トンネル状の加熱ゾーンを有し、被加熱
物である基板をこの加熱ゾーン内を一定速度で通過させ
ながら加熱する連続熱処理炉では、基板の搬送手段とし
て、連続熱処理炉の入口から出口を通って再び入口に戻
るエンドレスタイプのチェーンコンベアが用いられてい
る。図３は基板の熱処理に従来用いられている連続熱処
理炉の要部平面図であり、図４はその側面から見た断面
図である。この連続熱処理炉において、チェーンコンベ
ア１００は、基板Ａと、これを支持する支持部との接触
面積を極力少なくするために、搬送方向に直交する方向
に突出させた複数の短尺ピン１１１ａを有する２条のチ
ェーン１１１を、それぞれ短尺ピン１１１ａどうしを対
向させた状態で並列に配置し、この左右に分離して配列
された短尺ピン１１１ａの上に基板Ａの左右両端部を載
置して搬送する、いわゆるピンキャリア方式のものであ
る。

【０００３】上記チェーンコンベア１００は、基板Ａの
寸法が異なる場合にも、これを支障なく搬送できるよう
に、一対のチェーン１１１の間隔および各チェーン１１
１を支持する一対のガイドレール１１２の間隔を変更す
る幅寄せ機構３００が設けられている。上記幅寄せ機構
３００は、各ガイドレール１１２の加熱ゾーンＲへの導
入部Ｂに設けられており、チェーンコンベア１００およ
び各ガイドレール１１２の一端部を支持する一対の支持
プレート２００間の間隔を、各支持プレート２００を摺
動自在に支持する一対のリニアシャフト１３３と、この
支持プレート２００の少なくとも一方を搬送方向に直交
する方向に移動させるネジシャフト１３１とにより調整
するものである。上記支持プレート２００は矩形の板状
体であり、その内面側の上部と下部とにチェーン１１１
を巻き掛けるスプロケット１１３が取り付けられてい
る。上記リニアシャフト１３３とネジシャフト１３１
は、支持プレート２００の上下方向の中央部に、すなわ
ち、ガイドレール１１２とチェーンコンベア１００のリ
ターン部との中間位置に設けられている。

【０００４】また、上記チェーンコンベア１００は、基
板Ａの両端部を短尺ピン１１１ａで左右から支持するだ
けであるので、搬送途中に基板Ａが落下するケースがあ
る。このため、この連続熱処理炉では、図４に示すよう
に、落下した基板Ａを回収する落下基板回収機構５００
が設けられている。この落下基板回収機構５００は、チ
ェーンコンベア１００から落下した基板Ａを受け止めて
導入部Ｂに搬送する回収用コンベア１５１と、上記支持
プレート２００と加熱ゾーンＲとの間に配置され、回収
用コンベア１５１によって搬送される基板Ａを集積する
トレー１５２とを備えている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来の連続熱処理炉で
は、支持プレート２００の移動を許容するために、導入
部Ｂに設けた落下基板回収機構５００のトレー１５２を
支持プレート２００と加熱ゾーンＲとの間に配置しなけ
ればならない。このため、幅寄せ機構３００は、加熱ゾ
ーンＲに対してトレー１５２よりさらに離れた位置に配
置されており、連続熱処理炉全体の長さが長くなってい
る。一方、基板は、清浄環境で取り扱う必要があるた
め、上記連続熱処理炉が長い場合には、清浄環境域を広
くする必要があり、その分コストが高くつく。このた
め、炉長の短いコンパクトな連続熱処理炉が求められて
いる。上記のような従来の問題点に鑑み、この発明は、
基板を熱処理するための炉長の短い連続熱処理炉を提供
することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
のこの発明の連続熱処理炉は、基板搬送用の一対のチェ
ーンからなるチェーンコンベアと、上記チェーンコンベ
アの炉内での走行をガイドする一対のガイドレールと、
上記ガイドレールおよびチェーンコンベアの一端部を支
持する一対の支持プレートと、上記チェーンに直交させ
て設けられ上記一対の支持プレートを相互の間隔を調整
可能に支持するリニアシャフトと、上記一対の支持プレ
ートの少なくとも一方をリニアシャフトに沿って移動さ
せるネジシャフトとを備え、上記一対の支持プレートを
介して上記一対のチェーン間およびガイドレール間の間
隔を変える幅寄せ機構と、上記チェーンコンベアから落
下した基板をトレー内に回収する落下基板回収機構とを
備えた連続熱処理炉において、上記幅寄せ機構のリニア
シャフトおよびネジシャフトを、上記ガイドレールより
も上方に配置し、上記支持プレートのガイドレールより
も下方部分に切欠部を設け、この切欠部に上記基板回収
機構のトレーの少なくとも一部を導入したことを特徴と
するものである。上記構成の連続熱処理炉によれば、前
記切欠部に基板回収機構のトレーの少なくとも一部を導
入しているので、その導入量だけ炉長を短縮できる。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下この発明の実施の形態につい
て、添付図面を参照しながら詳述する。図１はこの発明
の連続熱処理炉の一つの実施の形態を示す要部平面図で
ある。この発明の連続熱処理炉は、トンネル状の加熱ゾ
ーンＲと、この加熱ゾーンＲに基板Ａを連続的に搬入す
るチェーンコンベア１と、このチェーンコンベア１の一
対のチェーン１１の走行をガイドする一対のガイドレー
ル１２と、上記一対のチェーン１１間および一対のガイ
ドレール１２間の間隔を変える幅寄せ機構３と、搬送途
中に落下した基板Ａを回収する落下基板回収機構５とか
ら主要部が構成されている。

【０００８】上記加熱ゾーンＲは、トンネル状の発熱体
Ｒ１と、その外周を覆った断熱体Ｒ２とで構成されてい
る（図２参照）。上記チェーンコンベア１は、当該加熱
ゾーンＲの入口から出口を通り、加熱ゾーンＲの下方を
通って、再び入口に戻る無限軌道を形成している（図２
参照）。上記一対のチェーン１１には、基板Ａの端部を
支持するための複数個の短尺ピン１１ａが片側に突出さ
せて設けられており、各チェーン１１は、各短尺ピン１
１ａの突出側を対向させて配置されている。このため、
上記一対のチェーン１１間の間隔を、基板Ａの幅に設定
することにより、基板Ａを、その両端部を水平に突出し
た両側の短尺ピン１１ａで下方から支持して搬送でき
る。

【０００９】上記ガイドレール１２は、加熱ゾーンＲの
入口から出口に水平に貫通させて設けられており、上記
チェーン１１は各ガイドレール１２によってガイドされ
て炉内を走行できる。各ガイドレール１２の一端部は、
幅寄せ機構３に連結された一対の支持プレート２にそれ
ぞれ固定されている。

【００１０】上記支持プレート２は、切欠部２１ａが形
成された逆Ｌ字状の板状体で、水平部２１とアーム部２
２とから構成されている（図２参照）。上記ガイドレー
ル１２は上記水平部２１の下部側に固定されている。上
記アーム部２２は、上記水平部２１の上記加熱ゾーンＲ
から遠い方の端部（左端部）に、長手方向を鉛直方向に
向けて設けられている。上記アーム部２２の下端部と水
平部２１の左端部とに、スプロケット１３が回転可能に
連結されている。このため、上記チェーン１１は、上記
アーム部２２に沿って上方に移動し、続いて上記ガイド
レール１２に沿って移動できる。

【００１１】上記幅寄せ機構３は、片方の支持プレート
２（図１において下側）を所定の位置に固定し、他方の
支持プレート２（図１において上側）を上記チェーンコ
ンベア１の搬送方向に直交する方向に姿勢を変えずに移
動させるものである。各支持プレート２の水平部２１に
はチェーンコンベア１の搬送方向に沿って、３っの貫通
孔２３が形成されており、この貫通孔２３に、上記幅寄
せ機構３を構成するネジシャフト３１と、当該ネジシャ
フト３１の左右に配置される一対のリニアシャフト３３
とがそれぞれ挿通されている。

【００１２】上記リニアシャフト３３と上記ネジシャフ
ト３１の各々の両端部は、一対のレールベース４にそれ
ぞれ連結されて、水平状態に保持されている。上記ネジ
シャフト３１の両端は、当該一対のレールベース４にそ
れぞれ回動可能に連結され、上記リニアシャフト３３の
両端はレールベース４にそれぞれ固定されている。上記
ネジシャフト３１は、軸の長さ方向の片側１／２にネジ
部３１ａが形成されている。当該ネジ部３１ａは、移動
側の支持プレート２の貫通孔２３に対応させて設けたナ
ット部３２にねじ込まれている。ネジシャフト３１のネ
ジ部３１ａが形成されていない側は固定側の支持プレー
ト２の貫通孔２３に回転自在に挿通されている。

【００１３】上記一対のリニアシャフト３３は、上記ネ
ジシャフト３１の両サイドに平行に配置され、移動側の
支持プレート２は、その貫通孔２３に対応させて設けた
リニアボールベアリング３４を介して各リニアシャフト
３３にスライド可能に支持されている。固定側の支持プ
レート２は、その貫通孔に対応させて設けたシャフトホ
ルダ３５を介して各リニアシャフト３３に固定されてい
る。したがって、図示しない駆動部によって上記ネジシ
ャフト３１を回動させることにより、移動側の支持プレ
ート２は上記リニアシャフト３３に沿ってスライドす
る。

【００１４】上記支持プレート２の上記切欠部２１ａに
は、落下基板回収機構５のトレー５２全体が導入されて
いる。当該トレー５２は、回収コンベア５１とともに落
下基板回収機構５を構成している。当該回収コンベア５
１は、上記チェーンコンベア１の無限軌道の内周側を巡
り、上記加熱ゾーンＲの入り口で折り返し点が設けられ
た無限軌道に沿って移動し、上記チェーンコンベア１か
ら落下した基板Ａを受け止め上記加熱ゾーンＲの内部か
ら入口側へ搬送する。上記トレー５２は、上記回収コン
ベア５１から搬出される基板Ａを、上記加熱ゾーンＲの
入り口で受け止める。

【００１５】上記の構成の連続熱処理炉は、支持プレー
ト２の水平部２１の下方に設けた切欠部２１ａにトレー
５２の全体を導入しているので、トレー５２の切欠部２
１ａの全長分だけ炉長を短くできる。なお、上記トレー
５２は、少なくとも一部が切欠部２１ａに導入されてい
ればよく、この場合には、その導入量だけ炉長を短くで
きる。また、上記実施の形態においては、一対の支持プ
レート２の一方のみを移動調整するようにしているが、
両方を移動調整するようにしてももちろんよい。

【００１６】

【発明の効果】以上のように、この発明の連続熱処理炉
によれば、支持プレートの上部に幅寄せ機構を配置し
て、支持プレートの幅寄せ機構の下方に設けた切欠部に
基板回収機構のトレーの少なくとも一部を導入している
ので、このトレーの導入量分だけ炉長を短くできる。こ
のため、連続熱処理炉を設置する清浄環境域を広くする
必要がなく、その分コストが安くなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の連続熱処理炉の一つの実施の形態を
示す一部欠載平面図である。

【図２】図１のII−II断面図である。

【図３】従来例の平面図である。

【図４】図３のIV−IV断面図である。

【符号の説明】

１チェーンコンベア１１チェーン１２ガイドレール２支持プレート２１ａ切欠部３幅寄せ機構３１ネジシャフト３３リニアシャフト５落下基板回収機構５２トレーＡ基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板搬送用の一対のチェーンからなるチェ
ーンコンベアと、上記チェーンコンベアの炉内での走行をガイドする一対
のガイドレールと、上記ガイドレールおよびチェーンコンベアの一端部を支
持する一対の支持プレートと、上記チェーンに直交させて設けられ上記一対の支持プレ
ートを相互の間隔を調整可能に支持するリニアシャフト
と、上記一対の支持プレートの少なくとも一方をリニア
シャフトに沿って移動させるネジシャフトとを備え、上
記一対の支持プレートを介して上記一対のチェーン間お
よびガイドレール間の間隔を変える幅寄せ機構と、上記チェーンコンベアから落下した基板をトレー内に回
収する落下基板回収機構とを備えた連続熱処理炉におい
て、上記幅寄せ機構のリニアシャフトおよびネジシャフト
を、上記ガイドレールよりも上方に配置し、上記支持プ
レートのガイドレールよりも下方部分に切欠部を設け、
この切欠部に上記基板回収機構のトレーの少なくとも一
部を導入したことを特徴とする連続熱処理炉。