JP2001040475A - ターゲットホルダー構造 - Google Patents
ターゲットホルダー構造Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 焼き付きを防止し、取り付けの平行度の確
認が容易なターゲットホルダーを提供する。 【解決手段】 平盤状の台座のターゲット保持面の周縁
に、互いに間隔をおいて３個以上に分割されたターゲッ
トの位置決めをするための位置決め枠を設け、該台座の
側面の該位置決め枠の無い切欠部分にネジ部を設け、タ
ーゲットをホールドするのに充分な長さを有する把持具
で把持し、把持具を台座の側面の各ネジ孔にネジ止めし
て固定することによって、ターゲットをターゲットホル
ダーの台座面に固定するようにした。
認が容易なターゲットホルダーを提供する。 【解決手段】 平盤状の台座のターゲット保持面の周縁
に、互いに間隔をおいて３個以上に分割されたターゲッ
トの位置決めをするための位置決め枠を設け、該台座の
側面の該位置決め枠の無い切欠部分にネジ部を設け、タ
ーゲットをホールドするのに充分な長さを有する把持具
で把持し、把持具を台座の側面の各ネジ孔にネジ止めし
て固定することによって、ターゲットをターゲットホル
ダーの台座面に固定するようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば酸化物超電
導体を形成する際に使用するレーザ蒸着装置などの、成
膜法に用いるターゲットホルダー構造の改良に関する。
導体を形成する際に使用するレーザ蒸着装置などの、成
膜法に用いるターゲットホルダー構造の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、酸化物系超電導体を製造する方法
として、真空蒸着法、スパッタリング法、レーザ蒸着
法、ＭＢＥ法（分子線エピタキシー法）、ＣＶＤ法（化
学気相成長法）、ＩＶＤ法（イオン気相成長法）などの
成膜法が知られている。これらの各種成膜方法のうち
で、均質で超電導特性の良い酸化物超電導体膜を製造で
きる方法としては、真空成膜プロセスを用い、ターゲッ
トから発生させた粒子を対向する基材上に堆積させる、
いわゆるスパッタリング法、レーザ蒸着法などの物理蒸
着法が主流となっている。
として、真空蒸着法、スパッタリング法、レーザ蒸着
法、ＭＢＥ法（分子線エピタキシー法）、ＣＶＤ法（化
学気相成長法）、ＩＶＤ法（イオン気相成長法）などの
成膜法が知られている。これらの各種成膜方法のうち
で、均質で超電導特性の良い酸化物超電導体膜を製造で
きる方法としては、真空成膜プロセスを用い、ターゲッ
トから発生させた粒子を対向する基材上に堆積させる、
いわゆるスパッタリング法、レーザ蒸着法などの物理蒸
着法が主流となっている。
【０００３】図８に、酸化物系超電導体を製造するため
のレーザ蒸着装置の一例を示した。このレーザ蒸着装置
は、内部を真空排気自在に構成された処理容器１０を有
し、この処理容器１０の内部の蒸着処理室１０ａの下部
側に基材１がセットされ、該基材１の上方側には酸化物
超電導体または酸化物超電導体と近似組成のターゲット
２を配置してある。一方、処理容器１０の外部には前記
ターゲット２の表面にレーザ光を照射して粒子の噴流
（プルーム）３を発生させるための、レーザ発光装置４
が設けられている。前記処理容器１０は排気孔１０ｂを
介して図示略の真空排気装置に接続されていて、処理容
器１０の内部を真空排気できるようになっている。
のレーザ蒸着装置の一例を示した。このレーザ蒸着装置
は、内部を真空排気自在に構成された処理容器１０を有
し、この処理容器１０の内部の蒸着処理室１０ａの下部
側に基材１がセットされ、該基材１の上方側には酸化物
超電導体または酸化物超電導体と近似組成のターゲット
２を配置してある。一方、処理容器１０の外部には前記
ターゲット２の表面にレーザ光を照射して粒子の噴流
（プルーム）３を発生させるための、レーザ発光装置４
が設けられている。前記処理容器１０は排気孔１０ｂを
介して図示略の真空排気装置に接続されていて、処理容
器１０の内部を真空排気できるようになっている。
【０００４】前記ターゲット２は平盤状のものであり、
円形の他に方形のものも使用される。材質は目的とする
薄膜の組成と同じかそれに近い組成のものが使用され
る。例えば酸化物超伝導体の場合には、Ｙ−Ｂａ−Ｃｕ
−Ｏ系、Ｂｉ−Ｓｒ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系、Ｔｉ−Ｂａ−
Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系、などの酸化物焼結体を使用する。金
属薄膜を作る場合はＣｕ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｔａなどの純金
属が使用される。その他には窒化物等の高融点物質も使
用される。ターゲット２は、片方の表面が基材１表面と
所定の角度をなして向き合うようにターゲットホルダー
１１によって支持され配置されている。
円形の他に方形のものも使用される。材質は目的とする
薄膜の組成と同じかそれに近い組成のものが使用され
る。例えば酸化物超伝導体の場合には、Ｙ−Ｂａ−Ｃｕ
−Ｏ系、Ｂｉ−Ｓｒ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系、Ｔｉ−Ｂａ−
Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系、などの酸化物焼結体を使用する。金
属薄膜を作る場合はＣｕ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｔａなどの純金
属が使用される。その他には窒化物等の高融点物質も使
用される。ターゲット２は、片方の表面が基材１表面と
所定の角度をなして向き合うようにターゲットホルダー
１１によって支持され配置されている。
【０００５】また、基材１とターゲット２の間には、窓
孔５ａを有するフィルタ板５を配置する場合がある。フ
ィルター板５を使用することにより、ターゲット２から
基材１に向けて移動する粒子のうち、窓孔５ａを通過し
て基材１に対してほぼ垂直に当たる粒子のみを選択的に
基材１上に堆積させることができるようになる。このよ
うな窓孔５ａを有するフィルタ板５は、ターゲット２か
ら基材１に向けて移動する粒子の噴流３の中心線Ｇが窓
孔５ａの中心を通るように配置される。
孔５ａを有するフィルタ板５を配置する場合がある。フ
ィルター板５を使用することにより、ターゲット２から
基材１に向けて移動する粒子のうち、窓孔５ａを通過し
て基材１に対してほぼ垂直に当たる粒子のみを選択的に
基材１上に堆積させることができるようになる。このよ
うな窓孔５ａを有するフィルタ板５は、ターゲット２か
ら基材１に向けて移動する粒子の噴流３の中心線Ｇが窓
孔５ａの中心を通るように配置される。
【０００６】基材１の下には基材表面を成膜に適する温
度に保ち、時には生成した薄膜の熱処理を行うために、
基材１を高温に加熱するヒーター６が配置されている。
基材１は通常２００℃以上、高い時には９００℃以上の
高温に加熱される。基材１の下部には温度を管理するた
めの熱電対７を挿入してある。
度に保ち、時には生成した薄膜の熱処理を行うために、
基材１を高温に加熱するヒーター６が配置されている。
基材１は通常２００℃以上、高い時には９００℃以上の
高温に加熱される。基材１の下部には温度を管理するた
めの熱電対７を挿入してある。
【０００７】一方、ターゲット２にはレーザ光が所定の
角度を持って照射され、照射された部分のタ−ゲット２
は局部的に超高温となり、構成粒子が蒸着処理室１０ａ
空間に叩き出されて粒子の噴流（プルーム）３となって
飛散し、対向配置された基材１上に飛来堆積して薄膜を
形成するようになっている。
角度を持って照射され、照射された部分のタ−ゲット２
は局部的に超高温となり、構成粒子が蒸着処理室１０ａ
空間に叩き出されて粒子の噴流（プルーム）３となって
飛散し、対向配置された基材１上に飛来堆積して薄膜を
形成するようになっている。
【０００８】良好な超電導特性の結晶薄膜を得るには、
基材１に対して方位の揃った結晶を成長させる必要があ
り、そのためにはプルーム３の軸が基材１に垂直になる
ように予め角度を選定してターゲット２を配置しておく
必要がある。ターゲット２の方位を定めるには、通常タ
ーゲット面をターゲットホルダー１１の台座面と平行に
なるように仕上げておき、ターゲットホルダー１１と基
材１とが所定の角度になるように配置してある。
基材１に対して方位の揃った結晶を成長させる必要があ
り、そのためにはプルーム３の軸が基材１に垂直になる
ように予め角度を選定してターゲット２を配置しておく
必要がある。ターゲット２の方位を定めるには、通常タ
ーゲット面をターゲットホルダー１１の台座面と平行に
なるように仕上げておき、ターゲットホルダー１１と基
材１とが所定の角度になるように配置してある。
【０００９】また、ターゲット２の局部的な消耗を避
け、寿命の延長を図るためターゲット２上のレーザ光の
照射位置を移動させている。照射位置を移動させる手段
としては、一般的にはレーザ光を移動させるとともに、
支持軸１９を回転させてターゲット２をターゲットホル
ダー１１ごと回転させる方法が採用されている（図８で
は回転機構省略）。
け、寿命の延長を図るためターゲット２上のレーザ光の
照射位置を移動させている。照射位置を移動させる手段
としては、一般的にはレーザ光を移動させるとともに、
支持軸１９を回転させてターゲット２をターゲットホル
ダー１１ごと回転させる方法が採用されている（図８で
は回転機構省略）。
【００１０】ところで、タ−ゲット２をターゲットホル
ダーの台座に取り付けるには、ターゲット２が金属材料
である場合には搾孔して台座に直接ネジ止めすることも
できるが、酸化物超電導体のような非金属材料では機械
加工が難しく、ネジ止めは実用的でない。そこで通常は
図９に示すような袋ナット方式のターゲットホルダー１
１が使用されている。この方式は台座１２の外周にネジ
３２を切る一方、ターゲット２を包み込むための底を打
ち抜いた鍋状のターゲット受け皿４０の内壁にネジ４１
を切り、前記台座１２のネジ３２と嵌合させてターゲッ
ト２を保持するものである。この方式に依ればターゲッ
ト２には機械加工する必要はなく、台座面とターゲット
面を精度良く仕上げておけば、ターゲット面を台座と同
じ方向に保つのは比較的容易であり、ターゲット２の厚
さ変化への対応も可能である。
ダーの台座に取り付けるには、ターゲット２が金属材料
である場合には搾孔して台座に直接ネジ止めすることも
できるが、酸化物超電導体のような非金属材料では機械
加工が難しく、ネジ止めは実用的でない。そこで通常は
図９に示すような袋ナット方式のターゲットホルダー１
１が使用されている。この方式は台座１２の外周にネジ
３２を切る一方、ターゲット２を包み込むための底を打
ち抜いた鍋状のターゲット受け皿４０の内壁にネジ４１
を切り、前記台座１２のネジ３２と嵌合させてターゲッ
ト２を保持するものである。この方式に依ればターゲッ
ト２には機械加工する必要はなく、台座面とターゲット
面を精度良く仕上げておけば、ターゲット面を台座と同
じ方向に保つのは比較的容易であり、ターゲット２の厚
さ変化への対応も可能である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】ところが従来の袋ナッ
ト方式のターゲットホルダーではネジ部の噛み合い面積
が大きく、処理室内が高温に保持されるとターゲットホ
ルダーも高温となって摺動部の焼付きを生じ、ターゲッ
トが取り外し難くなる欠点があった。また、円形ターゲ
ットの場合にはターゲット本体とターゲット受け皿４０
の大きさを揃えておくことで、比較的容易に台座表面に
平行に取り付けることが可能であるが、方形のターゲッ
トの場合にはターゲット２の固定が不安定となり、台座
面に平行に取り付ける際に難点がある。さらにネジ部の
締め付け具合によりターゲット受け皿４０内でターゲッ
ト２が若干傾斜したまま袋ナットを締めてしまうことが
あり、ターゲット２を台座面に平行に取り付けることが
困難となり、ターゲット２の傾きを確認することもでき
なかった。このような場合、蒸発粒子の噴流３の飛散方
向が当所の設定通りにならず、レーザ光の中心が偏心し
てしまい、フィルター板５の窓５ａの中心を通らなかっ
たり、基材１に垂直に当たらいなどの不都合を生じ、結
果として超電導特性に優れた薄膜が得られなくなるとい
う欠点があった。
ト方式のターゲットホルダーではネジ部の噛み合い面積
が大きく、処理室内が高温に保持されるとターゲットホ
ルダーも高温となって摺動部の焼付きを生じ、ターゲッ
トが取り外し難くなる欠点があった。また、円形ターゲ
ットの場合にはターゲット本体とターゲット受け皿４０
の大きさを揃えておくことで、比較的容易に台座表面に
平行に取り付けることが可能であるが、方形のターゲッ
トの場合にはターゲット２の固定が不安定となり、台座
面に平行に取り付ける際に難点がある。さらにネジ部の
締め付け具合によりターゲット受け皿４０内でターゲッ
ト２が若干傾斜したまま袋ナットを締めてしまうことが
あり、ターゲット２を台座面に平行に取り付けることが
困難となり、ターゲット２の傾きを確認することもでき
なかった。このような場合、蒸発粒子の噴流３の飛散方
向が当所の設定通りにならず、レーザ光の中心が偏心し
てしまい、フィルター板５の窓５ａの中心を通らなかっ
たり、基材１に垂直に当たらいなどの不都合を生じ、結
果として超電導特性に優れた薄膜が得られなくなるとい
う欠点があった。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は上記欠点を解消
するためになされたものであって、請求項１に記載の発
明は、成膜装置に用いるターゲットホルダーであって、
ターゲットを保持するための台座と、該台座を支持する
支持軸と、ターゲットを該台座に固定するための把持具
からなり、該台座は平盤状でターゲットを保持する面と
反対側の面に支持軸を有し、かつターゲットを保持する
面の周縁には、互いに切欠部分を隔てて３ヶ所以上に分
割配置されたターゲットの位置決めをするための位置決
め枠を有し、該切欠部分の台座側面にネジ部を設け、タ
ーゲットを把持する把持具を用いて、ターゲットを該台
座の側面の各ネジ部にネジ止めして固定するターゲット
ホルダー構造とした。
するためになされたものであって、請求項１に記載の発
明は、成膜装置に用いるターゲットホルダーであって、
ターゲットを保持するための台座と、該台座を支持する
支持軸と、ターゲットを該台座に固定するための把持具
からなり、該台座は平盤状でターゲットを保持する面と
反対側の面に支持軸を有し、かつターゲットを保持する
面の周縁には、互いに切欠部分を隔てて３ヶ所以上に分
割配置されたターゲットの位置決めをするための位置決
め枠を有し、該切欠部分の台座側面にネジ部を設け、タ
ーゲットを把持する把持具を用いて、ターゲットを該台
座の側面の各ネジ部にネジ止めして固定するターゲット
ホルダー構造とした。
【００１３】請求項２に記載の発明は把持具の取り付け
ネジ孔を長円形に構成し、ターゲットの厚さが変化して
も容易に対応できるようにしたものである。請求項３に
記載の発明は、台座を回転式とし、ターゲットが均一に
消耗するようにして延命を図ったものである。
ネジ孔を長円形に構成し、ターゲットの厚さが変化して
も容易に対応できるようにしたものである。請求項３に
記載の発明は、台座を回転式とし、ターゲットが均一に
消耗するようにして延命を図ったものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は、本発明に係わるターゲッ
トホルダーの例を示す外観図である。図２はこのターゲ
ットホルダーのＡ−Ａ’に沿った断面図、図３は下方
（Ｂ方向）から見た平面図である。このターゲットホル
ダーが従来のターゲットホルダーと異なる点は、袋ナッ
ト方式を廃止し、複数の把持具を用いてターゲットを台
座側面のネジ部に締め付けて固定する方式とした点にあ
る。
を参照して説明する。図１は、本発明に係わるターゲッ
トホルダーの例を示す外観図である。図２はこのターゲ
ットホルダーのＡ−Ａ’に沿った断面図、図３は下方
（Ｂ方向）から見た平面図である。このターゲットホル
ダーが従来のターゲットホルダーと異なる点は、袋ナッ
ト方式を廃止し、複数の把持具を用いてターゲットを台
座側面のネジ部に締め付けて固定する方式とした点にあ
る。
【００１５】図１は円形状のターゲットを対象とした例
で、台座１２の周縁に３個のＬ字型の把持具１６を用い
てネジ止めし、タ−ゲット２をターゲットホルダー１１
に固定している。台座１２の周縁には図２に示すように
タ−ゲット２の位置決めをするための位置決め枠１３が
台座のターゲット保持面１２ａよりやや下がった位置ま
で設けられている。台座１２及び位置決め枠１３の内壁
は使用するターゲットの大きさよりも若干大きめに構成
されており、ターゲットをはめ込めば所定の位置にター
ゲットが納まるようになっている。位置決め枠１３の深
さはターゲットがずれなければ良く、台座１２のターゲ
ット保持面１２ａからわずかに下がった状態、通常は
０．２〜２ｍｍ程度あればよい。位置決め枠１３の長さ
は、ターゲットの位置決めに支障がない限り特に制限は
無い。
で、台座１２の周縁に３個のＬ字型の把持具１６を用い
てネジ止めし、タ−ゲット２をターゲットホルダー１１
に固定している。台座１２の周縁には図２に示すように
タ−ゲット２の位置決めをするための位置決め枠１３が
台座のターゲット保持面１２ａよりやや下がった位置ま
で設けられている。台座１２及び位置決め枠１３の内壁
は使用するターゲットの大きさよりも若干大きめに構成
されており、ターゲットをはめ込めば所定の位置にター
ゲットが納まるようになっている。位置決め枠１３の深
さはターゲットがずれなければ良く、台座１２のターゲ
ット保持面１２ａからわずかに下がった状態、通常は
０．２〜２ｍｍ程度あればよい。位置決め枠１３の長さ
は、ターゲットの位置決めに支障がない限り特に制限は
無い。
【００１６】本発明例では位置決め枠１３を台座１２の
全周縁に設けるのではなく、３ヶ所の切欠部１４を設け
て分割して配置した。切欠部１４は図２に示すとおり台
座１２の厚さのままであり、こうすることによりターゲ
ット２をターゲットホルダー１１に取り付けるに際して
は、ターゲット２の傾きの有無が目視で判定できる利点
が生ずる。切欠部１４の幅は特に制限はないが、把持具
１６の幅と同等かやや広く構成しておくと良い。ターゲ
ットを台座に固定するために、切欠部１４はターゲット
の形状、大きさに従って複数個設ける。ターゲットが円
形の場合には、把持具１６は３個以上あればタ−ゲット
を所定位置に確実に固定することができる。また、ター
ゲットが方形の場合には、方形の各側面に沿って把持具
１４で固定すると安定して固定可能となる。台座１２の
周縁は切欠部１４を含めて同一面としても良く（図５ａ
の場合）、或いは図５ｂのごとく切欠部１４の部分で一
段引込めるように構成しても良い。このようにすれば把
持具１６をより確実に台座１２に固定することが可能と
なる利点を有する。切欠部１４の台座１２の側面には、
把持具取付用のネジ部１５を設けておく。ネジ部１５は
図５に示すようにネジ孔１５ａでも良いし、図６に示す
ようにネジ１５ｂを取り付けても良い。ネジ１５ｂを取
り付けた場合はナット２０と座金２１とを用いて把持具
１６を台座１２に取り付ける。
全周縁に設けるのではなく、３ヶ所の切欠部１４を設け
て分割して配置した。切欠部１４は図２に示すとおり台
座１２の厚さのままであり、こうすることによりターゲ
ット２をターゲットホルダー１１に取り付けるに際して
は、ターゲット２の傾きの有無が目視で判定できる利点
が生ずる。切欠部１４の幅は特に制限はないが、把持具
１６の幅と同等かやや広く構成しておくと良い。ターゲ
ットを台座に固定するために、切欠部１４はターゲット
の形状、大きさに従って複数個設ける。ターゲットが円
形の場合には、把持具１６は３個以上あればタ−ゲット
を所定位置に確実に固定することができる。また、ター
ゲットが方形の場合には、方形の各側面に沿って把持具
１４で固定すると安定して固定可能となる。台座１２の
周縁は切欠部１４を含めて同一面としても良く（図５ａ
の場合）、或いは図５ｂのごとく切欠部１４の部分で一
段引込めるように構成しても良い。このようにすれば把
持具１６をより確実に台座１２に固定することが可能と
なる利点を有する。切欠部１４の台座１２の側面には、
把持具取付用のネジ部１５を設けておく。ネジ部１５は
図５に示すようにネジ孔１５ａでも良いし、図６に示す
ようにネジ１５ｂを取り付けても良い。ネジ１５ｂを取
り付けた場合はナット２０と座金２１とを用いて把持具
１６を台座１２に取り付ける。
【００１７】タ−ゲット２は、把持具１６を用いて台座
１２の側面にネジ止め固定する。把持具１６は、最も単
純には、図３に示すように固定部１６ａとターゲット保
持部１６ｂとからＬ字型に構成したものを利用すること
ができる。固定部１６ａにはネジ止めするためのネジ孔
１７が明けられている。固定部１６ａとターゲット保持
部１６ｂとは互いに直角になるように構成しておく。台
座１２が円形で台座が曲面をなしている場合には、固定
部１６ａの台座１２と接する面は、密着できるよう互い
に面合わせを施しておくと良い。さらに、固定部１６ａ
の長さはタ−ゲット２の厚さに基づいてて決めれば良
く、タ−ゲット２を把持するのに充分な長さがあれば良
い。ターゲット保持部１６ｂの形状も特に制限は無く、
ターゲットを受け止めて保持できるものであれば良い。
例えば固定部１６ａと同じ幅であっても良いし、ターゲ
ットに沿って横長に拡がっていても良い。ターゲット保
持部１６ｂの長さも特に制限はなく、タ−ゲット２の大
きさに基づいて把持するのに充分な長さがあれば良い。
ネジ孔１７は固定部１６ａに沿って長円形にしておけ
ば、ターゲットの厚さの変化にも対応できて都合がよ
い。
１２の側面にネジ止め固定する。把持具１６は、最も単
純には、図３に示すように固定部１６ａとターゲット保
持部１６ｂとからＬ字型に構成したものを利用すること
ができる。固定部１６ａにはネジ止めするためのネジ孔
１７が明けられている。固定部１６ａとターゲット保持
部１６ｂとは互いに直角になるように構成しておく。台
座１２が円形で台座が曲面をなしている場合には、固定
部１６ａの台座１２と接する面は、密着できるよう互い
に面合わせを施しておくと良い。さらに、固定部１６ａ
の長さはタ−ゲット２の厚さに基づいてて決めれば良
く、タ−ゲット２を把持するのに充分な長さがあれば良
い。ターゲット保持部１６ｂの形状も特に制限は無く、
ターゲットを受け止めて保持できるものであれば良い。
例えば固定部１６ａと同じ幅であっても良いし、ターゲ
ットに沿って横長に拡がっていても良い。ターゲット保
持部１６ｂの長さも特に制限はなく、タ−ゲット２の大
きさに基づいて把持するのに充分な長さがあれば良い。
ネジ孔１７は固定部１６ａに沿って長円形にしておけ
ば、ターゲットの厚さの変化にも対応できて都合がよ
い。
【００１８】本発明の他の実施の態様として、図７には
方状のターゲットとして４角形のターゲットを使用する
場合の例として、台座１２が４角形の例を示す。ターゲ
ット位置決め枠１３、把持具１６の構成方法は前述の通
りで良い。本態様では切欠部１４とネジ部１５の設置位
置は、方形台座の各側面とした。台座の各側面でターゲ
ットを固定することにより、安定して把持することがで
きる。本実施の態様を取ることにより、方形のターゲッ
トにも対応できるようになる。ターゲットホルダー１１
の支持軸１９は、ターゲット２が基材１と所定の角度を
なすように真空蒸着装置に取り付けられる（図示省
略）。その場合支持軸１９を台座１２の中心部に配置
し、回転機構（図示省略）に連結すればターゲット２を
回転させることができる。ターゲットを回転させること
により、高品質の成膜が得られると共に、ターゲットの
均一な消耗もはかられるので好都合である。
方状のターゲットとして４角形のターゲットを使用する
場合の例として、台座１２が４角形の例を示す。ターゲ
ット位置決め枠１３、把持具１６の構成方法は前述の通
りで良い。本態様では切欠部１４とネジ部１５の設置位
置は、方形台座の各側面とした。台座の各側面でターゲ
ットを固定することにより、安定して把持することがで
きる。本実施の態様を取ることにより、方形のターゲッ
トにも対応できるようになる。ターゲットホルダー１１
の支持軸１９は、ターゲット２が基材１と所定の角度を
なすように真空蒸着装置に取り付けられる（図示省
略）。その場合支持軸１９を台座１２の中心部に配置
し、回転機構（図示省略）に連結すればターゲット２を
回転させることができる。ターゲットを回転させること
により、高品質の成膜が得られると共に、ターゲットの
均一な消耗もはかられるので好都合である。
【００１９】
【発明の効果】本発明は、簡便な構造でしかも確実にタ
ーゲットを把持できるターゲットホルダー構造を提供で
きる。本発明によれば、ネジ部の摺動面積が減少するの
で焼付きが無くなり、ターゲットの脱着が容易となる。
また、ターゲットの取り付け状況が目視で確認できるよ
うになり、ターゲット表面を所定の方向に確実に保持で
きるようになるので、特性の良い成膜が得られるように
なる。本発明はターゲットの材質に係わらず適用でき、
レーザ蒸着装置ばかりでなく、スパッタリング装置、イ
オンプレーティング装置などのターゲットを使用する物
理成膜装置に適用できる。
ーゲットを把持できるターゲットホルダー構造を提供で
きる。本発明によれば、ネジ部の摺動面積が減少するの
で焼付きが無くなり、ターゲットの脱着が容易となる。
また、ターゲットの取り付け状況が目視で確認できるよ
うになり、ターゲット表面を所定の方向に確実に保持で
きるようになるので、特性の良い成膜が得られるように
なる。本発明はターゲットの材質に係わらず適用でき、
レーザ蒸着装置ばかりでなく、スパッタリング装置、イ
オンプレーティング装置などのターゲットを使用する物
理成膜装置に適用できる。
【図１】 本発明に係わるターゲットホルダー構造の第
１の例を示す外観図である。
１の例を示す外観図である。
【図２】 図１のターゲットホルダー構造を示す説明図
である。
である。
【図３】 図１のターゲットホルダーを下面（Ｂ方向）
から見た図である。
から見た図である。
【図４】 本発明に使用する把持具の一例を示す図で、
（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【図５】 本発明の台座に設ける切欠部とネジ孔の構造
例を説明する図である。
例を説明する図である。
【図６】 ネジ部の一実施例を示す図である。
【図７】 本発明に係わるターゲットホルダー構造の第
２の例を示す外観図である。
２の例を示す外観図である。
【図８】 レーザ蒸着装置を説明するための図である。
【図９】 従来のターゲットホルダー構造を示す図であ
る。
る。
１・・・基材、２・・・ターゲット、３・・・粒子の噴流（プル
ーム）、４・・・レーザ発光装置、５・・・フィルタ板、６・・
・加熱ヒーター、７・・・熱電対、８・・・反射鏡、９・・・集光
レンズ、１０・・・真空処理容器、１１・・・ターゲットホル
ダー、１２・・・台座、１３・・・位置決め枠、 １４・・・切
欠部、１５・・・ネジ部、１６・・・把持具、１７・・・長孔、
１８・・・ボルト、１９・・・支持軸、２０・・・ナット、２１・
・・座金、４０・・・ターゲット受け皿、Ｇ・・・中心線
ーム）、４・・・レーザ発光装置、５・・・フィルタ板、６・・
・加熱ヒーター、７・・・熱電対、８・・・反射鏡、９・・・集光
レンズ、１０・・・真空処理容器、１１・・・ターゲットホル
ダー、１２・・・台座、１３・・・位置決め枠、 １４・・・切
欠部、１５・・・ネジ部、１６・・・把持具、１７・・・長孔、
１８・・・ボルト、１９・・・支持軸、２０・・・ナット、２１・
・・座金、４０・・・ターゲット受け皿、Ｇ・・・中心線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 定方 伸行 東京都江東区木場１丁目５番１号 株式会 社フジクラ内 (72)発明者 斉藤 隆 東京都江東区木場１丁目５番１号 株式会 社フジクラ内 Ｆターム(参考） 4K029 BC04 DB01 DB20 DC23
Claims (3)
- 【請求項１】 金属又は非金属のイオン若しくは蒸気ま
たは原子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いるタ
ーゲットホルダーであって、ターゲットを保持するため
の台座と、該台座を支持する支持軸と、ターゲットを該
台座に固定するための把持具からなり、該台座は平盤状
でターゲットを保持する面と反対側の面に支持軸を有
し、かつターゲットを保持する面の周縁には、互いに切
欠部分を隔てて３ヶ所以上に分割配置されたターゲット
の位置決めをするための位置決め枠を有し、該切欠部分
の台座側面にネジ部を設け、ターゲットを把持する把持
具を用いて、ターゲットを該台座の側面の各ネジ部にネ
ジ止めして固定するようにしたことを特徴とするターゲ
ットホルダー構造。 - 【請求項２】 把持具のネジ孔が長円形であることを特
徴とする請求項１に記載のターゲットホルダー構造。 - 【請求項３】 台座を回転式であることを特徴とする請
求項１または請求項２に記載のターゲットホルダー構
造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21600399A JP3808244B2 (ja) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | ターゲットホルダー構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21600399A JP3808244B2 (ja) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | ターゲットホルダー構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001040475A true JP2001040475A (ja) | 2001-02-13 |
| JP3808244B2 JP3808244B2 (ja) | 2006-08-09 |
Family
ID=16681795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21600399A Expired - Fee Related JP3808244B2 (ja) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | ターゲットホルダー構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3808244B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102501154A (zh) * | 2011-10-26 | 2012-06-20 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种离子束抛光过程中工件装卡装置和方法 |
| KR101212863B1 (ko) | 2011-02-28 | 2012-12-14 | 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 박막 증착 장비 |
| CN104816217A (zh) * | 2015-05-05 | 2015-08-05 | 中国兵器科学研究院宁波分院 | 一种用于真空环境的精密角度驱动装置 |
| CN108018534A (zh) * | 2017-12-12 | 2018-05-11 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于装夹靶材的磁控溅射镀膜装夹装置 |
-
1999
- 1999-07-29 JP JP21600399A patent/JP3808244B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101212863B1 (ko) | 2011-02-28 | 2012-12-14 | 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 박막 증착 장비 |
| CN102501154A (zh) * | 2011-10-26 | 2012-06-20 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种离子束抛光过程中工件装卡装置和方法 |
| CN102501154B (zh) * | 2011-10-26 | 2014-01-29 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种离子束抛光过程中工件装卡装置和方法 |
| CN104816217A (zh) * | 2015-05-05 | 2015-08-05 | 中国兵器科学研究院宁波分院 | 一种用于真空环境的精密角度驱动装置 |
| CN108018534A (zh) * | 2017-12-12 | 2018-05-11 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于装夹靶材的磁控溅射镀膜装夹装置 |
| CN108018534B (zh) * | 2017-12-12 | 2020-12-11 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于装夹靶材的磁控溅射镀膜装夹装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3808244B2 (ja) | 2006-08-09 |
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