JP3808244B2 - ターゲットホルダー構造 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば酸化物超電導体を形成する際に使用するレーザ蒸着装置などの、成膜法に用いるターゲットホルダー構造の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、酸化物系超電導体を製造する方法として、真空蒸着法、スパッタリング法、レーザ蒸着法、MBE法(分子線エピタキシー法)、CVD法(化学気相成長法)、IVD法(イオン気相成長法)などの成膜法が知られている。これらの各種成膜方法のうちで、均質で超電導特性の良い酸化物超電導体膜を製造できる方法としては、真空成膜プロセスを用い、ターゲットから発生させた粒子を対向する基材上に堆積させる、いわゆるスパッタリング法、レーザ蒸着法などの物理蒸着法が主流となっている。
【0003】
図8に、酸化物系超電導体を製造するためのレーザ蒸着装置の一例を示した。
このレーザ蒸着装置は、内部を真空排気自在に構成された処理容器10を有し、この処理容器10の内部の蒸着処理室10aの下部側に基材1がセットされ、該基材1の上方側には酸化物超電導体または酸化物超電導体と近似組成のターゲット2を配置してある。一方、処理容器10の外部には前記ターゲット2の表面にレーザ光を照射して粒子の噴流(プルーム)3を発生させるための、レーザ発光装置4が設けられている。
前記処理容器10は排気孔10bを介して図示略の真空排気装置に接続されていて、処理容器10の内部を真空排気できるようになっている。
【0004】
前記ターゲット2は平盤状のものであり、円形の他に方形のものも使用される。材質は目的とする薄膜の組成と同じかそれに近い組成のものが使用される。例えば酸化物超伝導体の場合には、Y−Ba−Cu−O系、Bi−Sr−Ca−Cu−O系、Ti−Ba−Ca−Cu−O系、などの酸化物焼結体を使用する。金属薄膜を作る場合はCu、Ti、Mo、Taなどの純金属が使用される。その他には窒化物等の高融点物質も使用される。
ターゲット2は、片方の表面が基材1表面と所定の角度をなして向き合うようにターゲットホルダー11によって支持され配置されている。
【0005】
また、基材1とターゲット2の間には、窓孔5aを有するフィルタ板5を配置する場合がある。フィルター板5を使用することにより、ターゲット2から基材1に向けて移動する粒子のうち、窓孔5aを通過して基材1に対してほぼ垂直に当たる粒子のみを選択的に基材1上に堆積させることができるようになる。このような窓孔5aを有するフィルタ板5は、ターゲット2から基材1に向けて移動する粒子の噴流3の中心線Gが窓孔5aの中心を通るように配置される。
【0006】
基材1の下には基材表面を成膜に適する温度に保ち、時には生成した薄膜の熱処理を行うために、基材1を高温に加熱するヒーター6が配置されている。基材1は通常200℃以上、高い時には900℃以上の高温に加熱される。基材1の下部には温度を管理するための熱電対7を挿入してある。
【0007】
一方、ターゲット2にはレーザ光が所定の角度を持って照射され、照射された部分のタ−ゲット2は局部的に超高温となり、構成粒子が蒸着処理室10a空間に叩き出されて粒子の噴流(プルーム)3となって飛散し、対向配置された基材1上に飛来堆積して薄膜を形成するようになっている。
【0008】
良好な超電導特性の結晶薄膜を得るには、基材1に対して方位の揃った結晶を成長させる必要があり、そのためにはプルーム3の軸が基材1に垂直になるように予め角度を選定してターゲット2を配置しておく必要がある。ターゲット2の方位を定めるには、通常ターゲット面をターゲットホルダー11の台座面と平行になるように仕上げておき、ターゲットホルダー11と基材1とが所定の角度になるように配置してある。
【0009】
また、ターゲット2の局部的な消耗を避け、寿命の延長を図るためターゲット2上のレーザ光の照射位置を移動させている。照射位置を移動させる手段としては、一般的にはレーザ光を移動させるとともに、支持軸19を回転させてターゲット2をターゲットホルダー11ごと回転させる方法が採用されている(図8では回転機構省略)。
【0010】
ところで、タ−ゲット2をターゲットホルダーの台座に取り付けるには、ターゲット2が金属材料である場合には搾孔して台座に直接ネジ止めすることもできるが、酸化物超電導体のような非金属材料では機械加工が難しく、ネジ止めは実用的でない。そこで通常は図9に示すような袋ナット方式のターゲットホルダー11が使用されている。この方式は台座12の外周にネジ32を切る一方、ターゲット2を包み込むための底を打ち抜いた鍋状のターゲット受け皿40の内壁にネジ41を切り、前記台座12のネジ32と嵌合させてターゲット2を保持するものである。この方式に依ればターゲット2には機械加工する必要はなく、台座面とターゲット面を精度良く仕上げておけば、ターゲット面を台座と同じ方向に保つのは比較的容易であり、ターゲット2の厚さ変化への対応も可能である。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところが従来の袋ナット方式のターゲットホルダーではネジ部の噛み合い面積が大きく、処理室内が高温に保持されるとターゲットホルダーも高温となって摺動部の焼付きを生じ、ターゲットが取り外し難くなる欠点があった。
また、円形ターゲットの場合にはターゲット本体とターゲット受け皿40の大きさを揃えておくことで、比較的容易に台座表面に平行に取り付けることが可能であるが、方形のターゲットの場合にはターゲット2の固定が不安定となり、台座面に平行に取り付ける際に難点がある。さらにネジ部の締め付け具合によりターゲット受け皿40内でターゲット2が若干傾斜したまま袋ナットを締めてしまうことがあり、ターゲット2を台座面に平行に取り付けることが困難となり、ターゲット2の傾きを確認することもできなかった。このような場合、蒸発粒子の噴流3の飛散方向が当所の設定通りにならず、レーザ光の中心が偏心してしまい、フィルター板5の窓5aの中心を通らなかったり、基材1に垂直に当たらいなどの不都合を生じ、結果として超電導特性に優れた薄膜が得られなくなるという欠点があった。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記欠点を解消するためになされたものであって、請求項1に記載の発明は、成膜装置に用いるターゲットホルダーであって、ターゲットを保持するための台座と、該台座を支持する支持軸と、ターゲットを該台座に固定するための把持具からなり、該台座は平盤状でターゲットを保持する面と反対側の面に支持軸を有し、かつターゲットを保持する面の周縁には、互いに切欠部分を隔てて3ヶ所以上に分割配置されたターゲットの位置決めをするための位置決め枠を有し、該切欠部分の台座側面にネジ部を設け、ターゲットを把持する把持具を用いて、ターゲットを該台座の側面の各ネジ部にネジ止めして固定するターゲットホルダー構造とした。
【0013】
請求項2に記載の発明は把持具の取り付けネジ孔を長円形に構成し、ターゲットの厚さが変化しても容易に対応できるようにしたものである。
請求項3に記載の発明は、台座を回転式とし、ターゲットが均一に消耗するようにして延命を図ったものである。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図1は、本発明に係わるターゲットホルダーの例を示す外観図である。図2はこのターゲットホルダーのA−A’に沿った断面図、図3は下方(B方向)から見た平面図である。
このターゲットホルダーが従来のターゲットホルダーと異なる点は、袋ナット方式を廃止し、複数の把持具を用いてターゲットを台座側面のネジ部に締め付けて固定する方式とした点にある。
【0015】
図1は円形状のターゲットを対象とした例で、台座12の周縁に3個のL字型の把持具16を用いてネジ止めし、タ−ゲット2をターゲットホルダー11に固定している。台座12の周縁には図2に示すようにタ−ゲット2の位置決めをするための位置決め枠13が台座のターゲット保持面12aよりやや下がった位置まで設けられている。台座12及び位置決め枠13の内壁は使用するターゲットの大きさよりも若干大きめに構成されており、ターゲットをはめ込めば所定の位置にターゲットが納まるようになっている。位置決め枠13の深さはターゲットがずれなければ良く、台座12のターゲット保持面12aからわずかに下がった状態、通常は0.2〜2mm程度あればよい。位置決め枠13の長さは、ターゲットの位置決めに支障がない限り特に制限は無い。
【0016】
本発明例では位置決め枠13を台座12の全周縁に設けるのではなく、3ヶ所の切欠部14を設けて分割して配置した。切欠部14は図2に示すとおり台座12の厚さのままであり、こうすることによりターゲット2をターゲットホルダー11に取り付けるに際しては、ターゲット2の傾きの有無が目視で判定できる利点が生ずる。切欠部14の幅は特に制限はないが、把持具16の幅と同等かやや広く構成しておくと良い。ターゲットを台座に固定するために、切欠部14はターゲットの形状、大きさに従って複数個設ける。ターゲットが円形の場合には、把持具16は3個以上あればタ−ゲットを所定位置に確実に固定することができる。また、ターゲットが方形の場合には、方形の各側面に沿って把持具14で固定すると安定して固定可能となる。
台座12の周縁は切欠部14を含めて同一面としても良く(図5aの場合)、或いは図5bのごとく切欠部14の部分で一段引込めるように構成しても良い。このようにすれば把持具16をより確実に台座12に固定することが可能となる利点を有する。切欠部14の台座12の側面には、把持具取付用のネジ部15を設けておく。
ネジ部15は図5に示すようにネジ孔15aでも良いし、図6に示すようにネジ15bを取り付けても良い。ネジ15bを取り付けた場合はナット20と座金21とを用いて把持具16を台座12に取り付ける。
【0017】
タ−ゲット2は、把持具16を用いて台座12の側面にネジ止め固定する。把持具16は、最も単純には、図3に示すように固定部16aとターゲット保持部16bとからL字型に構成したものを利用することができる。固定部16aにはネジ止めするためのネジ孔17が明けられている。固定部16aとターゲット保持部16bとは互いに直角になるように構成しておく。台座12が円形で台座が曲面をなしている場合には、固定部16aの台座12と接する面は、密着できるよう互いに面合わせを施しておくと良い。さらに、固定部16aの長さはタ−ゲット2の厚さに基づいてて決めれば良く、タ−ゲット2を把持するのに充分な長さがあれば良い。ターゲット保持部16bの形状も特に制限は無く、ターゲットを受け止めて保持できるものであれば良い。例えば固定部16aと同じ幅であっても良いし、ターゲットに沿って横長に拡がっていても良い。ターゲット保持部16bの長さも特に制限はなく、タ−ゲット2の大きさに基づいて把持するのに充分な長さがあれば良い。ネジ孔17は固定部16aに沿って長円形にしておけば、ターゲットの厚さの変化にも対応できて都合がよい。
【0018】
本発明の他の実施の態様として、図7には方状のターゲットとして4角形のターゲットを使用する場合の例として、台座12が4角形の例を示す。ターゲット位置決め枠13、把持具16の構成方法は前述の通りで良い。本態様では切欠部14とネジ部15の設置位置は、方形台座の各側面とした。台座の各側面でターゲットを固定することにより、安定して把持することができる。本実施の態様を取ることにより、方形のターゲットにも対応できるようになる。
ターゲットホルダー11の支持軸19は、ターゲット2が基材1と所定の角度をなすように真空蒸着装置に取り付けられる(図示省略)。その場合支持軸19を台座12の中心部に配置し、回転機構(図示省略)に連結すればターゲット2を回転させることができる。ターゲットを回転させることにより、高品質の成膜が得られると共に、ターゲットの均一な消耗もはかられるので好都合である。
【0019】
【発明の効果】
本発明は、簡便な構造でしかも確実にターゲットを把持できるターゲットホルダー構造を提供できる。本発明によれば、ネジ部の摺動面積が減少するので焼付きが無くなり、ターゲットの脱着が容易となる。また、ターゲットの取り付け状況が目視で確認できるようになり、ターゲット表面を所定の方向に確実に保持できるようになるので、特性の良い成膜が得られるようになる。本発明はターゲットの材質に係わらず適用でき、レーザ蒸着装置ばかりでなく、スパッタリング装置、イオンプレーティング装置などのターゲットを使用する物理成膜装置に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係わるターゲットホルダー構造の第1の例を示す外観図である。
【図2】 図1のターゲットホルダー構造を示す説明図である。
【図3】 図1のターゲットホルダーを下面(B方向)から見た図である。
【図4】 本発明に使用する把持具の一例を示す図で、(a)は正面図、(b)は側面図である。
【図5】 本発明の台座に設ける切欠部とネジ孔の構造例を説明する図である。
【図6】 ネジ部の一実施例を示す図である。
【図7】 本発明に係わるターゲットホルダー構造の第2の例を示す外観図である。
【図8】 レーザ蒸着装置を説明するための図である。
【図9】 従来のターゲットホルダー構造を示す図である。
【符号の説明】
1・・・基材、2・・・ターゲット、3・・・粒子の噴流(プルーム)、4・・・レーザ発光装置、5・・・フィルタ板、6・・・加熱ヒーター、7・・・熱電対、8・・・反射鏡、9・・・集光レンズ、10・・・真空処理容器、11・・・ターゲットホルダー、12・・・台座、13・・・位置決め枠、 14・・・切欠部、15・・・ネジ部、16・・・把持具、17・・・長孔、18・・・ボルト、19・・・支持軸、20・・・ナット、21・・・座金、40・・・ターゲット受け皿、G・・・中心線
Claims (3)
- 金属又は非金属のイオン若しくは蒸気または原子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いるターゲットホルダーであって、ターゲットを保持するための台座と、該台座を支持する支持軸と、ターゲットを該台座に固定するための把持具からなり、該台座は平盤状でターゲットを保持する面と反対側の面に支持軸を有し、かつターゲットを保持する面の周縁には、互いに切欠部分を隔てて3ヶ所以上に分割配置されたターゲットの位置決めをするための位置決め枠を有し、該切欠部分の台座側面にネジ部を設け、ターゲットを把持する把持具を用いて、ターゲットを該台座の側面の各ネジ部にネジ止めして固定するようにしたことを特徴とするターゲットホルダー構造。
- 把持具のネジ孔が長円形であることを特徴とする請求項1に記載のターゲットホルダー構造。
- 台座を回転式であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のターゲットホルダー構造。
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