JP2000509103A - コントロールされたサイズ分布を有するタンタル金属粉末の製造方法とその生産品 - Google Patents
コントロールされたサイズ分布を有するタンタル金属粉末の製造方法とその生産品Info
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- 【特許請求の範囲】 1.個々の粉末粒子を含む基本ロット(basic lot)の凝集体を有する基本ロッ トのタンタル粉末を微粉砕し、 この微粉砕段階はミクロン単位での体積平均径、MVとm2/g単位での比表面 積、BETとの積が約25より低い値であるように微粉砕された生成物が粒度分布す るまで続けられる該段階を含むタンタル粉末のサイズする(Sizing)方法。 2.該微粉砕はこの微粉砕された生成物が約0.01〜約20ミクロンの微粉砕され た凝集サイズになるまで続けられる請求項1記載の方法。 3.該微粉砕はこの微粉砕された凝集生成物の粒度分布が約2.5ミクロンより 低いD10値を有するまで続けられる請求項1記載の方法。 4.該微粉砕はこの微粉砕された凝集生成物の粒度分布は約50ミクロンより低 いD90値を有するまで続けられる請求項1記載の方法。 5.該微粉砕された凝集体の粒度分布は約2.5ミクロンより低いD10値及び約5 0ミクロンより低いD90値を有する請求項1記載の方法。 6.該微粉砕された凝集体の粒度分布は実質的にユニモダル(unimodal)であ る請求項1記載の方法。 7.該粒度分布の中央微粉砕凝集サイズは約10ミクロンにも及ぶ請求項1記載 の方法。 8.該微粉砕段階は該タンタル粉末を液体と混合しそしてタンタル粉末と液体 との混合物を高剪断混合装置を用いて粉砕して行う請求項1記載の方法。 9.該液体は水を含む請求項8記載の方法。 10.該微粉砕段階は衝撃ミル装置を用いて行う請求項1記載の方法。 11.該微粉砕段階の前に、タンタル粉末を水素と反応させることを更に含む請 求項10記載の方法。 12.該微粉砕段階はボールミル装置を用いて行う請求項1記載の方法。 13.該微粉砕段階の前に、タンタル粉末を水素と反応させることを更に含む請 求項12記載の方法。 14.該微粉砕段階は超音波ミル装置を用いて行う請求項1記載の方法。 15.該微粉砕段階の前に、タンタル粉末を水素と反応させることを更に含む請 求項14記載の方法。 16.タンタル塩を還元剤で還元してまず該基本ロットのタンタル粉末を製造し 、該微粉砕段階の後に該微粉砕粉末を熱処理、脱酸、浸出及び乾燥する段階を更 に含む請求項1記載の方法。 17.該タンタル塩はK2TaF7を含む請求項16記載の方法。 18.該還元剤はナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム及び水素か ら成る群から選ばれる請求項16記載の方法。 19.該微粉砕段階の後に、微粉砕粉末を加熱処理して熱処理凝集塊を含む熱処 理タンタル粉末を形成することを更に含む請求項1記載の方法。 20.該加熱処理段階の後に、加熱処理したタンタル粉末を脱酸して加熱処理さ れ脱酸された凝集塊を含む加熱処理され脱酸された凝集粉末を形成することを更 に含む請求項19記載の方法。 21.該加熱処理段階は約800℃から約1600℃の温度において行われる請求項19 記載の方法。 22.該加熱処理され脱酸されたタンタル粉末をスクリーンして実質的にユニモ ダルの加熱処理され脱酸された凝集粒度分布のタンタル粉末を製造する段階を更 に含む請求項20記載の方法。 23.実質的にユニモダルの凝集粒度分布は約30ミクロンから約500ミクロンの 範囲である請求項22記載の方法。 24.加熱処理され脱酸された凝集粉末は約150ミクロンから約250ミクロンの中 央凝集サイズを有する粒度分布である請求項20記載の方法。 25.請求項1記載の方法に従って製造されたタンタル粉末。 26.請求項6記載の方法に従って製造されたタンタル粉末。 27.請求項14記載の方法に従って製造されたタンタル粉末。 28.請求項22記載の方法に従って製造されたタンタル粉末。 29.ミクロン単位での体積平均径、MVとm2/g単位での比表面積、BETとの積 が約25より低い値である微粉砕凝集粒子を有する微粉砕されたタンタル粉末。 30.約2.5ミクロンより低いD10値の微粉砕凝集粒度分布を有する請求項29記 載の微粉砕タンタル粉末。 31.約20ミクロンより低いD90値の微粉砕凝集粒度分布を有する請求項29記載 の微粉砕タンタル粉末。 32.約2.5ミクロンより低いD10値及び約20ミクロンより低いD90値の微粉砕 凝集粒度分布を有する請求項29記載の微粉砕粉末。 33.ミクロン単位での加熱処理した凝集体の体積平均径、MVとm2/g単位で の比表面積、BETとの積は約90から約250の範囲であり、そしてBETは約0.7m2/ gより大きい加熱処理凝集粒子を有する加熱処理タンタル粉末。 34.約45より低いD10値の加熱処理した凝集粒度分布を有する請求項33記載の 加熱処理タンタル粉末。 35.約350ミクロンより低いD90値の加熱処理した凝集粒度分布を有する請求 項33記載の加熱処理タンタル粉末。 36.約45より低いD10値及び約350より低いD90値の加熱処理した凝集粒度分 布を有する請求項33記載の加熱処理タンタル粉末。 37.ミクロン単位での加熱処理され脱酸処理された凝集体の体積平均径、MVと m2/g単位での比表面積、BETとの積は約90から約250の範囲であり、そしてBET は約0.7m2/gより大きい加熱処理され脱酸された凝集粒子を有する加熱処理さ れ脱酸されたタンタル粉末。 38.約45より低いD10値の加熱処理され脱酸された凝集粒度分布を有する請求 項37記載の加熱処理され脱酸されたタンタル粉末。 39.約350ミクロンより低いD90値の加熱処理された凝集粒度分布を有する請 求項37記載の加熱処理タンタル粉末。 40.約45より低いD10値及び約350より低いD90値の加熱され脱酸された凝集 粒度分布を有する請求項37記載の加熱処理され脱酸されたタンタル粉末。 41.g/in3単位でのスコットバルク密度(Scott Bulk Density)とm2/g単 位でのBET表面積(BET Surface Area)との割合(ratio)が約20から約35の範囲で ある微粉砕された凝集粒子を有するタンタルの微粉砕基本ロット粉末。 42.加熱処理及び脱酸された後、該タンタル粉末はg/in3単位でのスコット バルク密度とm2/g単位でのBET表面積との割合が約38から約50の範囲そしてBE Tが0.86m2/gより大きい加熱され脱酸された凝集粒子を有する請求項29記載の 微粉砕タンタル粉末。 43.加熱処理及び脱酸された後、該タンタル粉末はmg/s単位でのディフィル レート(Die Fill Rate)とm2/g単位でのBET表面積との割合が0.86m2/gより 大きいBETの粉末に対し約66から約 160の範囲である加熱処理され脱酸された凝集粒子を有する請求項29記載の微粉 砕タンタル粉末。 44.加熱処理及び脱酸された後、該タンタル粉末は+500メッシュに分篩した 後mg/s単位でのディフィルレートとm2/g単位でのBET表面積との割合が0.86 m2/gより大きいBETの粉末に対し約350から約700の範囲である加熱処理され脱 酸された凝集粒子を有する請求項29記載の微粉砕タンタル粉末。 45.加熱処理されそして脱酸された微粉砕タンタル粉末は最終的にコンデンサ ーの製造に使用されるタンタル粉末であって、実質的にユニモダルの凝集粒度分 布を有する微粉砕凝集粒子を含む該粉末。 46.該微粉砕凝集体は約0.01から20ミクロンの範囲の狭い凝集粒度分布を有す る請求項44記載の加熱処理により最終のタンタル粉末になる微粉砕タンタル粉末 。 47.該微粉砕凝集体は約3〜5ミクロンの中央微粉砕凝集サイズの微粉砕凝集 粒度分布を有する請求項45記載の加熱処理による最終のタンタル粉末になる微粉 砕されたタンタル粉末。 48.(a)実質的にユニモダルの凝集粒度分布、 (b)約30から約500ミクロンの範囲の狭い凝集粒度分布及び(c)約150から 約250ミクロンの中央凝集サイズの凝集粒度分布を有するコンデンサーの製造に 使用されるタンタル粉末。 49.鉛電極の焼結金属陽極を含む中央電極体を有するコンデンサーにおいて、 請求項29記載の粉末から得られた焼結製品を含む該陽極を用いる改良。 50.鉛電極の焼結金属陽極を含む中央電極体を有するコンデンサーにおいて、 請求項25記載の粉末から得られた焼結製品を含む該陽極を用いる改良。 51.鉛電極の焼結金属陽極を含む中央電極体を有するコンデンサーにおいて、 請求項37記載の粉末から得られた焼結製品を含む該陽極を用いる改良。 52.鉛電極の焼結金属陽極を含む中央電極体を有するコンデンサーにおいて、 請求項41記載の粉末から得られた焼結製品を含む該陽極を用いる改良。 53.鉛電極の焼結金属陽極を含む中央電極体を有するコンデンサーにおいて、 請求項42記載の粉末から得られた焼結製品を含む該陽極を用いる改良。 54.鉛電極の焼結金属陽極を含む中央電極体を有するコンデンサーにおいて、 請求項43記載の粉末から得られた焼結製品を含む該陽極を用いる改良。 55.鉛電極の焼結金属陽極を含む中央電極体を有するコンデンサーにおいて、 請求項44記載の粉末から得られた焼結製品を含む該陽極を用いる改良。 56.基本ロット凝集体を形成できる個々の粉末粒子を有するタンタルの基本ロ ット粉末を高剪断微粉砕してミクロン単位での体積平均径、MVとm2/g単位で の比表面積BETの積が約25の範囲にまでなる粒度分布の微粉砕凝集体を有する焼 結タンタル粉末にする段階を含むタンタル粉末をサイズする方法。 57.凝集体を機械的に微粉砕してミクロン単位での体積平均径、MVとm2/g 単位での比表面積BETとの積を事前に選定した値を有する中間生成物を製造し、 続いてこの中間生成物を熱的に凝集しそして熱的に凝集した中間生成物を粉砕す る方法により、より小さい粒子の凝集体を含むその形態から限られた粒子の粒度 分布を有するタンタル粉末の製造方法。 58.タンタル塩を還元剤で還元してタンタル粉末を製造しそして このタンタル粉末を加熱処理してタンタル粉末を製造する方法において、加熱処 理する前にタンタルを微粉砕することを包含する改良方法。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006129850A1 (en) * | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Cabot Supermetals K. K. | Metal powder and manufacturing methods thereof |
JP2007077460A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Cabot Supermetal Kk | 金属粉末およびその製造方法 |
JP2007533854A (ja) * | 2004-04-23 | 2007-11-22 | ハー ツェー シュタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンデイトゲゼルシヤフト | ニオブ粉末及びタンタル粉末の製造方法 |
JP2008516432A (ja) * | 2004-10-08 | 2008-05-15 | ハー ツェー シュタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンデイトゲゼルシヤフト | 固体電解質コンデンサを製造するためのタンタル粉末 |
JP2014222776A (ja) * | 2003-06-10 | 2014-11-27 | グローバル アドバンスト メタルズ,ユー.エス.エー.,インコーポレイティド | タンタル粉末およびその製造方法 |
CN106216695A (zh) * | 2016-08-25 | 2016-12-14 | 宁波英纳特新材料有限公司 | 一种高压电容器用球形钽粉的制备方法 |
JP2017519904A (ja) * | 2014-06-16 | 2017-07-20 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション | 粉末生成物の製造方法 |
Families Citing this family (80)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7435282B2 (en) | 1994-08-01 | 2008-10-14 | International Titanium Powder, Llc | Elemental material and alloy |
US7445658B2 (en) | 1994-08-01 | 2008-11-04 | Uchicago Argonne, Llc | Titanium and titanium alloys |
US20030145682A1 (en) * | 1994-08-01 | 2003-08-07 | Kroftt-Brakston International, Inc. | Gel of elemental material or alloy and liquid metal and salt |
US20030061907A1 (en) * | 1994-08-01 | 2003-04-03 | Kroftt-Brakston International, Inc. | Gel of elemental material or alloy and liquid metal and salt |
US6268054B1 (en) * | 1997-02-18 | 2001-07-31 | Cabot Corporation | Dispersible, metal oxide-coated, barium titanate materials |
CZ301097B6 (cs) * | 1997-02-19 | 2009-11-04 | H.C. Starck Gmbh | Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody |
AU6495398A (en) * | 1997-02-19 | 1998-09-09 | H.C. Starck Gmbh & Co. Kg | Tantalum powder, method for producing same powder and sintered anodes obtained from it |
CN1073480C (zh) * | 1998-05-08 | 2001-10-24 | 宁夏有色金属冶炼厂 | 团化钽粉的生产方法 |
US6576038B1 (en) * | 1998-05-22 | 2003-06-10 | Cabot Corporation | Method to agglomerate metal particles and metal particles having improved properties |
CN1069564C (zh) * | 1998-07-07 | 2001-08-15 | 宁夏有色金属冶炼厂 | 钽粉末的制造方法 |
JP3871824B2 (ja) * | 1999-02-03 | 2007-01-24 | キャボットスーパーメタル株式会社 | 高容量コンデンサー用タンタル粉末 |
US6261337B1 (en) * | 1999-08-19 | 2001-07-17 | Prabhat Kumar | Low oxygen refractory metal powder for powder metallurgy |
US6563695B1 (en) * | 1999-11-16 | 2003-05-13 | Cabot Supermetals K.K. | Powdered tantalum, niobium, production process thereof, and porous sintered body and solid electrolytic capacitor using the powdered tantalum or niobium |
BR0109429A (pt) * | 2000-03-23 | 2005-11-16 | Cabot Corp | Ëxido de nióbio de reduzido teor de oxigênio |
US6585795B2 (en) * | 2000-08-07 | 2003-07-01 | Ira L. Friedman | Compaction of powder metal |
JP2002060803A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-28 | Showa Kyabotto Super Metal Kk | 電解コンデンサ用タンタル焼結体の製造方法 |
US6849104B2 (en) * | 2000-10-10 | 2005-02-01 | H. C. Starck Inc. | Metalothermic reduction of refractory metal oxides |
KR100893415B1 (ko) * | 2001-05-04 | 2009-04-17 | 에이치. 씨. 스타아크 아이앤씨 | 내화 금속 옥사이드의 금속열 환원 |
US7442227B2 (en) | 2001-10-09 | 2008-10-28 | Washington Unniversity | Tightly agglomerated non-oxide particles and method for producing the same |
GB2410251B8 (en) * | 2002-03-12 | 2018-07-25 | Starck H C Gmbh | Valve metal powders and process for producing them |
DE10307716B4 (de) | 2002-03-12 | 2021-11-18 | Taniobis Gmbh | Ventilmetall-Pulver und Verfahren zu deren Herstellung |
US7632333B2 (en) | 2002-09-07 | 2009-12-15 | Cristal Us, Inc. | Process for separating TI from a TI slurry |
US7515397B2 (en) | 2003-05-19 | 2009-04-07 | Cabot Corporation | Methods of making a niobium metal oxide and oxygen reduced niobium oxides |
JP2005079333A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Nec Tokin Corp | 分散液用弁作用金属粉末およびそれを使用した固体電解コンデンサ |
US6914770B1 (en) * | 2004-03-02 | 2005-07-05 | Vishay Sprague, Inc. | Surface mount flipchip capacitor |
WO2005099935A1 (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Jfe Mineral Company, Ltd. | タンタル粉末およびそれを用いた固体電解コンデンサ |
CA2589548A1 (en) * | 2004-06-24 | 2006-02-02 | H.C. Starck, Inc. | Production of valve metal powders with improved physical and electrical properties |
DE112005001499T5 (de) * | 2004-06-28 | 2007-05-10 | Cabot Corp., Boston | Flockenförmiges Tantal mit hoher Kapazität und Verfahren zu dessen Herstellung |
US20060177614A1 (en) * | 2005-02-09 | 2006-08-10 | Zhiyong Xia | Polyester polymer and copolymer compositions containing metallic tantalum particles |
CA2606478C (en) | 2005-05-05 | 2013-10-08 | H.C. Starck Gmbh | Method for coating a substrate surface and coated product |
JP4904341B2 (ja) * | 2005-05-05 | 2012-03-28 | ハー.ツェー.スタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | スパッタターゲット及びx線アノードを製造又は再処理するための被覆方法 |
US20070017319A1 (en) | 2005-07-21 | 2007-01-25 | International Titanium Powder, Llc. | Titanium alloy |
CN100339172C (zh) * | 2005-09-29 | 2007-09-26 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 球化造粒凝聚金属粉末的方法,金属粉末和电解电容器阳极 |
EP1928620B1 (en) * | 2005-09-29 | 2020-03-18 | Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd. | Method for spherically granulating and agglomerating metal particles |
EA200801029A1 (ru) | 2005-10-06 | 2008-10-30 | Интернэшнл Тайтейнием Паудер, Ллк | Борид титана |
IL173649A0 (en) * | 2006-02-09 | 2006-07-05 | Cerel Ceramic Technologies Ltd | High capacitance capacitor anode |
CZ306436B6 (cs) * | 2006-05-05 | 2017-01-25 | Cabot Corporation | Tantalový prášek a způsob jeho výroby a anoda elektrolytického kondenzátoru |
BRPI0715961A2 (pt) * | 2006-08-16 | 2013-08-06 | Starck H C Gmbh | produtos semiacabados com uma superfÍcie ativa sinterizada estruturada e um processo para sua produÇço |
US20080078268A1 (en) * | 2006-10-03 | 2008-04-03 | H.C. Starck Inc. | Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof |
GB0622463D0 (en) * | 2006-11-10 | 2006-12-20 | Avx Ltd | Powder modification in the manufacture of solid state capacitor anodes |
US20080145688A1 (en) | 2006-12-13 | 2008-06-19 | H.C. Starck Inc. | Method of joining tantalum clade steel structures |
US7753989B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-07-13 | Cristal Us, Inc. | Direct passivation of metal powder |
US9127333B2 (en) | 2007-04-25 | 2015-09-08 | Lance Jacobsen | Liquid injection of VCL4 into superheated TiCL4 for the production of Ti-V alloy powder |
US8197894B2 (en) | 2007-05-04 | 2012-06-12 | H.C. Starck Gmbh | Methods of forming sputtering targets |
JP2011500962A (ja) * | 2007-10-15 | 2011-01-06 | ハイ−テンプ・スペシャルティー・メタルス・インコーポレーテッド | 再生スクラップを原材料として使用したタンタル粉末の生産方法 |
CA2661469A1 (en) * | 2008-04-11 | 2009-10-11 | Andre Foucault | Leg rehabilitation apparatus |
US8246903B2 (en) | 2008-09-09 | 2012-08-21 | H.C. Starck Inc. | Dynamic dehydriding of refractory metal powders |
DE102008048614A1 (de) | 2008-09-23 | 2010-04-01 | H.C. Starck Gmbh | Ventilmetall-und Ventilmetalloxid-Agglomeratpulver und Verfahren zu deren Herstellung |
US8043655B2 (en) * | 2008-10-06 | 2011-10-25 | H.C. Starck, Inc. | Low-energy method of manufacturing bulk metallic structures with submicron grain sizes |
US20100085685A1 (en) * | 2008-10-06 | 2010-04-08 | Avx Corporation | Capacitor Anode Formed From a Powder Containing Coarse Agglomerates and Fine Agglomerates |
US8512422B2 (en) | 2010-06-23 | 2013-08-20 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing an improved manganese oxide electrolyte |
US8619410B2 (en) | 2010-06-23 | 2013-12-31 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for use in high voltage applications |
US8477479B2 (en) | 2011-01-12 | 2013-07-02 | Avx Corporation | Leadwire configuration for a planar anode of a wet electrolytic capacitor |
US8687347B2 (en) | 2011-01-12 | 2014-04-01 | Avx Corporation | Planar anode for use in a wet electrolytic capacitor |
US9322081B2 (en) | 2011-07-05 | 2016-04-26 | Orchard Material Technology, Llc | Retrieval of high value refractory metals from alloys and mixtures |
US9412568B2 (en) | 2011-09-29 | 2016-08-09 | H.C. Starck, Inc. | Large-area sputtering targets |
US8741214B2 (en) | 2011-10-17 | 2014-06-03 | Evans Capacitor Company | Sintering method, particularly for forming low ESR capacitor anodes |
US20140294663A1 (en) * | 2011-11-29 | 2014-10-02 | Showa Denko K.K. | Method for manufacturing fine tungsten powder |
US9105401B2 (en) | 2011-12-02 | 2015-08-11 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a gelled working electrolyte |
CN102806345B (zh) * | 2012-04-19 | 2014-07-09 | 潘伦桃 | 钽粉的造粒装置及造粒制造凝聚钽粉的方法 |
JP5933397B2 (ja) | 2012-08-30 | 2016-06-08 | エイヴィーエックス コーポレイション | 固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ |
CN102909365B (zh) * | 2012-11-20 | 2014-07-09 | 温州智创科技有限公司 | 一种医用钽粉的制备方法 |
GB2512481B (en) | 2013-03-15 | 2018-05-30 | Avx Corp | Wet electrolytic capacitor for use at high temperatures |
GB2512486B (en) | 2013-03-15 | 2018-07-18 | Avx Corp | Wet electrolytic capacitor |
GB2517019B (en) | 2013-05-13 | 2018-08-29 | Avx Corp | Solid electrolytic capacitor containing conductive polymer particles |
US9892862B2 (en) | 2013-05-13 | 2018-02-13 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a pre-coat layer |
US9472350B2 (en) | 2013-05-13 | 2016-10-18 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a multi-layered adhesion coating |
CN103273069B (zh) * | 2013-05-29 | 2015-08-26 | 北京工业大学 | 一种高纯超细纳米晶镥块体材料的制备方法 |
US9183991B2 (en) | 2013-09-16 | 2015-11-10 | Avx Corporation | Electro-polymerized coating for a wet electrolytic capacitor |
US10403444B2 (en) | 2013-09-16 | 2019-09-03 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a composite coating |
US9165718B2 (en) | 2013-09-16 | 2015-10-20 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a hydrogen protection layer |
US9236193B2 (en) | 2013-10-02 | 2016-01-12 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for use under high temperature and humidity conditions |
US9928963B2 (en) | 2015-03-13 | 2018-03-27 | Avx Corporation | Thermally conductive encapsulant material for a capacitor assembly |
US10014108B2 (en) | 2015-03-13 | 2018-07-03 | Avx Corporation | Low profile multi-anode assembly |
US9754730B2 (en) | 2015-03-13 | 2017-09-05 | Avx Corporation | Low profile multi-anode assembly in cylindrical housing |
WO2016192049A1 (zh) * | 2015-06-03 | 2016-12-08 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种微细钽粉及其制备方法 |
US9870868B1 (en) | 2016-06-28 | 2018-01-16 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor for use in a subcutaneous implantable cardioverter-defibrillator |
US9870869B1 (en) | 2016-06-28 | 2018-01-16 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor |
RU2657257C1 (ru) * | 2017-08-04 | 2018-06-09 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр "Кольский научный центр Российской академии наук" (ФИЦ КНЦ РАН) | Способ получения агломерированного танталового порошка |
CN114472883B (zh) * | 2022-01-27 | 2024-01-30 | 长沙南方钽铌有限责任公司 | 一种钽颗粒的制造工艺 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3418106A (en) * | 1968-01-31 | 1968-12-24 | Fansteel Inc | Refractory metal powder |
US3473915A (en) * | 1968-08-30 | 1969-10-21 | Fansteel Inc | Method of making tantalum metal powder |
US3992192A (en) * | 1974-07-01 | 1976-11-16 | Haig Vartanian | Metal powder production |
US4149876A (en) * | 1978-06-06 | 1979-04-17 | Fansteel Inc. | Process for producing tantalum and columbium powder |
DE3130392C2 (de) * | 1981-07-31 | 1985-10-17 | Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin | Verfahren zur Herstellung reiner agglomerierter Ventilmetallpulver für Elektrolytkondensatoren, deren Verwendung und Verfahren zur Herstellung von Sinteranoden |
DE3140248C2 (de) * | 1981-10-09 | 1986-06-19 | Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin | Verwendung von dotiertem Ventilmetallpulver für die Herstellung von Elektrolytkondensatoranoden |
US4684399A (en) * | 1986-03-04 | 1987-08-04 | Cabot Corporation | Tantalum powder process |
US4740238A (en) * | 1987-03-26 | 1988-04-26 | Fansteel Inc. | Platelet-containing tantalum powders |
US4940490A (en) * | 1987-11-30 | 1990-07-10 | Cabot Corporation | Tantalum powder |
US5211741A (en) * | 1987-11-30 | 1993-05-18 | Cabot Corporation | Flaked tantalum powder |
US4804147A (en) * | 1987-12-28 | 1989-02-14 | Waste Management Energy Systems, Inc. | Process for manufacturing aggregate from ash residue |
US4968481A (en) * | 1989-09-28 | 1990-11-06 | V Tech Corporation | Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics |
US5234491A (en) * | 1990-05-17 | 1993-08-10 | Cabot Corporation | Method of producing high surface area, low metal impurity |
US5217526A (en) * | 1991-05-31 | 1993-06-08 | Cabot Corporation | Fibrous tantalum and capacitors made therefrom |
-
1996
- 1996-04-25 US US08/638,922 patent/US5954856A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-04-25 MX MXPA98008829A patent/MXPA98008829A/es not_active IP Right Cessation
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- 1997-04-25 IL IL12672997A patent/IL126729A/en not_active IP Right Cessation
- 1997-04-25 RU RU98121324/02A patent/RU2210463C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-04-25 CN CN97195826A patent/CN1082550C/zh not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-07-28 US US09/123,818 patent/US5986877A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014222776A (ja) * | 2003-06-10 | 2014-11-27 | グローバル アドバンスト メタルズ,ユー.エス.エー.,インコーポレイティド | タンタル粉末およびその製造方法 |
JP2016146500A (ja) * | 2003-06-10 | 2016-08-12 | グローバル アドバンスト メタルズ,ユー.エス.エー.,インコーポレイティド | タンタル粉末およびその製造方法 |
JP2007533854A (ja) * | 2004-04-23 | 2007-11-22 | ハー ツェー シュタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンデイトゲゼルシヤフト | ニオブ粉末及びタンタル粉末の製造方法 |
JP2008516432A (ja) * | 2004-10-08 | 2008-05-15 | ハー ツェー シュタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンデイトゲゼルシヤフト | 固体電解質コンデンサを製造するためのタンタル粉末 |
JP2012019223A (ja) * | 2004-10-08 | 2012-01-26 | H.C. Starck Gmbh | 固体電解質コンデンサを製造するためのタンタル粉末 |
KR101285491B1 (ko) | 2004-10-08 | 2013-07-12 | 하.체. 스타르크 게엠베하 운트 코. 카게 | 고체 전해 커패시터를 생성하기 위한 탄탈 분말 |
US8657915B2 (en) | 2005-05-31 | 2014-02-25 | Global Advanced Metals Japan, K.K. | Metal powder and manufacturing methods thereof |
WO2006129850A1 (en) * | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Cabot Supermetals K. K. | Metal powder and manufacturing methods thereof |
JP2007077460A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Cabot Supermetal Kk | 金属粉末およびその製造方法 |
JP2017519904A (ja) * | 2014-06-16 | 2017-07-20 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション | 粉末生成物の製造方法 |
US10471512B2 (en) | 2014-06-16 | 2019-11-12 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method of producing a powder product |
US11224916B2 (en) | 2014-06-16 | 2022-01-18 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method of producing a powder product |
CN106216695A (zh) * | 2016-08-25 | 2016-12-14 | 宁波英纳特新材料有限公司 | 一种高压电容器用球形钽粉的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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