JP2000505231A - 高いバリアを有する高解像度平面パネル蛍光体スクリーン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ディスプレイのフェースプレートを形成するための方法は、フェースプレートの内側とフェースpレートの外側を有するフェースプレートの基板を提供する。複数のサブピクセルのボリュームを画定する複数のバリアがフェースプレートの内側に形成される。赤、緑及び青の蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物がサブピクセルのボリュームに堆積され、フェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を形成する。蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物の少なくとも１部が、フェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を通して十分な化学線の光で露光され、サブピクセルのボリュームにおける蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物の選択された深さを重合し、複数のサブピクセルのボリュームに重合した蛍光体を含む材料を形成する。重合しない蛍光体を含む光重合可能な材料は、重合した蛍光体を含む材料から除去される。

Description

【発明の詳細な説明】 高いバリアを有する高解像度平面パネル蛍光体スクリーン 関連出願とのクロスレファレンス 本願は、電子散乱効果を減少したフラットパネルディスプレイの名称で、１９ ９５年１１月２０日に出願された出願番号０８／５６０，１６６に関連する。 発明の背景 本発明は、ディスプレイのフェースプレートの内面上に蛍光体を形成する方法 に関し、特にサブピクセルの大きさを画定するバリアを有するフェースプレート の内面に蛍光体を形成する方法に関する。従来の技術 これらのディスプレイのイメージの質を最適にするために、サブピクセル間の 光のクロストークを最小にするように、カラーサブピクセル間の境界に物理的バ リアを構成することが望ましい。これらのバリアは、ＦＥＤの場合には蛍光体か ら散乱した電子を遮り、またプラズマ技術の場合には共振ホトン(resonant phot on)の拡散を阻止する。両方の場合、これらのバリアは、色純度やコントラスト の損失を避ける。意図されたように機能するために、これらのバリアは高くなけ ればならない。ＦＥＤ及びプラズマバリアのための一般的な高さは、５０〜１０ ０μｍである。この高さは、ディスプレイの解像度が増加するにしたがって、ピ クセルサイズは小さくなり、バリアの高さとピクセル幅の比は大きくなるので、 ディスプレイの解像度とは比較的無関係である。 ＦＥＤ及びプラズマディスプレイのために、バリアによって作られるウエル内 に適切な厚さと形状の蛍光体のピクセル素子を形成することが必要である。フル カラーディスプレイにとって、白ピクセルは隣接するＲＧＢのサブピクセルから 構成されることが必要である。 蛍光体スクリーンが、全面及びビューイングプレート上に堆積される形式の透 過ディスプレイにとって、蛍光体の厚さ、密度及び位置の制御は、最適な輝度、 コントラスト及び色純度のために重要である。 従来のＣＲＴディスプレイは、位置の誤差を考慮し、ビューイングコントラス トを増強するために、一般に蛍光体のサブピクセル間の境界に比較的平らな形状 のバリアを組み込こんでいる。従来のＣＲＴスクリーン上へ蛍光体を堆積するた めの一般的な方法は、回転するフェースプレート上に湿った蛍光体スラリーを施 すことによって、第１のカラーと光感光ポリマーの蛍光体のドライフィルムをま ず形成し、乾燥し、光感光フィルムをシャドウマスクを通して化学線の光(actin ic light)に露光して、シャドウマスクの孔の潜像を形成し、続いて露光されな い領域を現像することによって、シャドウマスクの孔に相当する蛍光体パターン を形成する。このプロセスは、フルカラースクリーンを形成するために、第２及 び第３のカラーの蛍光体に対して繰り返される。このプロセスは、平面バリアに よって邪魔されることはないが、蛍光体/ポリマーのドットが蛍光体/ガラスの鏡 界面よりむしろ蛍光体/空気の鏡界面から露光される（そしてより完全に重合さ れる）ので、蛍光体の接着が減少する。 Murakami他は、Proc.Japan-Korea Joint Symp．Information Display，1992， pp.73-78において、プラズマ平面パネルの前面ガラス上に増大した接着を与える ために、ガラスの鏡界面から露光することによって、蛍光体ピクセルを形成する 方法を開示している。このプロセスは、厳格な平行光を形成するために、大きな （６５０mmｘ９００mm）の凸レンズを有する複雑な装置を必要とし、また蛍光体 パターン及び（平面の）バリアを露光するために、大きな１：１のホトマスクを 用いる。 蛍光体ピクセルが裏側プレートに含まれるいろいろなプラズマでディスプレイ の設計は、輝度効率のためバリアリブの側を覆う蛍光体を有する蛍光体ピクチャ 素子の形状を必要とし、且つアドレス（ＡＣプラズマ）又はディスプレイ-アノ ード（ＤＣプラズマ）電極を露光する。これらの設計は、一般には深いウエルに 蛍光体をスクリーンプリントする。スクリーンプリントは、厚さ及び位置の制御 に対して不正確な方法であるので、ウエルにスクリーンされた蛍光体は、所望の 厚さになく、そして残留蛍光体がバリアの頂部上に残る。従って、バリアから不 必要な蛍光体を除去し、ウエル内の厚さを制御するために、二次処理が必要にな る。蛍光体を除去するサンドブラストは現在の技術である。これは、本来的に汚 いプロセスであり、ブラストする媒体によって、また除去された材料によって装 置を汚染し易い。 これらのディスプレイは、一般的には”反射型”であり、それらにおいて、蛍 光体（裏側プレート上に含まれる）からの放出された光が透明な前面プレートを 通して見られる。 ＦＥＤ及びプラズマディスプレイから、発光素子（及びプロセス）を含むプレ ートからビューイングスクリーン（及びプロセス）を含むプレートを分離するこ とが望ましい。これはより良いプロセス制御を可能にし、最大の歩留まりを向上 する。 蛍光体を有するビューイングスクリーンを形成する現在の方法は、費用がかか り、商用の製造プロセスへ拡大するのは困難である。従って、蛍光体がコーティ ングされたビューイングスクリーンを形成する費用のかからない方法を開発する 必要性がある。 発明の概要 従って、本発明の目的は、ディスプレ用の、蛍光体がコーティングされたフェ ースプレートを形成するためのコストのかからない方法を提供することである。 本発明の他の目的は、ディスプレイ用の、蛍光体がコーティングされたフェー スプレートを形成するためのパターン化することができる方法を提供することで ある。 本発明の他の目的は、パターン化することができ、蛍光体のサブピクセルを保 護し、且つ堆積された蛍光体材料を砕くことなく除去することができるディスプ レイ用の、蛍光体がコーティングされたフェースプレートを形成するための方法 を提供することである。 更に、本発明の他の目的は、堆積された蛍光体材料が高いバリアによって境界 が設けられるディスプレイ用の、蛍光体がコーティングされたフェースプレート を形成するための方法を提供することである。 更に、本発明の他の目的は、高輝度、コントラスト及び色純度を有するディス プレイ用の、蛍光体がコーティングされたフェースプレートを形成する方法を提 供することである。 本発明のこれらの及び他の目的は、フェースプレートの内側と外側を有するフ ェースプレート基板を備えるディスプレイのフェースプレートを形成する方法に よって達成される。複数のバリアは、複数のサブピクセルのボリュームを画定す るバリアで、フェースプレートの内側上に形成される。蛍光体を含有する光重合 可能な材料混合物がサブピクセルのボリュームに堆積され、フェースプレートの 内側/蛍光体鏡界面を形成する。蛍光体を含有する光重合可能な材料混合物の少 なくとも１部がフェースプレートの内側/蛍光体鏡界面を通して十分な化学線の 光で露光され、サブピクセルのボリユームに蛍光体を含有する光重合可能な材料 の混合物の選択された深さを重合化し、複数のサブピクセルのボリュームに重合 化された蛍光体を含む材料を形成する。重合しない蛍光体を含む光重合化された 材料は、重合した蛍光体を含む材料から除去される。 図面の簡単な説明 図１は、バリアを有するディスプレイのエンベロープの断面図である。 図２は、フェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を形成する赤、緑及び青の 蛍光体を囲むサブピクセルのボリュームを画定する高いバリアを有するフェース プレートの内側の断面図である。 図３は、プラズマセルの断面図である。 図４（ａ）−（ｃ）は、蛍光体スクリーンを製造するためのプロセスシーケン スを示す。 詳細な説明 ディスプレイのフェースプレートを形成する方法が、フェースプレートの内側 （内面）と外側（外面）を有するフェースプレート基板を提供する。複数のバリ アがフェースプレートの内側（内面）上に形成され、これらバリアは複数のサブ ピクセルのボリュームを画定する。蛍光体を含有する光重合可能な材料混合物、 赤、緑、及び青がサブピクセルボリュームに堆積され、フェースプレートの内側 ／蛍光体の鏡界面を形成する。蛍光体を含有する光重合化可能な材料の混合物の 少なくとも一部がフェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を通して十分な化学 線の光で露光され、サブピクセルのボリュームに蛍光体を含有する光重合可能な 材料の混合物の選択された深さを重合化し、複数のサブピクセルのボリュームに 重合化された蛍光体を含有する材料を形成する。重合化されない蛍光体を含有す る光重合可能な材料は、重合化された蛍光体を含有する材料から除去される。 図１に示されるように、ディスプレイ１０はフェースプレート１２とバックプ レーと１４を有し、それらは、真空圧、例えば約１ｘ１０^-7トル或いはそれ以下 に保持されたシールされたエンベロープ１６を形成する。１以上の内部支持体 （図示せず）がバックプレーと１４に対してフェースプレート１２を支持する。 この囲いのために、フィールドエミッタ１８は、複数のフィールドエミッタか、 或いは単一のフィールドエミッタを有することができる。フィールドエミッタ１ ８は、フィラメント、コーン等である。各々のフィールドエミッタ１８は、絶縁 層にある開口を通して延びており、下にあるエミッタラインと接触している。各 々のフィールドエミッタ１８の上部は、上にあるゲートラインの開口を通して露 出される。行と列の電極が各々のフィールドエミッタ１８からの電子ビーム２０ の放射を制御する。 電子ビーム２０を画定する電子は、１ｋＶから１０ｋＶの範囲にあるエネルギ ーで複数のフィールドエミッタ１８から加速される。電子ビーム２０は、フォー カス電極２２によってフォーかすされ、対応する重合した蛍光体を含有する材料 を叩く。フィールドエミッタ１８と対応する蛍光体のサブピクセルを規定する対 応する重合した蛍光体含有材料のセット間で、１体１の対応がある。各々の蛍光 体サブピクセルは、サブピクセルのボリューム２６を画定する複数のバリア２４ によって囲まれている。 フォーカス電極２２は、蛍光体のサブピクセルに向かう電子の加速に用いられ る。集積回路チップは、電子のフェースプレート１２への流れが調節されるよう に、行と列の電極の電圧を制御するための駆動回路を含む。電気的に導電性のト レースがチップ上の回路を行と列の電極に電気的に接続するために用いられる。 フェースプレート１２とバックプレーと１４は約1.1mm厚さのガラスからなっ ている。Owens-Illinois CV120を含むが、それに限定されないはんだガラスの ハーメチックシールが側壁をフェースプレート１２とバックプレーと１４に取り 付け、シールされたエンベロープを形成する。全体のディスプレイ１０は、４５ ０℃のシーリング温度に耐えなければならない。エンベロープ１６内の圧力は、 代表的には１０^-7トル或いはそれ以下である。この高レベルの真空は、高温にお いてポンプのポートを通してエンベロープ１６を真空引きすることによって達成 され、吸収されたガスがすべての内面から除去されるようにする。その後エンベ ロープ１６は、ポンプポートのパッチ（patch）によってシールされる。 図２を参照すると、蛍光体を含有する光重合可能な材料の混合物（赤用のも の、緑用のもの及び青用のもの）がサブピクセルのボリューム２６に堆積され、 フェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面２８を形成する。蛍光体を含む光重合 可能な材料の混合物の少なくとも１部がフェースプレートの内側／蛍光体の鏡界 面２８を通して十分な化学線の光で露光され、サブピクセルのボリューム２６に 蛍光体を含有する光重合可能な材料の混合物の選択された深さを重合化し、そし て赤のための重合した蛍光体を含む材料３０（ａ）、緑のための重合した蛍光体 を含む材料３０（ｂ）、青のための重合した蛍光体を含む材料３０（ｃ）を別々 のサブピクセルのボリューム２６に形成する。 バリア２４はフェースプレート２６の内側に形成される。バリア２４は金属、 ガラス、セラミック、ポリマー、ポリアミド等から作ることができる。バリア２ ４は散乱シールドとしての機能を果たす。散乱シールドは、それらの対応するサ ブピクセルのボリューム２６から出る散乱電子の数を減少する。これは、対応し ない蛍光体のサブピクセルを打つ電子の数ばかりでなく、エンベロープ１６の内 部の絶縁面を帯電することから散乱電子の数を減少する。これは、コントラス ト、色純度及び高電圧ディスプレイにおける電力効率を増加する。 散乱シールドの高さは、サブピクセルのボリューム２６から逃げる散乱電子の 数を減少するのに十分である。好ましくは、散乱シールド３８の高さは、１２μ ｍ、２５μｍ、５０μｍ、７５μｍ及び１００μｍ、或いはそれ以上である。し かし、実際の高さと大きさはディスプレイの大きさに依存して変わるであろう。 散乱シールドは、重合された蛍光体を含む材料３０（ａ）、３０（ｂ）及び３０ （ｃ）の高さを越えて約２０−２００μm、２０−１００μm、及び５０−１００ μmの範囲の高さを有している。 図３にプラズマセルが示されている。プラズマはＹ電極間に形成され、ＵＶホ トンを発生する。ＸとＹ電極は透明で、導電性である。図３のプラズマセルは、 ＵＶホトンをロックする。バリア２４は、殆ど全体的にバックプレートに延びて おり、殆ど閉じたセルに真空排気のためのアクセスを与える。 複数の赤、緑及び青の蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物が複数のサブピ クセルのボリュームに堆積される。これは、フェースプレートの内側／蛍光体の 鏡界面を形成する。蛍光体を含有する光重合可能な材料の混合物の少なくとも１ 部がフェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を通して、十分な化学線の光で露 光され、サブピクセルのボリュームに蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物の 選択された深さを重合化する。これは、複数のサブピクセルのボリューム２６に 赤、緑及び青の重合した蛍光体を含む材料を形成する。 赤、緑及び青の重合した蛍光体を含む材料をサブピクセルのボリューム２６に 形成するために、パターン化可能なマスクか、或いはスクリーンが利用される。 スクリーン及びマスクは、重合された蛍光体を含む材料を保護し、そしてスクリ ーンとマスクは、それらに対応するサブピクセルのボリューム２６に重合された 蛍光体を含む材料を分裂することなく除去可能である。スクリーンとマスクの使 用は、スクリーンプリントの、高スループット、低コスト方法であり、サブピク セルのボリューム２６に、緑、赤、そして青の、スラリーを含むがそれに限定さ れない、混合物の光感光性混合物を続いて堆積するか、注入する。 光感光媒体がフェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面２８を通して透過され た化学線の光に露光され、それによって各々のサブピクセルのボリユーム２６を 囲むバリア２４によってマスクされない領域に蛍光体を含有する光重合可能な材 料の混合物を重合する。 その後、露光されない蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物は、バリア２４ の上部から及び露光の強さによって貫通されない、サブピクセルのボリユーム２ ６にある蛍光体を含有する光重合可能な材料の混合物から、洗浄等によって除去 される。 高電圧ディスプレイ１０に対して、露光されない蛍光体を含む光重合可能な材 料の混合物が除去された後、メタライゼーション層がサブピクセルのボリューム ２６における赤、緑及び青の重合された蛍光体を含む材料上に形成される。メタ ライゼーション層は、薄膜を形成し、良好な形態の適用範囲を与え、そして低い 原子番号を有している。適当なメタライゼーション材料は、アルミニウムなどを 含む。低電圧ディスプレイ１０に対しては、透明な導電層が、フェースプレート と赤、緑及び青の重合された蛍光体を含む材料間のフェースプレートの内面上に 形成される。適当な導電層はインジウム錫酸化物（indium tin oxide:IT0）で ある。この導電層は、フェースプレート１２のチャージアップ（帯電）を減少す る。 図４（ａ）−図４（ｃ）は、サブピクセルのボリューム２６における赤、緑及 び青の重合した蛍光体を含む材料形成を示す。１つの実施形態において、この材 料は、ポリビニールアルコール（ＰＶＡ）の光感光混合物における赤の蛍光体の スラリーであり、２クロム酸アンモニウムより水が、スクリーン３６の開口３４ を通してスラリーを強制するドクターブレード３２の圧力によってサブピクセル のボリューム２６へ与えられる。緑と青の蛍光体のスラリーも用いられる。重合 された蛍光体を含む材料はスラリーである必要がないことを認識すべきである。 赤の蛍光体は、光感光性蛍光体スラリーから水分を除去するために、４０℃で １０分間対流式オーブンで乾燥される。 このサイクルはそれぞれ他の蛍光体カラーに対して繰り返される。 その後、乾いた光感光性蛍光体フィルムを有するフェースプレートの外部は、 ＰＶＡを重合するために、ガラス／蛍光休鏡界面を通して２５０mJ/sqcmの露光 量に対して波長３６５nmの光に露光される。蛍光体の厚さは、露光の強さと量に 依存する。この露光量は、現像後１２μm（nom）のスクリーン厚を与える。化学 線の光は、すべての残留蛍光体が露光されずに残るように、バリア層２４の上部 によって阻止される。 その後、フェースプレート１２は、サブピクセルのボリューム２６における露 光された蛍光体と共に現像されて、水スプレイを行うことによって重合されない 蛍光体／ＰＶＡを除去する。 バリア２４を形成するためのプロセスの実施形態において、ラッカーの層ガス プレイされる。このラッカー層の上面は滑らかである。光の反射層がこのラッカ ー層上に蒸着される。この構造物は、ラッカを燃やして除去するために、酸素を 含む雰囲気で約４５０℃で６０分間加熱される。 バリア２４のための１つの選ばれた材料は、例えばDuPont，Hitachi等から供 給されるOCGPromide 7020や他の同様なポリマーのような光で規定できるポリア ミドである。 Probimide 7020の第１の層が７５０rpmで３０秒間従来のスピン堆積法によっ て堆積される。フェースプレーと１２は、７０℃で、続いて１００℃のソフトベ ークによって、ホットプレート上に焼き付けられて、溶剤を取り除く。黒のマト リックスパターンが（ｉ）Probimideの層に接近するマスクを通る露光により、 （ii）Probimideの層の現像、続いて（iii）４５０℃でベークすることによって 形成される。その後、このProbimidoは、パドル／スプレイサイクルによって、O CGQZ3501において現像される。そして溶媒のリンス（OCG QZ 3512）が行われる 。 Probimideの第2の層が堆積され、第１の層と同じ条件でベークされる。ソフト ベークされたProbimideは、Probimideの層に接近したマスクを通して405nmの光 によって露光される。露光されたProbimideの層は安定化され、１分当たり３℃ の熱傾斜を伴う窒素雰囲気中において４５０℃で１時間ハードベークされる。 バリア２４は、ブラッククロミウムからも形成され、フェースプレート１２上 に従来のリソグラフィによって光パターン化される。 本発明の好適な実施形態の上記説明は、概要の説明のために行われた。本発明 を開示されたものに限定するものでない。多くの変形や変更が当業者に明らかで あろう。本発明は、請求の範囲及びその均等物によって規定されるべきである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ドラム ポール エム アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95123 サン ホセ クリー ドライヴ 671 (72)発明者 デューボック ロバート エム ジュニア アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94025 メンロ パーク サンタ リタ アベニュー 300

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． ディスプレイのフェースプレートを形成する方法であって、 フェースプレートの内側とフェースプレートの外側を有するフェースプレート 基板備えるステップと、 複数の蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物を複数のサブピクセルのボリュ ームに堆積して、フェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を形成するステップ と、 前記フェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を通して十分な化学線の光で前 記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物の少なくとも１部を露光して、前記サ ブピクセルのボリュームにおいて前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物を 重合し、且つ複数のサブピクセルのボリュームに重合した蛍光体を含む材料を形 成するステップと、 前記重合した蛍光体を含む材料から重合しない蛍光体を含む光重合可能な材料 を除去するステップ、 を有することを特徴とする方法。 ２． 更に、前記重合した蛍光体を含む光重合可能な材料の上にメタライゼーシ ョン層を形成するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。 ３． 更に、前記フェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を形成する前に、フ ェースプレートの内側上に透明な導電層を形成るステップを有することを特徴と する請求項１に記載の方法。 ４． 前記蛍光体を含む重合可能な材料の混合物は、溶媒を含むことを特徴とす る請求項２又は３に記載の方法。 ５． 前記溶媒の少なくとも１部は、化学線の光の露光中に除去されることを特 徴とする請求項４に記載の方法。 ６． 前記蛍光体を含む重合可能な材料の混合物はスラリーであることを特徴と する請求項２又は３に記載の方法。 ７． 前記ディスプレイは、プラズマパネルディスプレイであることを特徴とす る請求項２又は３に記載の方法。 ８． 前記バリアは、ホトンの拡散を阻止することを特徴とする請求項２又は３ に記載の方法。 ９． 前記バリアは、ブラックマトリックスを形成することを特徴とする請求項 ２又は３に記載の方法。 10． 前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物は赤、緑及び青の蛍光体の堆 積を有し、サブピクセルのボリュームは、赤、緑及び青の蛍光体を収容すること を特徴とする請求項２又は３に記載の方法。 11． 前記重合化した蛍光体を含む材料は、パターン化することができるマスク で複数のサブピクセルのボリュームに形成されることを特徴とする請求項１０に 記載の方法。 12． 前記パターン化可能なマスクは、取り外し可能であることを特徴とする請 求項１０に記載の方法。 13．前記重合化した蛍光体を含む材料は、スクリーンプリンティングによって 複数のサブピクセルのボリュームに形成されることを特徴とする請求項２又は３ に記載の方法。 14． 緑の蛍光体の、蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物、赤の蛍光体の、 蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物、及び青の蛍光体の、蛍光体を含む光重 合可能な材料の混合物は、別々のサブピクセルのボリュームに順次堆積されるこ とを特徴とする請求項２又は３に記載の方法。 15． 前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物は、サブピクセルのボリュー ムへ注入されることを特徴とする請求項２又は３に記載の方法。 16．バックプレートを含むディスプレイのフェースプレート及び前記フェース プレートとバックプレート間にシールされたエンベロープを形成する方法であっ て、 フェースプレートの内側とフェースプレートの外側を有するフェースプレート 基板を設けるステップと、 前記フェースプレートの内側上に複数のサブピクセルのボリュームを画定する 複数の散乱シールドを形成するステップと、 複数の蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物を複数のサブピクセルのボリュ ームに堆積し、且つフェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を形成するステッ プと、 前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物の少なくとも１部を前記フェース プレートの内側／蛍光体の鏡界面を通して十分な化学線の光で露光して、前記サ ブピクセルのボリュームにおける蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物の選択 された深さを重合化し、且つ複数のサブピクセルのボリュームに重合化した蛍光 体を含む材料を形成するステップと、 前記重合化した蛍光体を含む材料から重合化しない蛍光体を含む光重合可能な 材料から除去するステップ、 を有することを特徴とする方法。 17．更に、前記重合化した蛍光体を含む光重合可能な材料上にメタライゼーシ ョン層を形成するステップを有することを特徴とする請求項１６に記載の方法。 18．更に、前記フェースプレートの内側／蛍光体の鏡界面を形成する前に前記 フェースプレートの内側上に透明な導電層を形成するステップを有することを特 徴とする請求項１６に記載の方法。 19．サブピクセルのボリュームを囲む散乱シールドの高さは、前記エンベロー プにおける絶縁面を叩き、帯電するように、それらに相当するサブピクセルのボ リュームから出る散乱した電子の数を減少するのに十分であることを特徴とする 請求項１７又は１８に記載の方法。 20. サブピクセルのボリュームを囲む散乱シールドの高さは、他のサブピクセ ルのボリユームを叩くように、それらに相当するサブピクセルのボリュームから 出る散乱した電子の数を減少するのに十分であることを特徴とする請求項１７又 は１８に記載の方法。 21． 前記散乱シールドの高さは、前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物 を越えて、約２０〜２００μｍであることを特徴とする請求項１７又は１８に記 載の方法。 22．前記散乱シールドの高さは、前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物 を越えて、約２０〜１００μｍであることを特徴とする請求項１７又は１８に記 載の方法。 23． 前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物は、前記フェースプレートの 内側から外側へ約１から３０μｍ延びている高さを有することを特徴とする請求 項１７又は１８に記載の方法。 24． 前期散乱シールドは、前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物を越え て延びる約１２μｍの高さを有することを特徴とする請求項１７又は１８に記載 の方法。 25． 前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物は、溶剤を含むことを特徴と する請求項１７又は１８に記載の方法。 26. 前記溶剤の少なくとも１部は、前記化学線の光に露光中に除去されること を特徴する請求項２５に記載の方法。 27． 前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物は、スラリーであることを特 徴とする請求項１７又は１８に記載の方法。 28． 前期散乱シールドは、ブラックマトリックスを形成することを特徴とする 請求項１７又は１８に記載の方法。 29． 前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物は、緑、赤及び青の蛍光体の 堆積を含み、且つサブピクセルのボリュームは、緑、赤及び青の蛍光体を収容す ることを特徴とする請求項１７又は１８に記載の方法。 30． 前記重合した蛍光体を含む材料は、パターン可能なマスクで複数のサブピ クセルのボリュームに形成されることを特徴とする請求項１７又は１８に記載の 方法。 31． 前記パターン可能なマスクは、取り外し可能であることを特徴とする請求 項３０に記載の方法。 32． 前記重合した蛍光体を含む材料は、スクリーンプリンティングによって複 数のサブピクセルのボリュームに形成されることを特徴とする請求項１７又は１ ８に記載の方法。 33． 緑の蛍光体の、蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物、赤の蛍光体の、 蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物、及び青の蛍光体の、蛍光体を含む光重 合可能な材料の混合物は、別々のサブピクセルのボリュームに順次堆積されるこ とを特徴とする請求項１７又は１８に記載の方法。 34． 前記蛍光体を含む光重合可能な材料の混合物は、前記サブピクセルのボリ ュームに注入されることを特徴とする請求項１７又は１８に記載の方法。