NL9100122A - Weergeefinrichting. - Google Patents
Weergeefinrichting. Download PDFInfo
- Publication number
- NL9100122A NL9100122A NL9100122A NL9100122A NL9100122A NL 9100122 A NL9100122 A NL 9100122A NL 9100122 A NL9100122 A NL 9100122A NL 9100122 A NL9100122 A NL 9100122A NL 9100122 A NL9100122 A NL 9100122A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- substrate
- spacer
- display device
- layer
- spacers
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/18—Assembling together the component parts of electrode systems
- H01J9/185—Assembling together the component parts of electrode systems of flat panel display devices, e.g. by using spacers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/028—Mounting or supporting arrangements for flat panel cathode ray tubes, e.g. spacers particularly relating to electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/864—Spacers between faceplate and backplate of flat panel cathode ray tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/10—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes
- H01J31/12—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
- H01J31/123—Flat display tubes
- H01J31/125—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection
- H01J31/127—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection using large area or array sources, i.e. essentially a source for each pixel group
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
- H01J9/242—Spacers between faceplate and backplate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
- H01J2329/86—Vessels
- H01J2329/8625—Spacing members
- H01J2329/863—Spacing members characterised by the form or structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
- H01J2329/86—Vessels
- H01J2329/8625—Spacing members
- H01J2329/864—Spacing members characterised by the material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
Weergeef inrichting.
De uitvinding betreft een weergeefinrichting bevattende een eerste substraat, tenminste een elektronenbron, en een door tenminste een afstandhouder uit een organisch polymeer op afstand van het eerste gehouden tweede substraat.
Daarnaast betreft de uitvinding een werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke weergeefinrichting.
Dergelijke vlakke weergeefinrichtingen vinden toepassing als weergeefpaneel in bijvoorbeeld draagbare computers, maar ook op andere plaatsen, waar de toepassing van kathodestraalbuizen problemen kan geven. Daarnaast bestaat een toenemende belangstelling voor vlakke platte weergeefinrichtingen in videotoepassingen.
Een weergeefinrichting van de bovengenoemde soort is beschreven in PCT/WO-90/00808. In de daar beschreven inrichting worden afstandhouders (spacers) uit polyimide getoond. Deze afstandhouders worden vervaardigd door een substraat te bedekken met een laag, die een polyamide esther bevat, deze laag vervolgens te drogen en langs fotolithografische weg te patroneren. Na belichting met ultraviolette straling, ontwikkeling en verdere behandeling worden op deze wijze afstandhouders uit polyimide verkregen met een hoogte van 100 £ 150 μπι.
De getoonde weergeefinrichting vertoont echter een aantal bezwaren. Zo moet de voorzijde van een dergelijk paneel voorzien worden van fosforen, die voor het afvoeren van electronen op hun beurt weer worden bedekt door een geleidende laag uit bijvoorbeeld aluminium of aangebracht worden op een laag indium-tin-oxyde. Om met name in televisietoepassingen een goede weergave te verkrijgen is een versnelspanning tussen het eerste substraat (waar zich in de genoemde inrichting electronenbronnen in de vorm van veldemitters bevinden) en het tweede substraat in de orde van 2 a 5 kV nodig (afhankelijk van de gebruikte materialen, gasvulling etc.)· In de inrichting volgens PCT/WO-90/00808 bestaan de afstandhouders uit organisch chemisch materiaal (polyimide). Bij de genoemde hoge versnelspanningen kan dit via overslag leiden tot grafietvorming, waardoor zowel het vacüum als het elektrisch gedrag van de inrichting nadelig beïnvloed kan worden. Het is weliswaar mogelijk dit te voorkomen door de afstandhouders te bedekken met een daartoe geschikte bedekking (bijvoorbeeld chroomoxyde of siliciumoxyde), maar dit vergt extra processtappen zoals opdampen onder gelijktijdig roteren van het substraat of preferentieel neerslaan vanuit een vloeistof, waarbij bovendien het substraat doorgaans tegen deze behandeling beschermd moet worden.
Een ander bezwaar van de in PCT/WO-90/00808 getoonde inrichting bestaat hierin, dat ten gevolge van terugverstrooiing van electronen of secundaire emissie een naastgelegen beeldelement door deze terugverstrooide of secundaire electronen kan worden aangeslagen.
De onderhavige uitvinding stelt zich onder meer ten doel een weergeefinrichting van de hierboven genoemde soort te verschaffen, waarin hoge versnelspanningen gebruikt kunnen worden, zonder dat door te hoge veldsterkte de genoemde grafietvorming of andere problemen ten gevolge van een te hoge veldsterkte optreden. Daarnaast stelt zij zich ten doel een weergeefinrichting te verschaffen, waarin de genoemde problemen ten gevolge van terugverstrooiing of secundaire emissie niet optreden.
Verder stelt de uitvinding zich ten doel een werkwijze aan te geven voor het vervaardigen van een weergeefinrichting met twee praktisch evenwijdige substraten.
De uitvinding berust op het inzicht dat dit onder meer bereikt kan worden door een cumulatief effect van stappen zoals boven beschreven zonder elke stap elke keer volledig te herhalen. Daarnaast berust zij op het inzicht, dat door deze herhaling, in dwarsdoorsnede gezien, de afstandhouders op verschillende niveaus verschillende doorsneden kunnen bezitten.
Een weergeefinrichting volgens de uitvinding heeft hiertoe het kenmerk dat de afstand tussen de beide substraten tenminste 200 μιη bedraagt.
Doordat op deze wijze de veldsterkte geringer kan zijn, bij eenzelfde versnelspanning, dan in de genoemde inrichtingen zijn de risico's van grafietvorming en beïnvloeding van het vacuüm aanzienlijk gereduceerd. Het blijkt, dat op deze wijze afstandhouders tot een hoogte van ca. 1 mm gerealiseerd kunnen worden met een oppervlakte van de doorsnede ter plaatse van het eerste substraat (waar deze oppervlakte ten gevolge van de gebruikte werkwijze doorgaans het kleinst is) tussen 100 en 10.000 μιη2, terwijl in dit soort weergeefinrichtingen de steek tussen de beeldelementen over het algemeen in de orde van 50 a 500 μια ligt.
Een eerste voorkeursuitvoering van een weergeefinrichting volgens de uitvinding heeft het kenmerk dat dwarsdoorsneden van de afstandhouder op verschillende hoogten van de afstandhouders gezien van elkaar verschillende patronen vertonen.
Hiermee kan bijvoorbeeld worden bereikt dat in doorsnede althans ter plaatse van het tweede substraat de afstandhouder (die bijvoorbeeld uit polyixnide bestaat) rondom een beeldpunt een gesloten structuur vormt. Deze structuur kan rechthoekig zijn, maar is bij voorkeur honingraatvormig. De gesloten structuur ter plaatse van de beeldelementen verhindert verstrooiing van electronen naar naastgelegen beeldpunten.
Indien het weergeefmechanisme gebaseerd is op het aanslaan van fosforen met behulp van electronen zoals in PCT/WO-90/00808 bevat het eeste substraat bijvoorbeeld een matrix van electronenbronnen zoals veldemitters; ook kan elke electronenbron uit meerdere veldemitters zijn opgebouwd, of, indien het eerste substraat een halfgeleider is, in dit halfgeleiderlichaam geïntegreerd zijn.
Een andere voorkeursuitvoering van een weergeefinrichting volgens de uitvinding heeft het kenmerk dat een afstandhouder wordt doorsneden door tenminste een laag van geleidend materiaal.
Op deze wijze kunnen, bijvoorbeeld door het aanbrengen van gestructureerde metaallagen versnellings-roosters als het ware meegeïntegreerd worden in de afstandhouders.
Een werkwijze volgens de uitvinding heeft het kenmerk, dat op een substraat een laag patroneerbaar organisch materiaal met een dikte van tenminste 200 /zm wordt aangebracht waarin langs fotolithografische weg tenminste een afstandhouder wordt gedefinieerd.
De laag wordt bij voorkeur middels deellagen aangebracht, waarbij zonodig tussen twee deellagen fotolithografische hulpmaskers worden aangebracht, waarbij in bovenaanzicht gezien de hulpmaskers en het masker op de laatste laag elkaar niet of slechts gedeeltelijk overlappen.
Ook kan na het aanbrengen van tenminste een deellaag een deel van de afstandhouder worden gedefinieerd in delen van het patroneerbaar materiaal, waarna dit materiaal voorzien wordt van een gepatroneerde laag geleidend materiaal, welke weer bedekt wordt met tenminste een deellaag voor het definiëren van verdere delen van de afstandhouder.
Op deze wijze kunnen de genoemde meegeïntegreerde versnellingsroosters worden verkregen.
Deze en andere aspecten van de uitvinding zullen thans nader worden verklaard aan de hand van enige uitvoeringsvoorbeelden en de tekening.
Figuur 1 toont een schematische weergave van een deel van een weergeefinrichting volgens de uitvinding.
De Figuren 2 t/m 7 tonen schematisch langs de lijn II-II in Figuur 1 de weergeefinrichting van Figuur 1 tijdens enkele stadia van zijn vervaardiging.
Figuur 8 en Figuur 9 tonen schematisch de vervaardiging van een andere wergeefinrichting volgens de uitvinding.
Figuur 10 en Figuur 11 tonen de vervaardiging van weer een andere inrichting.
Figuur 12 toont schematisch nog een andere weergeefinrichting volgens de uitvinding.
Figuur 1 toont een deel van een weergeefinrichting volgens de uitvinding met een eerste substraat van bijvoorbeeld glas of silicium, dat in dit geval voorzien is van een matrix van electronenbronnen 2 (bijvoorbeeld veldemitters), die op op zichzelf bekende wijze zijn vervaardigd. Tegenover de electronenbronnen bevinden zich op een tweede substraat 3 van glas de beeldelementen 4, die in dit voorbeeld praktisch samenvallen met fosforen, die aan de tegenover de electronenbronnen 2 gelegen zijde van het substraat 3 zijn aangebracht. Hoewel hier slechts twee beeldelementen 4 zijn afgebeeld bevat de inrichting in werkelijkheid, afhankelijk van het soort inrichting (monochroom, kleur) tenminste 100.000 a 1.000.000 van zulke beeldelementen.
De substraten 1 en 2 worden op een onderlinge afstand gehouden van ca. 500 /m door middel van afstandhouders of spacers 5. In het onderhavige voorbeeld bestaan deze spacers uit twee delen, namelijk een eerste deel 5a ter plaatse van het eerste substraat 1 en een tweede deel 5b ter plaatse van de beeldelmenten 4 op het tweede substraat 3. De delen 5b kunnen zich hierbij geheel om een beeldelement 4 uitstrekken. De getoonde inrichting wordt bedreven door electronen uit de bronnen 2 de bij de beeldelementen 4 behorende fosforen te doen treffen. Terugverstrooide electronen treffen nu de delen 5b en kunnen zo de naburige beeldelementen niet beïnvloeden. Door de grote afstand tussen de beide substraten kan hiertussen nu een betrekkelijk hoog spanningsverschil worden aangelegd (5-10 kV) zonder gevaar voor doorslag. Met behulp van de openingen 7 in de spacers 5 kan de weergeefinrichting geëvacueerd worden.
De inrichting van Figuur 1 kan als volgt vervaardigd worden (zie de Figuren 2 t/m 7).
üitgegaan wordt van een eerste substraat 1, bijvoorbeeld een halfgeleidersubstraat (in dit voorbeeld silicium of glas), waarin of waarop (niet getekende) electronenbronnen zijn gerealiseerd, bijvoorbeeld veldemitters, maar ook halfgeleiderkathoden zoals beschreven in de Nederlandse Octrooiaanvrage No. 7905470 (PHN 9532) van Aanvraagster zijn mogelijk. Op het substraat 1 wordt een laag 8 van fotogevoelig polyamidezuur of polyamide esther aangebracht met een dikte van circa 300 μιη. Een geschikt polyamide esther is bijvoorbeeld Probimide 348 FC van de firma Ciba-Geigy. Bij dunne lagen (tot ca. 100 μιη) kan volstaan worden met het eenmalig opspinnen van het polyamide esther. Bij de hier gebruikte laagdikte wordt dit polyamide esther opgebracht volgens de methode beschreven aan de hand van de Figuren 8 en 9, of met een daartoe geschikt gereedschap zoals een "gespacerd mes". Ter bescherming van de elctronenbronnen kan zonodig tijdelijk een beschermende laag worden aangebracht.
De laag 8 wordt vervolgens bedekt met een dunne laag 9 (ca. 40 nm), in dit voorbeeld van goud, waarop een laag positieve fotoresist 10 wordt aangebracht. Na belichting door middel van ultraviolette straling (schematisch aangegeven door pijlen 11) door een masker 12, dat de openingen 7 definieert, en ontwikkelen worden de delen 10b verwijderd en blijft het deel 10a van de fotoresist over (Fig. 3). Met de resterende fotoresist als masker wordt vervolgens de goudlaag 9 natchemisch geëtst (Fig. 4) in een daartoe geschikt etsmiddel (bijvoorbeeld een waterige oplossing van 25% KI en 10% I2) . De aldus ontstane structuur wordt weer bedekt met een fotogevoelige laag 13 van polyamide esther met een dikte van ca. 100 μιη (Fig. 5) . Het geheel wordt vervolgens met ultraviolette en zichtbare straling belicht (schematisch aangegeven door middel van pijlen 14 in Figuur 6) via een masker 15, dat de delen 5b van de spacers definieert. De gebruikte golflengte en duur van de beliching hangen hierbij af van de lichtsterkte, het gebruikte materiaal en de dikte van de lagen 8, 13 (voor een laag Probimide 348, met een dikte van ca. 200 μπι en belichting met het gehele Hg-spectrum bedraagt de lichtsterkte bijvoorbeeld 15 mW/cm2 gedurende 200 sec.). Doordat tussen het hulpmasker, gevormd door de lagen 9, 10a en het masker 15 in bovenaanzicht gezien open ruimtes bestaan, wordt daar het polyamide esther over de gehele dikte van de lagen 8, 13 uitgehard en blijven deze delen 5 in een volgende ontwikkelingstap op het volgende substraat 1 staan. Na schoonmaken, verwijdering van de lagen 9, 10a, eventuele verdere reinigingsstappen en een thermische nabewerking is dan de inrichting volgens Figuur 7 verkregen.
Het zo verkregen substraat 1, voorzien van emitterende bronnen en spacers 5 wordt dan tegen een tweede substraat 3 van bijvoorbeeld glas en voorzien van fosforen gelegd. Na uitrichten van de fosforen ten opzichte van de electronenbronnen wordt het geheel langs de randen afgedicht en geëvacueerd. Hiermee is de inrichting volgens Figuur 1 verkregen.
De Figuren 8 en 9 tonen hoe spacers met een hoogte van 200 è 1.000 μια verkregen kunnen worden. De polyimidelaag 8 wordt hier verkregen door achtereenvolgens deellagen 8a, 8b, 8c aan te brengen. Elke volgende deellaag wordt pas aangebracht nadat de vorige deellaag een gedefinieerde laagdikte heeft gekregen (bijvoorbeeld door middel van spinnen). Daarna worden via een masker 15 de plaatsen van de te vormen spacers bepaald, waarna het geheel weer wordt belicht, ontwikkeld, uitgehard etc. De aldus gevormde spacers 5 houden de beide substraten 1, 3 in Figuur 9 op een afstand van bijvoorbeeld 450 ^m. In dit voorbeeld worden geen hulpmaskers gebruikt, zodat de spacers een uniforme doorsnede zouden moeten bezitten; in de praktijk is de doorsnede ter plaatse van het eerste substraat doorgaans iets kleiner, doordat met een negatief fotogevoelig systeem gewerkt wordt en in de laag lichtabsorptie optreedt.
Hoewel hier een inrichting is getoond met een electronenbron per beeldelement kunnen de spacers ook gebruikt worden in andere vlakke weergeefinrichtingen, zoals bijvoorbeeld beschreven in US-P-4 853 585 (PHN 12.047).
Figuur 10 toont gedeeltelijk in dwarsdoorsnede, gedeeltelijk in bovenaanzicht de vervaardiging van een andere weergeefinrichting. Uitgegaan wordt weer van een substraat 1, bijvoorbeeld een glasplaat waarop een matrix van veldemitters is aangebracht. Op het substraat 1 worden weer deellagen 8a, 8b van polyamide esther gedeponeerd, op dezelfde wijze als boven besproken. Door belichting met ultraviolette straling worden in de deellagen uitgeharde gebieden 22 gevormd ter plaatse van te vormen delen van de spacers. De zo gevormde laag wordt echter nog niet ontwikkeld maar eerst bedekt met een dunne metaallaag 16, voorzien van openingen 17 boven de emitters. De metaallaag 16 kan hierbij vooraf van de openingen 17 voorzien zijn, maar het patroon van openingen (of enig ander gewenst patroon) kan ook na neerslaan van de metaallaag door middel van etsen worden aangebracht. Daarna wordt opnieuw een laag 8c van polyamide esther opgebracht, die weer bedekt wordt met een goudlaagje 9, dat in patroon gebracht is door middel van etsen. Vervolgens wordt weer een laag 13 van polyamide esther aangebracht, waarna het geheel via een masker 15 weer met ultraviolette en/of zichtbare straling wordt belicht. Na ontwikkeling, spoelen en eventuele verdere behandeling is dan de inrichting van Figuur 11 verkregen. Deze bevat een substraat 1, waarop zich in dit voorbeeld vierkante kolomvormige delen 5a van de spacers bevinden. De overige delen van de spacers bestaan uit eveneens kolomvormige delen 5b en rondom gesloten delen 5c, die in de uiteindelijke weergeefinrichting weer beeldelementen (fosforen) omsluiten. Tussen de delen 5a en 5b van de spacers bevindt zich nu de metaallaag 16, die ter plaatse van veldemitters 21 op het substraat 1 voorzien is van openingen 17. De plaat 16 kan nu als een gemeenschappelijke versnellingselectrode fungeren. Om eventuele terugverstrooiing nog verder te onderdrukken kunnen de wanden van de gesloten delen 5c met een geleidende laag bekleed worden, die bijvoorbeeld elektrisch geleidend wordt doorverbonden met de voorplaat 3. Dit kan ook bereikt worden door een met de metaallaag 16 vergelijkbaar rooster aan te brengen en dit elektrisch kort te sluiten met de voorplaat 3.
In Figuur 11 zijn bovendien schematisch twee veldemitters 21 aangegeven. Deze maken in het onderhavige voorbeeld deel uit van een matrix van veldemitters die bestuurd worden door X-lijnen 18 en Y-lijnen 19, die ter plaatse van hun kruispunten, waar de X-lijnen van aansluitstroken 18a zijn voorzien, onderling geïsoleerd zijn door een isolatielaag 20. Zowel tussen de delen 5a als tussen de delen 5b bevinden zich weer openingen 7 die bij afdichting het vacuümzuigen mogelijk maken.
Figuur 12 tenslotte toont een variant, waarbij de gesloten delen 5b van de spacers een honingraatstructuur vormen. Voor het overige hebben de verwijzingscijfers hier weer dezelfde betekenis als in de vorige Figuren. De uittredende electronenstroom is hierbij schematisch aangegeven dor middel van pijlen 23.
Uiteraard is de uitvinding niet beperkt tot de hier getoonde voorbeelden maar zijn binnen het kader van de uitvinding diverse variaties mogelijk. Zo kan bijvoorbeeld de structuur, waarin de spacers worden gedefinieerd ook op de glasplaat met fosforen worden aangebracht in plaats van op het substraat 1. Ook kunnen tussen de deellagen meerdere metaalmaskers worden aangebracht, zodat als het ware een deel van de electronenoptiek in de spacer(s) wordt geïntegreerd.
Claims (10)
1. Weergeefinrichting bevattende een eerste substraat, tenminste een elektronenbron, en een door tenminste een afstandhouder uit een organisch polymeer op afstand van het eerste gehouden tweede substraat met het kenmerk dat de afstand tussen de beide substraten tenminste 200 μιη bedraagt.
2. Weergeefinrichting volgens Conclusie 1 met het kenmerk dat de afstandhouder ter plaatse van het eerste substraat de kleinste oppervlakte van de dwarsdoorsnede evenwijdig aan het eerste substraat bezit, welk oppervlak ten hoogste 10.000 μιη2 bedraagt.
3. Weergeefinrichting volgens Conclusie 1 of 2 met het kenmerk dat dwarsdoorsneden evenwijdig aan het eerste substraat van de afstandhouder op verschillende hoogten van de afstandhouder gezien van elkaar verschillende patronen vertonen.
4. Weergeefinrichting volgens Conclusie 3 met het kenmerk dat de afstandhouder ter plaatse een substraat, gezien in dwarsdoorsnede evenwijdig aan het substraat een gesloten structuur vormt.
5. Weergeefinrichting volgens één der vorige Conclusies met het kenmerk dat een van de substraten voorzien is van een matrix van electronenbronnen en het andere substraat een glasplaat bevat, voorzien van een of meer soorten fosforen.
6. Weergeefinrichting volgens één der Conclusies 1 t/m 5 met het kenmerk dat een afstandhouder wordt doorsneden door tenminste een laag van geleidend materiaal.
7. Werkwijze voor het vervaardigen van een weergeefinrichting volgens één der Conclusies 1 t/m 6 met het kenmerk dat op een substraat een laag patroneerbaar organisch materiaal met een dikte van tenminste 200 μιη wordt aangebracht waarin langs fotolithografische weg tenminste een afstandhouder wordt gedefinieerd.
8. Werkwijze volgens Conclusie 7 met het kenmerk dat de laag wordt gevormd door het achtereenvolgens aanbrengen van meerderé deellagen waarbij tenminste op de laatst aangebrachte deellaag een fotolithografisch masker wordt aangebracht voor het definiëren van althans een deel van de afstandhouder.
9. Werkwijze volgens Conclusie 8 met het kenmerk dat tenminste een fotolithografisch hulpmasker tussen twee deellagen wordt aangebracht, waarbij in bovenaanzicht gezien de stralingdoorlatende delen van het hulpmasker en van het masker op de laatst aangebrachte deellaag elkaar niet of slechts gedeeltelijk overlappen.
10. Werkwijze volgens Conclusie 8 of 9 met het kenmerk dat na het aanbrengen van tenminste een deellaag een deel van de afstandhouder wordt gedefinieerd in delen van het patroneerbaar materiaal, waarna dit materiaal voorzien wordt van een gepatroneerde laag geleidend materiaal, welke weer bedekt wordt met tenminste een deellaag voor het definiëren van verdere delen van de afstandhouder.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9100122A NL9100122A (nl) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | Weergeefinrichting. |
EP92200108A EP0496450B1 (en) | 1991-01-25 | 1992-01-16 | Display device |
DE69218637T DE69218637T2 (de) | 1991-01-25 | 1992-01-16 | Wiedergabeanordnung |
JP4009116A JPH04317094A (ja) | 1991-01-25 | 1992-01-22 | 表示装置 |
US08/195,975 US5371433A (en) | 1991-01-25 | 1994-02-10 | Flat electron display device with spacer and method of making |
US08/221,147 US5413513A (en) | 1991-01-25 | 1994-03-30 | Method of making flat electron display device with spacer |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9100122A NL9100122A (nl) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | Weergeefinrichting. |
NL9100122 | 1991-01-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL9100122A true NL9100122A (nl) | 1992-08-17 |
Family
ID=19858773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL9100122A NL9100122A (nl) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | Weergeefinrichting. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5371433A (nl) |
EP (1) | EP0496450B1 (nl) |
JP (1) | JPH04317094A (nl) |
DE (1) | DE69218637T2 (nl) |
NL (1) | NL9100122A (nl) |
Families Citing this family (68)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5675212A (en) * | 1992-04-10 | 1997-10-07 | Candescent Technologies Corporation | Spacer structures for use in flat panel displays and methods for forming same |
US5614781A (en) * | 1992-04-10 | 1997-03-25 | Candescent Technologies Corporation | Structure and operation of high voltage supports |
CN1026943C (zh) * | 1990-03-06 | 1994-12-07 | 杭州大学 | 平板彩色显示器 |
US5903094A (en) * | 1990-05-24 | 1999-05-11 | U.S. Philips Corporation | Flat-panel type picture display device with electron propagation ducts |
US5986627A (en) * | 1990-05-24 | 1999-11-16 | U.S. Philips Corporation | Flat-panel type picture display device with electron propagation ducts |
FR2716571B1 (fr) * | 1994-02-22 | 1996-05-03 | Pixel Int Sa | Procédé de fabrication de cathode d'écran fluorescent à micropointes et produit obtenu par ce procédé . |
US5859508A (en) * | 1991-02-25 | 1999-01-12 | Pixtech, Inc. | Electronic fluorescent display system with simplified multiple electrode structure and its processing |
US5424605A (en) * | 1992-04-10 | 1995-06-13 | Silicon Video Corporation | Self supporting flat video display |
US5532548A (en) * | 1992-04-10 | 1996-07-02 | Silicon Video Corporation | Field forming electrodes on high voltage spacers |
US5742117A (en) * | 1992-04-10 | 1998-04-21 | Candescent Technologies Corporation | Metallized high voltage spacers |
US5477105A (en) * | 1992-04-10 | 1995-12-19 | Silicon Video Corporation | Structure of light-emitting device with raised black matrix for use in optical devices such as flat-panel cathode-ray tubes |
EP0580244B1 (en) * | 1992-07-23 | 1997-10-08 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Flat-panel type picture display device with electron propagation ducts |
EP0614209A1 (en) * | 1993-03-01 | 1994-09-07 | Hewlett-Packard Company | A flat panel display |
WO1994020975A1 (en) * | 1993-03-11 | 1994-09-15 | Fed Corporation | Emitter tip structure and field emission device comprising same, and method of making same |
AU673910B2 (en) * | 1993-05-20 | 1996-11-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Image-forming apparatus |
US5954560A (en) * | 1993-06-02 | 1999-09-21 | Spectron Corporation Of America, L.L.C. | Method for making a gas discharge flat-panel display |
US5469021A (en) * | 1993-06-02 | 1995-11-21 | Btl Fellows Company, Llc | Gas discharge flat-panel display and method for making the same |
US5448131A (en) * | 1994-04-13 | 1995-09-05 | Texas Instruments Incorporated | Spacer for flat panel display |
US5492727A (en) * | 1994-05-10 | 1996-02-20 | The Ohio State University Research Foundation | Method of depositing chromium and silicon on a metal to form a diffusion coating |
JP3305166B2 (ja) * | 1994-06-27 | 2002-07-22 | キヤノン株式会社 | 電子線装置 |
USRE40103E1 (en) * | 1994-06-27 | 2008-02-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam apparatus and image forming apparatus |
EP0719446B1 (en) * | 1994-07-18 | 2003-02-19 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Thin-panel picture display device |
US5629583A (en) * | 1994-07-25 | 1997-05-13 | Fed Corporation | Flat panel display assembly comprising photoformed spacer structure, and method of making the same |
CA2196040A1 (en) * | 1994-07-25 | 1996-02-08 | Gary W. Jones | Flat display spacer structure and manufacturing method |
EP0700752B1 (en) * | 1994-09-06 | 1998-08-19 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of patterning a coating on a substrate |
JPH10508975A (ja) * | 1994-09-15 | 1998-09-02 | ピックステック インコーポレイテッド | 多電極構造を有する電子蛍光ディスプレイ装置およびその製造方法 |
KR100387314B1 (ko) * | 1994-10-31 | 2003-08-21 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 내부진공써포트및배기접속부가구비된화상디스플레이장치 |
US5486126A (en) | 1994-11-18 | 1996-01-23 | Micron Display Technology, Inc. | Spacers for large area displays |
US5543683A (en) * | 1994-11-21 | 1996-08-06 | Silicon Video Corporation | Faceplate for field emission display including wall gripper structures |
US5578899A (en) * | 1994-11-21 | 1996-11-26 | Silicon Video Corporation | Field emission device with internal structure for aligning phosphor pixels with corresponding field emitters |
US6022652A (en) * | 1994-11-21 | 2000-02-08 | Candescent Technologies Corporation | High resolution flat panel phosphor screen with tall barriers |
ATE237869T1 (de) * | 1994-11-21 | 2003-05-15 | Candescent Tech Corp | Feldemissionsvorrichtung mit innerem struktur zum ausrichten von phosphor-pixeln auf entsprechenden feldemittern |
US5650690A (en) * | 1994-11-21 | 1997-07-22 | Candescent Technologies, Inc. | Backplate of field emission device with self aligned focus structure and spacer wall locators |
US5842897A (en) * | 1995-02-28 | 1998-12-01 | Institute For Advanced Engineering | Spacers for field emission display and their fabrication method |
JP3083076B2 (ja) | 1995-04-21 | 2000-09-04 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
MY112219A (en) * | 1995-07-27 | 2001-04-30 | Toshiba Kk | Cathode ray tube and manufacturing method therefor |
US5844351A (en) * | 1995-08-24 | 1998-12-01 | Fed Corporation | Field emitter device, and veil process for THR fabrication thereof |
US5688158A (en) * | 1995-08-24 | 1997-11-18 | Fed Corporation | Planarizing process for field emitter displays and other electron source applications |
US5828288A (en) * | 1995-08-24 | 1998-10-27 | Fed Corporation | Pedestal edge emitter and non-linear current limiters for field emitter displays and other electron source applications |
US5763998A (en) * | 1995-09-14 | 1998-06-09 | Chorus Corporation | Field emission display arrangement with improved vacuum control |
US5716251A (en) * | 1995-09-15 | 1998-02-10 | Micron Display Technology, Inc. | Sacrificial spacers for large area displays |
EP0858648A4 (en) | 1995-10-26 | 1999-05-06 | Pixtech Inc | FLAT FIELD EMISSION COLD CATHODE DISPLAY DEVICE |
US5916004A (en) * | 1996-01-11 | 1999-06-29 | Micron Technology, Inc. | Photolithographically produced flat panel display surface plate support structure |
US5705079A (en) * | 1996-01-19 | 1998-01-06 | Micron Display Technology, Inc. | Method for forming spacers in flat panel displays using photo-etching |
US5733160A (en) * | 1996-03-01 | 1998-03-31 | Texas Instruments Incorporated | Method of forming spacers for a flat display apparatus |
US5785569A (en) * | 1996-03-25 | 1998-07-28 | Micron Technology, Inc. | Method for manufacturing hollow spacers |
US5834891A (en) * | 1996-06-18 | 1998-11-10 | Ppg Industries, Inc. | Spacers, spacer units, image display panels and methods for making and using the same |
US5811926A (en) * | 1996-06-18 | 1998-09-22 | Ppg Industries, Inc. | Spacer units, image display panels and methods for making and using the same |
US5984746A (en) | 1996-12-12 | 1999-11-16 | Micron Technology, Inc. | Attaching spacers in a display device |
US5851133A (en) * | 1996-12-24 | 1998-12-22 | Micron Display Technology, Inc. | FED spacer fibers grown by laser drive CVD |
EP0851457B1 (en) * | 1996-12-25 | 2004-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
US6153973A (en) * | 1996-12-26 | 2000-11-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Spacer and an image-forming apparatus, and a manufacturing method thereof |
US5888112A (en) * | 1996-12-31 | 1999-03-30 | Micron Technology, Inc. | Method for forming spacers on a display substrate |
WO1998040901A1 (en) * | 1997-03-10 | 1998-09-17 | Micron Technology, Inc. | Method for forming spacers in flat panel displays using photo-etching |
US5831383A (en) * | 1997-05-12 | 1998-11-03 | Motorola Inc. | Spacer pads for field emission device |
US6255772B1 (en) | 1998-02-27 | 2001-07-03 | Micron Technology, Inc. | Large-area FED apparatus and method for making same |
US7002287B1 (en) | 1998-05-29 | 2006-02-21 | Candescent Intellectual Property Services, Inc. | Protected substrate structure for a field emission display device |
US6215241B1 (en) * | 1998-05-29 | 2001-04-10 | Candescent Technologies Corporation | Flat panel display with encapsulated matrix structure |
US6566794B1 (en) * | 1998-07-22 | 2003-05-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus having a spacer covered by heat resistant organic polymer film |
EP1137041B1 (en) * | 1998-09-08 | 2011-04-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam device, method for producing charging-suppressing member used in the electron beam device, and image forming device |
US6155900A (en) * | 1999-10-12 | 2000-12-05 | Micron Technology, Inc. | Fiber spacers in large area vacuum displays and method for manufacture |
EP1189255A1 (en) * | 2000-03-23 | 2002-03-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Spacer assembly for plane surface display, method for manufacturing spacer assembly, method for manufacturing plane surface display, plane surface display and mold for use in manufacturing spacer assembly |
US6853129B1 (en) | 2000-07-28 | 2005-02-08 | Candescent Technologies Corporation | Protected substrate structure for a field emission display device |
US6733354B1 (en) * | 2000-08-31 | 2004-05-11 | Micron Technology, Inc. | Spacers for field emission displays |
JPWO2002023578A1 (ja) * | 2000-09-18 | 2004-01-22 | 株式会社日立製作所 | 表示装置 |
US20020100714A1 (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-01 | Sau Lan Tang Staats | Microfluidic devices |
US6758711B2 (en) * | 2001-06-14 | 2004-07-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Integrated focusing emitter |
US6742257B1 (en) * | 2001-10-02 | 2004-06-01 | Candescent Technologies Corporation | Method of forming powder metal phosphor matrix and gripper structures in wall support |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4889678A (nl) * | 1972-02-25 | 1973-11-22 | ||
US3771008A (en) * | 1972-11-09 | 1973-11-06 | Bell Telephone Labor Inc | Gaseous discharge display device |
NL184589C (nl) * | 1979-07-13 | 1989-09-01 | Philips Nv | Halfgeleiderinrichting voor het opwekken van een elektronenbundel en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke halfgeleiderinrichting. |
DE3036671A1 (de) * | 1980-09-29 | 1982-05-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Flacher bildschirm, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung |
US4857799A (en) * | 1986-07-30 | 1989-08-15 | Sri International | Matrix-addressed flat panel display |
US4923421A (en) * | 1988-07-06 | 1990-05-08 | Innovative Display Development Partners | Method for providing polyimide spacers in a field emission panel display |
US5209688A (en) * | 1988-12-19 | 1993-05-11 | Narumi China Corporation | Plasma display panel |
US5160871A (en) * | 1989-06-19 | 1992-11-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Flat configuration image display apparatus and manufacturing method thereof |
DE69009307T3 (de) * | 1989-06-19 | 2004-08-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma | Anzeigevorrichtung mit flachem Bildschirm. |
US5083958A (en) * | 1990-07-16 | 1992-01-28 | Hughes Aircraft Company | Field emitter structure and fabrication process providing passageways for venting of outgassed materials from active electronic area |
-
1991
- 1991-01-25 NL NL9100122A patent/NL9100122A/nl not_active Application Discontinuation
-
1992
- 1992-01-16 EP EP92200108A patent/EP0496450B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-01-16 DE DE69218637T patent/DE69218637T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-22 JP JP4009116A patent/JPH04317094A/ja active Pending
-
1994
- 1994-02-10 US US08/195,975 patent/US5371433A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-30 US US08/221,147 patent/US5413513A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5371433A (en) | 1994-12-06 |
DE69218637T2 (de) | 1997-09-25 |
US5413513A (en) | 1995-05-09 |
DE69218637D1 (de) | 1997-05-07 |
EP0496450B1 (en) | 1997-04-02 |
EP0496450A1 (en) | 1992-07-29 |
JPH04317094A (ja) | 1992-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL9100122A (nl) | Weergeefinrichting. | |
US5725787A (en) | Fabrication of light-emitting device with raised black matrix for use in optical devices such as flat-panel cathode-ray tubes | |
KR100254748B1 (ko) | 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
KR100602071B1 (ko) | 전계 방출 디바이스 | |
US6387600B1 (en) | Protective layer during lithography and etch | |
US7052352B2 (en) | Anode screen for a phosphor display and method of making the same | |
JP3347648B2 (ja) | 表示装置 | |
KR20050111705A (ko) | 전계방출소자와, 이를 적용한 전계방출 표시소자 | |
JPS6360495B2 (nl) | ||
KR20060011662A (ko) | 전자 방출 소자 및 그 제조방법 | |
US20030049572A1 (en) | Method for forming patterned insulating elements and methods for making electron source and image display device | |
KR100543609B1 (ko) | 전자원 및 화상표시장치 | |
KR20060012782A (ko) | 전계방출소자와, 이를 적용한 전계방출 표시소자 | |
KR100404985B1 (ko) | 전자방출 디바이스의 제조시 잉여 이미터 물질 제거 전에 전자방출소자의 보호 방법 | |
JP3055520B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
KR100322966B1 (ko) | 전계방출 표시소자의 제조방법 | |
KR100590524B1 (ko) | 포커싱 전극을 가지는 전계방출소자 및 그 제조방법 | |
KR20050104643A (ko) | 전자 방출 표시장치용 캐소드 기판, 전자 방출 표시장치및 이의 제조 방법 | |
JPH11339666A (ja) | Ac型プラズマディスプレイパネル用前面基板およびac型プラズマディスプレイパネル | |
KR100615186B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 | |
KR100258799B1 (ko) | 전계효과 전자방출 표시소자의 스페이서 제조방법 | |
JP4029599B2 (ja) | 表示デバイスの製造方法 | |
KR100634691B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널용 포토 마스크 및 이를 이용한플라즈마 디스플레이 패널 제조방법 | |
KR20000055634A (ko) | 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법 | |
JP2003016976A (ja) | 平面表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |