KR19990087183A - 높은 장벽을 가진 고 해상도 플랫 패널 형광 스크린 - Google Patents

높은 장벽을 가진 고 해상도 플랫 패널 형광 스크린 Download PDF

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KR19990087183A
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듀안 에이. 해븐
폴 엠. 드럼
로버트 엠. 주니어 듀복
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마샬 해리 에이.
캔데슨트 테크날러지스 코퍼레이션
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Abstract

디스플레이의 페이스플레이트를 제조하는 방법이 페이스플레이트 기판에 페이스플레이트 내부측 및 페이스플레이트 외부측을 제공한다. 다수의 장벽은 페이스플레이트 내부측상에 형성되는 데, 이런 장벽은 다수의 서브픽셀 볼륨을 한정한다. 적색, 녹색 및 청색의 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물은 서브픽셀 볼륨내로 증착되어, 페이스플레이트 내부 측/형광 물질 인터페이스를 생성시킨다. 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물의 적어도 일부는 페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 통해 충분한 광화학 빛으로 노출되어, 서브픽셀 볼륨내의 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물의 선택된 깊이를 중합시키고, 다수의 서브픽셀 볼륨내에 중합된 형광물질 함유 물질을 형성시킨다. 중합되지 않은 형광 물질 함유 광 중합체는 중합된 형광 물질함유 물질에서 제거된다.

Description

높은 장벽을 가진 고 해상도 플랫 패널 형광 스크린
관련 출원에 대한 크로스-레퍼런스
본 출원은 1995년 11월 20일자로 출원되고, 명칭이 "전자 산란 효과 축소용 플랫 패널 디스플레이"이며, 여기서 참조로 하는 출원번호 제 08/560,166 호에 관계된다.
본 발명은 디스플레이의 페이스플레이트(faceplate)의 내부표면상에 형광물질을 형성하는 방법, 특히, 서브픽셀 볼륨을 한정하는 장벽(barrier)를 가진 페이스플레이트의 내부표면상에 형광 물질을 형성하는 방법에 관한 것이다.
이런 디스플레이의 화질을 최적화하기 위해서는 서브픽셀 간의 광 누화(optical crosstalk)를 최소화하도록 컬러 서브픽셀간의 경계내에 물리적 장벽을 구성하는 것이 바람직하다. 이런 장벽은 FED의 경우에 형광 물질로 부터 산란된 전자를 차단하고, 플라즈마 기술의 경우에는 공진 광자의 블럭 확산을 차단한다. 두 경우에, 이런 장벽은 색 순도 및 콘트라스트(contrast)의 손실을 방지한다. 의도된 바와 같이 기능을 수행하기 위하여, 이런 장벽은 높아야 한다. HED 및 플라즈마 장벽의 통상적인 높이는 50 내지 100㎛이다. 이런 높이는 비교적 디스플레이의 해상도와 무관함으로써, 디스플레이의 해상도가 증가할 시에, 픽셀 사이즈는 더욱 작아지고, 장벽 높이 대 픽셀 폭의 비는 더욱 커진다.
HED 및 플라즈마 디스플레이에 대하여, 적당한 두께 및 기하학의 형광 물질 픽셀을 장벽에 의해 생성된 웰(well)내에 형성시킬 필요가 있다. 전체 색 디스플레이에 대하여서는 흰색 픽셀이 인접한 RGB 서브픽셀로 구성되게 할 필요가 있다.
형광 스크린의 전면 또는 관찰(viewing) 플레이트상에 증착되는 형의 전송 디스플레이에 대하여, 형광 물질 두께, 밀도 및 위치의 제어는 최적 휘도, 콘트라스트 및 색 순도에 중요하다.
통상적인 CRT 디스플레이는 일반적으로 위치 에러를 허용하고, 관찰 콘트라스트를 향상시키도록 형광 서브픽셀간의 경계내에 비교적 평면 구성의 장벽을 포함시킨다. 통상적인 CRT 스크린상에 형광 물질을 증착하는 일반적인 방법은 먼저 습식 형광 슬러리(slurry)를 스피닝(spinning) 페이스플레이트에 분배함으로써 광감지 중합체와 제 1 색의 형광물질의 건식막을 생성시키고, 이를 건조시키며, 광감지막을 섀도우 마스크를 통해 광화학(actinic) 빛으로 노출시켜, 섀도우 마스크내에 홀의 잠상(latent image)을 생성시킨 후, 홀에 대응하는 형광 패턴을 섀도우 마스크내에 형성하도록 노출되지 않은 영역을 현상(develop)한다. 이런 공정은 전체 색 스크린을 생성시키도록 제 2 및 3색의 형광 물질에 대해 반복된다. 이런 공정은 평면 장벽에 의해 방해를 받지 않지만, 형광 물질의 점착성을 감소시키는데, 그 이유는 형광물질/중합체 도트(dot)가 형광물질/유리 인터페이스 보다는 형광물질/공기 인터페이스로 부터 노출된다(그래서, 더욱 더 중합된다).
1992년, 페이지 73 내지 78, 무라까미 등에 의한Proc, Japan-Korea Joint Symp. Information Display에는 플라즈마 플랫 패널의 전면 유리상에 향상된 점착성을 제공하도록 유리 인터페이스로 부터의 노출에 의해 형광 물질 픽셀을 생성시키는 방법이 기술되어 있다. 이런 공정은 정확한 평행 빛을 생성시키도록 큰(650mm x 900mm) 볼록 렌즈를 포함하는 복잡한 장치를 요구하고, 형광 패턴 및 (평면)장벽을 노출시키도록 큰 1:1 포토마스크를 사용한다.
형광 물질 픽셀이 후면 플레이트내에서 포함되는 많은 플라즈마 디스플레이 설계 방식은 휘도 효율을 위해 장벽 립(rib)의 측면을 덮고, 어드레스(AC 플라즈마) 또는 디스플레이-애노드(DC 플라즈마) 전극을 노출시키는 형광 물질을 가진 형광 물질 픽셀 기하학을 필요로 한다. 이런 설계 방식은 통상적으로 깊은 웰내에 형광 물질을 스크린-프린트 한다. 스크린 프린팅이 두께 및 위치 제어를 위한 부정확한 방법이므로, 웰내에 스크린된 형광물질을 통상적으로 바람직한 두께를 제어하지 못하며, 잔여 형광 물질은 장벽의 상부에 남아 있다. 그래서, 장벽에서 원치 않는 형광 물질을 제어하고, 웰내의 두께를 제어하기 위해서는 2차 처리를 필요로 한다. 형광 물질을 제거할 모래분사(sandblasting)가 본 기술 분야이다. 이는 본래 상스러운 공정이어서, 소자가 분사 매체 및 제거 물질에 의해 오염될 수 있게 한다.
이런 디스플레이는 통상적으로(후면 플레이트상에 포함된) 형광 물질로 부터의 발광이 투명한 전면 플레이트를 통해 관찰되는 "리플렉티브(reflective)"이다.
FED 및 플라즈마 디스플레이 양자로 부터, 방출 요소( 및 프로세스)를 포함한 플레이트에서 관찰 스크린( 및 프로세스)을 포함한 플레이트를 분리하는 것이 바람직하다. 이는 더욱 양호한 공정 제어를 허용하고, 최종 양품률을 높인다.
형광 물질로 관찰 스크린을 생성시키는 현행 방법은 비용이 많이 들고, 상업적 제조 공정을 스케일(scale)하기가 어렵다. 형광 물질이 코팅된 관찰 스크린을 형성하는 값싼 방법이 필요하다.
따라서, 본 발명의 목적은 디스플레이를 위해 형광 물질이 코팅된 페이스플레이트를 저비용으로 제작하는 효율적인 방법을 제공하는 것이다.
발명의 요약
본 발명의 다른 목적은 디스플레이를 위해 형광물질이 코팅된 페이스플레이트를 제작하는 패턴 가능한 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 패턴 가능하고, 형광 물질 서브픽셀을 보호하며, 증착된 형광 물질을 파괴(disrupt)하지 않고 제거 가능한 디스플레이를 위해 형광 물질이 코팅된 페이스플레이트를 제작하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 증착된 형광물질이 높은 장벽에 의해 경계가 표시되는 디스플레이를 위해 형광 물질이 코팅된 페이스플레이트를 제작하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 고 휘도, 콘트라스트 및 색순도를 가진 디스플레이를 위해 형광 물질이 코팅된 페이스플레이트를 제작하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 이들 및 다른 목적은 디스플레이의 페이스플레이트를 제조하는 방법이 페이스플레이트 기판에 페이스플레이트 내부측 및 페이스플레이트 외부측을 제공함으로써 성취된다. 다수의 장벽은 페이스플레이트 내부측상에 형성되는 데, 이런 장벽은 다수의 서브픽셀 볼륨을 한정한다. 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물은 서브픽셀 볼륨내로 증착되어, 페이스플레이트 내부 측/형광 물질 인터페이스를 생성시킨다. 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물의 적어도 일부는 페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 통해 충분한 광화학 빛으로 노출되어, 서브픽셀 볼륨내의 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물의 선택된 깊이를 중합시키고, 다수의 서브픽셀 볼륨내에 중합된 형광물질 함유 물질을 형성시킨다. 중합되지 않은 형광 물질 함유 광 중합체는 중합된 형광 물질 함유 물질에서 제거된다.
도 1 은 높은 장벽을 가진 디스플레이 엔벨로프(envelope)의 단면도.
도 2 는 페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 생성시키는 적색, 녹색 또는 청색 형광 물질을 하우징한 서브픽셀 볼륨을 한정하는 높은 장벽을 가진 페이스플레이트의 내부측의 단면도.
도 3 은 플라즈마 셀의 단면도.
도 4a 내지 4c 는 형광 스크린을 제조하기 위한 처리 시퀀스의 설명도.
디스플레이의 페이스플레이트를 제작하는 방법은 페이스플레이트 기판에 페이스플레이트 내부측 및 페이스플레이트 외부측을 제공하는 것이다. 다수의 장벽은 페이스플레이트 내부측상에 형성되고, 장벽은 다수의 서브픽셀 볼륨을 한정한다. 적색, 녹색 및 청색에 대한 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물은 서브픽셀 볼륨내에 증착되어, 페이스플레이트 내부측/형광물질 인터페이스를 생성시킨다. 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물의 적어도 일부는 페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 통해 충분한 광화학 빛으로 노출되어, 서브픽셀 볼륨내의 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물의 선택된 깊이를 중합하고, 다수의 서브픽셀 볼륨내에 중합된 형광물질 함유물질을 형성한다. 중합되지 않은 형광 물질 함유 광 중합체는 중합된 형광물질 함유 물질에서 제거된다.
도 1 에 도시된 바와 같이, 디스플레이(10)는 진공 압력, 예를 들어 거의 1 x 10-7torr 이하로 유지되는 봉인된 엔벨로프(16)를 서로 형성하는 페이스플레이트(12) 및 후면 플레이트(backplate)(14)를 포함한다(도시되지 않은) 하나 이상의 내부 지지대는 후면 플레이트(14)에 대한 페이스플레이트(12)를 지지한다.
다수의 전기장 방출부(18)는 엔벨로프(16)내의 후면플레이트(14)의 표면상에 형성된다. 이를 위해, 전기장 방출부(18)는 다수의 전기장 방출부 또는 단일 전기장 방출부를 포함할 수 있다. 전기장 방출부(18)는 필라멘트, 콘(cone)등일 수 있다. 각 전기장 방출부(18)는 절연층내의 개구를 통해 연장하여, 하위 방출부 라인에 접촉한다. 각 전기장 방출부(18)의 상부는 중복 게이트 라인내의 구멍을 통해 노출된다. 행렬 전극은 각 전기장 방출부(18)로 부터 전자 빔(20)의 방출을 제어한다.
전자 빔(20)을 한정하는 전자는 1kV 내지 10kV의 범위내의 에너지로 다수의 전기장 방출부(18)에서 가속된다. 전자 빔(20)은 집속 전극(22)에 의해 집속되어, 이에 대응하여 중합된 형광 물질 함유 물질에 부딪친다. 형광 물질 서브픽셀을 한정하는 대응 중합된 형광 물질 함유 물질에 대해 한세트의 전기장 방출부(18)사이에 1:1 대응물이 있다. 각 형광 물질 서브픽셀은 서브픽셀 볼륨(26)을 한정하는 다수의 장벽(24)에 의해 둘러싸인다.
집속 전극(22)은 형광 물질 서브픽셀로 전자를 가속시킬 시에 이용된다. 집속 회로 칩은 페이스플레이트(12)로의 전자의 흐름을 조정하도록 행렬 전극의 전압을 제어하는 구동 회로를 포함한다. 전기 도전 트레이스는 칩상의 회로를 행렬 전극에 전기 접속하는 데에 이용된다.
페이스플레이트(12) 및 후면 플레이트(14)는 두께가 약 1.1mm인 유리로 이루어진다. 오웬스-일리노이스 CV 120 을 포함하지만, 그로 제한되지 않는 납땝 유리의 봉인재가 봉인 엔벨로프(16)를 생성시키도록 측벽을 페이스플레이트(12) 및 후면플레이트(14)에 부착한다. 전체 디스플레이(10)는 섭씨 450도 봉인 온도에도 견뎌야 한다. 엔벨로프(16)내의 압력은 통상적으로 10-7torr 이하이다. 이런 고레벨의 진공 상태는 흡수 가스가 모든 내부 표면에서 제거되게 하도록 펌프 포트를 통해 엔벨로프(16)를 고온으로 비우게 함으로써 성취된다. 엔벨로프(16)는 그때 펌프 포트 패치(patch)에 의해 봉인된다.
도 2 에서, 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물(첫째로는 적색, 둘째로는 녹색, 셋째로는 청색)은 페이스플레이트 내부 측/형광 물질 인터페이스(28)를 생성시키도록 서브픽셀 볼륨(26)내로 증착된다. 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물의 적어도 일부는 페이스플레이트 내부 측/형광 물질 인터페이스(28)를 통해 충분한 광화학 빛으로 노출되어, 서브픽셀 볼륨(26)내의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물의 선택된 깊이를 중합시키고, 분리 서브픽셀 볼륨(26)내에 적색(30(a)), 녹색(30(b)) 및, 청색(30(c))에 대한 중합된 형광 물질 함유 물질을 형성시킨다.
장벽(24)은 페이스플레이트(12)의 내부측상에 생성된다. 장벽(24)은 금속, 유리 세라믹, 중합체, 폴리아미드 등을 포함하지만, 그로 제한되지 않는 많은 물질로 제조될 수 있다. 장벽(24)은 산란 차폐 작용을 할 수 있다. 이런 산란 차폐는 대응 서브픽셀 볼륨(26)에서 나오는 산란 전자의 수를 감소시킨다. 이는 비대응 형광물질 서브픽셀에 부딪치는 전자 수 뿐만 아니라 엔벨로프(16)내의 차징(charging) 내부 절연면에서의 산란 전자의 수를 감소시킨다. 이는 고 전압 디스플레이내에서 콘트라스트, 색순도 및 전력 효율을 증가시킨다.
산란 자폐물의 높이는 서브 픽셀 볼륨(26)을 벗어나는 산란 전자의 수를 충분히 감소시킨다. 양호하게도, 산란 차폐물 38 높이는 12㎛, 25㎛, 50㎛, 75㎛, 100㎛ 또는 그 이상이다. 그러나, 실제 높이 및 사이즈는 디스플레이의 치수에 따라 변한다. 산란 차폐물은 중합된 형광 물질 함유 물질(30(a)), 30(b)) 및 30(c))의 높이 이상의 약 20 내지 200㎛, 20 내지 100㎛ 및 50 내지 100㎛ 의 범위내의 높이를 가질 수 있다.
도 3 에서, 플라즈마 셀이 설명된다. 플라즈마는 Y 전극 사이에서 생성되어, uv 광자를 발생시킨다. X 및 Y 전극은 투명하고 도전적이다. 도 3 의 플라즈마 셀은 uv 광자를 로크(lock)시킨다. 장벽은 거의 모두가 후면 플레이트로 연장하여, 진공 배출을 위해 거의 폐쇄 셀에 접근시킨다.
다수의 적색, 녹색 및 청색 형광물질 함유 광중합체 혼합물은 다수의 서브픽셀 볼륨내로 증착된다. 이는 페이스플레이트 내부측/형광물질 인터페이스를 생성시킨다. 형광물질 함유 광중합체 혼합물의 적어도 일부는 페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 통해 충분한 광화학 빛으로 노출되어, 서브픽셀 볼륨내에 형광 물질 함유 광중합체 혼합물의 선택된 깊이를 중합시킨다.
이는 다수의 서브픽셀 볼륨(26)내에 적색, 녹색 또는 청색 중합된 형광 물질 함유 물질을 형성시킨다.
패턴 가능 마스크 또는 스크린은 서브픽셀 볼륨(26)내에 적색, 녹색 및 청색 중합된 형광 물질 함유 물질을 형성시키는 데 활용된다. 스크린 및 마스크는 중합된 형광 물질 함유 물질을 보호하고, 대응 픽셀 볼륨(26)내의 중합된 형광물질 함유 물질을 방해하지 않고 제거 가능하다. 스크린 및 마스크이 사용으로, 녹색, 적색 및 청색 혼합물의 슬러리(slurry)를 포함하지만, 그로 제한되지 않는 광 감지 혼합물을 서브픽셀 볼륨(26)내로 순차적으로 증착하거나 주입하는 스크린 프린팅에 대한 고처리율, 저비용 방법을 갖게 된다.
광감지 매체는 그때 페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스(28)를 통해 전송된 광화학 빛으로 노출되어, 각 서브픽셀 볼륨(26)을 에워싼 장벽(24)에 의해 마스크되지 않은 영역내에 형광물질 함유 광중합체 혼합물을 중합시킨다.
노출되지 않은 형광 물질 함유 광 중합체 혼합물은 노출 빛의 세기로 침투되지 않는 서브픽셀 볼륨(26)내의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물과 장벽(24)의 상부에서 린스(rinse) 등에 의해 제거된다.
고전압 디스플레이(10)에 대하여, 노출되지 않은 형광 물질 함유 광중합체 혼합물이 제거된 후, 금속화층은 서브픽셀 볼륨(26)내의 적색, 녹색 및 청색 중합된 형광물질 함유 물질위에 형성된다. 이런 금속화층은 박막을 형성하고, 양호한 형태 유효범위(good morphology coverage)를 제공하며, 저 원자 번호를 갖는다. 적당한 금속화 물질은 알루미늄 등을 포함한다. 저 전압 디스플레이(10)에 대하여, 투명한 도전층은 페이스플레이트와, 적색, 녹색 및 청색 중합된 형광 물질 함유 물질 사이의 페이스플레이트 내부 표면상에 형성된다. 적당한 도전층은 인듐 주석 산화물(ITO)이다. 도전층은 페이스플레이트(12)의 차지 업(charge up)을 감소시킨다.
도 4a 내지 4c 는 서브픽셀 볼륨(26)내에 적색, 녹색 및 청색 중합된 형광 물질 함유 물질의 형성에 대하여 설명한 것이다. 일실시예에서, 이런 물질은 폴리비닐 알콜(PVA)의 광 감지 혼합물내의 적색 형광물질의 슬러리이며, 암모늄 중크롬산염보다는 물이 스크린(36)내의 개구(34)를 통해 슬러리시킨 닥터-블레이드(doctor-blade)(32)의 압력으로 서브픽셀 볼륨(26)내로 분배된다. 녹색 및 청색 형광물질의 슬러리는 또한 이용된다. 중합된 형광물질 함유 물질은 슬러리될 필요가 없다.
적색 형광 물질은 그때 10분동안 40℃에서 대류 오븐(convection oven)내에서 건조되어, 광감지 형광 물질 슬러리에서 물을 제거한다.
이런 싸이클은 각 부가적인 형광 물질 색에 대해 반복된다.
건식 광감지 형광 물질 막을 가진 페이스플레이트(12)의 외부는 그때 PVA 를 중합하도록 유리/형광 물질 인터페이스를 통해 250mJ/sq cm의 노출 선량에 대한 파장 365nm 의 빛으로 노출된다. 형광물질의 두께는 노출 세기 및 선량에 의존한다. 이런 노출 선량은 현상 후에 12㎛(nom)의 스크린 두께를 제공한다. 광화학 빛은 소정의 잔여 형광물질이 노출되지 않은 상태로 있도록 장벽 층(24)의 상부에서 차단된다.
서브픽셀 볼륨(26)내의 노출 형광물질과 함께 페이스플레이트(12)는 그때 물 스프레이(spray)로 현상함으로써 중합되지 않은 형광 물질/PVA 을 제거하도록 현상된다.
장벽(24)을 형성하는 공정의 일 실시예에서, 래커(lacquer)층은 스프레이된다. 래커층의 상부면은 평평하다. 빛 반사층은 래커층상에 증기화로 증착될 수 있다. 이런 구조는 그때 부분적인 산소 기압내에서 60분 동안 대략 450℃로 가열되어, 래커를 태운다.
장벽(24)에 대해 하나의 선택된 물질은 OCG 프로비마이드 7020이나, 듀퐁, 히타치등으로부터의 다른 유사한 중합체와 같은 광한정 가능 폴리아미드이다.
프로비마이드 7020의 제 1 층은 30초 동안 750RPM 에서 대류 스핀 증착법으로 중착된다. 페이스플레이트(12)는 그때 70℃로 핫(hot) 플레이트상에서 베이크(bake)되고 나서, 100℃ 소프트(soft) 베이크되어, 용제를 없앤다. 블랙 매트릭스 패턴은 (i) 프로비마이드층에 근접한 마스크를 통한 광노출, (ii) 프로비마이드층의 현상에 의해 생성되고 나서, (iii) 450℃로 베이크함으로써 생성된다. 프로비마이드는 그때 푸들(puddle)/스프레이 싸이클로 OCG QZ3501 에서 현상되고 나서, 용제 린스(OCG QZ 3512)에 의해 현상된다.
프로비마이드 7020의 제 2 층은 제 1 층과 동일한 조건하에 증착되고 베이크된다. 소프트 베이크 프로비마이드는 그때 프로비마이드층에 근접한 마스크를 통해 405nm 빛에 의해 광 노출된다. 노출된 프로비마이드층은 그때 안정화되고, 매분 3℃의 열팸프에 따른 질소 기얍내에서 450℃에서 1시간 동안 하드(hard) 베이크된다.
장벽(24)은 또한 블랙 크로뮴으로 부터 생성되어, 페이스플레이트(12)상의 대류 노광 기술(lithography)에 의해 광패턴된다.
본 발명의 양호한 실시예에 대한 전술한 기술은 설명을 위해 제공되었다. 이는 본 발명을 제시된 형태로 제한하기 위해 의도된 것은 아니다. 본 기술 분야의 숙련자에게는 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 다음의 청구의 범위로 본 발명의 범주는 한정된다.

Claims (34)

  1. 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법에 있어서,
    페이스플레이트 내부측 및 페이스플레이트 외부측을 페이스플레이트 기판에 제공하는 단계,
    다수의 서브픽셀 볼륨을 한정하는 다수의 장벽을 페이스플레이트 내부측상에 형성하는 단계,
    다수의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물을 다수의 서브픽셀 볼륨내로 증착하여, 페이스플레이트 내부측/형광물질 인터페이스를 생성시키는 단계,
    형광 물질 함유 광중합체 혼합물의 적어도 일부를 페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 통해 충분한 광화학 빛으로 노출시켜, 서브픽셀 볼륨내의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물의 선택된 깊이를 중합시키고, 다수의 서브픽셀 볼륨내에 중합된 형광 물질 함유 물질을 형성시키는 단계 및,
    중합된 형광 물질 함유 물질로부터 중합되지 않은 형광 물질 함유 광중합체를 제거하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    중합된 형광 물질 함유 광중합체위에 금속화층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 형성하기 전에 내부 페이스플레이트측상에 투명한 도전층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  4. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 용제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 용제의 적어도 일부는 광화학 빛으로 노출할 동안에 제거되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  6. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    상기 형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 슬러리인 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  7. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    상기 디스플레이는 플라즈마 패널 디스플레이인 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  8. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    상기 장벽은 광자의 확산을 차단하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  9. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    상기 장벽은 블랙 매트릭스를 형성하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  10. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    상기 형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 녹색, 적색 및 청색 형광물질의 증착물을 포함하고, 서브픽셀 볼륨은 녹색, 적색 또는 청색 형광 물질을 하우스(house)하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  11. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    중합된 형광 물질 함유 물질은 패턴 가능한 마스크를 가진 다수의 서브픽셀 볼륨내에 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 패턴 가능한 마스크는 제거 가능한 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  13. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    중합된 형광 물질 함유 물질은 스크린 프린팅에 의해 다수의 서브픽셀 볼륨내에 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  14. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    녹색 형광 물질의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물, 적색 형광 물질의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물과, 청색 형광물질의 형광물질 함유 광중합체 혼합물은 순차적으로 분리 서브픽셀 볼륨내에 증착되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  15. 제 2 또는 3 항에 있어서,
    형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 서브픽셀 볼륨내에 주입되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  16. 후면 플레이트와, 페이스플레이트 및 후면 플레이트간의 봉인된 앤벨로프를 포함하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법에 있어서,
    페이스플레이트 내부측 및 페이스플레이트 외부측을 페이스플레이트 기판에 제공하는 단계,
    다수의 서브픽셀 볼륨을 한정하는 다수의 산란 차폐물을 페이스플레이트 내부측상에 형성하는 단계,
    다수의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물을 다수의 서브픽셀 볼륨내로 증착하여, 페이스플레이트 내부측/형광물질 인터페이스를 생성시키는 단계,
    형광 물질 함유 광중합체 혼합물의 적어도 일부를 페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 통해 충분한 광화학 빛으로 노출시켜, 서브픽셀 볼륨내의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물의 선택된 깊이를 중합시키고, 다수의 서브픽셀 볼륨내에 중합된 형광 물질 함유 물질을 형성시키는 단계 및,
    중합된 형광 물질 함유 물질로부터 중합되지 않은 형광 물질 함유 광중합체를 제거하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    중합된 형광 물질 함유 광중합체위에 금속화층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  18. 제 16 항에 있어서,
    페이스플레이트 내부측/형광 물질 인터페이스를 형성하기 전에 내부 페이스플레이트측상에 투명한 도전층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  19. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    서브픽셀 볼륨을 에워싼 산란 차폐물의 높이는 엔벨로프내의 절연 표면에 부딪치고, 차지(charge)하도록 대응서브픽셀 볼륨에서 나온 산란 전자의 수를 충분히 감소시키는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  20. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    서브픽셀 볼륨을 에워싼 산란 차폐물의 높이는 다른 서브픽셀 볼륨에 부딪치도록 대응 서브픽셀 볼륨에서 나온 산란 전자의 수를 충분히 감소시키는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  21. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    산란 차폐물의 높이는 형광 물질 함유 광중합체 혼합물 이상인 약 20 내지 200㎛인 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  22. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    산란 차폐물의 높이는 형광 물질 함유 광중합체 혼합물 이상인 약 20 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  23. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 페이스플레이트 내부측에서 엔벨로프로 약 1 내지 30㎛ 연장한 높이를 가지는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  24. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    산란 차폐물은 형광 물질 함유 광중합체 혼합물 이상으로 연장한 약 12㎛의 높이를 가지는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  25. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 용제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  26. 제 25 항에 있어서,
    상기 용제의 적어도 일부는 광화학 빛으로 노출할 동안에 제거되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  27. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    상기 형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 슬러리인 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  28. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    상기 산란 차폐물은 블랙 매트릭스를 형성하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  29. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    상기 형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 녹색, 적색 및 청색 형광물질의 증착물을 포함하고, 서브픽셀 볼륨은 녹색, 적색 또는 청색 형광 물질을 하우스하는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  30. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    중합된 형광 물질 함유 물질은 패턴 가능한 마스크를 가진 다수의 서브픽셀 볼륨내에 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  31. 제 30 항에 있어서,
    상기 패턴 가능한 마스크는 제거 가능한 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  32. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    중합된 형광 물질 함유 물질은 스크린 프린팅에 의해 다수의 서브픽셀 볼륨내에 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  33. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    녹색 형광 물질의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물, 적색 형광 물질의 형광 물질 함유 광중합체 혼합물과, 청색 형광물질의 형광물질 함유 광중합체 혼합물은 순차적으로 분리 서브픽셀 볼륨내에 증착되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
  34. 제 17 또는 18 항에 있어서,
    형광 물질 함유 광중합체 혼합물은 서브픽셀 볼륨내에 주입되는 것을 특징으로 하는 디스플레이의 페이스플레이트 제작방법.
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