JPH11329257A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 遮光膜を形成した後に透明電極を形成してい
たので、透明電極での電力損失や透明電極の切断等が発
生しやすく、蛍光体より発生した光が金属電極において
吸収されてしまいライン開口率以上の光の取り出しがで
きないために発光効率の低下を招いていた。 【解決手段】 透明電極の一部の領域に重なる遮光膜に
さらに重ねて、第２基板と対向する方向に一部が透明電
極に重なるように金属電極を設け、蛍光体から発生した
可視光を反射し得るようにするとともに、透明電極での
電力損失や透明電極の切断等の問題を解決し、蛍光体か
ら発生した可視光を吸収することなく蛍光体側に反射す
るように構成することによって発光効率の向上を図っ
た。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、プラズマディス
プレイパネルに関するものであり、特にプラズマディス
プレイパネルにおける輝度の向上に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図６乃至図８は、例えば特開平９−１２
９１４２号公報に記載された従来の面放電型プラズマデ
ィスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称す）を示す図であ
り、図６はＰＤＰの構造を示す斜視図、図８はその要部
断面図である。

【０００３】図６において、１はＰＤＰであり、以下に
述べる要素より構成されている。１１は前面側のガラス
基板（以下、第１基板と称す）、２１は第１基板１１に
平行に対向し、図示しない封止部分においてその周辺が
第１基板１１とフリットガラス等の材料によって封止さ
れる背面側のガラス基板（以下、第２基板と称す）、４
１は透明電極、４２は透明電極４１上に設けられた金属
電極、１７は例えばＰｂＯ系ガラスなどによって構成さ
れ透明電極４１および金属電極４２上に設けられた誘電
体、１８は誘電体１７上に設けられた例えばＭｇＯより
なる保護層、３０は放電ガスが封入され、ガス放電の発
生する空間である放電空間、２９は隔壁、Ａはアドレス
電極、２４はアドレス電極Ａ上に形成された絶縁層、２
２は第２基板２１上であってアドレス電極Ａがその上に
形成される下地層である。

【０００４】Ｘは透明電極４１および金属電極４２によ
って構成される表示電極、Ｙは表示電極Ｘと同様に透明
電極４１および金属電極４２によって構成される表示電
極であり、表示電極ＸおよびＹはそれぞれ平行に対をな
し、表示ラインＬを構成する。この表示ラインＬの延び
る方向を第１の方向とする。２８ＲはＲ（赤）、２８Ｇ
はＧ（緑）、２８ＢはＢ（青）の３原色の蛍光体層であ
り、以下特に区別する必要がないときは蛍光体層２８と
総称する。

【０００５】図８（ａ）において、Ｓ１は各ラインＬに
おける表示電極Ｘと表示電極Ｙとの間隙（以下、放電ス
リットと称す）、Ｓ２は隣接するラインＬ、Ｌ間におけ
る一方のラインＬにおける表示電極Ｙと他方のラインＬ
における表示電極Ｘとの間隙（以下、逆スリットと称
す）、４５は逆スリットＳ２部分に設けられた遮光膜で
ある。図８（ｂ）は図８（ａ）の要部断面の拡大図であ
る。

【０００６】次に従来のＰＤＰ１について図６および図
７を参照しながら説明する。第１基板１１の内面（第１
基板１１における、第２基板２１と対向する側の面）に
は、基板面に沿った面放電を生じさせるための、平行し
た一対の直線状の表示電極ＸおよびＹが、マトリクス表
示の可能なようにラインＬ毎に一対ずつ、例えばライン
ピッチ（ラインＬ、Ｌのライン方向におけるラインそれ
ぞれの中心間の距離）６６０μｍで配列されている。

【０００７】表示電極ＸおよびＹの対は、それぞれ、例
えば厚さ０．１μｍ、幅１８０μｍのＩＴＯ薄膜よりな
る幅の広い直線状の透明電極４１と、例えば厚さ１μ
ｍ、幅６０μｍの金属薄膜（Ｃｕ／Ｃｒ／Ｃｕ）からな
る幅の狭い直線状の金属電極４２とから構成される。

【０００８】一方、第２基板２１の内面（第２基板２１
における、第１基板１１に対向する側の面）には、第１
の方向と直交する方向に銀ペーストの焼成によって形成
され、例えば厚さ約１０μｍのアドレス電極Ａが配列さ
れている。このアドレス電極Ａの延びる方向を第２の方
向とする。また、このアドレス電極Ａの上部および下部
には、いずれも例えばその厚さが１０μｍ程度である絶
縁層２４および下地層２２が設けられている。

【０００９】絶縁層２４の上には、高さが約１５０μｍ
の、平行して第２の方向に直線状に延びる複数の隔壁２
９が各アドレス電極Ａの間に１つずつ設けられており、
隣接する放電空間同士におけるガス放電の漏れや光の漏
れ（光のクロストーク）が発生するのを防いでいる。ま
た、アドレス電極Ａの上方を含めて、絶縁層２４の表面
および隔壁２９の側面を覆うように、蛍光体層２８が、
赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の３原色のおのおの
に対応するように設けられており、面放電によって生じ
た紫外線によって励起され、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および
青（Ｂ）の３原色のおのおのに対応するような可視光を
発光する（紫外線から可視光への変換）。

【００１０】放電セルは、放電空間３０における、アド
レス電極Ａと、これと直交する方向にある表示電極Ｘお
よび表示電極Ｙとの交差部によってそれぞれ規定され
る。そして、アドレス電極Ａにアドレスパルスを印加
し、同時に表示電極Ｙに走査パルスを印加することによ
って、それらの交差部に位置する放電セルが選択され、
その放電セルにおいて書込放電がアドレス電極Ａと表示
電極Ｙとの間に発生し、この書込放電に誘発されて表示
電極Ｘと表示電極Ｙとの間にも放電が生起し誘電体層１
７（厳密には保護層１８）上に壁電荷を蓄積する。その
後は、表示電極Ｘおよび表示電極Ｙとの間に交互に電圧
（維持パルス）が印加されることによってガス放電（維
持放電あるいは表示放電と称される）が維持され、その
結果、蛍光体層２８からの発光が維持される。このよう
にして各放電セルの放電・非放電を制御し、書込放電に
よる放電セルの選択や表示放電の期間における蛍光体層
２８の発光状態を時間的に変動させることにより、所望
の画像表示を行っている。

【００１１】さらに、図８には、外光が入射して非発光
状態の白色または淡い灰色などの蛍光体層２８での散乱
によるコントラストの低下を防止するために、第１基板
１１の内面と直接に接するように、可視光を遮る遮光膜
４５が逆スリットＳ２毎に設けられる構成が示されてい
る。各遮光膜４５は図７に示すように、表示ラインＬ方
向に延びる帯状にパターニングされており、図８（ａ）
および（ｂ）に示すように隣接した表示ラインＬの間の
表示電極Ｘおよび表示電極Ｙで挟まれた領域と重なるよ
うに配置されている。

【００１２】図８（ａ）および（ｂ）に示すような、遮
光膜４５の形成されている状態を説明すると、第１基板
１１上の表示ラインＬに対応する部分では光が通過可能
なように、間隔をおいて遮光膜４５が形成され、その遮
光膜４５両端部近傍にかかるように透明電極４１が形成
されている。さらに金属電極４２が透明電極４１上に形
成されている。そしてこれら第１基板１１、遮光膜４
５、透明電極４１および金属電極４２の各表層を覆うよ
うに誘電体層１７、またその上に保護層１８が形成され
ている。

【００１３】そして、この遮光膜４５によって、表示画
面上にはストライプ状（縞状の）遮光パターンが形成さ
れ、表示ラインＬ間にある逆スリットＳ２に対応する蛍
光体層２８部分が外光に対して遮蔽され、表示のコント
ラストが高まるようにされている。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】従来のものは上述のよ
うに構成されており、確かに第１基板１１側から入射す
る外光が遮光膜４５によって蛍光体２８にまで到達せず
コントラストを高めることが可能であるが、遮光膜４５
が第１基板１１上に形成された上で遮光膜４５と部分的
に重なるように透明電極４１が形成されるため、透明電
極４１には遮光膜４５の厚さ分の段差が生じ、そもそも
透明電極４１は上述したようにその膜厚が０．１μｍ程
度であるため、段差部分にホール（孔）や電流集中が起
きやすく、電力損失や電極の切断等が発生しやすく、性
能の安定性に問題があった。また、従来のもののように
構成するには、遮光膜４５を焼成した後に透明電極４１
を形成しなければならず、その後の金属電極４２を形成
するための焼成と併せると、金属電極４２を形成するま
でに少なくとも２回の焼成工程を行うことになるため、
生産効率が向上しない。

【００１５】また、まず第１基板１１側から、１表示ラ
インＬあたりの蛍光体２８から発光した光の取り出しに
ついて図９および図１０を参照しながら考察する。図９
に示すように、１表示ラインＬにおいて、表示電極Ｘを
構成する透明電極４１の幅が約１８０μｍ、放電スリッ
トＳ１の幅が約５０μｍ、表示電極Ｙを構成する透明電
極４１の幅が約１８０μｍであり、これらの幅の和、す
なわち約４１０μｍが１表示ラインＬを構成する最大幅
となる。ところで、金属電極４２はＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒで
構成されており光は透過しない。

【００１６】このＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒによって構成された
金属電極４２は、図９に示すように約６０μｍの幅を有
して透明電極４１の対向するそれぞれの辺とは反対側に
設けられており、従って１表示ラインＬにおける光の取
り出し可能な幅（以下、開口幅と称す）は、前述の１表
示ラインＬを構成する最大幅である約４１０μｍに対し
て約２９０μｍとなり、１表示ラインＬを構成する最大
幅に対して約６０％程度（以下、ライン開口率と称す）
となる。

【００１７】次に第２基板２１側から、１表示ラインＬ
あたりの蛍光体２８から発光した光の放出について模式
的に示した図１０を参照しながら考察する。なお、図１
０は、特に第１基板１１の側についてのみ示した。上述
したように、金属電極４２はＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒで構成さ
れており、可視光に対しては黒っぽい、すなわち可視光
領域の光を吸収する要素となる。蛍光体２８において発
生した光は、放電セル内部での反射を繰り返しながら、
上述した開口幅を通して第１基板１１外部に取り出され
る（図中白抜き矢印にて表現）。しかしながらＣｒ／Ｃ
ｕ／Ｃｒで構成されている金属電極４２において、発生
した光の一部が吸収されてしまう（図中黒塗り矢印にて
表現）ため、上述のライン開口率６０％を越えて光を取
り出すことができず、最終的な発光効率が上がらない一
因となっていた。なお、図中実線の矢印は表示面Ｈから
の外光の入射、点線矢印は外光の遮蔽をそれぞれ模式的
に表している。

【００１８】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、透明電極における電力損失や
切断が無い性能の安定した、発光効率の高いプラズマデ
ィスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを
目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】第１の発明においては、
対向する第１基板と第２基板との間に形成される放電セ
ルにおけるガス放電に基づいて所望の画像を表示させる
ためのプラズマディスプレイパネルであって、第１基板
は、（ａ）表示ライン方向に沿って、透明電極が互いに
平行に所定の間隙をおいて構成される透明電極対、
（ｂ）隣り合う透明電極対の間に配設されるとともに、
透明電極対を構成する各透明電極の一部の領域に第２基
板と対向する方向に重なって配設される遮光膜、（ｃ）
透明電極の一部の領域に重なる遮光膜にさらに重ねて、
第２基板との対向する方向にその一部が透明電極に重な
る金属電極、（ｄ）透明電極対、遮光膜および金属電極
を覆うように設けられた誘電体層、およびこの誘電体層
を覆うように設けられた保護層、のおのおのを第２基板
との対向面側に備え、第２基板は、少なくともガス放電
によって発生する紫外線が可視光に変換されるための蛍
光体を第１基板との対向面側に備えるようにしたもので
ある。

【００２０】第２の発明においては、隣り合う透明電極
対の間に設けられる遮光膜とこの透明電極対を構成する
各透明電極の一部の領域に第２基板と対向する方向に重
なる遮光膜とが、連続して設けられるようにしたもので
ある。

【００２１】第３の発明においては、隣り合う透明電極
対の間に設けられる遮光膜とこの透明電極対を構成する
各透明電極の一部の領域に第２基板と対向する方向に重
なる遮光膜とが、断続して設けられるようにしたもので
ある。

【００２２】第４の発明においては、金属電極は非着色
金属を用いて形成されるようにしたものである。

【００２３】第５の発明においては、遮光膜は暗色であ
るように構成したものである。

【００２４】第６の発明においては、対向する第１基板
と第２基板との間に形成される放電セルにおけるガス放
電に基づいて所望の画像を表示させるためのプラズマデ
ィスプレイパネルを製造する方法であって、第１基板の
第２基板と対向する面側には、透明電極が互いに平行に
所定の間隙をおいて構成される透明電極対が設けられる
とともに、 ａ）透明電極対の設けられた第１基板上の全面に第１の
感光性ペーストを塗布し、乾燥させる工程、 ｂ）乾燥した第１の感光性ペーストを、透明電極対を構
成する各透明電極の一部が露出するように第１のマスク
を介して露光し、現像する工程、 ｃ）さらに重ねて第２の感光性ペーストを現像された第
１の感光性ペーストを含む第１基板上の全面に塗布し、
乾燥させる工程、 ｄ）乾燥した第２の感光性ペーストを、一部が透明電極
に接し、他部が現像された第１の感光性ペーストに接す
るように第２のマスクを介して露光し、現像する工程、 ｅ）現像された第１および第２の感光性ペーストを同時
に焼成しておのおの遮光膜および金属電極を形成する工
程、の各工程を含んで遮光膜および金属電極が設けら
れ、第２基板の第１基板と対向する面側には、ガス放電
によって発生する紫外線を可視光に変換するための蛍光
体層が設けられ、第１基板と第２基板とを張り合わせる
ことによってプラズマディスプレイパネルを構成するよ
うにしたものである。

【００２５】第７の発明においては、隣り合う透明電極
対の間に設けられる遮光膜と透明電極対を構成する各透
明電極の一部の領域に第２基板と対向する方向に重なる
遮光膜とが、連続するように設けられるようにしたもの
である。

【００２６】第８の発明においては、隣り合う透明電極
対の間に設けられる遮光膜と透明電極対を構成する各透
明電極の一部の領域に第２基板と対向する方向に重なる
遮光膜とが、断続するように設けられるようにしたもの
である。

【００２７】第９の発明においては、金属電極は非着色
金属を用いて形成されるようにしたものである。

【００２８】第１０の発明においては、遮光膜は暗色で
あるようにしたものである。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、本発明に関わるプラズマデ
ィスプレイパネルおよびその製造方法を、その実施の一
形態を示す図面に基づき具体的に説明する。なお、図に
おいて、同一符号は同一または相当のものを示す。

【００３０】（各実施の形態に共通する部分について）
図１は、以下に述べる各実施の形態に共通するＰＤＰの
製造方法を模式的に表すフローチャートであり、図にお
いて、ＦＳ１は以下の実施の形態に関わる第１基板１１
の製造に関わる工程であり、ＦＳ２は既知の方法による
第２基板２１の製造に関わる工程である。

【００３１】第２基板２１上にはおのおの離間し平行に
複数条のアドレス電極Ａが形成され、続いてアドレス電
極Ａの間には例えばスクリーン印刷等の手法を用いて隔
壁が形成される。さらにアドレス電極Ａ上および隔壁の
側面を含めて蛍光体領域が形成され背面パネルを製造す
るための工程ＦＳ２が完了する（背面パネルの完成）。

【００３２】一方、第１基板１１上には従来のＰＤＰに
も用いられている、おのおの離間し平行に複数条の表示
電極ＸおよびＹに対応する各透明電極が形成され（工程
ＦＳ１１）、続いて以下の実施の形態に詳細に説明する
ように遮蔽膜の形成（工程ＦＳ１２）、金属電極の形成
（工程ＦＳ１３）、誘電体、保護層のおのおのが順次形
成され（工程ＦＳ１４）、前面パネルを製造するための
工程ＦＳ１が完了する（前面パネルの完成）。

【００３３】続いて、以上の工程ＦＳ１と工程ＦＳ２と
によって得られる前面パネルと背面パネルとを、それら
の周辺部に低融点ガラスを塗布・加熱して貼合わせて密
閉化し、通常は背面パネル側に設けられる排気管より排
気後、ガス封入を行い密封され、ＰＤＰが完成する（工
程ＦＳ３）。以下、工程ＦＳ１に含まれ、本発明の特徴
となる実施の形態について説明する。

【００３４】実施の形態１．図２は、本発明に関わるプ
ラズマディスプレイパネルの要部の斜視図である。図に
示す構成においては、従来のものと同様の部分について
は同一符号を用いて説明する。また、第２基板２１側の
構成においては従来のものを用いることが可能であるの
で、主として第１基板１１側について述べる。なお、図
において４５０は本実施の形態に関わる遮光膜、４２０
は本実施の形態に関わる金属電極である。

【００３５】図を参照するとわかるように、第１基板１
１には、表示ライン方向に沿って、透明電極が互いに平
行に所定の間隙をおいて対となって設けられる透明電極
４１、４１（この透明電極４１、４１を総称して透明電
極対と称する）が構成され、隣り合う透明電極対の間お
よびこの透明電極対を構成する各透明電極４１の一部の
領域に第２基板２１と対向する方向に遮光膜４５０が重
なって配設され、透明電極４１の一部の領域に重なる遮
光膜４５０に、さらに第２基板２１との対向する方向に
その一部が透明電極４１に重なる金属電極４２０が配設
される。

【００３６】以上のように、対となって設けられる透明
電極４１（透明電極対）、遮光膜４５０および金属電極
４２０を覆うように誘電体層１７、さらにこの誘電体層
１７を覆うように保護層１８がそれぞれ設けられる。

【００３７】この場合の金属電極４２０は、可視光に対
して黒色とはならないような、白色または金属光沢の非
着色金属材料（例としては純Ａｇ、純Ａｕなど）を用い
る。これら非着色の金属、例えば純Ａｇや純Ａｕなど
は、電気伝導度も高く可視光の光反射率が高い。一方、
遮光膜４５０は外光の入射を遮断するように可視光に対
して暗色（例えば黒色）となる部材を用いて形成され
る。

【００３８】さらに第１基板１１の表示面Ｈ側から、第
１基板１１、透明電極４１、遮光膜４５０、遮光膜４５
０の一部に重なる（かかる）部分（図中４２０Ｂ）およ
び透明電極４１と導通状態となって重なっている部分
（図中４２０Ａ）を含む金属電極４２０、金属電極４２
０上に設けられた、例えばＰｂＯ系ガラスなどよりなる
誘電体層１７、さらにこの誘電体層１７上に重ねて設け
られた、例えばＭｇＯなどよりなる保護層１８の順に各
層が形成されている。

【００３９】このような層構造とすることによって、表
示面Ｈ側から透明電極４１を通して入射する外光に対し
ては透明電極４１の上に重ねて形成された遮光膜４５０
によって遮光し、一方、放電セルの内側において蛍光体
２８から発生する可視光に対しては遮光膜４５０の少な
くとも透明電極４１に重なる（かかる）部分においては
金属電極４２０（図中４２０Ｂ）によって覆うことによ
って放電セル内へ発生した可視光を吸収させずに反射さ
せるので、当該金属電極４２０における可視光の損失は
殆ど発生しない。また、金属電極４２０の電極としての
機能は透明電極４１と導通状態となって重なっている部
分（図中４２０Ａ）によって達成している。

【００４０】なお、誘電体層１７および保護層１８は、
可視光に対して透明であり金属電極４２０は第２基板２
１上にある蛍光体２８に向いている。従って、蛍光体２
８の発する光（可視光）を反射する材料を用いることに
より、蛍光体２８が発生する可視光を吸収することなく
効率よく放電セル内に反射させることが可能であり、ラ
イン開口から放出される光の強度が従来のものより大き
くなり、ライン開口率６０％を実効的に越えるようにな
るため、光の利用効率を高め発光効率の改善を図ること
ができる。

【００４１】なお、第２基板２１には、ガス放電によっ
て発生する紫外線が可視光に変換されるように、蛍光体
が第１基板１１との対向面側に備えられており、さらに
第１基板１１と第２基板２１との間には隣接する放電セ
ル間の異常放電や放電セル間における光の漏れを防ぐた
めの隔壁（バリアリブ）、放電セルへの書込み放電を行
わせるための書込み電極等が設けられる。

【００４２】図３は、以上に述べたような積層構造を形
成するための製造方法を説明するための説明図であり、
図において、１００は暗色の遮光膜４５０を達成するた
めに黒色顔料として例えば酸化鉄、酸化コバルトなどを
含有する感光性黒色ペースト（ペーストＡと称する）、
３００は透明電極４１の一部にペーストＡ１００が残る
ようにパターン化された露光マスクＡ、１０１は金属電
極４２０を形成するための感光性ペースト（ペーストＢ
と称する）、３０１は金属電極４２０が残るようにパタ
ーン化された露光マスクＢである。

【００４３】第１基板１１の第２基板２１と対向する面
側には、透明電極４１が互いに平行に所定の間隙をおい
て透明電極対が設けられ、ａ）透明電極対の設けられた
第１基板１１上の全面に第１の感光性ペーストとしての
ペーストＡ１００を塗布し、乾燥させる工程、ｂ）乾燥
したペーストＡ１００を、透明電極対を構成する各透明
電極４１の一部が露出するように第１のマスクとしての
露光マスクＡ３００を介して露光し、現像する工程、
ｃ）さらに重ねて第２の感光性ペーストとしてのペース
トＢ１０１を現像されたペーストＡ１００を含む第１基
板１１上の全面に塗布し、乾燥させる工程、ｄ）乾燥し
たペーストＢ１０１を、一部が透明電極４１に接し、他
部が現像されたペーストＡ１００に接するように第２の
マスクとしての露光マスクＢ３０１を介して露光し、現
像する工程、ｅ）現像されたペーストＡ１００およびペ
ーストＢ１０１を同時に焼成しておのおの遮光膜４５０
および金属電極４２０を形成する工程、の各工程を含ん
で連続的な遮光膜４５０および金属電極４２０が設けら
れる。

【００４４】以下、上述した積層構造の形成方法につい
て詳述する。まず、第１基板１１上にＸ電極およびＹ電
極に対応する透明電極４１、４１を蒸着等の手法によっ
て形成した上で、第１基板１１および透明電極４１上に
ペーストＡ１００を全面にわたって塗布し、乾燥させる
（工程１。図中（１）。）。

【００４５】乾燥させたペーストＡ１００をパターン化
するために露光マスクＡ３００を介して紫外線等の照射
による露光（工程２。図中（２）。）を行い、現像する
と逆スリットＳ２および透明電極４１の一部にペースト
Ａ１００が残る（工程３。図中（３）。）。

【００４６】その後、金属電極４２０を形成するための
ペーストＢ１０１を、第１基板１１、透明電極４１およ
び現像されたペーストＡ１００上に全面にわたって塗布
し、乾燥させる（工程４。図中（４）。）。

【００４７】なお、この際に用いるペーストＢ１０１に
は、例えば純Ａｕや純Ａｇが含まれる、その平均粒度の
細かい（例えば、φ０．５μｍ程度）材料を用いる。こ
のようにすると最終的に得られる金属電極４２０表面の
平滑性を向上させることができるので可視光の反射率の
向上を図ることができるとともに、断線防止および金属
電極４２０と透明電極４１との接続が良好となる。

【００４８】乾燥させたペーストＢ１０１をパターン化
するために露光マスクＢ３０１を介して紫外線等の照射
による露光（工程５。図中（５）。）を行い、現像する
と金属電極４２０に対応するようにペーストＢ１０１が
残る。

【００４９】この状態のもの、すなわち乾燥したペース
トＡ１００およびペーストＢ１０１が所定のパターンに
積層されたものを一括して焼成し（工程６。図中
（６）。）、その後さらに誘電体層１７、保護層１８を
設けることによって第１基板１１における先に述べた積
層構造を形成するプロセスが完了し、さらに、前述した
ように隔壁、蛍光体、書込電極等がその上に形成された
第２基板２１との張り合わせと封止、真空引き、放電ガ
ス封入、密閉作業等の工程を順次行ってＰＤＰが完成す
る。この方法によれば、金属電極４２０および遮光膜４
５０を得るのに各ペーストの焼成を一括して行うので、
ここに至るまでの焼成工程が一度で済みＰＤＰの製造工
程短縮を図ることができる。

【００５０】なお、第２基板２１の第１基板１１と対向
する面側には、ガス放電によって発生する紫外線を可視
光に変換するための蛍光体層が設けられ、第１基板１１
と第２基板２１とを張り合わせることによってプラズマ
ディスプレイパネルを構成する。

【００５１】実施の形態２．図４は、本発明に関わる他
のプラズマディスプレイパネルにおける要部の斜視図で
ある。図に示す構成においては、従来のものと同様の部
分については同一符号を用いて説明する。また、第２基
板２１側の構成においては、従来のものを用いることが
可能であるので、主として第１基板１１側について述べ
る。なお、図において４５０は本実施の形態に関わる遮
光膜であり遮光膜Ａ４５０Ａおよび遮光膜Ｂ４５０Ｂよ
り構成される。なお、以下では遮光膜Ａ４５０Ａおよび
遮光膜Ｂ４５０Ｂを総称して遮光膜４５０と称する。ま
た、４２０は本実施の形態に関わる金属電極である。

【００５２】図を参照するとわかるように、第１基板１
１には、表示ライン方向に沿って、透明電極が互いに平
行に所定の間隙をおいて対となって設けられる透明電極
４１、４１（この透明電極４１、４１を総称して透明電
極対と称する）が構成され、隣り合う透明電極対の間お
よびこの透明電極対を構成する各透明電極４１の一部の
領域に第２基板２１と対向する方向に遮光膜４５０が重
なって配設され、透明電極４１の一部の領域に重なる遮
光膜４５０に、さらに第２基板２１との対向する方向に
その一部が透明電極４１に重なる金属電極４２０が配設
される。

【００５３】以上の対となって設けられる透明電極４１
（透明電極対）、遮光膜４５０および金属電極４２０を
覆うように誘電体層１７、さらにこの誘電体層１７を覆
うように保護層１８がそれぞれ設けられる。

【００５４】この場合の金属電極４２０は、可視光に対
して黒色とはならないような、白色または金属光沢の非
着色金属材料（例としては純Ａｇ、純Ａｕなど）を用い
る。これら非着色の金属、例えば純Ａｇや純Ａｕなど
は、電気伝導性も高く可視光の光反射率が高い。なお、
遮光膜４５０は外光の入射を遮断するように、可視光に
対して暗色（例えば黒色）となるような部材を用いて形
成される。

【００５５】さらに第１基板１１の表示面Ｈ側から、第
１基板１１、透明電極４１、遮光膜４５０、遮光膜４５
０の一部に重なる（かかる）部分（図中４２０Ｂ）およ
び透明電極４１と導通状態となって重なっている部分
（図中４２０Ａ）を含む金属電極４２０、金属電極４２
０上に設けられた、例えばＰｂＯ系ガラスなどよりなる
誘電体層１７、さらにこの誘電体層１７上に重ねて設け
られた、例えばＭｇＯなどよりなる保護層１８の順に各
層が形成されている。

【００５６】このような層構造とすることによって、表
示面Ｈ側から透明電極４１を通して入射する外光に対し
ては透明電極４１の上に重ねて形成された遮光膜４５０
によって遮光し、一方、放電セルの内側において蛍光体
２８から発生する可視光に対しては遮光膜４５０の少な
くとも透明電極４１に重なる（かかる）部分においては
金属電極４２０（図中４２０Ｂ）によって覆うことによ
って放電セル内へ発生した可視光を吸収させずに反射さ
せるので、当該金属電極４２０における可視光の損失は
殆ど発生しない。また、金属電極４２０の電極としての
機能は透明電極４１と導通状態となって重なっている部
分（図中４２０Ａ）によって達成している。

【００５７】実施の形態１と本実施の形態２との差は、
ペーストＡ１００が金属電極４２０に触れる部分（遮光
膜Ａ４５０Ａ）と、触れない部分（遮光膜Ｂ４５０Ｂ）
とを設けるために遮光膜４５０を遮光膜Ａ４５０Ａと遮
光膜Ｂ４５０Ｂとに分離して設けたものである。このよ
うにすると遮光膜Ｂ４５０Ｂは金属電極４２０からの変
色の影響を受けないので、ライン間における外光入射を
極力抑えるという遮光膜としての実際的な機能を十分に
発揮でき、コントラストの向上を確実に図れる。

【００５８】なお、誘電体層１７および保護層１８は、
可視光に対して透明であり金属電極４２０は第２基板２
１上にある蛍光体２８に向いている。従って、蛍光体２
８の発する光（可視光）を反射する材料を用いることに
より、蛍光体２８が発生する可視光を吸収することなく
効率よく放電セル内に反射させることが可能であり、実
施の形態１において説明したのと同様に光の利用効率を
高め発光効率の改善を図ることができる。

【００５９】なお、第２基板２１には、ガス放電によっ
て発生する紫外線が可視光に変換されるように、蛍光体
が第１基板１１との対向面側に備えられており、さらに
第１基板１１と第２基板２１との間には隣接する放電セ
ル間の異常放電や放電セル間における光の漏れを防ぐた
めの隔壁（バリアリブ）、放電セルへの書込み放電を行
わせるための書込み電極等が設けられる。

【００６０】図５は、以上に述べたような積層構造を形
成するための製造方法を説明するための説明図であり、
図において、１００は暗色の遮光膜４５０を達成するた
めに色顔料として例えば酸化鉄、酸化コバルトなどを含
有するペーストＡ、３０２は透明電極４１の一部にペー
ストＡ１００が残り、遮光膜Ａ４５０Ａと遮光膜Ｂ４５
０Ｂとが離間するようにパターン化された露光マスク
Ｃ、１０１は金属電極４２０を形成するためのペースト
Ｂ、３０１は金属電極４２０が残るようにパターン化さ
れた露光マスクＢである。

【００６１】第１基板１１の第２基板２１と対向する面
側には、透明電極４１が互いに平行に所定の間隙をおい
て透明電極対が設けられ、ａ）透明電極対の設けられた
第１基板１１上の全面にペーストＡ１００を塗布し、乾
燥させる工程、ｂ）乾燥したペーストＡ１００を、透明
電極対を構成する各透明電極４１の一部が露出し、乾燥
したペーストＡＡ１００ＡとペーストＡＢ１００Ｂとが
離間するように露光マスクＣ３０２を介して露光し、現
像する工程、ｃ）さらに重ねてペーストＢ１０１を現像
されたペーストＡ１００を含む第１基板１１上の全面に
塗布し、乾燥させる工程、ｄ）乾燥したペーストＢ１０
１を、一部が透明電極４１に接し、他部が現像されたペ
ーストＡＡ１００Ａに接するように露光マスクＢ１０１
を介して露光し、現像する工程、ｅ）現像されたペース
トＡＡ１００Ａ、ペーストＡＢ１００Ｂおよびペースト
Ｂ１０１を同時に焼成しておのおの遮光膜Ａ４５０Ａ、
遮光膜Ｂ４５０Ｂおよび金属電極４２０を形成する工
程、の各工程を含んで断続的な遮光膜４５０（遮光膜Ａ
４５０Ａおよび遮光膜Ｂ４５０Ｂ）および金属電極４２
０が設けられる。

【００６２】以下、積層構造の形成方法について詳述す
る。まず、第１基板１１上にＸ電極およびＹ電極に対応
する透明電極４１、４１を蒸着等の手法によって形成し
た上で、第１基板１１および透明電極４１上にペースト
Ａ１００を全面にわたって塗布し、乾燥させる（工程
１。図中（１）。）。

【００６３】乾燥させたペーストＡ１００をパターン化
するために露光マスクＣ３０２を介して紫外線等の照射
による露光（工程２。図中（２）。）を行い、現像する
と逆スリットＳ２の一部にペーストＡＢ１００Ｂが、お
よびこの逆スリットＳ２の一部のペーストＡＢ１００Ｂ
に離間して透明電極４１の一部にペーストＡＡ１００Ａ
が残る（工程３。図中（３）。）。

【００６４】その後、金属電極４２０を形成するための
ペーストＢ１０１を、第１基板１１、透明電極４１およ
び現像されたペーストＡＡ１００ＡおよびペーストＡＢ
１００Ｂ上に全面にわたって塗布し、乾燥させる（工程
４。図中（４）。）。

【００６５】なお、この際に用いるペーストＢ１０１に
は、例えば純Ａｕや純Ａｇが含まれる、その平均粒度の
細かい（例えば、φ０．５μｍ程度）材料を用いる。こ
のようにすると最終的に得られる金属電極４２０表面の
平滑性を向上させることができるので可視光の反射率の
向上を図ることができるとともに、断線防止および金属
電極４２０と透明電極４１との接続が良好となる。

【００６６】乾燥させたペーストＢ１０１をパターン化
するために露光マスクＢ３０１を介して紫外線等の照射
による露光（工程５。図中（５）。）を行い、現像する
と金属電極４２０に対応するようにペーストＢ１０１が
残る。

【００６７】この状態のもの、すなわち乾燥したペース
トＡＡ１００Ａ、ペーストＡＢ１００Ｂおよびペースト
Ｂ１０１が所定のパターンに積層されたものを一括して
焼成し（工程６。図中（６）。）、その後さらに誘電体
層１７、保護層１８を設けることによって第１基板１１
における先に述べた積層構造を形成するプロセスが完了
し、さらに前述したように、隔壁、蛍光体、書込電極等
がその上に形成された第２基板２１との張り合わせと封
止、真空引き、放電ガス封入、密閉作業等の工程を順次
行ってＰＤＰが完成する。この方法によれば、金属電極
４２０および遮光膜４５０Ａおよび４５０Ｂを得るのに
各ペーストの焼成を一括して行うので、ここに至るまで
の焼成工程が一度で済みＰＤＰの製造工程短縮を図るこ
とができる。

【００６８】なお、第２基板２１の第１基板１１と対向
する面側には、ガス放電によって発生する紫外線を可視
光に変換するための蛍光体層が設けられ、第１基板１１
と第２基板２１とを張り合わせることによってプラズマ
ディスプレイパネルを構成する。

【００６９】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
以下に述べるような効果を奏する。第１の発明において
は、対向する第１基板と第２基板との間に形成される放
電セルにおけるガス放電に基づいて所望の画像を表示さ
せるためのプラズマディスプレイパネルであって、第１
基板は、（ａ）表示ライン方向に沿って、透明電極が互
いに平行に所定の間隙をおいて構成される透明電極対、
（ｂ）隣り合う透明電極対の間に配設されるとともに、
透明電極対を構成する各透明電極の一部の領域に第２基
板と対向する方向に重なって配設される遮光膜、（ｃ）
透明電極の一部の領域に重なる遮光膜にさらに重ねて、
第２基板との対向する方向にその一部が透明電極に重な
る金属電極、（ｄ）透明電極対、遮光膜および金属電極
を覆うように設けられた誘電体層、およびこの誘電体層
を覆うように設けられた保護層、のおのおのを第２基板
との対向面側に備え、第２基板は、少なくともガス放電
によって発生する紫外線が可視光に変換されるための蛍
光体を第１基板との対向面側に備えるようにしたので、
金属電極における蛍光体からの可視光の吸収を防ぐこと
ができ、パネル外部に取り出せる光の量を大きくするこ
とが可能であり、明るい画面を得るプラズマディスプレ
イパネルを得ることができる。

【００７０】第２の発明によれば、隣り合う透明電極対
の間に設けられる遮光膜とこの透明電極対を構成する各
透明電極の一部の領域に第２基板と対向する方向に重な
る遮光膜とが、連続して設けられるようにしたので、遮
光膜が確実に形成され画像のコントラストが高い表示画
像が確実に得られるプラズマディスプレイパネルを得る
ことができる。

【００７１】第３の発明によれば、隣り合う透明電極対
の間に設けられる遮光膜とこの透明電極対を構成する各
透明電極の一部の領域に第２基板と対向する方向に重な
る遮光膜とが、断続して設けられるようにしたので、遮
光部材の変色が生じたとしても、変色する部位の拡がり
を抑えることができるので、画像のコントラストが長期
間にわたって確保されるプラズマディスプレイパネルを
得ることができる。

【００７２】第４の発明によれば、金属電極は非着色金
属を用いて形成することにより、蛍光体からの可視光の
反射率を高めることができるので、明るい画面を得るプ
ラズマディスプレイパネルを得ることができる。

【００７３】第５の発明によれば、遮光膜は暗色である
ように構成したので、画像のコントラストが高い表示画
像が可能なプラズマディスプレイパネルを得ることがで
きる。

【００７４】第６の発明によれば、対向する第１基板と
第２基板との間に形成される放電セルにおけるガス放電
に基づいて所望の画像を表示させるためのプラズマディ
スプレイパネルを製造する方法であって、第１基板の第
２基板と対向する面側には、透明電極が互いに平行に所
定の間隙をおいて構成される透明電極対が設けられると
ともに、 ａ）透明電極対の設けられた第１基板上の全面に第１の
感光性ペーストを塗布し、乾燥させる工程、 ｂ）乾燥した第１の感光性ペーストを、透明電極対を構
成する各透明電極の一部が露出するように第１のマスク
を介して露光し、現像する工程、 ｃ）さらに重ねて第２の感光性ペーストを現像された第
１の感光性ペーストを含む第１基板上の全面に塗布し、
乾燥させる工程、 ｄ）乾燥した第２の感光性ペーストを、一部が透明電極
に接し、他部が現像された第１の感光性ペーストに接す
るように第２のマスクを介して露光し、現像する工程、 ｅ）現像された第１および第２の感光性ペーストを同時
に焼成しておのおの遮光膜および金属電極を形成する工
程、の各工程を含んで遮光膜および金属電極が設けら
れ、第２基板の第１基板と対向する面側には、ガス放電
によって発生する紫外線を可視光に変換するための蛍光
体層が設けられ、第１基板と第２基板とを張り合わせる
ことによってプラズマディスプレイパネルを構成するよ
うにしたので、遮光膜による蛍光体から発生する可視光
の吸収を抑えつつ、コントラストが高いプラズマディス
プレイパネルを実現できる。また、第１の感光ペースト
の露光と第２の感光ペーストの露光を分けて行うことに
より、おのおの独立した感光条件のもとで露光、現像を
行うので、おのおのの感光ペーストに適正な露光条件を
与えることができ、所望の形状を確保することができ
る。

【００７５】第７の発明によれば、隣り合う透明電極対
の間に設けられる遮光膜と透明電極対を構成する各透明
電極の一部の領域に第２基板と対向する方向に重なる遮
光膜とが、連続するように設けられるようにしたので、
遮光膜が確実に形成され画像のコントラストが高い表示
画像が確実に得られるプラズマディスプレイパネルを得
ることができる。

【００７６】第８の発明によれば、隣り合う透明電極対
の間に設けられる遮光膜と透明電極対を構成する各透明
電極の一部の領域に第２基板と対向する方向に重なる遮
光膜とが、断続するように設けられるようにしたので、
遮光部材の変色が生じたとしても、変色する部位の拡が
りを抑えることができるので、画像のコントラストが長
期間にわたって確保されるプラズマディスプレイパネル
を実現ができる。

【００７７】第９の発明によれば、金属電極は非着色金
属を用いて形成するようにしたので、蛍光体から発生す
る可視光の吸収を抑えることができるプラズマディスプ
レイパネルを実現できる。

【００７８】第１０の発明によれば、遮光膜は暗色であ
るようにしたので、コントラストの高いプラズマディス
プレイパネルを実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施の形態１および２に共通するＰＤＰ製造
工程のフローチャートである。

【図２】 実施の形態１における前面パネルの要部断面
図である。

【図３】 実施の形態１における前面パネルの製造工程
を示す説明図である。

【図４】 実施の形態２における前面パネルの要部断面
図である。

【図５】 実施の形態２における前面パネルの製造工程
を示す説明図である。

【図６】 ＰＤＰパネルの構造を説明するための要部断
面を示す斜視図である。

【図７】 遮光膜の配列を示す模式図である。

【図８】 従来のＰＤＰパネルにおけるＸ電極、Ｙ電極
の構成を示す要部断面図である。

【図９】 ライン開口率を説明するための模式図であ
る。

【図１０】 従来のＰＤＰパネルにおける外光の入射、
発光された光について説明するための模式図である。

【符号の説明】

４５０ 遮光膜、４５０Ａ 遮光膜Ａ、４５０Ｂ 遮光
膜Ｂ、４２０，４２０Ａ，４２０Ｂ 金属電極、４１
透明電極、３００ 露光マスクＡ、３０１ 露光マスク
Ｂ、３０２ 露光マスクＣ、１００ ペーストＡ、１０
０Ａ ペーストＡＡ、１００Ｂ ペーストＡＢ、１０１
ペーストＢ、ＦＳ１ 透明電極の形成工程、ＦＳ１２
遮光膜の形成工程、ＦＳ１３ 金属電極の形成工程、
ＦＳ１４誘電体、保護層の形成工程。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対向する第１基板と第２基板との間に形
   成される放電セルにおけるガス放電に基づいて所望の画
   像を表示させるためのプラズマディスプレイパネルであ
   って、 上記第１基板は、 （ａ）表示ライン方向に沿って、透明電極が互いに平行
   に所定の間隙をおいて構成される透明電極対、 （ｂ）隣り合う上記透明電極対の間に配設されるととも
   に、上記透明電極対を構成する各透明電極の一部の領域
   に上記第２基板と対向する方向に重なって配設される遮
   光膜、 （ｃ）上記透明電極の一部の領域に重なる遮光膜にさら
   に重ねて、上記第２基板との対向する方向にその一部が
   上記透明電極に重なる金属電極、 （ｄ）上記透明電極対、上記遮光膜および上記金属電極
   を覆うように設けられた誘電体層、および該誘電体層を
   覆うように設けられた保護層、のおのおのを上記第２基
   板との対向面側に備え、 上記第２基板は、少なくとも上記ガス放電によって発生
   する紫外線が可視光に変換されるための蛍光体を上記第
   １基板との対向面側に備えることを特徴とするプラズマ
   ディスプレイパネル。
2. 【請求項２】 隣り合う透明電極対の間に設けられる遮
   光膜と該透明電極対を構成する各透明電極の一部の領域
   に第２基板と対向する方向に重なる遮光膜とが、連続し
   て設けられることを特徴とする請求項１記載のプラズマ
   ディスプレイパネル。
3. 【請求項３】 隣り合う透明電極対の間に設けられる遮
   光膜と該透明電極対を構成する各透明電極の一部の領域
   に第２基板と対向する方向に重なる遮光膜とが、断続し
   て設けられることを特徴とする請求項１記載のプラズマ
   ディスプレイパネル。
4. 【請求項４】 金属電極は非着色金属を用いて形成され
   ることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレ
   イパネル。
5. 【請求項５】 遮光膜は暗色であることを特徴とする請
   求項１乃至３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
   パネル。
6. 【請求項６】 対向する第１基板と第２基板との間に形
   成される放電セルにおけるガス放電に基づいて所望の画
   像を表示させるためのプラズマディスプレイパネルを製
   造する方法であって、 上記第１基板の上記第２基板と対向する面側には、 透明電極が互いに平行に所定の間隙をおいて構成される
   透明電極対が設けられるとともに、 ａ）上記透明電極対の設けられた上記第１基板上の全面
   に第１の感光性ペーストを塗布し、乾燥させる工程、 ｂ）上記乾燥した第１の感光性ペーストを、上記透明電
   極対を構成する各透明電極の一部が露出するように第１
   のマスクを介して露光し、現像する工程、 ｃ）さらに重ねて第２の感光性ペーストを上記現像され
   た第１の感光性ペーストを含む上記第１基板上の全面に
   塗布し、乾燥させる工程、 ｄ）上記乾燥した第２の感光性ペーストを、一部が上記
   透明電極に接し、他部が上記現像された第１の感光性ペ
   ーストに接するように第２のマスクを介して露光し、現
   像する工程、 ｅ）現像された上記第１および第２の感光性ペーストを
   同時に焼成しておのおの遮光膜および金属電極を形成す
   る工程、の上記各工程を含んで上記遮光膜および上記金
   属電極が設けられ、 上記第２基板の上記第１基板と対向する面側には、上記
   ガス放電によって発生する紫外線を可視光に変換するた
   めの蛍光体層が設けられ、 上記第１基板と上記第２基板とを張り合わせることによ
   ってプラズマディスプレイパネルを構成することを特徴
   とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
7. 【請求項７】 隣り合う透明電極対の間に設けられる遮
   光膜と上記透明電極対を構成する各透明電極の一部の領
   域に第２基板と対向する方向に重なる遮光膜とが、連続
   するように設けられることを特徴とする請求項６記載の
   プラズマディスプレイパネルの製造方法。
8. 【請求項８】 隣り合う透明電極対の間に設けられる遮
   光膜と上記透明電極対を構成する各透明電極の一部の領
   域に第２基板と対向する方向に重なる遮光膜とが、断続
   するように設けられることを特徴とする請求項６記載の
   プラズマディスプレイパネルの製造方法。
9. 【請求項９】 金属電極は非着色金属を用いて形成され
   ることを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレ
   イパネルの製造方法。
10. 【請求項１０】 遮光膜は暗色であることを特徴とする
    請求項６乃至８のいずれかに記載のプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法。