JP2000346238A5 - 真空用バルブ及び真空処理装置 - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 出入口を有し、上記出入口からガスが流入される空間を形成すると共に内部が真空引きされるバルブ本体と、
上記バルブ本体内で上記出入口を開閉する第1の弁体と、
上記第1の弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通して上記第1の弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結するロッドと、
上記ロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じるシール機構とを備え
上記第1の弁体による上記出入口の開放時に上記貫通孔を閉じることにより、上記バルブ本体内の真空度を維持しながら上記バルブ本体内のガスが上記シール機構に接触するとことを防止する第2の弁体を上記ロッドに取り付けた
ことを特徴とする真空用バルブ。
【請求項2】 上記シール機構がベローズからなることを特徴とする請求項1に記載の真空用バルブ。
【請求項3】 上記シール機構がOリングからなることを特徴とする請求項1に記載の真空用バルブ。
【請求項4】 上記バルブ本体の内面または第2の弁体の上記バルブ本体との接触面に上記貫通孔を遮断するシール部材を設けたことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の真空用バルブ。
【請求項5】 上記バルブ本体の上記出入口は、腐食性ガスと微粒子の少なくとも一方を含むガスが流れる配管に接続されることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の真空用バルブ。
【請求項6】 所定の真空雰囲気下で被処理体に対し所定の処理を行う処理容器と、
上記処理容器に接続されたガス供給管と、
上記処理容器に接続されたガス排出管と、
上記ガス排出管に取り付けられたバルブと、
を備えた真空処理装置において、
上記バルブは、
上記ガス排出管が接続される出入口を有し、ガスの流路の一部をなす空間を形成するバルブ本体と、
上記バルブ本体内で上記出入口を開閉する第1の弁体と、
上記第1の弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通して上記第1の弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結するロッドと、
上記ロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じるシール機構とを備え
上記第1の弁体による上記出入口の開放時に上記貫通孔を閉じることにより、上記バルブ本体内の真空度を維持しながら上記バルブ本体内のガスが上記シール機構に接触するとことを防止する第2の弁体を上記ロッドに取り付けた
ことを特徴とする真空処理装置。
【請求項1】 出入口を有し、上記出入口からガスが流入される空間を形成すると共に内部が真空引きされるバルブ本体と、
上記バルブ本体内で上記出入口を開閉する第1の弁体と、
上記第1の弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通して上記第1の弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結するロッドと、
上記ロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じるシール機構とを備え
上記第1の弁体による上記出入口の開放時に上記貫通孔を閉じることにより、上記バルブ本体内の真空度を維持しながら上記バルブ本体内のガスが上記シール機構に接触するとことを防止する第2の弁体を上記ロッドに取り付けた
ことを特徴とする真空用バルブ。
【請求項2】 上記シール機構がベローズからなることを特徴とする請求項1に記載の真空用バルブ。
【請求項3】 上記シール機構がOリングからなることを特徴とする請求項1に記載の真空用バルブ。
【請求項4】 上記バルブ本体の内面または第2の弁体の上記バルブ本体との接触面に上記貫通孔を遮断するシール部材を設けたことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の真空用バルブ。
【請求項5】 上記バルブ本体の上記出入口は、腐食性ガスと微粒子の少なくとも一方を含むガスが流れる配管に接続されることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の真空用バルブ。
【請求項6】 所定の真空雰囲気下で被処理体に対し所定の処理を行う処理容器と、
上記処理容器に接続されたガス供給管と、
上記処理容器に接続されたガス排出管と、
上記ガス排出管に取り付けられたバルブと、
を備えた真空処理装置において、
上記バルブは、
上記ガス排出管が接続される出入口を有し、ガスの流路の一部をなす空間を形成するバルブ本体と、
上記バルブ本体内で上記出入口を開閉する第1の弁体と、
上記第1の弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通して上記第1の弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結するロッドと、
上記ロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じるシール機構とを備え
上記第1の弁体による上記出入口の開放時に上記貫通孔を閉じることにより、上記バルブ本体内の真空度を維持しながら上記バルブ本体内のガスが上記シール機構に接触するとことを防止する第2の弁体を上記ロッドに取り付けた
ことを特徴とする真空処理装置。
本発明は、ガスが流れる配管に配設されるバルブに関し、更に詳しくは、耐食性、機能の持続性等を向上させた真空用バルブ及びこの真空用バルブを用いた真空処理装置に関する。
例えば、半導体工場においても半導体ウエハ等の被処理体を処理するために多くのプロセスガスが用いられている。例えば、図3は成膜処理やエッチング処理に用いられる処理装置を示す概念図である。図3に示す処理装置は、例えば所定の真空雰囲気下で被処理体に対して所定の処理を行う処理容器1と、処理容器1に接続された複数のガス供給管2及びガス排出管3と、ガス排出管3に取り付けられたバルブ4とを備え、複数のガス供給管3から複数種のプロセスガスを処理容器1内へ供給し、処理容器1内で被処理体Wに対して所定の処理を施した後、処理容器1内の未反応ガスや反応副生成物等をガス排出管3から排気し、バルブ4を介して排気流量を制御している。プロセスガスとしては腐食性ガスが用いられることが多いため、処理容器1、ガス供給管2、ガス排出管3及びバルブ4等のガス流路には万全の防食対策が採られている。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、バルブ本体を駆動機構側か遮断するシール機構や駆動機構の腐食を確実に防止したり、ガス中に微粒子が含まれている場合にはパーティクルに起因する動作不良を確実に防止することができ、ひいては配管系の真空破壊やガス漏れを生じる虞がない真空用バルブ及び真空処理装置に関する。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に記載の真空用バルブは、出入口を有し、上記出入口からガスが流入される空間を形成すると共に内部が真空引きされるバルブ本体と、上記バルブ本体内で上記出入口を開閉する第1の弁体と、上記第1の弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通して上記第1の弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結するロッドと、上記ロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じるシール機構とを備え、上記第1の弁体による上記出入口の開放時に上記貫通孔を閉じることにより、上記バルブ本体内の真空度を維持しながら上記バルブ本体内のガスが上記シール機構に接触するとことを防止する第2の弁体を上記ロッドに取り付けたことを特徴とするものである。
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に記載の真空用バルブは、出入口を有し、上記出入口からガスが流入される空間を形成すると共に内部が真空引きされるバルブ本体と、上記バルブ本体内で上記出入口を開閉する第1の弁体と、上記第1の弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通して上記第1の弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結するロッドと、上記ロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じるシール機構とを備え、上記第1の弁体による上記出入口の開放時に上記貫通孔を閉じることにより、上記バルブ本体内の真空度を維持しながら上記バルブ本体内のガスが上記シール機構に接触するとことを防止する第2の弁体を上記ロッドに取り付けたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項2に記載の真空用バルブは、請求項1に記載の発明において、上記シール機構がベローズからなることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項3に記載の真空用バルブは、請求項1に記載の発明において、上記シール機構がOリングからなることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項4に記載の真空用バルブは、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明において、上記バルブ本体の内面または第2の弁体の上記バルブ本体との接触面に上記貫通孔を遮断するシール部材を設けたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項5に記載の真空用バルブは、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の発明において、上記バルブ本体の上記出入口は、腐食性ガスと微粒子の少なくとも一方を含むガスが流れる配管に接続されることを特徴とすものである。
また、本発明の請求項6に記載の真空処理装置は、所定の真空雰囲気下で被処理体に対し所定の処理を行う処理容器と、上記処理容器に接続されたガス供給管と、上記処理容器に接続されたガス排出管と、上記ガス排出管に取り付けられたバルブと、を備えた真空処理装置において、上記バルブは、上記ガス排出管が接続される出入口を有し、ガスの流路の一部をなす空間を形成するバルブ本体と、上記バルブ本体内で上記出入口を開閉する第1の弁体と、上記第1の弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通して上記第1の弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結するロッドと、上記ロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じるシール機構とを備え、上記第1の弁体による上記出入口の開放時に上記貫通孔を閉じることにより、上記バルブ本体内の真空度を維持しながら上記バルブ本体内のガスが上記シール機構に接触するとことを防止する第2の弁体を上記ロッドに取り付けたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項5に記載の真空用バルブは、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の発明において、上記バルブ本体の上記出入口は、腐食性ガスと微粒子の少なくとも一方を含むガスが流れる配管に接続されることを特徴とすものである。
また、本発明の請求項6に記載の真空処理装置は、所定の真空雰囲気下で被処理体に対し所定の処理を行う処理容器と、上記処理容器に接続されたガス供給管と、上記処理容器に接続されたガス排出管と、上記ガス排出管に取り付けられたバルブと、を備えた真空処理装置において、上記バルブは、上記ガス排出管が接続される出入口を有し、ガスの流路の一部をなす空間を形成するバルブ本体と、上記バルブ本体内で上記出入口を開閉する第1の弁体と、上記第1の弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通して上記第1の弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結するロッドと、上記ロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じるシール機構とを備え、上記第1の弁体による上記出入口の開放時に上記貫通孔を閉じることにより、上記バルブ本体内の真空度を維持しながら上記バルブ本体内のガスが上記シール機構に接触するとことを防止する第2の弁体を上記ロッドに取り付けたことを特徴とするものである。
以下、図1、図2に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。本発明の真空用バルブ(以下、単に「バルブ」と称す。)は種々のガス配管に取り付けて使用されるが、本実施形態では例えば図3に示す真空処理装置(以下、単に「処理装置」と称す。)のガス排出管に取り付けて使用する場合について説明する。
図2は本発明の他の実施形態のバルブの要部を示す図である。本実施形態のバルブ20は、図2に示すように、薄い矩形状に形成されたバルブ本体21と、バルブ本体21内を上下に移動してガス出入口21Aを開閉する弁体22と、この弁体22を開閉駆動するためにバルブ本体21の貫通孔21Bを貫通して弁体22とバルブ本体21の外側の駆動機構(図示せず)を連結するロッド24と、このロッド24と貫通孔21Bの間の隙間を閉じるシール機構(本実施形態ではOリング)25とを備え、Oリング25を介してバルブ本体21内の気密が保持された仕切弁として構成されている。また、駆動機構側の隔壁26にはロット24が貫通する貫通孔26Aが形成されている。この貫通孔26Aの内周面には全周に渡って溝26Bが形成され、この溝26Bに上記Oリング25が装着されている。従って、弁体22で流路21Aを開閉操作する時には、ロッド24がOリング25を摺動し、バルブ本体21内の気密を保持するようになっている。
上記ロッド24には上記実施形態と同様の第2の弁体27が取り付けられ、弁体22によってバルブ本体21のガス出入口21Aを開放した時に第2の弁体27によってバルブ本体21の貫通孔21Bを閉止するようにしてある。バルブ本体21には上記実施形態と同様に貫通孔21Bを囲む溝21C内にOリング28が装着されている。
従って、本実施形態においてもバルブ本体21内が排気ガスで充満してもOリング25は第2の弁体27によってバルブ本体21から遮断されているため、排気ガスが駆動機構側の隔壁26の貫通孔26Aに到達することがない。従って、排気ガス中に腐食性ガスやパーティクルが含まれていてもOリング25が腐食される虞はなく、Oリング25の腐食や反応生成物の付着に起因する真空破壊を生じる虞もない。また、貫通孔26AやOリング25にパーティクルが付着しないため、ロッド24が摺動する際にパーティクルがロッド24とOリング25間に詰まる虞がなく、パーティクルの詰まりに起因する真空破壊や動作不良を生じる虞もない。
【0021】
【発明の効果】
本発明の請求項1〜請求項6に記載の発明によれば、バルブ本体を駆動機構側か遮断するシール機構や駆動機構の腐食を確実に防止したり、ガス中に微粒子が含まれている場合にはパーティクルに起因する動作不良を確実に防止することができ、ひいては配管系の真空破壊やガス漏れを生じる虞がない真空用バルブ及び真空処理装置を提供することができる。
【発明の効果】
本発明の請求項1〜請求項6に記載の発明によれば、バルブ本体を駆動機構側か遮断するシール機構や駆動機構の腐食を確実に防止したり、ガス中に微粒子が含まれている場合にはパーティクルに起因する動作不良を確実に防止することができ、ひいては配管系の真空破壊やガス漏れを生じる虞がない真空用バルブ及び真空処理装置を提供することができる。
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JPS57107079A (en) | 1980-12-25 | 1982-07-03 | Seiko Epson Corp | Solar cell panel |
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US4569503A (en) * | 1985-02-26 | 1986-02-11 | Gray Tool Company | Valve with remote and manual actuation means |
US4681329A (en) * | 1986-07-02 | 1987-07-21 | Mdc Vacuum Products Corporation | High vacuum gate valve having improved metal vacuum seal joint |
US4721282A (en) * | 1986-12-16 | 1988-01-26 | Lam Research Corporation | Vacuum chamber gate valve |
US4798223A (en) * | 1987-11-09 | 1989-01-17 | Skotch, Inc. | Double block and vent valve system |
JPH0276281A (ja) | 1988-09-13 | 1990-03-15 | Toshiba Corp | パルスレーザ発振装置 |
JPH0276281U (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-12 | ||
US5280526C1 (en) | 1992-05-26 | 2001-05-01 | Paradyne Corp | Transformer-less hybrid circuit |
JP2526829Y2 (ja) * | 1992-10-20 | 1997-02-26 | 株式会社日本製鋼所 | 真空用ゲート弁装置 |
JP3486462B2 (ja) * | 1994-06-07 | 2004-01-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 減圧・常圧処理装置 |
US6016826A (en) * | 1995-09-26 | 2000-01-25 | M&Fc Holding Company, Inc. | Automatic center cavity equalizing valve |
SE510424C2 (sv) * | 1995-11-10 | 1999-05-25 | Robovalve Ab | Membranventil |
US6167512A (en) * | 1998-09-30 | 2000-12-26 | Phoenix Technologies, Ltd. | Dynamic creation of ACPI APIC tables using MP specification |
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