KR200222120Y1 - 반도체 제조용 웨트 스테이션 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 제조용 웨트 스테이션에 관한 것으로, 종래에는 탱크에 담겨있는 염산이 액체와 기체의 혼합으로 되어 있기 때문에 시간이 지날수록 주위의 산소 성분과 반응을 일으켜 파우더(powder)로 변하고, 이 파우더는 주위의 부품들을 자주 손상시키고 라인으로 확산되어 각종 금속류를 오염시키는 문제점이 있었던 바, 본 고안의 반도체 제조용 웨트 스테이션은 탱크 주위의 시스템을 외부와 완전히 밀폐시킨 후 질소를 공급하여 분위기를 질소화함으로써, 장치의 각종 부식을 방지하고 안전성의 극대화와 청정실의 오염을 최소화할 수 있게 한 것이다.

Description

반도체 제조용 웨트 스테이션

본 고안은 반도체 장치에 관한 것으로, 특히 반도체 제조용 웨트 스테이션에 관한 것이다.

종래의 반도체 제조용 웨트 스테이션은 도 1에 도시한 바와 같이, 세정액이 담겨지는 탱크(7)와, 이 탱크(7)에 세정액을 공급하는 세정액 공급부(1)와, 상기 탱크(7)에서 세정액을 공급받아 공정을 진행하는 베스(6)와, 상기 탱크(7) 내 불필요한 세정액을 배수하는 배출관(4)과 , 상기 탱크(7)에서 상기 베스(6)로 세정액을 공급할 때 차압에 의하여 역류되는 분위기를 필터링해주도록 설치되는 필터(5)를 포함하여 구성된다.

또한, 상기 세정액 공급부(1)에서 공급되는 세정액을 차단시킬 수 있도록 에어 밸브(2)가 설치되어 있으며, 상기 베스(6)로의 세정액 공급을 차단할 수 있도록 에어 밸브(3)가 설치되어 있다.

상기 탱크(7)에는 탱크(7) 내 액면 상태를 모니터링해주는 3개의 센서(8)가 설치되어 있다.

이 3개의 센서(8)는 오버(over) 센서와, 스톱(stop) 센서와, 로우(low) 센서로 구성된다.

일반적으로 세정액으로는 염산이 사용된다.

상기와 같은 구성을 가진 종래의 반도체 제조용 웨트 스테이션의 동작 및 작용을 설명하면 다음과 같다.

먼저, 상기 세정액 공급부(1)가 상기 탱크(7)로 염산을 공급하여 탱크(7)의 측면에 설치된 스톱 센서(8) 만큼 탱크(7)에 염산이 공급되면 이의 공급을 중단한다.

공급이 완료되면 상기 베스(6)에서 프로세스를 진행한 후 액을 교환하기 위해 탱크(7)에서 베스(6)로 염산이 다시 공급된다.

탱크(7)에서 베스(6)로 염산이 공급완료되면 탱크(7)는 비어 있으므로 상기 세정액 공급부(1)를 통해 다시 염산이 공급된다.

그러나, 상기와 같은 종래의 반도체 제조용 웨트 스테이션은 탱크(7) 내 담겨있는 염산이 액체와 기체의 혼합으로 되어 있기 때문에 시간이 지날수록 주위의 산소 성분과 반응을 일으켜 파우더(powder)로 변하게 되고 이로 인해 주위의 부품들이 자주 손상되고, 이 파우더가 라인으로 확산되어, 각종 금속류를 오염시키는 문제점이 있었다.

특히, 여기서 발생된 연무(fume)가 인체에 닿거나 그 냄새를 사람이 맡으면 인체에 상당한 해를 주기 때문에 별도의 특별한 안전관리가 필요한 문제점이 있었던바, 이에 대한 보완이 요구되어 왔다.

따라서, 본 고안은 상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 것으로서, 장치의 각종 부식을 방지하고, 안전성의 극대화와 청정실의 오염을 최소화할 수 있는 반도체 제조용 웨트 스테이션을 제공하는데 그 목적이 있다.

도 1은 종래의 반도체 제조용 웨트 스테이션을 도시한 개략도.

도 2는 본 고안의 반도체 제조용 웨트 스테이션을 도시한 개략도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

6; 베스 7; 탱크

10; 밀폐박스 10; 질소공급부

21; 제1 에어 밸브 22; 제1 역류방지밸브

23; 레귤레이터 24; 압력 게이지

30; 배출부 31; 제2 에어 밸브

32; 제2 역류방지밸브

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 고안은 공정이 진행되는 베스와, 이 베스에 공급하기 위한 세정액이 담겨지는 탱크를 포함하여 구성된 반도체 제조용 웨트 스테이션에 있어서, 상기 베스를 제외한 상기 탱크 주위의 시스템을 외부와 완전히 밀폐시키도록 밀폐박스를 설치하고, 이 밀폐박스 내 분위기를 질소화로 만들도록 상기 밀폐박스의 일측에 질소의 공급을 차단하도록 개폐되는 제1 에어 밸브와 상기 질소를 일방향으로만 흐르게 하도록 하는 제1 역류방지밸브와 공급되는 질소의 양을 조절가능하도록 하는 레귤레이터와 공급되는 질소의 양을 확인가능하게 하는 압력 게이지를 가지는 질소공급부를 설치하고, 상기 밀폐박스 내 가스를 주기적으로 배출하여 상기 밀폐박스 내를 초클린 질소분위기로 만들도록 상기 밀폐박스의 타측에 질소의 배출을 차단하도록 개폐되는 제2 에어 밸브와 배출되는 질소의 역류를 방지하도록 하는 제2 역류방지밸브를 가지는 배출부를 설치하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 웨트 스테이션을 제공한다.

상기 밀폐박스는 테플론 재질로 되는 것을 특징으로한다.

이하, 본 고안의 반도체 제조용 웨트 스테이션을 첨부한 도면을 참조로 하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

본 고안의 반도체 제조용 웨트 스테이션은 도 2에 도시한 바와 같이, 세정액이 담겨지는 탱크(7)와, 이 탱크(7)에 세정액을 공급하는 세정액 공급부(1)와, 상기 탱크(7)에서 세정액을 공급받아 공정을 진행하는 베스(6)와, 상기 탱크(7) 내 불필요한 세정액을 배수하는 배출관(4)과, 상기 탱크(7)에서 상기 베스(6)로 세정액을 공급할 때 차압에 의하여 역류되는 분위기를 필터링해주도록 설치도는 필터(5)를 포함하여 구성된다.

또한, 상기 세정액 공급부(1)에서 공급되는 세정액을 차단시킬 수 있도록 에어 밸브(2)가 설치되어 있으며, 상기 베스(6)로의 세정액 공급을 차단할 수 있도록 에어 밸브(3)가 설치되어 있다.

상기 탱크(7)에는 탱크(7) 내 액면 상태를 모니터링해주는 3개의 센서(8)가 설치되어 있다.

이 3개의 센서(8)는 오버(over) 센서와, 스톱(stop) 센서와, 로우(low) 센서로 구성된다.

상기 탱크(7) 주위에는 상기 베스(6)를 제외한 모든 시스템을 외부와 완전히 밀폐시키는 밀폐박스(10)가 설치되어 있고, 이 밀폐박스(10)의 일측에는 밀폐박스(10) 내 분위기를 질소화로 만들도록 질소를 공급하는 질소공급부(20)가 설치되어 있고, 상기 밀폐박스(10)의 타측에는 밀폐박스(10) 내 가스를 주기적으로 배출하는 배출부(30)가 설치도어 있다.

상기 질소공급부(20)에는 질소의 공급을 차단하도록 신호에 의해 개폐되는 에어 밸브(21)가 설치되어 있고, 상기 질소를 일방향으로만 흐르게 하도록 역류방지밸브(22)가 설치되어 있고, 공급되는 질소의 양을 조절가능하도록 하는 레귤레이터(regulator)(23)가 설치되어 있고, 공급되는 질소의 양을 확인가능하게 하는 압력 게이지(24)가 설치되어 있다.

또한, 상기 배출부930)에는 질소의 배출을 차단하도록 개폐되는 에어 밸브(31)가 설치되어 있고, 배출되는 질소의 역류를 방지하도록 역류방지밸브(32)가 설치되어 있다.

상기 밀폐박스(10)는 테플론 재질로 되는 것이 바람직하다.

상기와 같은 구성의 반도체 제조용 웨트 스테이션의 동작 및 작용을 설명하면 다음과 같다.

상기 질소공급부(20)를 통해 일정량의 질소가 상기 밀폐박스(10)로 공급된다.

이때 탱크(7) 주위는 산소에서 질소 분위기로 점차 바뀌어져 일정시간이 경과하면 완전히 질소분위기가 된다.

탱크(7) 내 담겨있는 기체 상태의 미세한 염산은 산소와 반응하여 부식을 일으키지만 본 고안의 탱크(7) 주위는 질소분위기이므로 반응조건이 성립하지 못하여 부식으로 진행하지 않는다.

이후 일정량의 질소를 계속적으로 공급하는 상태에서 배출부(30)의 에어 밸브(31)를 일정주기로 개폐하여 밀폐박스(10) 내 가스를 조금씩 배출시키면 탱크(7) 주위는 항상 초클린 질소분위기가 형성되므로 염산에 의해 주위 부품들에 부식이 진행되는 것을 근원적으로 방지할 수 있다.

상기 질소공급부(20)에서는 역류방지밸브(22)가 있어 역류를 방지할 수 있으며, 레귤레이터(23)로 원하는 압력을 일정하게 공급할 수 있다.

또한, 메인(main) 질소압이 감소되었을 경우 이를 감지하는 센서를 부착해서 알람을 발생시키는 기능도 첨가할 수 있다.

본 고안의 반도체 제조용 웨트 스테이션에 의하면 기체상태의 염삼으로 인한 파우더의 발생을 방지할 수 있으므로 탱크 주위의 부품들이 파우더로 인해 손상되어 수명이 단축되거나 각종 금속류를 오염시키는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

또한, 완전히 밀폐된 공간에서 염산이 다뤄지므로 일정한 주기로 탱크주위를 세정할 필요가 없어 염산이 인체에 닿거나 냄새를 맡지 않아도 되므로 안전성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (4)

1. 공정이 진행되는 베스와, 이 베스에 공급하기 위한 세정액이 담겨지는 탱크를 포함하여 구성된 반도체 제조용 웨트 스테이션에 있어서,

   상기 베스를 제외한 상기 탱크 주위의 시스템을 외부와 완전히 밀폐시키도록 밀폐박스를 설치하고, 이 밀폐박스 내 분위기를 질소화로 만들도록 상기 밀폐박스의 일측에 질소의 공급을 차단하도록 개폐되는 제1 에어 밸브와 상기 질소를 일방향으로만 흐르게 하도록 하는 제1 역류방지밸브와 공급되는 질소의 양을 조절가능하도록 하는 레귤레이터와 공급되는 질소의 양을 확인가능하게 하는 압력 게이지를 가지는 질소공급부를 설치하고, 상기 밀폐박스 내 가스를 주기적으로 배출하여 상기 밀폐박스 내를 초클린 질소분위기로 만들도록 상기 밀폐박스의 타측에 질소의 배출을 차단하도록 개폐되는 제2 에어 밸브와 배출되는 질소의 역류를 방지하도록 하는 제2 역류방지밸브를 가지는 배출부를 설치하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 웨트 스테이션.
2. 제1항에 있어서, 상기 질소공급부에는 질소의 공급을 차단하도록 개폐되는 제1 에어 밸브가 설치되고, 상기 질소를 일방향으로만 흐르게 하도록 제1 역류방지밸브가 설치되고, 공급되는 질소의 양을 조절가능하도록 하는 레귤레이터가 설치되고, 공급되는 질소의 양을 확인가능하게 하는 압력 게이지가 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 웨트 스테이션.
3. 제1항에 있어서, 상기 배출부에는 질소의 배출을 차단하도록 개폐되는 제2 에어밸브가 설치되고, 배출되는 질소의 역류를 방지하도록 제2 역류방지밸브가 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 웨트 스테이션.
4. 제 1 항에 있어서, 상기 밀폐박스는 테플론 재질로 되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 웨트 스테이션.